JP2021079359A - インク塗布制御装置及びインク塗布方法 - Google Patents

インク塗布制御装置及びインク塗布方法 Download PDF

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Abstract

【課題】インクが塗布されない領域の発生を抑制することが可能なインク塗布制御装置を提供する。【解決手段】インク塗布制御装置の制御部の制御によって、基板の所定の領域にインクを塗布する。インクを塗布すべき塗布領域の縁に沿う縁領域、及び縁領域から間隔を隔てた内側領域に、縁領域に塗布されたインクと内側領域に塗布されたインクとが接触しないようにインクを塗布する。その後、縁領域と内側領域との間の隙間領域にインクを塗布する。【選択図】図2

Description

本発明は、インク塗布制御装置及びインク塗布方法に関する。
エッチング用のレジスト膜をインクジェットプリント法で形成する技術が知られている(特許文献1)。スピンコート法でレジスト膜を形成する場合には、フォトリソグラフィ工程が必要である。インクジェットプリント法ではフォトリソグラフィ工程が不要になるため、工程数を少なくすることができる。
特開2010−56266号公報
インクを塗布すべき基板の表面の撥液性が高くなると、基板の表面に着弾したインクの液滴同士が引き寄せられる現象が生じやすい。液滴同士が引き寄せられると、インクを着弾させても、インクが着弾地点から表面上を移動し、インクが塗布されない領域が発生してしまう場合がある。本発明の目的は、インクが塗布されない領域の発生を抑制することが可能なインク塗布制御装置、及びインク塗布方法を提供することである。
本発明の一観点によると、
基板の所定の領域へのインクの塗布を制御する制御部を備えたインク塗布制御装置であって、
前記制御部は、
インクを塗布すべき塗布領域の縁に沿う縁領域、及び前記縁領域から間隔を隔てた内側領域に、前記縁領域に塗布されたインクと前記内側領域に塗布されたインクとが接触しないようにインクを塗布し、
前記縁領域と前記内側領域とにインクを塗布した後、前記縁領域と前記内側領域との間の隙間領域にインクを塗布するインク塗布制御装置が提供される。
本発明の他の観点によると、
基板の所定の領域へのインクの塗布を制御する制御部を備えたインク塗布制御装置であって、
インクを塗布すべき塗布領域の縁に沿って延びる縁領域に、インクの着弾目標位置となる複数の画素が、前記縁の長さ方向に並ぶとともに、幅方向に関しては2つの画素が並び、
前記制御部は、前記縁領域の画素にインクを着弾させるときに、前記縁領域の長さ方向に関しては、少なくとも1つ置きの画素にインクを着弾させ、その後、インクが着弾している画素の間の画素にインクを着弾させ、前記縁領域の幅方向に並ぶ2つの画素に関しては、外側の画素よりも内側の画素に先にインクを着弾させるインク塗布制御装置が提供される。
本発明のさらに他の観点によると、
インクを塗布すべき塗布領域が表面に画定された基板の、前記塗布領域の縁に沿う縁領域、及び前記縁領域から間隔を隔てた内側領域に、前記縁領域に塗布されたインクと前記内側領域に塗布されたインクとが接触しないようにインクを塗布し、
前記縁領域と前記内側領域とにインクを塗布した後、前記縁領域と前記内側領域との間の隙間領域にインクを塗布するインク塗布方法が提供される。
本発明のさらに他の観点によると、
インクを塗布すべき塗布領域が表面に画定された基板の、前記塗布領域の縁に沿って延びる縁領域に、インクの着弾目標位置となる複数の画素が、前記縁の長さ方向に並ぶとともに、幅方向に関しては2つの画素が並んでおり、
前記縁領域の長さ方向に関しては、少なくとも1つ置きの画素にインクを着弾させ、
その後、インクが着弾している画素の間の画素にインクを着弾させ、
前記縁領域の幅方向に並ぶ2つの画素に関しては、外側の画素よりも内側の画素に先にインクを着弾させるインク塗布方法が提供される。
縁領域と内側領域とのインクを塗布した後、隙間領域にインクを塗布することにより、インクが塗布されない領域の発生を抑制することができる。
図1Aは、実施例によるインク塗布制御装置が搭載されたインク塗布装置の概略正面図であり、図1Bは、可動テーブル及びインク吐出ユニットの平面視における位置関係を示す図である。 図2Aは、インク塗布の途中段階における基板の一部分の平面図であり、図2Bは、インク塗布が完了した状態の基板の一部分の平面図である。 図3A及び図3Bは、それぞれ比較例によるインク塗布方法でインクを塗布した塗布領域の、途中段階及び塗布完了時における平面図である。 図4Aは、塗布領域の形状及び位置を定義する画像データを模式的に示す図であり、図4Bは、画素と、基板に着弾したインクの液滴との位置関係を示す図である。 図5A及び図5Bは、縁領域、内側領域、及び隙間領域と画素との対応関係、及びインクを着弾させた画素を示す図である。 図6Aは、2行2列に配置された4個の画素からなるセルを示す図であり、 図6B〜図6Eは、それぞれ1回目〜4回目の走査のときにインクを着弾させる画素を示す図である。 図7A〜図7Dは、それぞれ隙間領域にインクを塗布するときの1回目〜4回目の走査のときにインクを着弾させる画素を示す図である。 図8は、図6B〜図6Eの左辺及び上辺の縁領域の画素に着弾して硬化したインクの平面形状を示す図である。 図9Aは、複数の塗布領域の配置の一例を示す平面図であり、図9Bは、塗布領域の縁が波打っている場合の塗布領域の間隙部を拡大して示す平面図である。 図10A及び図10Bは、それぞれ1回目及び2回目の走査でインクを着弾させる画素を示す図である。 図11A及び図11Bは、それぞれ3回目及び4回目の走査でインクを着弾させる画素を示す図である。 図12Aは、1回目〜4回目の走査でインクを着弾させる画素を含むセルを、通し番号と共に示す図であり、図12Bは、5回目〜8回目の走査でインクを着弾させる画素を含むセルを、通し番号と共に示す図であり、図12C及び図12Dは、それぞれ1回目及び2回目の走査でインクを着弾させる画素を示す図である。 図13A及び図13Bは、それぞれ3回目及び4回目の走査でインクを着弾させる画素を示す図である。 図14A及び図14Bは、それぞれ5回目及び6回目の走査でインクを着弾させる画素を示す図である。 図15A及び図15Bは、それぞれ7回目及び8回目の走査でインクを着弾させる画素を示す図である。
図1A〜図2Bを参照して、本発明の一実施例によるインク塗布制御装置について説明する。
図1Aは、本実施例によるインク塗布制御装置が搭載されたインク塗布装置の概略正面図である。基台10の上に移動機構11によって可動テーブル12が支持されている。x軸及びy軸が水平方向を向き、z軸が鉛直上方を向くxyz直交座標系を定義する。移動機構11は、インク塗布制御装置50により制御されて、可動テーブル12をx方向及びy方向の二方向に移動させる。移動機構11として、例えば、X方向移動機構11XとY方向移動機構11Yとを含むXYステージを用いることができる。X方向移動機構11Xは基台10に対してY方向移動機構11Yをx方向に移動させ、Y方向移動機構11Yは、基台10に対して可動テーブル12をy方向に移動させる。
可動テーブル12の上面(保持面)に、インク塗布対象である基板20が保持される。基板20は、例えば真空チャックにより可動テーブル12に固定される。可動テーブル12の上方にインク吐出ユニット30が、例えば門型の支持部材13によって基台10に対して昇降可能に支持されている。インク吐出ユニット30は、基板20に対向する複数のノズル孔を有する。各ノズル孔から、基板20の表面に向かって光硬化性(例えば紫外線硬化性)のインクが液滴化されて吐出される。インクの吐出は、インク塗布制御装置50によって制御される。
図1Aでは、基台10に対してインク吐出ユニット30を静止させ、基板20を移動させる例を示したが、その逆に、基台10に対して基板20を静止させ、インク吐出ユニット30を移動させてもよい。このように、基板20とインク吐出ユニット30との一方を他方に対して相対的に移動させる構成とすればよい。
インク塗布制御装置50は、記憶部51及び制御部52を含む。記憶部51に、インクを塗布すべき塗布領域の形状及び基板20の表面内の位置を定義する画像データが記憶されている。制御部52は、この画像データに基づいて移動機構11及びインク吐出ユニット30を制御することにより、基板20の表面の所定の位置に、液滴化されたインクを着弾させる。制御部52は、塗布領域内の複数の位置に、液滴化されたインクを着弾させることにより、塗布領域内にインクを塗布する。これにより、基板20の表面にインクからなる膜が形成される。
図1Bは、可動テーブル12及びインク吐出ユニット30の平面視における位置関係を示す図である。可動テーブル12の保持面に基板20が保持されている。基板20の上方にインク吐出ユニット30が支持されている。インク吐出ユニット30は、インクジェットヘッド31及び硬化用光源33を含む。インクジェットヘッド31の、基板20に対向する面に、複数のノズル孔32が設けられている。複数のノズル孔32は、x方向に関して等間隔に並んでいる。この間隔は、例えば600dpiの解像度に相当する寸法である。なお、複数のノズル孔32は、x方向に平行な1本の直線上に配置される必要はなく、x方向と平行な基準線からy方向に規則的にずれた位置に配置されてもよい。
硬化用光源33は、y方向に関してインクジェットヘッド31の両側にそれぞれ配置されており、基板20に付着したインクを硬化させる硬化装置として機能する。移動機構11が、インク塗布制御装置50によって制御されることにより、可動テーブル12をx方向及びy方向に移動させる。さらに、インク塗布制御装置50は、インクジェットヘッド31の各ノズル孔32からのインクの吐出を制御する。
基板20をy方向に移動させながら、インクジェットヘッド31からインクを液滴化して吐出することにより、x方向に関して例えば600dpiの解像度で、インクを基板20に塗布することができる。基板20に付着したインクは、基板20の移動方向の下流側に位置する硬化用光源33から放射される光により硬化される。基板20をy方向に移動させながら、インクジェットヘッド31からインクを液滴化して吐出する処理を、「走査」ということとする。基板20を、600dpiに相当する間隔の1/2だけx方向にずらして2回の走査を実行することにより、x方向に関して1200dpiの解像度で、インクを基板20に着弾させることができる。
2回の走査を実行することにより、x方向に関して両端のノズル孔32の間隔に相当する幅の領域にインクを塗布することができる。基板20の寸法が、両端のノズル孔32の間隔より大きい場合には、基板20をx方向にずらして複数回の走査を実行することにより、基板20の全域にインクを塗布することができる。
次に、図2A及び図2Bを参照して、本実施例によるインク塗布方法について説明する。
図2Aは、インク塗布の途中段階における基板20の一部分の平面図である。基板20の表面に、インクを塗布すべき複数の塗布領域21が画定されている。図2Aでは1つの塗布領域21を表している。
塗布領域21内に、塗布領域21の縁に沿う縁領域22、及び縁領域22から間隔を隔てた内側領域23を定義する。縁領域22より内側であって、かつ内側領域23より外側の領域、すなわち縁領域22と内側領域23との間の領域を隙間領域24ということとする。縁領域22は、塗布領域21の全周に亘って定義されている。
まず、制御部52が移動機構11及びインクジェットヘッド31を制御することにより、縁領域22及び内側領域23にインクを塗布する。図2Aにおいてインクが塗布された領域に右上がりのハッチングを付している。このとき、縁領域22に塗布されたインクと内側領域23に塗布されたインクが相互に接触しないようにする。言い換えると、縁領域22に塗布されたインクと内側領域23に塗布されたインクが相互に接触しない程度に、隙間領域24の幅が確保されている。この時点で、縁領域22及び内側領域23に塗布されたインクは、走査中に硬化用光源33(図1B)からの光に照射されて硬化されている。
図2Bは、インク塗布が完了した状態の基板20の一部分の平面図である。制御部52は、縁領域22及び内側領域23にインクの塗布を行った後、隙間領域24にインクを塗布する。図2Bにおいて、本工程でインクが塗布された領域に右下がりのハッチングを付している。ここまでの工程で、塗布領域21の全域にインクが塗布されて硬化され、インクの膜が形成される。
次に、図3A及び図3Bに示した比較例と比較しながら図1A〜図2Bに示した実施例の優れた効果について説明する。
図3A及び図3Bは、それぞれ比較例によるインク塗布方法でインクを塗布した塗布領域21の、途中段階及び塗布完了時における平面図である。比較例においては、塗布領域21内に縁領域22と内側領域23とが定義されており、両者の間に隙間領域24(図2A、図2B)が確保されていない。すなわち、縁領域22と内側領域23とが接触している。比較例によるインク塗布方法では、図3Aに示すように、まず縁領域22にインクを塗布する。図3Aにおいて、インクが塗布された領域に右上がりのハッチングを付している。その後、図3Bに示すように、内側領域23にインクを塗布する。図3Bにおいて、本工程でインクが塗布された領域に右下がりのハッチングを付している。
縁領域22の内周側の縁の極近傍に着目すると、内側領域23にインクを塗布するときに、縁領域22側には既に硬化されたインクの膜が形成されており、内奥部側には膜が形成されていない状態が発生し得る。基板20の表面の撥液性が高い場合、基板20の表面に着弾したインクの液滴は、硬化されるまでの期間に縁領域22の硬化済のインクの膜に引き寄せられる。このため、縁領域22のやや内側に、インクが塗布されていない未塗布領域25が発生してしまう。なお、内側領域23へのインク塗布の前に縁領域22にインクを塗布するのは、インクで形成された膜の外周線の直線度を高めるためである。
図2A及び図2Bに示した実施例では、隙間領域24にインクを塗布するときに、隙間領域24の外周側には縁領域22を覆うインクの膜が形成されており、内奥部側には内側領域23を覆うインクの膜が形成されている。このため、隙間領域24に着弾したインクの液滴が、外周側または内奥部側の片方向にのみ引き寄せられる現象が抑制される。このため、未塗布領域25(図3B)の発生を抑制することができる。基板20の表面におけるインクの接触角が90°以上になるような撥液性を持つ場合に、未塗布領域25が発生しやすい。従って、接触角が90°以上となる撥液性を持つ基板及びインクを用いてインクの塗布を行う場合に、本実施例を適用することが特に好ましい。
また、本実施例では、1回の走査で縁領域22及び内側領域23の両方にインクを塗布しているが、両者に塗布されたインク同士が接触しないため、縁領域22に着弾したインクの液滴が塗布領域21の内奥部に引き寄せられるといった現象が生じない。このため、塗布領域21に塗布されたインクの膜の外周線の直線度の低下を抑制することができる。
次に、図1A〜図2Bに示した実施例の変形例について説明する。
上記実施例では、制御部52が、静止しているインクジェットヘッド31に対して可動テーブル12を移動させ、インクジェットヘッド31からのインクの吐出を制御することにより、基板20の表面の目標位置にインクを着弾させている。その他の構成として、可動テーブル12を移動させる代わりにインクジェットヘッド31を移動させてもよい。また、可動テーブル12を一方向に移動させ、インクジェットヘッド31を可動テーブル12の移動方向と直交する方向に移動させてもよい。また、その他に、基板20の表面の目標位置に液滴化されたインクを付着させることによりインクを塗布することが可能なインク塗布機構を、制御部52が制御するようにしてもよい。
次に、図4A〜図9Bを参照して、他の実施例によるインク塗布制御装置及びインク塗布方法について説明する。以下、図1A〜図2Bに示した実施例と共通の構成については説明を省略する。
図4Aは、塗布領域21(図2A、図2B)の形状及び位置を定義する画像データ40を模式的に示す図である。塗布領域21の形状及び位置は、行列状に配置された複数の画素41によって定義される。基板20(図2A、図2B)の表面において、画素41に対応する位置が、液滴化されたインクの着弾目標位置となる。例えば、複数の画素41の列方向が走査方向(図1Bのy方向)に対応し、行方向が、ノズル孔32が等間隔に並ぶ方向(図1Bのx方向)に対応する。
図4Bは、画素41と、基板20に着弾したインクの液滴60との平面視における位置関係を示す図である。基板20に着弾したインクの液滴60は、平面視においてほぼ円形になる。インクの着弾位置にずれがない場合には、インクの液滴60の中心位置が、着弾目標の画素41の中心位置に一致する。1つの画素41は、平面視において、当該画素41に着弾したインクの液滴60に包含される。インクの液滴60は、隣接する画素41の中心位置までは広がらない。すなわち、インクの液滴60の直径は、画素ピッチの2倍未満である。このため、隣り合う2つの画素41にそれぞれ着弾したインクは相互に接触して、連続する膜を形成する。1個分の画素41を隔てた2つの画素41にそれぞれ着弾したインクは、相互に接触しない。一例として、画素ピッチは21.125μm(1200dpiに相当するピッチ)であり、インクの液滴60の直径は30μm以上40μm以下である。
図5A及び図5Bは、縁領域22、内側領域23、及び隙間領域24と、複数の画素41との対応関係、及びインクを着弾させた画素41を示す図である。縁領域22に対応する複数の画素41が、縁領域22の長さ方向(塗布領域21の周方向)に並んでいる。縁領域22の幅方向に関しては、2つの画素41が並んでいる。すなわち、縁領域22は、複数の画素41が周方向に並んでいる2列の画素列で構成される。隙間領域24に関しては、幅方向に3個の画素41が並んでいる。すなわち、縁領域22と内側領域23との間隔は、画素41の3ピッチ分に相当する。また、隙間領域24の幅は、基板20に着弾したインクの液滴の直径より広く、インクの液滴の直径の3倍より狭いということもできる。
本実施例によるインク塗布方法においては、図2A及び図2Bに示した実施例による方法と同様に、図5Aに示すように、まず縁領域22及び内側領域23の画素41にインクを着弾させる。隙間領域24の画素41にはインクを着弾させない。図5Aにおいて、インクの液滴が着弾した画素41にハッチングを付している。次に、図5Bに示すように、隙間領域24の画素41にインクを着弾させる。図5Bにおいて、本工程でインクの液滴が着弾した画素41に、相対的に濃いハッチングを付している。
次に、図6A〜図6Eを参照して、縁領域22及び内側領域23の複数の画素41にインクを着弾させる順番の一例について説明する。
図6Aは、2行2列に配置された4個の画素41からなるセル42を示す図である。1つのセル42に含まれる4個の画素41に、1から4までの通し番号が付されている。例えば、1行1列目(左上)の画素41に通し番号4を付し、1行2列目(右上)の画素41に通し番号3を付し、2行1列目(左下)の画素41に通し番号2を付し、2行2列目(右下)の画素41に通し番号1を付す。塗布領域21内の複数の画素41のうち4個ずつ取り纏めてセル42を構成する。このとき、複数のセル42が行列状に隙間なく配置されるように取り纏める。図6B〜図6Eにおいて、セル42の境界を実線で示し、セル42内の画素41の境界を破線で示している。
本実施例では、1回の走査で複数のセル42内の同一の通し番号を持つ画素41にインクを着弾させる。縁領域22及び内側領域23のすべての画素41にインクを着弾させるために、合計4回の走査を行う。
図6B〜図6Eは、それぞれ1回目〜4回目の走査のときにインクを着弾させる画素41を示す図である。図6B〜図6Eでは、塗布領域21の左上の隅の近傍に位置する一部の画素41を示している。図6B〜図6Eにおいて、今回の走査でインクを着弾させる画素41に相対的に濃いハッチングを付し、前回の走査までにインクの液滴が着弾している画素41に相対的に淡いハッチングを付している。
1回目の走査では、図6Bに示すように、セル42内の通し番号1の画素41にインクを着弾させる。2回目の走査では、図6Cに示すように、セル42内の通し番号2の画素41にインクを着弾させる。3回目の走査では、図6Dに示すように、セル42内の通し番号3の画素41にインクを着弾させる。4回目の走査では、図6Eに示すように、セル42内の通し番号4の画素41にインクを着弾させる。4回の走査によって、縁領域22及び内側領域23のすべての画素41にインクを着弾させることができる。
図6B〜図6Eに示したように、縁領域22の長さ方向に関しては、1回の走査で1つ置きの画素41にインクを着弾させている。縁領域22の幅方向に並ぶ2つの画素41に関しては、外周側の画素41よりも内周側の画素41に先にインクを着弾させている。
内側領域23においては、図6Bに示すように、1回目の走査で複数の画素41に、1行置きかつ1列置きにインクを着弾させている。2回目の走査では、図6Cに示すように、インクが着弾している行に含まれるインク未着弾の画素41にインクを着弾させている。3回目の走査では、図6Dに示すように、インクが未着弾の行の複数の画素41に、1列置きにインクを着弾させている。4回目の走査では、図6Eに示すように、インク未着弾の画素41にインクを着弾させている。
次に、図7A〜図7Dを参照して、隙間領域24の画素41にインクを着弾させる順番の一例について説明する。隙間領域24のすべての画素41にインクを着弾させるために、合計4回の走査を行う。
図7A〜図7Dは、それぞれ隙間領域24にインクを塗布するときの1回目〜4回目の走査のときにインクを着弾させる画素41を示す図である。図7A〜図7Dでは、塗布領域21の左上の隅の近傍に位置する一部の画素41を示している。図7A〜図7Dにおいて、今回の走査でインクを着弾させる画素41に相対的に濃いハッチングを付し、前回の走査までにインクの液滴が着弾している画素41に相対的に淡いハッチングを付している。
1回目の走査では、図7Aに示すように、隙間領域24の幅方向に関して中央に位置する複数の画素41に、長さ方向に関して1つ置きにインクを着弾させる。2回目の走査では、図7Bに示すように、インクが着弾している画素41と、縁領域22との間の画素41、及びインクが着弾している画素41と、内側領域23との間の画素41に、インクを着弾させる。3回目の走査では、図7Cに示すように、幅方向に関して中央に位置するインク未着弾の画素41にインクを着弾させる。4回目の走査では、図7Dに示すように、隙間領域24内のインク未着弾の画素41にインクを着弾させる。
図7A〜図7Dに示したように、隙間領域24内の幅方向に並ぶ3個の画素41に着目すると、最初に中央の画素41にインクを着弾させ、その後両端の画素41にインクを着弾させている。幅方向の中央の画素41に着弾したインクは、縁領域22及び内側領域23に塗布されているインクのいずれにも接触しない。幅方向の両端の画素41に着弾したインクは、既に隙間領域24に着弾しているインクと縁領域22に塗布されているインクとの両方、または既に隙間領域24に着弾しているインクと内側領域23に塗布されているインクとの両方に接触する。
次に、本実施例の優れた効果について説明する。まず、隙間領域24へのインクの塗布に着目したときの優れた効果について説明する。
本実施例では、隙間領域24にインクを着弾させるときに、幅方向に並ぶ3個の画素41に着目すると、図7A及び図7Cに示したように中央の画素41に、両端の画素41よりも先にインクを着弾させる。中央の画素41に着弾したインクは、縁領域22及び内側領域23のいずれのインクの膜にも接触しない。このため、中央の画素41に着弾したインクは、縁領域22及び内側領域23のいずれの側にも引き寄せられない。
図7Bに示したように、幅方向に並ぶ3個の画素41のうち両端の画素41に着弾したインクは、中央の画素41に既に着弾しているインクと、縁領域22及び内側領域23のいずれかに塗布されているインクとの両方に接触する。中央の画素41に着弾しているインクは、既に硬化しているため、両端の画素41に着弾したインクを介して縁領域22または内側領域23のインクの膜に繋がっても、縁領域22または内側領域23に引き寄せられることはない。図7Dに示したように、4回目の走査で着弾したインクは、四方に隣り合う4個の画素41に着弾済のインクに接触するため、いずれか一方向に引き寄せられることはない。このように、隙間領域24に着弾したインクがいずれか一方向に引き寄せられることがないため、未塗布領域の発生を抑制することができる。
次に、図8を参照して、縁領域22へのインクの塗布に着目したときの優れた効果について説明する。
図8は、図6B〜図6Eに示した塗布領域21の上辺及び左辺の縁領域22の画素41に着弾して硬化したインクの平面形状を示す図である。1回目〜4回目の走査で着弾したインクで覆われる領域に、それぞれ1から4までの数字を付している。
1回目の走査の前には、いずれの画素41にもインクが着弾していないため、1回目の走査(図6B)で着弾したインクは、ほぼ円形の平面形状を持つ。2回目の走査(図6C)で着弾したインクは、硬化される前に、1回目の走査で着弾して硬化されているインクに接触し、引き寄せられる。このため、左辺においては、破線で示した領域に着弾したインクが、塗布領域21の内側に位置するインクに引き寄せられることにより、外周側の縁がやや内側に移動する。上辺においては、1回目の走査で着弾している両側のインクに引き寄せられる。その結果、2回目の走査でインクが着弾する画素41の位置の縁が窪み、1回目の走査でインクが着弾する画素41の位置の縁が突出した波打った形状の縁が現れる。
3回目の走査(図6D)で左辺に着弾したインクは、1回目及び2回目の走査で着弾して硬化している両側のインクに引き寄せられる。3回目の走査(図6D)で上辺に着弾したインクは、塗布領域21の内側に位置する1回目及び2回目の走査で着弾して硬化したインクに引き寄せられる。このように、3回目の走査までに形成された縁領域22のインクの膜は、外周側の縁が大きく波打ち、内周側の縁が小さく波打った形状になる。縁領域22の外周側の縁の凸部は、凹部よりも平面視において大きな面積を持つ。
4回目の走査(図6E)では、3回目の走査までに形成されている縁領域22のインクの膜の外周側の波打った縁の凹部にインクが着弾する。このインクが凹部を埋めるため、縁領域22の外周側の縁の波打ちの振幅が小さくなる。言い換えると、外周側の縁の直線度が高まる。このように、本実施例においては、縁領域22に塗布されたインクの膜の外周側の縁の直線度を高めることができる。
次に、図9A及び図9Bを参照して、行列状に配置された複数の正方形または長方形の塗布領域21に、本実施例によるインク塗布方法によりインクを塗布する場合の優れた効果について説明する。
図9Aは、複数の塗布領域21の配置の一例を示す平面図である。正方形または長方形の複数の塗布領域21が行列状に配置されている。このような塗布領域21の配置は、例えば、タッチパネルの透明電極を形成するときのエッチング用レジスト膜として用いられる。塗布領域21に塗布したインクからなるレジスト膜をエッチングマスクとして透明導電膜をエッチングすることにより、透明電極が形成される。タッチパネルの分解能を高めるために、透明電極の間隔を狭めることが望まれる。透明電極の間隔を狭めるためには、塗布領域21の間隔を狭めなければならない。
図9Bは、塗布領域21の縁が波打っている場合の塗布領域21の間隙部を拡大して示す平面図の一例である。塗布領域21の間隔が狭まると、隣り合う塗布領域21の縁の凸部同士が接触してしまう危険性が高まる。2つの塗布領域21に塗布されたインクが繋がってしまうと、2つの透明電極が電気的に短絡されてしまう。
本実施例によるインク塗布方法を用いると、塗布領域21の縁の直線度を高めることができるため、塗布領域21の間隔を狭めても、2つの塗布領域21に塗布されたインクの接触が生じにくくなる。これにより、透明電極の短絡が生じにくくなるという優れた効果が得られる。
図6B〜図6Eでは、塗布領域21の上辺及び左辺に位置する縁領域22の複数の画素41について、インクの着弾順序を説明した。次に、図10A〜図11Bを参照して、上辺と左辺に加えて右辺に位置する縁領域22の複数の画素41について、インクの着弾順序の一例を説明する。
図10A〜図11Bは、それぞれ1回目〜4回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。セル42の境界を実線で表し、セル42内の画素41の境界を破線で表している。1回目〜4回目の走査で、それぞれ縁領域22及び内側領域23内の通し番号1〜4の画素41にインクを着弾させている。図10A〜図11Bにおいて、図6B〜図6Eと同様に、今回の走査でインクを着弾させる画素41に相対的に濃いハッチングを付し、前回の走査までにインクの液滴が着弾している画素41に相対的に淡いハッチングを付している。
塗布領域21内の行方向の画素数が偶数の場合、1回目の走査では図10Aに示すように、塗布領域21の左辺の縁領域22においては、縁領域22の内周側の画素41にインクが着弾するが、右辺の縁領域22においては、外周側の画素41にインクが着弾する。左辺の縁領域22においては、インクの着弾順は図6B〜図6Eに示した場合と同様である。右辺の縁領域22においては、2回目の走査で、図10Bに示すように、内周側の画素41にインクが着弾する。3回目の走査では、図11Aに示すように、外周側の画素41にインクが着弾する。4回目の走査では、図11Bに示すように、内周側の画素41にインクが着弾する。
このように、塗布領域21の右辺の縁領域22においては、縁領域22の幅方向に並ぶ2つの画素41に着目すると、内周側の画素41より外周側の画素41に先にインクが着弾する。このため、図8を参照して説明したような縁の直線度を高める効果が得られない。塗布領域21の行方向の画素数が偶数である場合には、左辺及び右辺の一方の縁領域22の縁の直線度を高めることができるが、他方の縁領域22については、直線度を高める十分な効果が得られない。同様に、塗布領域21の列方向の画素数が偶数である場合には、上辺及び下辺の一方の縁領域22の縁の直線度を高めることができるが、他方の縁領域22については、直線度を高める十分な効果が得られない。
このように、左辺及び右辺の一方、または上辺及び下辺の一方のみで直線度を高める十分な効果が得られる場合であっても、図9Aにおいて行方向または列方向に隣り合う2つの塗布領域21の相互に対向する縁のうち、一方の直線度を高めることができる。このため、2つの塗布領域21に塗布されたインクの接触を抑制する効果が得られる。
次に、図12A〜図15Bを参照して、さらに他の実施例によるインク塗布制御装置及びインク塗布方法について説明する。以下、図1A〜図2B、図4A〜図9B、図10A〜図11Bに示した各実施例と共通の構成については説明を省略する。図10A〜図11Bに示した実施例では、塗布領域21の行方向の画素数が偶数の場合、塗布領域21の左辺の直線度を高める優れた効果が得られるが、右辺の直線度を高める十分な効果は得られない。これに対して、図12A〜図15Bに示した実施例では、塗布領域21の行方向の画素数が偶数であっても、塗布領域21の左辺及び右辺の直線度を高める十分な効果が得られる。本実施例では、合計8回の走査を行うことにより、縁領域22のすべての画素41にインクを着弾させる。
図12Aは、1回目〜4回目の走査でインクを着弾させる画素41を含むセル42を、通し番号と共に示す図である。図12Bは、5回目〜8回目の走査でインクを着弾させる画素41を含むセル42を、通し番号と共に示す図である。図12Aに示したセル42の画素41に付された通し番号は、図6Aに示したセル42のものと同一である。図12Bに示したセル42においては、右下、左下、右上、及び左上の画素41に、それぞれ通し番号5〜8が付されている。i番目の走査で、通し番号iの画素にインクを着弾させる。本実施例では、1回目〜4回目の走査で、縁領域22の内周側の画素41にインクを着弾させ、5回目〜8回目の走査で、縁領域22の外周側の画素41にインクを着弾させる。
図12Cは、1回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。上辺及び左辺の縁領域22においては、通し番号1の画素41が内周側に位置するため、通し番号1の画素41にインクを着弾させる。右辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号1の画素41が外周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。さらに、内側領域23内の通し番号1の画素41にもインクを着弾させる。
図12Dは、2回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。上辺及び右辺の縁領域22においては、通し番号2の画素41が内周側に位置するため、通し番号2の画素41にインクを着弾させる。左辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号2の画素41が外周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。さらに、内側領域23内の通し番号2の画素41にもインクを着弾させる。
図13Aは、3回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。左辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号3の画素41が内周側に位置するため、通し番号3の画素41にインクを着弾させる。上辺及び右辺の縁領域22においては、通し番号3の画素41が外周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。さらに、内側領域23内の通し番号3の画素41にもインクを着弾させる。
図13Bは、4回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。右辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号4の画素41が内周側に位置するため、通し番号4の画素41にインクを着弾させる。上辺及び左辺の縁領域22においては、通し番号4の画素41が外周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。さらに、内側領域23内の通し番号4の画素41にもインクを着弾させる。1回目から4回目までの走査によって、縁領域22の内周側のすべての画素41、及び内側領域23内のすべての画素41にインクが着弾する。
図14Aは、5回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。5回目の走査では、図12Bに示したセル42の通し番号5の位置の画素41にインクを着弾させる。右辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号5の画素41が外周側に位置するため、通し番号5の画素41にインクを着弾させる。上辺及び左辺の縁領域22においては、通し番号5の画素41が内周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。
図14Bは、6回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。左辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号6の画素41が外周側に位置するため、通し番号6の画素41にインクを着弾させる。上辺及び右辺の縁領域22においては、通し番号6の画素41が内周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。
図15Aは、7回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。上辺及び右辺の縁領域22においては、通し番号7の画素41が外周側に位置するため、通し番号7の画素41にインクを着弾させる。左辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号7の画素41が内周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。
図15Bは、8回目の走査でインクを着弾させる画素41を示す図である。上辺及び左辺の縁領域22においては、通し番号8の画素41が外周側に位置するため、通し番号8の画素41にインクを着弾させる。右辺及び下辺の縁領域22においては、通し番号8の画素41が内周側に位置するため、これらの画素41にはインクを着弾させない。5回目〜8回目の走査によって、縁領域22の外周側のすべての画素41にインクが着弾する。
次に、図12A〜図15Bに示した実施例の優れた効果について説明する。
本実施例では、縁領域22の幅方向に並ぶ2つの画素41に着目した時、縁領域22の全域において、外周側の画素41よりも内周側の画素41に先にインクが着弾する。このため、図8を参照して説明したように、縁領域22の外周側の縁の直線度を高めることができる。図9Aに示したように、複数の塗布領域21を、間隔を隔てて行列状に配置する場合には、塗布領域21の間隔をより狭めることが可能になる。
次に、上記実施例の変形例について説明する。上記実施例では、塗布領域21(図2A、図2B等)が正方形または長方形である場合を取り扱っているが、塗布領域21の形状は正方形または長方形以外であってもよい。例えば、縁の一部が画素配列の行方向または列方向と平行である場合、この縁に対して上記実施例のインク塗布方法を適用することが可能である。
上述の各実施例は例示であり、異なる実施例で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。複数の実施例の同様の構成による同様の作用効果については実施例ごとには逐次言及しない。さらに、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
10 基台
11 移動機構
11X x方向移動機構
11Y y方向移動機構
12 可動テーブル
13 支持部材
20 基板
21 塗布領域
22 縁領域
23 内側領域
24 隙間領域
25 未塗布領域
30 インク吐出ユニット
31 インクジェットヘッド
32 ノズル孔
33 硬化用光源
40 画像データ
41 画素
42 セル
50 インク塗布制御装置
51 記憶部
52 制御部
60 基板に着弾したインクの液滴

Claims (7)

  1. 基板の所定の領域へのインクの塗布を制御する制御部を備えたインク塗布制御装置であって、
    前記制御部は、
    インクを塗布すべき塗布領域の縁に沿う縁領域、及び前記縁領域から間隔を隔てた内側領域に、前記縁領域に塗布されたインクと前記内側領域に塗布されたインクとが接触しないようにインクを塗布し、
    前記縁領域と前記内側領域とにインクを塗布した後、前記縁領域と前記内側領域との間の隙間領域にインクを塗布するインク塗布制御装置。
  2. 前記制御部は、前記隙間領域にインクを塗布するときに、前記縁領域及び前記内側領域とのいずれにも接触しないようにインクを塗布し、その後、前記隙間領域に塗布されているインクと前記縁領域に塗布されているインクとの両方に接触するように、及び前記隙間領域に塗布されているインクと前記内側領域に塗布されているインクとの両方に接触するようにインクを塗布する請求項1に記載のインク塗布制御装置。
  3. 前記縁領域のインクの着弾目標位置となる複数の画素が、前記縁領域の長さ方向に並ぶとともに、幅方向に関しては2つの画素が並び、
    前記制御部は、前記縁領域の画素にインクを着弾させるときに、前記縁領域の長さ方向に関しては、少なくとも1つ置きの画素にインクを着弾させ、その後、インクが着弾している画素の間の画素にインクを着弾させ、前記縁領域の幅方向に関しては、外周側の画素よりも内周側の画素に先にインクを着弾させる請求項1または2に記載のインク塗布制御装置。
  4. 前記内側領域のインクの着弾目標位置となる複数の画素が行列状に配置されており、
    前記制御部は、前記内側領域の複数の画素にインクを着弾させるときに、1行置きかつ1列置きにインクを着弾させ、その後、インクが着弾している行に含まれるインク未着弾の画素にインクを着弾させ、その後、インク未着弾の行の複数の画素に、1列置きにインクを着弾させ、その後、インク未着弾の画素にインクを着弾させることにより、前記内側領域のすべての画素にインクを着弾させる請求項1乃至3のいずれか1項に記載のインク塗布制御装置。
  5. 基板の所定の領域へのインクの塗布を制御する制御部を備えたインク塗布制御装置であって、
    インクを塗布すべき塗布領域の縁に沿って延びる縁領域に、インクの着弾目標位置となる複数の画素が、前記縁の長さ方向に並ぶとともに、幅方向に関しては2つの画素が並び、
    前記制御部は、前記縁領域の画素にインクを着弾させるときに、前記縁領域の長さ方向に関しては、少なくとも1つ置きの画素にインクを着弾させ、その後、インクが着弾している画素の間の画素にインクを着弾させ、前記縁領域の幅方向に並ぶ2つの画素に関しては、外側の画素よりも内側の画素に先にインクを着弾させるインク塗布制御装置。
  6. インクを塗布すべき塗布領域が表面に画定された基板の、前記塗布領域の縁に沿う縁領域、及び前記縁領域から間隔を隔てた内側領域に、前記縁領域に塗布されたインクと前記内側領域に塗布されたインクとが接触しないようにインクを塗布し、
    前記縁領域と前記内側領域とにインクを塗布した後、前記縁領域と前記内側領域との間の隙間領域にインクを塗布するインク塗布方法。
  7. インクを塗布すべき塗布領域が表面に画定された基板の、前記塗布領域の縁に沿って延びる縁領域に、インクの着弾目標位置となる複数の画素が、前記縁の長さ方向に並ぶとともに、幅方向に関しては2つの画素が並んでおり、
    前記縁領域の長さ方向に関しては、少なくとも1つ置きの画素にインクを着弾させ、
    その後、インクが着弾している画素の間の画素にインクを着弾させ、
    前記縁領域の幅方向に並ぶ2つの画素に関しては、外側の画素よりも内側の画素に先にインクを着弾させるインク塗布方法。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004290959A (ja) * 2003-03-11 2004-10-21 Seiko Epson Corp パターンの形成方法及びパターン形成装置、デバイスの製造方法、導電膜配線、電気光学装置、並びに電子機器
JP2019130447A (ja) * 2018-01-30 2019-08-08 住友重機械工業株式会社 膜形成方法、膜形成装置、及び膜が形成された複合基板

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3580308B2 (ja) * 2002-04-19 2004-10-20 セイコーエプソン株式会社 デバイスの製造方法、デバイス及び電子機器
JP2005153393A (ja) 2003-11-27 2005-06-16 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法および電子機器
SG188159A1 (en) * 2008-02-26 2013-03-28 Cambrios Technologies Corp Methods and compositions for ink jet deposition of conductive features
JP2010056266A (ja) 2008-08-28 2010-03-11 Casio Comput Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP5764997B2 (ja) 2011-03-22 2015-08-19 セイコーエプソン株式会社 印刷装置、印刷方法及びプログラム
JP6939633B2 (ja) 2018-02-20 2021-09-22 日本製鉄株式会社 印刷方法及び印刷システム
JP6968505B2 (ja) 2018-05-17 2021-11-17 住友重機械工業株式会社 インク塗布装置及びインク塗布方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004290959A (ja) * 2003-03-11 2004-10-21 Seiko Epson Corp パターンの形成方法及びパターン形成装置、デバイスの製造方法、導電膜配線、電気光学装置、並びに電子機器
JP2019130447A (ja) * 2018-01-30 2019-08-08 住友重機械工業株式会社 膜形成方法、膜形成装置、及び膜が形成された複合基板

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