TW201805069A - 膜形成方法及膜形成裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種能夠利用噴墨印刷技術，高精細度地形成圖案中的賦予最小尺寸之邊緣之膜形成方法。一邊對於噴墨頭使基板相對移動，一邊基於用於定義應形成之膜的圖案之圖案資料從噴墨頭向基板吐出液滴而於前述基板形成膜。噴墨頭與基板的相對移動方向，是與由圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向正交。

Description

膜形成方法及膜形成裝置

本申請主張基於2016年8月10日申請之日本專利申請2016-157066號的優先權。該申請的所有內容藉由參閱援用於本說明書中。 　　本發明係有關一種膜形成方法及膜形成裝置。

為了形成用於將觸控面板的透明導電膜圖案化之抗蝕圖案，是採用光微影法技術或網版印刷技術。採用光微影法技術之方法，雖能夠形成高精細度的圖案，但裝置成本、廢液處理成本等變高。採用網版印刷技術之方法，於裝置成本、廢液處理成本方面雖比採用光微影法技術之方法更有利，但難以形成高精細度的圖案。採用噴墨印刷技術來形成抗蝕圖案之技術已被提出（專利文獻1）。 （先前技術文獻） （專利文獻） 　　專利文獻1：日本專利第5797277號公報

（發明所欲解決之問題） 　　要求可將透明導電膜等更加高精細度地圖案化之技術。本發明的目的在於提供一種能夠利用噴墨印刷技術，高精細度地形成圖案中的賦予最小尺寸之邊緣之膜形成方法及膜形成裝置。 （解決問題之技術手段） 　　依本發明的一觀點，提供一種膜形成方法， 　　一邊對於噴墨頭使基板相對移動，一邊基於用於定義應形成之膜的圖案之圖案資料從前述噴墨頭向前述基板吐出液滴而於前述基板形成膜， 　　前述噴墨頭與前述基板的相對移動方向，是與由前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向正交。 　　依本發明的另一觀點，提供一種膜形成裝置，其具有： 　　支撐部，對基板進行支撐； 　　噴墨頭，向前述基板吐出液滴； 　　移動機構，使被前述支撐部支撐之前述基板與前述噴墨頭當中的一方相對於另一方沿至少一維方向移動；及 　　控制裝置，控制前述噴墨頭及前述移動機構， 　　前述控制裝置，係儲存有用於定義應形成於前述基板之膜的圖案之圖案資料，並控制前述噴墨頭及前述移動機構，一邊使前述基板相對於前述噴墨頭朝向與由前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向正交之方向移動，一邊基於前述圖案資料從前述噴墨頭向前述基板吐出液滴而形成膜。 （發明之效果） 　　能夠提高應形成之膜的圖案中的賦予最小尺寸之一對邊緣的相對位置的精度。

參閱圖1～圖4，對基於實施例的膜形成方法及膜形成裝置進行說明。 　　圖1中示出基於實施例的膜成形裝置的概略圖。於基台20透過移動機構21支撐著支撐部23。於支撐部23的上表面（支撐面）支撐基板50。移動機構21能夠藉由使支撐部23沿與支撐面平行之二維方向移動來使基板50沿二維方向移動。通常，支撐部23的支撐面保持水平。定義將與支撐面平行之兩個方向設為x軸、y軸之xyz直角坐標系。 　　於被支撐部23支撐之基板50的上方配置有噴墨頭25。噴墨頭25藉由門型框架24被基台20支撐。噴墨頭25包含複數個頭塊26。複數個頭塊26安裝在共用的支撐構件28。於頭塊26的每一個設置有複數個噴嘴孔。從噴嘴孔向基板50吐出膜材料的液滴。 　　使附著在基板50之液態膜材料硬化而形成膜。作為膜材料，能夠使用光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等。於噴墨頭25的側方配置有使附著在基板50之膜材料硬化之光源或熱源。 　　控制裝置30控制移動機構21所致的支撐部23的移動及來自噴墨頭25的噴嘴孔的膜材料的吐出。控制裝置30包含記憶裝置31，且記憶裝置31中儲存有應形成之膜的圖案資料。控制裝置30基於圖案資料控制移動機構21及噴墨頭25，藉此能夠於基板50形成所希望的圖案的膜。 　　從輸入裝置35向控制裝置30輸入各種指令或資料。輸入裝置35例如使用鍵盤、指向裝置、USB埠、通信裝置等。向輸出裝置36輸出與膜形成裝置的動作有關之各種資訊。輸出裝置36是例如使用液晶顯示器、揚聲器、USB埠、通信裝置等。 　　於圖2中，作為應形成之膜的一例，示出將觸控面板的透明電極圖案化時用作蝕刻遮罩之抗蝕膜53。透明電極藉由將抗蝕膜53作為蝕刻遮罩而進行蝕刻來形成包括ITO等之透明導電膜。於圖2中，對塗佈有抗蝕劑之區域賦予點狀圖案。 　　複數個墊部51被配置成矩陣狀，連接部52沿列方向與複數個墊部51連接。於圖1中定義之xyz直角坐標系中，行方向與x方向對應，且列方向與y方向對應。於x方向上相鄰之墊部51的間隔G成為圖案的最小尺寸。該最小尺寸的方向為x方向，其大小例如為30μm左右。 　　若用於形成圖案中的賦予最小尺寸之一對邊緣54之液滴的著落位置在x方向發生偏離，會使於x方向上相鄰之墊部51連結。若原本應分開之兩個墊部51連結，則觸控面板無法正常動作。然而，即使液滴的著落位置在y方向發生偏離，於x方向上分開之兩個墊部51仍不會連結。從而，較佳為使形成圖案中的賦予最小尺寸之一對邊緣54之液滴的於x方向上的位置精度比於y方向上的位置精度更高。 　　接著，參閱圖3A及圖3B，對於x方向及y方向上的液滴的著落位置精度進行說明。 　　圖3A中示出液滴的著落目標位置及著落位置的偏差。以實線表示著落目標位置55，且以虛線表示發生偏差之複數個著落位置。於膜材料的塗佈時，一邊使基板50（圖1）沿y方向移動，一邊從噴墨頭25的既定噴嘴孔吐出膜材料的液滴。作為液滴的著落位置發生偏差之主要原因可考慮如下：從噴嘴孔向吐出方向的偏差、基板50的移動速度的偏差、從噴嘴孔的吐出時機的偏差、液滴的吐出速度的偏差等。 　　該等偏差的主要原因中，從噴嘴孔向吐出方向的偏差成為於x方向及y方向這兩方向上的位置的偏差的主要原因。其他3個偏差的主要原因成為於y方向上的位置的偏差的主要原因，但不會成為於x方向上的位置的偏差的主要原因。因此，於x方向上的偏差的最大寬度Dx比於y方向上的偏差的最大寬度Dy小。 　　圖3B中示出，一邊使基板50（圖1）沿y方向移動一邊形成帶狀膜時的膜形狀的一例。在噴墨頭25設置有沿x方向以等間隔排列之複數個噴嘴孔27。因為液滴的著落位置於x方向上的偏差比於y方向上的偏差小，長邊沿y方向的帶狀膜56的兩側的邊具有比長邊沿x方向的帶狀膜57的兩側的邊更高的直線度，且膜56的寬度的偏差（x方向的位置的偏差）比膜57的寬度偏差（y方向的位置的偏差）小。 　　接著，參閱圖4，對用於形成觸控面板用透明電極之抗蝕膜的形成方法進行說明。 　　圖4中示出應形成之抗蝕膜53與噴墨頭25的位置關係。以抗蝕膜53的最小尺寸的方向與x方向一致的方式作成圖案資料。藉由抗蝕膜53的一對邊緣54賦予最小尺寸。基於該圖案資料，控制裝置30（圖1）控制移動機構21，一邊使基板50（圖1）沿y方向移動，一邊從噴墨頭25的各噴嘴孔27吐出膜材料的液滴。當無法藉由向基板50的y方向移動（以下，稱為掃描）一次而於基板50的整個區域形成抗蝕膜53全體時，將基板50 x方向挪移而進行第2次以後的掃描，藉此能夠形成抗蝕膜53全體。 　　接著，對圖1～圖4中所示出之實施例的優異效果進行說明。 　　一邊使基板50向與應形成之膜的圖案的最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動一邊形成膜時，邊緣54（圖4）的方向與基板50的移動的方向的關係，是和圖3B的膜56的邊緣的方向與基板的移動方向的關係相同。因此，如參閱圖3A及圖3B進行說明，能夠減少圖案中的賦予最小尺寸之一對邊緣54（圖4）的x方向的位置的偏差，並且能夠提高邊緣54的直線度。藉此，能夠抑制於x方向上相鄰之兩個墊部51隔著最小尺寸的部分相互連續之情況。 　　再者，於上述實施例中，如圖1所示，是使噴墨頭25相對於基台20呈靜止，一邊使支撐部23沿y方向移動一邊形成膜。若使噴墨頭25相對於基台20進行移動，起因於噴墨頭25的移動會導致其姿勢產生略微變動。噴墨頭25的姿勢變動會使液滴的吐出方向發生變動，因此成為著落位置的位置精度的偏差的主要原因。上述實施例中，於膜形成時使噴墨頭25相對於基台20呈靜止，因此能夠減少因噴墨頭25的姿勢變動所導致之著落位置的偏差。 　　上述實施例中，利用噴墨印刷技術而形成了抗蝕膜，但還能夠形成其他膜。又，上述實施例中，藉由塗佈有抗蝕劑之區域的間隙而賦予最小尺寸，但亦可以藉由塗佈有抗蝕劑之區域而賦予最小尺寸。例如，還能夠以抗蝕劑所構成之細線的寬度成為最小尺寸的形式來形成膜。於該情況下，藉由應用基於實施例的方法，能夠抑制於細線中產生斷線。 　　上述實施例中，使噴墨頭25靜止，且於膜形成時使基板50移動，但相反地，亦可以使基板50靜止，且使噴墨頭25移動。此外，於該情況下，雖可能產生因噴墨頭25的姿勢變動所導致之著落位置的偏差，但可得到如下效果，亦即在與應形成之膜的圖案的最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向），抑制使基板50與噴墨頭25相對移動所導致之位置的偏差。 　　接著，參閱圖5對另一實施例進行說明。以下，對與圖1～圖4所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用結構進行說明。 　　圖5中示出基於本實施例的膜形成裝置的噴墨頭25的配置與應形成之抗蝕膜53的位置關係。抗蝕膜53的圖案與圖2、圖4所示之實施例中的抗蝕膜53的圖案相同。於本實施例中，在噴墨頭25設置有沿與抗蝕膜53的最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）排列之複數個噴嘴孔27y。除此以外，與圖4所示之實施例相同，設置有沿x方向以等間隔排列之複數個噴嘴孔27x。沿y方向排列之複數個噴嘴孔27y排列有兩列，且各列的複數個噴嘴孔27y配置在x坐標相同的位置。 　　例如，在頭塊26的每一個設置有排列成一列之複數個噴嘴孔27。兩個頭塊26以噴嘴孔27的排列方向與y方向平行之姿勢配置。藉此，可實現兩列份的噴嘴孔27y。藉由以噴嘴孔27的排列方向與x方向平行之姿勢配置複數個頭塊26，可實現複數個噴嘴孔27x。 　　兩列噴嘴孔27y的x方向的間隔與抗蝕膜53的最小尺寸對應。在此，“對應”不是指噴嘴孔27y的x方向的間隔與最小尺寸相等，而是指藉由從一列的噴嘴孔27y吐出之液滴而形成之膜的邊緣與藉由從另一列的噴嘴孔27y吐出之液滴而形成之膜的邊緣的間隔變得與最小尺寸相等。 　　控制裝置30（圖1）控制噴墨頭25及移動機構21（圖1），且藉由從複數個噴嘴孔27y的一部分噴嘴孔27y吐出之液滴形成抗蝕膜53中的賦予最小尺寸之一對邊緣54。邊緣54以外的部分是藉由從噴嘴孔27x吐出之液滴而形成。 　　圖5所示之實施例中，即使複數個噴嘴孔27y中的一個發生故障，仍能夠使用同一列內的另一噴嘴孔27y而形成賦予最小尺寸之邊緣54。藉此，能夠減少邊緣形成用頭塊26的更換頻率。 　　圖5所示之實施例中，將沿y方向排列之複數個噴嘴孔27y構成為兩列，但亦可以構成為一列。於該情況下，藉由第1次掃描而形成一邊緣54，且藉由第2次掃描而形成另一邊緣54即可。 　　接著，參閱圖6對又一實施例進行說明。以下，對與圖1～圖4所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用的結構進行說明。 　　圖6中示出基於本實施例的膜形成裝置的噴墨頭25的配置與應形成之抗蝕膜53的位置關係。噴墨頭25具有沿與最小尺寸的方向（x方向）平行之方向排列之複數個噴嘴孔27。將吐出用於形成抗蝕膜53的圖案中的賦予最小尺寸之一對邊緣54之液滴之噴嘴孔27的節距設為第1節距P1。複數個噴嘴孔27的列係包含：以比第1節距P1短的第2節距P2排列之部分、和確保有第1節距P1之部分。於以第1節距P1排列之兩個噴嘴孔27之間未配置有其他噴嘴孔。 　　例如，以第2節距P2排列之噴嘴孔27設置在複數個頭塊26的每一個。以一個頭塊26的端（圖6中的右端）的噴嘴孔27與另一頭塊26的端（圖6中的左端）的噴嘴孔27的節距成為第1節距P1的方式，對兩個頭塊26進行定位。 　　控制裝置30（圖1），以藉由從確保有第1節距P1之兩個噴嘴孔27吐出之液滴形成抗蝕膜53內的賦予最小尺寸之一對邊緣54之方式控制噴墨頭25及移動機構21（圖1）。 　　圖6所示之實施例中，於賦予最小尺寸之邊緣54之間未配置有噴嘴孔27。因此，能夠防止因噴嘴孔27的故障等而導致液滴著落到邊緣54之間。藉此，能夠抑制抗蝕膜53的應隔離之部位連續之不良情況。 　　接著，參閱圖7A～圖8B對又一實施例進行說明。以下，對與圖1～圖4所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用的結構進行說明。 　　圖7A中示出基於本實施例的膜形成裝置的噴墨頭25與應形成之抗蝕膜53的位置關係。抗蝕膜53的用虛線表示之區域表示尚未塗佈有抗蝕劑之區域。兩個頭塊26沿y方向排列而配置。在頭塊26的每一個設置有沿x方向以等間隔排列之複數個噴嘴孔27。一頭塊26固定成，相對於另一頭塊26在x方向偏離噴嘴孔27的節距的一半。因此，就噴墨頭25整體而言，噴嘴孔27的x方向的節距窄化成一個頭塊26的噴嘴孔27的節距的一半。 　　如圖7B所示，一邊使基板50（圖1）沿與最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動，一邊形成抗蝕膜53。於圖7B中，於塗佈有抗蝕劑之區域賦予點狀圖案。抗蝕膜53中的賦予最小尺寸之一邊緣54，是藉由從一頭塊26的一噴嘴孔27吐出之液滴而形成。 　　如圖8A所示，將基板50（圖1）向最小尺寸的方向（x方向）挪移。藉此，成為能夠對藉由第1次掃描未塗佈抗蝕劑之區域塗佈從噴墨頭25吐出之液滴之狀態。 　　如圖8B所示，一邊使基板50（圖1）沿與最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動，一邊形成抗蝕膜53。藉由該掃描，形成抗蝕膜53中的賦予最小尺寸之一對邊緣54當中藉由圖7B的製程未形成的另一邊緣54。此時，吐出形成邊緣54之液滴之頭塊26，係與在圖7B的製程吐出形成一邊緣54之液滴之頭塊26相同者。 　　若藉由從不同的頭塊26吐出之液滴形成一對邊緣54，其位置精度會受到頭塊26對於支撐構件28（圖1）的安裝精度的影響。圖7A～圖8B所示之實施例中，一對邊緣54藉由從相同的頭塊26吐出之液滴而形成，因此一對邊緣54的相對位置精度不會受到頭塊26的安裝位置公差的影響。藉此，能夠抑制一對邊緣54的相對位置精度的降低。 　　圖7A～圖8B所示之例中，藉由二次掃描來形成賦予最小尺寸之一對邊緣54。當一個頭塊26的噴嘴孔27的節距與賦予最小尺寸之一對邊緣54的間隔相對應時，可以藉由一次掃描來形成一對邊緣54。 　　接著，參閱圖9A～圖10B對又一實施例進行說明。以下，對與圖7A～圖8B所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用的結構進行說明。 　　圖9A中示出基於本實施例的膜形成裝置的噴墨頭25與應形成之抗蝕膜53的位置關係。抗蝕膜53的以虛線表示之區域表示尚未塗佈有抗蝕劑之區域。在噴墨頭25設置有沿x方向以等間隔排列之複數個噴嘴孔27。 　　如圖9B所示，一邊使基板50（圖1）沿與最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動，一邊形成抗蝕膜53。於圖9B中，於塗佈有抗蝕劑之區域賦予點狀圖案。抗蝕膜53中的賦予最小尺寸之一邊緣54藉由從噴墨頭25的一個噴嘴孔27A吐出之液滴而形成。 　　如圖10A所示，將基板50（圖1）向最小尺寸的方向（x方向）挪移與最小尺寸對應的距離。藉此，藉由第1次掃描未形成之另一邊緣54成為能夠藉由從噴嘴孔27A吐出之液滴來形成之狀態。 　　如圖10B所示，一邊使基板50（圖1）沿與最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動，一邊形成抗蝕膜53。藉由該掃描，形成抗蝕膜53中的賦予最小尺寸之一對邊緣54當中藉由圖9B的製程未形成之另一邊緣54。吐出形成邊緣54之液滴之噴嘴孔27A，係與於圖9B的製程吐出形成一邊緣54之液滴之噴嘴孔27A相同者。 　　圖9A～圖10B所示之實施例中，邊緣54的位置不會受到每一噴嘴孔27的液滴的吐出方向的偏差的影響。因此，能夠進一步減少一對邊緣54的相對位置關係的偏差。 　　接著，參閱圖11～圖13B對又一實施例進行說明。以下，對與圖1～圖4所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用的結構進行說明。本實施例中，移動機構21（圖1）具有使基板50沿支撐面的面內方向（以與支撐面垂直的軸為中心之旋轉方向）旋轉之功能。 　　圖11中示出應形成之膜60的圖案。圖1～圖4所示之實施例中，抗蝕膜53為最小尺寸的方向僅為x方向的1方向。於本實施例中，對配置成矩陣狀之複數個孤立圖案的行方向（x方向）的間隔G及列方向（y方向）的間隔G相等，且間隔G為圖案的最小尺寸。亦即，最小尺寸的方向成為x方向及y方向這兩方向。 　　圖12A中示出基於本實施例的膜形成裝置的噴墨頭25與應形成之膜60的位置關係。膜60的以虛線表示之區域表示尚未塗佈有膜材料之區域。在噴墨頭25設置有沿x方向以等間隔排列之複數個噴嘴孔27。 　　如圖12B所示，一邊使基板50（圖1）沿與一最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動，一邊形成膜60的一部分。於圖12B中，於塗佈有膜材料之區域賦予點狀圖案。對包含賦予x方向的最小尺寸之一對邊緣61之區域塗佈膜材料。於包含賦予y方向的最小尺寸之一對邊緣62之區域未塗佈有膜材料。 　　如圖13A所示，控制裝置30（圖1）控制移動機構21，使基板50旋轉90°。藉此，由已形成之邊緣61賦予y方向的最小尺寸，且未形成的邊緣62賦予x方向的最小尺寸。 　　如圖13B所示，一邊使基板50（圖1）沿與由未形成的邊緣62賦予之最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動，一邊形成膜60。藉由該掃描，將膜材料塗佈於包含膜60的圖案中的賦予最小尺寸之一對邊緣62之區域。 　　於圖11～圖13B中示出之實施例中，賦予相互正交之方向的最小尺寸之邊緣任一方均於沿與最小尺寸的方向正交之方向對基板進行掃描時形成。因此，於任一方的邊緣都能夠提高直線度，並且提高一對邊緣的相對位置精度。 　　接著，參閱圖14A～圖15A對又一實施例進行說明。以下，對與圖11～圖13B所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用的結構進行說明。 　　圖14A中示出基於本實施例的膜形成裝置的噴墨頭25與應形成之膜60的位置關係。膜60的以虛線表示之區域表示尚未塗佈有膜材料之區域。噴墨頭25包含：設置有沿x方向以等間隔排列之複數個噴嘴孔27之頭塊26、和設置有沿y方向以等間隔排列之複數個噴嘴孔27之另一頭塊26。 　　如圖14B所示，一邊使基板50（圖1）沿與一最小尺寸的方向（x方向）正交之方向（y方向）移動，一邊形成膜60的一部分。於圖14B中，對塗佈有膜材料之區域賦予點狀圖案。對包含賦予x方向的最小尺寸之一對邊緣61之區域，塗佈從具有沿x方向排列之噴嘴孔27之頭塊26吐出之膜材料。 　　如圖15A所示，一邊使基板50（圖1）沿與另一最小尺寸的方向（y方向）正交之方向（x方向）移動，一邊對於圖14B的製程中未塗佈膜材料之區域塗佈膜材料，完成了膜60的形成。於圖15A中，對塗佈有膜材料之區域賦予點狀圖案。藉由該掃描，形成賦予y方向的最小尺寸之一對邊緣62。 　　於本實施例中，與圖11～圖13B所示之實施例相同，賦予相互正交之方向的最小尺寸之邊緣任一方均於沿與最小尺寸的方向正交之方向對基板進行掃描時形成。因此，於任一方的邊緣都能夠提高直線度，並且提高一對邊緣的相對位置精度。 　　接著，參閱圖16A及圖16B對又一實施例進行說明。以下，對與圖1～圖4所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用的結構進行說明。 　　圖16A中示出基於本實施例的膜形成裝置的概略圖。從退繞輥71向捲取輥72傳送撓性基板70。移動機構73被控制裝置30控制，而使退繞輥71及捲取輥72旋轉。於從退繞輥71退繞而捲繞於捲取輥72之間的撓性基板70的上方配置有噴墨頭25。噴墨頭25的結構與圖1～圖4所示之實施例的噴墨頭25的結構相同。 　　撓性基板70的傳送方向與圖1～圖4的實施例中的基板50的掃描方向（y方向）對應，且撓性基板70的寬度方向與圖1～圖4的實施例中的x方向對應。一邊沿y方向傳送撓性基板70，一邊從噴墨頭25吐出膜材料的液滴，藉此能夠於撓性基板70形成膜。 　　圖16B中示出形成於撓性基板70之膜75的圖案的一例。將膜75的圖案的最小尺寸的方向設為寬度方向（x方向）。控制裝置30（圖16A）控制撓性基板70的傳送速度及來自噴墨頭25的膜材料的吐出。 　　於本實施例中，與圖1～圖4所示之實施例相同，噴墨頭25與撓性基板70的相對移動方向與應形成之膜的圖案的最小尺寸的方向正交。因此，可得到與圖1～圖4所示之實施例相同的效果。 　　接著，參閱圖17對又一實施例進行說明。以下，對於圖1～圖4所示之實施例不同之處進行說明，並省略對共用的結構進行說明。 　　圖17中示出由基於本實施例的膜形成裝置的控制裝置30執行之製程的流程圖。首先，將從輸入裝置35（圖1）輸入之圖案資料儲存於記憶裝置31（圖1）（步驟S1）。檢測由所輸入之圖案資料定義之圖案的最小尺寸的方向（步驟S2）。對最小尺寸的方向與膜形成時的基板的移動方向進行比較（步驟S3）。將膜形成時的基板的移動方向預先儲存在控制裝置30。 　　當兩者為正交的關係時，執行膜形成（步驟S4）。當兩者不是正交的關係時，控制裝置30向輸出裝置36（圖1）輸出通知圖案資料的最小尺寸的方向從最佳方向偏離之資訊（步驟S5）。 　　操作者看到從輸出裝置36輸出之資訊，能夠知道圖案資料的最小尺寸的方向從最佳方向偏離之情況。操作者以使最小尺寸的方向旋轉之方式對圖案資料進行修正。從輸入裝置35再次輸入已修正後之圖案資料。藉此，能夠抑制賦予最小尺寸之圖案中的邊緣的相對位置精度的降低。 　　輸出到輸出裝置之資訊，也可以輸出由現有的圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向。又，當最小尺寸的方向與膜形成時的基板的移動方向不是正交的關係時，也可以以兩者成為正交之關係的方式自動修正圖案資料。 　　上述各實施例為例示，當然能夠進行不同實施例所示之結構的局部替換或組合。關於複數個實施例之相同結構所產生的相同效果，並未於每一實施例逐一提及。進而，本發明並不限定於上述實施例。例如，能夠進行各種變更、改良、組合等，對於本領域具有通常知識者而言是顯而易見的。

20‧‧‧基台
21‧‧‧移動機構
23‧‧‧支撐部
24‧‧‧門型框架
25‧‧‧噴墨頭
26‧‧‧頭塊
27‧‧‧噴嘴孔
27A‧‧‧噴嘴孔
27x‧‧‧沿x方向排列之噴嘴孔
27y‧‧‧沿y方向排列之噴嘴孔
28‧‧‧支撐構件
30‧‧‧控制裝置
31‧‧‧記憶裝置
35‧‧‧輸入裝置
36‧‧‧輸出裝置
50‧‧‧基板
51‧‧‧墊部
52‧‧‧連接部
53‧‧‧抗蝕膜
54‧‧‧賦予最小尺寸之邊緣
55‧‧‧著落目標位置
56、57‧‧‧帶狀膜
60‧‧‧膜
61、62‧‧‧邊緣
70‧‧‧撓性基板
71‧‧‧退繞輥
72‧‧‧捲取輥
73‧‧‧移動機構
75‧‧‧膜

圖1係基於實施例的膜成形裝置的概略圖。 　　圖2係表示作為應形成之膜的一例，於將觸控面板的透明電極圖案化時用作蝕刻遮罩之抗蝕圖案之俯視圖。 　　圖3A係表示液滴的著落目標位置及著落位置的偏差之圖，圖3B係表示一邊使基板沿y方向移動一邊形成帶狀膜時的膜形狀的一例之圖。 　　圖4係表示應形成之抗蝕膜與噴墨頭的位置關係之圖。 　　圖5係表示基於另一實施例的膜形成裝置的噴墨頭的配置與應形成之抗蝕膜的位置關係之圖。 　　圖6係表示基於又一實施例的膜形成裝置的噴墨頭的配置與應形成之抗蝕膜的位置關係之圖。 　　圖7A及圖7B係表示基於又一實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的位置關係之圖。 　　圖8A及圖8B係表示基於圖7A及圖7B所示之實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的另一位置關係之圖。 　　圖9A及圖9B係表示基於又一實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的位置關係之圖。 　　圖10A及圖10B係表示基於圖9A及圖9B所示之實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的另一位置關係之圖。 　　圖11係藉由基於另一實施例的膜形成方法表示應形成之膜的圖案之圖。 　　圖12A及圖12B係表示基於圖11所示之實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的位置關係之圖。 　　圖13A及圖13B係表示基於圖12A及圖12B所示之實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的另一位置關係之圖。 　　圖14A及圖14B係表示基於又一實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的位置關係之圖。 　　圖15A係表示基於圖14A及圖14B所示之實施例的膜形成裝置的噴墨頭與應形成之抗蝕膜的另一位置關係之圖。 　　圖16A係基於又一實施例的膜形成裝置的概略圖，圖16B係表示形成於撓性基板之膜的圖案的一例之圖。 　　圖17係由基於又一實施例的膜形成裝置的控制裝置執行之製程的流程圖。

25‧‧‧噴墨頭

27‧‧‧噴嘴孔

51‧‧‧墊部

52‧‧‧連接部

53‧‧‧抗蝕膜

54‧‧‧賦予最小尺寸之邊緣

Claims (13)

1. 一種膜形成方法，係一邊對於噴墨頭使基板相對移動，一邊基於用於定義應形成之膜的圖案之圖案資料從前述噴墨頭向前述基板吐出液滴而於前述基板形成膜， 　　前述噴墨頭與前述基板的相對移動方向，是與由前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向正交。
2. 如申請專利範圍第1項所述之膜形成方法，其中， 　　前述噴墨頭被基台支撐，且形成前述膜時係使前述基板相對於前述基台進行移動。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之膜形成方法，其中， 　　前述噴墨頭係包含吐出液滴之複數個噴嘴孔， 　　一邊使前述基板沿與前述最小尺寸的方向正交之方向移動，一邊形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之一邊緣， 　　然後，將前述基板向前述最小尺寸的方向挪移， 　　然後，一邊使前述基板沿與前述最小尺寸的方向正交之方向移動，一邊形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之另一邊緣， 　　形成前述一邊緣和另一邊緣之液滴，是從前述複數個噴嘴孔當中相同的噴嘴孔吐出。
4. 一種膜形成裝置，其具有： 　　支撐部，對基板進行支撐； 　　噴墨頭，向前述基板吐出液滴； 　　移動機構，使被前述支撐部支撐之前述基板及前述噴墨頭的一方相對於另一方沿至少一維方向移動；及 　　控制裝置，控制前述噴墨頭及前述移動機構， 　　前述控制裝置，係儲存有用於定義應形成於前述基板之膜的圖案之圖案資料，並控制前述噴墨頭及前述移動機構，一邊使前述基板相對於前述噴墨頭朝向與由前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向正交之方向移動，一邊基於前述圖案資料從前述噴墨頭向前述基板吐出液滴而形成膜。
5. 如申請專利範圍第4項所述之膜形成裝置，其中， 　　前述移動機構係使被前述支撐部支撐之前述基板移動。
6. 如申請專利範圍第4項所述之膜形成裝置，進一步具有支撐前述噴墨頭之基台， 　　前述移動機構係使前述基板相對於前述基台進行移動。
7. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之膜形成裝置，其中， 　　前述噴墨頭係包含：沿與前述最小尺寸的方向正交之方向排列之複數個第1噴嘴孔， 　　前述控制裝置係控制前述噴墨頭及前述移動機構，藉由從前述複數個第1噴嘴孔的一部分的噴嘴孔吐出之液滴來形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之一對邊緣。
8. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之膜形成裝置，其中， 　　前述噴墨頭係具有沿與前述最小尺寸的方向平行之方向排列之複數個噴嘴孔，將吐出用於形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之一對邊緣之液滴之噴嘴孔的節距設為第1節距時，前述複數個噴嘴孔的列係包含：以比前述第1節距短的第2節距排列之部分、和確保有前述第1節距之部分， 　　前述控制裝置係藉由從確保有前述第1節距之兩個前述噴嘴孔吐出之液滴，來形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之一對邊緣。
9. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之膜形成裝置，其中， 　　前述噴墨頭係包含安裝在共用的支撐構件之複數個頭塊，前述複數個頭塊具有吐出液滴之複數個噴嘴孔， 　　前述控制裝置係藉由從前述複數個頭塊當中相同的頭塊的前述複數個噴嘴孔當中任一個噴嘴孔吐出之液滴，來形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之一對邊緣。
10. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之膜形成裝置，其中， 　　前述移動機構係具有使前述基板沿二維方向移動之功能， 　　前述噴墨頭係包含吐出液滴之複數個噴嘴孔， 　　前述控制裝置係一邊使前述基板沿與前述最小尺寸的方向正交之方向移動，一邊形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之一邊緣， 　　然後，將前述基板向前述最小尺寸的方向挪移， 　　然後，一邊使前述基板沿與前述最小尺寸的方向正交之方向移動，一邊形成前述圖案中的賦予前述最小尺寸之另一邊緣， 　　形成前述一邊緣和另一邊緣之液滴，是從前述複數個噴嘴孔當中相同的噴嘴孔吐出。
11. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之膜形成裝置，其中， 　　前述移動機構進一步具有使被前述支撐部支撐之前述基板沿面內方向旋轉之功能， 　　由前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸，是於相互正交之第1方向及第2方向上顯現， 　　於形成前述膜時，前述控制裝置係控制前述噴墨頭及前述移動機構，一邊使前述基板沿前述第1方向移動，一邊形成由前述圖案資料所定義之圖案中的前述第2方向上的賦予最小尺寸之邊緣之後，使前述基板旋轉90°，然後，一邊使前述基板沿前述第2方向移動，一邊形成由前述圖案資料所定義之圖案中的前述第1方向上的賦予最小尺寸之邊緣。
12. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之膜形成裝置，其中， 　　前述移動機構係具有使前述基板沿二維方向移動之功能， 　　由前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸，是於相互正交之第1方向及第2方向上顯現， 　　前述噴墨頭係包含：具有沿前述第1方向排列之複數個噴嘴孔之第1頭塊、和具有沿前述第2方向排列之複數個噴嘴孔之第2頭塊， 　　於形成前述膜時，前述控制裝置係控制前述噴墨頭及前述移動機構，一邊使前述基板沿前述第1方向移動，一邊藉由從前述第2頭塊的前述複數個噴嘴孔吐出之液滴形成前述圖案中的前述第2方向上的賦予最小尺寸之邊緣，然後，一邊使前述基板沿前述第2方向移動，一邊藉由從前述第1頭塊的前述複數個噴嘴孔吐出之液滴形成前述圖案中的前述第1方向上的賦予最小尺寸之邊緣。
13. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之膜形成裝置，進一步具有輸入裝置和輸出裝置， 　　前述控制裝置，係儲存有於形成膜時相對於前述噴墨頭的前述基板的移動方向， 　　檢測出由從前述輸入裝置輸入之前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向， 　　將所檢測出之最小尺寸的方向和前述基板的移動方向進行比較，當兩者不處於正交關係時，使前述輸出裝置輸出通知由前述圖案資料所定義之圖案的最小尺寸的方向從最佳方向偏離之資訊。