TW201439086A - 樹脂組成物、三唑化合物、光學薄膜、偏光板、光學透鏡、圓偏光板、及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Takatugu Suzuki
Kiyoshi Fukusaka
Rie Fujisawa
Hiroshi Kita
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Abstract

本發明之解決方法為，提供可形成一種可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的薄膜之樹脂組成物，及其所含有之三唑化合物。又，使用該樹脂組成物所得之可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的光學薄膜及光學透鏡，此外，又提供使用該光學薄膜所得之具有優良耐濕性之偏光板、圓偏光板及圖像顯示裝置。本發明之樹脂組成物為，至少含有樹脂與具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之樹脂組成物，其特徵為，前述樹脂為水吸附性樹脂，且前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，至少具有三個具有特定NICS值之特定的芳香族環，且，該特定之芳香族環為，相互為單鍵或介有2個以下的原子鍵結所得之化合物。

Description

樹脂組成物、三唑化合物、光學薄膜、偏光板、光學透鏡、圓偏光板、及圖像顯示裝置
本發明為有關，樹脂組成物及其所含有之三唑化合物、使用該樹脂組成物所製作的光學薄膜、光學透鏡、偏光板、圓偏光板及圖像顯示裝置。更詳細而言，為有關一種可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的樹脂組成物及其所含有之三唑化合物、使用該樹脂組成物所得之可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的光學薄膜、光學透鏡、使用該光學薄膜所得之具有優良耐濕性之偏光板、圓偏光板及圖像顯示裝置。
丙烯酸樹脂、聚酯、聚碳酸酯、纖維素衍生物、聚乙烯基醇、聚醯亞胺等樹脂，因具有高度透明性、比無機玻璃為更輕、容易成形等性質，故廣泛地被使用於光碟、液晶顯示裝置或有機電致發光顯示裝置(以下，亦稱為「有機EL顯示裝置」)用之光學薄膜、光學透鏡、光纖維等，而被廣泛地使用於資訊之記錄、顯示、傳送等光技術‧資訊機器領域。
該些樹脂中，因存在供應氫鍵結性之部位(例如，羥基之氫原子或醯胺基之NH氫原子等)，或接受氫鍵結性之部位(例如，酯基之羰基氧原子或芳香族雜環所含有之氮原子等)，故具有使水與氫鍵結而吸附水之性質(以下，亦稱為「水吸附性樹脂」)。因此，於其於因應存放或外部濕度環境之變化等，而吸收水份，因而會造成尺寸變化，或剛性、強度等機械特性、電阻率等電氣特性、折射率等光學特性等各種特性產生變化之問題。
樹脂吸收水所生成之問題之一為相位差產生變動。相位差薄膜為配合擴大液晶顯示裝置之可視角之目的，或有機EL顯示裝置之抗外界光反射之目的下所使用者，但因薄膜之相位差，與分子配向方向及與其垂直方向之折射率的差(雙折射)具有相關性，故造成水對樹脂之吸附量極為敏感。
構成相位差薄膜之水吸附性樹脂，一般為使用丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、纖維素衍生物等，但高水吸附性之(含水率較大)纖維素衍生物，則會產生因應存放或外部之濕度環境的變化而造成相位差變化特大之問題。
近年來，配合液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置用途之擴大，而擴大至電視等需具有大尺寸且高品質之用途，對於相位差薄膜則要求應具有更高階段之品質。又，大尺寸且高品質用途之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置，常被要求使用於較以往為更嚴苛之環境下使用。因此，該些顯示裝置所使用之相位差薄膜，則期待其可降低 與環境濕度相關之光學性能的變化。
對於此問題，目前已有研究於光學薄膜中含有特定添加劑，以降低與環境濕度相關之光學性能之變動的方法。
專利文獻1中，為揭示一種使用含有聚酯與多元醇酯或芳香族末端酯的纖維素酯薄膜之方法。
專利文獻2中，則揭示一種使用含有分子量除以氫鍵結提供(donor)數與氫鍵結接受(acceptor)數之合計數所得之值，限定於特定範圍之化合物的纖維素酯薄膜之方法。
專利文獻3中，則揭示一種使用含有含水率差為2%以上的高吸濕性化合物之纖維素酯薄膜之方法。
本發明者們對於上述專利文獻1~3記載之方法，於依較以往更為嚴苛之條件下進行評估結果，得知專利文獻1、2及3所記載之方法中，雖具有一定之效果，但對於可否供近年來高品質用途之顯示裝置使用部分，仍然有改良不足之處，而有必須再進行改善之必要。
即，本發明者們，經由研究結果發現，例如對於目前要求之於搬運中，對於薄膜直接暴露於露水等之更嚴苛之條件下其性能也不會有變動之需求，專利文獻1、2及3所記載之以往之技術中，如上述般，直接暴露於水之更嚴苛之條件下，其改善效果亦為極小等。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開2006-342227號公報
[專利文獻2]特開2011-94114號公報
[專利文獻3]特開2012-215817號公報
本發明為鑑於上述問題、狀況所提出者，而提供一種解決問題之可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的樹脂組成物及其所含有之三唑化合物。又，提供一種使用該樹脂組成物所得之可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的光學薄膜及光學透鏡。此外，亦提供一種使用該光學薄膜所得之具有優良耐濕性之偏光板、圓偏光板及圖像顯示裝置為目的。
本發明者們，就水吸附性樹脂與添加劑之相互作用形式著手進行研究，發現氫鍵結性或雙極子(dipole)相互作用性較低之疏水性芳香族化合物，可極為充分地與水吸附性樹脂相溶，此點推測應為水吸附性樹脂之CH部份，與芳香族化合物的π電子之間的CH/π相互作用產生作用所得者。若能積極地活用該CH/π相互作用時，則相較於水分子與樹脂之相互作用，添加劑與樹脂 之相互作用方面將更為強大，其結果可防止水侵入水吸附性樹脂與添加劑之間，而可抑制光學特性之變動。因此，本發明者們著手研究增強此CH/π相互作用之手段。本發明者們發現為使CH/π鍵結特別強大起見，推測以至少具有3個具有特定NICS值之特定之芳香族環，且，該芳香族環鄰近鍵結所得之芳香族化合物為佳。基於該些研究，而對各種化合物進行研究結果，得知上述之化合物對於與環境濕度相關之光學值的變動，特別是顯示出極高之抑制效果，因而完成本發明。
因而，基於該些之技術，本發明首先製得一種即使直接暴露於水之嚴苛條件下，亦可使阻滯(retardation)變動受到抑制之薄膜。
即，本發明之上述問題，為基於以下之手段而解決者。
1.一種樹脂組成物，至少含有樹脂與具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之樹脂組成物，其特徵為，前述樹脂為水吸附性樹脂，且前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，至少具有3個NICS值較苯環為更小或相等之5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環中之任一個，其中至少一個的NICS值為較苯環為更小，且，前述5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環為，相互為單鍵或介有2個以下的原子鍵結所得之化合物。
2.如請求項1記載之樹脂組成物，其中，使用 前述樹脂組成物所製得之光學薄膜的阻滯值(Ro值或Rt值)之變動抑制率，於下述測定條件下，為20~100%之範圍內。
測定條件：
(a)依與樣品薄膜為相同之方法，製作與前述所製得之光學薄膜(樣品薄膜)具有相同膜厚，且不含前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之光學薄膜(基準薄膜)為相同之方式製作樣品薄膜，
(b)將前述樣品薄膜與基準薄膜浸漬於溫度23℃之純水中24小時。
(c)對前述樣品薄膜與基準薄膜，於浸漬水之前與後，測定其於溫度23℃、相對濕度55%中之光波長590nm下的阻滯值Ro值及Rt值，並對於各別之光學薄膜求取其於浸漬水之前後的阻滯值差的絶對值△Ro及△Rt。
(d)依下式內容，求取阻滯值(Ro值及Rt值)之變動抑制率。
Ro變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Ro)-(樣品薄膜之△Ro))÷(基準薄膜之△Ro)×100
Rt變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Rt)-(樣品薄膜之△Rt))÷(基準薄膜之△Rt)×100
3.如請求項1記載之樹脂組成物，其中，前述水吸附性樹脂的23℃下之吸水率為0.5~10質量%之範圍內。
4.如請求項1記載之樹脂組成物，其中，前述 水吸附性樹脂為纖維素衍生物。
5.如請求項1記載之樹脂組成物，其中，前述水吸附性樹脂為纖維素酯。
6.如請求項1記載之樹脂組成物，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為NICS值較苯環為更小之芳香族環，其為具有吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環。
7.如請求項1記載之樹脂組成物，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，下述通式(1)所表示之結構的化合物。
(式中，A1及A2各自獨立表示烷基、環烷基、芳香族烴環或芳香族雜環；B表示芳香族烴環或芳香族雜環；T1及T2各自獨立表示吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環；L1、L2、L3及L4各自獨立表示單鍵或2價之鍵結基；n表示0~5之整數)。
8.如請求項7記載之樹脂組成物，其中，前述L1、L2、L3及L4各自獨立表示單鍵。
9.如請求項7記載之樹脂組成物，其中，前述T1及T2各自獨立表示吡唑環。
10.如請求項1~9項中任一項記載之樹脂組成 物，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，下述通式(2)所表示之結構的化合物。
(式中，A1、A2、T1、T2、L1、L2、L3及L4，分別與前述通式(1)中之A1、A2、T1、T2、L1、L2、L3及L4具有相同意義。A3及T3各別表示與通式(1)中之A1及T1為相同之內容之基。L5及L6，表示與前述通式(1)中之L1為相同內容之基。m表示0~4之整數)。
11.如請求項7記載之樹脂組成物，其中，具有前述通式(1)所表示之結構的化合物，為具有下述通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物。
(式中，A1、B、L1及L2，表示與上述通式(1)中之A1、B，L1及L2為相同內容之基。k表示1~4之整數。T1表示1,2,4-三唑環)。
12.如請求項11記載之樹脂組成物，其中，具有前述 通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物，為具有下述通式(1.2)所表示之結構的三唑化合物。
(式中，Z表示下述通式(1.2a)之結構；q表示2~3之整數；至少2個的Z相對於被苯環所取代之至少1個的Z為鄰位或間位之鍵結)。
(式中，R10表示氫原子、烷基或烷氧基；p表示1~5之整數；＊表示與苯環之鍵結位置；T1表示1,2,4-三唑環)。
13.一種光學薄膜，其特徵為，使用請求項1~12中任一項之樹脂組成物所製得者。
14.如請求項13之光學薄膜，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之添加量，相對於前述樹脂為1~15質量%之範圍內。
15.如請求項13之光學薄膜，其中，於23℃、55% RH之環境下、光波長590nm中，下述式(I)所表示之面內方向的阻滯值Ro為，40~100nm之範圍內，下述式(II)所表示之厚度方向的阻滯值Rt為，100~ 300nm之範圍內。
式(I)Ro=(nx-ny)×d
式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(式中，nx表示光學薄膜之面內方向中，形成最大折射率之方向x中的折射率，ny表示，光學薄膜之面內方向中，與前述方向x垂直方向y中的折射率，nz表示，光學薄膜之厚度方向z中的折射率，d表示，光學薄膜之厚度(nm))。
16.如請求項13之光學薄膜，其中，23℃、55% RH之環境下，光波長450nm、550nm及650nm中之面內方向的相位差值Ro，分別設為Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)時，該Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)為滿足下述式(a1)~(a3)者。
(a1)110≦Ro(550)≦170
(a2)0.72≦Ro(450)/Ro(550)≦0.96
(a3)0.83≦Ro(550)/Ro(650)≦0.97。
17.一種偏光板，其特徵為，於偏光子之至少一側之面上，具備請求項13之光學薄膜者。
18.一種圓偏光板，其特徵為，於偏光子之至少一側之面上，具備請求項13之光學薄膜者。
19.一種圖像顯示裝置，其特徵為，具備請求項15之光學薄膜者。
20.一種圖像顯示裝置，其特徵為，前述圖像顯示裝置為，於液晶晶元之至少一側之面上，具備請求項 17之偏光板的液晶顯示裝置。
21.如請求項20之圖像顯示裝置，其中，前述液晶晶元為VA型液晶晶元。
22.一種圖像顯示裝置，其特徵為，前述圖像顯示裝置為，有機電致發光元件具備有請求項18之圓偏光板的有機電致發光顯示裝置。
23.一種光學透鏡，其為使用請求項1~12中任一項之樹脂組成物所製作者。
24.一種三唑化合物，其特徵為，具有下述通式(1.2)所表示之結構，
(式中，Z表示下述通式(1.2a)之結構；q表示2~3之整數；至少2個的Z相對於被苯環所取代之至少1個的Z為鄰位或間位之鍵結)。
(上述通式(1.2a)中，R10表示氫原子、烷基或烷氧基；p表示1~5之整數；＊表示與苯環之鍵結位置)。
本發明之上述手段，可提供一種可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的樹脂組成物及其所含有之三唑化合物。又，提供一種使用該樹脂組成物所得之可使環境濕度相關之光學值之變動受到抑制的光學薄膜及光學透鏡。此外，更提供一種使用該光學薄膜所得之具有優良耐濕性之偏光板、圓偏光板及圖像顯示裝置。
產生本發明效果之機制與作用機制，推測應為以下之理由。
本發明為有關，於與水分子具有高度親和性之吸附性樹脂中，使有機化合物作為添加劑共存之技術，其為經由以往沒有被想到可與樹脂進行主要之相互作用的水吸附性樹脂中所存在的CH部份，與添加劑之π電子時，會以特別之相互作用產生所謂的「CH/π相互作用」，於將複數個合併使用時，可於存放或處理中，強力地抑制侵入之水分子所產生之光學特性的變動。
101A‧‧‧偏光板
102‧‧‧保護薄膜
103A、103B‧‧‧活性能量線硬化性黏著劑
104‧‧‧偏光子
105‧‧‧相位差薄膜
106‧‧‧保護薄膜
107‧‧‧液晶晶元
108‧‧‧液晶顯示裝置
BL‧‧‧背光
10‧‧‧有機EL顯示裝置
12‧‧‧光反射電極
14‧‧‧發光層
16‧‧‧透明電極層
18‧‧‧透明基板
20‧‧‧圓偏光板
20A‧‧‧λ/4相位差薄膜
20B‧‧‧偏光子(直線偏光膜)
a1、b1、b3、b4‧‧‧直線偏光
c1、c2、c3、c4‧‧‧圓偏光板
30‧‧‧液晶顯示裝置
40‧‧‧液晶晶元
50、60‧‧‧偏光板
52、62‧‧‧偏光子
54、56、64、66‧‧‧保護薄膜
70‧‧‧背光
V‧‧‧可視側
[圖1]液晶顯示裝置之構成例示之模式圖。
[圖2]有機EL顯示裝置之構成例示之模式圖。
[圖3]圓偏光板之抗反射機能之說明模式圖。
[圖4]液晶顯示裝置之構成例示之模式圖。
[圖5A]顯示CH/π鍵結之一例示的比較混合液1之 1H-NMR圖譜。
[圖5B]顯示CH/π鍵結之一例示的比較混合液2之1H-NMR圖譜。
[圖5C]顯示CH/π鍵結之一例示的比較混合液3之1H-NMR圖譜。
[圖5D]顯示CH/π鍵結之一示的混合液4之1H-NMR圖譜。
[發明之實施形態]
本發明之樹脂組成物為，至少含有樹脂與具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之樹脂組成物，其特徵為，前述樹脂為水吸附性樹脂，且前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，至少具有3個NICS值較苯環為更小或相等之5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環中之任一個，其中至少一個的NICS值為較苯環為更小，且，前述5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環為，相互為單鍵或介有2個以下的原子鍵結所得之化合物。該特徵為，於請求項1~請求項24中之任一請求項發明所共通或對應之技術特徵。
此外，本發明中，使用前述樹脂組成物所製得之光學薄膜的阻滯值(Ro值或Rt值)之變動抑制率，於前述測定條件下，以20~100%之範圍內為佳。又，以前述水吸附性樹脂的23℃下之吸水率為0.5~10質量%之 範圍內為較佳，又，水吸附性樹脂為纖維素衍生物或纖維素酯時，就產生本發明效果之觀點而為更佳。
前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為NICS值較苯環為更小之芳香族環，其以具有吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環為佳。此外，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物，以前述通式(1)所表示之結構的化合物為佳。又，通式(1)中，L1、L2、L3及L4各自獨立表示單鍵為佳。又，前述T1及T2以各自獨立表示吡唑環為佳。
又，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物，以前述通式(2)所表示之結構的化合物為佳。
又，具有前述通式(1)所表示之結構的化合物，以具有前述通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物為佳，又以具有通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物、前述具有通式(1.2)所表示之結構的三唑化合物為佳。
光學薄膜以使用前述樹脂組成物所製得者為佳。該光學薄膜，於23℃、55% RH之環境下，對於光波長590nm之光線，以前述式(I)所表示之面內方向的阻滯值Ro為40~100nm之範圍內，下述式(II)所表示之厚度方向的阻滯值Rt為100~300nm之範圍內為佳。又以於23℃、55% RH之環境下，光波長450nm、550nm及 650nm中之面內方向的相位差值Ro分別設為Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)時，該Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)為滿足前述式(a1)~(a3)者為佳。
偏光子的至少一側之面上具有上述光學薄膜的偏光板或圓偏光板，更適合圖像顯示裝置所具有。又以液晶晶元的至少一側之面上具備前述偏光板之液晶顯示裝置為佳。此外，該前述液晶晶元以VA型液晶晶元為佳。前述圖像顯示裝置，有機EL元件上具備前述圓偏光板的有機EL顯示裝置為佳。
又，光學透鏡以使用前述樹脂組成物製作者為佳。
以下，將詳細說明本發明及其構成要件，及本發明之實施形態‧態樣。又，本說明書中，「~」係將包含其前後所記載之數值作為下限值及上限值之意義予以使用。
本發明之樹脂組成物為，至少含有樹脂與具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之樹脂組成物，其特徵為，前述樹脂為水吸附性樹脂，且前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，至少具有3個NICS值較苯環為更小或相等之5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環中之任一個，其中至少一個的NICS值為較苯環為更小，且，前述5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環為，相互為單鍵或介有2個以下的原子鍵結所得之 化合物。
以下將由與本發明之技術思想直接關連之CH/π鍵結開始進行說明。
《CH/π鍵結》
本發明者們，就水吸附性樹脂與添加劑之相互作用形式開始進行研究，發現氫鍵結性或雙極子(dipole)相互作用性較低的疏水性芳香族化合物，意外地可充分與水吸附性樹脂相溶，使存在於水吸附性樹脂的主鏈或側鏈之CH部份，與添加劑之芳香族化合物的π電子之間，產生所謂的「CH/π相互作用」之機能。CH/π相互作用為具有更大倫敦分散力的非極性相互作用，而於水等高介電率的極性溶劑中，亦可有效地作用，故若積極地活用此CH/π相互作用時，會使添加劑與樹脂之相互作用相較於水分子與樹脂之相互作用為更強大，其結果，可防止水侵入水吸附性樹脂與添加劑之間，而可使前述問題之光學特性的變動受到抑制。基於此種考量，經過對各種化合物之研究結果，發現特定的化合物顯示出極高之抑制效果，因而完成本發明。
即，本發明為，一種於水分子具有高度親和性之吸附性樹脂中，以有機化合物作為添加劑與其共存之技術的發明，其為與以往為不同之技術思想，特別是合併多數個相互作用之方式，而在無關水分子之存在下，即可發揮特定之相互作用力的添加劑為特徵之發明，本發明技 術之本質為，成功地推定經由以往沒有被想到可與樹脂進行主要之相互作用的性樹脂中所存在的CH部份，與添加劑之π電子時，會以特別之相互作用產生CH/π相互作用，於將複數個合併使用時，可於存放或處理中，強力地抑制侵入之水分子所產生之光學特性的變動。
水吸附性樹脂與添加劑共存之樹脂組成物使用於光學薄膜或光學透鏡等光學用途之情形，因多要求具有高透明性，故必須使樹脂與添加劑為相溶狀態。於以往之技術中，一般為使用水吸附性樹脂中，必定存在供應氫鍵結性之部位(例如羥基之氫原子或醯胺基之NH氫原子等)等，而介由接受氫鍵結性之部位(例如酯基之羰基氧原子或芳香族雜環所含有之氮原子等)，與添加劑之間形成氫鍵結之方式，使添加劑與水吸附性樹脂相溶的光學薄膜。
又，即使不使用氫鍵結之情形，已知於水吸附性樹脂中，也必須存在有局部化之稱為極性基之電子部位，局部或樹脂全體中，於具有較大雙極矩(dipole moment)的同時，添加劑中亦會具有相應之雙極矩，即產生所謂之「雙極子-雙極子相互作用」，而經由將其活用作為主要之安定化手段時，即可使水吸附性樹脂與添加劑相溶。
另一方面，聚乙烯或環烯烴系聚合物所代表之本質上不吸附水的樹脂中，因極不易與該些氫鍵結性之添加劑相溶，而使用設計上完全不同之以疏水性-疏水性 相互作用進行相溶之添加劑。但是，樹脂中所含有之添加劑過多時，因添加劑本身具有塑化之機能或吸收紫外線之機能、抗氧化機能、光學特性控制機能等特殊之機能，故並非必定為保有供應氫鍵結性之部份或接受氫鍵結性之部份的分子(換言之，並非全部為由碳與氫所形成之化合物)，故容易於水吸附性樹脂中與添加劑相溶，而具有可選擇大範圍之化合物的優點。
但，水吸附性樹脂中，作為如前述般與添加劑相溶的分子間力，為以使用氫鍵結或雙極子-雙極子之相互作用為前提。
使用氫鍵結作為相溶之分子間力的情形中，水分子為具有作為供應氫鍵結性之部份的氫原子，與作為接受氫鍵結性之部份的氧原子二者，且其分子尺寸較小。又，水分子於存放或處理中侵入之情形中，就分子數而言，其與水吸附性樹脂或添加劑相比較時，會有十倍數以上之差異而大量存在，故於水吸附性樹脂之氫鍵結性部位中，會有大量比例之水分子形成氫鍵結之狀態。因此，樹脂本身之氫鍵結性衰退時的同時，因添加劑中的水亦為氫鍵結，故添加劑中之氫鍵結性亦呈衰弱，結果，使得水吸附性樹脂與添加劑之相互作用的機能消失殆盡。即，因水分子容易介入水吸附性樹脂與添加劑之間，故極不容易抑制光學特性之變動。
相溶之分子間力為使用雙極子-雙極子相互作用之情形亦為相同之理由，其結果為，經由水分子之吸附 (氫鍵結)所造成之電子的局部化比例降低，會造成雙極矩(dipole moment)降低，且添加劑之雙極矩亦基於相同理由而降低，故會損害水吸附性樹脂與添加劑之相互作用。
本發明為基於上述之假設，而對於水吸附性樹脂，使其具有無論有無存在水分子之狀態，其本質上相互作用力不會產生變化的具有特別的相互作用之添加劑時，可防止水浸入水吸附性樹脂與添加劑之間，而可克服前述之問題點。
其次，將對於適用之有機化合物的相互作用進行說明。
芳香族化合物中，存在由π電子所產生之環電流。其結果將產生感應場(induction field)。如此，於感應場作動之區域內存在氫原子(通常為C-H)時，將受到引力的影響，而產生促使該CH與π平面接近之力量。而此力量一般稱為「CH/π相互作用」。
此CH/π相互作用，將會吸附水分子，但基本上其強度為依π電子之迴轉所影響而為不變，故此相互作用若可活用於水吸附性樹脂與添加劑之間時，推測將可根本的改善前述問題之因水分子所造成之光學特性的變動。
其次，將說明實際使用CH/π相互作用後，分子配位(conformation)之固定化例示。
內藏彩色照片感光材料所使用之圖像安定劑的洋紅(magenta)色素中，圖像安定劑單元中之磺醯嗎 啉(Sulfomorpholin)的CH2質子，受到正對之色素中的苯基之π電流效果，而產生較大之位移。本發明中所稱之「正對」係指，CH2的質子存在於色素中之苯基中心附近具有某種特定距離(可產生CH/π相互作用之極近距離)的狀態。此現象亦可經由分子模型而確認，因此確認圖像安定劑之CH與色素的苯基(π)之間的CH/π相互作用，為形成此配位(conformation)之必要的分子間力。
此證明為，具有與上述色素類似結構之圖像安定劑並未正對色素中苯基的化合物時，上述磺醯嗎啉環並非形成正對色素之苯基的形態。如此，未產生CH/π相互作用的色素分子中，圖像安定劑部份則以遠離色素部份之狀態存在，即，可得知CH/π相互作用為形成可聯繫有機化合物與有機化合物的有效的分子間力。
其次，將就環電流效果之大小進行研究。
例如，使用水吸附性樹脂之CH與添加劑之π，形成CH/π相互作用之情形，當然，以添加劑之π性較強者為宜。可明確表示此π性之強度之例，一般為以NICS(nucleus-independent chemical shift)值作為指標。
此NICS值為，以磁的性質對芳香族性進行定量化所使用之指標，環為芳香族時，該環電流效果將會使環的中心受到強力的遮蔽化，非芳香族時，相反地會形成反遮蔽化(J.Am.Chem.Soc.1996、118、6317)。NICS值之大小，可依環電流之強度，即π電子對環之芳香族性的貢獻度予以判斷。具體而言，其為表示直接配置於環內 部中心的虛擬鋰離子的化學位移(計算值)，此數值之負值越大時表示其π性越強。
有關NICS值之測定值，已有數個報告。例如，Canadian Journal of Chemistry.,2004,82,50-69(文獻A)或The Journal of Organic Chemistry.,2000,67,1333-1338(文獻B)等皆有測定值之報告。
本發明中，NICS值為使用Gaussian03(Revision B.03、美國GAUSSIAN公司軟體)所算出者。具體而言，計算法中，將B3LYP(密度汎係數法)中，基底係數使用6-31+G(分裂價層基底係數組(Split valence basis set)中追加擴散高斯係數所得之係數)所得之最佳化結構，以NMR遮蔽定數計算法(GIAO)計算所得者。
依此方法計算所得之代表性環結構中的NICS值係如下述表1所示。
上述表1所記載般，相較於苯環或萘環等芳香族烴基，吡咯環、噻吩環或呋喃環等5員芳香族雜環者，其NICS值可形成較大之負值，使用此類芳香族5員環時，推測即可增強CH/π相互作用。
π電子所貢獻之分子間力為，除CH/π相互作用以外，亦有π/π相互作用。π/π相互作用，係指於二個芳香環間作動之分子間力，芳香環因分極率較大故對於分散力(倫敦分散力)具有較大貢獻之分子間力。因此，具有寬廣π共軛系的芳香環，其分極率將形成更大，而容易進行π/π相互作用。6π電子系之苯為，一個苯環上垂直配置另一個苯環，為苯環與氫原子進行CH/π相互作用之情形中的最安定之結構，具有寬廣π共軛系之萘(10π電子)或蒽(14π電子)因芳香環相互間的π/π相互作用產 生產生積疊之情形，而為最安定之結果得知，具有寬廣π共軛系之芳香環具有更強之π/π相互作用。
使用水吸附性樹脂的CH與添加劑的π，以形成CH/π相互作用之情形，必須考慮到添加劑的π相互間之相互作用。其理由為，添加劑相互間的π/π相互作用較水吸附性樹脂與添加劑間的CH/π相互作用為更強時，其相較於樹脂與添加劑之間的相互作用而言，添加劑相互間的相互作用將具有更顯著之作用。因此，由苯與萘的再安定化結構的差異亦可得知，相對於具有寬廣π共軛系的芳香環(14π電子、10π電子)，使用π共軛系較狹窄的芳香環(6π電子)時，對於形成CH/π相互作用為更有利者。
但是，CH/π相互作用力與氫鍵結等相比較時，其為較弱之分子間力，故此分子間力若僅為一個時，其對於樹脂並無法進行強力之配位，因此推想若使複數個之芳香環靠近時，應可提高與樹脂的CH/π相互作用。本發明者們復於深入研究結果，得知使用具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，至少具有3個NICS 值較苯環為更小或相等之5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環中之任一個，且其中之至少一個為NICS值較苯環為更小時，及前述5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環為，相互為單鍵或介有2個以下的原子鍵結所得之化合物時，可顯現出明顯之效果。
如以上所說明般，本發明為對於本來可吸附水之樹脂而言，經由與水分子完全無關係，或即使吸附水分子時，其強度也沒有變化的CH/π相互作用，作為樹脂與添加劑的共存手段之方式，而使用多數目前為止未被使用過的相互作用時，即使於保存存放或水處理中也極困難使樹脂組成物的光學特性產生變動的顯著技術。其與現有之文獻或專利文獻等，或其所記載之水吸附性樹脂與芳香族化合物併用之例的技術思想為根本上相異之發明。以將來之發展性、高度擴張性、新穎之技術思想所構築之本發明，可稱為高度且具有顯著技術之位置的發明。
(阻滯值(Ro值或Rt值)之變動抑制率)
使用本發明之樹脂組成物所製作的光學薄膜的阻滯值(Ro值或Rt值)的變動抑制率，為依下述測定條件下，於20~100%之範圍內者為特徵。
又，Ro值為光學薄膜之面內方向的阻滯值，Rt為厚度方向的阻滯值。其詳細內容係如後所述。
測定條件
(a)依與製作樣品薄膜為相同之方法，製作與前述所製得之光學薄膜(樣品薄膜)具有相同膜厚，且不含前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之光學薄膜(基準薄膜)，
(b)將前述樣品薄膜與基準薄膜浸漬於溫度23℃之純水中24小時。
(c)對前述樣品薄膜與基準薄膜，於浸漬水之前與後，測定其於溫度23℃、相對濕度55%中之光波長590nm下的阻滯值Ro值及Rt值，並對於各別之光學薄膜求取其於浸漬水之前後的阻滯值差的絶對值△Ro及△Rt。
(d)依下式內容，求取阻滯值(Ro值及Rt值)之變動抑制率。
Ro變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Ro)-(樣品薄膜之△Ro))÷(基準薄膜之△Ro)×100
Rt變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Rt)-(樣品薄膜之△Rt))÷(基準薄膜之△Rt)×100
樣品薄膜與基準薄膜之光學薄膜，可依公知之方法以特定之厚度製作具有特定之膜厚度。
「相同之膜厚度」係指，於10~100μm之範圍，就可迅速測定之觀點，以20~70μm之範圍內為佳。更佳為30~50μm之範圍內。
樣品薄膜與基準薄膜之上述測定方法，為於相同條件下進行。
上述測定所使用之樣品薄膜所含有的具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之含量，相對於樹脂100%以1~15質量%之範圍內為佳。又以2~10質量%之範圍內為佳。更佳為2~5質量%之範圍內。於該範圍內時，以其可降低受環境濕度之變化所影響之光學值的變動，而得到與樹脂具有優良之相溶性及耐滲出(bleed out resistance)性之光學薄膜，而為較佳。
使用本發明之樹脂組成物所製作的光學薄膜的阻滯值(Ro值及Rt值)之變動抑制率，以Ro變動抑制率或Rt變動抑制率為50~100%之範圍內為較佳，以Ro變動抑制率或Rt變動抑制率為70~100%之範圍內為更佳。特別是以Ro變動抑制率與Rt變動抑制率兩者皆優良者為佳。
以往，配合環境濕度之變化所造成之相位差值的變動，為以一定之溫度下評估低濕度條件與高濕度條件的相位差值之差進行評估，但本發明則以薄膜浸漬於水之前，與浸漬於水中維持一定時間後之相位差值差進行評估。本發明之評估條件，因將薄膜直接浸漬於水中，故其評估條件較以往更為嚴苛。
(阻滯值之測定)
阻滯值之測定，為於光波長590nm下，使用自動雙折射計KOBRA-21ADH(王子計測機器公司)進行。
具體而言，例如將光學薄膜於23℃、55% RH 之環境下，於光波長590nm中，對其中10處所測定其立體折射率，求取折射率nx、ny、nz之平均值後，即可依下述式(I)及式(II)，算出面內方向的阻滯值Ro、厚度方向的阻滯值Rt。
式(I)：Ro(590)=(nx-ny)×d
式(II)：Rt(590)={(nx+ny)/2-nz}×d[式(I)及式(II)中，nx表示薄膜之面內方向中，形成最大折射率之方向x中的折射率。ny表示薄膜之面內方向中，與前述方向x垂直方向y的折射率。nz表示薄膜之厚度方向z中的折射率。d表示薄膜之厚度(nm)]。
《樹脂組成物》
本發明之樹脂組成物中，樹脂為水吸附性樹脂，且具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，至少具有3個NICS值較苯環為更小或相等之5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環中之任一個，其中至少一個的NICS值為較苯環為更小，且，前述5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環為，相互為單鍵或介有2個以下的原子鍵結所得之化合物(以下稱為添加劑N)。
該些添加劑，對水吸附性樹脂而言，該添加劑經以複數之CH/π相互作用力進行配位結果，可抑制水分子滲進水吸附性樹脂與添加劑之間，而可降低光學特性之變動，因而為更佳。
具有NICS值低於苯環的5員或6員芳香環， 可為單環亦可、具有取代基者亦可。又，該取代基可互相鍵結形成環亦可，所形成之環具有π電子者亦可。
具有NICS值低於苯環以下的5員或6員芳香環，以6π電子系為佳。萘環(10π)、苯併噁唑環(10π)、蒽環(14π)等具有廣大π共軛系之芳香環，因如前所述般，會增強π/π相互作用，故相較於水吸附性樹脂與添加劑之CH/π相互作用，其對於添加劑相互間的π/π相互作用為更大，故以6π電子系之芳香環，為更不容易發生對水吸附性樹脂相溶性之劣化、存放時之滲出(bleed out)，又，即使為相溶之情形，因會使水吸附性樹脂與添加劑的距離接近，故也不容易造成光學特性之變動。
具有NICS值較苯環為更小的芳香環，只要NICS值較苯環為更小時，其芳香環之結構則未有特別之限制，例如，吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環、1,2,4-三唑環、四唑環、呋喃環、噁唑環、異噁唑環、氧雜二唑環、異氧雜二唑環、噻吩環、噻唑環、異噻唑環、噻二唑環、異噻二唑環等。該些之中，又以除形成芳香環的碳原子以外，僅含有雜原子為氮原子的芳香環，以其NICS值為更小，故具有優良之抑制光學特性的變動效果，而為更佳。
又，除形成芳香環的碳原子以外，僅含有雜原子為氮原子的芳香環，其與水吸附性樹脂共存下，因不易引起反應或分解等，而可得到具有優良耐久性的樹脂組 成物，而為更佳。具體而言，具有NICS值較苯環為更小之芳香環，又以吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環為佳。
至少具有三個NICS值為苯環以下的5員或6員芳香環，以其相互為單鍵或介由2個以下的原子而鍵結時，可增強水吸附性樹脂與添加劑的CH/π相互作用，而可抑制光學特性的變動而為較佳。介由2個以下的原子而鍵結之意，係指構成鍵結基的原子中，相互鍵結之取代基之間所存在的最小原子數為2個以下之意。具體而言，例如，醚基(-O-)之鍵結原子數為1、酯基(-CO-O-)之鍵結原子數為2、碳酸酯基(-O-CO-O-)之鍵結原子數為3。就更能抑制光學特性變動之觀點，以單鍵為較佳。
將至少具有三個NICS值為苯環以下的5員或6員芳香環設定為A、B、C，使A與B及B與C進行鍵結之情形，A與B及B與C之二面角較小者，可同時與各個芳香環形成CH/π相互作用，而為更佳。但二面角過小時，將容易形成π/π相互作用。因此，A與B及B與C之二面角以分別為0°以上、45°以下為佳，以5°以上、40°以下為較佳，以10°以上、35°以下為佳。
<通式(1)所表示之化合物>
本發明之樹脂組成物中，添加劑N以下述通式(1)所表示之結構的化合物為特佳。
前述通式(1)中，A1、A2及B表示各自獨立之烷基(甲基、乙基、n-丙基、異丙基、tert-丁基、n-辛基、2-乙基己基等)、環烷基(環己基、環戊基、4-n-十二烷基環己基等)、芳香族烴環或芳香族雜環。其中，又以芳香族烴環或芳香族雜環為佳，特別是以NICS值較苯環為更小或相等之5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環為佳。
NICS值較苯環為更小或相等時，其5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的結構並未有特別之限制，例如，苯環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環、1,2,4-三唑環、四唑環、呋喃環、噁唑環、異噁唑環、氧雜二唑環、異氧雜二唑環、噻吩環、噻唑環、異噻唑環、噻二唑環、異噻二唑環等。
A1、A2及B所表示之具有NICS值低於苯環以下的5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環，其可具有取代基，該取代基，例如，鹵原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)、烷基(甲基、乙基、n-丙基、異丙基、tert-丁基、n-辛基、2-乙基己基等)、環烷基(環己基、環戊基、4-n-十二烷基環己基等)、烯基(乙烯基、烯丙基等)、環烯基(2-環戊烯-1-基、2-環己烯-1-基等)、炔基(乙炔基、丙炔基等)、芳香族烴環基(苯基、p-甲 苯基、萘基等)、芳香族雜環基(2-吡咯基、2-呋喃基、2-噻吩基、吡咯基、咪唑基、噁唑基、噻唑基、苯併咪唑基、苯併噁唑基、2-苯併噻唑基、吡唑啉酮基(pyrazolinone)、吡啶基、吡啶酮基(pyridone)、2-嘧啶基(pyrimidinyl)、三基、吡唑基、1,2,3-三唑基、1,2,4-三唑基、噁唑基、異噁唑基、1,2,4-氧雜二唑基、1,3,4-氧雜二唑基、噻唑基、異噻唑基、1,2,4-噻二唑基、1,3,4-噻二唑基等)、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基(甲氧基、乙氧基、異丙氧基、tert-丁氧基、n-辛基氧基、2-甲氧基乙氧基等)、芳基氧基(苯氧基、2-甲基苯氧基、4-tert-丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-四癸醯基胺基苯氧基等)、醯氧基(甲醯氧基、乙醯氧基、丙醯氧基、硬脂醯氧基、苯醯氧基氧基、p-甲氧基苯基羰基氧基等)、胺基(胺基、甲胺基、二甲胺基、苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基胺基等)、醯胺基(甲醯胺基、乙醯胺基、丙醯胺基、月桂醯胺基、苯醯氧基胺基等)、烷基及芳基磺醯基胺基(甲基磺醯基胺基、丁基磺醯基胺基、苯基磺醯基胺基、2,3,5-三氯苯基磺醯基胺基、p-甲基苯基磺醯基胺基等)、氫硫基、烷基硫基(甲基硫基、乙基硫基、n-十六烷基硫基等)、芳硫基(苯基硫基、p-氯苯基硫基、m-甲氧基苯基硫基等)、胺磺醯基(N-乙基胺磺醯基、N-(3-十二烷基氧丙基)胺磺醯基、N,N-二甲基胺磺醯基、N-乙醯基胺磺醯基、N-苯醯氧基胺磺醯基、N-(N’苯基胺甲醯基(Carbamoyl))胺磺醯基等)、磺酸基、 醯基(乙醯基、三甲基乙醯基(pivaloyl)苯醯基等)、胺甲醯基(胺甲醯基基、N-甲基胺甲醯基、N,N-二甲基胺甲醯基、N,N-二-n-辛基胺甲醯基、N-(甲基磺醯基)胺甲醯基等)等各基等。
前述通式(1)中，A1、A2及B表示苯環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環時，以其可製得具有優良之光學特性的變動效果，且具有優良耐久性的樹脂組成物之觀點，而為更佳。
前述通式(1)中，T1及T2以表示各自獨立之吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環者為佳。該些之中，又以吡唑環或1,2,4-三唑環時，以其可製得光學特性的變動抑制效果特優，且具有特優耐久性的樹脂組成物，而為更佳，以吡唑環者為特佳。T1及T2所表示之吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環，亦可為互變異構物。吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環的具體結構係如以下所示。
式中，※表示L1、L2、L3或L4之鍵結位置。R5表示氫原子或非芳香族取代基。R5所表示之非芳香族取代基，可例如與前述通式(1)中之A1所可具有之取代基中，與非芳香族取代基為相同之內容之基等。R5所表示之取代基為具有芳香族基之取代基之情形，A1與T1或B與T1容易產生連接，使A1、B及T1不會與水吸附性樹脂同時形成CH/π相互作用，而難以抑制光學特性之變動。故為提高光學特性變動抑制效果時，以R5為氫原子、碳數1~5之烷基或碳數1~5的醯基為佳，又以氫原子為特佳。
前述通式(1)中，T1及T2亦可具有取代 基，該取代基例如與前述通式(1)中之A1及A2所可具有之取代基為相同之內容之基等。
前述通式(1)中，L1、L2、L3及L4表示各自獨立之單鍵或2價之鍵結基，其可介由2個以下之原子，鍵結於5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環。介由2個以下之原子之意，係指構成鍵結基之原子中，存在於所鍵結之取代基間的最小之原子數之意。鍵結原子數為2個以下的2價之鍵結基，並未有特別之限制，例如由伸烷基、伸烯基、伸炔基、O、(C=O)、NR、S、(O=S=O)所成群所選出之2價之鍵結基，或將2個該些內容組合所得之鍵結基所表示者。R表示氫原子或取代基。R所表示之取代基之例，例如，包含烷基(甲基、乙基、n-丙基、異丙基、tert-丁基、n-辛基、2-乙基己基等)、環烷基(環己基、環戊基、4-n-十二烷基環己基等)、芳香族烴環基(苯基、p-甲苯基、萘基等)、芳香族雜環基(2-呋喃基、2-噻吩基、2-嘧啶基(pyrimidinyl)、2-苯併噻唑基、2-吡啶基等)、氰基等。L1、L2、L3及L4所表示之2價之鍵結基亦可具有取代基，取代基並未有特別之限制，可例如與前述通式(1)中之A1及A2所可具有之取代基為相同之內容之基等。
前述通式(1)中，L1、L2、L3及L4，為增加前述通式(1)所表示之化合物的平面性，以增強與水吸附性樹脂之CH/π相互作用，抑制光學特性變動等目的， 以單鍵或，O、(C=O)-O、O-(C=O)、(C=O)-NR或NR-(C=O)為佳，以單鍵為較佳。
前述通式(1)中，n表示0~5之整數。n表示2以上之整數時，前述通式(1)中之複數的A2、T2、L3、L4可為相同亦可、相異亦可。n越大時，表示前述通式(1)所表示之化合物與水吸附性樹脂之CH/π相互作用越強，而具有優良之抑制光學特性之變動的效果，n越小時，可使與水吸附性樹脂之相溶性更為優良。因此，n以1~3之整數為佳，以1~2之整數為較佳。
<通式(2)所表示之化合物>
通式(1)所表示之化合物以通式(2)所表示之化合物為佳。
(式中，A1、A2、T1、T2、L1、L2、L3及L4，分別與前述通式(1)中之A1、A2、T1、T2、L1、L2、L3及L4具有相同意義。A3及T3各別表示與通式(1)中之A1及T1為相同之內容之基。L5及L6，表示與前述通式(1)中之L1為相同內容之基。m表示0~4之整數)。
m越小時，其與纖維素酯具有優良之相溶性，故m以0~2之整數為佳，以0~1之整數為較佳。
<具有通式(1.1)所表示之結構的化合物>
具有通式(1)所表示之結構的化合物，以具有下述通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物為佳。
(式中，A1、B、L1及L2，與上述通式(1)中之A1、B、L1及L2為相同內容之基。k表示1~4之整數。T1表示1,2,4-三唑環)。
又，具有上述通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物，以具有下述通式(1.2)所表示之結構的三唑化合物為佳。
(式中，Z表示下述通式(1.2a)之結構；q表示2~3之整數；至少2個的Z相對於被苯環所取代之至少1個的Z為鄰位或間位之鍵結)。
(式中，R10表示氫原子、烷基或烷氧基；p表示1~5之整數；＊表示與苯環之鍵結位置；T1表示1,2,4-三唑環)。
前述通式(1)、(2)、(1.1)或(1.2)所表示之化合物，可形成水合物、溶合物或鹽。又，本發明中，水合物可含有有機溶劑，又，溶合物可含有水。即，「水合物」及「溶合物」為，包含水與有機溶劑之任一者所得之混合溶合物。鹽為包含由無機或有機酸所形成之酸加成鹽。無機酸之例，為包含鹵化氫酸(鹽酸、溴化氫酸等)、硫酸、磷酸等，但並不僅限定於此。又，有機酸之例，例如，乙酸、三氟乙酸、丙酸、丁酸、草酸、檸檬酸、安息香酸、烷基磺酸(甲烷磺酸等)、烯丙基磺酸(苯磺酸、4-甲苯磺酸、1,5-萘二碸酸等)等，但並不僅限定於此。該些之中，較佳為鹽酸鹽、乙酸鹽、丙酸鹽、丁酸鹽。
鹽之例如，存在於母化合物的酸性部被金屬離子(例如鹼金屬鹽，例如鈉或鉀鹽、鹼土金屬鹽、例如鈣或鎂鹽、銨鹽鹼金屬離子、鹼土金屬離子，或鋁離子等)所取代，或調整為有機鹼(乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、嗎啉、哌啶等)時所形成之鹽等，但並不僅限定於此。該些之中，較佳為鈉鹽、鉀鹽。
含有溶合物之溶劑之例，為包含一般的任意有機溶劑。具體而言，例如，醇(例如，甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丁醇、1-甲氧基-2-丙醇、t-丁醇)、酯(例如，乙酸乙酯)、烴基(例如，甲苯、己烷、庚烷)、醚(例如，四氫呋喃)、腈(例如，乙腈)、酮(丙酮)等。較佳為，醇(例如，甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丁醇、1-甲氧基-2-丙醇、t-丁醇)之溶合物。該些溶劑，可為合成前述化合物時所使用之反應溶劑，或合成後於晶析精製時所使用之溶劑亦可，或該些之混合物亦可。
又，亦可同時含有二種類以上之溶劑，含有水與溶劑之形式(例如，水與醇(例如，甲醇、乙醇、t-丁醇等)等)亦可。
又，亦可將前述通式(1)、(2)、(1.1)或(1.2)所表示之化合物，以不包含水或溶劑、鹽之形態進行添加，再於本發明的樹脂組成物或光學薄膜中，形成水合物、溶合物或鹽亦可。
前述通式(1)、(2)、(1.1)或(1.2)所表示之化合物的分子量並未有特別之限制，越小時，其與樹脂之相溶性越佳，越大時，其對於抑制環境濕度之變化所造成之光學值變動的效果越高，故一般以150~2000為佳，以200~1500為較佳，以300~1000為更佳。
以下為本發明之具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之具體例示。其中，又以前述通式(1)、(2)、(1.1)或(1.2)所表示之化合物為佳。 本發明所可使用之前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物，並不受以下之具體例示所限定。又，如前所述般，以下之具體例可為互變異構物亦可，或形成水合物、溶合物或鹽者亦可。
其次，將說明前述通式(1)所表示之化合物之合成方法。
前述通式(1)所表示之化合物，可依公知之方法予以合成。
前述通式(1)所表示之化合物中，具有1,2,4-三唑環之化合物，皆可作為原料使用，但又以腈衍生物或亞胺醚衍生物，醯肼(hydrazide)衍生物進行反應之方法為佳。反應所使用之溶劑，例如，只要為不與原料產生反應之溶劑時，無論任何溶劑皆可使用，例如可使用酯系(例如，乙酸乙酯、乙酸甲酯等)、醯胺系(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)、醚系(乙二醇二甲基醚等)、醇系 (例如，甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、n-丁醇、2-丁醇、乙二醇、乙二醇單甲基醚等)、芳香族烴基系(例如，甲苯、二甲苯等)、水等。所使用之溶劑，較佳為醇系溶劑。又，該些溶劑亦可混合使用。
溶劑之使用量，並未有特別之限制，相對於所使用之醯肼衍生物的質量，一般以0.5~30倍量之範圍內為佳，更佳為1.0~25倍量，特佳為3.0~20倍量之範圍內。
使腈衍生物與醯肼衍生物進行反應之情形，亦可以不使用觸媒下進行，但為加速反應時，以使用觸媒者為佳。所使用之觸媒，可使用酸亦可、使用鹼亦可。酸，例如，鹽酸、硫酸、硝酸、乙酸等，較佳為鹽酸。酸，可先稀釋於水之後再添加，或以氣體方式吹入反應系中之方法添加亦可。鹼，可使用無機鹼(碳酸鉀、碳酸鈉、碳酸氫鉀、碳酸氫鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈉等)及有機鹼(甲基鈉、乙基鈉、甲基鉀、乙基鉀、丁基鈉、丁基鉀、二異丙基乙胺、N,N’-二甲胺基吡啶、1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷、N-甲基嗎啉、咪唑、N-甲基咪唑、吡啶等)之任一者皆可，無機鹼，以碳酸鉀為佳，有機鹼，例如，乙基鈉、乙基鈉、丁基鈉為佳。無機鹼，可以粉體之方式添加亦可，使其分散於溶劑之狀態下添加亦可。又，有機鹼，可以溶解於溶劑之狀態(例如，甲基鈉之28%甲醇溶液等)下添加亦可。
觸媒之使用量，只要為可使反應進行之量 時，並未有特別之限制，一般相對於所形成之三唑環，為1.0~5.0倍莫耳之範圍內為佳，又以1.05~3.0倍莫耳之範圍內為更佳。
使亞胺醚衍生物與醯肼衍生物進行反應之情形，並無必須使用觸媒，只要於溶劑中加熱即可得到目的物。
反應所使用之原料、溶劑及觸媒之添加方法，並未有特別之限制，可將觸媒於最後階段添加亦可，或將溶劑於最後階段添加亦可。又，亦可以使用於使腈衍生物分散或溶解於溶劑，添加觸媒之後，再添加醯肼衍生物之方法。
反應中之溶液溫度，只要可使反應進行之溫度時，可為任意之溫度，但較佳為0~150℃之範圍內，更佳為20~140℃之範圍內。又，亦可於去除所生成之水的同時進行反應亦可。
反應溶液之處理方法，可使用任意之手段皆可，使用鹼作為觸媒使用之情形，以將酸加入反應溶液中，使其中和之方法為佳。中和所使用之酸，例如，鹽酸、硫酸、硝酸或乙酸等，特佳為乙酸。中和所使用之酸的量，只要可使反應溶液之pH為4~9之範圍時，並未有特別之限制，一般相對於所使用之鹼，以0.1~3倍莫耳為佳，特佳為0.2~1.5倍莫耳之範圍內。
反應溶液之處理方法中，使用適當之有機溶劑進行萃取之情形，以萃取後將有機溶劑以水洗淨後再進 行濃縮之方法為佳。此處所稱之適當之有機溶劑，係指，乙酸乙酯、甲苯、二氯甲烷、醚等非水溶性之溶劑，或，前述非水溶性之溶劑與四氫呋喃或醇系溶劑之混合溶劑之意，較佳為乙酸乙酯。
使通式(1)所表示之化合物晶析之情形，並未有特別之限制，其可於中和之反應溶液中，加入水使其晶析之方法，或，使溶解有通式(1)所表示之化合物的水溶液進行中和，進行晶析之方法為佳。
例如，例示化合物1可依以下步驟予以合成。
(例示化合物1之合成)
於n-丁醇350ml中，加入苯併腈77.3g(75.0mmol)、苯醯氧基聯氨(hydrazine)34.0g(25.0mmol)、碳酸鉀107.0g(77.4mmol)，於氮氣氛圍下，120℃下持續攪拌24小時。使反應液冷卻至室溫，將析出物過濾後，濾液於減壓下濃縮。濃縮物中，加入異丙醇20ml，濾取析出物。將濾取所得之析出物溶解於甲醇80ml中，加入純水300ml，滴入乙酸以使溶液之pH達到7為止。濾取析出之結晶後，以純水洗淨，經於50℃下送 風乾燥結果，得例示化合物1 38.6g。產率以苯醯氧基聯氨(hydrazine)基準，為70%。
所得之例示化合物1之1H-NMR圖譜係如以下所示。
1H-NMR(400MHz、溶劑：重DMSO、基準：四甲基矽烷)δ(ppm)：7.56-7.48(6H、m)、7.62-7.61(4H、m)。
(例示化合物6之合成)
例示化合物6可依以下步驟予以合成。
於n-丁醇40ml中，加入1,3-二氰基苯2.5g(19.5mmol)、苯醯氧基聯氨(hydrazine)7.9g(58.5mmol)、碳酸鉀9.0g(68.3mmol)，於氮氣氛圍下，120℃下持續攪拌24小時。使反應液冷卻後，加入純水40ml，於室溫下攪拌3小時後，將析出之固體濾出，使用純水洗淨。於所得之固體中，加入水及乙酸乙酯後進行分 液，有機層使用純水洗淨。有機層以硫酸鎂乾燥，溶劑以減壓餾除。所得粗結晶以矽凝膠滲透色層分析法(乙酸乙酯/庚烷)精製，得例示化合物6 5.5g。產率，以1,3-二氰基苯為基準，為77%。
所得之例示化合物6的1H-NMR圖譜係如以下所示。
1H-NMR(400MHz、溶劑：重DMSO、基準：四甲基矽烷)δ(ppm)：8.83(1H、s)、8.16~8.11(6H、m)、7.67-7.54(7H、m)。
(例示化合物176之合成)
例示化合物176可依以下步驟予以合成。
於脫水四氫呋喃520ml中，加入乙醯苯80g(0.67mol)、異苯甲酸二甲酯52g(0.27mol)，於氮氣氛圍下，於冰水冷下、持續攪拌中，少量滴入鈉醯胺52.3g(1.34mol)。冰水冷下下攪拌3小時後，再於水冷下攪拌12小時。反應液中加入濃硫酸使其中和後，加入純水及乙酸乙酯進行分液，有機層使用純水洗淨。有機層以硫酸鎂乾燥，將溶劑減壓餾除。所得之粗結晶中，加入甲醇進行懸濁洗淨，得中間體A 55.2g。
於四氫呋喃300ml、乙醇200ml中，加入中間體A55g(0.15mol)，於室溫攪拌中，緩緩滴入聯氨(hydrazine)一水合物18.6g(0.37mol)。滴入結束後，進行12小時加熱迴流。於反應液中加入純水及乙酸乙酯後進行分液，有機層使用純水洗淨。有機層使用硫酸鎂乾燥，將溶劑減壓餾除。所得粗結晶使用矽凝膠滲透色層分析法(乙酸乙基/庚烷)精製結果，得例示化合物176 27g。
所得之例示化合物176之1H-NMR圖譜係如以下所示。又，為避免因存在互變異構物，使得化學位移複雜化，而於測定溶劑中加入數滴三氟乙酸後進行測定。
1H-NMR(400MHz、溶劑：重DMSO、基準：四甲基矽烷)δ(ppm)：8.34(1H、s)、7.87~7.81(6H、m)、7.55~7.51(1H、m)、7.48-7.44(4H、m)、7.36-7.33(2H、m)、7.29(1H、s)。
其他的化合物，亦可依相同之方法予以合成。
<通式(1)所表示之化合物的使用方法>
本發明中的前述通式(1)所表示之化合物，可調整適當量以使其含有於光學薄膜中，添加量相對於形成光學薄膜之樹脂(例如，纖維素酯等)，以含有1~15質量%為佳，特別是以含有2~10質量%為佳。又，亦可僅使用1種具有前述通式(1)所表示之結構的化合物，或將多數種具有前述通式(1)所表示之結構的化合物合併使用亦可。只要為該範圍內時，即不會損害本發明之光學薄膜之機械強度，且可降低受環境濕度之變化所影響之光學值的變動。
又，前述通式(1)所表示之化合物的添加方法，可以粉體形式添加於形成光學薄膜之樹脂亦可，或使其溶解於溶劑後，再添加於形成光學薄膜之樹脂中亦可。
本發明中，CH/π相互作用係指，使用多數種目前於樹脂與添加劑的共存手段所未使用過之相互作用，而可使保存放置或水處理中的樹脂組成物之光學特性極不容易產生變動的顯著技術。其與記載於現有文獻或專利文獻等之中的水吸附性樹脂與芳香族化合物併用例之各種技術思想為完全不同之發明。因此本發明可稱為就將來之發展性、高度擴張性、新穎之技術思想所構築之本發明，係位於高度且顯著的技術位置者。
以下，將就現有之文獻或專利文獻等所記載之水吸附性樹脂與芳香族化合物等內容，說明其差異性。
特開2012-215817號公報(專利文獻4)為揭示一種添加於非晶狀態中之含水率差為2%以上之高吸濕性化合物，以降低與環境濕度相關之纖維素醯化物薄膜之阻滯變化的方法。其內容為，於高濕環境下的纖維素醯化物薄膜中，使具有三結構之高吸濕性化合物，與水分子優先進行配位之方式，以抑制水分子對纖維素醯化物的羰基進行配位，而降低受環境濕度所造成之阻滯變化的技術思想。
但是，該專利中，並未記載或暗示本案技術思想之CH/π相互作用。又，因三結構其NICS之值較苯環為更大之關係，故其芳香族性較低，而與樹脂之間無法充分得到CH/π相互作用。因此，於水分子之存在下，無法抑制水分子侵入水吸附性樹脂與添加劑之間，而無法得到與本發明相同之效果。
特開2004-243628號公報(專利文獻5)中，則揭示一種於纖維素酯中添加阻滯提升劑，以抑制阻滯提升劑滲出(bleed out)之方法。其係記載使用三化合物作為阻滯提升劑，以控制纖維素酯溶液之流延步驟及剝取前乾燥的前半過程，以抑制滲出之技術思想。該專利中所用之三化合物，亦記載取代基為使用含有吡唑結構之成份。
但是，該專利中，與前述相同之內容般。並未記載或暗示本案技術思想之CH/π相互作用，又，三結構，僅暗示其NICS之值為較大，但其芳香族性較低， 且與樹脂之間無法得到充分之CH/π相互作用。因此，於水分子之存在下，並不能抑制水分子侵入水吸附性樹脂與添加劑之間，而無法得到本發明之效果。
特開2000-111914號公報(專利文獻6)中，揭示一種至少具有2個芳香族環的纖維素之低級脂肪酸酯薄膜用的阻滯提升劑。其為記載至少2個之芳香族環形成立體配位而為無立體障礙之結構，使二個芳香族環位於同一平面上，以提高阻滯之技術思想。
但是，該專利中，並未記載有關纖維素之低級脂肪酸酯與阻滯提升劑的相互作用，且對於本案技術思想之CH/π相互作用完全未有任何暗示或記載。此外，也未記載使用濕熱處理所造成之纖維素的低級脂肪酸酯薄膜之光學性能變化等。又，該專利中，記載有吡唑環之1位置的氮原子具有苯基之吡唑化合物。該化合物的最安定結構，係如以下所述般，為吡唑環(a)與1位置的苯環(b)形成約45度之螺旋狀。又，亦具有吡唑環(a)與5位置的苯環(d)也呈約45度螺旋之結構。因此，a與b於與樹脂之間，雖可能同時形成CH/π相互作用，但c與d因相對於吡唑環平面為呈約45度螺旋狀，故無法與a及b同時與樹脂形成CH/π相互作用。因此，於水分子存在下時，無法賦予抑制水分子侵入水吸附性樹脂與添加劑之間的CH/π相互作用，而使本案之效果顯著降低。
又，該專利中，雖記載具有苯併噁唑或苯併三唑等10π電子系之芳香環的化合物，但如前所述般，該 些化合物中，化合物相互間的π/π相互作用受到樹脂與化合物間的CH/π相互作用所控制，而無法賦予抑制水分子侵入水吸附性樹脂與添加劑之間的CH/π相互作用。
又，特開2000-275435號公報(專利文獻7)中，揭示一種可提高光學異構物薄膜中之阻滯波長分散性的添加劑，該添加劑的吸收波峰以250nm~400nm之範圍為較佳等記載。又，實施例中，則記載芳香族雜環為具有氧雜二唑環的化合物。
此外，特開2007-23124號公報(專利文獻8)中，揭示一種添加芳香族雜環基與芳香族烴基為單鍵，且至少含有2個鍵結部位的化合物於纖維素化合物中之方式，可降低膜厚方向的相位差引發性、而提高面內相位差之技術。該專利中，芳香族雜環以5員或6員為佳，其記載有氧雜二唑、異氧雜二唑、噻二唑、異噻二唑等例示化合物。實施例中，則記載2個異氧雜二唑環介由伸苯基鍵結所得之化合物。
但是，前述專利文獻7及8中，並未記載有關樹脂與添加劑之相互作用，也未記載或暗示本案技術思想之CH/π相互作用。其目的及效果也與本案完全不同者。即，該些專利文獻中所記載之化合物，或即使具有複數的5員芳香族雜環及6員芳香族環的化合物，其對於可積極使用該些之CH/π相互作用，以增強樹脂與添加劑之相互作用，而於水分子之存在下，抑制水分子侵入水吸附性樹脂與添加劑之間的想法等沒有明確記載之前提，則與本發明為完全不同者，申請人等於檢索該些先前技術中，確未發現有本發明般之技術思想之揭示。又，前述專利文獻7及8的實施例所記載之化合物中，5員芳香族雜環為具有氧雜二唑環或異氧雜二唑環之化合物。依先前技術文獻B之揭示內容，氧雜二唑環的NICS值為-10.74、異氧雜二唑環為-11.51，其相較於吡咯環(-14.86)、咪唑環(-13.85)、1,2,4-三唑環(-13.66)等不含氧原子的5員芳香族雜環為更大(負值更小)，因此，無法稱為其有積極利用CH/π相互作用，而為與本案發明為完全不同之技術思想者。
此外，氧雜二唑環、異氧雜二唑環、噻二唑環、異噻二唑環等環，係如下述之反應例所示般，其會與水吸附性樹脂大量具有之羥基(-OH)或胺基(-NH2)反應，或受到水分子而水解形成不穩定之環結構。下述之反應分別揭示於Chem.Ber.、1892,25、1585、J.Org.Chem.、2005、70、2322-2324及Tetrahedron，2012、 68、4814-4819等。
因此，專利文獻7或8所記載之化合物，於與水吸附性樹脂共存下，為具有容易引起反應、分解等之結構的化合物，而無法對應於要求耐久性之光學用途，且，對於本發明之目的效果之抑制光學特性之變動效果極小。
<水吸附性樹脂>
本發明之樹脂組成物為含有水吸附性樹脂。
水吸附性樹脂係指，於因應放置或外部濕度環境之變化等會吸收水份之樹脂，因此，為一種具有受到尺寸變化或，剛性、強度等機械特性、電阻率等電氣特 性、折射率等光學特性等而會使特性產生變化問題之樹脂。
水吸附性樹脂，例如，丙烯酸樹脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯等)、聚醯胺(耐隆等)、聚碳酸酯、玻璃紙(Cellophane)、纖維素衍生物(纖維素乙酸酯、乙基纖維素等)、聚乙烯基醇、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯基甲縮醛(formal)、聚乙烯基縮醛、聚乙烯基甲縮醛(formal)、聚醯亞胺、尿素樹脂、酚樹脂、三聚氰胺樹脂等。
本發明中之水吸附性樹脂，其吸水率為0.1%以上。對該些樹脂，添加本發明之添加劑時，可抑制光學特性之變動而為較佳。另一方面，吸水率過高時，會降低抑制光學特性之變動效果。因此，吸水率以0.5~10%為較佳。
本發明中之水吸附性樹脂，以其為纖維素衍生物時，可具有優良之光學特性變動抑制效果，而為較佳。特別是以具有醯基之纖維素酯為佳。
本發明中之吸水率，係指於23℃之水中浸漬24小時水吸附性樹脂後的重量增加率之意。
具體求取本發明中之吸水率的方法，將於以下說明。
將由水吸附性樹脂所製得之薄膜放置於設置為23℃、濕度55% RH的房間4小時以上之後，測定該薄膜之重量，將其設為W1。其次，將該薄膜浸漬於23℃之蒸餾 水24小時後，測定取出薄膜之質量，將其設為W2。並以下式為基礎計算吸水率。
吸水率(%)=(W2-W1)÷W1×100
本發明之樹脂組成物，為至少含有樹脂與添加劑N之樹脂組成物。樹脂可作為本發明之光學薄膜之基材及光學透鏡使用。
<光學薄膜>
其次，將說明本發明之光學薄膜之詳細內容，與構成樹脂組成物之樹脂。
本發明中之光學薄膜係指，液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器等各種顯示裝置所使用之機能薄膜之意，詳細而言，係包含偏光板保護薄膜、相位差薄膜、抗反射薄膜、亮度提升薄膜、硬塗覆薄膜、防眩薄膜、抗靜電薄膜、擴大可視角等光學補償薄膜等。
構成前述樹脂組成物之樹脂，以具有極性基者為佳。推測該樹脂中之極性基與水與5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環因具有強大之相互作用，即使光學薄膜中之水分子量產生變化時，亦可維持配向，而可抑制位相值變動者。
此處所稱之極性基，係指受氧氣、氮氣、硫、鹵素等高電氣陰性度原子分極所產生之有機基時，並未有特別之限定。具有極性基之樹脂，例如具有羥基、羰 基、胺基甲酸酯基、異三聚氰酸酯基、脲基、碳酸酯基、醯胺基、酯基、羧基、酸酐基、醚基、環氧基、亞胺基或胺基等之樹脂等。本發明中，又以纖維素酯系樹脂及纖維素醚系樹脂等纖維素衍生物為佳。
又，纖維素衍生物可與上述樹脂合併使用。併用之樹脂，以聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、環狀烯烴系樹脂為佳。與纖維素衍生物以外的樹脂合併使用之情形，纖維素衍生物以外的樹脂含量以0~50質量%之範圍內為佳。
(纖維素衍生物)
纖維素衍生物為，以纖維素作為原料之化合物(具有纖維素骨架之化合物)。纖維素衍生物之例中，為包含纖維素醚(例如，甲基纖維素、乙基纖維素、羥基乙基纖維素、羥基丙基纖維素、氰基乙基纖維素等)、纖維素酯(詳細內容如後所述)、纖維素醚酯(例如，乙醯基甲基纖維素、乙醯基乙基纖維素、乙醯基羥基乙基纖維素、苯醯氧基羥基丙基纖維素等)、纖維素碳酸酯(例如，纖維素乙基碳酸酯等)、纖維素胺基甲酸酯(例如，纖維素苯基胺基甲酸酯等)等樹脂，較佳為纖維素酯。纖維素衍生物，可為一種類亦可、二種類以上之混合物亦可。
纖維素酯為，纖維素與，碳數2~22左右的脂肪族羧酸及芳香族羧酸中至少一種進行酯化反應所得之化合物，較佳為纖維素與，碳數6以下之低級脂肪酸進行 酯化反應所得之化合物。
纖維素酯所含有之醯基，可為直鏈狀亦可、支鏈狀亦可，又形成環亦可，其可再具有其他取代基。醯基之碳數以2~6為佳，以2~4為較佳，以2~3為更佳。
纖維素酯之具體例，除纖維素乙酸酯以外，亦可使用纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酯、纖維素乙酸酯丙酸酯丁酯或纖維素乙酸酯鄰苯二甲酸酯等混合脂肪酸酯。較佳為纖維素乙酸酯、纖維素乙酸酯丁酯或纖維素乙酸酯丙酸酯。纖維素酯所含之丁醯基，可為直鏈狀亦可、支鏈狀亦可。
纖維素酯的醯基之總取代度，一般為1.0~3.0左右。醯基之總取代度，就降低透濕性之觀點，以2.0~2.95之範圍內為佳。
纖維素酯的醯基之取代度，可依ASTM D817-96規定之方法進行測定。
纖維素衍生物的數平均分子量，就提高所得薄膜之機械強度之目的，以6×104~3×105之範圍為佳，又以分子量為7×104~2×105之範圍為較佳。
纖維素衍生物之重量平均分子量(Mw)及數平均分子量(Mn)，可使用凝膠滲透色層分析儀(GPC)予以測定。測定條件係如以下所示。
溶劑：二氯甲烷；管柱：將3根Shodex K806、K805、K803G(昭和電 工股份有限公司製)連接使用；管柱溫度：25℃；試劑濃度：0.1質量%；檢測器：RI Model 504(GL科技公司製)；幫浦：L6000(日立製作所股份有限公司製)；流量：1.0ml/min
校正曲線：使用標準聚苯乙烯STK standard，以聚苯乙烯(東曹股份有限公司製)Mw=500~1000000之13個樣品作為校正曲線使用。13個樣品，其以幾乎相等之間隔使用者。
纖維素衍生物中之殘留硫酸的含量，換算為硫元素時以0.1~45質量ppm之範圍為佳，以1~30質量ppm之範圍為較佳。硫酸，推測以鹽之狀態殘留於薄膜。殘留之硫酸的含量超過45質量ppm時，於薄膜進行熱延伸之際，或熱延伸後進行縱切(slitting)之際容易斷裂。殘留硫酸之含量，可依ASTM D817-96規定之方法進行測定。
纖維素衍生物中之游離酸的含量，以1~500質量ppm之範圍內為佳，以1~100質量ppm為較佳，以1~70質量ppm之範圍內為更佳。游離酸的含量為上述範圍時，與前述為相同之內容般，於將薄膜熱延伸之際，或熱延伸後進行縱切之際則不易產生斷裂。游離酸的含量可依ASTM D817-96規定之方法進行測定。
纖維素衍生物為含有微量之金屬成份。微量之金屬成份，推測係於纖維素衍生物之合成步驟所使用之 水所產生者。如該些金屬成份般，容易形成不溶性核之成份的含量，以盡可能越少者為佳。特別是鐵、鈣、鎂等金屬離子，會與可能含有有機的酸性基的樹脂分解物等形成鹽，而形成不溶物之情形。又，鈣(Ca)成份，容易與羧酸或磺酸等酸性成份，或與許多配位基形成配位化合物(即，錯合物)，而會產生許多由不溶性鈣所產生之浮渣(不溶性沈澱物、混濁物)的疑慮。
具體而言，例如，纖維素衍生物中之鐵(Fe)成份之含量，以1質量ppm以下為佳。又，纖維素衍生物中之鈣(Ca)成份之含量，較佳為60質量ppm以下，更佳為0~30質量ppm之範圍內。纖維素衍生物中之鎂(Mg)成份之含量，以0~70質量ppm之範圍內為佳，特別是以0~20質量ppm之範圍內為佳。
鐵(Fe)成份、鈣(Ca)成份，及鎂(Mg)成份等金屬成份之含量，可將極乾燥之纖維素衍生物使用微處理濕式分解裝置(硫硝酸分解)，於以鹼溶融進行前處理之後，使用ICP-AES(感應耦合電漿原子發射光譜分析儀)進行測定。
殘留鹼土金屬、殘留硫酸及殘留酸的含量，可將合成所得之纖維素衍生物，於充分洗淨之方式進行調整。
纖維素衍生物，可使用公知之方法予以製造。具體而言，例如，可參考特開平10-45804號公報記載之方法進行合成。作為纖維素衍生物原料的纖維素，並 未有特別之限定，其可使用例如棉花短纖、木漿、紅麻(kenaf)等。亦可將作為原料之不同纖維素衍生物混合使用。
((甲基)丙烯酸樹脂)
本發明所可使用之(甲基)丙烯酸樹脂，可為(甲基)丙烯酸酯之均聚物，或(甲基)丙烯酸酯與其他共聚單體所得之共聚物。(甲基)丙烯酸樹脂，可為一種，或二種以上之混合物亦可。(甲基)丙烯酸酯，較佳為甲基丙烯酸甲酯。共聚物中之由甲基丙烯酸甲酯所產生之結構單位的含有比例以50質量%以上為佳，以70質量%以上為較佳。
與甲基丙烯酸甲酯形成共聚物之共聚單體之例，例如包含，烷基部份之碳數為2~18的甲基丙烯酸烷酯；烷基部份之碳數為1~18的丙烯酸烷酯；可形成後述內酯環結構之具有羥基的烷基部份之碳數為1~18的(甲基)丙烯酸烷酯；丙烯酸、甲基丙烯酸等α，β-不飽和酸；馬來酸、富馬酸、依康酸等含不飽和基之2價羧酸；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等芳香族乙烯基化合物；丙烯腈、甲基丙烯腈等α，β-不飽和腈；馬來酸酐、馬來醯亞胺、N-取代馬來醯亞胺、戊二酸酐、丙烯醯基嗎啉(ACMO)等丙烯醯胺衍生物；N-乙烯基吡咯啶酮(VP)等。該些可單獨使用一種，或將二種以上組合使用亦可。
其中，就提高共聚物之耐熱分解性或流動性 等觀點，以使用丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、n-丙烯酸丙酯、n-丙烯酸丁酯、s-丙烯酸丁酯、2-乙基丙烯酸己酯等丙烯酸烷酯；2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥基甲基)丙烯酸乙酯等具有羥基之(甲基)丙烯酸烷酯為佳。就可提高與纖維素酯之相溶性之觀點，以使用丙烯醯基嗎啉等為佳。
(甲基)丙烯酸樹脂，就提高所得光學薄膜之耐熱性、調整光彈性係數等觀點，以含有內酯環結構者為佳。(甲基)丙烯酸樹脂所含有之內酯環結構，較佳為下述通式(3)所表示者。
通式(3)中，R1~R3表示各自獨立之氫原子或碳數1~20之有機殘基。有機殘基，可含有氧原子。有機殘基之例，例如包含，直鏈或支狀之烷基、直鏈或支狀之伸烷基、芳香族烴環基、-OAc基(Ac為乙醯基)、-CN基等。
通式(3)所表示之內酯環結構，如後所述般，為由具有羥基之(甲基)丙烯酸烷酯所產生之結構。
含有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂，其可再含有由烷基部份之碳數為1~18的(甲基)丙烯酸烷 酯所產生之結構單位，必要時可再含有由含有羥基之單體、不飽和羧酸、下述通式(4)所表示之單體等所產生之結構單位。
通式(4)中之R4表示氫原子或甲基。X表示氫原子、碳數1~20之烷基、芳香族烴環基、-OAc基(Ac為乙醯基)、-CN基、醯基或-C-OR基(R為氫原子或碳數1~20之有機殘基)。
含有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂中，通式(1)所表示之內酯環結構的含有比例，較佳為5~90質量%之範圍內，更佳為10~80質量%之範圍內，最佳為15~70質量%之範圍內。內酯環結構之含有比例為5質量%以上時，可容易得到具有必要的相位差之薄膜，且可得到充分之薄膜耐熱性、耐溶劑性、表面硬度。內酯環結構之含有比例為90質量%以下時，具有高度成形加工性、也容易提高所得薄膜之可撓性。
含有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂中，由(甲基)丙烯酸烷酯所產生之結構單位的含有比例，較佳為10~95質量%之範圍內，更佳為20~90質量%之範圍內，最佳為30~85質量%之範圍內。
含有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂中， 含有羥基之單體、不飽和羧酸或通式(2)所表示之單體所產生之結構單位的含有比例各自獨立，較佳為0~30質量%之範圍內，更佳為0~20質量%，最佳為0~10質量%之範圍內。
含有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂，至少經過，使具有羥基之烷基(甲基)丙烯酸酯，與其包含其以外的烷基(甲基)丙烯酸酯的單體成份進行聚合反應，以製得分子鏈中具有羥基與酯基之聚合物的步驟，使所得聚合物經加熱處理而導入內酯環結構之步驟而可製得。
(甲基)丙烯酸樹脂之重量平均分子量Mw，較佳為8.0×104~5.0×105之範圍內，更佳為9.0×104~4.5×105之範圍內，最佳為1.0×105~4.0×105之範圍內。(甲基)丙烯酸樹脂之重量平均分子量Mw為8.0×104以上時，可提高薄膜之耐脆性，為5.0×105以下時，可容易降低薄膜之霧值。
(甲基)丙烯酸樹脂之重量平均分子量Mw，可依與纖維素酯之重量平均分子量Mw之測定方法為相同之方法，使用凝膠滲透色層分析儀予以測定。
本發明之光學薄膜，必要時可再添加下述各種添加劑。
(醣酯)
本發明之光學薄膜，就提高光學薄膜之可塑性之觀 點，可再含有前述纖維素酯以外的醣酯。
本發明所使用之醣酯，可為具有1~12個呋喃醣結構或呱喃醣(pyranose)結構的化合物，且該化合物中之全部或一部份羥基被酯化之化合物。
該些醣酯之較佳例示，為包含下述通式(FA)所表示之蔗糖酯。
通式(FA)之R1~R8表示各自獨立之氫原子、取代或無取代之烷基羰基，或取代或無取代之芳基羰基。R1~R8，可互相相同亦可、相異亦可。
取代或無取代的烷基羰基，以碳原子數2以上之取代或無取代的烷基羰基為佳。取代或無取代的烷基羰基之例，例如包含甲基羰基(乙醯基)。烷基所具有之取代基之例，例如包含苯基等芳香族烴環基。
取代或無取代的芳基羰基，以碳原子數7以上之取代或無取代的芳基羰基為佳。芳基羰基之例，例如包含苯基羰基。芳香族烴環基所具有之取代基之例，例如、包含甲基等烷基，或甲氧基等烷氧基等。
蔗糖酯的醯基之平均取代度，以3.0~7.5之 範圍內為佳。醯基之平均取代度於此範圍內時，可容易得到與纖維素酯之充分相溶性。
通式(FA)所表示之蔗糖酯之具體例中，為包含下述例示化合物FA-1~FA-24。下述表中，為表示例示化合物FA-1~FA-24之通式(FA)中之R1~R8，與醯基之平均取代度。
其他之醣酯之例，例如包含特開昭62-42996號公報及特開平10-237084號公報所記載的化合物。
醣酯之含量，相對於纖維素酯以0.5~35.0質量%之範圍內為佳，以5.0~30.0質量%之範圍內為較佳。
(可塑劑)
本發明之光學薄膜，就提高薄膜製造時之組成物的流動性，或薄膜之柔軟性等觀點，可含有可塑劑。可塑劑之例，例如包含聚酯系可塑劑、多元醇酯系可塑劑、多元羧酸酯系可塑劑(包含鄰苯二甲酸酯系可塑劑)、乙二醇酯(glycolate)系可塑劑、酯系可塑劑(包含檸檬酸酯系可塑劑、脂肪酸酯系可塑劑、磷酸酯系可塑劑、偏苯三甲酸酯系可塑劑等)等。該些可單獨使用，或將二種以上組合使用亦可。
聚酯系可塑劑為，使1~4價之羧酸，與1~6價之醇進行反應所得之化合物，較佳為2價羧酸與乙二醇進行反應所得之化合物。
2價羧酸之例，例如包含琥珀酸、戊二酸、依康酸、己二酸、苯甲酸、壬二酸、癸二酸等。特別是2價羧酸為使用琥珀酸、己二酸、苯甲酸等之化合物，可賦予良好之可塑性
乙二醇之例，例如包含乙二醇、丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、二乙二醇、三乙二醇、二丙二醇等。2價羧酸及乙二醇，可分別使用一種，或將二種以上合併使用亦可。
聚酯系可塑劑，可為酯、寡酯、聚酯之任一種。聚酯系可塑劑之分子量，以100~10000之範圍為佳，就具有較大賦予可塑性之效果等觀點，以600~3000之範圍為較佳。
聚酯系可塑劑之黏度，雖依分子結構或分子量而有所差異，但為己二酸系可塑劑之情形，就與纖維素酯具有高度相溶性，且具高度賦予可塑性之效果等觀點，以200~5000MPa‧s(25℃)之範圍為佳。聚酯系可塑劑，可為一種亦可、二種以上合併使用亦可。
多元醇酯系可塑劑為，2價以上之脂肪族多元醇，與單羧酸所得之酯化合物(醇酯)，較佳為2~20價之脂肪族多元醇酯。多元醇酯系化合物，以分子內具有芳香環或環烷基環者為佳。
脂肪族多元醇之例，例如包含乙二醇、丙二醇、三羥甲基丙烷、季戊四醇等。
單羧酸，例如，脂肪族單羧酸、脂環式單羧酸、芳香族單羧酸等。單羧酸，可為單一種類亦可、二種以上之混合物亦可。又，脂肪族多元醇所含有之OH基可全部酯化亦可、部份以OH基形式殘留亦可。
脂肪族單羧酸，以碳數1~32之具有直鏈或側鏈之脂肪酸為佳。脂肪族單羧酸之碳數更佳為1~20，最佳為1~10。該些脂肪族單羧酸之例，例如包含乙酸、丙酸、丁酸、戊酸等，就提高與纖維素酯之相溶性之觀點，較佳為例如乙酸。
脂環式單羧酸之例，例如包含環戊烷羧酸、環己烷羧酸、環辛烷羧酸等。
芳香族單羧酸之例，例如包含安息香酸；安息香酸之苯環導入1~3個烷基或烷氧基(例如甲氧基或乙氧基)所得者(例如苯甲酸(Toluic Acid)等)；具有2個以上之苯環的芳香族單羧酸(例如聯苯羧酸、萘羧酸、四氫化萘羧酸等)等，較佳為安息香酸。
多元醇酯系可塑劑之分子量，並未有特別之限制，又以300~1500之範圍內為佳，以350~750之範圍內為較佳。就不易揮發之觀點，以分子量越大者為佳。就提高透濕性、提高與纖維素酯之相溶性等觀點，以分子量越小者為佳。
多元醇酯系可塑劑之具體例，例如包含三羥 甲基丙烷三乙酸酯、季戊四醇四乙酸酯、特開2008-88292號公報所記載之通式(I)所表示之酯化合物(A)等。
多元羧酸酯系可塑劑，為2價以上，較佳為2~20價之多元羧酸，與醇化合物所得之酯化合物。多元羧酸，以2~20價之脂肪族多元羧酸、3~20價之芳香族多元羧酸或3~20價之脂環式多元羧酸為佳。
多元羧酸之例，例如包含偏苯三甲酸、均苯三酸、均苯四酸等3價以上之芳香族多元羧酸或其衍生物；琥珀酸、己二酸、壬二酸、癸二酸、草酸、富馬酸、馬來酸、四氫苯甲酸等脂肪族多元羧酸；酒石酸、丙醇二酸、蘋果酸、檸檬酸等含氧多元羧酸等，就抑制薄膜產生之揮發之觀點，以含氧多元羧酸為佳。
醇化合物之例，例如包含具有直鏈或側鏈之脂肪族飽和醇化合物、具有直鏈或側鏈之脂肪族不飽和醇化合物、脂環式醇化合物或芳香族醇化合物等。脂肪族飽和醇化合物或脂肪族不飽和醇化合物的碳數，較佳為1~32，更佳為1~20，最佳為1~10。脂環式醇化合物之例，例如包含環戊醇、環己醇等。芳香族醇化合物之例，例如包含酚、對甲酚、二甲基酚、苄醇、桂皮醇等。醇化合物，可為一種亦可、二種以上之混合物亦可。
多元羧酸酯系可塑劑之分子量，並未有特別之限制，又以300~1000之範圍內為佳，以350~750之範圍內為較佳。多元羧酸酯系可塑劑之分子量，就抑制滲出(bleed out)之觀點，以較大者為佳。就透濕性或與纖 維素酯之相溶性之觀點，以較小者為佳。
多元羧酸酯系可塑劑之酸價，以1mgKOH/g以下為佳，以0.2mgKOH/g以下為更佳。酸價，係指中和試劑1g中所含有之酸(存在試劑中之羧基)所必要之氫氧化鉀的毫克數。酸價，可依JIS K0070為基準測定所得者。
多元羧酸酯系可塑劑之例，例如包含特開2008-88292號公報所記載之通式(II)所表示之酯化合物(B)等。
多元羧酸酯系可塑劑，可為鄰苯二甲酸酯系可塑劑。鄰苯二甲酸酯系可塑劑之例，例如包含二乙基鄰苯二甲酸酯、二甲氧基乙基鄰苯二甲酸酯、二甲基鄰苯二甲酸酯、二辛基鄰苯二甲酸酯、二丁基鄰苯二甲酸酯、二-2-乙基己基鄰苯二甲酸酯、二環己基鄰苯二甲酸酯、二環己基對苯二甲酸酯等。
乙二醇酯系可塑劑之例，例如包含烷基苯二甲醯烷基乙二醇酯類。烷基苯二甲醯烷基乙二醇酯類之例，例如包含甲基苯二甲醯甲基乙二醇酯、乙基苯二甲醯乙基乙二醇酯、丙基苯二甲醯丙基乙二醇酯、丁基苯二甲醯丁基乙二醇酯、辛基苯二甲醯辛基乙二醇酯等。
酯系可塑劑中，為例如包含脂肪酸酯系可塑劑、檸檬酸酯系可塑劑、磷酸酯系可塑劑、偏苯三甲酸系可塑劑等。
脂肪酸酯系可塑劑之例，例如包含油酸丁 酯、篦麻油酸甲基乙醯酯、癸二酸二丁基等。檸檬酸酯系可塑劑之例，例如包含檸檬酸乙醯基三甲酯、檸檬酸乙醯基三乙酯、檸檬酸乙醯基三丁酯等。磷酸酯系可塑劑之例，例如包含三苯基膦酸酯、三甲苯酚基膦酸酯、甲苯酚基二苯基膦酸酯、辛基二苯基膦酸酯、二苯基聯苯膦酸酯、三辛基膦酸酯、三丁基膦酸酯等。偏苯三甲酸系可塑劑之例，例如包含偏苯三甲酸辛酯、偏苯三甲酸n-辛酯、偏苯三甲酸異癸酯、偏苯三甲酸異壬酯等。
可塑劑之含量，相對於纖維素酯以0.5~30.0質量%之範圍內為佳。可塑劑之含量為30.0質量%以下時，光學薄膜則不易產生滲出(bleed out)現象。
(紫外線吸收劑)
本發明之光學薄膜，可再含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑，例如，苯併三唑系、2-羥基苯併酚系、水楊酸苯酯系等。具體而言，例如，2-(5-甲基-2-羥基苯基)苯併三唑、2-[2-羥基-3,5-雙(α，α-二甲基苄基)苯基]-2H-苯併三唑、2-(3,5-二-t-丁基-2-羥基苯基)苯併三唑等三唑類；2-羥基-4-甲氧基苯併酚、2-羥基-4-辛氧基苯併酚、2,2’-二羥基-4-甲氧基苯併酚等苯併酚類等。
其中，分子量為400以上之紫外線吸收劑，就於高沸點也不易揮發、高溫成形時也不易飛散等觀點，即使添加量較低時，也可對所得薄膜賦予耐候性。
分子量為400以上之紫外線吸收劑之例，例 如包含2-[2-羥基-3,5-雙(α，α-二甲基苄基)苯基]-2-苯併三唑、2,2-伸甲基雙[4-(1,1,3,3-四丁基)-6-(2H-苯併三唑-2-基)酚]等苯併三唑系；雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯等阻胺系；2-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苄基)-2-n-丁基丙二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)、1-[2-[3-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基)丙醯基氧基]乙基]-4-[3-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基)丙醯基氧基]-2,2,6,6-四甲基哌啶等分子內共有阻酚與阻胺之結構的混合物(hybrid)系；等。
較佳為2-[2-羥基-3,5-雙(α，α-二甲基苄基)苯基]-2-苯併三唑或2,2-伸甲基雙[4-(1,1,3,3-四丁基)-6-(2H-苯併三唑-2-基)酚]。該些可使用一種，或將二種以上合併使用亦可。
(微粒子)
本發明之光學薄膜，可含有由無機化合物或有機化合物所形成之微粒子。
無機化合物之例，例如包含二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、碳酸鈣、滑石、灰石、煅燒高嶺土、煅燒矽酸鈣、水和矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、磷酸鈣等。
有機化合物之例，例如包含聚四氟乙烯、纖 維素乙酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙基甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚乙烯碳酸酯、丙烯酸基苯乙烯系樹脂、矽氧系樹脂、聚碳酸酯樹脂、苯併胍(guanamine)系樹脂、三聚氰胺系樹脂、聚烯烴系粉末、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、有機高分子化合物(聚氟乙烯系樹脂、澱粉等)之粉碎分級物、懸濁聚合法所合成之高分子化合物、噴霧乾燥法或分散法等所形成球型之高分子化合物等。
微粒子，就使所得薄膜之霧值維持在低點之觀點，以含有矽之化合物，較佳為由二氧化矽所構成者。
二氧化矽微粒子之例，例如包含AEROSIL-R972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上、日本AEROSIL-(股)製)等。
其中，又以AEROSIL-200V、AEROSIL-R972V可使光學薄膜之霧值保持在低值之狀態，且可使薄膜表面得到高平滑性等，而為特佳。
氧化鋯微粒子之例，例如包含AEROSIL-R976、R811(以上、日本AEROSIL-(股)製)等。
高分子化合物之例，例如包含矽氧樹脂、氟樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂等，較佳為矽氧樹脂，更佳為具有三度空間捲膜結構的矽氧樹脂。該些矽氧樹脂之例，例如包含TOSPEARL 103、同105、同108、同120、同145、同3120、同240(以上、東芝矽氧(股)製)等。
微粒子之一次粒子的平均粒徑，較佳為5~ 400nm之範圍內，更佳為10~300nm之範圍內。微粒子，可形成主要粒徑為0.05~0.30μm之範圍內的二次凝集體。微粒子之平均粒徑為100~400nm之範圍內時，無需凝集亦可以一次粒子方式存在。
光學薄膜之至少一側面的動摩擦係數為0.2~1.0之範圍內時，以含有微粒子為佳。
微粒子之含量，相對於纖維素酯以0.01~1.00質量%之範圍內為佳，以0.05~0.50質量%之範圍內為較佳。
(分散劑)
本發明之光學薄膜，就提高微粒子之分散性的觀點，可再含有分散劑亦可。分散劑，為由胺系分散劑及含羧基之高分子分散劑所選出之一種或二種以上。
胺系分散劑，以烷基胺或聚羧酸之胺鹽為佳，該些具體例中，例如，包含使聚酯酸、聚醚酯酸、脂肪酸、脂肪酸醯胺、聚羧酸、伸烷基氧化物、聚伸烷基氧化物、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯丙三醇脂肪酸酯等經胺化所得之化合物等。胺鹽之例，例如包含醯胺胺鹽、脂肪族胺鹽、芳香族胺鹽、烷醇胺鹽、多價胺鹽等。
胺系分散劑之具體例中，例如包含，聚氧乙烯脂肪酸醯胺、聚氧乙烯烷基胺、三丙胺、二乙胺基乙胺、二甲胺基丙胺、二乙胺基丙胺等。市售品之例，例如包含Solsperse®系列(Lubrizol Corporation公司製)、 AJISPER系列(味之素公司製)、BYK系列(Bigchemi公司製)、EFKA系列(EFKA公司製)等。
含有羧基之高分子分散劑，以聚羧酸或其鹽為佳，例如聚羧酸、聚羧酸銨、聚羧酸鈉等。含有羧基之高分子分散劑之具體例中，例如包含，聚丙烯酸、聚丙烯酸銨、聚丙烯酸鈉、聚丙烯酸銨共聚物、聚馬來酸、聚馬來酸銨、聚馬來酸鈉等。
胺系分散劑或含有羧基之高分子分散劑，將其溶解於溶劑成份中使用亦可，使用市售者亦可。
分散劑之含量，依分散劑之種類等而有所不同，一般相對於微粒子以0.2質量%以上為佳。分散劑之含量，只要相對於微粒子為0.2質量%以上時，則可得到充分之微粒子分散性。
本發明之光學薄膜再含有界面活性劑等之情形，因界面活性劑之關係而不容易使分散劑吸附於微粒子表面，且微粒子相互間亦容易產生再凝集。分散劑因為高價品，故其含量以越少者為佳。另一方面，分散劑之含量過少時，容易產生微粒子濕潤度不佳，或分散安定性降低之情形。因此，本發明之光學薄膜尚含有界面活性劑等之情形，其分散劑之含量，相對於微粒子10.00質量份，以0.05~10.00質量份左右為佳。
(相位差控制劑)
為提高液晶顯示裝置等圖像顯示裝置的顯示品質，可 於光學薄膜中添加相位差控制劑、設置形成配向膜之液晶層、使偏光板保護薄膜與由液晶層產生之相位差形成複合化之方式，而賦予光學薄膜光學補償能力。
相位差控制劑，例如，歐洲專利911,656A2號說明書所記載之具有2個以上之芳香族環的芳香族化合物、特開2006-2025號公報所記載之棒狀化合物等。又，亦可合併使用二種類以上之芳香族化合物。該芳香族化合物之芳香族環中，除芳香族烴環以外，以含有芳香族性雜環的芳香族性雜環為佳。芳香族性雜環一般為不飽和雜環。其中又以特開2006-2026號公報所記載之1,3,5-三環為佳。
又，通式(1)所表示之化合物亦具有作為相位差控制劑之機能。因此，通式(1)所表示之化合物，可以一個化合物賦予對相位差控制與濕度變動之光學值變動抑制等二者之機能。
該些相位差控制劑之添加量，相對於作為薄膜基材使用之樹脂100質量%，以0.5~20質量%之範圍內為佳，以1~10質量%之範圍內為較佳。
(其他添加劑)
本發明之光學薄膜，可再含有成形加工時防止因熱分解或熱所產生之著色的抗氧化劑、抗靜電劑或難燃劑等。
磷系難燃劑，例如由紅磷、三芳基磷酸酯、二芳基磷酸酯、單芳基磷酸酯、芳基膦氧化合物、芳基膦 氧化物化合物、縮合芳基磷酸酯、鹵化烷基磷酸酯、含鹵素縮合磷酸酯、含鹵素縮合膦酸酯、含鹵素亜磷酸酯等所選出之一種以上者。其具體例中，又包含，三苯基膦酸酯、9,10-二氫-9-氧雜-10-磷化氫菲-10-氧化物、苯基膦酸、三(β-氯乙基)膦酸酯、三(二氯丙基)膦酸酯、三(三溴新戊基)膦酸酯等。
<光學薄膜之物性>
本發明之光學薄膜，可作為有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之光學薄膜使用。本發明之光學薄膜，又以作為偏光板保護薄膜、相位差薄膜、光學補償薄膜使用為佳。相位差薄膜或光學補償薄膜亦兼具偏光板保護薄膜者為佳。
λ/4相位差薄膜，具有特定光之波長(通常、可見光領域)之約1/4的面內方向的相位差值Ro。λ/4相位差薄膜，以由本發明之光學薄膜之單層所形成者為佳。λ/4相位差薄膜，較佳為作為有機EL顯示裝置的抗反射薄膜使用。
本發明之光學薄膜的阻滯值，並未有特別之限制，其可配合使用該光學薄膜之用途而作適當之調整。
本發明之光學薄膜於作為垂直配向型液晶顯示裝置用的光學補償薄膜使用之情形，以阻滯值滿足下述條件1及條件2之情形，可擴大可視角而為較佳。
條件1：溫度23℃、相對濕度55%之環境 下，以波長590nm測定之下式(I)所表示之面內阻滯值Ro(590)為40~100nm之範圍內。
式(I)：Ro=(nx-ny)×d
條件2：溫度23℃、相對濕度55%之環境下，以波長590nm測定之下式(II)所表示之厚度方向的阻滯值Rt(590)為100~300nm之範圍內。
式(II)：Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(其中，薄膜之面內中的遲相軸方向的折射率以nx表示、與薄膜之面內中的遲相軸垂直交叉方向的折射率以ny表示、薄膜之厚度方向的折射率以nz表示、d為薄膜之厚度(nm))。
所期待之阻滯，可依薄膜製作時的延伸倍率或阻滯提升劑之添加量、纖維素酯的醯基種類及取代度、薄膜之膜厚等予以控制、調整。
本發明之光學薄膜，於作為有機EL顯示裝置的抗反射等λ/4相位差薄膜使用之情形，於溫度23℃‧相對濕度55%之條件下，以波長450nm、550nm及650nm所測定之面內方向的相位差值Ro，分別為Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)時，該Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)以滿足下述式(a1)~(a3)者為佳。
(a1)110nm≦Ro(550)≦170nm
(a2)0.72≦Ro(450)/Ro(550)≦0.96
(a3)0.83≦Ro(550)/Ro(650)≦0.97
Ro(550)滿足式(a1)之光學薄膜，可得到作為λ/4相位差薄膜之較佳機能。其中又以滿足120nm≦Ro(550)≦160nm者為較佳，以滿足130nm≦Ro(550)≦150nm者為更佳。
Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)為滿足上述式(a2)及(a3)之光學薄膜時，其可得到優良之逆波長分散性，與作為λ/4相位差薄膜之更佳機能。又，使用光學薄膜所得之圖像顯示裝置於以黑顯示時，亦可降低光洩漏等。具體而言，例如，滿足式(a2)時，可得到高度之藍色重現性，滿足式(a3)時，可得到高度之紅色重現性。其中又以滿足0.79≦Ro(450)/Ro(550)≦0.89者為較佳，以滿足0.84≦Ro(550)/Ro(650)≦0.93者為更佳。
又，本發明之光學薄膜，於23℃‧55% RH之條件下，將波長550nm所測定之厚度方向的相位差值Rt設定為Rt(550)時，該Rt(550)以滿足50nm≦Rt(550)≦250nm者為佳。
所期待之阻滯，可以控制薄膜製作時的延伸倍率或阻滯提升劑之添加量、纖維素酯的醯基之種類及取代度、薄膜之膜厚等作適當之調整。
本發明之光學薄膜，以下述式(a4)所定義之Nz，以滿足下述式(a5)者為佳。
(a4)Nz=Rt(550)/Ro(550)+0.5
(a5)0≦Nz≦1
Nz滿足式(a5)時，厚度方向的相位差值Rt，因相對於面內方向的相位差值Ro為更小，故具備有本發明之光學薄膜的圖像顯示裝置，由斜向觀察時，亦可降低其色調之變化。
光學薄膜之面內的遲相軸與薄膜之搬送方向所形成之角度(亦稱為配向角)，以40~50°之範圍內者為佳。配向角為上述範圍內時，由滾筒所捲出之相對於長度方向(搬送方向)為斜面方向具有遲相軸之光學薄膜，與具有由滾筒所捲出之相對於長度方向(搬送方向)為平行的吸收軸之偏光薄膜，可於長度方向相互間進行重疊之方式，以『滾筒對滾筒(roll to roll)』貼合，而容易製造圓偏光板。亦可降低薄膜之切割損耗，而有利於生產。光學薄膜之配向角之測定，可使用自動雙折射計KOBRA-21ADH(王子計測機器)予以測定。
上述Ro及Rt，可使用自動雙折射率計，例如Axometric公司製之AxoScan、王子計測機器股份有限公司製之KOBRA-21ADH予以測定。使用AxoScan之情形，具體而言，例如，可依以下之方法進行測定。
1)使光學薄膜調整濕度至23℃‧55% RH。調濕後的光學薄膜之波長450nm、550nm、590nm及650nm的平均折射率，可使用亞伯折射計與分光光源予以測定。又，光學薄膜之膜厚d(nm)可使用膜厚計進行測定。
2)對於調濕後的光學薄膜，以與薄膜表面之法線為平行之方式分別射入波長450nm、550nm、590nm或650nm之光線時，該面內方向的相位差值Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)可使用AxoScan測定。測定為於23℃‧55% RH條件下進行。
3)使用AxoScan確認光學薄膜之面內的遲相軸。以確認後的遲相軸作為傾斜軸(迴轉軸)，再以相對光學薄膜之表面法線之的角度(入射角())，分別射入波長450nm、550nm、590nm及650nm之光線，以測定射入時的相位差值R()。R()之測定，於為0~50°之範圍內，以每10°測定6點之方式進行。測定，為於23℃‧55% RH之條件下進行。
4)由上述2)所測定之Ro(450)、Ro(550)、Ro(590)及Ro(650)，與上述3)中使用各波長450nm、550nm、590nm或650nm所測定之R()，與上述1)所測定之平均折射率及膜厚d，使用AxoScan分別算出nx、ny及nz。隨後，以上述式(ii)為基準，分別算出各波長450nm、550nm、590nm及650nm下，厚度方向的相位差值Rt(450)、Rt(550)、Rt(590)及Rt(650)。
光學薄膜之膜厚，由顯示裝置之薄型化、生產性之觀點，以10~100μm之範圍內為佳。膜厚為10μm以上時，可產生一定強度以上的薄膜強度或相位差。膜厚為100μm以下時，可抑制因熱或濕度所造成之相位差的 變動。較佳為20~70μm之範圍內。
本發明之光學薄膜之膜厚斑紋，無論厚度方向或寬度方向，皆以0~5μm之範圍內為佳，較佳為0~3μm之範圍內，最佳為0~2μm之範圍內。
光學薄膜之霧值(全霧值)，以未達1%為佳，以0.5%以下為較佳，以0.2%以下為更佳。霧值未達1%時，薄膜之透明性完全沒有劣化，而具有作為光學薄膜之充分的機能。
光學薄膜之霧值(全霧值)，依JIS K-7136為規定，可使用霧值計測器NDH-2000(日本電色工業股份有限公司製)測定。霧值計測器之光源為使用5V9W之鹵素燈泡，受光部為使用矽感光晶元(附視感度濾器)。霧值之測定，可於23℃‧55% RH之條件下進行。
本發明之光學薄膜之可見光透過率，以90%以上為佳，以93%以上為較佳。
本發明之光學薄膜，為依JIS-K7127-1999為基準所測定者，其至少一方向的斷裂伸度，較佳為10%以上，更佳為20%以上，最佳為30%以上。
<光學薄膜之製造方法>
本發明之光學薄膜，可使用溶液流延法或溶融流延法予以製造。就抑制光學薄膜之著色或異物等缺點、模線(die line)等光學缺點之觀點，以溶液流延法為佳，以降抑制溶劑殘留於光學薄膜之觀點，以溶融流延法為佳。
A)溶液流延法
含有纖維素酯的光學薄膜於使用溶液流延法製造的方法為包含，A1)至少將纖維素酯，與必要時所添加之其他添加劑溶解於溶劑中，以製作膠體之步驟、A2)使膠體流延於無端點的金屬支撐體上之步驟、A3)由流延之膠體中，使溶劑蒸發形成捲膜(web)之步驟、A4)將捲膜(web)由金屬支撐體剝離之步驟、A5)使捲膜乾燥後，進行延伸而製得薄膜之步驟。
A1)膠體調製步驟
於溶解釜中，將纖維素酯，與必要時所添加之其他添加劑溶解於溶劑中，以調製膠體。
溶劑，只要可以溶解纖維素酯、其他之添加劑等者即可，而沒有任何限制，皆可使用。例如，氯系有機溶劑，例如，二氯甲烷、非氯系有機溶劑，例如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、丙酮、四氫呋喃、1,3-二氧戊環、1,4-二噁烷、環己酮、甲酸乙基、2,2,2-三氟乙醇、2,2,3,3-四氟-1-丙醇、1,3-二氟-2-丙醇、1,1,1,3,3,3-六氟-2-甲基-2-丙醇、1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇、2,2,3,3,3-五氟-1-丙醇、硝基乙烷等，較佳可使用二氯甲烷、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮等。
膠體，以再含有1~40質量%之碳原子數1~4之直鏈或支鏈狀之脂肪族醇為佳。膠體中之醇的比例過 高時，捲膜容易凝膠化，而容易由金屬支撐體剝離。另一方面，膠體中之醇的比例較少時，可促進非氯系有機溶劑系之纖維素乙酸酯的溶解。
碳原子數1~4之直鏈或支鏈狀之脂肪族醇之例，例如包含甲醇、乙醇、n-丙醇、iso-丙醇、n-丁醇、sec-丁醇、tert-丁醇等。其中，就膠體具有更高之安定性、較低之沸點、高乾燥性等觀點而言，以乙醇為佳。
其中，膠體以使用含有作為溶劑的二氯甲烷，與碳數1~4之直鏈或支鏈狀之脂肪族醇者為佳。
膠體中之纖維素酯的濃度，就降低乾燥負荷之觀點，以較高者為佳，但纖維素酯之濃度過高時，將不容易過濾。因此，膠體中之纖維素酯的濃度，較佳為10~35質量%之範圍內，更佳為15~25質量%之範圍內。
使纖維素酯溶解於溶劑之方法，例如，於加熱及加壓下使其溶解之方法。加熱溫度，就可提高纖維素酯之溶解性的觀點，以較高者為佳。溫度過高時，因同時必須提高壓力，而會降低生產性，故加熱溫度以45~120℃之範圍內為佳。
添加劑，以批次方式添加於膠體亦可，將另外準備之添加劑溶解液於生產線上添加亦可。特別是，微粒子就降低對過濾材之負荷的觀點，以將全部或一部份於生產線上添加者為佳。
添加劑溶解液於生產線中添加之情形，為與膠體容易混合，以溶解少量的纖維素酯者為佳。較佳之熱 塑性樹脂的含量為，相對於溶劑100質量份，為1~10質量份之範圍內，更佳為3~5質量份之範圍內。
生產線添加及混合中，例如靜態攪拌器(東麗機械公司製)、SWJ(東麗靜止型管內混合器Hi-Mixer)等生產線攪拌器等為較佳使用者。
所得之膠體中，例如會含有作為原料之纖維素酯所含有之不純物等不溶物。該些不溶物，於所製得之薄膜中，將會形成亮點異物。故為去除不溶物等觀點，以將所得之膠體再過濾為佳。
膠體之過濾，以可將所得薄膜中之亮點異物數目達到一定數目以下之方式進行為佳。具體而言，例如，直徑為0.01mm以上亮點異物之數目，以200個/cm2以下，較佳為100個/cm2以下，更佳為50個/cm2以下，最佳為30個/cm2以下，特佳為10個/cm2以下之目標進行過濾。
直徑為0.01mm以下亮點異物亦以200個/cm2以下為佳，以100個/cm2以下為較佳，以50個/cm2以下者為更佳，以30個/cm2以下者為最佳，以10個/cm2以下為特佳，以皆無者為最佳。
薄膜之亮點異物數目，可依以下順序測定。
1)將2片偏光板以直交偏光(cross nicol)狀態配置，再將所得之薄膜配置於該些中間。
2)以其中一片之偏光板側接受光線，由另一片之偏光板側觀察時，將觀察到之漏光點數目作為異物計 數。
A2)流延步驟
將膠體由加壓鑄模之裂口向無端狀的金屬支撐體上流延。
金屬支撐體，以不銹鋼之鐵輸送帶或鑄物且表面經鍍敷修飾之滾筒等為較佳使用者。金屬支撐體之表面，又以鏡面修飾者為佳。
鑄件之寬度皆為1~4m之範圍內。流延步驟中之金屬支撐體的表面溫度設定為-50℃以上~溶劑沸騰但未發泡之溫度以下。溫度較高時，可增快捲膜乾燥速度而為較佳，但須為防止捲膜產生發泡、降低其平面性之溫度範圍內。
金屬支撐體之表面溫度，較佳為0~100℃之範圍內，更佳為5~30℃之範圍內。又，使金屬支撐體冷卻，使捲膜凝膠化後將含有大量殘留溶劑之狀態下，由滾筒剝離亦可。
金屬支撐體之溫度的調整方法，並未有特別之限制，其可使用吹拂溫風或冷風之方法，或使溫水接觸金屬支撐體裏側之方法。使用溫水時，可有效率地進行熱之傳導，且可縮短金屬支撐體到達一定溫度為止的時間，而為較佳。
使用溫風之情形，於考慮溶劑的蒸發潛熱所造成之捲膜溫度降低時，一般有使用於溶劑之沸點以上的 溫風、於防止發泡過程中使用較目的溫度更高溫度的風之情形。特別是由流延至剝離為止之間，變更金屬支撐體的溫度及乾燥風的溫度，以進行有效率的乾燥為佳。
A3)溶劑蒸發步驟
捲膜(將膠體流延於金屬支撐體上所得之膠體膜)於金屬支撐體上加熱，使溶劑被蒸發。捲膜之乾燥方法或乾燥條件，可依與前述A2)流延步驟為相同之方法。
A4)剝離步驟
將金屬支撐體上蒸發溶劑後之捲膜，由金屬支撐體上之剝離位置剝離之步驟。
由金屬支撐體上之剝離位置剝離時，捲膜之殘留溶劑量，就提高所得薄膜之平面性之觀點，以10~150質量%之範圍內為佳，以20~40質量%或60~130質量%之範圍內為較佳，以20~30質量%或70~120質量%之範圍內為最佳。
捲膜之殘留溶劑量，為依下述式所定義者。
殘留溶劑量(%)=(捲膜加熱處理前之質量-捲膜加熱處理後之質量)/(捲膜的加熱處理後質量)×100
又，測定殘留溶劑量之際的加熱處理，係為115℃、1小時之加熱處理之意。
A5)乾燥及延伸步驟
由金屬支撐體剝離所得之捲膜，配合必要之乾燥處理後，進行延伸。捲膜之乾燥，為將捲膜(web)以配置於上下之多數滾軸於搬送中進行乾燥亦可，將捲膜之兩端部以固定器固定後於搬送中進行乾燥亦可。
捲膜之乾燥方法，可使用熱風、紅外線、加熱滾軸、微波等乾燥之方法亦可，就方便上而言，以使用熱風乾燥之方法為佳。
經由將捲膜延伸之方式，可得到具有所期待之相位差的光學薄膜。光學補償薄膜之相位差，可以調整對捲膜之張力大小予以控制。
捲膜(web)之延伸，可依捲膜(web)之寬度方向(TD方向)、搬送方向(MD方向)或斜面方向之任一者皆可進行。
本發明之光學薄膜作為有機EL顯示裝置的抗反射等λ/4相位差薄膜使用之情形中，以至少向斜面方向，具體而言為相對於捲膜的搬送方向為45°方向進行延伸者為佳。
經由向斜面方向之延伸，僅需使由滾筒所捲出之長度方向具有吸收軸之偏光薄膜，與被滾筒所捲出之相對於長度方向之45°角具有遲相軸之光學薄膜，以長度方向為互相重合之方式，使滾筒對滾筒貼合即容易製造圓偏光板。亦可降低薄膜之切割損耗，而有利於生產。
捲膜之延伸，可使用單軸延亦可、二軸延伸 亦可。二軸延伸，可為依序二軸延伸亦可，同時二軸延伸亦可。
延伸倍率，為依所得光學薄膜之膜厚，或所尋求之相位差而有所不同，例如，互相垂直交叉的二軸方向的延伸倍率，以分別為最後的流延方向之0.8~1.5倍之範圍內、寬度方向之1.1~2.5倍之範圍內為佳，以流延方向之0.8~1.0倍之範圍內、寬度方向之1.2~2.0倍範圍內為較佳。斜面方向的延伸倍率，以1.1~5.0倍之範圍內為佳，以1.2~2.5倍之範圍內為較佳。
又，延伸倍率，以延伸前後的延伸方向中之薄膜長度之比值W/W0(W表示延伸前、W0表示延伸後的長度)所表示。延伸倍率1.0表示未延伸之意。
延伸溫度，較佳為120~230℃之範圍內，更佳為130~220℃之範圍內，最佳為大於140℃、且為210℃以下之範圍內。
捲膜之延伸方法，並未有特別之限制，其可於複數之滾軸間設置周速差，並利用該周速差使其向流延方向(搬送方向)延伸之方法(滾軸延伸法)、將捲膜兩端以固定器或固定夾固定，使其由固定器或固定夾之間隔作為流延方向而擴大延伸流延方向、擴大寬度方向而延伸寬度方向、同時擴大流延方向與寬度方向二者，同時向流延方向與寬度方向二者延伸之方法(擴張(tenter)延伸法)等。
向斜面方向延伸之過程，可使用把持寬度方 向的左右之把持手段，而可以左右獨立控制捲膜的把持長(把持開始至把持結束為止距離)度之方式擴張(tenter)亦可。該些延伸方法可組合使用亦可。
具有向斜面方向延伸之機制的延伸裝置之例，例如包含特開2003-340916號公報之實施例1所記載之延伸裝置、特開2005-284024號公報之圖1所記載之延伸裝置、特開2007-30466號公報所記載之延伸裝置、特開2007-94007號公報之實施例1所使用之延伸裝置等。
延伸開始時的捲膜之殘留溶劑，較佳為20質量%以下，更佳為15質量%以下。
延伸後的薄膜，於進行必要之乾燥後，予以捲取。薄膜之乾燥，可依與前述為相同之內容，將薄膜經由配置於上下之多數滾軸於搬送中進行乾燥亦可(滾軸方式)、將捲膜之兩端部使用固定器固定於搬送中進行乾燥亦可(擴張方式)。
B)溶融流延法
使用溶融流延法製造本發明之光學薄膜的方法，為包含，B1)製造溶融顆粒之步驟(顆粒化步驟)、B2)將溶融顆粒溶融混練之後，進行壓出步驟(溶融壓出步驟)、B3)使溶融樹脂冷卻固化以製得捲膜之步驟(冷卻固化步驟)、B4)延伸捲膜之步驟(延伸步驟)。
B1)顆粒化步驟
作為光學薄膜之主成份的含有熱塑性樹脂之樹脂組成物，以預先混練形成顆粒化者為佳。顆粒化，可依公知之方法進行，例如將含有前述熱塑性樹脂，與必要使用之可塑劑等添加劑的樹脂組成物，使用壓出機進行溶融混鍊之後，由鑄模以絞線狀壓出。使經絞線狀壓出之溶融樹脂，經水冷或氣冷後，經切塊而可製得顆粒。
顆粒之原材料，為防止其分解，可於供應於壓出機之前進行乾燥者為佳。
抗氧化劑與熱塑性樹脂之混合，可為固體相互間之混合亦可、將溶解於溶劑中的抗氧化劑浸漬於熱塑性樹脂之方式混合亦可、將抗氧化劑噴霧於熱塑性樹脂之方式混合者亦可。又，壓出機之管路(feeder)部份或鑄模出口部份的周邊之雰圍，就防止顆粒原材料之劣化等觀點，以除濕後之空氣或氮氣氣體等雰圍氣體為佳。
壓出機中，為避免產生樹脂劣化(分子量降低、著色、凝膠之生成等)之觀點，以使用低剪切力或低溫度下進行混練者為佳。例如，使用二軸壓出機進行混練之情形，可使用深溝形式之螺桿，使二個螺桿之迴轉方向為相同方向者為佳。為進行均勻之混鍊，以將二個螺桿形狀相互嚙合之方式者為佳。
又，亦可無需先將含有熱塑性樹脂之樹脂組成物顆粒化，或將未溶融混練之熱塑性樹脂以原料之狀態，於壓出機中進行溶融混練以製造光學薄膜亦可。
B2)溶融壓出步驟
將所得之溶融顆粒，與必要所添加之其他添加劑，由料斗供應於壓出機中。顆粒之供應，於防止顆粒氧化分解等狀態，以於真空下、減壓下或惰性氣體雰圍下進行者為佳。隨後，於壓出機中，將作為薄膜材料之溶融顆粒、必要所添加之其他添加劑進行溶融混練。
壓出機內的薄膜材料之溶融溫度，雖依薄膜材料之種類而有所不同，一般以薄膜之玻璃轉移溫度設定為Tg(℃)時，較佳為Tg~(Tg+100)℃之範圍內，更佳為(Tg+10)~(Tg+90)℃之範圍內。
此外，將可塑劑或微粒子等添加劑，於壓出機之中途進行添加之情形，為使該些成份得以均勻混合，可於壓出機之下流側，再配置靜態攪拌器等混合裝置亦可。
壓出機所壓出之溶融樹脂，必要時可使用圓盤式過濾器(leaf disc filter)等過濾後，再使用靜態攪拌器等進行混合，由鑄模壓出薄膜狀樹脂。
壓出流量，以使用齒狀幫浦使其安定化者為佳。又，去除異物所使用之圓盤式過濾器(leaf disc filter)，以使用不銹鋼纖維燒結過濾器為佳。不銹鋼纖維燒結過濾器，為將不銹鋼纖維體於複雜地絡合之後，進行壓縮，使接觸處所燒結而形成整體化者，可依其纖維之粗度與壓縮量而使密度改變，以調整過濾精度。
鑄模出口部份中之樹脂之溶融溫度，以200~ 300℃左右之範圍內為佳。
B3)冷卻固化步驟
由鑄模所壓出之樹脂，經由冷卻滾軸與彈性觸動滾軸捲動，使薄膜狀之溶融樹脂形成特定之厚度。隨後，將薄膜狀之溶融樹脂，經由複數冷卻滾軸，使其段階性地冷卻固化。
冷卻滾軸的表面溫度，於將所得之薄膜之玻璃轉移溫度設定為Tg(℃)時，以Tg(℃)以下為佳。複數個冷卻滾軸之表面溫度亦可為相異者。
彈性觸動滾軸亦稱為壓挾迴轉體。彈性觸動滾軸，亦可使用市售者。彈性觸動滾軸側之薄膜表面溫度，以薄膜之Tg~(Tg+110)℃之範圍為佳。
將冷卻滾軸固化所得之薄膜狀的溶融樹脂使用剝離滾軸等予以剝離後，得捲膜。剝離薄膜狀之溶融樹脂之際，為防止所得捲膜之變形，以調整張力為佳。
B4)延伸步驟
將所得之捲膜(web)，使用延伸機進行延伸，而製得薄膜。延伸，可依捲膜之寬度方向、搬送方向或斜面方向任一方向進行。
本發明之光學薄膜作為有機EL顯示裝置的抗反射等λ/4相位差薄膜使用之情形中，以至少為斜面方向，具體而言，為相對於捲膜的搬送方向為45°方向延伸 者為佳。
捲膜之延伸方法、延伸倍率及延伸溫度，與前述為相同之內容。
<偏光板>
本發明中的光學薄膜，可使用於本發明之偏光板、使用其之本發明之液晶顯示裝置。本發明中的光學薄膜，以兼具有偏光板保護薄膜之機能的薄膜為佳，此時因不需使用具有與偏光板保護薄膜為不同相位差的光學薄膜，故可使液晶顯示裝置之厚度薄化，且可使製造製程簡單化。
本發明之液晶顯示裝置，於液晶晶元的兩者之面上，以介由黏著層貼合於本發明中的偏光板所得者為佳。
本發明中的偏光板可依一般方法予以製作。以本發明中的光學薄膜之偏光子側進行鹼皂化處理，將其浸漬於碘溶液中，進行延伸製作的偏光子的至少一側之面上，使用完全鹼皂化型聚乙烯基醇水溶液者為佳。另一側之面上，亦可其他偏光板保護薄膜。本發明中的光學薄膜於作為液晶顯示裝置之際，以設置於偏光子之液晶晶元側者為佳，偏光子外側的薄膜可使用以往所使用之偏光板保護薄膜。
例如，以往使用之偏光板保護薄膜，例如，適合使用者包含市售的纖維素酯薄膜(例如，可尼嘉美樂達KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、 KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UXW-RHA-C、KC8UXW-RHA-NC、KC4UXW-RHA-NC，以上可尼嘉美樂達開發(股)製)等。
<黏著劑>
圖1為液晶顯示裝置之構成例示之模式圖。圖1所示之形態中，相位差薄膜105與偏光子104為介由活性能量線硬化性黏著劑103B黏著。使用活性能量線硬化性黏著劑之理由為，可有效地控制透濕性而為較佳。但，本發明中，不僅活性能量線硬化性黏著劑，亦可使用胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、水性高分子-異氰酸酯系黏著劑、熱硬化型丙烯酸黏著劑等硬化型黏著劑、濕氣硬化胺基甲酸酯黏著劑、聚醚甲基丙烯酸酯型、酯系甲基丙烯酸酯型、氧化型聚醚甲基丙烯酸酯等嫌氣性黏著劑、氰基丙烯酸酯系之瞬間黏著劑、丙烯酸酯與過氧化物系之2液型瞬間黏著劑等皆可使用。上述黏著劑可為1液型亦可、使用前為2液以上，而將其混合使用之2液型亦可。黏著劑，可為使用有機溶劑作為介質之溶劑系亦可、以水作為主成份之介質的懸濁液型、膠體分散液型、水溶液型等水系亦可，亦可為無溶劑型。黏著劑液之濃度，可依黏著後的膜厚、塗佈方法、塗佈條件等作適當之決定即可，通常為0.1~50質量%。
(活性能量線硬化性黏著劑)
活性能量線硬化性黏著劑之較佳例，例如，特開2011-028234號公報所揭示般，含有(α)陽離子聚合性化合物、(β)光陽離子聚合起始劑、(γ)對於較380nm更長之波長的光線具有極大吸收的光增感劑，及(δ)萘系光增感助劑等各成份之活性能量線硬化性黏著劑組成物等。但，亦當然可以使用該些以外的活性能量線硬化性黏著劑組成物。
偏光板，以使用活性能量線硬化性黏著劑，於偏光子之一者之面上，貼合本發明之光學薄膜之方式而可製得。相位差薄膜之兩面其黏著性相異之情形，以貼合於黏著性較佳者為佳。
以下，將說明使用活性能量線硬化性黏著劑製造偏光板之製造方法的一例示。
偏光板，可使用包含，於偏光子與相位差薄膜之黏著面中，至少一面上塗佈下述之活性能量線硬化性黏著劑，以形成黏著劑層之黏著劑塗佈步驟，與介由該黏著劑層黏著偏光子與相位差薄膜，使其貼合之貼合步驟，與介由該黏著劑層，使偏光子與相位差薄膜於黏著之狀態下，使黏著劑層硬化之硬化步驟的製造方法所製造者。又，黏著相位差薄膜之偏光子之面，可進行易黏著處理的前處理步驟。
(前處理步驟)
前處理步驟為，使與偏光子黏著之相位差薄膜之表面進行易黏著處理。偏光子之兩面，分別黏著相位差薄膜及保護薄膜之情形，可分別對相位差薄膜及保護薄膜進行易黏著處理。於隨後之黏著劑塗佈步驟中，因易黏著處理後之表面為作為與偏光子貼合面處理，故相位差薄膜之兩表面中，與活性能量線硬化性黏著劑貼合之面上，為施以易黏著處理。易黏著處理，例如，電暈處理、電漿處理等。
(黏著劑塗佈步驟)
黏著劑塗佈步驟中，為將偏光子與相位差薄膜之黏著面中之任一者，塗佈上述活性能量線硬化性黏著劑。直接將活性能量線硬化性黏著劑塗佈於偏光子或相位差薄膜之表面時，其塗佈方法並未有特別之限定。例如，可利用刮刀塗佈、輪狀塗佈、鑄模塗佈、條狀塗佈、網版塗佈等，各種濕式塗佈方式。又，亦可利用偏光子與相位差薄膜之間，使其流延活性能量線硬化性黏著劑，再使用滾軸等進行均勻加壓使其擴大之方法。
(貼合步驟)
依上述之方法塗佈活性能量線硬化性黏著劑之後，進行貼合步驟處理。此貼合步驟，例如，於先前塗佈步驟中於偏光子表面塗佈活性能量線硬化性黏著劑之情形，為於該處與相位差薄膜重疊。先前塗佈步驟中於相位差薄膜之表面塗佈活性能量線硬化性黏著劑之情形，為於該處與偏 光子重疊。又，偏光子與相位差薄膜之間使其流延活性能量線硬化性黏著劑之情形，為於該狀態下使偏光子與相位差薄膜重疊。偏光子之兩面黏著相位差薄膜及保護薄膜之情形，且兩面皆使用活性能量線硬化性黏著劑之情形，該偏光子之兩面分別介由活性能量線硬化性黏著劑而重疊相位差薄膜及保護薄膜。又，通常可於該狀態下，使兩面(偏光子之一側面重疊相位差薄膜之情形為偏光子側及相位差薄膜側，又偏光子的兩面重疊相位差薄膜及保護薄膜之情形，為其兩面之相位差薄膜及保護薄膜側)經由滾軸等挾夾加壓而製得。滾軸之材質，可使用金屬或橡膠等。配置於兩面之滾軸，可為相同材質亦可，相異之材質亦可。
(硬化步驟)
硬化步驟為，對未硬化之活性能量線硬化性黏著劑照射活性能量線，使含有陽離子聚合性化合物(例如，環氧化合物或環氧丙烷化合物)或自由基聚合性化合物(例如，丙烯酸酯系化合物、丙烯醯胺系化合物等)的活性能量線硬化性黏著劑硬化，介由活性能量線硬化性黏著劑重疊，而使偏光子與相位差薄膜，或偏光子與相位差薄膜黏著。偏光子之一側面貼合相位差薄膜之情形，活性能量線可由偏光子側或相位差薄膜側之任一側照射皆可。又，偏光子之兩面貼合相位差薄膜及保護薄膜之情形，以偏光子的兩面分別介由活性能量線硬化性黏著劑而使相位差薄膜 及保護薄膜重疊之狀態下，照射活性能量線，而使兩面的活性能量線硬化性黏著劑同時硬化者為更佳。
適用於硬化之活性能量線，例如，可使用可見光線、紫外線、X線、電子線等，就容易處理且硬化速度亦極快速之觀點，一般以使用電子線紫外線為佳。
電子線之照射條件，只要為可使前述黏著劑硬化之條件時，可採用任意之適當條件。例如，電子線照射，其加速電壓較佳為5~300kV之範圍內，最佳為10~250kV之範圍內。加速電壓未達5kV之情形，電子線無法到達黏著劑而會有造成硬化不足之疑慮，加速電壓超過300kV時，因通過試劑之浸透力過強而會造成電子線跳動，而會有造成相位差薄膜或偏光子傷害之疑慮。照射線量一般為5~100kGy之範圍內，最佳為10~75kGy之範圍內。照射線量未達5kGy之情形，會造成黏著劑硬化不足，超過100kGy時，會對相位差薄膜或偏光子造成傷害，而降低機械性強度或產生黃變，而無法得到所需之光學特性。
紫外線之照射條件，只要為可使用前述黏著劑硬化之條件時，可採用任意之適當條件。紫外線之照射量，以積算光量為50~1500mJ/cm2之範圍內為佳，以100~500mJ/cm2之範圍內為更佳。
前述製造方法使用連續製程之方式進行，線路之速度依黏著劑之硬化時間而有所不同，較佳為1~500m/min之範圍內，更佳為5~300m/min、最佳為10~ 100m/min之範圍內。線路速度過於緩慢時，除生產性不佳以外，或對相位差薄膜產生更大之傷害，無法製得可負荷耐久性試驗等之偏光板。線路速度過快之情形，因黏著劑之硬化並不充分，而會有無法得到目的之黏著性的情形。
依以上方式所製得之偏光板，其黏著劑層之厚度並未有特別之限制，通常為0.01~10之範圍內，較佳為0.5~5μm之範圍內。
顯示裝置之表面側所使用之偏光板保護薄膜，中，除防眩層或透明硬塗覆層以外，以具有抗反射層、抗靜電層、防污層、後塗佈層者為佳。
作為偏光板之主要構成要素之偏光子，係指僅使一定方向的偏波面之光通過之元件，現在已知之代表性偏光子，為聚乙烯基醇系偏光薄膜，其具有聚乙烯基醇系薄膜上經碘染色者與二色性染料染色者。
偏光子，一般為使用聚乙烯基醇水溶液製膜，將其進行單軸延伸、染色，或染色後進行後進行單軸延伸等方法，較佳為使用經耐久性處理所得之硼化合物。偏光子之膜厚以5~30μm之範圍內為佳，特別是以10~20μm之範圍內為佳。
<液晶顯示裝置>
液晶顯示裝置使用本發明之光學薄膜的偏光板時，可製作各種具有優良可視性的本發明之圖像顯示裝置。
本發明之光學薄膜、偏光板可使用於STN、TN、OCB、HAN，VA(MVA、PVA)、IPS、OCB等各種驅動方式的液晶顯示裝置。
特別是以使用於VA(MVA、PVA)型液晶顯示裝置為佳。
特別是畫面為30型以上的大畫面液晶顯示裝置，也可降低因光洩漏所造成之黑顯示時的著色度，而可得到正面反差等優良可視性之液晶顯示裝置。
<圓偏光板>
本發明之圓偏光板為具備偏光子(直線偏光膜)，與配置於至少一側之面上的本發明之光學薄膜。本發明之光學薄膜，可直接貼合於偏光子亦可，或介由其他層或薄膜予以配置亦可。
偏光子，可為使用碘系偏光膜、二色染料之染料系偏光膜或聚烯系偏光膜。碘系偏光膜、染料系偏光膜，一般而言，為將聚乙烯基醇系薄膜進行單軸延伸後，使用碘或二色性染料染色所得之薄膜亦可，將聚乙烯基醇系薄膜使用碘或二色性染料染色之後，進行單軸延伸所得之薄膜(較佳為再經硼化合物施以耐久性處理所得之薄膜)亦可。偏光子之透過軸，與薄膜之延伸方向為平行。
聚乙烯基醇系薄膜，可為使用聚乙烯基醇水溶液製膜所得者。聚乙烯基醇系薄膜，就具有優良之偏光性能及耐久性能，較少之色斑等觀點，以使用乙烯變性聚 乙烯基醇薄膜為佳。
二色性染料之例，例如包含偶氮系色素、二苯乙烯系色素、吡唑啉桐系色素、三苯基甲烷系色素、喹啉系色素、噁嗪系色素、噻嗪系色素及蒽醌系色素等。
偏光子之厚度，以5~30μm之範圍內為佳，以10~20μm之範圍內為較佳。
偏光子之透過軸，與本發明之光學薄膜之面內的遲相軸所形成之角度，為40~50°之範圍內，較佳為45°。
偏光子與本發明之光學薄膜之間，可再配置反射偏光板。反射偏光板為，可透過與偏光子之透過軸平行方向的直線偏光，而反射與透過軸不同方向的直線偏光。具有該些圓偏光板之有機EL顯示裝置，可產生較發光層發光之光為更多而射出外側。
反射偏光板之例，例如包含一方向中，將折射率相異之高分子薄膜交互層合所得之雙折射光偏光子(特表平8-503312號公報所揭示)、具有膽固醇結構之偏光分離膜(特開平11-44816號公報所揭示)等。又，偏光子之表面可再配置保護膜。
偏光子之一側之面上配置本發明之光學薄膜的情形，偏光子之另一側之面上，可配置本發明之光學薄膜以外的透明保護薄膜。透明保護薄膜，並未有特別之限制，其可為通常之纖維素酯薄膜等。纖維素酯薄膜之例，較適合使用者，例如市售的纖維素酯薄膜(例如，可尼嘉 美樂達KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UXW-RHA-C、KC8UXW-RHA-NC、KC4UXW-RHA-NC(以上為可尼嘉美樂達開發(股)製)等)。
透明保護薄膜之厚度，並未有特別之限制，一般可於10~200μm程度之範圍內，較佳為10~100μm之範圍內，更佳為10~70μm之範圍內。
透明保護薄膜或λ/4相位差薄膜，配置於顯示器之最表面之情形，該透明保護薄膜或λ/4相位差薄膜之最表面，可再設置透明硬塗覆層、防眩層、抗反射層等。
圓偏光板，可經由將偏光子，與本發明之光學薄膜貼合之步驟而可製得。貼合所使用之黏著劑，較適合使用者，例如完全鹼皂化型聚乙烯基醇水溶液等。
圓偏光板，較適合使用者，例如，後述有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。
<圖像顯示裝置>
本發明之圖像顯示裝置，為具備本發明之光學薄膜。本發明之圖像顯示裝置之例，例如包含有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等。
圖2為有機EL顯示裝置之構成例示之模式圖。
有機EL顯示裝置為使用有機EL元件之顯示 裝置。有機EL元件為包含於一對之電極以電流注入方式發光的有機發光材料之元件。由陰極注入之電子與由陽極注入之正孔，於有機發光材料內再結合之際的能量以光之形式向外部表現者。
如圖2所示般，有機EL顯示裝置10，依序具有光反射電極12、發光層14、透明電極層16、透明基板18及圓偏光板20。圓偏光板20，具有λ/4相位差薄膜20A及偏光子20B。λ/4相位差薄膜20A，為本發明之光學薄膜，偏光子20B為直線偏光膜。
光反射電極12，以由高光反射率的金屬材料所構成者為佳。金屬材料之例，例如包含Mg、MgAg、MgIn、Al、LiAl等。光反射電極12之表面越平坦時，以其可防止光之亂射，而為更佳。
光反射電極12，可使用濺鍍法形成而得。光反射電極12，亦可進行圖型形成(Patterning)。圖型形成(Patterning)，可依蝕刻方式而得。
發光層14為包含R(紅)、G(綠)及B(藍)之發光層。各發光層為含有發光材料。發光材料，可為無機化合物亦可、有機化合物亦可，較佳為有機化合物。
R、G、B之各發光層，可再含有電荷輸送材料，使其再具有電荷輸送層之機能亦可。R、G、B之各發光層，可再含有孔穴輸送材料，使其再具有孔穴輸送層之機能亦可。R、G、B之各發光層，不含電荷輸送材料或孔 穴輸送材料之情形，有機EL顯示裝置10，可再具有電荷輸送層或孔穴輸送層。
發光層14，可將發光材料蒸鍍而形成。R、G、B之各發光層，可分別進行圖型形成。圖型形成，可使用光遮罩等進行。
透明電極層16，一般而言，為ITO(氧化銦錫)電極。透明電極層16，可以濺鍍法等形成。透明電極層16，可進行圖型形成。圖型形成可使用蝕刻進行。
透明基板18，只要為可透過光線者即可，例如，玻璃基板、塑膠薄膜等。
圓偏光板20中，λ/4相位差薄膜20A為設置於透明基板18側，偏光子20B為設置於可視側V。
有機EL顯示裝置10中，經由於光反射電極12與透明電極層16間通電，使發光層14發光，即可顯示圖像。又，R、G及B之發光層分別為可通電之構成內容，故可進行全彩圖像顯示。
本發明之光學薄膜或含有其之圓偏光板，不僅適用於具有前述構成之有機EL顯示裝置，亦適用於國際專利申請WO96/34514號說明書、特開平9-127885號公報及同11-45058號公報所記載之有機EL顯示裝置。該情形中，本發明之光學薄膜或圓偏光板，即可取代原本所設置之有機EL顯示裝置的抗反射手段，或與其同時配置皆可。又，本發明之光學薄膜或圓偏光板，例如亦適合使用於「電致發光顯示器」(猪口敏夫著、產業圖書股份有 限公司、1991年發行)所記載之無機EL顯示裝置。
圖3為說明上述圓偏光板20所造成之抗反射機能的模式圖。
含有直線偏光a1及b1的光由外部以與有機EL顯示裝置10之顯示畫面的法線平行之方式射入時，僅有與偏光子20B之透過軸方向為平行的直線偏光b1會通過偏光子20B。不與偏光子20B之透過軸平行的其他直線偏光a1，則被偏光子20B所吸收。通過偏光子20B的直線偏光b1，經由通過λ/4相位差薄膜20A，而變換為圓偏光c2。圓偏光c2，經被有機EL顯示裝置10的光反射電極12(參考圖2)反射時，將形成逆轉的圓偏光c3。逆轉的圓偏光c3，於通過λ/4相位差薄膜20A時，則變換為與偏光子20B之透過軸垂直交叉的直線偏光b3。該直線偏光b3，則被偏光子20B所吸收，而無法通過。
如此，由外部射入有機EL顯示裝置10之光(包含直線偏光a1及b1)，因全部被偏光子20B所吸收，故即使被有機EL顯示裝置10的光反射電極12所反射，也不會射出於外部。因此，其可防止因映入背景而降低圖像顯示特性。
又，有機EL顯示裝置10之內部產生之光，即發光層14所產生之光，包含圓偏光c3及c4等二個圓偏光成份。一側之圓偏光c3，如上所述般，通過λ/4相位差薄膜20A，而變換為直線偏光b3，未通過偏光子20B而被吸收。另一側之圓偏光c4，因通過λ/4相位差薄膜 20A，故變換為與偏光子20B之透過軸平行之直線偏光b4。因此，直線偏光b4通過偏光子20B，而變換為直線偏光b4，而解像為圖像。
偏光子20B與λ/4相位差薄膜20A間，可再配置反射偏光板(不圖示)，其可反射與偏光子20B之透過軸為垂直交叉的直線偏光b3。反射偏光板中，直線偏光b3不被偏光子20B所吸收而反射，其於光反射電極12上被再度反射，而變換為與偏光子20B的透過軸為平行之直線偏光b4。再配置反射偏光板時，可將發光層14發光所產生之光，全部(圓偏光c3及c4)射出於外側。
圖4為液晶顯示裝置之構成例示之模式圖。
如圖4所示般，液晶顯示裝置30為具有，液晶晶元40、挾夾液晶晶元40的二個偏光板50、60及背光70。
液晶晶元40之顯示方式，並未有特別之限制，例如TN(Twisted Nematic)方式、STN(Super Twisted Nematic)方式、IPS(In-Plane Switching)方式、OCB(Optically Compensated Birefringence)方式，VA(Vertical Alignment)方式(包含MVA；Multi-domain Vertical Alignment、PVA；Patterned Vertical Alignment)、HAN(Hybrid Aligned Nematic)方式等。就提高反差之觀點，以VA(MVA、PVA)方式為佳。
VA方式的液晶晶元，為具有一對透明基板，與其間所挾持之液晶層。
一對透明基板中，於其中一側之透明基板上，配置有對液晶分子施加電壓之畫素電極。對向電極，可配置於一側之透明基板(配置有畫素電極之透明基板)亦可，配置於另一側之透明基板亦可。
液晶層，為包含具有負或正介電率異向性的液晶分子。液晶分子，經由設置於透明基板的液晶層側之面的配向膜之配向規制力，於未施加電壓下，於畫素電極與對向電極之間並不會產生電場時，液晶分子之長軸，為以相對於透明基板之表面為略為垂直之配向。
依此方式所構成之液晶晶元，畫素電極受到圖像信號而施加電壓時，可於畫素電極與對向電極之間產生電場。如此，可使初期相對於透明基板之表面為垂直配向之液晶分子，以其長軸相對於基板面為水平方向之方式進行配向。如此，驅動液晶層，而透過各副畫素之透過率及改變反射率而進行圖像顯示。
偏光板50為具有配置於可視側V之偏光子52，與挾夾偏光子52之保護薄膜54及56。
偏光板60為具有配置於背光70側之偏光子62，與挾夾偏光子62之保護薄膜64及66。保護薄膜56及64之任一者，可配合必要性予以省略。
保護薄膜54、56、64及66中之任一者，皆可作為本發明之光學薄膜。
<光學透鏡>
本發明之樹脂組成物，可使用於光學透鏡。構成光學透鏡之樹脂，為水吸附性樹脂。較佳之水吸附性樹脂，例如，丙烯酸樹脂(聚甲基丙烯酸甲基等)、聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯等)、聚醯胺(耐隆等)、聚碳酸酯、纖維素衍生物(纖維素乙酸酯、乙基纖維素等)等。其中，又以丙烯酸樹脂或纖維素衍生物為佳。
[實施例]
以下，將列舉實施例具體說明本發明，但本發明並不受該些所限定。又，實施例中之「份」或「%」之表示，於無特別限定下，係表示「質量份」或「質量%」。
[實施例1]
製作以下之各種混合，並確認本發明中的添加劑N與水吸附性樹脂之CH/π相互作用。
<混合液1之製作>
將乙醯基取代度2.4、數平均分子量200000之纖維素乙酸酯樹脂0.1g及四甲基矽烷3滴加入重丙酮1ml中，於室溫下攪拌12小時，使其完全溶解。
<混合液2之製作>
將乙醯基取代度2.4、數平均分子量200000之纖維素 乙酸酯樹脂0.1g、乙酸0.1g及四甲基矽烷3滴加入重丙酮1ml中，於室溫下攪拌12小時，使其完全溶解。
<混合液3之製作>
將乙醯基取代度2.4、數平均分子量200000之纖維素乙酸酯樹脂0.1g、三乙胺0.1g及四甲基矽烷3滴加入重丙酮1ml中，於室溫下攪拌12小時，使其完全溶解。
<混合液4之製作>
將乙醯基取代度2.4、數平均分子量200000之纖維素乙酸酯樹脂0.1g、例示化合物6 0.1g及四甲基矽烷3滴加入重丙酮1ml中，於室溫下攪拌12小時，使其完全溶解。
<1H-NMR之測定>
混合液1~4之1H-NMR測定結果係如下所示。又，1H-NMR之化學位移為使用內部標準之四甲基矽烷為基準(0ppm)所算出者。
1H-NMR之測定，為使用Lambda400(日本電子股份有限公司製)，於400MHz之條件下進行者。測定結果係如圖所示。圖5A~5D為顯示CH/π鍵結之一例示的混合液之1H-NMR圖譜。圖5A~5D，分別對應於混合液1~4之測定結果。
作為比較之圖5A的僅有樹脂(混合液1)之 情形，該1.92~2.08ppm之波峰(a)係歸屬於纖維素乙酸酯的乙醯基之CH3質子，3.16~5.08ppm之波峰b，為歸屬於葡萄糖骨架的碳上之質子。
此波峰之位置，於添加有氫供應性之乙酸或氫接受性之三乙胺所得之混合液2或混合液3中，纖維素乙酸酯樹脂的質子之化學位移，與作為基準的混合液1幾乎未有變化(請參考比較圖5B及5C)。相對於此，添加本發明中的例示化合物6所得之混合液4中，纖維素乙酸酯樹脂的質子(波峰a與波峰b)之化學位移相對於作為基準的混合液1，其向低磁場位移(請參考圖5D)。因而得知，本發明中的例示化合物6，經由樹脂與CH/π相互作用，而存在於樹脂近邊。
又，圖5A~5D中，波峰c歸屬於水之質子。
[實施例2] [光學薄膜101之製作]
將下述成份使用高速混練機(DISSOLVER)攪拌混合50分鐘之後，使用微細均質分散器(MANTONGOOLIN)分散，以製作微粒子分散液。
(微粒子分散液)
將二氯甲烷投入溶解容器中，將所製得之微粒子分散液依下述之添加量，於充分攪拌中緩緩添加於下述微粒子添加液成份中。其次，微粒子之二次粒子的粒徑為使用具有特定大小之粉碎器(Attritor)分散後，再以FINEMET-NF(日本精線(股)製)過濾，得微粒子添加液。
(微粒子添加液)
下述主膠體成份為，將二氯甲烷與乙醇投入加壓溶解容器中。其次，將下述纖維素衍生物C1、醣酯S、例示化合物1及所製得之微粒子添加液於攪拌中投入，經加熱、攪拌，使其完全溶解。所得之溶液，使用安積濾紙(股)製之安積濾紙No.244過濾，而製得主膠體。
(主膠體之組成)
以下為添加有作為可塑劑之醣酯S之結構。
使用無端輸送帶流延裝置，將所得之膠體使其均勻地延流於不銹鋼輸送帶支撐體上。使延流(鑄體)於不銹鋼輸送帶支撐體上的膠體膜中之溶劑，蒸發至殘留溶劑量達75%為止，將所得捲膜由不銹鋼輸送帶支撐體上剝離。將剝離之捲膜，使用以擴張固定器把持的延伸裝置進行搬送。其次，將所得之薄膜，於乾燥區內，於以多數滾軸搬送中進行乾燥。將以擴張固定器把持之薄膜的寬度方向端部，以雷射切割器開裂去除後，進行捲取而得織物薄膜。
將所得織物薄膜捲取，將織物薄膜以玻璃轉移溫度Tg+20℃之延伸溫度、1.35倍之延伸倍率下，沿薄膜之寬度方向延伸，得光學薄膜101。光學薄膜101之膜厚為50μm。
[光學薄膜102~209之製作]
光學薄膜1之製作中，除纖維素衍生物之種類及添加量、其他樹脂之種類及添加量、醣酯等可塑劑的種類及添加量、前述通式(1)所表示之化合物或比較化合物之種 類，及延伸倍率、延伸後的光學薄膜之膜厚為依下述表3~表5所示內容變更以外，其他皆依相同方法製作光學薄膜102~209。光學薄膜之膜厚，可以改變膠體流量之方式予以調整。
又，光學薄膜190~193，為不進行延伸處理者。
又，光學薄膜201~207為，以織物薄膜之玻璃轉移溫度Tg+20℃之延伸溫度、2.2倍的延伸倍率下，對薄膜之搬送方向為45°傾斜的斜面方向延伸所製作者。所得光學薄膜1之膜厚為30μm。光學薄膜201~207之面內遲相軸與薄膜之搬送方向所形成之角度，無論任一者皆為45°。
表2為表示所使用之纖維素衍生物的詳細內容。
又，表3~表7所記載之比較化合物的化學結構式係如以下所示。
(聚酯化合物A1之合成)
將236質量份之乙二醇、683質量份之1,4-丁二醇、1180質量份之琥珀酸、0.03質量份之四丁基鈦酸酯投入裝設有冷凝器之反應器中，於140℃下2小時、220℃下2小時後，將冷凝器取出，於220℃下再以20小時進行脫水縮合反應，得數平均分子量2000之聚酯(A1)。使用其所得之乙二醇之碳數的平均為3.33、二鹼酸之碳數為4。
(芳香族末端酯化合物P1之合成)
將苯甲酸410份、安息香酸610份、二丙二醇737份，及作為觸媒之四異丙基鈦酸酯0.40份一起加入反應容器中，於氮氣氣流中，攪拌下、使用迴流凝縮器使過剩之單元醇於迴流中，以130~250℃加熱至酸價達2以下為止，將持續生成之水連續去除。其次，再於200~230℃、100~最後為4.00MPa以下之減壓下，去除餾出部分，其後經過濾後，得具有以下性狀之芳香族末端聚酯。
(芳香族末端酯化合物P2之合成)
將1,2-丙二醇251g、苯甲酸酐278g、己二酸91g、安 息香酸610g、作為酯化觸媒之四異丙基鈦酸酯0.191g加入具備有溫度計、攪拌器、緩急冷卻管的2L四口燒瓶中，於氮氣氣流中，於攪拌中徐徐升溫至230℃為止。進行15小時之脫水縮合反應，反應結束後，於200℃下減壓餾除未反應的1,2-丙二醇，得芳香族末端酯化合物P2。酸價為0.10、數平均分子量為450。
(芳香族末端酯化合物P3之合成)
將1,2-丙二醇251g、對苯二甲酸354g、安息香酸610g、作為酯化觸媒之四異丙基鈦酸酯0.191g，加入具備有溫度計、攪拌器、緩急冷卻管之2L四口燒瓶中，於氮氣氣流中，攪拌中徐徐升溫至230℃為止。進行15小時脫水縮合反應，反應結束後，於200℃下將未反應之1,2-丙二醇減壓餾除，得芳香族末端酯化合物P3。酸價為0.10、數平均分子量為400。
《光學薄膜之評估》
對上述所製作之各光學薄膜，進行下述各特性值之測定及評估。
(阻滯值之測定)
所製作之光學薄膜，於溫度23℃、相對濕度55%之環境下，使用光波長590nm、自動雙折射計KOBRA-21ADH(王子計測機器)，測定依下述式所表示的阻滯值 Ro、Rt。
具體而言，例如，光學薄膜於23℃、55% RH之環境下，於590nm之光波長下，測定10處三度空間的折射率測定，求取折射率nx、ny、nz之平均值後，依下述式算出面內方向的阻滯值Ro、厚度方向的阻滯值Rt。
式(I)：Ro(590)=(nx-ny)×d
式(II)：Rt(590)={(nx+ny)/2-nz}×d[式(I)及式(II)中，nx表示，薄膜之面內方向中，形成最大折射率之方向x中的折射率。ny表示，薄膜之面內方向中，與前述方向x垂直交叉方向y中的折射率。nz表示，薄膜之厚度方向z中的折射率。d表示薄膜之厚度(nm)]。
(濕度變動所造成之阻滯值之測定) (水浸漬所造成之阻滯值之測定)
依下述方式，進行濕度變動所造成之阻滯值之測定。又，下述之操作全部在溫度23℃、相對濕度55%之環境下進行。
1.於使用2片輕薄玻璃挾夾光學薄膜之狀態，測定Ro、Rt，並將其作為Ro1、Rt1。
2.將光學薄膜浸漬於純水中24小時後，將經水浸濕之光學薄膜及早使用2片輕薄玻璃挾夾，測定其Ro、Rt，將其作為Ro2、Rt2。此時，需注意於輕薄玻璃與薄膜之間勿使氣泡滲入。
3.由上述1、2所得之Ro1、Rt1、Ro2、Rt2，依下式算出浸漬於23℃之純水中24小時後的光學薄膜的阻滯值變化量△Ro、△Rt的差之絶對值。
△Ro=| Ro1-Ro2 |
△Rt=| Rt1-Rt2 |
又，本發明之化合物及比較化合物之阻滯值變動抑制效果，則依下式所求得之變動抑制率(%)作為評估。
Ro變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Ro)-(各樣品薄膜之△Ro))÷(基準薄膜之△Ro)×100
Rt變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Rt)-(各樣品薄膜之△Rt))÷(基準薄膜之△Rt)×100
又，本發明中的化合物及比較化合物之阻滯值變動抑制效果，為使用下式所求得之變動抑制率(%)進行評估。
添加劑之阻滯值變動抑制效果，相對於作為基材之樹脂100質量份，添加劑添加3質量份時之Ro變動率抑制率及Rt變動抑制率以20%以上為佳，Ro變動率抑制率及Rt變動抑制率以50%以上為較佳，Ro變動率抑制率及Rt變動抑制率皆為70%以上者為特佳。
以上結果係如表3~表7所示。又，表中，則使用以下之簡稱表示。
PMMA1：聚甲基丙烯酸甲酯(重量平均分子量：280000)
PMMA2：聚甲基丙烯酸甲酯(重量平均分子量：2500)
P2：芳香族末端酯化合物P2
P3：芳香族末端酯化合物P3
比較1：比較化合物1(聚酯化合物A1)
比較2：比較化合物2(芳香族末端酯化合物P1)
比較3：比較化合物3
比較4：比較化合物4
比較5：比較化合物5
比較6：比較化合物6
比較7：比較化合物7
比較8：比較化合物8
比較9：比較化合物9
比較10：比較化合物10
比較11：比較化合物11
又，表中通式(1)所表示之化合物種類之欄中的編號為對應於[化15]~[化89]所記載之例示化合物1~695之編號。
實施例所使用之水吸附性樹脂的吸水率係如以下所示。其係依前述方法為基準，於23℃之蒸餾水中浸漬24小時後，測定質量之方式進行。
C1：5.5%、C2：5.0%、C3：4.5%、C4：3.5%、C5：2.5%、C6：6.3%、C7：4.5%、C8：4.0%、PMMA1：0.8%。
本發明之樹脂組成物所製作之光學薄膜，確認具有優良之耐濕性。
[實施例3] 《樹脂組成物之製作》 [樹脂組成物201之製作]
下述主膠體成份為，將二氯甲烷與乙醇投入加壓溶解容器中，其次，將下述纖維素衍生物C1、例示化合物1於攪拌中投入，經加熱、攪拌，使其完全溶解，所得之溶液，使用安積濾紙(股)製之安積濾紙No.244過濾，而製得主膠體。
(主膠體之組成)
使用無端輸送帶流延裝置，將所得之膠體使其均勻地延流於不銹鋼輸送帶支撐體上。使延流(鑄體)於不銹鋼輸送帶支撐體上的膠體膜中之溶劑，蒸發至殘留溶劑量達75%為止，將所得捲膜由不銹鋼輸送帶支撐體上剝離。將剝離之捲膜，使用以擴張固定器把持的延伸裝置進行搬送。其次，將所得之薄膜，於乾燥區內，於以多數滾軸搬送中進行乾燥。將以擴張固定器把持之薄膜的寬度方向端 部，以雷射切割器開裂去除後，進行捲取而得織物薄膜。
依此方式製得樹脂組成物201。所得樹脂組成物201之膜厚為60μm。
[樹脂組成物202~223之製作]
如下述表之組成內容，除變更樹脂及例示化合物之種類以外，其他皆依相同之方法，製得樹脂組成物202~223。其膜厚任一者皆為60μm。
(折射率變動之測定)
將上述所製作之各樣品，於23℃、20% RH之環境下進行24小時之濕潤化，於同環境下，使用590nm之光源，以亞伯折射計(4T)測定平均折射率n1。
其次，將該些光學薄膜於23℃、80% RH之環境下進行24小時之濕潤化，隨後，於同環境下，使用590nm之光源，以亞伯折射計(4T：ATAGO股份有限公司製)測定其平均折射率n2。
折射率變動△n為以△n=n2-n1之方式算出。數值較低者，表示耐濕性較為優良，而適合使用於光學透鏡。折射率變動係如以下表8所示。
表8所示之本發明之樹脂組成物，即使環境濕度產生變化時，其折射率也不容易變動，故極適合使用於攝影透鏡、拾取(pickup)透鏡、眼鏡透鏡等光學透鏡或光纖維用樹脂組成物。
[實施例4] [光學薄膜301之製作]
下述主膠體之成份為，將二氯甲烷與乙醇投入加壓溶解容器中，其次，於攪拌中投入下述纖維素衍生物C1、例示化合物1，經加熱、攪拌，使其完全溶解。所得之溶液，使用安積濾紙(股)製之安積濾紙No.244過濾，而製得主膠體。
(主膠體之組成)
使用無端輸送帶流延裝置，將所得之膠體使其均勻地延流於不銹鋼輸送帶支撐體上。使延流(鑄體)於不銹鋼輸送帶支撐體上的膠體膜中之溶劑，蒸發至殘留溶劑量達75%為止，將所得捲膜由不銹鋼輸送帶支撐體上剝離。將剝離之捲膜，使用以擴張固定器把持的延伸裝置進行搬送。其次，將所得之薄膜，於乾燥區內，於以多數滾軸搬送中進行乾燥。將以擴張固定器把持之薄膜的寬度方向端部，以雷射切割器開裂去除後，得捲取之光學薄膜。
依此方式製得樣品薄膜。所得樣品薄膜之膜厚為60μm。
[光學薄膜302~309之製作]
如下述表9之組成所示般，除改變例示化合物之種類 以外，其他皆依相同方法，製得光學薄膜302~309。其膜厚皆為60μm。
(濕熱耐久性試驗後的光學值變動)
23℃、55% RH之環境下，測定各薄膜之厚度方向的相位差值Rt1。其次，將各薄膜於80℃、90% RH下進行1000小時之濕熱耐久性試驗，隨後，於23℃、55% RH之環境下測定厚度方向的相位差值Rt2。
濕熱耐久性試驗度之光學值變動率(%)，為以(Rt1-Rt2)÷Rt1×100算出。
以上之結果係如表9所示。
本發明之光學薄膜於濕熱耐久性試驗前後，其外觀並未有變化，比較例之薄膜則變為黃色。
如表9所示，本發明之光學薄膜於濕熱耐久性試驗前後，其位相值之變動極少，顯示出優良之濕熱耐久 性。
[實施例5] 《偏光板之製作》 [偏光板101之製作] (偏光子之製作)
將厚度30μm之聚乙烯基醇薄膜使用35℃之水，使其膨潤。所得之薄膜浸漬於由碘0.075g、碘化鉀5g及水100g所形成之水溶液中60秒，再浸漬於由碘化鉀3g、硼酸7.5g及水100g所形成之45℃的水溶液。所得之薄膜，於延伸溫度55℃、延伸倍率5倍之條件下，進行單軸延伸。此單軸延伸薄膜，經水洗後，乾燥後得厚度10μm之偏光子。
(活性能量線硬化性黏著劑液之製作：陽離子聚合型)
將下述之各成份混合後、脫泡，以製作活性能量線硬化性黏著劑液。又，三芳基鋶六氟膦酸酯為添加50%丙烯碳酸酯溶液，以下為表示三芳基鋶六氟膦酸酯之固體成份量。
(偏光板101之製作)
依下述之方法，由圖1之偏光板101A之構成內容製作偏光板101。括弧內之數值為圖1所記載之各構成要件之編號。
首先，保護薄膜(102)為使用KC6UA薄膜(可尼嘉美樂達開發(股)製)，將上述所製得之活性能量線硬化性黏著劑液，使用微網版塗佈器(網版滾軸：#300、迴轉速度140%/線路速)，以厚度5μm之方式塗佈活性能量線硬化性黏著劑(103A)而形成者。
其次，將上述所製作之活性能量線硬化性黏著劑液，與上述相同之方法，以厚度5μm之方式塗佈將活性能量線硬化性黏著劑(103B)塗佈於上述製作之光學薄膜101(105)上。
於此活性能量線硬化性黏著劑(103A)與(103B)之間，配置上述所製作之聚乙烯基醇-碘系的偏光子(104)，以滾軸機貼合，製得層合保護薄膜1(102)/活性能量線硬化性黏著劑(103A)/偏光子(104)/活性能量線硬化性黏著劑(103B)/光學薄膜101(105)所得之層合物。此時，光學薄膜(105)之遲相軸 與偏光子(104)之吸收軸為以相互垂直交叉之方式貼合於滾軸機。
將電子線由此層合物之兩側面照射，以製作偏光板101(101A)。
線路速度設定為20m/min、加速電壓為250kV、照射線量設定為20kGy。
[偏光板102~140之製作]
偏光板101之製作中，除將光學薄膜101變更為光學薄膜102~121、166~184以外，其他皆依相同之方法，製作偏光板102~140。
《液晶顯示裝置之製作》
使用市售之VA型液晶顯示裝置(SONY製40型顯示器KLV-40J3000)，將貼合於液晶晶元兩面的偏光板剝離，將上述製作之偏光板101~140，如圖1所示般，製作貼合於液晶晶元兩面的液晶顯示裝置101~140。此時，將斜向偏光板之吸收軸調整為與所貼合之偏光板為相同之方向。
《液晶顯示裝置之評估》
對上述所製作之各液晶顯示裝置，進行以下之評估。
(耐濕性之評估：含水變動所造成之色斑之評估)
將上述所製作之液晶顯示裝置表面，放置浸漬水的不織布(BEMCOT)(旭化成纖維公司製)，於水分未蒸發之狀態下維持30小時。其次，將各液晶顯示裝置點燈，以目視評估顯示畫面之均勻性，並依下述之基準進行耐濕性之評估。
A：完全為發現色斑之產生
B：僅發現微弱色斑之產生
C：發現微弱色斑之產生，但品質不具有實用上之問題
D：發現色斑之產生
E：產生強烈之色斑，為具有耐濕性問題之品質
由表10得知，本發明之圖像顯示裝置(液晶顯示裝置)具有優良之耐濕性。
[實施例6] [圓偏光板201之製作] (偏光子之製作)
將厚度120μm之聚乙烯基醇薄膜，以延伸溫度110℃、延伸倍率5倍之條件進行單軸延伸。將所得之薄膜，浸漬於由碘0.075g、碘化鉀5g、水100g所形成之水溶液中60秒。其次，浸漬於由碘化鉀6g、硼酸7.5g、水100g所形成之68℃之水溶液，經水洗、乾燥，而製得厚度20μm之偏光子。
將實施例1所製作之光學薄膜201的一側表面進行鹼皂化處理。準備可尼嘉美樂達薄膜KC6UA(可尼嘉美樂達開發(股)製)，同樣地於一側之表面進行鹼皂化處理。其任一者，皆為將皂化處理後之表面作為與偏光子之貼合面。隨後，偏光子之一側之面上，介由作為黏著劑之聚乙烯基醇5%水溶液，貼合於經皂化處理後之光學薄膜201的表面。又，偏光子之另一側之面上，介由聚乙烯基醇5%水溶液，貼合於經皂化處理後之可尼嘉美樂達薄膜KC6UA的表面，而製得圓偏光板201。光學薄膜201與偏光子貼合方式，為使偏光子之透過軸與光學薄膜201之遲相軸所成之角度為45°之方式進行。
[圓偏光板201~204之製作]
圓偏光板201之製作中，除光學薄膜201變更為光學薄膜202~204以外，其他皆依與圓偏光板201為相同之方法，分別製作圓偏光板202~204。
[有機EL顯示裝置201之製作]
使用濺鍍法，於玻璃基板上形成厚度80nm之由鉻所形成之光反射電極。於此光反射電極上，形成作為陽極之厚度40nm的ITO薄膜。其次，於此陽極上，使用濺鍍法形成厚度80nm之由聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚苯乙烯磺酸酯(PEDOT：PSS)所形成之正孔輸送層。隨後，於正孔輸送層上，使用陰影(Shadow)遮罩，分別使用圖型形成方法形成RGB發光層。發光層之厚度為每一色100nm。紅色發光層為，作為主體之三(8-羥基喹啉酸酯)鋁(Alq3)，與發光性化合物[4-(dicyanomethylene)-2-methyl-6(p-dimethylaminostyryl)-4H-pyran](DCM)進行共蒸鍍(質量比99：1)所形成，綠色發光層為，作為主體之Alq3，與發光性化合物薰草素6進行共蒸鍍(質量比99：1)所形成者。藍色發光層為，作為主體之下述化合物BAlq，與發光性化合物Perylene進行共蒸鍍(質量比90：10)所形成。
於所得之RGB發光層上，使用真空蒸鍍法形成功率係數較低之鈣所形成之厚度4nm的薄膜作為可有效率注入電子的第1陰極。於此第1陰極上，形成作為第2陰極之厚度2nm之由鋁所形成之薄膜，而形成有機發光層。作為第2陰極使用的鋁，以濺鍍法於其上形成膜作為作為透明電極之際，第1陰極之鈣具有防止化學性變質之機能。
其次，於第2陰極上，使用濺鍍法形成由ITO所形成之厚度80nm之透明導電膜(第1陰極、第2陰極及透明導電膜合稱透明電極層)。此外，於透明導電膜上，使用CVD法形成由氮化矽所形成之厚度200nm之薄膜，作為絶緣膜(透明基板)。
於所得之絶緣膜(透明基板)上，將所製作之圓偏光板201，介由黏著劑貼合，以製作有機EL顯示裝置157。圓偏光板201之貼合方式，為使光學薄膜201設置於絶緣膜側之方式進行。
[有機EL顯示裝置202~204之製作]
有機EL顯示裝置201之製作中，除將圓偏光板201變更為各圓偏光板202~204以外，其他皆與有機EL顯示裝置201為相同之方法，分別製作有機EL顯示裝置202~204。
《有機EL顯示裝置之評估》
對於上述所製作之各有機EL顯示裝置，進行下述之評估。
(耐濕性之評估：含水變動所造成之色斑之評估)
將上述所製作之有機EL顯示裝置表面，放置浸漬水的不織布(BEMCOT)(旭化成纖維公司製)，於水分未蒸發之狀態下維持30小時。其次，將各有機EL顯示裝置點燈，以目視評估顯示畫面之均勻性，並依下述之基準進行耐濕性之評估。
A：完全為發現色斑之產生
B：僅發現微弱色斑之產生
C：發現微弱色斑之產生，但品質不具有實用上之問題
D：發現色斑之產生
E：產生強烈之色斑，為具有耐濕性問題之品質
由表11得知，本發明之有機EL顯示裝置具有優良之色斑。
[實施例7]
於實施例2之光學薄膜1之製作中，除纖維素衍生物之種類及添加量、可塑劑、前述通式(1)所表示之化合物或比較化合物之種類，及延伸倍率、延伸後的光學薄膜之膜厚分別變更如下述表12所示內容以外，其他皆依相同之方法製作光學薄膜401~405。光學薄膜之膜厚可以改變膠體流量之方式予以調整。又，光學薄膜401~405，為於織物薄膜之玻璃轉移溫度Tg+20℃之延伸溫度、2.2倍之延伸倍率下，以相對於薄膜之搬送方向為45°傾斜之斜面方向延伸之方式製作。所得光學薄膜401~405之面內遲相軸與薄膜之搬送方向所形成之角度，其任一者皆為45°。
《光學薄膜之評估》
對於上述所製作之各光學薄膜，依實施例2為相同之方法，進行阻滯值、水浸漬所造成之阻滯值、Ro變動抑 制率(%)之測定。
又，光學薄膜於23℃、55% RH之環境下，分別進行於450nm、550nm及650nm之各波長中之10處之三度空間的折射率，求取折射率nx、ny、nz平均值後，依實施例2為相同之內容求取450nm、550nm及650nm各波長中的面內阻滯值Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)。以上結果係如表12所示。
表12得知，本發明之樹脂所製作之光學薄膜，除顯示出兼具有優良耐濕性的光學特性，亦具有優良之逆波長分散性。
[實施例8] [偏光板401~405之製作]
於實施例6中之圓偏光板201之製作，除將光學薄膜201變更為光學薄膜401~405以外，其他皆依相同方法，製作圓偏光板401~405。
[有機EL顯示裝置401~405之製作]
實施例6之有機EL顯示裝置201之製作中，使用圓偏光板401~405代替圓偏光板201，有機EL顯示裝置157為相同之內容下，分別製作有機EL顯示裝置401~405。
《有機EL顯示裝置之評估》
依實施例6為相同之內容，評估有機EL顯示裝置之色斑。
評估結果係如表13所示。
由表13得知，本發明之有機EL顯示裝置具有優良之色斑性。
[產業上之利用性]
本發明之樹脂組成物，可使與環境濕度相關之光學值變動受到抑制，可使用於抑制與環境濕度相關之光學值之變動的光學薄膜及光學透鏡。此外，可使用於該光學薄膜所得之具有優良耐濕性之偏光板、圓偏光板及圖像顯示裝置。

Claims (24)

  1. 一種樹脂組成物，其為至少含有樹脂與具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之樹脂組成物，其特徵為，前述樹脂為水吸附性樹脂，且前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，至少具有3個NICS值較苯環為更小或相等之5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環中之任一個，其中至少一個的NICS值為較苯環為更小，且，前述5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環為，相互為單鍵或介有2個以下的原子鍵結所得之化合物。
  2. 如請求項1之樹脂組成物，其中，使用前述樹脂組成物所製得之光學薄膜的阻滯值(Ro值或Rt值)之變動抑制率，於下述測定條件下為20~100%之範圍內，測定條件：(a)依與樣品薄膜為相同之方法，製作與前述所製得之光學薄膜(樣品薄膜)具有相同膜厚，且不含具有前述5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之光學薄膜(基準薄膜)為相同之方式製作樣品薄膜，(b)將前述樣品薄膜與基準薄膜浸漬於溫度23℃之純水中24小時，(c)對前述樣品薄膜與基準薄膜，於浸漬水之前與後，測定其於溫度23℃、相對濕度55%中之光波長590nm下的阻滯值Ro值及Rt值，並對於各別之光學薄膜求取其於浸漬水之前後的阻滯值差的絶對值△Ro及△Rt， (d)依下式內容，求取阻滯值(Ro值及Rt值)之變動抑制率，Ro變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Ro)-(樣品薄膜之△Ro))÷(基準薄膜之△Ro)×100 Rt變動抑制率(%)=((基準薄膜之△Rt)-(樣品薄膜之△Rt))÷(基準薄膜之△Rt)×100。
  3. 如請求項1之樹脂組成物，其中，前述水吸附性樹脂的23℃下之吸水率為0.5~10質量%之範圍內。
  4. 如請求項1之樹脂組成物，其中，前述水吸附性樹脂為纖維素衍生物。
  5. 如請求項1之樹脂組成物，其中，前述水吸附性樹脂為纖維素酯。
  6. 如請求項1之樹脂組成物，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為NICS值較苯環為更小之芳香族環，其為具有吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環。
  7. 如請求項1之樹脂組成物，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，下述通式(1)所表示之結構的化合物， (式中，A1及A2各自獨立表示烷基、環烷基、芳香族烴環或芳香族雜環；B表示芳香族烴環或芳香族雜環；T1及 T2各自獨立表示吡咯環、吡唑環、咪唑環、1,2,3-三唑環或1,2,4-三唑環；L1、L2、L3及L4各自獨立表示單鍵或2價之鍵結基；n表示0~5之整數)。
  8. 如請求項7之樹脂組成物，其中，前述L1、L2、L3及L4各自獨立表示單鍵。
  9. 如請求項7之樹脂組成物，其中，前述T1及T2各自獨立表示吡唑環。
  10. 如請求項1~9項中任一項之樹脂組成物，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物為，下述通式(2)所表示之結構的化合物， (式中，A1、A2、T1、T2、L1、L2、L3及L4，分別與前述通式(1)中之A1、A2、T1、T2、L1、L2、L3及L4具有相同意義；A3及T3各別表示與通式(1)中之A1及T1為相同之內容之基；L5及L6，表示與前述通式(1)中之L1為相同內容之基；m表示0~4之整數)。
  11. 如請求項7之樹脂組成物，其中，具有前述通式(1)所表示之結構的化合物，為具有下述通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物， (式中，A1、B、L1及L2，表示與上述通式(1)中之A1、B、L1及L2為相同內容之基；k表示1~4之整數；T1表示1,2,4-三唑環)。
  12. 如請求項11之樹脂組成物，其中，具有前述通式(1.1)所表示之結構的三唑化合物，為具有下述通式(1.2)所表示之結構的三唑化合物， (式中，Z表示下述通式(1.2a)之結構；q表示2~3之整數；至少2個的Z相對於被苯環所取代之至少1個的Z為鄰位或間位之鍵結)， (式中，R10表示氫原子、烷基或烷氧基；p表示1~5之整數；＊表示與苯環之鍵結位置；T1表示1,2,4-三唑環)。
  13. 一種光學薄膜，其特徵為，使用請求項1~12中任一項之樹脂組成物所製作者。
  14. 如請求項13之光學薄膜，其中，前述具有5員或6員芳香族烴環或芳香族雜環的化合物之添加量，相對於前述樹脂為1~15質量%之範圍內。
  15. 如請求項13之光學薄膜，其中，於23℃、55% RH之環境下、光波長590nm中，下述式(I)所表示之面內方向的阻滯值Ro為40~100nm之範圍內，下述式(II)所表示之厚度方向的阻滯值Rt為100~300nm之範圍內，式(I)Ro=(nx-ny)×d 式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(式中，nx表示光學薄膜之面內方向中，形成最大折射率之方向x中的折射率，ny表示光學薄膜之面內方向中，與前述方向x垂直方向y中的折射率，nz表示光學薄膜之厚度方向z中的折射率，d表示光學薄膜之厚度(nm))。
  16. 如請求項13之光學薄膜，其中，23℃、55% RH之環境下，光波長450nm、550nm及650nm中之面內方向的相位差值Ro，分別設為Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)時，該Ro(450)、Ro(550)及Ro(650)為滿足下述式(a1)~(a3)者，(a1)110≦Ro(550)≦170(a2)0.72≦Ro(450)/Ro(550)≦0.96(a3)0.83≦Ro(550)/Ro(650)≦0.97。
  17. 一種偏光板，其特徵為，偏光子的至少一側之面上，具備有請求項13之光學薄膜者。
  18. 一種圓偏光板，其特徵為，偏光子的至少一側之面上，具備有請求項13之光學薄膜者。
  19. 一種圖像顯示裝置，其特徵為，具備請求項15所記載之光學薄膜者。
  20. 一種圖像顯示裝置，其特徵為，前述圖像顯示裝置為，於液晶晶元之至少一側之面上，具備請求項17之 偏光板的液晶顯示裝置。
  21. 如請求項20之圖像顯示裝置，其中，前述液晶晶元為，VA型液晶晶元。
  22. 一種圖像顯示裝置，其特徵為，前述圖像顯示裝置為，有機電致發光元件上具備請求項18之圓偏光板的有機電致發光顯示裝置。
  23. 一種光學透鏡，其特徵為，使用請求項1~12中任一項之樹脂組成物所製作者。
  24. 一種三唑化合物，其特徵為，具有下述通式(1.2)所表示之結構者， (式中，Z表示下述通式(1.2a)之結構；q表示2~3之整數；至少2個的Z相對於被苯環所取代之至少1個的Z為鄰位或間位之鍵結)， (上述通式(1.2a)中，R10表示氫原子、烷基或烷氧基；p表示1~5之整數；＊表示與苯環之鍵結位置)。
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105473653B (zh) * 2013-08-12 2018-07-17 柯尼卡美能达株式会社 酰化纤维素膜、偏振片和液晶显示装置
JP2017067796A (ja) * 2014-02-10 2017-04-06 コニカミノルタ株式会社 偏光子保護用フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP6367920B2 (ja) * 2014-03-12 2018-08-01 パナソニック株式会社 有機ｅｌ装置の設計方法及び有機ｅｌ装置の製造方法
JP6215869B2 (ja) * 2014-06-10 2017-10-18 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板、および液晶表示装置
JP6394252B2 (ja) * 2014-10-03 2018-09-26 コニカミノルタ株式会社 透明導電フィルム、その製造方法及びタッチパネル
WO2016111058A1 (ja) * 2015-01-09 2016-07-14 コニカミノルタ株式会社 垂直配向型液晶表示装置
JP2016151648A (ja) * 2015-02-17 2016-08-22 コニカミノルタ株式会社 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、偏光板および垂直配向型液晶表示装置
CN104934550A (zh) * 2015-05-07 2015-09-23 京东方科技集团股份有限公司 Oled器件的封装结构、封装方法以及电子设备
JP6784481B2 (ja) * 2015-07-13 2020-11-11 日東電工株式会社 有機ｅｌ表示装置用円偏光板および有機ｅｌ表示装置
KR20170011306A (ko) * 2015-07-22 2017-02-02 삼성전자주식회사 광학 필름, 그 제조 방법 및 표시 장치
JP2017072775A (ja) * 2015-10-09 2017-04-13 コニカミノルタ株式会社 位相差フィルム、偏光板および液晶表示装置
JPWO2017094253A1 (ja) * 2015-11-30 2018-08-09 富士フイルム株式会社 位相差フィルムおよびその製造方法、位相差フィルムを備えた偏光板および液晶表示装置
KR20170077817A (ko) * 2015-12-28 2017-07-06 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 광학 적층체
JP6915251B2 (ja) * 2016-09-30 2021-08-04 コニカミノルタ株式会社 ポリイミド樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物の製造方法、透明基板及びディスプレイ用フィルム
JP2018059967A (ja) * 2016-09-30 2018-04-12 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズの製造方法
JP2020522752A (ja) 2017-06-05 2020-07-30 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多層光学フィルム及び薄い接着剤層を含む光学体
KR102480250B1 (ko) 2017-06-30 2022-12-21 다이오세이시가부시끼가이샤 토일렛 페이퍼
GB201806916D0 (en) * 2018-04-27 2018-06-13 Dupont Teijin Films Us Lp Polyester film
EP3875525A4 (en) * 2019-01-30 2022-01-19 Konica Minolta, Inc. MATERIAL FOR HOT-MELT EXTRUSION SYSTEM, MODELING MATERIAL FOR 3D PRINTER, METHOD OF MANUFACTURE OF MODELING MATERIAL FOR 3D PRINTER AND THREE-DIMENSIONAL MODEL
US11447482B1 (en) 2019-02-14 2022-09-20 KUDA Therapeutics, Inc. Imidazopyridine and oxazolopyridine derivatives and analogs thereof, methods of preparation thereof, methods of HIF-2A pathway inhibition, and induction of ferroptosis
WO2021195064A1 (en) * 2020-03-23 2021-09-30 Board Of Regents, The University Of Texas System Cell activatable iron chelators
CN113534320B (zh) * 2021-07-08 2022-02-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 圆偏光片和有机发光二极管显示面板
WO2024137979A2 (en) * 2022-12-23 2024-06-27 University Of Pittsburgh - Of The Commonwealth System Of Higher Education Foxm1 inhibitors and their use in treating cancers
WO2024175804A1 (en) * 2023-02-24 2024-08-29 Katholieke Universiteit Leuven Nuclear transport modulators

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH511272A (de) 1969-05-07 1971-08-15 Ciba Geigy Ag Verfahren zur Herstellung neuer Azopigmente
US3926969A (en) 1972-11-24 1975-12-16 Sandoz Ltd Triazole-bis(benzoxazole) optical brighteners
JPS6242996A (ja) 1985-08-20 1987-02-24 Nippon Seika Kk 単糖乃至オリゴ糖の完全アセチル化物の製造方法
EP0666993B1 (en) 1992-10-29 1999-06-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Formable reflective multilayer body
JPH07207169A (ja) * 1994-01-12 1995-08-08 Mitsui Toatsu Chem Inc 偏光フィルム用アゾ系色素及びこれを用いた偏光フィルム
US5792567A (en) 1994-03-16 1998-08-11 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Triazole derivatives and organic electroluminescent devices produced therefrom
KR19990007825A (ko) 1995-04-25 1999-01-25 하루타히로시 유기 전계 발광 장치
JPH09127885A (ja) 1995-10-30 1997-05-16 Sony Corp 表示素子
JPH09286980A (ja) 1996-04-22 1997-11-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子材料およびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4035182B2 (ja) 1996-07-30 2008-01-16 ダイセル化学工業株式会社 セルロースの混合脂肪酸エステルの製造方法
JPH10237084A (ja) 1997-02-27 1998-09-08 Nikka Chem Co Ltd 糖類のアセチル誘導体の製造方法
JP3552084B2 (ja) 1997-05-29 2004-08-11 日東電工株式会社 円偏光分離板、その製造方法、光学素子、偏光光源装置及び液晶表示装置
DE69828733T2 (de) 1997-10-20 2005-12-29 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Optische Kompensationsfolie und Flüssigkristall- Anzeigevorrichtung
JP2000056123A (ja) 1998-08-05 2000-02-25 Toray Ind Inc カラーフィルター用顔料およびカラーペースト、カラーフィルター、液晶表示素子ならびにそれらの製造方法
JP4234823B2 (ja) 1998-09-30 2009-03-04 富士フイルム株式会社 光学補償シートおよび液晶表示装置
JP2000275435A (ja) 1999-03-25 2000-10-06 Sumitomo Chem Co Ltd 光学異方体フィルムおよび液晶表示装置
JP2002352957A (ja) 2001-05-23 2002-12-06 Honda Motor Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2003340916A (ja) 2002-05-28 2003-12-02 Sekisui Chem Co Ltd 延伸フィルムの製造装置
JP2004243628A (ja) 2003-02-13 2004-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd セルロースエステルフィルム、その製造方法、光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP4449533B2 (ja) 2004-03-30 2010-04-14 日本ゼオン株式会社 広帯域１／４波長板の長尺巻状体、広帯域円偏光素子の長尺巻状体
ES2244326B1 (es) * 2004-04-05 2007-02-16 Laboratorios Del Dr. Esteve, S.A. Combinacion de substancias activas.
JP2006002026A (ja) 2004-06-17 2006-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd セルロースアシレート製剤、及びセルロースアシレートフィルム
JP2006002025A (ja) 2004-06-17 2006-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd セルロースアシレート製剤及びセルロースアシレートフィルム
CN100462750C (zh) * 2004-10-27 2009-02-18 柯尼卡美能达精密光学株式会社 相位差膜的制造方法和用该方法制造的相位差膜、以及用其的偏振片和液晶显示装置
JP2006342227A (ja) 2005-06-08 2006-12-21 Konica Minolta Opto Inc セルロースエステルフィルム、偏光板および液晶表示装置
JP2007023124A (ja) 2005-07-14 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp セルロース化合物組成物、セルロース化合物フィルム
JP4841191B2 (ja) 2005-07-29 2011-12-21 ヒラノ技研工業株式会社 位相差フィルムの製造方法
JP5017835B2 (ja) 2005-09-29 2012-09-05 日本ゼオン株式会社 延伸フィルムおよび延伸フィルムの製造方法
JP2008088292A (ja) 2006-10-02 2008-04-17 Dainippon Ink & Chem Inc セルロースエステル樹脂用改質剤、及びそれを含有してなるセルロースエステルフィルム
JP2008106124A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Konica Minolta Opto Inc セルロースエステル及びそれを用いた光学材料、光学用セルロースエステルフィルムの製造方法、光学用セルロースエステルフィルム、偏光フィルム、偏光板及び液晶表示装置
WO2009067557A1 (en) * 2007-11-19 2009-05-28 Teva Pharmaceutical Industries Ltd. Deferasirox pharmaceutical compositions
JP2009139812A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Konica Minolta Opto Inc ロール状の位相差フィルム、ロール状の位相差フィルムの製造方法および円偏光板
WO2009111611A2 (en) * 2008-03-05 2009-09-11 Proteotech Inc. Compounds, compositions and methods for the treatment of islet amyloid polypeptide (iapp) accumulation in diabetes
WO2010035282A1 (en) * 2008-09-24 2010-04-01 Matrix Laboratories Limited Pharmaceutical compositions comprising deferasirox
JP5507128B2 (ja) * 2009-06-25 2014-05-28 大阪瓦斯株式会社 光学用樹脂組成物及び成形体
JP5557281B2 (ja) 2009-06-26 2014-07-23 住友化学株式会社 偏光板及びそれを用いた積層光学部材
US8906475B2 (en) * 2009-09-29 2014-12-09 Fujifilm Corporation Cellulose acylate film, retardation film, polarizer and liquid-crystal display device
JP5427738B2 (ja) 2009-09-29 2014-02-26 富士フイルム株式会社 セルロースアシレートフィルム、位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP5728921B2 (ja) * 2010-12-10 2015-06-03 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP5898443B2 (ja) 2011-03-28 2016-04-06 富士フイルム株式会社 セルロースアシレートフィルム、位相差フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP5786402B2 (ja) 2011-03-29 2015-09-30 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP2012215812A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2012234159A (ja) 2011-04-21 2012-11-29 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置
KR101721783B1 (ko) * 2012-12-13 2017-03-30 코니카 미놀타 가부시키가이샤 광학 필름의 롤체, 그 제조 방법, 편광판 및 표시 장치

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