TW202205346A - 描繪裝置、資料處理裝置、描繪方法以及描繪資料生成方法 - Google Patents

描繪裝置、資料處理裝置、描繪方法以及描繪資料生成方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種使已因應了基板的變形之描繪資料的修正處理所需的計算資源或者計算時間減少之技術。資料處理裝置係生成第一分割資料，並依據第一基板的對準標記的位置對合至再次配置過的各個第一網格區域的位置，合成各個第一網格區域的描繪內容並生成第一描資料，其中該第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，該複數個第一網格區域係以初始網格寬度將初始描繪資料所表現的初始描繪區域分割所獲得。資料處理裝置係生成第二分割資料，並依據第二基板的對準標記的位置對合至再次配置過的各個第二網格區域的位置，合成各個第二網格區域的描繪內容並生成表示包含預定圖案的第二描繪區域之第二描資料，其中該第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，該複數個第二網格區域係以比初始網格寬度還大的網格寬度將第一描繪資料所表現的第一描繪區域分割所獲得。

Description

描繪裝置、資料處理裝置、描繪方法以及描繪資料生成方法
本發明係有關於一種依據描繪資料於基板形成圖像之技術，尤其有關於一種因應基板的形狀修正描繪資料之技術。
已知有一種直接描繪裝置，係藉由雷射光等掃描印刷基板、半導體基板、液晶基板等基板的對象面，藉此描繪電路圖案(circuit pattern)。直接描繪裝置所為之電路圖案的描繪係遵循從電路圖案的設計資料所轉換的描繪資料而進行。描繪資料為具有直接描繪裝置能夠處理的記述形式之資料。
基板會有下述情形：除了基板本身原本具有翹曲、歪曲之外，還會因為先前步驟的處理而稍微變形。另一方面，設計資料通常未考慮基板的變形而作成。因此，在直接使用轉換後的描繪資料來描繪電路圖案之情形中，會有良率降低之虞。因此，直接描繪裝置所為之描繪會有下述情形：預先測定基板的形狀，並依據所獲得的測定結果修正描繪資料。
例如在專利文獻1中，基板的描繪區域被虛擬性地分割成複數個網格(mesh)區域，並生成表示分割後的各個網格區域的描繪內容之分割描繪資料。於描繪時，依據設置於描繪對象的基板之對準標記(alignment mark)的位置再次配置網格區域的位置。而且，於再次配置後的各個網格區域合成有對應的描繪內容，藉此生成修正後的描繪資料。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2010-204421號公報。
[發明所欲解決之課題]
然而，以往的技術係依據每個基板的對準標記的位置再次配置網格區域，藉此生成描繪資料。由於網格區域的大小為固定而與基板的變形度無關，因此於描繪資料的生成每次都需要相同程度的計算處理。因此，於已因應了基板的變形之描繪資料的修正處理需要眾多的計算資源或者計算時間。
本發明的目的係提供一種使已因應了基板的變形之描繪資料的修正處理所需的計算資源或者計算時間減少之技術。 [用以解決課題之手段]
為了解決上述課題，第一態樣為一種描繪裝置，係用以對基板描繪預定圖案。描繪裝置係具備：台(stage)，係用以載置具有複數個對準標記的基板；拍攝部，係拍攝載置於前述台之前述基板的前述對準標記；資料處理部，係生成描繪資料；以及照射部，係依據前述描繪資料對載置於前述台之前述基板照射光。前述資料處理部係執行：資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域；第一分割處理，係依據前述初始描繪資料生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得；第一標記位置特定處理，係依據前述拍攝部拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的前述對準標記的位置；第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域；以及第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域。此外，資料處理部係執行：第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得；第二標記位置特定處理，係依據前述拍攝部拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的前述對準標記的位置；第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域；以及第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域。
第二態樣的描繪裝置係如第一態樣所記載之描繪裝置，其中前述第二分割處理係包含下述處理：前述資料處理部係以彼此不同的複數個事前網格寬度分割前述第一描繪區域，藉此針對每個前述事前網格寬度生成事前分割資料，前述事前分割資料係表示複數個前述第二網格區域的各個描繪內容；前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據前述第二基板的前述對準標記的位置從複數個前述事前分割資料中選擇一個事前分割資料，並再次配置所選擇的前述事前分割資料所表示的各個前述第二網格區域。
第三態樣的描繪裝置係如第一態樣或第二態樣所記載之描繪裝置，其中前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據前述第二基板相對於前述第一基板所具有的各個前述對準標記之間的變形來決定前述網格寬度。
第四態樣的描繪裝置係如第三態樣所記載之描繪裝置，其中前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據鄰接的兩個前述對準標記之間的變形來決定前述網格寬度。
第五態樣的描繪裝置係如第三態樣或者第四態樣所記載之描繪裝置，其中前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據位於角落的兩個前述對準標記之間的變形來決定前述網格寬度。
第六態樣為一種資料處理裝置，係用以生成描繪資料，前述描繪資料係使用於用以對基板描繪預定圖案之描繪裝置。資料處理裝置係具備處理器以及與前述處理器電性連接之記憶體。前述處理器係執行：資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域；第一分割處理，係依據前述初始描繪資料來生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得；第一標記位置特定處理，係依據拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的對準標記的位置；第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域；以及第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域。此外，前述處理器係執行：第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得；第二標記位置特定處理，係依據拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的對準標記的位置；第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域；以及第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域。
第七態樣為一種描繪方法，係用以對基板描繪預定圖案。描繪方法係包含：資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域；第一分割處理，係依據前述初始描繪資料來生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得；第一標記位置特定處理，係依據拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的對準標記的位置；第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域；第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域；以及第一描繪處理，係依據前述第一描繪資料對前述第一基板進行描繪。此外，描繪方法係包含：第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得；第二標記位置特定處理，係依據拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的對準標記的位置；第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域；第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域；以及第二描繪處理，係依據前述第二描繪資料對前述第二基板進行描繪。
第八態樣為一種描繪資料生成方法，係用以生成描繪資料，前述描繪資料係使用於用以對基板描繪預定圖案之描繪裝置。描繪資料生成方法係包含：資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域；第一分割處理，係依據前述初始描繪資料來生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得；第一標記位置特定處理，係依據拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的對準標記的位置；第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域；以及第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域。此外，前述描繪資料生成方法係包含：第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得；第二標記位置特定處理，係依據拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的對準標記的位置；第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域；以及第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域。 [發明功效]
依據第一態樣的描繪裝置，為了生成第二描繪資料而再次配置的第二網格區域係比為了生成第一描繪資料而再次配置的第一網格區域還大。因此，能減少用以再次配置各個第二網格區域之處理以及用以合成各個第二網格區域的描繪內容之處理所需的計算資源或者計算時間。
依據第二態樣的描繪裝置，藉由以複數個事前網格寬度進行分割而預先生成複數個事前分割資料，藉此能比針對每個基板生成分割資料之情形還減少計算資料或者計算時間。
依據第三態樣的描繪裝置，係能依據第二基板中的各個對準標記之間的變形有效地修正第一描繪資料。
依據第四態樣的描繪裝置，能依據第二基板中之鄰接的兩個對準標記之間的變形有效地修正第一描繪資料。
依據第五態樣的描繪裝置，能依據第二基板中之位於角落的兩個對準標記之間的變形有效地修正第一描繪資料。
以下，參照隨附的圖式說明本發明的實施形態。此外，實施形態所記載的構成要素僅為例示，並非示用以將本發明的範圍限定於這些實施形態。為了容易理解，圖式中會有因應需要將各個部位的尺寸以及數量誇大化或者簡略化之情形。
[實施形態] 圖1係顯示實施形態的描繪系統100的概略構成以及資料的流程之圖。圖2係顯示實施形態的描繪系統100的概略構成之圖。描繪系統100係具備描繪裝置1以及圖案設計裝置4。描繪裝置1為直接掃描裝置，藉由以曝光用的雷射光LB掃描基板9的對象面9a從而對基板9的對象面9a描繪屬於電路圖案的曝光圖像。
描繪裝置1係具備：資料處理裝置2(資料處理部)，係生成描繪資料DD；以及曝光裝置3，係依據描繪資料DD進行描繪(曝光)。資料處理裝置2以及曝光裝置3並無須一體性地設置，只要能夠在兩者之間進行資料授受則亦可被物理性地隔離。
如圖2所示，資料處理裝置2係具備以匯流排線BS1彼此電性地連接之處理器201、ROM(Read Only Memory；唯讀記憶體)202、RAM(Random Access Memory；隨機存取記憶體)203以及記憶部204。處理器201係包含CPU(Central Processing Unit；中央處理單元)或者GPU(Graphics Processing Unit；圖形處理單元)等。RAM203為能夠進行資訊的讀出以及寫入之記憶媒體，具體而言為SDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory；同步動態隨機存取記憶體)。記憶部204為能夠進行資訊的讀出以及寫入之非暫時性的記憶媒體，且包含HDD(Hard Disk Drive；硬碟驅動機)或者SSD(Solid State Drive；固體狀態驅動機)。記憶部204係記憶程式P。
處理器201係將RAM203作為作業區域並執行儲存於記憶部204的程式P。藉此，資料處理裝置2係生成描繪資料DD。
於匯流排線BS1電性地連接有輸入部205以及顯示部206。輸入部205係由例如鍵盤以及滑鼠等所構成，接受命令以及參數等之輸入。顯示部206係由例如液晶顯示器等所構成，顯示處理結果以及訊息等各種資訊。再者，於匯流排線BS1連接有讀取裝置207，讀取裝置207係從具有可攜帶性的記錄媒體RM(光碟、磁碟或者半導體記憶體等)讀取記錄內容。程式P亦可被讀取裝置207從記錄媒體RM讀出並被儲存至記憶部204。此外，程式P亦可經由網路被儲存至記憶部204。
於匯流排線BS1連接有曝光裝置3以及圖案設計裝置4。資料處理裝置2係依據藉由圖案設計裝置4所作成的圖案資料DP來生成於曝光裝置3所使用的描繪資料DD。圖案資料DP為電路圖案的設計資料。圖案資料DP通常係作為多邊形(polygon)等向量資料(vector data)被記述。曝光裝置3係依據作為光柵資料(raster data)而被記述的描繪資料DD進行曝光。因此，資料處理裝置2係將圖案資料DP轉換成光柵資料。此外，如後所述，描繪裝置1係生成已因應描繪對象的基板9的變形經過修正的描繪資料DD。因此，曝光裝置3係即使針對具有變形的基板9亦能依據修正後的描繪資料DD良好地描繪電路圖案。
曝光裝置3係逐片地描繪處理複數片基板9。因此，資料處理裝置2係針對曝光裝置3所處理的複數片基板9生成已因應了各者的變形之描繪資料DD。將在曝光裝置3中進行描繪處理的第一片基板9作為基板91。此外，將在曝光裝置3中在基板91之後進行描繪處理的第二片以後的基板9作為基板92。資料處理裝置2係生成描繪資料DD1以及描繪資料DD2作為用以描繪處理基板91以及基板92之描繪資料DD。
如圖1所示，資料處理裝置2係具備轉換部21、第一分割部22、再次配置部23、合成部24以及第二分割部25。轉換部21、第一分割部22、再次配置部23、合成部24以及第二分割部25為藉由處理器201執行程式P而軟體性地實現之功能。此外，各個處理部亦可藉由ASIC(Application Specific Integrated Circuit；特定應用積體電路)等專用電路而硬體性地實現。此外，如圖1所示的圖案資料DP、初始描繪資料DD0、分割條件資料DC、初始分割資料D20、標記拍攝資料DM、再次配置資料DS(再次配置資料DS1、DS2)、描繪資料DD(描繪資料DD1、DD2)以及事前分割資料集(prior division data set)D21為被適當地記憶於RAM203或者記憶部204之資料。
轉換部21係從圖案設計裝置4取得圖案資料DP並將圖案資料DP轉換成初始描繪資料DD0。初始描繪資料DD0為能夠在曝光裝置3處理的光柵形式的資料。第一分割部22係依據初始描繪資料DD0以及分割條件資料DC來生成初始分割資料D20。
再次配置部23係依據標記拍攝資料DM來生成再次配置資料DS。標記拍攝資料DM係表示曝光裝置3的拍攝部34拍攝了載置於台32的基板9所設置的對準標記Ma所得之拍攝圖像。拍攝部34係取得拍攝了基板91的對準標記Ma所得之標記拍攝資料DM1以及拍攝了基板92的對準標記Ma所得之標記拍攝資料DM2。再次配置部23係依據標記拍攝資料DM1來生成再次配置資料DS1。此外，再次配置部23係依據標記拍攝資料DM1、DM2來生成再次配置資料DS2。
合成部24係依據初始分割資料D20以及再次配置資料DS1來生成描繪資料DD1。第二分割部25係依據描繪資料DD1來生成事前分割資料集D21。再者，合成部24係依據再次配置資料DS2以及事前分割資料集D21來生成描繪資料DD2。
針對在資料處理裝置2中的轉換部21、第一分割部22、再次配置部23、合成部24以及第二分割部25所進行的處理的詳細內容係容後述。
曝光裝置3係依循從資料處理裝置2所賦予的描繪資料DD對基板9進行描繪。如圖1所示，曝光裝置3係具備：描繪控制器31，係控制各部的動作；台32，係用以載置基板9；照射部33，係射出雷射光LB；以及拍攝部34，係拍攝載置於台32的基板9的對象面9a。雷射光LB的種類係因應塗布於基板9的對象面9a的感光材料等適當地制定。
在曝光裝置3中，台32以及照射部33中的至少一者係能夠於彼此正交之屬於水平二軸方向的主掃描方向與副掃描方向移動。因此，曝光裝置3係能夠在已將基板9載置於台32的狀態下一邊使台32與照射部33相對性地於主掃描方向移動一邊從照射部33照射雷射光LB。此外，台32亦可構成為能夠在水平面內旋轉移動，照射部33亦可構成為能夠於垂直方向移動。
照射部33係具備：光源(未圖示)，係射出雷射光；以及DMD(digital mirror device；數位反射元件)等之調變部33a，係將從光源射出的雷射光予以調變。描繪控制器31係將經過調變部33a調變過的雷射光LB照射至台32上的基板9。更具體而言，描繪控制器31係依循已定義了每個像素位置有無曝光之描繪資料DD的記述內容來進行調變部33a的每個調變單位的雷射光LB的照射的開啟(ON)／關閉(OFF)設定。而且，描繪控制器31係在使照射部33相對於台32於主掃描方向相對移動之期間依循開啟／關閉設定從照射部33射出雷射光LB，藉此對台32上的基板9照射已接受依據描繪資料DD的調變之雷射光LB。
描繪控制器31係當掃描至主掃描方向中的掃描區域的一端部時，使台32於副掃描方向移動達至預定距離。而且，描繪控制器31係朝向主掃描方向中的掃描區域的另一端部掃描。如此，掃描控制器31係將主掃描方向的掃描與台32朝副掃描方向的移動交互地重複預定次數，藉此於基板9的對象面9a形成依據描繪資料DD的曝光圖像。
拍攝部34係拍攝載置於台32的基板9所具有的複數個對準標記Ma。對準標記Ma的拍攝圖像係作為標記拍攝資料DM被提供至資料處理裝置2的再次配置部23。
對準標記Ma係設置於基板9的對象面9a。此外，對準標記Ma係可為藉由機械性加工所設置的貫通孔等，亦可為藉由印刷製程或者光微影(photolithography)製程等經過圖案化(patterning)而成之物。
[修正處理的基本概念] 以下，接著說明資料處理裝置2在生成描繪資料DD時所進行的修正處理。一般而言，圖案資料DP係設想無變形且被描繪面平坦之理想性的形狀的基板9而作成。然而，於實際的基板9會產生翹曲、歪曲、伴隨先前步驟的處理之歪曲等的變形。因此，即使直接以圖案資料DP對基板9描繪電路圖案，亦難以獲得期望的電路圖案。因此，資料處理裝置2係以形成有已因應了基板9的形狀之電路圖案之方式來轉換記述於圖案資料DP之電路圖案的位置(座標)。所謂在生成描繪資料DD時所進行的修正處理，極端地來說為座標轉換處理。如以下所說明般，資料處理裝置2係考慮曝光裝置3中的曝光解析度來進行修正處理。
圖3係用以說明曝光裝置3中的曝光解析度與所描繪的圖形之間的關係之圖。此外，在圖3中顯示與主掃描方向對應的X軸以及與副掃描方向對應的Y軸。
在曝光裝置3中，台32係相對於照射部33於主掃描方向以及副掃描方向移動，藉此進行曝光。因此，針對如圖3中的(a)所示的圖形F1般之以傾斜角度α1相對於X方向傾斜之邊，如圖3中的(b)所示在描繪資料DD中近似於階梯狀圖形F2並被記述。此時，階梯狀圖形F2的階差係相當於曝光裝置3中的副掃描方向的曝光解析度。以下，將副掃描方向的曝光解析度作為「δ」。如圖3中的(b)所示，階梯狀圖形F2係藉由複數次的主掃描方向的掃描從(1)至(8)階段性地被描繪。
在用以生成包含圖形F1的掃描資料DD之修正處理中，無須生成忠實地表現圖形F1之座標值，只要直接生成表現階梯狀圖F2之座標值即可。
圖3中的(c)係顯示以階梯狀圖形F4作為曝光解析度δ來近似比圖形F1的傾斜角度α1還小之傾斜角度α2的圖形F3的樣子。將階梯狀圖形F2中的階寬度(各個階的主掃描方向的長度)作為w1，將階梯狀圖形F4的階寬度作為w2。如此，成為w2＞w1。
與圖3中的(c)同樣地，圖3中的(d)係顯示以曝光解析度α近似圖形F3的樣子。然而，在圖3中的(d)中，將已將圖形F3近似的階梯狀圖形F5的階寬度w3作成w3＝2×w1。在此情形中，與圖3中的(c)相比，雖然近似的精度差，然而只要δ充分地小則在實用上成為充分的精度。
當作成圖形F1的傾斜為針對電路圖案所容許的最大傾斜(相對於主掃描方向之最大變形誤差)時，傾斜比圖形F1還小之電路圖案係能以具有δ的整數倍的階差以及w1的整數倍的階寬之階梯狀圖案來近似。此外，同樣的議論即使是針對副掃描方向亦成立(然而，此情形中的曝光解析度係被調變部33a的調變單位的尺寸所規定)。因此，在進行了已考量基板9的變形之修正處理(座標轉換處理)之情形中，轉換後的電路圖案係以下述方式被描繪：針對主掃描方向，將依據副掃描方向的曝光解析度所制定的寬度作為單位；針對副掃描方向，將依據主掃描方向的曝光解析度所制定的寬度作為單位。
綜上所述，資料處理裝置2係預先將電路圖案整體(描繪對象圖像)分割成複數個網格區域，該電路圖案整體係藉由從圖案資料DP所獲得之屬於光柵資料的初始描繪資料DD0而表現。網格區域係矩形狀，縱橫的長度係因應曝光解析度以及所容許的圖案的變形度來制定。而且，資料處理裝置2係針對每個網格區域進行座標轉換，藉此取得描繪資料DD。這些一連串的處理係相當於修正處理。
[資料處理裝置的動作] 接著，詳細說明資料處理裝置2所執行的處理。資料處理裝置2係在實際對基板9執行描繪之前先執行準備處理。準備處理的結果係被利用於對基板9描繪電路圖案。參照圖4說明準備處理。
[準備處理] 圖4係顯示資料處理裝置2所執行的準備處理的流程之圖。首先，轉換部21係從圖案設計裝置4取得向量(vector)形式的圖案資料DP(圖4中的步驟S1)。轉換部21係將所取得的圖案資料DP轉換成光柵(raster)形式的初始描繪資料DD0(圖4中的步驟S2)。以下，圖案資料DP所表現的圖案電路係在曝光裝置3中被描繪於針對基板9的對象面9a所設定之矩形的描繪區域的內側。如圖1所示，轉換部21所生成的初始描繪資料DD0係被傳遞至第一分割部22。
第一分割部22係依循分割條件資料DC的記述內容來求出網格區域的初始網格寬度，該網格區域係用以從初始描繪資料DD0生成初始分割資料D20(步驟S3)。分割條件資料DC係包含用以特定在修正處理時電路圖案所容許的最大的變形度之資訊以及曝光裝置3中的主掃描方向以及副掃描方向的曝光解析度作為資料要素。
圖5係用以說明第一分割部22所執行的處理之概念圖。圖5係顯示與主掃描方向對應的X軸以及與副掃描方向對應的Y軸。圖5中，以實線所示之由各個頂點A、B、C、D所構成的矩形係表示圖案資料DP或者初始描繪資料DD0中的電路圖案的初始描繪區域RA0。將頂點A的座標作為(X1,Y1)，將頂點B的座標作為(X2,Y1)，將頂點C的座標作為(X2,Y2)，將頂點D的座標作為(X1,Y2)。此外，當設成X2-X1=Lx、Y2-Y1=Ly時，Lx、Ly係表示主掃描向以及副掃描方向中的初始描繪區域RA0的尺寸。
將以虛線所示的初始描繪區域RA0的各個頂點A、B、C、D作為中心而具有的四個矩形Sq1至Sq4(由分別由頂點A1至A4、頂點B1至B4、頂點C1至C4、頂點D1至D4所構成的矩形)係顯示修正處理時各個頂點所容許的誤差範圍。誤差範圍係相當於電路圖案的構成單位所容許的最大的誤差範圍。
在此，矩形Sq1至Sq4亦皆設定成X軸方向的尺寸為p×Lx且Y軸方向的尺寸為q×Ly(其中，0＜p，q≪1)。如此，用以連結矩形Sq1內的任意的點與矩形Sq2內的任意的點之線段係表現邊AB對應於基板9的變形所能取得的變形後的狀態。此時，邊AB成為線段A3B1(或者線段A2B4)之變形係成為賦予邊AB所容許的最大的傾斜之變形。線段A3B1相對於邊AB之傾斜角度α係成為邊AB所容許的最大的傾斜角度。此外，傾斜角度α係視為下述式子。
式子(1) tanα=qLy/(X2-X1-pLx)=qLy/(1-p)Lx≒qLy/Lx
上述議論係在針對與邊AB平行的邊CD亦同樣地成立。亦即，針對邊CD亦容許直至具有傾斜角度α的線段C4D2(或者線段C1D3)為止之變形。亦即，針對主掃描方向係容許從與主掃描方向平行的狀態直至傾斜角度α為止之變形。附帶一提，雖然在圖5中顯示線段C3D1作為邊CD的變形的例子，然而由於從邊CD朝線段C3D1之變形所為的傾斜角度α’係比傾斜角度α還小，因此該變形並未被考慮於網格區域的初始網格寬度的算出。
在此，當將副掃描方向的曝光解析度設為δy時，針對主掃描方向的網格區域的初始網格寬度wx係以下述式子求出。
式子(2) wx=δy/tanα=δyLx/qLy
與針對主掃描方向的傾斜角度α同樣地，針對副掃描方向，邊BC以及邊DA的變形所容許的最大的傾斜角度β係視為下述式子。
式子(3) tanβ=pLx/(Y2-Y1-qLy)=pLx/(1-q)Ly≒pLx/Ly
當將主掃描方向的曝光解析度設為δx時，針對副掃描方向的網格區域的初始網格寬度wy係以下述式子求出。
式子(4) wy=δx/tanβ=δxLy/pLx
曝光裝置3的曝光解析度δx、δy以及頂點A、B、C、D的誤差範圍係作為分割條件DC被預先賦予。此外，Lx以及Ly為從初始描繪資料DD0所特定之已知的值，例如亦可作為分割條件資料DC的資料要素而被賦予。總之，這些全部都是已知的值。第一分割部22係依據這些值並遵循式子(3)以及式子(4)所示的運算式來求出網格區域的初始網格寬度wx、wy。
例如，設成描繪區域的尺寸為Lx=Ly=500mm，曝光解析度為δx=δy=1μm，描繪區域的各個頂點的容許誤差範圍為pLx=qLy=500μm(亦即容許誤差範圍為描繪區域的尺寸的0.1%)。如此，wx、wy係成為約1μm。
此外，在頂點A、B、C、D的誤差範圍分別不同之情形中，亦能以同樣的思考方式求出初始網格寬度wx、wy。當將頂點A、B、C、D的X軸方向與Y軸方向的誤差範圍的組分別設為(2axLx,2ayLy)、(2bxLx,2byLy)、(2cxLx,2cyLy)、(2dxLx,2dyLy)時，第一網格區域RE1的初始網格寬度wx、wy係分別成為以下所示。
式子(5) wx≒Min{δyLx/(ay+by)Ly,δyLx/(cy+dy)Ly} 式子(6) wy≒Min{δxLy/(bx+cx)Lx,δxLy/(dx+ax)Lx}
返回至圖4，藉由步驟S3，第一分割部22係求出網格區域的初始網格寬度wx、wy。如此，第一分割部22係將初始描繪資料DD0所表現之包含電路圖案的描繪區域虛擬性地分割成複數個區域(步驟S4)。而且，第一分割部22係從初始描繪資料DD0生成初始分割資料D20，該初始分割資料D20係表示藉由分割所獲得的複數個第一網格區域RE1的各個描繪內容(步驟S5)(參照圖1)。
圖6係概念性地顯示描繪區域被分割成複數個第一網格區域RE1的樣子之圖。首先，將已以初始網格寬度wx,xy區劃了初始描繪區域RA0之各個區域作為基本區域RC1。而且，將已於基本區域RC1的周圍加上了主掃描方向以及副掃描方向中相當於曝光解析度δx、δy之寬度的附加區域RC2之區域作為一個第一網格區域RE1。在圖6中，以虛線所區劃的矩形狀的各個區域為基本區域RC1，位於基本區域RC1的周圍之框狀的區域為附加區域RC2，以實線所區劃的矩形狀的各個區域為第一網格區域RE1。如圖6所示，相鄰的第一網格區域RE1係彼此重疊(overlap)。使彼此相鄰的第一網格區域RE1重疊的原因乃是為了避免下述情形：在因應基板9的變形使第一網格區域RE1移動時，於相鄰的第一網格區域RE1之間產生空白。
第一分割部22係將各個第一網格區域RE1中之基準位置Ms的座標、描繪內容的資訊以及主掃描方向與副掃描方向的尺寸mx,my作為用以特定各個第一網格區域RE1之資料要素記述於初始分割資料D20。雖然基準位置Ms係能夠任意地設定，然而亦可如圖6所示般將第一網格區域RE1的中心(重心)作為基準位置Ms。此外，由於mx=wx+2δx且my=wy+2δy，因此第一分割部22亦可取代mx,my將初始網格寬度wx、wy以及曝光解析度δx、δy記述於初始分割資料D20。當第一分割部22生成初始分割資料D20時，資料處理裝置2係結束準備處理。
[描繪處理的流程] 圖7以及圖8係顯示實施形態的描繪裝置1所執行的處理的流程之圖。於準備處理後，描繪裝置1係依序執行複數個基板9的描繪處理。首先，如圖7所示，基板91係被搬入至曝光裝置3的台32上(圖7中的步驟S11)。基板91的搬入係可藉由人的手動作業來進行，亦可藉由未圖示的搬運裝置來進行。當基板91被載置於台32時，拍攝部34係拍攝設置於基板91的對象面9a的對準標記Ma(圖7中的步驟S12)。此外，拍攝部34的拍攝區域係可為包含基板9整體之大小，亦可為僅包含一個或者複數個對準標記Ma之大小。在後者的情形中，亦可使台32於水平二軸方向移動，藉此拍攝全部的對準標記Ma。藉由拍攝部34所獲得的拍攝圖像亦可作為標記拍攝資料DM1經由描繪控制器31被賦予至再次配置部23(參照圖1)。
圖9係顯示電路圖案設計時所設想的理想狀態中的複數個對準標記Ma的配置之圖。如圖9所示，複數個對準標記Ma係在水平二軸方向中等間隔地配置。此外，為了參考，於圖9亦一併顯示第一網格區域RE1的基準位置Ms的配置。在對準標記Ma被等間隔地配置之情形中(理想狀態的情形中)，第一網格區域RE1的基準位置Ms亦被等間隔地配置。此外，圖9所示的實線以及虛線係用以幫助圖示的理解，並非是在基板9中所觀察到的。
在實際的基板9沒有變形之情形中，如圖9所示，對準標記Ma係等間隔地配置。另一方面，在基板9有變形之情形中，對準標記Ma的位置從理想性的位置偏移。變形的程度係會根據基板9而不同。由於在曝光裝置3中針對各個基板9形成期望的圖案，因此針對各個基板9藉由實測來特定作為基板9的變形指標之對準標記Ma的位置。
返回至圖7，再次配置部23係依據標記拍攝資料DM1來特定設置於基板91之各個對準標記Ma的座標，並將所特定的座標作為第一標記座標資訊儲存於記憶部204(圖7中的步驟S13)。座標的特定亦可例如藉由二值化處理或者圖案辨識等之公知的圖像處理對拍攝圖像來進行。
圖10係顯示具有變形的第一片基板91中的對準標記Ma的配置之圖。在圖10中，以虛線以及箭頭顯示圖9所示的理想性的配置的各個對準標記Ma。再次配置部23係因應依據所特定的各個對準標記Ma的座標之基板91的變形而再次配置各個第一網格區域RE1(圖7中的步驟S14)。具體而言，再次配置部23係依據位於各個第一網格區域RE1的周圍之對準標記Ma的位置座標來特定各個第一網格區域RE1的基準位置Ms的再次配置後的座標。亦即，再次配置部23係特定已因應基板91的形狀再次配置了在理想性的狀態中整齊地配置的第一網格區域RE1(參照圖6)時之各個第一網格區域RE1的位置。
例如，圖10所示的基準位置Ms1、Ms2、Ms3、Ms4的再次配置後的座標係依據位於基準位置Ms1、Ms2、Ms3、Ms4的周圍的對準標記Ma1、Ma2、Ma3、Ma4(或者一部分)的座標而被特定。在圖10中例示了已特定了再次配置後的座標之基準位置Ms。此外，於基準位置Ms的座標的特定係能夠利用公知的座標轉換手法。作為一例，著眼於由對準標記Ma1、Ma2、Ma4所構成的三角形來求得行列，該行列係用以表示從圖9所示的理想性的配置的情形中的三角形朝依據圖10所示的實際的配置的三角形之仿射轉換(affine transformation)。而且，較佳為使用所求得的行列來進行基準位置Ms的座標轉換。
再次配置部23係求出再次配置後的各個第一網格區域RE1的基準位置Ms的座標並生成再次配置資料DS1，該再次配置資料DS1係用以表示各個第一網格區域RE1的再次配置後的座標(參照圖1)。
當再次配置部23生成再次配置資料DS1時，合成部24係依據初始分割資料D20以及再次配置資料DS1來生成描繪資料DD1(圖7中的步驟S15)。具體而言，合成部24係使各個第一網格區域RE1的位置從理想性的位置位移(shift)至記述於再次配置資料DS1的位置。而且，合成部24係合成已位移的各個第一網格區域RE1的描繪內容並生成一個描繪資料DD，該描繪資料DD係表現針對描繪區域整體之描繪內容。此外，第一網格區域RE1的位移係藉由因應基準位置Ms的座標移動(並進移動)使用以構成各個第一網格區域RE1之像素的座標移動而實現。
圖11係顯示依循再次配置資料DS1的記述內容再次配置過的各個第一網格區域RE1之圖。如圖11所示，在相鄰的第一網格區域RE1之間產生描繪內容重疊之部位。該重疊之部位的描繪內容係例如藉由取兩者的乘法運算等之預定的邏輯運算而被適當地調整。
圖12係顯示藉由合成部24所生成的描繪資料DD1所規定的第一描繪區域RA1之圖。於圖12一併圖示已測定了位置的對準標記Ma。此外，在圖11中雖然省略了圖示，然而實際上於描繪區域RA2內配置有依據記述於初始分割資料D20的內容之電路圖案。
資料處理裝置2係將合成部24所生成的描繪資料DD1朝描繪控制器31發送。描繪控制器31係依據描繪資料DD1控制調變部33a，藉此對基板91的對象面9a描繪電路圖案(圖7中的步驟S16)。描繪資料DD1為配合依據對準標記Ma的配置之基板91的變形修正了初始描繪資料DD0之資料。因此，曝光裝置3係依據描繪資料DD1來進行曝光，藉此能對基板91精度佳地描繪期望的電路圖案。
當結束基板91的描繪處理時，對下一片基板92進行描繪。在此，在基板92與基板91屬於相同的批次(lot)之情形中，基板91的變形與基板92的變形的差異小之情形較多。在基板91、92之間的變形沒有差異之情形中，針對基板92之描繪資料DD2係能作成與針對基板91之描繪資料DD1相同。此外，即使在基板91、92之間的變形存在些微的差異時，只要以比初始網格寬度wx,xy還大的網格寬度修正描繪資料DD1即可。由此種觀點，如後述般，資料處理裝置2係因應基板92的變形來修正描繪資料DD1，藉此進行用以生成描繪資料DD2之修正處理。
在資料處理裝置2中，為了效率佳地進行修正處理，事前以比初始網格寬度wx、wy還大的複數個事前網格寬度將描繪資料DD1所表現的第一描繪區域RA1虛擬性地分割(圖7中的步驟S17)。雖然各個事前網格寬度的大小亦可作為例如初始網格寬度wx、wy的整數倍(2倍、3倍、4倍…)，但此並非是必須的。第二分割部25係生成事前分割資料，該事前分割資料係記述了藉由針對每個事前網格寬度之分割所獲得的各個網格區域的描繪內容。藉此，第二分割部25係生成屬於複數個分割資料的集(set)之事前分割資料集D21(圖7中的步驟S18)。
圖13係概念性地顯示以比初始網格寬度wx、wy還大的事前網格寬度分割了第一描繪區域RA1的樣子之圖。圖13所示的例子係下述例子：第二分割部25係以初始網格寬度wx、wy的兩倍的大小的事前網格寬度2wx,2wy分割了第一描繪區域RA1。與第一分割部22同樣地，第二分割部25係將被事前網格寬度2wx,2wy所區劃的各個區域作為基本區域。而且，將已於基本區域的周圍加上了預定寬度的附加區域之區域作為一個第二網格區域RE2。藉此，相鄰的第二網格區域RE2係彼此重疊。第二分割部25係當設定第二網格區域RE2時，依據描繪資料DD1來特定各個第二網格區域RE2的描繪內容並生成事前分割資料，該事前分割資料係記述了各個第二網格區域RE2的描繪內容。第二分割部25亦以與在圖13所說明的手法相同的要領來取得針對其他的事前網格寬度之事前分割資料。
當結束基板91的描繪處理時，從曝光裝置3搬出基板91，將下一片基板92搬入至曝光裝置3(圖8中的步驟S20)。而且，拍攝部34係拍攝基板92的對準標記Ma，藉此取得標記拍攝資料DM2(圖8中的步驟S21)。再次配置部23係依據標記拍攝資料DM2來特定基板92的對準標記Ma的座標，並將所特定的座標作為第二標記位置資訊儲存於記憶部204(圖8中的步驟S22)。
再者，再次配置部23係依據儲存於記憶部204的第一標記座標資訊以及第二標記位置資訊來決定第二網格寬度(步驟S23)。第二網格寬度為用以針對描繪資料DD1修正基板92相對於基板91之相對性的變形(以下簡稱為基板92的變形)所需的網格寬度。以下，參照圖14以及圖15說明用以求出第二網格寬度之處理。
[依據鄰接的兩點間的變形算出第二網格寬度] 圖14係用以說明依據鄰接的兩點間的變形求出第二網格寬度的流程之圖。首先，再次配置部23係從與主掃描方向或者副掃描方向鄰接的兩個對準標記Ma之間的位置關係求出基板92的變形。例如，如圖14所示，著眼於在主掃描方向所鄰接的兩個對準標記Ma11、Ma12。當將從第一標記座標資訊求出的對準標記Ma11、Ma12之間的向量設為a且將從第二標記座標資訊求出的對準標記Ma11、Ma12之間的向量設為b時，對準標記Ma11、Ma12之間的變形係作為向量a、b的主掃描方向以及副掃描方向的各個成分的差(Δx1、Δy1)(亦即b－a的大小)而求出。考量用以修正基板92中的對準標記Ma11、Ma12的兩點間的變形所需的網格寬度wx1、wy1。
在此，針對網格寬度wx1、wy1進行檢討，該網格寬度wx1、wy1係用以修正基板92所具有的對準標記Ma11、Ma12之間的變形量(Δx1、Δy1)。首先，當針對主掃描方向進行檢討時，為了維持描繪精度，能使分割後的網格區域移動之距離係最大地設成曝光解析度δx。因此，對準標記Ma11、Ma12之間的最小分割數為將變形量Δx1除以曝光解析度δx所獲得的值。針對副掃描方向，為將變形量Δy1除以曝光解析度δy所獲得的值。當將基板92中的對準標記Ma11、Ma12的距離設為L11時，用以修正基板92所具有的對準標記Ma11、Ma12之間的變形所需的網格寬度wx1、wy1係以下述式子所求出。
式子(7) wx1=L11/(ΔX1/δx) 式子(8) wy1=L11/(ΔY1/δy)
再次配置部23係以上述要領針對各個鄰接的兩個對準標記Ma之間求出為了修正變形所需的網格寬度wx1、wy1。而且，將所求出的全部的網格寬度wx1、wy1中之屬於最小的最小網格寬度wx1m、wy1m作為第二網格寬度的第一候補儲存於記憶部204。
[依據基板92整體的變形算出第二網格寬度] 圖15係用以說明依據基板92整體的變形求出第二網格寬度的流程之圖。如圖15所示，整體的變形係例如依據全部的對準標記Ma中之位於角落的四點的對準標記Ma21、Ma22、Ma23、Ma24選擇的兩點間的距離以及所選擇的兩點間的基板92的變形求出網格寬度wx2、wy2。至少一個以上的對準標記Ma係位於對準標記Ma21、Ma22、Ma23、Ma24各者之間。
例如，當將對準標記Ma21、Ma22之間的距離設為L21且將基板92中的對準標記Ma21、Ma22之間的變形量設為Δx2、Δy2時，相對於基板92中的對準標記Ma21、Ma22之網格寬度wx2、wy2係以下述式子求出。
式子(9) wx2=L21/(Δx2/δx) 式子(10) wy2=L21/(Δy2/δy)
再次配置部23亦以相同的要領求出相對於其他的兩個對準標記Ma之間的網格寬度wx2、wy2。再次配置部23係將全部的網格寬度wx2、wy2中之屬於最小的最小網格寬度wx2m、wy2m作為第二網格寬度的候補儲存於記憶部204。
再次配置部23係將針對主掃描方向所求出的最小網格寬度wx1m、wx2m中之小的那方作為第二網格寬度wx2來選擇。此外，再次配置部23係將針對副掃描方向所求出的最小網格寬度Wy1m、wy2m中之小的那方作為第二網格寬度wy2來選擇。
返回至圖8，再次配置部23係當藉由步驟S23來決定第二網格寬度wx2、wy2時，判定第二網格寬度wx2、wy2是否比最小的事前網格寬度還小(圖8中的步驟S231)。在第二網格寬度wx2、wy2比最小的事前網格寬度還小之情形中(在步驟S231中為否)，難以使用事前分割資料集D21來修正配合了基板92的變形之描繪資料DD1。因此，資料處理裝置2係返回至步驟S14，藉此使用初始分割資料D20來生成針對基板92的描繪資料DD2。
在第二網格寬度wx2、wy2比最小的事前網格寬度還大之情形中(在步驟S231中為是)，再次配置部23係判定第二網格寬度wx2、wy2是否比最大事前網格寬度還大(圖8中的步驟S24)。在第二網格寬度wx2、wy2比最大的事前網格寬度還大之情形中(在步驟S24中為是)，資料處理裝置2係直接將描繪資料DD1發送至描繪控制器31。藉此，描繪控制器31係使用描繪資料DD1進行基板92的描繪(圖8中的步驟S25)。
再次配置部23係在判定成第二網格寬度wx2、wy2與最大的事前網格寬度相同或者比最大的事前網格寬度還小之情形中(在步驟S24中為否)，從事前分割資料集D21來決定所使用的事前分割資料(圖8的步驟S26)。具體而言，再次配置部23係在事前分割資料集D21中選擇比第二網格寬度還小的事前網格寬度中之以最大的事前網格寬度所生成的事前分割資料。如此，儘量地選擇大的事前網格寬度的事前分割資料，藉此能減少用以再次配置後述的第二網格區域RE2之處理(步驟S27)以及用以合成各個第二網格區域RE2的描繪內容之處理(步驟S28)所需的運算量。
再次配置部23係使用所選擇的事前分割資料，因應依據第一標記座標資訊以及第二標記座標資訊所特定之基板92相對於基板91之變形，再次配置記述於事前分割資料的各個第二網格區域RE2(步驟S27)。再次配置部23所為之再次配置的處理係與圖7所示的步驟S14同樣地進行。再次配置部23係生成用以表示再次配置後的各個網格區域的位置之再次配置資料DS2(參照圖1)。
當再次配置部23生成再次配置資料DS2時，合成部24係依據事前分割資料以及再次配置資料DS2來生成描繪資料DD2(圖8的步驟S28)。事前分割資料為在步驟S26中再次配置部23從事前分割資料集D21中所選擇出的資料。合成部24所為之描繪資料DD2的生成處理係與圖7所示的步驟S15同樣地進行。
資料處理裝置2係將合成部24所生成的描繪資料DD2朝描繪控制器31發送。描繪控制器31係依據描繪資料DD2來控制調變部33a，藉此對基板92的對象面9a描繪電路圖案(圖8中的步驟S29)。
接著，資料處理裝置2係判定是否已結束描繪處理(步驟S30)。在存在應描繪的基板9之情形中，資料處理裝置2係返回至步驟S20，重複步驟S20以後的處理。藉此，執行針對下一片基板9的描繪處理。
如上所述，在描繪裝置1中，針對第二片以後的基板9之描繪資料DD2係藉由修正針對第一片基板9的描繪資料DD1而生成。在第二片以後的基板9相對於第一片基板9的變形小之情形中，由於針對描繪資料DD1的修正量小，因此能減少描繪資料DD2的生成所需的計算資源或者計算時間。
在步驟S27中再次配置的第二網格區域RE2的尺寸係比在步驟S14中再次配置的第一網格區域RE1的尺寸還大。因此，第二網格區域RE2的數量係變得比第一網格區域RE1的數量還少。因此，能級數性地減少步驟S27中的再次配置的處理以及步驟S28中之用以合成描繪內容的處理所需的計算資源或者計算時間。
此外，在描繪裝置1中，事前以大小不同的事前網格寬度分割描繪資料DD1所表現的第一描繪區域RA1，藉此生成事前分割資料集D21。因此，能比針對每個基板9生成分割資料之情形還減少計算資源或者計算時間。
雖然已詳細地說明本發明，但上述說明在所有的態樣中僅為例示，本發明並未限定於這些態樣。能被解釋成在未超出本發明的範圍內能夠設想到未例示的無數個變形例。在上述各個實施形態以及各個變化例所說明的各個構成係只要彼此未相互矛盾則能適當地組合或者省略。
1:描繪裝置 2:資料處理裝置 2wx,2wy:事前網格寬度 3:曝光裝置 4:圖案設計裝置 9,91,92:基板 9a:對象面 21:轉換部 22:第一分割部 23:再次配置部 24:合成部 25:第二分割部 31:描繪控制器 32:台 33:照射部 33a:調變部 34:拍攝部 100:描繪系統 201:處理器 202:ROM 203:RAM 204:記憶部 205:輸入部 206:顯示部 207:讀取裝置 a,b:向量 A1至A4、B1至B4、C1至C4、D1至D4:頂點 A2B4,A3B1,C1D3,C3D1,C4D2:線段 BS1:匯流排線 AB,BC,CD,DA:邊 D20:初始分割資料 D21:事前分割資料集 DC:分割條件資料 DD,DD1,DD2:描繪資料 DD0:初始描繪資料 DM,DM1,DM2:標記拍攝資料 DP:圖案資料 DS,DS1,DS2:再次配置資料 F1,F3:圖形 F2,F4,F5:階梯狀圖形 LB:雷射光 Lx,Ly:主掃描向以及副掃描方向中的初始描繪區域的尺寸 Ma,Ma1,Ma2,Ma3,Ma4,Ma11,Ma12,Ma21,Ma22,Ma23,Ma24:對準標記 Ms,Ms1,Ms2,Ms3,Ms4:基準位置 mx,my:尺寸 P:程式 RA0:初始描繪區域 RA1:第一描繪區域 RA2:描繪區域 RC1:基本區域 RC2:附加區域 RE1:第一網格區域 RE2:第二網格區域 RM:記錄媒體 Sq1至Sq4:矩形 w1,w2,w3:階寬度 wx,wy:初始網格寬度 wx1m,wy1m,wx2m,wy2m:最小網格寬度 wx2,wy2:第二網格寬度(網格寬度) X1,X2,Y1,Y2:座標 α,α’,δ,δx,δy:曝光解析度 α1,α2,β:傾斜角度
[圖1]係顯示實施形態的描繪系統的概略構成以及資料的流程之圖。 [圖2]係顯示實施形態的描繪系統的概略構成之圖。 [圖3]係用以說明曝光裝置中的曝光解析度與所描繪的圖形之間的關係之圖。 [圖4]係顯示資料處理裝置所執行的準備處理的流程之圖。 [圖5]係用以說明第一分割部所執行的處理之概念圖。 [圖6]係概念性地顯示描繪區域被分割成複數個第一網格區域的樣子之圖。 [圖7]係顯示實施形態的描繪裝置所執行的處理的流程之圖。 [圖8]係顯示實施形態的描繪裝置所執行的處理的流程之圖。 [圖9]係顯示電路圖案設計時所設想的理想狀態中的複數個對準標記Ma的配置之圖。 [圖10]係顯示具有變形的第一片基板中的對準標記的配置之圖。 [圖11]係顯示依循再次配置資料的記述內容再次配置過的各個第一網格區域之圖。 [圖12]係顯示藉由合成部所生成的描繪資料所規定的第一描繪區域之圖。 [圖13]係概念性地顯示以比初始網格寬度還大的事前網格寬度分割第一描繪區域的樣子之圖。 [圖14]係用以說明依據鄰接的兩點間的變形求出第二網格寬度的流程之圖。 [圖15]係用以說明依據基板整體的變形求出第二網格寬度的流程之圖。
1:描繪裝置
2:資料處理裝置
3:曝光裝置
4:圖案設計裝置
9,91,92:基板
9a:對象面
21:轉換部
22:第一分割部
23:再次配置部
24:合成部
25:第二分割部
31:描繪控制器
32:台
33:照射部
33a:調變部
34:拍攝部
100:描繪系統
D20:初始分割資料
D21:事前分割資料集
DC:分割條件資料
DD,DD1,DD2:描繪資料
DD0:初始描繪資料
DM,DM1,DM2:標記拍攝資料
DP:圖案資料
DS,DS1,DS2:再次配置資料
LB:雷射光

Claims (8)

  1. 一種描繪裝置，係用以對基板描繪預定圖案，並具備： 台，係用以載置具有複數個對準標記的前述基板； 拍攝部，係拍攝載置於前述台之前述基板的前述對準標記； 資料處理部，係生成描繪資料；以及 照射部，係依據前述描繪資料對載置於前述台之前述基板照射光； 前述資料處理部係執行： 資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域； 第一分割處理，係依據前述初始描繪資料生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得； 第一標記位置特定處理，係依據前述拍攝部拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的前述對準標記的位置； 第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域； 第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域； 第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得； 第二標記位置特定處理，係依據前述拍攝部拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的前述對準標記的位置； 第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域；以及 第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域。
  2. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述第二分割處理係包含下述處理：前述資料處理部係以彼此不同的複數個事前網格寬度分割前述第一描繪區域，藉此針對每個前述事前網格寬度生成事前分割資料，前述事前分割資料係表示複數個前述第二網格區域的各個描繪內容； 前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據前述第二基板的前述對準標記的位置從複數個前述事前分割資料中選擇一個事前分割資料，並再次配置所選擇的前述事前分割資料所表示的各個前述第二網格區域。
  3. 如請求項1或2所記載之描繪裝置，其中前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據前述第二基板相對於前述第一基板所具有的各個前述對準標記之間的變形來決定前述網格寬度。
  4. 如請求項3所記載之描繪裝置，其中前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據鄰接的兩個前述對準標記之間的變形來決定前述網格寬度。
  5. 如請求項3所記載之描繪裝置，其中前述第二再次配置處理係包含下述處理：前述資料處理部係依據位於角落的兩個前述對準標記之間的變形來決定前述網格寬度。
  6. 一種資料處理裝置，係用以生成描繪資料，前述描繪資料係使用於用以對基板描繪預定圖案之描繪裝置； 前述資料處理裝置係具備： 處理器；以及 記憶體，係與前述處理器電性連接； 前述處理器係執行： 資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域； 第一分割處理，係依據前述初始描繪資料來生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得； 第一標記位置特定處理，係依據拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的對準標記的位置； 第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域； 第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域； 第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得； 第二標記位置特定處理，係依據拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的對準標記的位置； 第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域；以及 第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域。
  7. 一種描繪方法，係用以對基板描繪預定圖案，並包含： 資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域； 第一分割處理，係依據前述初始描繪資料來生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得； 第一標記位置特定處理，係依據拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的對準標記的位置； 第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域； 第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域； 第一描繪處理，係依據前述第一描繪資料對前述第一基板進行描繪； 第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得； 第二標記位置特定處理，係依據拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的對準標記的位置； 第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域； 第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域；以及 第二描繪處理，係依據前述第二描繪資料對前述第二基板進行描繪。
  8. 一種描繪資料生成方法，係用以生成描繪資料，前述描繪資料係使用於用以對基板描繪預定圖案之描繪裝置； 前述描繪資料生成方法係包含： 資料取得處理，係取得初始描繪資料，前述初始描繪資料係表示包含預定圖案的初始描繪區域； 第一分割處理，係依據前述初始描繪資料來生成第一分割資料，前述第一分割資料係表示複數個第一網格區域的各個描繪內容，複數個前述第一網格區域係藉由以初始網格寬度分割前述初始描繪區域而獲得； 第一標記位置特定處理，係依據拍攝第一基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第一基板的對準標記的位置； 第一再次配置處理，係依據前述第一基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第一網格區域； 第一合成處理，係對合至藉由前述第一再次配置處理再次配置過的各個前述第一網格區域的位置，合成前述第一分割資料所表示的各個前述第一網格區域的描繪內容並生成第一描繪資料，前述第一描繪資料係表現包含預定圖案的第一描繪區域； 第二分割處理，係依據前述第一描繪資料來生成第二分割資料，前述第二分割資料係表示複數個第二網格區域的各個描繪內容，複數個前述第二網格區域係藉由以比前述初始網格寬度還大的網格寬度分割前述第一描繪區域而獲得； 第二標記位置特定處理，係依據拍攝第二基板所獲得的拍攝圖像來特定前述第二基板的對準標記的位置； 第二再次配置處理，係依據前述第二基板的前述對準標記的位置再次配置各個前述第二網格區域；以及 第二合成處理，係對合至藉由前述第二再次配置處理再次配置過的各個前述第二網格區域的位置，合成各個前述第二網格區域的描繪內容並生成第二描繪資料，前述第二描繪資料係表示包含預定圖案的第二描繪區域。
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