TW398077B - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

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TW398077B
TW398077B TW086117181A TW86117181A TW398077B TW 398077 B TW398077 B TW 398077B TW 086117181 A TW086117181 A TW 086117181A TW 86117181 A TW86117181 A TW 86117181A TW 398077 B TW398077 B TW 398077B
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effect transistor
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TW086117181A
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Nobuyuki Ikeda
Takenobu Iwao
Miho Yokota
Shuichi Kato
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Description

A7 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 B7 __ 五、發明説明(1 ) [發明所屬之技術領域] 本發明有關於如同蘭陣列,ECA(E mbed ded Cell Array) 等之半導體積體電路裝置*尤其關於使用在該半導體積體 ; 電路之用以形成AND電路,正反器電路等之邏輯電路之巨 單元和周邊電路之布置。 [習知之技術] 在近年來之處理技術中為著提高電晶體之性能,普遍使 用之半導體技術是使用TiSi2,c〇Si5等自行整合型矽化物( 亦即鋁物),經由使矽表面層和鈦Ti或鈷Co等之高熔點 金屬進抒合金化用來減低電阻。通常經由形成物層藉 K成為合金之場效電晶體之源極一吸極區、阱區域等之電 阻值,當與未使用初鋁物化方法製成者比較時,大約下降 為1/10,利用該特徵可Μ更進一步的進行技術改良。 圖20是構造圖,用來表示習知衣舖滿费閛陣列之主晶片 圖像。在該圖中,符號121、124基州〇5雷晶體群* 122' 123是NM0S電晶體群,125是周邊電路(I/O介面)。另外, 閘陣列尚有通道固定型,複合型,QT AT等之型式,其中以 密集度和裝置性能之觀點來看時,Μ細滿墊最佳,下面將 Κ其為代表進行說明。 圖21表示Μ閘陣列,ECA等構成_輯電路之圖20之單元 區域之基本單元,在該圖中,巧Γ號121是> 本單元,122是 P Μ 0 S電晶體,1 2 3是H Μ 0 S電晶體,1 2 4、1 2 5、1 2 6分別為 PM0S電晶體之閘極,源極一吸極,附菌域,127、128、 129分別為HM0S電晶體之閘極,源極一區域,阱區域 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐)~' ' \ 一 4 南 (請先閱讀背责之注意事項再填寫本頁)
--------------^^衣 I 訂-- ____---- 經濟部中央標準局貝工消費合作社印衆 A7 B7 -五、發明説明(2 ) ’ 10a(l)〜l〇a(n)為横向之配線晶格,lla(1)〜lla(n)為 縱向之配線晶格。另外,使用被配置成陣列狀之基本單元 用來進行巨單元之布置,經由對巨單元進行配置—配線等 用來構成具有邏輯功能之半導體積體電路。 圖4是日本國專利案特開平7-7 141號所揭示之習知之Μ 閛陣列,ECA等構成3輸入AND電路時之布置圖,圖3為其電 路圖。在該等圖中,符號la是電源配線(VDD),lb是接地 配線(GND),3是接觸部,lc是第1A1配線,A、B、C分別為 3輸入AND電路之輸入端子,y為其輸出端子。 通常,巨單元之布置如圖4所示,其構成是具有邏輯功 能’使用接觸部3和第1A1配線lc用來使基本單元之閘極, 源極一吸極區域*和阱區域進行電連接。這時,儘可能將 接觸部配置在電晶體之源極一吸極區域和阱區域上,利用 第1A1配線使其進行電連接,藉以減小源極一吸極區域和 阱區域之寄生電阻。另外,為著要進行巨單元之電連接, 所Μ在縱向使用第2A1配線和連接元件之路徑(via)。 另外,對於K上述方法布置後之AND電路,正反器電路 等之邏輯電路》經由進行配置和配線用來構成半導體積體 電路裝置◊這時,巨單元間之輸入/輸出連接梢,對於横 向之配線使用第1A1配線,對於縱向之配線使用第2A1配線 ’使其經由路徑,接觸部等進行電連接。 另外,圖12是構造圖,用來表示習知之閘陣列,ECA等 之電晶體扣電源/接地配線之連接,圖13是沿著圖12之II - I 線之剖面圖。在該等圖中,符號84a、84b是第1A1配線, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x 297公釐) --------费II (請先閲讀背面之注意事項再填寫本I·) 訂 /C: — 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 — .- . . -- —- -五、發明説明(3 ) 83是接觸部*81a是電源配線’ 81b是接地配媒’該等配線 通常Μ鋁等之金靥配線形成。在一般之CM0S閘陣列中構成 使PMOS電晶體和NMOS電晶體鄰接’在PMOS電晶體之一側是 Μ第1A1配線構成之電源配線81a,在NMOS電晶體之一側是 接地配線81b。該電源配線81a用來使晶片之兩端連接到晶 片之電源,接地配線δ11>亦同樣的用來使晶片之兩端連接 到晶片之接地線。 在使該PMOS電晶體之源極區域連接到電源之情況時,從 電源配線81a經由第1Α1配線84a,Κ多個接觸部83連接到 PMOS電晶體之源極區域。另外一方面’在將NMOS電晶體之 源極區域接地之情況時,從接地配線81b經由第1AI配線 84b,Μ接觸部33連接NMOS電晶體之源極區域。 [發明所欲解決之問題] 習知之閘陣列,ECA等之半導體積體電路之布置當Μ上 述之圖3、4所示之3輸入AND電路為例時,横向之配線晶格 全部Μ第U1配線布置。因此在第1A1E-EJEJI使用橫向之 配線晶格作為配線區域。另外’因為電源配線以第1Α1配 線配置在巨單元之上下,所縱向之信號配線被限制成必需 使用第1Α1配線Μ外之第2Α1配線等之配線層。亦即,在半 導體積體電路裝置之布置時,因為必需要有個別之巨單元區 域和配線區域,所Κ特別是在複雜之積體電路中,配線區 域會變大,造成半導體晶片面稹之變大等為其問題。 另外一方面,電源/接地配線如上述之圖12、13所示* Κ第1Α1配線布置,在Μ該等阱區域連接時,為著使電阻 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公疫) _ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) --------------衣-- 訂-- A7 B7 五、發明説明(4 ) 降低,所Μ必需設置多個接觸部83,用Μ構成第1A1配線 之鋁因為受到電子移動之影響,會有在裝置動作中造成中 斷等之問題。 本發明用來解決上述之問題,其目的是用Μ獲得半導體 積體電路裝置及其布置方法,利用被妨鋁ώ化之源極一吸 極區域和阱區域作為配線層之一部份,可Κ使巨單元或周 邊電路易於布置。 [解決問題之手段] 依照第1態樣之本發明之半導體積體電路裝置是在矽基 板表面具備有:第1場效電晶體群,依一方向排列,用來 與供給第1電位之第1電源配·線連接;第2場效電晶體群, 形成與第1場效電晶體群並排,用來與供給比第1電位低之 第2電位之第2電源配線連接;和導電性配線,用來使該等 電晶體互相連接;其中:在第1和第2場效電晶體群之至少 一方之電晶體群之各個電晶體之源極一吸極區域形成矽化 物層,使其成為與導電性配線連接之配線層,在該配線層 之上方利用導電性配線可Μ配置信號配線。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 依照第2態樣之本發明之半導體積體電路裝置是在各個 電晶體之源極一吸極區域包含有多個配線晶格,依第1和 第2場效電晶體之排列方向之垂直方向被配置,在選擇矽 化物層作為配線層之倩況時,上述配線晶格中之至少2個 被使用作為接觸部。 依照第3態樣之本發明之半導體積體電路裝置是在矽基 板表面具備有:第1場效電晶體群,依一方向排列,用來 本纸張尺度適用中國國家標隼(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) -7 - 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(5 ) 與供給第1電位之第1電源配線連接;第2場效電晶體群, 形成與第1場效電晶體群並排,用來與供給比第1電位低之 第2電位之第2電源配線連接;第1導電性配線,用來使選 自第1場效電晶體群中之第1電晶體和選自第2場效電晶體 群中之第2電晶體互相連接;钓化物層,形成在第1和第2 電晶體之源極一吸極中之至少一部份;和第2導電性配線 *用來與韵化物層連接。 依照第4形態之本發明之半導體積體電路裝置是在矽基 板表面具備有:第1電源配線,用來與第1電源連接;第1 場效電晶體群,依一方向排列;第1導電性配線,用來使 第1電源配線和選自第1場效電晶體群中之第1電晶體互相 連接;第2電源配線,用來與供給比第1電源低之電位之第 2電源連接;第2場效電晶體群,與第1場效電晶體並行的 排列;和第2導電性配線,用來使第2電源配線和選自第2 場效電晶體群中之第2電晶體互相連接;其中在 接合阱 區域之第1和第2電源配線與第1和第2場效電晶體群之源極 一吸極之至少一部份形成矽化物層,該矽化物層用來形成 與導電性配線連接之配線層。 依照第5形態之本發明之半導體積體電路裝置是在矽基 板表面具備有:第1導電性配線,用來與電源連接;場效 電晶體群,依一方向排列;第1電晶體,在選自場效電晶 體群中之源極一吸極之至少一部份形成有矽化物;第2和 第3電晶體,用來使鄰接第1電晶體之源極一吸極形成與第 1導電性配線連接;第2導電性配線,Μ矽化物之一部份作 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨Ο X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------------參衣------1Τ-- .01. -8 - A7 B7 五、發明説明(6 為配線層;和第3導電性配線層,形成在配線層之上方。 依照第6形態之本發明之半導體積體電路裝置是在矽基 板表面具備有:第1電源配線,用來與第1電源連接;第1 場效電晶體群,依一方向排列;第1導電性配線,用來使 第1電源配線和選自第1場效電晶體群中之第1電晶體互相 連接;第2電源配線,用來與供給比第1電源低之電位之第 2電源連接;第2場效電晶體群,與第1場效電晶體並排的 排列;和第2導電性配線,用來使第2電源配線和選自第2 場效電晶體群中之第2電晶體互相連接;其中:在接合阱 區域之第1和第2電源配線與第1和第2場效電晶體群之源極 一吸極形成矽化物層,該矽化物層用來形成與導電性配線 連接之配線層。 依照第7形態之本發明之半導體積體電路裝置是矽化物 層利用高熔點金屬形成後之熱處理用來進行低電阻化。 [發明之實施形態] 下面將說明本發明之實施之一形態。 簧施形態1 . 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 圖1是依照本實施形態1之使用有矽鋁物化之電晶體構造 之基本單元之3輸入AND電路之布置圖,圖2是沿著圖1之電 路布置之I-Ι線之剖面圖,圖3是其電路圖,圖4是依照習 知技術之布置圖。在該等圖中,符號la、lb是第1A1配線 ,分別表示電源配線和接地配錄,2 a、2 b是被釣鋁物化之 源極一吸極區域,3a〜3d是接觸部,4是使用第1A1配線之 其他配線,5是場氧化膜,6是層間絕緣膜,A、B、C是輸 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -Π 9 B7 五、發明説明(7) 入端子閛,Y是輸出端子。另外,在各個源極一吸極區域 包含有多個之配線晶格(亦即柵網),在該圖1中該配線晶 格被配置成 >縱向排列4個(參照圖8 )。 其中,矽鋁物Μ指形成自行整合型之高熔點金屬釣化物 ,利用熱處理等使其電阻變低。亦即,在其形成時可以在 矽基板之活性化區域形成鈷、鈦、鉬、鎢等之高熔點金屬 層,經由施加熱處理等使其產生反應成為V初化#等之合金 藉Κ使其電阻下降,未反應部份和不需要之部份使用影印 法等將其除去。 在閘陣列,ECA等之中,對被稱為單元之HAND,N OR., F/F之比較單純之小規模之邏輯功能進行標準化·庫館化 ,將其組合用來設計晶Η。尤其在舖滿型閘陣列之情況時 ,裝載有百萬個程度之單元。在圖1之PM0S電晶體,NM0S 電晶體形成依横方向鄰接。在鄰接之吸極之間被分離成具 有閘極幅度部份之間隔,用來使其不會互相影響。 下面將說明有關之動作。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本¥ο 利用高熔點金屬之韵鉑物化使電阻降低為通常之1 / 1 0程 度之源極一吸極區域2a、2b因為可Μ作為第1Α1配線乏&用 品,所Μ接觸部3a、3b間和3c、3d間之源極一吸極通過層 間絕緣膜6之下部,可以經由卻鋁物層進行電連接,亦即 進行通電。依照此種構造時,因為在接觸部3a、3b間和3c 、3d間具有1個配線晶格之部份之空間,所Μ可以讓使用 有第1/U配線之其他信號配線通過。因此,在晶片之布置 時,假如利用該空的配線晶格,可Μ依横向在配線區域形 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公釐) -10 - A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 8 ) 1 1 成 所 欲 使 用 之 配 線 0 1 1 I 如 上 所 述 依 昭 本實 施 形 態 1時 因為利用被卻 鋁物化 1 I 之 源 極 — 吸 極 層 作 為第 1 A 1配線之- -部份,所以在 基本單 請 先 閱 1 1 I 元 內 可 Η 配 置 信 號 配線 等 之 其 他 配 線。因此,具有使半導 讀 背 1 1 體 積 體 電 路 之 晶 片 布置 易 於 進 行 之 效果。 之 注 1 I 意 1 I 實 施 形 態 2 . 事 項 1 I 再 1 圖 5是依照本實施形態2之 選 擇 器 電路之布置圖 圖7是 填 寫 ΓΤΖΤΤ 本 装 該 選 擇 器 電 路 之 電 路圖 IOT 圓 6是依照習知技術之布 置圖。 頁 1 I 在 該 等 圖 中 AW 付 號 21a- -21c 是 第 1 A 1配線,分別表 不電源 1 1 1 配 線 和 接 地 配 線 22a 22b 是 被 名夕 鋁物化之配線源極一吸 1 1 極 區 域 24 是 第 2A 1配線 25a 25d是導電性之連 接元件 1 訂 之 路 徑 0 圖 5之配線布置方法與實施形態1所述之方法相同 1 | t 23 a 和 23b 間 之 電 連接 是 利 用 Μ 鋁物形成之被合金化之 1 [ 吸 極 區· 域 22 a之- -部份作為配線層( 1 1 Ϊ 下 面 將 說 明 有 關 之動 作 Ο 1 € 例 如 在 圖 5之接觸部2 3 a 、 23b之間,以經由釣 鋁物化 1 1 成 為 低 電 阻 之 源 極 -吸 極 區 域 之 一 部份作為第1 A 1 配線, 1 | 在 該 空 的 空 間 可 Μ 使別 的 配 線 通 過 。而且在使用矽鋁物層 1 I 作 為 配 線 層 之 情 況 時, 接 觸 部 最 少 只要2個即可。 1 1 另 外 方 面 在 習知 技 術 中 為 著要連接到源極一吸極 1 1 區 域 因 為 具 有 高 電阻 所 Μ 要 製 造敷個接觸部用來使電 1 1 阻 降 低 不 可 避 免 的會 造 成 第 1 A 1配線之佔用面積 之擴大 1 | f 而 且 由 圖 7之布置可Μ瞭解 •必需使用用以連接 第1 A 1配 1 | 線 和 第 2Α 1配線之路徑25a 25d和第2Α1配線24a、 24b。在 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21GX 297公釐) 11 一 A7 B7 五、發明説明(9 ) 本實施形態2之布置中,利用矽鋁物層之活用可K使接觸 部成為最少限度和可K省略第2 A 1配線,因為可Μ利用晶 片布置時之信號配線在巨單元上進行配線藉Μ確保縱向之 配線晶格,所Μ可Μ使半導體積體電路之晶片面積變小。 如上所述,依照本實施形態2時,使用被矽鋁物化之電 晶體構造之基本單元用來實施巨單元之布置,尤其是經由 利用電晶體之吸極區域作為配線層,可Μ在巨單元内配置 信號配線,藉以製作配線晶格。而且可Μ利用該配線晶格 作為Μ多個巨單元構成之半導體積體電路之晶片布置之配 線區域,可Μ有效的進行配線之配置,具有可Μ使半導體 積體電路之晶Η面積減小之效果。亦即,具有可Κ使巨單 元易於布置之效果。_ 實施形態3 . 圖8是本實施形態3之2輸入NAND電路之布置画,圖9是其 電路圖。在該圖中,符號31a〜31c是第1Α1配線,32a、 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 32 b是被矽鋁物化之吸極區域,33a(yl),33b(y2)是接觸 部,34是第2A1配線,36a〜36f是各個被矽鋁物化之吸極 所含之配線晶格,A、B是輸入端子,Y是輸出端子。 下面將說明有關之動作。 依照本實施形態3時,與2輸入NAHD電路之輸出端子Y之 梢之定義有關之布置,因為利用被矽鋁物化成為低電阻之 吸極區域作為配線層|所先經由接觸部33a(yl)和 33b(y2)使輸出端子y之第1A1配線連接到被对鋁物化之吸 極區域32a、32b,其次使用巨單元間之配線將第2Α丨配線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210'X297公釐) 12 - A7 B7 五、發明説明(ίο ) 之梢定義成接觸部36a〜36f的其中之一。利用瑄種方式, 用來定義具有2輸入NAND電路等之邏輯電路之巨單元之輸 入/輸出權/時,可Μ増加能夠進行輸入/輸出梢之信號配線 連接之區域。另外,可Κ使其他之信號配線通過空的區域藉 Μ提高布置之彈性。亦即,巨單元間之信號配線變成易於 進行,可Κ縮短晶片布置時間,和可Μ縮小晶片面積。 Κ圖8之實例進行說明時,將配線晶格36a定義為第2/U 配線之梢,經由將接觸部33a(yl)和33b(y2)設定為輸出端 子y,在配線.晶格點36b、36c和36d〜36f不需要讓該輸出 端子用之第1或第2A1配線通過,可K利用在其他之信號配 線等之布置。另外一方面,依照習知技術之梢之定義時, 第2A1配線因為必需與接觸部33a(yl)、33b(y2)的其中之 一連接,所Μ以圖8為例時,配線晶格36a〜36c,36d〜 36f之任何一方之配線晶格群至少會受到輸出端子y用之第 1或第2A1配線之布置之影響使其彈性受到限制。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 依照上述方式之本實施形態3時,巨單元之梢之定義亦 可適用於被矽鋁物化之吸極區域,用來使巨單元間之信號 配線之連接變成易於進行,具有可K縮短晶片布置時間, 和可K縮小晶片面積之效果。 .實陁形態4. 圖10是布置圖,用來表示該實施形態4之閘陣列,EC A等 之電晶體一配線構造,圖11是沿著圖10之II-II線之剖面 圖,圖12是布置圖|用來表示依照習知技術之閘陣列, ECA等之電晶體一配線構造,圖13是沿著圖12之m-Π[線之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 13 經濟部中央標準局員工消費合作社印繁 A7 —一 _B7__ -五、發明説明(1 1) 剖面圖。在該等附圖中,符號81a是電源配線,81b是接地 配線,在此處之情況是以鋁等之金屬配線形成,符號82a 、82b是被巧鋁物化之源極區域,82c是利用阱區域之釣鋁 物化而形成之電源配線,8 2 d是利用阱區域之釣鋁物化而 形成之接地配線,83是接觸部,84a、84b是第1 A配線。 在通常之圖12所示之習知之閘陣列中,其構成是使PMOS 電晶體和NMOS電晶體互相鄰接,在PMOS電晶體之一側是Μ 第1Α1配線構成之電源配線81a,在NMOS電晶體之一側是接 地配線81b。在該電源配線81aM晶片之兩端連接晶片之電 源*接地配線8 1 b亦同樣的,K晶片之兩端連接到晶片之 接地線。在使該PMOS電晶體之源極區域連接到電源之情況 時,從電源配線81a經由第1A1配線84b,利用接觸部83連 接到PMOS電晶體之源極區域。另外一方面,在使NMOS電晶 體之源極區域接地之情況時,從接地配線81b經由第1A1配 線84a,利用接觸部83連接到HMOS電晶體之源極區域。
另外一方面,如圖10,圖11所示,在本實施形態4中, 連接到電源之n +阱區域82c和連接到接地線之P +阱區域82d ,和NM0S電晶體82a和PMOS電晶體之源極區域82b之矽表面 上,經由忉鋁物化藉K形成合金。另外,亦可Μ不使用習 知例之圖12之第⑷配線之電源一接地配線,而是使用使阱 區域矽鋁物化所製成之合金化部份82c、82d分別作為電源 配線一接地配線之代用品。這時’不需要習知例之圖12之 用Μ連結電源配線81a和n +阱區域之接觸部群83,和用W 連结接地配線81b和P +阱區域之接觸部群83°亦即’使與 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4规格(21〇X297公釐) -14 _ — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 #. 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 __ •五、發明説明(l2) 圖12之竃源配線81a和接地配線81b相當之阱區域進行矽鋁 物化,用來使電源配線82c和接地配線82d直接接觸在阱區 域〇 在對圖10,圖11之PMOS電晶體之源極區域供給電源電位 VDD之情況時,從阱區域之矽鋁物化所製成之電源配線82c 經由接觸部83,第1A1配線81b連接到PM0S電晶體之源極區 域。另外一方面,在對NM0S電晶體之源極區域供給接地電 位GND之情況時,從阱區域之矽鋁物化所製成之接地配線 82d經由接觸部δ3,第1A1配線81a連接到NM0S電晶體之源 極區域。 下面將說明有關之動作。 依照本實施形態4之配線構造時’因為使用被矽鋁物化 之電源配線,接地配線,亦可以不以第1A1配線拉長電源 —接地配線,所以以第1A1配線或第2A1配線拉長該區域之 單元間之連接用之配線可K使用在拉長區域。因此,作為 用以連接單元之間之配線區域是將只能以第2A1配線進行 配線之區域使用作為配置有第1A1配線和第2A1配線之配線 區域,可Μ用來減小晶片之尺寸。 另外,如習知例所示,在利用第1Α1配線拉長電源一接 地配線之情況時,在畊區域和第1Α1配線之間’如圖12之 符號83所示,必需設置多個具有間隔之接觸部14。這是因 為接觸部83變少時,阱區域和第1Α1配線間之電阻會變大 。但是,在阱區域被矽鋁物化之情況時’因為阱區域之表 面上直接被合金化藉Κ進行連接’所以不需要以接觸部進 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) -15- -- (請先閱绩背面之注意事項再填窝本頁) 訂 A7 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 B7 -五、發明説明 (13 ) 1 1 I 行 連 接0 因 此 * 在 以 第 1 A 1配線進行電源_接地配線之配 1 1 1 線 製 造工 程 時 可 削 減 在 電 源一 接地配線製造 接觸部之 /—S 1 I 製 造 工程 〇 請 先 閲 1 1 | 然 後, 在 以 第 1 A 1配線拉長電源- -接地配線之情況時, 讀 背 & 1 | 由 於 鋁之 電 子 移 動 之 發 生 會 造 成有 可能在動作中 產生中斷 之 注 音 i 9 假 如使 用 鋁 物 化 之 電 源 配 線* 接地配線時, 可Μ減少 事 項 1 再 I 此 種 中斷 之 可 能 性 藉 Μ 提 高 可 靠度 0 填 % 本 依 照上 述 方 式 之 本 實 雎 形 態 4時 用K連接單元之間之 頁 ! I 配 線 區域 是 將 只 能 K 第 2配線進行配線之區域使用作為配 l 1 1 置 有 第1A1配線和第2A1 配 線 之 配線 區域,所以具 有可以提 1 1 高 密 集Λ 藉 Μ 減 小 晶 片 尺 寸 之 效果 。另外*在使 阱區域初 1 訂 鋁 物 化藉 Μ 形 成 合 金 之 情 況 時 ,因 為可以直接連 接,所Κ 1 1 不 需 要Μ 接 觸 部 連 接 因 此 在Μ 第1A1配線進行電源一 1 | 接 地 配線 之 配 線 製 造 工 程 時 具有 可K削減在電 源一接地 1 I 配 線 製造 接 觸 部 之 製 造 工 程 之 效果 。另外,假如 使用矽鋁 1 物 化 之電 源 配 線 接 地 配 線 時 ,可 以減少由於鋁 之電子移 1 1 動 而 造成 中 斷 之 可 能 性 » 具 有 可Κ 提高可靠度之 效果。 1 1 實 施 形態 5 . 1 1 圖 14是 布 置 圖 用 來 表 示 本 實施 形態5,在該圖中,符 1 I 號 9 la是使PM0S電晶體之阱韵鋁物化之電源配線 > 91b是使 1 1 1 NM0S 電晶 體 之 阱 鋁 物 化 之 接 地配 媒,92a是使PM0S電晶 1 1 體 之 源極 區 域 丕夕 鋁 物 化 之 區 域 ,92b是使NM0S電晶體之源 1 1 極 區 域切 鋁 物 化 之 區 域 9 93 a 93b 是PM0S電晶體 ,9 4 a 〜 1 1 94 e 95a 〜 95 j是信號配線 » 9 5 g ' 9 5 h連接到電源,9 5 i、 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(21 OX 297公鯈) -1 β - A7 B7 五、發明説明(14 ) 9 5 j連接到接地線。 在一般之閘陣列之SOG(Sea of Gate)中,預先在晶片全 面舖滿電晶體,藉K製作主晶片,在布置時定義單元區域 ' 和配線區域。在這種情況時,不使用配線區域之電晶體, 該區域只被使用作為第1A1配線和第2A1配線之配線區域。 在進行忍鋁物化藉Μ製造主晶片時,在晶片內之全部之 電晶體之源極一吸極區域進行妨鋁物化,不只是單元區域 ,對於配線區域之未使用之電晶體之源極一吸極區域亦進 行衫鋁物化。 在區域a之部份,當使用該被矽鋁物化之源極一吸極區 域用來連接單元間配線94b和單元間配線94c之情況時,經 由配線95g使配線區域之PM0S電晶體之閘極93a、93b連接 到電源配線9 la。然後,使用接觸部使信號配線94b連接到 具有閘極93b之電晶體之源極(吸極)區域(區域a)。因為電 晶體之源極(吸極)區域(區域a)被矽鋁物化成合金,所Μ 可Μ利用區域3連接單元間配線94b和單元間配線94c。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在區域b之部份,當使用該被矽鋁物化之源極一吸極區 域用來連接單元間配線94d和單元間配線94e之情況時,經 由信號配線95i、95j使配線區域之NM0S電晶體之閘極93c 、93d連接到接地配線91b。然後,使用接觸部使信號配線 94d連接到具有閘極93c之電晶體之源極(吸極)區域(區域 b)。另外,使用接觸部使信號配線94e連接到具有閘極93d 之電晶體之源極(吸極)區域(區域b)。因為電晶體之源極( 吸極)區域(區域b )被矽鋁物化成合金,所以可以利用區域 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨OX29?公釐) 17 - A7 B7 五、發明説明(15 ) b連接單元間配線94d和單元間配線94e。 下面將說明有關之動作。 閘陣列之電晶體如圖14所示,依照PMOS電晶體,NMOS電 ; 晶體,NMOS電晶體,PMOS電晶體之順序構成。另外,在單 元區域之PMOS電晶體之近傍必需構成電源配線91a,在 NMOS電晶體之近傍必需構成接地配線91b。亦即,在電源 配線之兩傍必需構成PMOS電晶體,在接地配線之兩側必需 構成NMOS電晶體。 首先說明區域a之部份。區域a之電晶體是配線區域,不 作普段使用。其中,使用配線95g、95h用來將PMOS電晶體 之閘極93a和93b連接到電源配線91a,藉K使PMOS電晶體 之閘極93a和93b成為”L”之電位,所Μ區域c和區域4咸為電 的開路。同樣的,區域a和區域d亦成為電的開路。因此, 區域a之電信號之電位不會影響到區域aM外之區域。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在使用本實施形態5之電晶體構造之情況時,因為電晶 體之吸極一源極區域被矽鋁物化成合金,所Μ區域a之部 份可Μ被使用作為第3配線層。在圖14之實例中,因為具 有同層之其他配線之信號配線96a和第1Α1配線95b,所以 在習知技術不能連接者經由使用上述之電晶體構造,可Μ 以區域a電連接配線94a和配線94c。 下面將說明區域b之部份。區域b之電晶體是配線區域, 不能使用在普段。其中使用信號配線95i、95j用來將NMOS 電晶體之閘極93c和93d連接到接地配線91b藉Μ使NMOS電 晶體之閘極9 3 c和9 3 d變成” Η ”之電位,所Μ區域e和區域b 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 29?公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -18 - 五、發明説明(I6 A7 B7 路 開 的 電 成 變 亦 f 域 區 和 b 域 區 的 楱 同 0 路 開 的 電 成 變 用 f 使 此在 因 晶 電 為 因 時 況 情 之 造 構 體 位 晶 φ& 之 之 號.> 信 電 之 b 域 區 域 區 之 外 K b 域 區 響 影 會 不 態 形 施 實 本 體之吸極一源極區域被对鋁物化成合金,所以區域b之部 份可Μ被使用作為第3配線層。在Μ區域b連接配線9 4d和 配線94e之情況時,Μ第2A1配線進行連接,在圖14之實例 中,因為具有同層之其他配線之配線96b和第1Α1配線之信 號配線95e,所Μ在習知技術不能連接者經由使用上述之 構造,可以Μ區域b電連接配線94d和配線94e。 如上所述,依照本實施形態5時,利用此種構造,即使 在Μ第2A1配線作為信號配線96a(96b)之情況時,亦可Μ 在區域(區域b)使配線94b(94d)和配線94c(94e)進行連接 。因此,目前之使用其他之區域因為不能獲得配線所K使 晶片尺寸變大,但是經由利用未使用之電晶體之矽鋁物化 之源極(吸極)區域作為配線層,可Μ具有使晶片尺寸變小 之效果。 實施形態6 . (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 圖15是本實施形態6之布置圖,圖16是習知技術之布置 _,圖17為其電路圖。在該圖中,符號l〇2a,102b是i夕鋁 物化之源極區域,102c、102d是阱區域之矽鋁物化過之源 極區域,1 0 2 c、1 0 2拕神區域之矽鋁物化過之配線層,分別 用來供給電源電壓VDD和接地電位GND * 101a〜101c是第 1A1配線,106a〜106c是矽鋁物化過之源極區域。 在依照圖16之習知例之布置之配線構造中,因為從電源 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS〉A4規格(210X 297公釐) 19 B7 五、發明説明(17) 配線102c將電源供給到PMOS電晶體之源極區域,所Μ使用 第1Α1配線101a〜101c作為配線。因為第1Α1配線101a〜 101c形成接近,所Μ在單元內部不會產生空的區域。另外 一方面,在本實施形態6之圖15之布置之配線構造中,電 源配線102c通過第1Α1配線101d,經由接觸部連接到PM0S 電晶體之源極區域106a。因此,在PM0S電晶體之源極區域 106a被供給有電源電位。 因為該源極區域1 0 6 a被矽鋁物化成為低電阻,所Μ可以 作為金屬配線之代用品。因此,第1Α1配線101a、101b經 由合金化後之電晶體之源極區域1 0 6 a被連接。另外,第 1A1配線101b在PM0S電晶體之源極區域106b、106c,經由 接觸孔洞被部份的連接*但是源極區域106b、106c因為分 別被姑鋁物化成合金,所Μ該源極區域106b、106c分別以 全面連接電源。因此,可Μ將電源電位供給到PM0S電晶體 之源極區域106b、106c。 下面將說明本實施形態6之另一較佳態樣。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖18是依照該較佳態樣之布置圖,圖19是依照習知技術 之布置圖,在該等圖中,符號111是將NM0S電晶體之阱之 矽鋁物化後之接地配線,113、114是用以供給接地電位之 配線,112、115〜117是信號配線,118是連接點,A、B是 N Μ 0 S電晶體。 首先*依照圖1 9之習知技術之布置時,利用配線11 3使 NM0S電晶體Α之閘極電位下降為接地位準,用來使NM0S電 晶體A之源極區域和吸極區域形成電的開路狀態。另外, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 20 - A7 B7 五、發明説明(18 ) 配線114是使NMOS電晶體之源極區域接地之配線,配線115 是連接到NMOS電晶體之吸極區域之配線。另外,配線112 是連接到NMOS電晶體B之閘極之配線,因為有同層之配線 11 6,所以不可Μ連接到連接點11 8,不能獲得迂迴連接點 118之配線。其結果是由於使用單元内之配線區域,所Μ 在有橫切單元之配線通過之情況時,不可Κ使用同層之配 線進行配線。 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 另外一方面,依照圖18之本較佳態樣之布置時,Κ接觸 孔洞結合與配線114鄰接之HMOS電晶體Β之被矽鋁物化成合 金之源極區域,和接觸孔洞結合配線113和NMOS電晶體Β之 矽鋁物化成合金之源極區域,經由NMOS電晶體Β之合金化 過之源極區域,用來使配線114和配線113產生電的结合。 與此同時的,NMOS電晶體Β之源極區域可Μ接地。因為配 線113連接在電晶體Α之閘極,所以可Μ將NMOS電晶體Α之 閘極接地。因此,不需要習知技術之布置之圖19之配線 113之部份,所Μ圖18之配線112可Μ配線成直線狀,其結 果是習知例中之不能配線之橫切單元内之配線117可以更 進一步的拉長。 習知例之電源配線是從圖1 6所示之電源1 0 2 c直接取得, 在依照本實施形態6和較佳態樣時,利用上述方式之構造 可Κ從圖15之區域106a之矽鋁物化之電晶體之源極區域之 部份取得電源。因此,如圖15所示,在單元之内部區域可 Μ增加使連接單元間之配線通過之區域。因此,未被使用 之區域可Μ用來進行配線,所Μ具有可Μ縮小晶Η尺寸之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨0X297公釐) η , -2 1 - A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 五、發明説明 (19 ) 1 1 效 果 0 1 1 1 另 外 只 以 單 元 之 內 部 來 看 時 因 為 電 源 配 線 101b r-V 1 I 101c 等 被 去 除 所 可 Η 使 用 上 述 之 區 域 用 來 配 置 單 元 內 請 閱 I 1 I 部 之 信 號 配 線 因 此 可 VX 增 加 單 元 内 之 配 線 之 彈 性 具 有 讀 背 1 1 可 Μ 使 單 元 尺 寸 減 小 之 效 果 〇 另 外 在 閘 陣 列 中 因 為 電 路 之 注 1 I 意 1 I 是 單 元 之 集 合 jam 體 所 Μ 假 如 使 單 元 尺 寸 變 小 時 可 K 具 有 使 事 項 1 | 再 1 晶 片 尺 寸 縮 小 之 效 果 〇 填 寫 本. 衣 另 外 在 使 用 習 知 技 術 之 情 況 當 使 圖 16 之 配 線 101a 頁 、- 1 I 101c 連 接 到 源 極 區 域 藉 Μ 供 給 電 源 時 是 使 用 配 線 101a 配 1 1 '線 101c 9 依 照 本 實 施 形 態 6時 只利用圖15之配線101d和 1 1 配 線 101e 之 2個配線就可Μ將電源供給到上述之源極區域 1 訂 0 因 此 配 線 數 巨 可 Μ 削 減 單 元 尺 寸 可 Μ 減 小 所 K 具 1 I 有 可 以 縮 小 晶 片 尺 寸 之 效 果 〇 1 I [發明之效果] 1 1 1 依 照 上 述 之 第 1態樣之本發明時 因為其構成方式是在 1 i 第 1和第2 場 效 電 晶 體 群 之 各 個 電 晶 體 之 源 極 — 吸 極 區 域 利 1 1 用 名夕 化 物 形 成 配 線 層 在 該 配 線 層 形 成 具 有 任 意 之 間 隔 ! | 之 接 觸 部 用 來 使 其 與 導 電 性 配 線 連 接 所 Μ 可 Μ 在 該 接 觸 1 I 部 間 之 空 的 區 域 配 置 新 的 導 電 性 配 線 〇 因 此 在 晶 片 布 置 1 1 中 之 未 使 用 區 域 可 以 被 設 定 作 為 配 線 區 域 所 Μ 在 此 處 可 1 1 以 以 能 讓 信 號 配 線 等 通 過 之 方 式 進 行 有 效 之 配 置 和 配 線 > 1 1 具 有 可 Μ 縮 小 半 導 體 積 體 電 路 裝 置 之 晶 片 面 積 之 效 果 〇 1 | 依 照 第 2態樣之本發明時 因為其構成方式是該多個之 1 I 配 線 晶 格 依 排 列 方 向 之 垂 直 方 向 配 置 第 1和第2 場 效 電 晶 體 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X29*7公釐) -22 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 (20) 1 1 9 當 在 配 線層之 一部 份 選 擇 化物 層 之 情 況 時 9 使 用 2個 1 1 之 配 線 晶 格,所 Μ在 利 用 該 化物 層 之 配 線 層 區 域 之 上 方 1 I 可 Μ 配 置 其他之 信號 配 線 〇 因 此, 依 上 逑 方 式 使 電 晶 體 之 —v 請 1 先 1 排 列 方 向 擴大, Κ多 個 巨 單 元 構成 該 空 的 區 域 9 假 如 利 用 閲 讀 1 I 此 種 半 導 ΒΜ 體槓體 電路 之 晶 片 布 置時 9 可 Μ 具 有 與 申 請 專 利 背 1 1 I 範 圍 第 1項之本發明同樣之效果。 意 事 1 依 昭 VW» 第 3態樣之本發明時 ,因為構 成經由形成在第1和 第 項 再 填 1 β 2電晶體之源極- -吸極之矽化物層 t 連接第1 導 電 性 配 線 和 寫 本 百 w 1 第 2導電性配線之方式 所Μ連接之; 揮性可Μ增大 >巨單 1 I 元 等 之 輸 入/輸出梢之定義變成很容 易 具有可Μ縮短晶 1 1 I 片 布 置 時 間和縮 小積 體 電 路 之 晶片 面 積 之 效 果 0 1 1 依 眧 八V» 第 4態樣之本發明時 因為構 或使形成在與阱區域 訂 1 接 合 之 第 1和第2 電源 配 線 第 1和第2場 效 電 晶 體 群 之 源 極 1 1 — 吸 極 之 化物 層, 與 第 1和第2導 電 性 配 線 進 行 連 接 因 1 I 為 利 用 該 等導電 性配 線 可 Μ 經由 化 物 層 進 行 直 接 連 接 1 1 倉 9 所 在 該代用 區域 可 Μ 配 置 其他 之 信 σ占 配 線 用 來 使 布 置 1 變 為 容 易 ,具有 可Κ 縮 小 晶 片 尺寸 之 效 果 0 而 且 當 與 經 由 1 1 金 屬 等 之 接觸用 來使 化 物 層 與的 表 面 厂 隔 開 J 接 觸 之 情 1 | 況 比 較 時 ,使用 低電 阻 即 可 因此 具 有 只 用 少 數 之 接 觸 部 1 I 即 可 之 效 果。另 外, 因 為 鋁 等 之金 屬 之 佔 用 面 積 變 小 所- 1 1 Μ 具 有 不 容易由 於電 子 移 動 現 象而 發 生 斷 線 之 效 果 〇 1 1 依 昭 第 5態樣之本發明時 因為在> 第1 電 晶 體 之 源 極 — 吸 1 1 極 形 成 矽 化物, 與其 鄰 接 之 第 2和第 3電 晶 體 之 源 極 — 吸 極 1 I 變 成 電 源 電位, 所Μ 在 與 第 1電晶體 之矽化物之電位之關 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公籍) _ 2 3 _ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(2 1 ) 係中,可Μ構成電的開路。因此,通過第2導電性配線之 功化物部份之電信號不會受到第2和第3電晶體之影響。因 此,依照此種構造時,在形成於妨化物部份之上方之未使 ; 用空間可Μ配置其他之第3導電性配線等,具有可Κ縮小 晶片尺寸之效果。 依照第6態樣之本發明時,因為構成在與阱區域接合之 第1和第2電源配線與第1和第2場效電晶體之源極一吸極形 成有功化物層,該矽化物層形成與導電性配線連接之配線 層,所Μ電源配線可Μ不使用阱和進行矽鋁物化之鋁等之 金屬配線層*因此經由有效的使用該空的區域可Μ提高配 線布置之彈性,具有可Κ縮小晶片尺寸之效果。 依照第7態樣之本發明時,因為構成利用高熔點金屬形 成後之熱處理用來形成衫化物層,所以可Μ依照情況之不 同使電阻成為可變之方式,具有可Μ有效利用配線層之效 果。 [附圖之簡單說明] 圖1是布置圖,用來說明本發明之實施形態1。 圖2是沿著圖1之I - I線之剖面圖。 圖3是圖1之布置之電路圖。 圖4是習知技術之布置圖。 圖5是用以說明本發明之實施形態2之布置圖。 圖6是習知技術之布置圖。 圖7是圖5之布置之電路圖。 圖8是用Κ說明本發明之實胞形態3之布置圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
----------:II —眷衣I 訂 严-鼻W--------------- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) A7 B7 五、發明説明(22) 圖9是圖8之布置之電路圖。 圖10是用Μ說明本發明之實施形態4之布置圖。 圖11是沿著圖10之ΙΙ-ΙΙ線之剖面圖。 圖12是習知技術之布置圖。 圖13是沿著圖12之ΙΙΙ-ΙΙΙ線之剖面圖。 _14是用Μ說明本發明之實施形態5之布置圖。 圖15是用Μ說明本發明之實施形態6之布置圖。 圖16是習知技術之布置圖。 圖17是圔16之布置之電路圖。 圖18是布置圖,用來說明本發明之實施形態6之另一較 佳態樣。 圖19是習知技術之布置圖。 圖20是構造圖,用來表示習知之舖滿型閘陣列之主晶片 圖像。 圖21是習知之用Μ構成邏輯電路之基本單元圖。 圖22是圖21之基本單元之電路圖。 [符號之說明] 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) la,Id,21a 〜21c,31a 〜31c,81a * 81b …第 1A1配線( 導電性配線,第1導電性配線), lb...第1A1配線(第2導 電性配線), lc...第1A1配線(第3導電性配線),2a,2b, 22a,22b,32a ,32b,82a,82b,92a,92b,102a,102b,106a〜 1 0 6 c . . ·矽鋁物化之源‘極一吸極區域(矽化物層), 93a,93b...PM0S電晶體之閘極,93c,93d...NM0S電晶體之 閘極, 82c,102c...矽鋁物化之電源配線(第1電源配線) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!0:< 297公釐) 25 A7 B7 五、發明説明(23 ) ,82d,102d...矽鋁物化之接地配線(第2電源配線),94a 〜94e,95a 〜95f,112,115 〜117 …信號配線,95g , 95}1,1013,1011>,101<:...電源配線(第1電源配線),95!, 95j...接地配線(第2電源配線),243,241),34...第241配 線(第4導電性配線),25a〜25d...路徑, 3a,3b,3d, 23a,23b,33a,33b,83 ...接觸部, 36 a,36b , 36c,36d,36e ,36f...配線晶格, 4...使用第1A1配線之其他信號配線 , 5 ...場氧化膜, 6 ...層間絕緣膜, A、B、C、S .. 輸入端子, Y...輸出端子。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 26 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐)

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1 1 I 1 . 一 種半導體積體 電路 裝置 9 在 矽 基 板 表 面 具 備 有 1 1 1 第 1場效電晶體群 依- ·*方 旬排列 用來與供給第1 電 位 1 I 請 1 1 之 第 1電源配線連接 先 1 閣 1 第 2場效電晶體群 形成與! 第1 場 效 電 晶 體 群 並 排 用 來 讀 背 1 面 I 與 供 給 比上述第1電位低之第2電 位 之 第 2電源配線連接 之 注 | 意 I 和 事 項 1 I 再 導 電 性配線,用來 使該 等電 晶 體 互 相 連 接 寫 m 本 其 特 徵是: 頁 "--- 1 I 在 上 述第1和第2場 效電 晶體 群 之 至 少 一 方 之 電 晶 體 群 之 1 1 | 各 個 電 晶體之源極一 吸極 區域 形 成 矽 化 物 層 使 其 成 為 與 1 1 上 述 之 導電性配線連 接之 配線 層 在 m 配 線 層 之 上 方 利 用 1 訂 上 述 之 導電性配線可 Μ配 置信 號 配 線 〇 ί 1 2 . 如 申請專利範圍 第1項之半導體積體電路裝置 其中 1 I 9 在 各 個電晶體之源 極一 吸極 區 域 包 含 有 多 個 之 配 線 晶 格 1 1 | 9 依 第 1和第2場效電 晶體 之排 列 方 向 之 垂 直 方 向 被 配 置 1 在 選 擇 矽化物層作為 配線 層之 情 況 時 * 上 逑 配 線 晶 格 中 之 1 1 至 少 2個被使用作為接觸部。 1 I 3 . 一 種半導體積體 電路 裝置 9 其 特 徵 是 在 矽 基 板 表 面 具 1 備 有 I 1 第 1場效電晶體群 依- -方 句排列 用來與供給第1 電 位 1 1 之 第 1電源配線連接 1 1 第 2場效電晶體群 •形成與’ 第1 場 效 電 晶 m 群 並 排 9 用 來 1 | 與 供 給 比上述第1電位低之第2電 位 之 第 2電源配線連接 ' 1 I 第 1導電性配線,用來使選 自上述第1 場 效 電 晶 體 群 中 之 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 第1電晶體和選自上述第2場效電晶體群中之第2電晶體互 相連接; 矽化物層,形成在第1和第2電晶體之源極一吸極中之至 少一部份;和 第2導電性配線,用來與上述之矽化物層連接。 4. 一種半導體積體電路裝置,在矽基板表面具備有: 第1電源配線,用來與第1電源連接; 第1場效電晶體群,依一方向排列; 第1導電性配線,用來使上述之第1電源配線和選自上述 第1場效電晶體群中之第1電晶體互相連接; 第2電源配線,用來與供給比上述第1電源低之電位之第 2電源連接; 第2場效電晶體群,與上述第1場效電晶體並行的排列; 和 第2導電性配線,用來使上述之第2電源配線和選自上述 第2場效電晶體群中之第2電晶體互相連接; 其特徵是: 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ---------會II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 〇 在接合阱區域之上述第1和第2電源配線與第1和第2場效 電晶體群之源極一吸極之至少一部份形成矽化物層,該矽 化物層用來形成與上述導電性配線連接之配線層。 5. —種半導體積體電路裝置,其特徵是在矽基板表面具 備有: 第1導電性配線,用來與電源連接; _場效電晶體群,依一方向排列;_ 私紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) 六、申請專利範圍 形 份 RW· 咅1 少 第至 之 第 和 A8 B8 C8 D8 極 吸 - 極 源 之 中 群 體 晶 電 效 場 述 上 自 選 在 有 成 物 化 極 源 之 瞪 晶 電 1X 第 述 上 接 鄰 使 來 用 , 第 體之 晶述 電上 ;與 成 形 第極 吸 接 連 線 配 性 電 導 1 層 線 配 為 作 份 部1 之 物 化 矽 述 上Μ 線 配 性 電 導 2 第 裝0 ^ 0 *體來二, 配il線 二 K0^0 _ 1電3 一 1 第6.第第第 方 上 之 層 線 配 述 上 在 有 備 具 面 表 板 基 ♦, 矽接 在連 , 源 置 電 述 上 自 選 和 線 配 源 電 ; 1 列第 排之 向述 方上 一 使 依來 ,. 用 群, 體線 晶配 電性 效電 場導 1X 1X 互 澧 SQEQ 晶 ---------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 述 上 比 電給 ϋ供 第與 之來 中用 群, 體線 晶 配 ., 電源接 效電連 場? 源1 Μ ^ m2¾ 第 之 位 電 之 低 ., 源 接電 連II Ϊ第 列 th. 0 的 行 並 體 晶 電 效 場 1X 第 述 上 與 f 群 體 晶 電 效 場 2 第 " .€' 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 導效 Ϊ 2 i 特 場 第2t其 第 述 上 自 選 和 線 配 源接 電連 2相 第ϊίί 之互 述S 上晶 使2m 來第 用之 , 中 線群 配體 性 晶 電 電 是 徵 效形 場來 2 1 用 0 0 層 和P 1 物 第化 與矽 線該 配 , 源層。 電物層 «J ic 化線 S = 1®成之 第形接 述極連 上吸線 之 I 配 域極性 區源電 阱之導 合群述 接體上 在晶與 電成 6 至 體之 積後 體成 導形 半屬 之金 項點 一 熔 何高 任用 之利 中層 項物 化 矽 第之 圍述 範上 利中 專其 請 ’ 申置 如裝 7.路 電 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(210X297公釐) 3 六、申請專利範圍 化 阻 aa 低 行 進 來 用 理 處 熱 A8 B8 C8 D8 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一 ---1 · 、言 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 衣紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1140736A (ja) * 1997-07-16 1999-02-12 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体装置
JP3209972B2 (ja) * 1999-01-14 2001-09-17 沖電気工業株式会社 半導体集積回路装置
US6329670B1 (en) * 1999-04-06 2001-12-11 Micron Technology, Inc. Conductive material for integrated circuit fabrication
DE10126566C1 (de) * 2001-05-31 2002-12-05 Infineon Technologies Ag Integrierte Schaltung
JP2007173474A (ja) * 2005-12-21 2007-07-05 Oki Electric Ind Co Ltd ゲートアレイ
JP5230593B2 (ja) * 2009-12-25 2013-07-10 パナソニック株式会社 半導体装置及びその設計方法
FR2968128B1 (fr) * 2010-11-26 2013-01-04 St Microelectronics Sa Cellule precaracterisee pour circuit intégré
US9972624B2 (en) 2013-08-23 2018-05-15 Qualcomm Incorporated Layout construction for addressing electromigration
US9786663B2 (en) 2013-08-23 2017-10-10 Qualcomm Incorporated Layout construction for addressing electromigration
KR102178732B1 (ko) * 2013-12-20 2020-11-13 삼성전자주식회사 반도체 소자
US9748246B2 (en) 2014-11-06 2017-08-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor integrated circuits having contacts spaced apart from active regions
US9583493B2 (en) 2015-04-08 2017-02-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Integrated circuit and semiconductor device
KR102342851B1 (ko) 2015-08-17 2021-12-23 삼성전자주식회사 반도체 칩, 테스트 시스템 및 반도체 칩의 테스트 방법
US9953977B1 (en) 2017-04-13 2018-04-24 International Business Machines Corporation FinFET semiconductor device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58111347A (ja) * 1981-12-24 1983-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JPS6341048A (ja) * 1986-08-06 1988-02-22 Mitsubishi Electric Corp 標準セル方式大規模集積回路
JPS6364337A (ja) * 1986-09-05 1988-03-22 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JPH02288361A (ja) * 1989-04-28 1990-11-28 Seiko Epson Corp 半導体装置
US4923822A (en) * 1989-05-22 1990-05-08 Hewlett-Packard Company Method of fabricating a semiconductor device by capping a conductive layer with a nitride layer
JP2720104B2 (ja) * 1990-09-04 1998-02-25 三菱電機株式会社 半導体集積回路装置のメモリセル回路
JPH04237165A (ja) * 1991-01-21 1992-08-25 Olympus Optical Co Ltd Cmosゲートアレイ及びその製造方法
JP2853445B2 (ja) * 1992-04-28 1999-02-03 日本電気株式会社 半導体集積回路
JPH06140607A (ja) * 1992-10-28 1994-05-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
EP0614224A1 (en) * 1993-03-05 1994-09-07 STMicroelectronics, Inc. Basic gate array cell with salicide power distribution

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