TW201737260A - 使用反熔絲記憶體陣列產生物理不可複製函數值的系統與方法 - Google Patents

使用反熔絲記憶體陣列產生物理不可複製函數值的系統與方法 Download PDF

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Abstract

為加密應用中所使用之物理不可複製函數(PUF)提供及可靠地再生隨機值的方法與電路。PUF值產生設備中的電路包含兩個介電崩潰式反熔絲及連接於反熔絲與電力軌之間的限流電路。兩個反熔絲並聯連接，藉由對兩反熔絲同時施加高電壓，以在程式化循環中產生值。在高電壓應力下的介電崩潰被認知為隨機性的過程，這導致每一個反熔絲格的崩潰時間為特有。特有與隨機的崩潰時間致使某格比另一格先崩潰，導致高的崩潰電流通過崩潰的記憶格。一旦通過一崩潰記憶格的高崩潰電流被建立，跨於限流電路的電壓降致使跨於兩記憶格的電壓下降。由於陡峭的電壓與崩潰時間相依，因此，下降的電壓大大地減緩了第二記憶格中與時間相依的崩潰過程，且防止它在應力脈衝窗口內崩潰。此方法允許記憶格對中的一記憶格隨機地崩潰，同時防止另一記憶格崩潰。

Description

使用反熔絲記憶體陣列產生物理不可複製函數值的系統與方法
通言之，本發明與物理不可複製函數(PUF)有關。更明確地說，本發明與使用反熔絲記憶體格產生隨機二進制值有關，如PUF。
物理不可複製函數(PUF)係硬體電路，其按照硬體裝置的物理隨機性能來產生一或多個碼，且因此即使非不可能也很難複製。在軍事與商業應用上，PUF被廣泛地用於資料保全，例如，無人載具、雲端計算等。幾乎任何需要亂數的應用中都可使用PUF。此等應用最好要求逐晶片的該碼為隨機的，以使得即使以逆向工程複製出晶片的精確布局，被複製之晶片的該組碼也與原晶片不同。一晶片所產生的該組值必須不隨著時間、電壓、溫度等改變。
本發明的目標是排除或減輕先前PUF值產生系統的 至少一項缺點。
在第一方面，本發明提供物理不可複製函數(PUF)值產生系統。PUF值產生系統包括一對介電崩潰式反熔絲記憶體格及限流電路。每一對介電崩潰式反熔絲記憶體格具有彼此電耦接的第一終端，用以接收第一電壓，及彼此電耦接的第二終端，用以接收第二電壓，以使該兩個反熔絲記憶體格能夠同時程式化。限流電路被組構成在程式化操作期間在第二終端被耦接至第二電壓的同時，將第一電壓耦接至第一終端。限流電路被組構成在該程式化期間，當該對反熔絲記憶體格的第一反熔絲記憶體格形成導電連結時，在第一電壓與第一終端之間提供電壓差，以將電流從限流電路導通到第二終端，其接著抑制該對反熔絲記憶體格之第二反熔絲記憶體格的程式化。按照本實施例，第一終端係反熔絲記憶體格的閘極終端，且第二終端係反熔絲記憶體格彼此電耦接的擴散接點。此外，第一電壓係程式化電壓及第二電壓係VSS。
按照本實施例的態樣，限流電路包括字線驅動器電路的電晶體，其將程式化電壓耦接至閘極終端，且電壓差係閘極終端相對於程式化電壓的電壓降。限流電路可另包括用於提供程式化電壓的電壓產生器。轉到電流方面，限流電路可包括用於提供程式化電壓給閘極終端的電壓產生器。轉到本態樣，限流電路包括寫入驅動器電路的電晶體，其將VSS耦接至擴散接點，且電壓差係擴散接點相對於VSS的電壓降。
按照本實施例的另一態樣，閘極終端係被並聯連接到由字線驅動器所驅動的字線，且擴散接點係被連接到各自的位元線。行存取電路被組構成選擇性地將該等位元線彼此耦接，並耦接至限流電路，且限流電路包括字線驅動器電路。轉到本實施例的另一態樣，第一反熔絲記憶體格與第二反熔絲記憶體格之閘極終端係連接到在相同時間被啟動之不同的字線驅動器電路，且擴散接點係連接到共同的位元線。在此，行存取電路被組構成將共同位元線選擇性地耦接至限流電路。
在第二方面，本發明提供物理不可複製函數(PUF)值產生的方法。該方法包括施加第一電壓於彼此電耦接之一對反熔絲記憶體格的第一終端；施加第二電壓於彼此電耦接之該對反熔絲記憶體格的第二終端，第一電壓與第二電壓對於程式化反熔絲記憶體格為有效的；回應第一電壓與第二電壓，在該對反熔絲記憶體格的第一反熔絲記憶體格中形成導電連結，以將電流從第一終端導通到第二終端；以及，回應電流從第一終端導通到第二終端，改變一終端的電壓位準，其有效的抑制程式化該對反熔絲記憶體格的第二反熔絲記憶體格。
按照第二態樣的實施例，電壓位準包括在第一電壓與第一終端之間的限制電流，限制電流包括提供第一終端相對於第一電壓的電壓降，及施加第一電壓包括藉由字線驅動器以第一電壓驅動連接到第一終端的字線，且字線驅動器的電晶體提供字線相對於第一電壓的電壓降。在這些實 施例中，施加第二電壓包括將連接於第二終端的位元線選擇性地耦接至第二電壓。另者，限制電流可包括提供第二電壓相對於第二終端的電壓降，且施加第一電壓包括藉由寫入驅動器以第一電壓驅動連接到第一終端的位元線，且寫入驅動器的電晶體提供第一電壓相對於位元線的電壓降。
在第三方面，本發明提供物理不可複製函數(PUF)程式化的方法。該方法包括對預定數量之反熔絲記憶體格對執行程式化操作，直至每一對反熔絲記憶體格的一個反熔絲記憶體格被檢測到具有至少最小的讀取電流；使用為檢測該最小電流所選擇的參考電壓來讀取預定數量之每一對反熔絲記憶體格的一個反熔絲記憶體格，以得到PUF資料字元；以及，再程式化該PUF資料字元以得到具有讀取電流大於最小讀取電流之經程式化的反熔絲記憶體格。
熟悉此領域之習知技藝者在配合附圖閱讀了以下對特定實施例之描述後，將可明瞭本發明的其它態樣與特徵。
30‧‧‧雙電晶體反熔絲記憶體格
32‧‧‧閘極
34‧‧‧厚閘極氧化物
36‧‧‧通道
38‧‧‧擴散區
40‧‧‧位元線接點
42‧‧‧共用擴散區
44‧‧‧閘極
46‧‧‧薄閘極氧化物
48‧‧‧通道
54‧‧‧厚場氧化物
56‧‧‧淺溝隔離氧化物
60‧‧‧反熔絲裝置
62‧‧‧可變厚度閘極氧化物
64‧‧‧基板通道區
66‧‧‧閘極
68‧‧‧側壁間隔物
70‧‧‧場氧化物區
72‧‧‧擴散區
74‧‧‧微摻雜擴散區
76‧‧‧擴散接點
100‧‧‧反熔絲記憶體格
102‧‧‧反熔絲記憶體格
104‧‧‧第一限流器
106‧‧‧第二限流器
108‧‧‧差動感測放大器
204‧‧‧P通道電晶體
206‧‧‧N通道電晶體
207‧‧‧N通道電晶體
208‧‧‧N通道電晶體
209‧‧‧N通道電晶體
210‧‧‧電流
212‧‧‧導電連結
214‧‧‧字線驅動器
216‧‧‧程式化電壓產生器
300‧‧‧反熔絲記憶體格
302‧‧‧字線驅動器
304‧‧‧CMOS電晶體
306‧‧‧CMOS電晶體
308‧‧‧行存取電路
310‧‧‧感測放大器
312‧‧‧寫入資料緩衝器
314‧‧‧寫入驅動器
316‧‧‧寫入驅動器
318‧‧‧N通道電晶體
320‧‧‧N通道電晶體
322‧‧‧N通道電晶體
324‧‧‧N通道電晶體
326‧‧‧N通道電晶體
328‧‧‧N通道電晶體
330‧‧‧N通道電晶體
600‧‧‧反熔絲記憶體格
602‧‧‧反熔絲記憶體格
604‧‧‧寫入驅動器
以上僅係藉由例子並參考附圖來描述本發明的實施例。
圖1係雙電晶體反熔絲記憶體格的橫剖面圖；圖2係單電晶體反熔絲記憶體格的橫剖面圖；圖3係按照目前實施例之單位元PUF值產生系統的方塊圖； 圖4係用於讀取每位元資料兩記憶格的讀取電路；圖5A係按照目前實施例之PUF資料程式化系統的圖；圖5B的時序圖顯示按照目前實施例在PUF資料程式化期間的字線電壓例；圖5C係按照目前實施例在一記憶體格之隨機程式化之後PUF資料程式化系統的圖；圖5D的時序圖顯示按照目前實施例在PUF資料程式化期間之字線與源極線的電壓例；圖6係按照另一實施例之PUF資料程式化系統的圖；圖7係按照目前實施例被組構成用於PUF資料程式化之部分記憶體陣列的電路概圖；圖8的表顯示按照目前實施例之圖7電路概圖中之訊號的邏輯狀態與電壓；圖9係按照目前實施例之PUF程式化處理之方法的流程圖；圖10係按照目前實施例之PUF隨機資料程式化之方法的流程圖；圖11係按照目前實施例之PUF資料程式化系統的圖；圖12的表顯示按照目前實施例用於正常資料程式化與PUF程式化的參數例；圖13的曲線圖顯示按照目前實施例之OTP PUF可程 式性測試結果；圖14的曲線圖顯示按照目前實施例OTP PUF錯誤測試結果。
本發明的方法與電路用來提供及可靠地再生密碼應用中所使用之物理不可複製函數(PUF)的隨機值。在本發明的實施例中，PUF值產生設備中的電路包含兩個介電崩潰式反熔絲及至少一個連接於反熔絲與電力軌之間的限流電路。兩個反熔絲記憶體格並聯連接，藉由同時施加高電壓於兩個反熔絲而在程式化循環中產生值。一個反熔絲記憶體格將先隨機地程式，從而提供隨機的位元值。
在高電壓應力下的介電崩潰被認知為隨機性的過程，其導致每一個反熔絲格的崩潰時間為特有。使用特定程式化電壓致使一記憶格比另一記憶格先崩潰之特有與隨機的時間，導致不同的記憶格在不同的時間程式化。按照本實施例，當兩個反熔絲記憶體格彼此並聯連接並同時接受程式化時，此隨機性有助於產生PUF隨機值。通過一已崩潰記憶格之高崩潰電流一旦建立，其造成跨於限流電路的電壓差，其導致跨於兩記憶格的電壓下降。由於陡峭的電壓與崩潰時間的相依性，因此，下降的電壓減緩了第二記憶格中與時間相依的崩潰過程，且因此防止了它在程式化應力窗口內的崩潰。程式化應力窗口係一時間周期，在此周期內，程式化電壓被施加來形成導電連結。此方法允許 記憶格對內的一記憶格隨機崩潰，同時抑制另一記憶格崩潰。其中一記憶格崩潰另一記憶格完整的兩記憶格可被傳統的單端讀取電路可靠且重複地讀取。
以下描述反熔絲記憶體格例可用於以下實施例所揭示的PUF值產生系統。
圖1係雙電晶體反熔絲記憶體格的橫剖面圖。此雙電晶體反熔絲記憶體格30係由存取電晶體與反熔絲裝置串聯而成。存取電晶體或存取裝置包括覆於厚閘極氧化物34上的閘極32，其本身形成在通道36的上方。通道36的右側是電連接到位元線接點40的擴散區38。通道36的左側是與反熔絲裝置共用的共用擴散區42。反熔絲裝置包括覆於薄閘極氧化物46上的閘極44，其本身形成在通道48的上方。厚閘極氧化物34對應於用於高電壓電晶體者，而薄閘極氧化物46對應於用於低電壓電晶體者。閘極32與44可個別地控制，或可彼此連接。例如，閘極32可耦接至字線，而閘極44可耦接至受控制的格屏極電壓(cell plate voltage；VCP)。視所使用的想要的工作電壓而定，擴散區38與42兩者皆可具有LDD區，此兩區可一起摻雜或分開摻雜。厚場氧化物或淺溝隔離(STI)氧化物54與56被形成用來隔離該記憶格與其他記憶格及/或其他電路電晶體。共同擁有的美國專利US7755162描述可用於非揮發性記憶體陣列的交替雙電晶體反熔絲記憶體格。在程式化操作期間，薄閘極氧化物46想要在大電場中崩潰，藉以於通道48與閘極44之間建立導電連接。此 導電連接可稱為導電連結或反熔絲。
降低記憶體之成本的驅策因素是記憶體陣列的面積。當與單電晶體記憶體格相較，例如諸如快閃記憶體格，圖1的雙電晶體反熔絲記憶體格30係為相當大的記憶體格。共同擁有的美國專利No.7,402,855中描述此單電晶體反熔絲記憶體格。
圖2係共同擁有之美國專利No.7,402,855所揭示之單電晶體反熔絲記憶體格的橫剖面視圖。反熔絲裝置60包括形成在基板通道區64上方的可變厚度閘極氧化物62、閘極66、側壁間隔物68、場氧化物區70、擴散區72、及擴散區72內的LDD區74。當以記憶體陣列實施時，被稱為位元線接點的擴散接點76被顯示為與擴散區72接觸。可變厚度閘極氧化物62由厚閘極氧化物與薄閘極氧化物組成，以使得通道長度的一部分被厚閘極氧化物覆蓋，而通道長度中的剩餘部分被薄閘極氧化物所覆蓋。從此點出發，薄閘極氧化物部分對應於單電晶體反熔絲記憶體格的反熔絲裝置部分，而厚度閘極氧化物部分對應於單電晶體反熔絲記憶體格的存取電晶體或裝置部分。一般來說，薄閘極氧化物係會發生氧化物崩潰的區域。另一方面，厚閘極氧化物觸及擴散區72的邊緣可界定防止閘極氧化物崩潰的接取邊緣，及閘極66與擴散區72間的電流可流動給經程式化之反熔絲裝置。
在當下顯示的例子中，擴散區72係經由位元線接點76或用於感測來自閘極66之電流的其它線連接到位元 線，且可被摻雜以適合程式化電壓或電流。此擴散區72係形成在可變厚度閘極氧化物62之厚氧化物部分的附近。如果最初的基板P型，則擴散區72被摻雜為N型物質。為程式化反熔絲記憶體格60，在字線WL上施加高電壓位準(諸如程式化電壓)及將位元線耦接到低電壓位準(諸如VSS)。通道區64與閘極66之間的高電場應足以在薄閘極氧化物中建立導電連結，以電連接閘極66與通道區64。在本描述中，此被視為被程式化的反熔絲記憶體格。此相同的原理亦可應用於圖1顯示的反熔絲記憶體格30，除了導電連結是形成在薄閘極氧化物46中，用以耦接閘極44與通道48。在這兩種反熔絲格中的摻雜物類型都可相反，且因此所施加的電壓也相反，此為熟悉此領域之習知技藝者很容易瞭解的。
目前所描述的實施例將兩隨機變數(其為兩個反熔絲裝置的介電崩潰時間)的組合轉換成單個隨機位元變數。由於崩潰時間過程為隨機的本質，本發明之實施例即利用一對反熔絲裝置中之一個反熔絲先崩潰的事實。圖3的方塊圖顯示按照本實施例之單位元PUF值產生系統的一般電路配置。
在圖3的PUF程式化系統實施例中，一對平行的反熔絲記憶體格100與102分別經由第一限流器104與第二限流器106連接於高電壓節點與低電壓節點之間。兩個反熔絲裝置與第一及第二限流器104、106彼此並聯耦接。由高電壓節點所提供的高電壓被施加到反熔絲裝置對的閘 極端點。由低電壓節點所提供的VSS電壓，使被施加有高電壓的反熔絲裝置能夠程式化。在本實施例中，高電壓指的是相對於VSS電壓的程式化電壓，其可產生強度足以導致反熔絲裝置之薄閘極氧化物區內崩潰的電場。記憶格的平行配置允許其中一個在時間上隨機崩潰隨即自動降低兩記憶格的應力。在本反熔絲裝置的情況下，崩潰指的是閘極與下方通道之間形成導電連結。降低應力使得第二記憶格極不可能在固定的程式應力時間窗口內崩潰。按照本實施例，只要反熔絲記憶體格尚未被程式化，則第一限流器104與第二限流器106僅其中一個可被用於降低此程式化應力。當程式化操作結束，其結果是反熔絲記憶體格100被程式化或是反熔絲記憶格102被程式化。
如稍後更詳細的描述，具有圖3中諸如記憶格100與102，其中一格被隨機程式化之反熔絲記憶體格對的記憶體陣列，可被組構成讀出被隨機程式化的資料。此概念性地顯示於圖4，其中，該對記憶格100與102被耦接至差動感測放大器108的“+”與“-”輸入。如圖4所示，雖然該對記憶格100與102兩者都被耦接到差動感測放大器108的輸入，但使用單端讀取。此意指僅記憶格100與102其中之一依靠隨機資料之讀出。用以讀取記憶格100或102的電路組構是設計上之選擇。視記憶格100與102哪一個被讀取，感測放大器108的輸出將表示出邏輯“1”或“0”狀態。在本例中，感測放大器108被組構成提供單端輸出。
在另一實施例中，一旦記憶格100或102的資料狀態 被讀取且為已知，即可將互補資料程式化到第三記憶格中，以每位元兩記憶格的組態儲存資料。在這樣的組構中，差動感測放大器108從記憶格100或102及第三記憶格讀取互補的資料，且為了使讀取操作期間的任何電力跡訊最小化，可被組構成提供差動輸出。此領域的習知技藝者應瞭解，相對於單端感測，差動感測提供增進的讀取裕度。
圖5A顯示圖3中所示之PUF程式化系統的例子，且以下的描述將解釋，在第一記憶格被隨機地程式化之後，系統如何自我抑制第二反熔絲記憶體格的程式化。在圖5A的例中，兩個具有圖2中所示相同結構的反熔絲記憶體格100與102彼此電連接，並耦接到字線驅動器與寫驅動器。記憶格100與102的閘極並聯連接到字線WL。本申請案中所描述之記憶格與電晶體的閘極，可由多晶矽、金屬、或任何其它導電材料製成。字線WL係由串聯連接於高電壓節點與低電壓節點之間的P通道電晶體204與N通道電晶體206所組成的字線驅動器電路來驅動。在本例中，電晶體204的功能如同圖3中所示的限流器104。在低邏輯位準之選擇訊號SEL_WL選擇驅動器將高電壓節點的正電壓位準施加到WL。在讀取操作期間，此正電壓位準可以是讀的電壓位準，且在程式化操作期間可具有較高的程式化電壓位準(VPGM)。在此例中，低電壓節點係VSS。
記憶格100與102的位元線接點76經由各自的N通 道電晶體207與209被選擇性地耦接到源極線SL，耦接到功能如同圖3中所示第二限流器106的N通道電晶體208。N通道電晶體207與209分別受訊號PUF_SEL0及PUF_SEL1的控制，其可在相同時間被驅動到高邏輯位準，以將記憶格100與102的擴散接點76電耦接在一起。N通道電晶體208的閘極端點接收訊號PUF_PGM，在高邏輯位準時將位元線接點76耦接到VSS。
現參考圖5B所示的時序圖，來描述圖5A所示之系統的PUF程式化操作。圖5A所示之系統並不必然是記憶體陣列的一部分，且可實施為任何半導體裝置中的獨立電路。可為每一條字線WL製造多個記憶格100與102及限流電路106實例，在此，每一對記憶格100與102產生單個隨機位元值。每一實例的每對記憶格100與102都令它們的閘極端點連接到WL，且每對記憶格都可藉由選擇性地將兩記憶格的位元線接點76彼此耦接並為該對記憶格選擇性地啟動各自的PUF_PGM訊號，而被選擇用於PUF程式化。
PUF_SEL0與PUF_SEL1均被設定到高邏輯位準。接著，訊號PUF_PGM被設定到高邏輯位準，以在時間t0導通N通道電晶體208。以上提及的順序可以相反或幾乎同時進行。接著，SEL_WL被驅動到低邏輯位準以導通P通道電晶體204，且高電壓節點上的程式化電壓VPGM被施加到字線WL。一開始，電流210對記憶格100與102的閘極66施加充電荷，直到閘極到達VPGM的電壓位準為 止。有了VPGM的字線與耦接到VSS的位元線接點76，現在，反熔絲記憶格100及102在正確的程式化條件下，以在記憶格的薄閘極氧化物區中形成導電連結。
在過了一隨機量的時間t1之後，回應電場應力，兩記憶格100與102其中之一將在閘極66與記憶格的通道間形成導電連結。此顯示於圖5C，其中，記憶格102形成了導電連結212。電流現在可從閘極66流到記憶格102的位元線接點76。由於電晶體208被導通，字線WL現在被耦接到VSS。當被程式化的反熔絲記憶體格與電晶體208串聯連接而提供到達VSS的路徑時，由於電晶體204的尺寸限制了其可導通的電流量，因此，在時間t1稍後，字線電壓將下降。如圖5B所示，字線電壓VWL下降的量標示為△VWL。於是，於電晶體204的源極與汲極端點間出現一電壓差。此字線電壓的降低，將導致跨於未被程式化之記憶格100的電場相應下降，藉以減緩第二記憶格100中與時間相依的崩潰過程，並防止其崩潰及在其閘極66與其通道區之間形成導電連結。
最後，在當下時間t2，藉由將字線去有效來結束程式化操作。在此例中，在程式化操作結束之時，字線被驅動到VSS。此時間可根據用於製造此裝置的製程、程式化期間所施加的電壓、或對程式反熔絲記憶體格所需時間量有影響的任何其它因素，來模擬、模型化、或測試用於程式化反熔絲記憶體格之最壞情況的時間。如果預設時間不足以供任一記憶格發生隨機程式化，則此過程可迭代地重 複，以中間讀取驗證操作來檢查兩記憶體其中之一的隨機程式化是否成功地發生。
在此實施例中，限流器104被組構成當記憶格102隨機地程式化時，確保電壓降足以防止在另一未被程式化之記憶格100中發生導電連結的形成。流過已被程式化之反熔絲記憶體格與電晶體208的電流可被模擬、模型化、或測試。因此，諸如峰化電晶體204、裝置204的電晶體尺寸等參數，連同VPGM電壓位準與SEL_WL的電壓，可使用精確的模型/模擬工具來調整，以完成限制流過其間之電流足以於電晶體204間提供所需電壓降的組構。
在以上所描述的技術中，當程式化程序結束時，記憶格對中的一記憶格將被程式化，而另一保持未被程式化。由於氧化物崩潰之隨機的本質，哪一個記憶格崩潰是真正的隨機，因此，其容許產生單一的隨機位元值。
在以上所描述的實施例中，雖然電晶體208存在且完全導通，但它未作為限流器功能。換言之，可設想成電晶體208被作成大小能排放電晶體204經由被程式之反熔絲記憶格所提供的所有電流。按照另一實施例，電晶體204未被組構成限流器，而是電晶體208被組構成限流器。在此替代的實施例中，電晶體208作成大小能排放為經程式化之反熔絲記憶體格所提供的電流為少的電流。此替代實施例的程式化操作，現將參考圖5D之時序圖來討論，並參考圖5A及5C的圖來顯示字線(VWL)與源極線(VSL)的訊號軌跡。
關於先前討論的實施例，電晶體208在時間t0被導通，將SL耦接到VSS，且字線WL被電晶體204驅動到電壓位準VPGM。電流210開始建立，直至閘極66的電壓位準到達VPGM。在一段隨機的時間t1處，記憶格102內形成導電連結212，且現在字線WL被耦接到限流器106。雖然電晶體208被完全導通，但由於其尺寸無法排放被程式化之記憶格102所提供的電流，因此，電晶體208之汲極端點上的電壓在時間t1之後上升。VSL從電壓位準VSS增加的電壓稱之為△VSL，且使橫跨未被程式化記憶格100的電場強度降低。此具有減緩第二記憶格100中與時間相依的崩潰過程的作用，且防止其崩潰並在其閘極66與其通道區間形成導電連結。最後，在時間t2，程式化操作結束。再次，由於跨於限流器106上的電壓差，在t0-t2之程式化窗口期間，未被程式化記憶格100的程式化被抑制。
與先前的實施例類似，電晶體204被組構成限制電流，當反熔絲記憶體格其中之一形成導電連結時，電晶體208可被組構成確保在其間發生電壓降。
在圖5A、5B、及5C所示的例示實施例中，一個字線驅動器被連接到一對反熔絲記憶體格。在替代的組構中，可有兩個字線驅動器按類似於上述之方式同時被啟動來程式化反熔絲記憶體格對中的一個記憶格。以下將關於圖6的實施例，對此做進一步詳細的顯示及討論。
在圖6的實施例中顯示相同的記憶格100與102，但 每一個記憶格現在被連接到各自的字線。記憶格100連接到WL[0]，其係連接到由先前描述之電晶體204與206所組成的字線驅動器。記憶格102連接到WL[1]，其係連接到以方塊214所表示的字線驅動器。每一個字線驅動器係由各自的訊號SEL_WL[0]與SEL_WL[1]來控制。程式化電壓產生器(VPGM產生器)216或切換電路提供VPGM給字線驅動器。記憶格100與102連接到相同的源極線SL，其經由限流器106耦接至VSS。關於隨機PUF資料程式化，訊號SEL_WL[0]與SEL_WL[1]被啟動，以VPGM電壓平行驅動WL[0]及WL[1]，且PUF_PGM被設定成導通電晶體208。如果電晶體208被組構成作為限流器，則源極線的電壓VSL將依循著與圖5D所示相同的模式，當其中一個記憶格隨機地程式化時，抑制另一記憶格的程式化。另者，VPGM產生器216可被組構成包括限流器，以使得當記憶格100或102其中之一隨機程式化之時，VPGM的電壓位準依循與圖5B之VWL相同的模式，來抑制另一記憶格的程式化。
按照又一替代的實施例，可啟動限流器104與106來抑制在第一記憶格已程式化之後，第二記憶格的程式化。更明確地說，兩個限流器104與106的電晶體都作成大小可確保字線有電壓降VWL與源極線有增壓VSL。在此指出，電晶體204、一個反熔絲記憶體格、與電晶體208的串聯連接可被組構成分壓器，在此，裝置204與208可被工程設計成使得WL節點具有小於VPGM的特定電壓位 準，或SL節點具有大於VSS的特定電壓位準。熟悉此領域之習知技藝者應瞭解如何組構分壓器來在WL與SL節點獲得所要的電壓位準。
圖5A、5C、及6所顯示的PUF程式化系統實施例可在一般用於資料寫與讀的記憶體陣列中實施。因此，此反熔絲記憶體陣列可儲存使用者資料且可產生隨機PUF資料。
圖7的電路概圖顯示部分的記憶體陣列，其具有字線驅動器、行存取電路、感測放大器、及寫入電路。記憶體陣列包括位元線BL[0]至BL[3]、字線WL[0]至WL[i]、以及以圓圈表示且連接於位元線與字線之交叉點的反熔絲記憶體格300。在本例中，可有多達“i”條的字線，在此，“i”係整數值。反熔絲記憶體格300可以是本申請案之圖1與2中所顯示的記憶格，或是可用相同方式程式化的其它反熔絲記憶體格。每一條字線都連接到字線驅動器302，在此，每一條字線驅動器302包括CMOS電晶體304與306的互補對。在讀取與程式操作期間，每一個字線驅動器接收各自的選擇訊號SEL_WL[0]至SEL_WL[i]來啟動。在任何的讀取與程式操作期間，僅一條字線被選擇。每一個字線驅動器被連接到高電壓節點與低電壓節點，在此，可配置各式的電壓產生器，來提供不同位準的電壓給字線驅動器。圖7中雖未顯示，但字線驅動器的高電壓節點被連接到VPGM產生器，諸如圖6中所示的VPGM產生器。
位元線可連接到圖7中未顯示的預充電電路。假設位元線被預充電及/或保持在一電壓位準，此電壓位準可抑制連接到其之記憶體格在程式化開始之前的程式化。例如，程式抑制的電壓位準可以是正電壓位準，而程式致能電壓位準可以是VSS。行存取電路308選擇性地將位元線耦接到一對資料匯流排DB[0]與DB[1]。感測放大器310具有“+”輸入與“-”輸入分別連接到DB[0]與DB[1]，用以感測出現於其上的電壓位準，並提供對應的資料輸出D_OUT。資料匯流排DB[0]與DB[1]進一步連接到接收一位元資料資訊DATA的寫入資料緩衝器312、寫入驅動器314與316所組成的寫入電路。在本實施例中，寫入驅動器314與316係連接到VSS的N通道電晶體。在PUF程式化的情況下，此訊號被稱為PUF程式致能訊號PUF_PGM。除了字線，重複圖7中所示的元件即成為較大的記憶體陣列。
在此指出，所顯示的電路概示圖係很多不同特定半導體電路設計的圖形表示法，其可提供相同的所要結果。例如，字線訊號可經由本地字線、總體字線等連接到記憶格。
以下進一步詳細討論關於行存取電路308。此電路包括由行存取訊號所控制的切換裝置，以N通道電晶體318、320、322、324、326、328、及330來顯示。N通道電晶體318、320、322、及324形成第一級的行選擇電路，其中，電晶體318與320係由經解碼的訊號COL_A[0] 來控制，而裝置322與324係由經解碼的訊號COL_A[1]來控制。訊號COL_A[0]與COL_A[1]係源自於行定址訊號，此在本領域中為習知。因此，第一級的行選擇電路將位元線BL[0]與BL[2]或BL[1]與BL[3]耦接到第二級的行選擇電路。第二級的行選擇電路由電晶體326、328、及330所組成，其分別接收經解碼的訊號COL_B[0]、COL_B[1]、及COL_B[2]。同樣地，訊號COL_B[0]、COL_B[1]、及COL_B[2]源自於行定址訊號與其它控制訊號的組合，此在本領域中為習知。在正常的資料程式操作期間，控制行存取電路308的切換裝置將寫入驅動器314與316耦接到被選擇的位元線，及在正常的讀取操作期間，將被選擇的位元線耦接到感測放大器310。與本實施例更相關的是，行存取電路308之這些相同的切換裝置與列驅動器302結合，可被控制來按三種不同模式其中之一執行PUF資料程式化。這些模式稱之為冗餘PUF模式、正常PUF模式、差分PUF模式。無論使用何種模式，都會有兩個記憶體格同時接受程式化。以下描述在圖7的記憶體陣列組構中如何執行這些模式每一種的PUF程式化。
為了便於以下對這3個PUF程式化模式之討論，現參考圖7及圖8。在圖7中，以數字1、2、3、4、5、6、7、及8來標示某些反熔絲記憶體格300。圖8顯示的表中表列出對於每一模式的PUF寫、PUF讀取-確認操作與PUF讀取操作，被存取之特定記憶格的編號、由特定字線 所施加的電壓、以及存取特定記憶格所需之出現於圖7中之行存取訊號的對應邏輯狀態。在此例中，假設圖7中所有其它的字線都未被選擇。在本例中，邏輯“1”意指接收該訊號的電晶體被打開，而邏輯“0”意指示接收該訊號的電晶體被關閉，VPGM係程式化電壓，及VSS為0V。出現於括弧內的資訊指示關於出現於括弧內之另一記憶格選擇的狀態或電壓。
在冗餘PUF模式中，連接到同一條位元線且連接到各自獨立之字線驅動器302的兩個記憶體格300同時接受程式化。這兩個記憶體格300的組構與圖6中所示者的連接與功能類似。此被稱為“冗餘”模式的原因是在記憶體裝置的正常操作中，其可以將資料的同一個位元程式到連接至同一條位元線的兩(或更多)個記憶格，且同時從兩個記憶格讀取。此模式增進了資料儲存的可靠度與穩固性。圖8的表中顯示用於行存取訊號之邏輯狀態及用於字線之電壓位準的例子，這些導致選擇編號1與3的記憶格接受程式化電壓，且位元線BL[0]經由電晶體318、326、及314耦接到VSS。假設DATA是在高邏輯狀態，用以打開寫入驅動器314。本領域的技術人士應瞭解，可使用不同狀態的行存取訊號來選擇2與4、5與7、及6與8等記憶格對，經由寫入驅動器314或316耦接至VSS。在PUF寫入操作的一實施例中，被選擇的字線驅動器302被啟動，對被選擇之字線WL[0]與WL[1]施加程式化電壓一段特定的時間，其已根據製程、記憶格結構、與電壓被模擬或模 型化到足以完成其中一記憶格的隨機程式化。此特定的持續時間也稱為脈衝，應短於正常資料程式化期間所使用的脈衝。雖然在PUF程式化脈衝期間其中一記憶格未被程式化，但多次施加脈衝的累積效果應導致兩記憶格僅其中之一的隨機程式化。
一旦程式化周期結束，即執行PUF讀取-確認操作，來檢查兩記憶格中是否至少一個被程式化。現參考圖8的表，藉由將被選擇的兩字線都驅動到低於程式化電壓VPGM的讀取電壓Vread來執行單端讀取操作，並啟動與來自PUF寫入操作相同的行存取訊號。在字線的啟動之前，位元線BL[0]經由被啟動的行存取訊號及被DATA打開的寫入驅動器314被預充電到VSS。因此，位元線BL[0]現在被耦接到感測放大器310的“+”輸入。雖然圖7中未顯示，但在PUF讀取-確認操作期間，感測放大器310的“-”輸入接收參考電壓。此參考電壓的位準可選擇到足以偵測記憶格之反熔絲裝置之閘極氧化物中崩潰的第一徵兆。此可以看作是在反熔絲裝置中形成弱導電連結，且此記憶格被稱為經弱程式化的記憶格。
視所使用的製程、電路設計、及電壓位準而定，當程式化時，反熔絲記憶體格可形成各種不同導電位準的導電連結。因此，導電位準較低的反熔絲記憶體格稱為弱程式化記憶格，而導電位準較高的反熔絲記憶體格稱為強程式化記憶格，其中，弱與強程式化記憶格之間的臨限值係由能被感測放大器檢測到所需的讀取電流來決定。因此，當 所要的PUF程式化結果是檢測弱導電連結之崩潰或形成的第一徵兆時，在正常的程式化確認操作期間可使用相對於PUF程式化讀取確認操作不同的參考電壓。此典型上呈現弱讀取電流，或使用感測放大器及適合的參考電壓可檢測到的最小電流。
由於記憶格1與3被連接到相同的位元線BL[0]，兩者任一內中形成有導電連結的記憶格將提高DB[0]的電壓位準，其可被感測放大器310檢測到。成功檢測到此增加之電壓位準即指示PUF程式化成功，且反映於感測放大器310的D_OUT訊號。D_OUT可被控制邏輯接收，該控制邏輯決定記憶格1與3的隨機程式化完成。否則，此控制邏輯重複上述的PUF寫入操作與PUF讀取確認操作，直到成功的PUF程式化被檢測到，或經過預定的迭代次數而無成功的PUF程式化，該操作被視為失敗。如果發生失敗的操作，則控制邏輯選擇替代的記憶格對進行PUF程式化。
可對連接於字線WL[0]與WL[1]之任何預定數量的記憶格對執行PUF寫與PUF讀取-確認的循環。最終，所有的記憶格對將被確定為具有一個被成功程式化的記憶格，但不知記憶格對中的哪一個記憶格被程式化。此為按照本實施例之PUF值產生的隨機本質。為了得到由來自每一個記憶格對之資料所組成的PUF字元，僅使用連接到兩字線其中之一的記憶格來執行PUF讀取操作。如圖8之表中所示，在本例中，字線WL[0]與WL[1]被驅動到電壓 位準Vread，且切換裝置318與324僅其中一個連同切換裝置326被啟動。此操作類似於PUF讀取-確認操作。因此，一些記憶格將被檢測為被程式化，而其它記憶格將被檢測為未程式化，如同其為連接到未被存取之字線之記憶格對的另一被程式化的記憶格。
一旦得到該PUF字元，可執行正常的資料程式化操作，來將此PUF字元程式到相同的記憶格。如前所提及，PUF程式化導致反熔絲裝置中形成弱導電連結。正常資料程式化操作的目的是對PUF程式化的記憶格強充電或強化導電連結，以使得從被程式化記憶格讀取，相較於未被程式化記憶格有大的裕度。此可確保在記憶體裝置的正常操作期間，PUF字元之可靠與精確的讀取。PUF字元可正常地程式化到位於不同位址位置的記憶格，以取代將PUF字元再程式化到相同的記憶格。
按照另一實施例，一旦如上所述得到PUF字元並再程式化，PUF字元可反轉成它的互補形式，接著被程式化到記憶體陣列中的另一位置。可為每一個PUF資料位元對照它的對應互補位元的差動感測來選擇此一位置。例如，如果圖7的記憶格1是PUF資料，它的互補可儲存在記憶格5中。則可藉由設定COL_A[0]、COL_B[0]、及COL_B[1]將BL[0]與BL[2]耦接至感測放大器310來執行差動感測。
接下來討論正常的PUF模式。在正常的PUF模式中，連接到相同字線及連接到各自獨立之位元線的兩個記 憶體格300同時接受程式化。這兩個記憶體格300的組構類似於圖5A中所示的連接與功能。此被稱為“正常”模式，這是由於在記憶體裝置的正常程式與讀取操作期間，單條字線被啟動來致能單個記憶的格的程式化與讀取。
圖8的表顯示行存取訊號的邏輯狀態及被選擇之字線的電壓位準，其致使選擇編號為1與2之記憶格接受程式化電壓，以及位元線BL[0]與BL[1]經由電晶體318、324、326、及314被耦接到VSS。假設DATA在高邏輯位準，用以打開寫入驅動器314。本領域的技術人士應瞭解，可使用不同狀態的行存取訊號來選擇3與4、5與6、及7與8等記憶格對，經由寫入驅動器314耦接至VSS。或者，行存取訊號可被組構成將5與6、及7與8的記憶格對經由寫入驅動器316耦接至VSS。在PUF寫入操作的一實施例中，啟動被選擇的字線驅動器302對被選擇的字線WL[0]施加程式化電壓一段特定的時間，其已根據製程、記憶格結構、與電壓被模擬或模型化到足以完成其中一記憶格的隨機程式化。
一旦程式化周期結束，即執行PUF讀取-確認操作，以檢查兩記憶格中是否至少一個被程式化。現參考圖8的表，藉由將被選擇的兩字線都驅動到低於程式化電壓VPGM的讀取電壓Vread來執行單端讀取操作，且啟動與來自PUF寫入操作相同的行存取訊號。在字線啟動之前，位元線BL[0]與BL[1]經由被啟動的行存取訊號及被DATA打開的寫入驅動器314被預充電到VSS。因此，位 元線BL[0]與BL[1]現在被耦接到感測放大器310的“+”輸入。雖然圖7中未顯示，但在PUF讀取-確認操作期間，感測放大器310的“-”輸入接收參考電壓。此參考電壓可選擇足以偵測記憶格之反熔絲裝置之閘極氧化物中崩潰之第一徵兆的位準，如前文對冗餘PUF模式之描述。
由於記憶格1與2被耦接到DB[0]，兩者任一內中形成有導電連結的記憶格將提高DB[0]的電壓位準，其可被感測放大器310檢測到。成功檢測到此增加之電壓位準，係指示PUF程式化成功，並反映於感測放大器310的D_OUT訊號。如冗餘PUF模式中，PUF寫入操作與PUF讀取-確認操作被一直重複，直至檢測到成功的PUF程式化，或經過預定的迭代次數而未成功地PUF程式化，則該操作被視為是失敗。
可對連接於位元線對之任何預定數量的記憶格對執行PUF寫與PUF讀取-確認的循環，此位元線可選擇性地耦接到感測放大器的相同輸入，諸如感測放大器310。最終，所有的記憶格對將被確定為具有一個被成功程式化的記憶格，但不知記憶格對中的哪一個記憶格被程式化。再次，提供了按照本實施例之PUF值產生的隨機本質。為了得到由來自每一對記憶格之資料所組成的PUF字元，僅使用連接到兩位元線其中之一的記憶格來執行PUF讀取操作。如圖8之表中所示，在本例中，字線WL[0]被驅動到電壓位準Vread，且切換裝置318與324僅其中一個連同切換裝置326被啟動。因此，一些記憶格將被檢測為 被程式化，而其它記憶格將被檢測為未程式化，如同其為連接到未被存取之位元線之記憶格對的另一被程式化的記憶格。
一旦得到該PUF字元，可執行正常的資料程式化操作，以將此PUF字元程式到相同的記憶格或不同的記憶格組，如前文對冗餘PUF模式之描述。同樣地，如前所述，可得到PUF字元的互補，並程式化到方便每一個PUF資料位元與其互補之差動感測的位置。
以下討論差動PUF模式。在差動PUF模式中，連接到相同字線及連接到各自獨立之位元線的兩個記憶體格300同時接受程式化，此與正常PUF模式類似。在此的差異係每一個被選擇的位元線(和其對應之被選擇的記憶格)被耦接到它們自已的寫入驅動器314與316。
圖8的表顯示行存取訊號的邏輯狀態及被選擇之字線的電壓位準，其致使選擇編號1與5的記憶格接受程式化電壓，以及位元線BL[0]與BL[2]經由電晶體318、320、326、328、314、及316被耦接到VSS。假設DATA在高邏輯位準，用以打開寫入驅動器314與316。本領域的技術人士應瞭解，可使用不同狀態的行存取訊號來選擇2與6、4與8等記憶格對，經由寫入驅動器314耦接至VSS。在PUF寫入操作的一實施例中，被選擇的字線驅動器302被啟動，對被選擇之字線WL[0]施加程式化電壓一段特定的時間，此時間已根據製程、記憶格結構與電壓被模擬或模型化到足以完成其中一記憶格的隨機程式化。
一旦程式化周期結束，即執行PUF讀取-確認操作，以檢查兩記憶格中是否至少一個被程式化。在此，與先前所描述之僅需要單次循環來決定是否兩記憶格其中之一被程式化的PUF讀取-確認操作不同，本差動PUF模式之接受程式化之兩記憶格的每一記憶格需要各自獨立的讀取-確認循環。在字線的啟動之前，位元線BL[0]與BL[2]經由先前被啟動的行存取訊號及被DATA打開的寫入驅動器314與316預充電到VSS。
現參考圖8的表，藉由將所選擇的字線驅動到低於程式化電壓VPGM的讀取電壓Vread來執行第一次單端讀取操作，且僅啟動行存取訊號COL_A[0]與COL_B[0]。因此，位元線BL[0]被耦接到感測放大器310的“+”輸入。雖然圖7中未顯示，但在PUF讀取-確認操作期間，感測放大器310的“-”輸入接收參考電壓。此參考電壓可選擇到足以偵測記憶格之反熔絲裝置之閘極氧化物中崩潰的第一徵兆的位準，如前文對冗餘PUF模式之描述。此第一次讀取-確認循環的結果可儲存在暫存器中。位元線再次被預充電，並藉由將所選擇的字線驅動到低於程式化電壓VPGM的讀取電壓Vread來執行第二次單次結束的讀取操作，且僅啟動行存取訊號COL_A[0]與COL_B[2]。因此，位元線BL[2]被耦接到感測放大器310的“+”輸入，且此第二次的感測結果與第一次的感測結果相比較。簡單的XOR比較產生的邏輯1指示兩記憶格中僅一個被程式化。任何其它結果指示兩記憶格都程式失敗，或兩記憶格 都被程式化。
如在冗餘PUF模式中，PUF寫入操作與PUF讀取-確認被重複直至檢測到成功的PUF程式化，或在通過預定次數的迭代後沒有成功的PUF程式化且操作被視為失敗。在兩個記憶格都被程式化的情況中，操作被視為失敗。
可對連接於位元線對之任何預定數量的記憶格對執行PUF寫與PUF讀取-確認的循環，此位元線可選擇性地耦接到感測放大器的兩輸入，諸如感測放大器310。最終，所有的記憶格對將被確定為具有一個被成功程式化的記憶格。再次，提供了按照本實施例之PUF值產生的隨機本質。為了得到由來自每一個記憶格對之資料所組成的PUF字元，僅使用連接到兩位元線其中之一的記憶格來執行PUF讀取操作。如圖8之表中所示，在本例中，字線WL[0]被驅動到電壓位準Vread，且切換裝置326與330僅其中一個連同切換裝置318與320被啟動。因此，一些記憶格將被檢測為被程式化，而其它記憶格將被檢測為未程式化，如同其為連接到未被存取之位元線之記憶格對的另一被程式化的記憶格。
一旦得到該PUF字元，可執行正常的資料程式化操作，以將此PUF字元程式到相同的記憶格，或不同的記憶格組，如前文對冗餘PUF模式之描述。同樣地，如前所述，可得到PUF字元的互補，並程式化到方便每一個PUF資料位元與其互補之差動感測的位置。
如前文關於圖5A及6之實施例的討論，寫入驅動器電晶體可以是第一限流器，諸如P通道電晶體304，而寫入驅動器電晶體314可以是第二限流器，在此，其中一個或兩者都可被組構成在程式化時間窗口內，當第一個反熔絲記憶體格已程式化時，抑制第二個反熔絲記憶體格的程式化。此外，圖7中雖未顯示，在PUF程式化期間，VPGM電壓產生器或開關也可組構成限流器。
先前的討論提及圖7之記憶體陣列中記憶格的PUF程式化與正常程式化。須注意，PUF程式化與正常程式化的目的不同。在正常的資料程式化期間，程式化的時間被最佳化，且避免低度程式化記憶格(弱程式化記憶格)。例如，此可使用較長的程式化脈衝、較高的程式化電壓、及較高的程式化電流來達成。在正常的程式化讀取-確認操作期間，使用較高的參考電壓來識別低度程式化記憶格，以進一步將它們程式到強程式化記憶格。理想上，記憶格在包括單個程式化脈衝的單次程式化操作中被程式化。
另一方面，PUF程式化將參數最佳化到使並聯連接之記憶格對中僅一個被程式化的機率最大化。如前文的討論，此可藉由限制下拉及/或拉一條路徑，以選用性的電壓控制提供給上拉及下拉裝置來達成。例如，參考圖5A的實施例，VPGM可在PUF程式化期間提供減量的電流，且電晶體208的VSS連接可用受控制的電流源取代，其從記憶格吸取較少的電流。
圖9係綜述共用於冗餘PUF模式、正常PUF模式、 及差動PUF模式之PUF程式化處理的流程圖。假設PUF字元的長度已設定，且接受PUF程式化之記憶格的開始位置也已選擇。此方法從400開始，在此，使用先前所描述的冗餘、正常、或差動PUF模式中的任一種模式執行記憶格對的隨機程式化。此步驟包括程式化與讀取-確認用以構成PUF字元之位元位置的每一記憶格對。在402，系統決定是否所有的PUF資料位置都已程式化。若否，則在400選擇下一個記憶格對供程式化。反之，所有PUF資料位置已被決定為記憶格對中的一個記憶格已程式化，且在404讀出PUF資料字元。
按照本方法的選用性實施例，一些應用軟體需要PUF資料字元之隨機程式化的邏輯0與1資料間有某個百分比的偏位。例如，預定的偏位可以是50%，其中，一半的PUF資料位元為邏輯0，及另一半為邏輯1。機板上的邏輯可計算位元數並決定該偏位是否為50%，或是在預定的偏位特定範圍內。例如，資料位元的50%至60%可以是邏輯0。
在406處置決定PUF資料字元偏位，且如果不符合預定的偏位，或未在預定的偏位範圍內，則目前所選擇的PUF程式化處理的開始位置被視為失敗，並在408處置為PUF程式化處理選擇新的位置以便重新開始。於是，新的PUF程式化處理在400處開始。在408處可將整個裝置視為故障零件來取代選擇新的記憶格。另一方面，PUF資料字元偏位符合或在預定的偏位範圍內，則本方法前進到 410，用以將PUF資料硬程式化到目前的記憶格或記憶體陣列內不同位置的新記憶格內。此硬程式化使用記憶體裝置之正常資料程式化操作期間所使用的正常程式化電壓與電流，致使被程式化的記憶格具有的讀取電流大於來自經PUF程式化記憶格的最小讀取電流。
圖10的流程圖概述按照本實施例之PUF程式化的方法，可用做為圖9之步驟400的一部分。此方法於500處開始，將並聯的兩反熔絲記憶體格耦接至至少一個限流裝置。圖5A的實施例顯示此流程的例子，其中，反熔絲記憶體格100與102具有並聯連接於限流器104的閘極66，及並聯連接於限流器106的位元線接點76。同樣地，圖7的記憶體陣列電路概圖顯示兩個反熔絲記憶體格如何並聯連接到字線驅動器302與寫入驅動器314。接下來在502，同時對兩反熔絲記憶體格施加電壓，藉由在它們的閘極氧化物中形成導電連結而導電，以便程式化所述記憶格。在504，其中一個反熔絲記憶體格隨機地程式，並在它的閘極氧化物中形成導電連結。先前的圖5C顯示此流程的例子，在此，反熔絲記憶體格102內形成導電連結212。接下來在506，另一個反熔絲記憶體格被抑制被程式化。此可藉由其中一或兩個限流器來降低跨於未被程式化之反熔絲記憶體格上之電場的動作達成。
在測試模式中對5個陣列使用同時加應力於兩個並聯的記憶格來測試先前描述的方法。以漢明距離來評估所產生之PUF值的隨機性與特有性。結果顯示對於5個陣列 每一個的碼接近理想的隨機性與特有性。所產生的PUF值經證明，橫跨不同的溫度條件與讀取範圍，其穩定性超過50次的讀取循環。
圖7之實施例中所顯示之切換裝置的特定組構，僅是可用來提供前述3個PUF程式化模式之裝置、邏輯狀態、及定址訊號之可能組構與類型的一個例子。按照目前的實施例，容許執行所有3種操作模式的任何組構都可使用。
在先前描述的實施例中，PUF隨機資料程式化操作在預定的“最壞情況”時間結束，如對於圖5A、5B、及5C中所顯示之實施例的解釋。此最壞情況操作時間係根據最難程式之反熔絲記憶體格的模型化或實驗所選擇，且藉由記憶體裝置用來控制時序與訊號之應用的狀態機(未顯示)或其它控制邏輯(未顯示)來實施。這類記憶格需要較長的時間周期來形成弱導電連結。
上述隨機PUF程式化實施例係使用圖2的單電晶體反熔絲記憶體格來顯示。上述隨機PUF程式化實施例可適用於任何具有反熔絲裝置的記憶體格，與構成記憶格之電晶體的數量無關。例如，可使用圖1之兩個電晶體的反熔絲記憶體格來取代單電晶體反熔絲記憶體格具有同樣的效果。圖11係與圖5A類似之PUF資料程式化系統的概圖，唯以2個電晶體的反熔絲記憶體格600與602來取代反熔絲記憶體格100與102。出現於前圖中之相同的參考編號指示已在前圖中描述過的相同元件。現在描述那些圖 11與圖5A不同的元件。由電晶體204與206所組成的驅動器電路現在的功能為記憶格屏極(CP)驅動器，用於回應記憶格屏極選擇訊號SEL_CP而將程式化電壓VPGM施加於記憶格600與602的閘極44。在本例中，獨立的字線驅動器電路604回應字線選擇訊號SEL_WL驅動連接於記憶格600與602之閘極32的字線。隨機PUF程式化操作除了與先前描述的圖5A實施例完全相同之外，另在程式化操作期間驅動被選擇之字線將位元線接點42電耦接到閘極44下方之通道的附加步驟。此字線電壓應高到足以允許所有電流從閘極44與下方通道間的導電連結通到位元線接點40。
在圖11所顯示的例示實施例中，一個字線驅動器與一個記憶格屏極驅動器連接到一對反熔絲記憶體格。在替代的組構中，可有兩個字線驅動器與兩個記憶格屏極驅動器同時被啟動，以與圖6之實施例中所示相同的方式來程式一對雙電晶體反熔絲記憶體格的其中一個記憶格。在這樣的實施例中，記憶體格600與602應直接連接到相同的位元線，如圖6的實施例所示。
本文所提出的方法對於各種的參數及重大的製程變異都穩定，因為崩潰與未崩潰氧化物之間的導通有很大的差異(例如，至少3個數量級)。
本實施例提供了優於其它已知技術之高度的真正隨機性。本實施例提供了優於其它已知技術之長時間與多次讀取循環之高可靠度及PUF值的高重現性。
基於上述實施例的OTP記憶體裝置係使用晶圓代工廠所提供的180BCD(180奈米雙極-CMOS-DMOS)製程所製造，例如，諸如TSMC。圖12、13、及14顯示PUF程式化的參數例與結果。PUF程式化使用上述之使用單限流器耦接至位元線的冗餘PUF模式來執行。圖12顯示用於正常之OTP資料程式化與PUF程式化之參數例的表。圖13及14的曲線圖分別顯示關於所製造之OTP記憶體裝置的OTP PUF可程式性測試結果及OTP PUF錯誤測試結果。
圖12的表顯示正常資料程式化與PUF程式化期間施加於反熔絲裝置之閘極的程式化電壓，脈衝長度、脈衝數量、第一個脈衝可程式化的位元數量、施加於反熔絲裝置之閘極的讀取確認電壓與讀取確認脈衝長度。在正常資料程式化期間，所選擇的參數使得在第一個程式化脈衝之後記憶格被程式化的機率最大化。如先前關於PUF程式化的討論，一些應用軟體需要橫跨組成PUF資料字元的整組位元中有50%的邏輯0與邏輯1。此可藉由在每一對記憶體格中恰好有一個位元被程式化來達成。在本實施例中，如圖12中所示，此係藉由相對於正常資料程式化降低程式化電壓與程式脈衝長度，但重複地施加較短的程式化脈衝來完成(中介以讀取確認循環來檢查一個記憶體格的程式化成功)。在本例中，5μs的最小脈衝長度將最終導致99.9%的記憶格對具有單一個被程式化的位元。典型上，PUF程式化脈衝的長度，比用於正常資料程式化的短 10至100倍。
圖13的OTP PUF可程式性測試結果曲線圖顯示在經過脈衝長度為5μs、20μs、50μs、及150μs之每一種脈衝一段累積的曝露時間之後，未被程式化之位置(在本例中，每個位置有兩個記憶格)的百分比。曲線圖顯示，藉由使用很多5μs的短脈衝可導致99.9%對的記憶格具有單一個被程式化的位元。視最終的應用而定，如果不需要50%的邏輯0與1，則以使用20μs及50μs的脈衝長度可提供令人滿意的結果
圖14的OTP PUF錯誤測試結果曲線圖顯示PUF程式化中的錯誤量與程式化脈衝長度的對照關係。在此曲線圖中，錯誤的定義係每個記憶格對之兩個位元都被程式化的百分比。從圖14的結果中很清楚顯示，5μs的脈衝導致的錯誤<0.1%。以另一種說法，使用5μs的脈衝導致99.9%的位元記憶格對僅一個記憶格被程式化。使用持續時間在50μs至150μs之間的脈衝導致0.5%至2.1%的錯誤，意指示多達2%的記憶格對具有兩個程式化的記憶格。
現回到圖12的表，以下是用於正常資料程式化與PUF程式化之讀取確認電壓與脈衝長度的簡要討論。在正常資料程式化期間，使用最小的讀取電壓與最大的參考電壓位準(或最小的脈衝寬度)來完成讀取確認，以確認被程式化的記憶格具有足夠的裕度。另一方面，PUF程式化讀取確認意欲檢測反熔絲裝置中氧化物崩潰的早期徵兆。在 本實施例中，例如，此藉由提高讀取確認電壓到最大位準並使用最小參考電壓位準(或最大脈衝寬度)來完成。
熟悉此領域之技藝者將可瞭解，來自不同晶圓代工廠使用不同製程所製造出的反熔絲記憶體格會導致使用與圖12之表中所示那些不同的程式化電壓、讀取確認電壓、及可能結合不同的脈衝長度來獲致類似的結果。
目前描述的實施例不需要用於第二個反熔絲的讀取操作、應力自我終止。目前描述的實施例提供了被產生的PUF值經過多次讀取循環與讀取條件的高度穩定性與可靠度，及漢明距離隨時間推移的最小退化。已知習知技術之漢明距離的水準具報告隨時間推移有2-3%的退化。可觀察到PUF值之高的隨機性與特有性(接近理想的漢明距離)。
先前描述的實施例使用反熔絲裝置來產生PUF，但實施例並非必然限制為反熔絲裝置。也可使用其它的記憶體儲存裝置，諸如熔絲。任何記憶體裝置，為成功地將其程式，需要其曝露於電壓與電流一段時間，且由於程式化而在電耦接至記憶格之字線與位元線之間的記憶格中形成導電路徑，都適合本實施例所用。雖然字線與位元線係記憶體上下文特定的名詞，但具有與字線及位元線類似功能的其它半導體結構都可使用。可開發不同的限流電路來決定記憶格對的第一個記憶格何時被成功地程式化。這樣的電路可根據所使用的記憶格類型及當記憶格被程式化對未被程式化時之記憶格行為的知識來開發。
在以上的描述中，基於解釋之目的，說明了諸多的細節，以便提供對各實施例之徹底的瞭解。不過，熟悉此領域之習知技藝者將可瞭解，這些特定的細節並非必要。在其它的例中，為了避免模糊了瞭解的焦點，習知的電氣結構與電路以方塊圖的形式來顯示。例如，關於無論是本文所描述的實施例是以軟體常式、硬體電路、韌體、或以上這些的組合來實施，都未提供特定的細節。
所揭示的實施例可表示為儲存在機器可讀取媒體(也稱為電腦可讀取媒體、處理器可讀取媒體、或其內具有具體化為電腦可讀取程式碼的電腦可使用媒體)內的電腦程式產品。機器可讀取媒體可以是任何適合的實體非暫時性媒體，包括磁性、光學、或電氣儲存媒體，包括磁碟片、唯讀光碟記憶體(CD-ROM)、記憶體裝置(揮發性或非揮發性)、或類似的儲存機制。機器可讀取媒體可包含各種的指令集、碼序列、組構資訊、或其它資料，當這些被執行時，致使處理器實施按照所揭示之實施例之方法中的步驟。熟悉一般技術領域之習知技藝者可明瞭，實施所描述之各項實施所需的其它指令與操作也儲存在機器可讀取媒體上。儲存在機器可讀取媒體上的指令可被處理器或其它適合的處理器裝置執行，且可與實施所描述之工作的電路介接。
以上所描述的實施例僅意欲為舉例。熟悉此領域之習知技藝者可藉由替代、修改、及衍生來實施特定的實施例。申請專利範圍的範圍不應受本文所說明之特定實施例 的限制，而應解釋為在某種程度上與說明書一致為一整體。
100‧‧‧反熔絲記憶體格
102‧‧‧反熔絲記憶體格
104‧‧‧第一限流器
106‧‧‧第二限流器

Claims (20)

  1. 一種物理不可複製函數(Physical Unclonable Function；PUF)值產生系統，包含：一對介電崩潰式反熔絲記憶體格，其每一個具有彼此電耦接的第一終端，用以接收第一電壓，及彼此電耦接的第二終端，用以接收第二電壓，以使該兩個反熔絲記憶體格能夠同時程式化；以及限流電路，被組構成所述第二終端在程式化操作期間被耦接至該第二電壓的同時，將該第一電壓耦接至所述第一終端，以抑制該對反熔絲記憶體格之第二反熔絲記憶體格的程式化，該限流電路被組構成在該程式化期間，當該對反熔絲記憶體格的第一反熔絲記憶體格形成導電連結時，提供在該第一電壓與該第一終端間的電壓差，以將電流從該限流電路導通到所述第二終端。
  2. 如申請專利範圍第1項之PUF值產生系統，其中，所述第一終端係該等反熔絲記憶體格的閘極終端，且所述第二終端係該等反熔絲記憶體格彼此電耦接的擴散接點。
  3. 如申請專利範圍第2項之PUF值產生系統，其中，該第一電壓係程式化電壓及該第二電壓係VSS。
  4. 如申請專利範圍第3項之PUF值產生系統，其中，該限流電路包括字線驅動器電路的電晶體，其將該程式化電壓耦接至該閘極終端，且該電壓差係該閘極終端相對於該程式化電壓的電壓降。
  5. 如申請專利範圍第4項之PUF值產生系統，其中，該限流電路另包括電壓產生器，用於提供該程式化電壓。
  6. 如申請專利範圍第3項之PUF值產生系統，其中，該限流電路包括電壓產生器，用於提供該程式化電壓給該閘極終端。
  7. 如申請專利範圍第3項之PUF值產生系統，其中，該限流電路包括寫入驅動器電路的電晶體，其將VSS耦接至該擴散接點，且該電壓差係該擴散接點相對於VSS的電壓降。
  8. 如申請專利範圍第3項之PUF值產生系統，其中，該閘極終端係被並聯連接到由字線驅動器所驅動的字線，且該擴散接點係被連接到各自的位元線。
  9. 如申請專利範圍第8項之PUF值產生系統，其中，行存取電路被組構成選擇性地將該等位元線彼此耦接，並耦接至該限流電路。
  10. 如申請專利範圍第8項之PUF值產生系統，其中，該限流電路包括該字線驅動器電路。
  11. 如申請專利範圍第3項之PUF值產生系統，其中，該第一反熔絲記憶體格與該第二反熔絲記憶體格之該閘極終端係連接到在相同時間被啟動之不同的字線驅動器電路，且該擴散接點係連接到共同的位元線。
  12. 如申請專利範圍第11項之PUF值產生系統，其中，行存取電路被組構成將該共同位元線選擇性地耦接至 該限流電路。
  13. 一種物理不可複製函數(PUF)值產生的方法，包含：施加第一電壓於彼此電耦接之一對反熔絲記憶體格的第一終端；施加第二電壓於彼此電耦接之該對反熔絲記憶體格的第二終端，該第一電壓與該第二電壓對於程式化反熔絲記憶體格為有效的；回應該第一電壓與該第二電壓，在該對反熔絲記憶體格的第一反熔絲記憶體格中形成導電連結，以將電流從所述第一終端導通到所述第二終端；以及，回應該電流從所述第一終端導通到所述第二終端，改變所述第一終端的電壓位準，其有效的抑制程式化該對反熔絲記憶體格的第二反熔絲記憶體格。
  14. 如申請專利範圍第13項之方法，其中，改變該電壓位準包括在該第一電壓與該第一終端之間的限制電流。
  15. 如申請專利範圍第14項之方法，其中，限制電流包括提供該第一終端相對於該第一電壓的電壓降。
  16. 如申請專利範圍第15項之方法，其中，施加該第一電壓包括以字線驅動器以該第一電壓驅動連接到該第一終端的字線，且該字線驅動器的電晶體提供該字線相對於該第一電壓的該電壓降。
  17. 如申請專利範圍第16項之方法，其中，施加該 第二電壓包括將連接於該第二終端的位元線選擇性地耦接至該第二電壓。
  18. 如申請專利範圍第14項之方法，其中，限制電流包括提供該第二電壓相對於該第二終端的電壓降。
  19. 如申請專利範圍第18項之方法，其中，施加該第一電壓包括以寫入驅動器以該第一電壓驅動連接到該第一終端的位元線，且該寫入驅動器的電晶體提供該第一電壓相對於該位元線的該電壓降。
  20. 一種物理不可複製函數(PUF)程式化的方法，包含：對預定數量之反熔絲記憶體格對執行程式化操作，直至每一對反熔絲記憶體格的一個反熔絲記憶體格被檢測到具有至少最小的讀取電流；使用為檢測該最小電流所選擇的參考電壓來讀取該預定數量之每一對反熔絲記憶體格的一個反熔絲記憶體格，以得到PUF資料字元；以及再程式化該PUF資料字元，以得到具有讀取電流大於該最小讀取電流之經程式化的反熔絲記憶體格。
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