TW202144503A - 光硬化性矽氧組成物、黏著劑、矽氧硬化物 - Google Patents

光硬化性矽氧組成物、黏著劑、矽氧硬化物 Download PDF

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Abstract

本發明是一種光硬化性矽氧組成物，其特徵在於，含有： (A)有機聚矽氧烷，其在分子中具有至少1個包含(甲基)丙烯醯基之特定結構； (B)有機氫聚矽氧烷，其一分子中含有至少2個鍵結於矽原子上的氫原子； (C)光自由基聚合起始劑；及， (D)鉑族金屬觸媒，其藉由波長為200～500nm的光進行活化。藉此，提供一種光硬化性矽氧組成物、包含該光硬化性矽氧組成物之黏著劑、及該光硬化性矽氧組成物的硬化物，該光硬化性矽氧組成物的保存性、在空氣中的表面硬化性及深部硬化性良好。

Description

光硬化性矽氧組成物、黏著劑、矽氧硬化物
本發明有關一種光硬化性矽氧組成物、包含該光硬化性矽氧組成物之黏著劑、及該光硬化性矽氧組成物的硬化物。
製程的簡略化和低成本化與顧及環境的低能量化意向重疊，在各種領域中積極地進展。尤其是光/電氣電子器件、顯示器的製程，為了黏著、密封、埋入材料等的硬化，大多伴隨著需要龐大的能量、時間、設備的高溫加熱步驟，而被要求改善。又，此加熱步驟的改善不僅在能量和成本方面，在不損壞其他構件的製造技術方面也具有重大意義。
近年來為了解決這些問題，紫外線硬化型組成物備受矚目。紫外線硬化型組成物包含能夠藉由紫外線照射來活化的光起始劑，藉此聚合或交聯反應進行，通常在數十秒至十數分鐘這樣短時間內進行硬化。因此，不易傷害其他構件，並且亦不需要較大的設備。最近，亦已開發利用了發光二極體(LED)之紫外線照射裝置等，成為優異的製程。
至今關於紫外線硬化型矽氧組成物，已提案一種使用光陽離子聚合的方法(專利文獻1)、一種使用自由基聚合的方法(專利文獻2)等。前者的方法由於組成物中包含能夠藉由紫外線照射來使酸產生的鎓鹽，因此當例如電氣電子基板中使用上述組成物時，會擔心基板的腐蝕。後者的方法具有下述特徵：因其高反應活性而反應速度較快，在較短時間內硬化；但是另一方面，自由基的壽命非常短，容易因氧等而失去活性。其結果，與空氣接觸的組成物表面的硬化性有時明顯下降。
對於上述硬化阻礙的問題，已屢次研究各種敏化劑作為添加劑(例如專利文獻3、專利文獻4、專利文獻5)。然而，這些方法分別提升了反應性，但另一方面，存在下述問題：保存穩定性變差，即便在陰暗處保存，硬化仍會逐漸進行。
另一方面，為了提升表面的硬化性，已提案一種藉由加成硬化來解決的方法，但是為了確保保存穩定，不得不降低室溫時的加成反應性，而需要紫外線(UV)硬化和熱硬化兩方(專利文獻6)。 [先前技術文獻] (專利文獻)
專利文獻1：日本特開2008-195931號公報 專利文獻2：日本專利第3894873號公報 專利文獻3：日本特開2001-064593號公報 專利文獻4：日本特開2005-040749號公報 專利文獻5：日本特開2013-253166號公報 專利文獻6：日本專利第5735446號公報
[發明所欲解決的問題]
本發明是有鑑於上述情事而完成，其目的在於提供一種光硬化性矽氧組成物、包含該光硬化性矽氧組成物之黏著劑、及該光硬化性矽氧組成物的硬化物，該光硬化性矽氧組成物的保存性、在空氣中的表面硬化性及深部硬化性良好。 [解決問題的技術手段]
為了解決上述問題，本發明提供一種光硬化性矽氧組成物，其含有： (A)有機聚矽氧烷，其在分子中具有至少1個由下述通式(1)表示的結構，
Figure 02_image001
式(1)中，m是0、1、2的任一者，R1 各自可相同或不同且是氫原子或甲基，R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，Z1 各自可相同或不同且是鏈中可隔著氧原子之碳原子數1～10的二價烴基，Z2 是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，虛線表示原子鍵結； (B)有機氫聚矽氧烷，其一分子中含有至少2個鍵結於矽原子上的氫原子； (C)光自由基聚合起始劑；及， (D)鉑族金屬觸媒，其藉由波長為200～500nm的光進行活化。
若是本發明的光硬化性矽氧組成物，則保存性、在空氣中的表面硬化性及深部硬化性優異。
又，較佳是前述(A)成分包含由下述通式(2)表示的有機聚矽氧烷：
Figure 02_image003
式(2)中，p是10以上的整數，q和r是0～3的整數，q＋r是1～6的整數，Z3 各自可相同或不同且是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，R3 是由前述通式(1)表示的結構。
若是包含這種直鏈矽氧烷之(A)成分，則能夠獲得柔軟性更高的硬化物，因此能夠成為一種對於黏著劑等有用的組成物。
進一步更佳是：前述Z1 是碳原子數1～6的伸烷基，前述Z2 是氧原子。
若是包含這種(A)成分之光硬化性矽氧組成物，則不僅(C)成分分解時產生的游離自由基與(A)成分能夠有效地反應，活化後的(D)成分能夠使(A)成分與(B)成分有效地進行加成反應，因此黏著強度和操作性優異，並且表面硬化性優異。
又，本發明提供一種黏著劑，其包含上述光硬化性矽氧組成物。
若是這種黏著劑，則能夠利用光的照射，藉由基於自由基聚合所進行的硬化和基於(甲基)丙烯醯基與Si-H的加成反應所進行的硬化的兩方來進行硬化。因此，不僅能夠藉由光自由基聚合反應來進行秒單位的硬化，還能夠在沒有加熱的情形下進行加成反應，從而表面部分亦良好地硬化。
又，本發明提供一種硬化物，是上述光硬化性矽氧組成物的硬化物。
若是這種硬化物，則表面的硬化性優異，因此沒有黏膩感。 [發明的功效]
如以上說明，若是本發明的光硬化性矽氧組成物，則能夠藉由光的照射所引發的自由基聚合反應和(甲基)丙烯醯基與Si-H的加成反應的兩種反應來進行硬化。藉此，保存性優異，不僅能夠藉由光自由基聚合反應來進行秒單位的硬化，還能夠在沒有加熱的情形下進行加成反應，從而克服因氧阻聚導致表面部分未硬化的情形。
如上所述，尋求一種光硬化性矽氧組成物，其保存性、在空氣中的表面硬化性及深部硬化性良好。
本發明者為了達成上述目的而專心實行研究，結果發現利用基於光自由基聚合起始劑所進行的自由基聚合反應使具有(甲基)丙烯醯基之有機聚矽氧烷硬化，並且使用藉由光進行活化的鉑族金屬觸媒來實行(甲基)丙烯醯基與Si-H的加成反應，藉此能夠獲得一種保存性、在空氣中的表面硬化性及深部硬化性良好的光硬化性矽氧組成物，從而完成本發明。
亦即，本發明是一種光硬化性矽氧組成物，其含有： (A)有機聚矽氧烷，其在分子中具有至少1個由下述通式(1)表示的結構，
Figure 02_image005
式(1)中，m是0、1、2的任一者，R1 各自可相同或不同且是氫原子或甲基，R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，Z1 各自可相同或不同且是鏈中可隔著氧原子之碳原子數1～10的二價烴基，Z2 是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，虛線表示原子鍵結； (B)有機氫聚矽氧烷，其一分子中含有至少2個鍵結於矽原子上的氫原子； (C)光自由基聚合起始劑；及， (D)鉑族金屬觸媒，其藉由波長為200～500nm的光進行活化。
以下，詳細說明本發明，但是本發明不限定於這些說明。
[光硬化性矽氧組成物] 本發明的光硬化性矽氧組成物含有下述(A)～(D)成分。以下，詳細說明各成分。
＜(A)成分＞ (A)成分是一種有機聚矽氧烷，其在分子中具有至少1個由下述通式(1)表示的結構，較佳是25℃時的黏度為10mPa･s以上的液狀或固體的有機聚矽氧烷。
Figure 02_image007
式(1)中，m是0、1、2的任一者，R1 各自可相同或不同且是氫原子或甲基，R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，Z1 各自可相同或不同且是鏈中可隔著氧原子之碳原子數1～10的二價烴基，Z2 是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，虛線表示原子鍵結。
R1 是氫原子或甲基，從硬化後的耐久性的觀點來看，較佳是甲基，與Si-H反應時容易作出末端碳原子與Si-C鍵。
作為由R2 表示的經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、三級丁基、戊基、新戊基、己基、環己基、辛基、壬基、或癸基等烷基；苯基、甲苯基、二甲苯基、或萘基等芳基；苯甲基、苯乙基、或苯丙基等芳烷基；乙烯基、烯丙基、丙烯基、異丙烯基、丁烯基、己烯基、環己烯基、或辛烯基等烯基；或，以氟、溴、氯等的鹵素原子、氰基等來取代這些基團的氫原子的一部分或全部而得之基團，例如氯甲基、氯丙基、溴乙基、三氟丙基等鹵代烷基；或，氰乙基等。較佳是碳原子數1～8的基團，更佳是甲基、苯基。
Z1 是鏈中可隔著氧原子之碳原子數1～10的二價烴基，從硬化後的耐久性的觀點來看，較佳是碳數1～6的伸烷基，特佳是碳數1～3的伸烷基。作為這樣的伸烷基，可列舉：亞甲基、伸乙基、三亞甲基等；這些烴基的氫原子的一部分或全部可被氟、溴、氯等鹵素原子、氰基等取代。
Z2 是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，較佳是氧原子。
m是0、1或2，較佳是1或2。
(A)成分的有機聚矽氧烷只要分子內具有由上述通式(1)表示的結構，則無特別限定，較佳是包含由下述通式(2)表示的有機聚矽氧烷，更佳是(A)成分中的50質量%以上是由下述通式(2)表示的有機聚矽氧烷。
Figure 02_image009
式(2)中，p是10以上的整數，q和r是0～3的整數，q＋r是1～6的整數，Z3 各自可相同或不同且是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，R3 是由上述通式(1)表示的結構。
Z3 是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，作為碳原子數1～10的二價烴基，可例示與上述Z1 相同的基團。這些基團之中，從硬化後的耐久性的觀點來看，較佳是碳數1～6的伸烷基，特佳是碳數1～3的伸烷基。R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，R3 是由上述通式(1)表示的結構。
p是10以上的整數，較佳是在10～2，000的範圍內，更佳是在100～1000的範圍內。若是在此範圍內，則能夠成為一種組成物，其硬化前的操作性和硬化後的柔軟性良好。
q和r是0～3的整數，q＋r是1～6的整數。從硬化性的觀點來看，q＋r較佳是在2～6的範圍內。
以下示出(A)成分的具體例。
Figure 02_image011
Figure 02_image013
Figure 02_image015
上述式中，矽氧烷單元的排列順序可以是任意的。
又，作為(A)成分，亦可例示由下述式所示的MA單元、M單元、Q單元所構成之分枝狀的有機聚矽氧烷。
Figure 02_image017
Figure 02_image019
Figure 02_image021
(A)成分可使用單一種，亦可併用2種以上。
＜(B)成分＞ (B)成分是一種有機氫聚矽氧烷，其一分子中含有至少2個鍵結於矽原子上的氫原子，是在(D)成分的觸媒的存在下與(A)成分引起矽氫化反應(Si-H的加成反應)，作為交聯劑發揮作用的成分。
(B)成分在一分子中具有至少2個與矽原子鍵結的氫原子(亦即，SiH基)，較佳是具有3～500個，更佳是具有3～200個，特佳是具有3～100個。一分子中的矽原子數(或聚合度)較佳是使用2～1000個，更佳是使用3～300個，特佳是使用4～150個。上述SiH基可位於分子鏈末端和分子鏈非末端的任一者，亦可位於此兩方。
作為這種有機氫聚矽氧烷，較佳是使用由下述平均式(3)表示的有機氫聚矽氧烷。 R7 e Hf SiO(4 － e － f) ／ 2 (3)
作為由R7 表示的鍵結於矽原子上的有機基的具體例，可列舉(A)成分中作為R2 所例示的基團之中的不具有脂肪族不飽和鍵之一價烴基等，較佳是碳原子數1～8的烷基和芳基，特佳是甲基和苯基。
e、f是滿足0.7≦e≦2.1、0.001≦f≦1.0、0.8≦e＋f≦3.0的正數，較佳是滿足1.0≦e≦2.0、0.01≦f≦1.0、1.5≦e＋f≦2.5的正數。
(B)成分在25℃時的黏度較佳是0.5～100000mPa･s，特佳是10～5000mPa･s。這種有機氫聚矽氧烷的分子結構並無限定，可列舉例如：直鏈狀、支鏈狀、具有一部分分枝之直鏈狀、環狀、三維網狀等。
作為(B)成分，可列舉例如：1,1,3,3-四甲基二矽氧烷、1,3,5,7-四甲基環四矽氧烷、甲基氫矽氧烷環狀聚合物、甲基氫矽氧烷-二甲基矽氧烷環狀共聚物、分子鏈兩末端被二甲基氫矽氧基封閉之二甲基聚矽氧烷、分子鏈兩末端被三甲基矽氧基封閉之甲基氫聚矽氧烷、分子鏈兩末端被三甲基矽氧基封閉之二甲基矽氧烷-甲基氫矽氧烷共聚物、分子鏈兩末端被二甲基氫矽氧基封閉之二甲基矽氧烷-甲基氫矽氧烷共聚物、兩末端被三甲基矽氧基封閉之甲基氫矽氧烷-二苯基矽氧烷共聚物、兩末端被三甲基矽氧基封閉之甲基氫矽氧烷-二苯基矽氧烷-二甲基矽氧烷共聚物、兩末端被二甲基氫矽氧基封閉之甲基氫矽氧烷-二甲基矽氧烷-二苯基矽氧烷共聚物、由(CH3 )2 HSiO1/2 單元、(CH3 )3 SiO1/2 單元及SiO4/2 單元所構成之共聚物、由(CH3 )2 HSiO1/2 單元和SiO4/2 單元所構成之共聚物、由(CH3 )2 HSiO1/2 單元、SiO4/2 單元及(C6 H5 )3 SiO1/2 單元所構成之共聚物等。
以下示出(B)成分的具體例。
Figure 02_image023
Figure 02_image025
上述式中，矽氧烷單元的排列順序可以是任意的。
相對於100質量份(A)成分，(B)成分的摻合量較佳是0.1～20質量份，更佳是0.5～20質量份，特佳是1～10質量份。
若是在這樣的範圍內，則能夠抑制因組成物的硬化不良所導致的表面黏膩，並且，不會阻礙藉由光自由基聚合起始劑所進行的硬化。
再者，當(A)成分以外的成分具有烯基等能夠矽氫化的加成反應性碳-碳雙鍵時，較佳是以(B)成分中的與矽原子鍵結的氫原子(亦即，SiH基)的合計數相對於本發明的組成物中的加成反應性碳-碳雙鍵的合計數的莫耳比成為0.01～5.0倍、較佳是0.1～4.0倍、特佳是0.5～3.0倍的方式進行摻合。
(B)成分的有機氫聚矽氧烷可使用單獨一種，亦可併用二種以上。
＜(C)成分＞ (C)成分是一種光自由基聚合起始劑，其用以促進藉由自由基聚合反應所進行的本發明的光硬化性矽氧組成物的硬化。
作為這種(C)成分，可列舉：苯偶姻和經取代的苯偶姻(例如經烷酯取代的苯偶姻)、米其勒(Michler’s)酮、二苯基酮和經取代的二苯基酮、苯乙酮和經取代的苯乙酮、呫噸酮(xanthone)和經取代的呫噸酮等。
(C)成分可使用市售品，可列舉：2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 651)、1-羥基-環己基-苯基-酮(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 184)、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 1173)、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苯甲基]-苯基}-2-甲基-丙-1-酮(巴斯夫公司製造、IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 127)、苯基乙醛酸甲酯(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad MBF)、2-甲基-1-[4-(甲基硫基)苯基]-2-N-嗎啉基丙-1-酮(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 907)、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-N-嗎啉基苯基)-1-丁酮(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 369)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 819)、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad ＴPO H)及該等的混合物等。
其中，從與(A)成分的相溶性的觀點來看，較佳是2,2-二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 1173)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad 819)、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(IGM Resins B.V.公司製造的商品名Omnirad TPO H)。
(C)成分的摻合量只要是能夠促進自由基聚合的量，則並無限定，相對於100質量份(A)成分，較佳是0.1～10質量份，更佳是0.2～8質量份，特佳是0.5～6質量份。
＜(D)成分＞ (D)成分的藉由波長為200～500nm的光進行活化的鉑族金屬觸媒，是一種觸媒，其在遮光下為非活性，並且藉由照射波長為200～500nm的光，從而變成活性的鉑觸媒，促進(A)成分中的加成反應性碳-碳雙鍵與(B)成分中的Si-H基的矽氫化反應。
作為這種(D)成分的具體例，可列舉：(η5 -環戊二烯基)三脂肪族鉑化合物、其衍生物等。其中，特別適合的是環戊二烯基三甲基鉑錯合物、甲基環戊二烯基三甲基鉑錯合物及該等的環戊二烯基經修飾後之衍生物。
又，亦可列舉雙(β-二酮基)鉑化合物作為適合的(D)成分的例子，其中，特別適合的是雙(乙醯丙酮)鉑化合物及其乙醯丙酮經修飾後之衍生物。
(D)成分的摻合量只要是能夠促進本發明的光硬化性矽氧組成物的硬化(矽氫化反應)的量，則並無限定，相對於(A)成分與(B)成分的質量的合計量，較佳是本(D)成分中的鉑族金屬原子以質量單位計成為0.01～1000ppm的範圍的量，更佳是0.05～500ppm的範圍，特佳是0.05～100ppm的範圍。
＜其他成分＞ 本發明的光硬化性矽氧組成物亦能夠包含能夠改變在特定用途上所希望的硬化或未硬化特性之其他成分。例如，能夠使用本發明的光硬化性矽氧組成物的5質量%以下的下述黏著促進劑：(甲基)丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、異氰脲酸三烷酯或異氰脲酸三烯丙酯、環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷等。作為其他任意成分，為了調整黏度或調整硬化物的硬度的目的，能夠添加本發明的光硬化性矽氧組成物的30質量%以下的具有(甲基)丙烯醯基之化合物。作為該種化合物，可列舉：聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，甲基丙烯酸異莰酯等。進一步，能夠使用本發明的光硬化性矽氧組成物的30質量%以下的非(甲基)丙烯酸系矽氧稀釋劑或塑化劑。作為非(甲基)丙烯酸系聚矽氧類，可例示：具有100～500Pa･s的黏度的三甲基矽基末端化油、及矽氧橡膠。非(甲基)丙烯酸系聚矽氧類能夠包含乙烯基這樣的共硬化性基。
又，本發明的光硬化性矽氧組成物中可添加無機填充劑。作為這種無機填充劑，能夠例示：氣相二氧化矽(fumed silica)或結晶性二氧化矽這樣的強化用二氧化矽類；能夠在未處理(親水性)的狀態下使用無機填充劑，或使用經處理而製成疏水性的無機填充劑。實際上，能夠使用任意的強化用氣相二氧化矽。
[製備方法] 本發明的光硬化性矽氧組成物的製備方法並無特別限制，能夠藉由對上述各成分實行混合、攪拌、分散等來進行製備。作為混合、攪拌、分散等的裝置，並無特別限定，能夠使用：具備攪拌、加熱裝置之擂潰機、三輥研磨機、球磨機、行星式攪拌機、珠磨機等。又，可將這些裝置適當組合使用。
[硬化方法] 如以上說明，本發明的光硬化性矽氧組成物能夠利用光的照射，藉由基於自由基聚合所進行的硬化和基於(甲基)丙烯醯基與Si-H的加成反應所進行的硬化的兩方來進行硬化。因此，不僅能夠藉由光自由基聚合反應來進行秒單位的硬化，還能夠在沒有加熱的情形下進行加成反應，從而表面部分亦良好地硬化，因而能夠適合用於黏著劑等。
作為本發明的光硬化性矽氧組成物的硬化時使用的光源，並無特別限制，UV線源是有用的，尤其，可例示被設計成能夠在各種紫外線波長帶中發出紫外線能量之通常的水銀蒸氣燈。能夠適合使用例如作為有用的UV線波長範圍的220～400nm的光源。這些光源對於使(D)成分的鉑觸媒活化亦有效。
本發明的光硬化性矽氧組成物的硬化時，所使用的光源的照射強度較佳是30～2000mW/cm2 ，照射線量較佳是150～10000mJ/cm2 。照射時的溫度較佳是10～60℃，更佳是20～40℃。
藉由經光活化後的(D)成分所進行的矽氫化，通常比光自由基聚合反應稍慢，在室溫進行數分鐘～數日。但是，藉由光進行活化後，可為了縮短時間而升溫至最大200℃左右來使矽氫化反應進行。
[用途] 能夠將本發明的光硬化性矽氧組成物應用於各種基材，作為塗覆劑或黏著劑使用。作為基材，能夠使用：複合材料、金屬構件、塑膠構件、陶瓷構件、在電氣用途、電子用途、光學用途等的外殼或構件的被覆、澆鑄、黏著及密封的領域中使用的基材等。
本發明提供一種黏著劑，其包含上述光硬化性矽氧組成物。
若是這種黏著劑，則能夠利用光的照射，藉由基於自由基聚合所進行的硬化和基於(甲基)丙烯醯基與Si-H的加成反應所進行的硬化的兩方來進行硬化。因此，不僅能夠藉由光自由基聚合反應來進行秒單位的硬化，還能夠在沒有加熱的情形下進行加成反應，從而表面部分亦良好地硬化。因此，能夠作為黏著劑發揮優異的功能。
又，藉由對本發明的光硬化性矽氧組成物照光，能夠得到該光硬化性矽氧組成物的硬化物。此硬化物不論表面和深部，整體都硬化。
若是這種硬化物，則表面的硬化性優異，因此沒有黏膩感。 [實施例]
以下示出實施例和比較例，具體地說明本發明，但是本發明不限定於下述實施例。再者，分子量是凝膠滲透層析(GPC)中以標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量。25℃時的黏度是藉由旋轉黏度計而得的測定值。
又，各矽氧烷單元的縮寫的意思如下所述。
Figure 02_image027
Figure 02_image029
Figure 02_image031
Figure 02_image033
Figure 02_image035
Figure 02_image037
Figure 02_image039
[實施例1～4、比較例1～4] 準備下述成分，製備表1所示的組成的矽氧組成物。
(A)成分： (A-1) 構成單元數的比為3MA單元：D單元＝2：300且25℃時的黏度為1.9Pa･s的有機聚矽氧烷 (A-2) 構成單元數的比為3MA單元：D單元：D2 Φ 單元＝2：390：43且25℃時的黏度為10.0Pa･s的有機聚矽氧烷 (A-3) 構成單元數的比為MA單元：M單元：Q單元＝1：4：6、重量平均分子量為5000且25℃時呈固體的有機聚矽氧烷
(B)成分 構成單元數的比為M單元：D單元：DH 單元＝2：17：45且25℃時的黏度為50mPa･s的有機氫聚矽氧烷。
(C)成分 2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮(IGM Resins　B.V.公司製造Omnirad 1173)
(D)成分： (D-1) 鉑元素的含量為0.5質量%之甲基環戊二烯基三甲基鉑錯合物的甲苯溶液 (D-2) 鉑元素的含量為0.5質量%之雙(乙醯丙酮)鉑(II)的乙酸2-(丁氧基乙氧基)乙酯溶液 (D-3) 鉑元素的含量為0.5質量%之鉑-1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷錯合物的甲苯溶液
(E)成分 加成反應控制劑：1-乙炔基環己醇
[表1]
Figure 02_image041
對於實施例1～4、比較例1～4中獲得的光硬化性矽氧組成物，實施下述評估，將結果示於表2。再者，組成物的硬化時使用EYE GRAPHICS股份有限公司製造的商品名Lamp H(M)06-L-61，在空氣中實行3000mJ/cm2 的紫外線照射。又，調整成硬化物的厚度成為6.0mm。
[保存性] 將組成物靜置於25℃、遮光、密閉的環境下，確認隔天的流動性。將具有流動性的組成物設為有保存性，將已硬化的組成物設為無保存性。
[硬化性] 對組成物實行光照射後立即確認性狀。將已固化的組成物設為良好，將維持液狀的組成物設為不良。
[硬度] 對組成物實行光照射後，在25℃的環境下靜置24小時，然後立即使用A型硬度計來測定25℃環境下的硬度。
[黏膩感] 對組成物實行光照射後，在25℃的環境下靜置24小時，然後立即以手指觸摸來評估25℃環境下的表面黏膩。
[表2]
Figure 02_image043
如表2所示，可知實施例1～4的光硬化性矽氧組成物在遮光環境下、室溫時的保存性良好，硬化性良好到當實行適當的光照射時在照射中能夠固化，所獲得的硬化物顯示下述特徵：能夠在室溫進行加成反應，因此表面沒有黏膩感。
另一方面，比較例1未使用本發明的(D)成分，由於表面的硬化性較差，因此黏膩感沒有消失；比較例2未使用本發明的(C)成分，光照射後未立即固化。又，比較例3將本發明的(D)成分變更成藉由熱量進行活化的鉑成分，由於室溫時無法控制硬化性，因此保存性較差；相較於比較例3，比較例4為了改善保存性而增加了(E)成分的加成反應控制劑的量，(甲基)丙烯醯基與Si-H的加成反應無法進展，表面硬化性較差。
再者，本發明並不限定於上述實施形態。上述實施形態為例示，任何具有實質上與本發明的申請專利範圍所記載的技術思想相同的構成且發揮相同功效者，皆包含在本發明的技術範圍內。
無
無
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Claims (5)

  1. 一種光硬化性矽氧組成物，其特徵在於，含有： (A)有機聚矽氧烷，其在分子中具有至少1個由下述通式(1)表示的結構，
    Figure 03_image045
    式(1)中，m是0、1、2的任一者，R1 各自可相同或不同且是氫原子或甲基，R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，Z1 各自可相同或不同且是鏈中可隔著氧原子之碳原子數1～10的二價烴基，Z2 是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，虛線表示原子鍵結； (B)有機氫聚矽氧烷，其一分子中含有至少2個鍵結於矽原子上的氫原子； (C)光自由基聚合起始劑；及， (D)鉑族金屬觸媒，其藉由波長為200～500nm的光進行活化。
  2. 如請求項1所述之光硬化性矽氧組成物，其中，前述(A)成分包含由下述通式(2)表示的有機聚矽氧烷：
    Figure 03_image047
    式(2)中，p是10以上的整數，q和r是0～3的整數，q＋r是1～6的整數，Z3 各自可相同或不同且是氧原子或是經取代或未被取代的碳原子數1～10的二價烴基，R2 各自可相同或不同且是經取代或未被取代的碳原子數1～12的一價烴基，R3 是由前述通式(1)表示的結構。
  3. 如請求項1或2所述之光硬化性矽氧組成物，其中，前述Z1 是碳原子數1～6的伸烷基，前述Z2 是氧原子。
  4. 一種黏著劑，其特徵在於，包含請求項1～3中任一所述之光硬化性矽氧組成物。
  5. 一種矽氧硬化物，其特徵在於，該矽氧硬化物是請求項1～3中任一所述之光硬化性矽氧組成物的硬化物。
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