JP2006002026A - セルロースアシレート製剤、及びセルロースアシレートフィルム - Google Patents

Abstract

【課題】偏光板に用いて液晶表示装置に組み込んだ際にも、表示むら（像のゆがみ）が発生することのないセルロースアシレートフィルムを溶融流延により成形することのできる溶融流延用セルロースアシレート製剤、及びこのようなセルロースアシレート製剤を溶融流延することにより得られるセルロースアシレートフィルムを提供すること。
【解決手段】溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、隣接した２点の透過率の差が０．０５％以上２％以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。

Description

本発明は、溶融流延用セルロースアシレート製剤、該製剤から溶融流延によって形成されたセルロースアシレートフィルムに関する。本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学フィルムとして用いられる。

従来、液晶画像表示装置に使用されるセルロースアシレートフィルムを製造する際に、ジクロロメタンのような塩素系有機溶剤に溶解し、これを基材上に流延、乾燥して製膜する溶液流延法が主に実施されている。塩素系有機溶剤としてジクロロメタンは、従来からセルロースアシレートの良溶媒として用いられ、製造工程の製膜及び乾燥工程において沸点が低い（沸点約４０℃）ことから乾燥させ易いという利点により好ましく使用されている。近年環境保全の観点で低沸点である塩素系有機溶媒は、密閉設備での取り扱いにより漏れを著しく低減されるようになった。さらに、万が一漏れても外気に出す前にガス吸収塔を設置し有機溶媒を吸着させて処理する方法、排出する前に火力による燃焼あるいは電子線ビームによる塩素系有機溶媒の分解などで、殆ど有機溶媒を排出することはなくなったが、完全な非排出までには更に研究する必要がある。

このような対策として、特許文献１には、有機溶剤を用いない製膜法として、セルロースアシレートを溶融製膜する方法が提案されている。この方法は、セルロースアシレートが流動性を示す温度まで加熱して溶融し、次いでこの流動状態のセルロースアシレートを、エンドレスベルト又はドラム上に押し出して製膜するものである。この技術では、セルロースアシレートとして、エステル基の炭素鎖を長くして融点を下げ溶融製膜しやすくしたものが好ましく用いられており、具体的には、セルロースアセテートから、セルロースプロピオネートやセルロースブチレート等に変えることで溶融製膜が容易となっている。しかし、この公報に記載の方法で溶融製膜したものを用いて偏光板を作成し、液晶表示装置に組み込んだところ、表示むら（像のゆがみ）を引き起こし、改良が望まれていた。
特開２０００−３５２６２０号公報

本発明の目的は、溶融製膜したセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を液晶表示装置に組み込んだ際に、表示むら（像のゆがみ）が発生する不具合を解消したセルロースアシレートフィルムを提供することにある。

本発明の他の目的は、上記不具合を解消したセルロースアシレートフィルムを溶融成膜することができる溶融流延用セルロースアシレート製剤を提供することにある。

本発明者らは、研究の結果、液晶表示装置に組み込んだ時に発生する表示むら（像のゆがみ）の原因は、セルロースアシレートの溶融製膜中に発生する木目状の流動むらに起因することを見出した。

流動むらは次のように引き起こされる。溶融したセルロースアシレートは、混練機からＴダイの内部を広がりながら流動する際、Ｔダイ外周部に沿って流動する部分とＴダイ中央部を流動する部分との間に速度差が発生する。すなわち、混練機から同速で押し出され、Ｔダイ外周部を流動するセルロースアシレートは、中央部を流動するセルロースアシレートに比べ流動長が長いため、流動速度が速くなる。この速度差が、流動むらを引き起こし、Ｔダイ出口で木目状の流動むらを引き起こす。

本発明者らは、研究を進めた結果、このような流動むらは、隣接した２点の好ましい透過率の差を特定の範囲内とすることで、解消されることを知見した。
さらに研究を進めた結果、このような流動むらは溶融製膜特有の現象であることを見出し、セルロースアシレートとの親和性が高く、特異的に可塑化効果を発現してＴダイ中のセルロースアシレートの流動をスムースにするトリアジン環化合物、中でも下記一般式（１）で示される化合物を少なくとも１種類、セルロースアシレート中に含有させることで好適に流動むらを解消できることを見出した。

すなわち、本発明の上記課題は、以下の構成により解決されることが見出された。
（１） 溶融流延によって形成されたセルロースアシレートフィルムであって、隣接した２点の透過率の差が０．０５％以上２％以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
（２） セルロースアシレートと、トリアジン環化合物の少なくとも１種とを含有する溶融流延用セルロースアシレート製剤。

（３） トリアジン環化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である上記（２）に記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤。
一般式（１）：

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し；Ｘ¹は単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ²は単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ³は単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）

（４） トリアジン環化合物をセルロースアシレートに対し０．１質量％以上４０質量％以下含有する上記（２）または（３）に記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤。

（５） セルロースアシレートのアシレート基の置換度が、下記の数式（１）〜（３）を満たす上記（２）〜（４）のいずれかに記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤。
数式（１）：２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
数式（２）：０≦Ｘ≦１．８
数式（３）：１．０≦Ｙ＜３
（式中、Ｘはアセテート基の置換度を表し、Ｙはプロピオネート基、ブチレート基、プロピオネート基、ペンタノイル基及びヘキサノイル基の置換度の総和を表す。）

（６） プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸の少なくとも１種類を１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下含む上記（２）〜（５）のいずれかに記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤。

（７） 上記（２）〜（６）のいずれかに記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤を溶融して流延することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。

（８） 上記（４）に記載のセルロースアシレート製剤を流延して形成され、上記一般式（１）記載の棒状化合物を、セルロースアシレートに対し０．１質量％以上１５質量％以下含有することを特徴とする上記（１）記載のセルロースアシレートフィルム。
（９） 上記（２）〜（６）のいずれかに記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤を溶融して流延することで製造されたセルロースアシレートフィルム。
（１０） 上記（１）、（８）又は（９）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを、少なくとも一軸方向に１０％以上３００％以下延伸したことを特徴とする延伸セルロースアシレートフィルム。
（１１） フィルム面内のレターデーション（Ｒｅ）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が２０ｎｍ以上８００ｎｍ以下である上記（１）、（８）、（９）又は（１０）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
（１２） Ｒｅ，Ｒｔｈ湿度変動の、少なくとも一方が、０％以上１５％以下である上記（１）、（８）、（９）、（１０）又は（１１）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

（１３） 偏光膜に上記（１）、（８）、（９）、（１０）、（１１）又は（１２）のいずれかに記載の延伸セルロースアシレートフィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
（１４） 上記（１）、（８）、（９）、（１０）、（１１）又は（１２）のいずれかに記載の延伸セルロースアシレートフィルムを基材として用いた液晶表示板用光学補償フィルム。
（１５） 上記（１）、（８）、（９）、（１０）、（１１）又は（１２）のいずれかに記載の延伸セルロースアシレートフィルムを基材として用いた反射防止フィルム。

本発明の溶融流延用セルロースアシレート製剤は、溶融製膜時の流動性がスムースであり、木目状の流動むらのない優れたセルロースアシレートフィルムが形成される。このようなセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に組み込んだ時、表示むら（像のゆがみ）などの不具合を生じることがない。

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、「（メタ）アクリロイル」との記載は、「アクリロイル及びメタクリロイルの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。

前述のとおり、本発明のセルロースアシレートフィルムは、溶液流延によって形成され、隣接した２点の透過率の差が０．０５％以上２％以下であることを特徴とする。流動むらは、局所的な光の透過度の差として測定することができる。隣接した２点の透過率の差は０．０５％以上２％以下であり、好ましくは０．０５％以上１．５％以下、さらに好ましくは０．０５％以上１％以下である。ここでいう隣接した２点の透過率の差とは、幅方向全幅にわたり２ｃｍの間隔で測定し、両脇２点との透過率の差（ΔＴ）を求めて、全測定点の中でΔＴの最大値を「隣接した２点の透過率の差」とする。詳細な測定法は後述する。

本発明のセルロースアシレート製剤は、セルロースアシレートと、トリアジン環化合物の少なくとも１種とを含有することが好ましい。

トリアジン環化合物は単独で用いてもよく、混合して用いてもよい。好ましい含有量は、形成されたセルロースアシレートフィルム中のセルロースアシレートに対し、０．１質量％以上１５質量％以下であり、より好ましくは０．３質量％以上１２質量％以下、さらに好ましくは０．８質量％以上８質量％以下である。トリアジン環化合物を２種以上混合して用いた場合、これらの含有量は添加されるトリアジン環化合物の総和を指す。

トリアジン環化合物を添加することにより、得られるセルロースアシレートフィルム面内のレターデーション（Ｒｅ）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が発現し易い特性も付与でき、好ましい。なお、本発明でいうＲｅ，Ｒｔｈは下記数式（４）及び（５）で示され、Ｒｅは面内の長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）の屈折率の差の指標であり、Ｒｔｈは面内の平均屈折率と厚み方向の屈折率との差の指標である。このようなＲｅ，Ｒｔｈを有しているセルロースアシレートフィルムは、液晶表示板に組み込んだ際に、視野角を広くとることができるのでより好ましい。好ましいＲｅ，Ｒｔｈは、２０ｎｍ以上８００ｎｍ以下、より好ましくは２５ｎｍ以上５００ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。さらにＲｅ≦Ｒｔｈであることが好ましく、より好ましくはＲｅ×１．５≦Ｒｔｈ、さらに好ましくはＲｅ×２≦Ｒｔｈであるのがよい。このようなＲｅ，Ｒｔｈは、後述の延伸によってより顕著に発現させることができる。

数式（４）：Ｒｅ＝（ｎ_md−ｎ_td）×ｄ
数式（５）：Ｒｔｈ＝｜｛（ｎ_md＋ｎ_td）／２｝−ｎ_th｜×ｄ

ここで、ｎ_md、ｎ_td、ｎ_thはそれぞれ、長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）、厚み方向（Ｔｈ）の屈折率を指し、ｄは厚み（ｎｍ単位で表したもの）を指す。

トリアジン環化合物を添加することにより、さらに湿度でＲｅ、Ｒｔｈが変動し難い特性も付与でき、好ましい。好ましいＲｅ、Ｒｔｈ湿度変動は、少なくとも一方が０％以上１５％以下であり、より好ましくは０％以上１０％以下、さらに好ましくは０％以上７％以下である。ここでいうＲｅ、Ｒｔｈ湿度変動とは、２５℃、８０％ＲＨで測定したＲｅ、Ｒｔｈの値と、２５℃、１０％ＲＨで測定したＲｅ、Ｒｔｈの値の差の絶対値を、それぞれ２５℃、６０％ＲＨで測定したＲｅ、Ｒｔｈの値で割り百分率で表したものである。

〔トリアジン環化合物〕
本発明では、下記の一般式（１）で示されるトリアジン環化合物をセルロースアシレートに添加することが好ましい。
一般式（１）：

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し；Ｘ¹は単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ²は単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ³は単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）

上記一般式（１）中のＲ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³が表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³が表す芳香族環は、置換基を有していてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジル又は４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記芳香族環が有してもよい置換基の例と同様である。Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³がそれぞれ単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例えばＯ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。

さらに（１）式中Ｘ¹は、単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、Ｘ²は、単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、Ｘ³は単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。

Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶がそれぞれ表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基を表すのがより好ましい。アルキル基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ）及びアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）が含まれる。

Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶がそれぞれ表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらにまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶がそれぞれ表す芳香族環基及び複素環基は、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³がそれぞれ表す芳香族環及び複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ¹、Ｒ²、及びＲ³の芳香族環及び複素環の置換基と同様である。

これらの中で特に好ましいものは、Ｘ¹が−ＮＲ⁴−、Ｘ²が−ＮＲ⁵−、Ｘ³が−ＮＲ⁶−である。

本発明におけるトリアジン環化合物の分子量は、３００〜２，０００であることが好ましい。該化合物の沸点は２６０℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置｛例えば、“ＴＧ／ＤＴＡ１００”セイコー電子工業（株）製｝を用いて測定できる。

以下に本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物の具体例を示す。先ず、これらのうち、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³が−ＮＨ−であり、且つ前記Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³が同一ではない化合物の具体例を示す。

また、Ｘ¹が−ＮＲ⁴−、Ｘ²が−ＮＲ⁵−、Ｘ³が−ＮＲ⁶−であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は同一ではなく、且つＲ¹、Ｒ²及びＲ³も同一ではない化合物の具体例としては：

さらに、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³が−ＮＨ−であって、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³が同一（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ）の化合物としては、下記一般式（１−１）に示される化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲは同一の基を意味し、Ｒの定義は、具体例番号と共に一般式の後に示す。

Ｒ：
（２−１）フェニル
（２−２）４−ブチルフェニル
（２−３）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−４）４−（５−ノネニル）フェニル
（２−５）ｐ−ビフェニリル
（２−６）４−エトキシカルボニルフェニル
（２−７）４−ブトキシフェニル
（２−８）４−メチルフェニル
（２−９）４−クロロフェニル
（２−１０）４−フェニルチオフェニル
（２−１１）４−ベンゾイルフェニル
（２−１２）４−アセトキシフェニル
（２−１３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２−１４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２−１５）４−メトキシフェニル
（２−１６）４−アニリノフェニル
（２−１７）４−イソブチリルアミノフェニル
（２−１８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２−１９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（２−２０）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２−２１）４−フェノキシフェニル
（２−２２）４−ヒドロキシフェニル
（２−２３）３−ブチルフェニル
（２−２４）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−２５）３−（５−ノネニル）フェニル
（２−２６）ｍ−ビフェニリル
（２−２７）３−エトキシカルボニルフェニル
（２−２８）３−ブトキシフェニル
（２−２９）３−メチルフェニル
（２−３０）３−クロロフェニル
（２−３１）３−フェニルチオフェニル
（２−３２）３−ベンゾイルフェニル
（２−３３）３−アセトキシフェニル
（２−３４）３−ベンゾイルオキシフェニル
（２−３５）３−フェノキシカルボニルフェニル
（２−３６）３−メトキシフェニル
（２−３７）３−アニリノフェニル
（２−３８）３−イソブチリルアミノフェニル
（２−３９）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２−４０）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（２−４１）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２−４２）３−フェノキシフェニル
（２−４３）３−ヒドロキシフェニル
（２−４４）２−ブチルフェニル
（２−４５）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−４６）２−（５−ノネニル）フェニル
（２−４７）ｏ−ビフェニリル
（２−４８）２−エトキシカルボニルフェニル
（２−４９）２−ブトキシフェニル
（２−５０）２−メチルフェニル
（２−５１）２−クロロフェニル
（２−５２）２−フェニルチオフェニル

（２−５３）２−ベンゾイルフェニル
（２−５４）２−アセトキシフェニル
（２−５５）２−ベンゾイルオキシフェニル
（２−５６）２−フェノキシカルボニルフェニル
（２−５７）２−メトキシフェニル
（２−５８）２−アニリノフェニル
（２−５９）２−イソブチリルアミノフェニル
（２−６０）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２−６１）２−（３−エチルウレイド）フェニル
（２−６２）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２−６３）２−フェノキシフェニル
（２−６４）２−ヒドロキシフェニル
（２−６５）３，４−ジブチルフェニル
（２−６６）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−６７）３，４−ジフェニルフェニル
（２−６８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−６９）３，４−ジドデシルオキシフェニル
（２−７０）３，４−ジメチルフェニル
（２−７１）３，４−ジクロロフェニル
（２−７２）３，４−ジベンゾイルフェニル
（２−７３）３，４−ジアセトキシフェニル
（２−７４）３，４−ジメトキシフェニル
（２−７５）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−７６）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−７７）３，４−ジフェノキシフェニル
（２−７８）３，４−ジヒドロキシフェニル
（２−７９）３，５−ジブチルフェニル
（２−８０）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−８１）３，５−ジフェニルフェニル
（２−８２）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−８３）３，５−ジドデシルオキシフェニル
（２−８４）３，５−ジメチルフェニル
（２−８５）３，５−ジクロロフェニル
（２−８６）３，５−ジベンゾイルフェニル
（２−８７）３，５−ジアセトキシフェニル
（２−８８）３，５−ジメトキシフェニル
（２−８９）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−９０）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−９１）３，５−ジフェノキシフェニル
（２−９２）３，５−ジヒドロキシフェニル
（２−９３）２，４−ジブチルフェニル
（２−９４）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−９５）２，４−ジフェニルフェニル
（２−９６）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−９７）２，４−ジドデシルオキシフェニル
（２−９８）２，４−ジメチルフェニル
（２−９９）２，４−ジクロロフェニル
（２−１００）２，４−ジベンゾイルフェニル
（２−１０１）２，４−ジアセトキシフェニル
（２−１０２）２，４−ジメトキシフェニル
（２−１０３）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１０４）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−１０５）２，４−ジフェノキシフェニル
（２−１０６）２，４−ジヒドロキシフェニル
（２−１０７）２，３−ジブチルフェニル
（２−１０８）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１０９）２，３−ジフェニルフェニル
（２−１１０）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−１１１）２，３−ジドデシルオキシフェニル
（２−１１２）２，３−ジメチルフェニル
（２−１１３）２，３−ジクロロフェニル
（２−１１４）２，３−ジベンゾイルフェニル
（２−１１５）２，３−ジアセトキシフェニル
（２−１１７）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１１８）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−１１９）２，３−ジフェノキシフェニル
（２−１２０）２，３−ジヒドロキシフェニル
（２−１２１）２，６−ジブチルフェニル
（２−１２２）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１２３）２，６−ジフェニルフェニル
（２−１２４）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−１２５）２，６−ジドデシルオキシフェニル
（２−１２６）２，６−ジメチルフェニル
（２−１２７）２，６−ジクロロフェニル
（２−１２８）２，６−ジベンゾイルフェニル
（２−１２９）２，６−ジアセトキシフェニル
（２−１３０）２，６−ジメトキシフェニル
（２−１３１）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１３２）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−１３３）２，６−ジフェノキシフェニル
（２−１３４）２，６−ジヒドロキシフェニル

（２−１３５）３，４，５−トリブチルフェニル
（２−１３６）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１３７）３，４，５−トリフェニルフェニル
（２−１３８）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（２−１３９）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
（２−１４０）３，４，５−トリメチルフェニル
（２−１４１）３，４，５−トリクロロフェニル
（２−１４２）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（２−１４３）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（２−１４４）３，４，５−トリメトキシフェニル
（２−１４５）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１４６）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
（２−１４７）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（２−１４８）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
（２−１４９）２，４，６−トリブチルフェニル
（２−１５０）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１５１）２，４，６−トリフェニルフェニル
（２−１５２）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
（２−１５３）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
（２−１５４）２，４，６−トリメチルフェニル
（２−１５５）２，４，６−トリクロロフェニル
（２−１５６）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
（２−１５７）２，４，６−トリアセトキシフェニル
（２−１５８）２，４，６−トリメトキシフェニル
（２−１５９）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１６０）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
（２−１６１）２，４，６−トリフェノキシフェニル
（２−１６２）２，４，６−トリヒドロキシフェニル
（２−１６３）ペンタフルオロフェニル
（２−１６４）ペンタクロロフェニル
（２−１６５）ペンタメトキシフェニル
（２−１６６）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２−１６７）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１６８）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１６９）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７０）３−メトキシ−２−ナフチル
（２−１７１）１−エトキシ−２−ナフチル
（２−１７２）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２−１７３）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７４）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
（２−１７５）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７６）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２−１７７）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７８）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル

（２−１７９）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
（２−１８０）２−メトキシ−１−ナフチル
（２−１８１）４−フェノキシ−１−ナフチル
（２−１８２）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１８３）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
（２−１８４）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１８５）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
（２−１８６）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
（２−１８７）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１８８）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
（２−１８９）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１９０）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル

さらにまた、Ｘ¹が−ＮＲ⁴−、Ｘ²が−ＮＲ⁵−、Ｘ³が−ＮＲ⁶−であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は同一（Ｒ⁴＝Ｒ⁵＝Ｒ⁶＝Ｒ）で、且つＲ¹、Ｒ²及びＲ³がフェニル基である化合物の具体例としては、下記一般式（１−２）に示される化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲに関しては、前記と同様である。

Ｒ：
（２−１９１）メチル
（２−１９２）フェニル
（２−１９３）ブチル

次に、本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物のうち、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³の少なくとも１つがＯ又はＳを含む連結基であって、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³が同一（Ｒ¹＝Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ）の化合物としては、化合物の具体例としては、下記一般式（１−４）〜（１−９）の化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲに関しては、前記と同様である。

Ｒ：
（３−１）フェニル
（３−２）３−エトキシカルボニルフェニル
（３−３）３−ブトキシフェニル
（３−４）ｍ−ビフェニリル
（３−５）３−フェニルチオフェニル
（３−６）３−クロロフェニル
（３−７）３−ベンゾイルフェニル
（３−８）３−アセトキシフェニル
（３−９）３−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１０）３−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１１）３−メトキシフェニル
（３−１２）３−アニリノフェニル
（３−１３）３−イソブチリルアミノフェニル
（３−１４）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１５）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１６）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１７）３−メチルフェニル
（３−１８）３−フェノキシフェニル
（３−１９）３−ヒドロキシフェニル
（３−２０）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−２１）４−ブトキシフェニル
（３−２２）ｐ−ビフェニリル
（３−２３）４−フェニルチオフェニル
（３−２４）４−クロロフェニル
（３−２５）４−ベンゾイルフェニル
（３−２６）４−アセトキシフェニル
（３−２７）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−２８）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−２９）４−メトキシフェニル
（３−３０）４−アニリノフェニル
（３−３１）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−３２）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−３３）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−３４）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−３５）４−メチルフェニル
（３−３６）４−フェノキシフェニル
（３−３７）４−ヒドロキシフェニル

（３−３８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３−３９）３，４−ジブトキシフェニル
（３−４０）３，４−ジフェニルフェニル
（３−４１）３，４−ジフェニルチオフェニル
（３−４２）３，４−ジクロロフェニル
（３−４３）３，４−ジベンゾイルフェニル
（３−４４）３，４−ジアセトキシフェニル
（３−４５）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（３−４６）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（３−４７）３，４−ジメトキシフェニル
（３−４８）３，４−ジアニリノフェニル
（３−４９）３，４−ジメチルフェニル
（３−５０）３，４−ジフェノキシフェニル
（３−５１）３，４−ジヒドロキシフェニル
（３−５２）２−ナフチル

（３−５３）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（３−５４）３，４，５−トリブトキシフェニル
（３−５５）３，４，５−トリフェニルフェニル
（３−５６）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（３−５７）３，４，５−トリクロロフェニル
（３−５８）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（３−５９）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（３−６０）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（３−６１）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（３−６２）３，４，５−トリメトキシフェニル
（３−６３）３，４，５−トリアニリノフェニル
（３−６４）３，４，５−トリメチルフェニル
（３−６５）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（３−６６）３，４，５−トリヒドロキシフェニル

Ｒ：
（３−６７）フェニル
（３−６８）３−エトキシカルボニルフェニル
（３−６９）３−ブトキシフェニル
（３−７０）ｍ−ビフェニリル
（３−７１）３−フェニルチオフェニル
（３−７２）３−クロロフェニル
（３−７３）３−ベンゾイルフェニル
（３−７４）３−アセトキシフェニル
（３−７５）３−ベンゾイルオキシフェニル
（３−７６）３−フェノキシカルボニルフェニル
（３−７７）３−メトキシフェニル
（３−７８）３−アニリノフェニル
（３−７９）３−イソブチリルアミノフェニル
（３−８０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−８１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−８２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−８３）３−メチルフェニル
（３−８４）３−フェノキシフェニル
（３−８５）３−ヒドロキシフェニル
（３−８６）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−８７）４−ブトキシフェニル
（３−８８）ｐ−ビフェニリル
（３−８９）４−フェニルチオフェニル
（３−９０）４−クロロフェニル
（３−９１）４−ベンゾイルフェニル
（３−９２）４−アセトキシフェニル
（３−９３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−９４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−９５）４−メトキシフェニル
（３−９６）４−アニリノフェニル
（３−９７）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−９８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−９９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１００）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１０１）４−メチルフェニル
（３−１０２）４−フェノキシフェニル
（３−１０３）４−ヒドロキシフェニル

（３−１０４）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３−１０５）３，４−ジブトキシフェニル
（３−１０６）３，４−ジフェニルフェニル
（３−１０７）３，４−ジフェニルチオフェニル
（３−１０８）３，４−ジクロロフェニル
（３−１０９）３，４−ジベンゾイルフェニル
（３−１１０）３，４−ジアセトキシフェニル
（３−１１１）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（３−１１２）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（３−１１３）３，４−ジメトキシフェニル
（３−１１４）３，４−ジアニリノフェニル
（３−１１５）３，４−ジメチルフェニル
（３−１１６）３，４−ジフェノキシフェニル
（３−１１７）３，４−ジヒドロキシフェニル
（３−１１８）２−ナフチル
（３−１１９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（３−１２０）３，４，５−トリブトキシフェニル
（３−１２１）３，４，５−トリフェニルフェニル
（３−１２２）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（３−１２３）３，４，５−トリクロロフェニル
（３−１２４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（３−１２５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（３−１２６）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（３−１２７）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（３−１２８）３，４，５−トリメトキシフェニル
（３−１２９）３，４，５−トリアニリノフェニル
（３−１３０）３，４，５−トリメチルフェニル
（３−１３１）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（３−１３２）３，４，５−トリヒドロキシフェニル

Ｒ：
（３−１３３）フェニル
（３−１３４）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１３５）４−ブトキシフェニル
（３−１３６）ｐ−ビフェニリル
（３−１３７）４−フェニルチオフェニル
（３−１３８）４−クロロフェニル
（３−１３９）４−ベンゾイルフェニル
（３−１４０）４−アセトキシフェニル
（３−１４１）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１４２）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１４３）４−メトキシフェニル
（３−１４４）４−アニリノフェニル
（３−１４５）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−１４６）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１４７）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１４８）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１４９）４−メチルフェニル
（３−１５０）４−フェノキシフェニル
（３−１５１）４−ヒドロキシフェニル

Ｒ：
（３−１５２）フェニル
（３−１５３）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１５４）４−ブトキシフェニル
（３−１５５）ｐ−ビフェニリル
（３−１５６）４−フェニルチオフェニル
（３−１５７）４−クロロフェニル
（３−１５８）４−ベンゾイルフェニル
（３−１５９）４−アセトキシフェニル
（３−１６０）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１６１）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１６２）４−メトキシフェニル
（３−１６３）４−アニリノフェニル
（３−１６４）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−１６５）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１６６）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１６７）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１６８）４−メチルフェニル
（３−１６９）４−フェノキシフェニル
（３−１７０）４−ヒドロキシフェニル

Ｒ：
（３−１７１）フェニル
（３−１７２）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１７３）４−ブトキシフェニル
（３−１７４）ｐ−ビフェニリル
（３−１７５）４−フェニルチオフェニル
（３−１７６）４−クロロフェニル
（３−１７７）４−ベンゾイルフェニル
（３−１７８）４−アセトキシフェニル
（３−１７９）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１８０）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１８１）４−メトキシフェニル
（３−１８２）４−アニリノフェニル
（３−１８３）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−１８４）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１８５）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１８６）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１８７）４−メチルフェニル
（３−１８８）４−フェノキシフェニル
（３−１８９）４−ヒドロキシフェニル

Ｒ：
（３−１９０）フェニル
（３−１９１）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１９２）４−ブトキシフェニル
（３−１９３）ｐ−ビフェニリル
（３−１９４）４−フェニルチオフェニル
（３−１９５）４−クロロフェニル
（３−１９６）４−ベンゾイルフェニル
（３−１９７）４−アセトキシフェニル
（３−１９８）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１９９）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−２００）４−メトキシフェニル
（３−２０１）４−アニリノフェニル
（３−２０２）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−２０３）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−２０４）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−２０５）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−２０６）４−メチルフェニル
（３−２０７）４−フェノキシフェニル
（３−２０８）４−ヒドロキシフェニル

またＸ¹、Ｘ²及びＸ³の少なくとも１つがＯ又はＳを含む連結基である化合物の具体例としては、さらに次の化合物を挙げることができる。

３番目として、本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物のうち、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³が何れも単結合であり、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³が同一である化合物の具体例としては、下記一般式（１−１０）の化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲに関しては、前記と同様である。

Ｒ：
（４−１）フェニル
（４−２）４−エトキシカルボニルフェニル
（４−３）４−ブトキシフェニル
（４−４）ｐ−ビフェニリル
（４−５）４−ピリジル
（４−６）２−ナフチル
（４−７）２−メチルフェニル
（４−８）３，４−ジメトキシフェニル
（４−９）２−フリル
さらに：

これらの１，３，５−トリアジン環化合物は、一種を単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。

〔セルロースアシレート樹脂〕
本発明で用いるセルロースアシレートは以下の特徴を有するものが好ましい。
すなわち、セルロースアシレートのアシル基の置換度が、下記の数式（１）〜（３）を満たすセルロースアシレートが好ましい。

数式（１）：２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
数式（２）：０≦Ｘ≦１．８
数式（３）：１．０≦Ｙ＜３
（式中、Ｘはアセチル基の置換度を表し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基の置換度の総和を表す。）

より好ましいセルロースアシレートは；
Ｙの１／２以上がプロピオニル基の場合は、下記数式（１−１）及び（３−１）を満たし、
数式（１−１）：２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
数式（３−１）：２．０≦Ｙ≦２．９５
Ｙの１／２未満がプロピオニル基の場合は、下記数式（１−２）及び（３−２）を満たす。
数式（１−２）：２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
数式（３−２）：１．３≦Ｙ≦２．５

さらに好ましいセルロースアシレートは；
Ｙの１／２以上がプロピオニル基の場合は、下記数式（１−３）及び（３−３）を満たし、
数式（１−３）：２．７≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
数式（３−３）：２．４≦Ｙ≦２．９
Ｙの１／２未満がプロピオニル基の場合は、下記数式（１−４）及び（３−４）を満たす。
数式（１−４）：２．７≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
数式（３−４）：１．３≦Ｙ≦２．０

本発明では、アセチル基の置換度を少なくし、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基の置換度の総和を多くしたセルロースアシレートを用いることが好ましい。これにより、延伸中に伸びむらが発生し難く、Ｒｅ，Ｒｔｈむらが発現しにくい上、結晶融解温度（Ｔｍ）を下げることができ、溶融製膜の熱による分解で発生する黄変を抑制することもでき、好ましい。これらの効果は、なるべく大きな置換基を用いることで達成できるが、大きすぎるとガラス転移温度（Ｔｇ）や弾性率を低下させすぎることがあるため、アセチル基より大きなプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基を多く用いることが好ましく、より好ましくはプロピオニル基、ブチリル基、さらに好ましくはブチリル基を用いるのがよい。

これらのセルロースアシレート合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。

具体的には、綿花リンターや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位及び６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸及び触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロース及び系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解及びエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウム又は亜鉛の炭酸塩、酢酸塩又は酸化物）の水溶液を添加する。

次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度及び重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、又は中和することなく水もしくは希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水又は希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄及び安定化処理によりセルロースアシレートを得る。

本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度２００〜７００、より好ましくは２５０〜５５０、更に好ましくは２５０〜４００であり、特に好ましくは粘度平均重合度２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

このような重合度の調整には低分子量成分を除去することでも達成できる。低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。さらに重合方法でも分子量を調整できる。例えば、低分子成分の少ないセルロースシレテートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。

本発明で用いられるセルロースアシレートは、質量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、より好ましくは２．０〜５．０であり、更に好ましくは２．５〜５．０であり、特に好ましくは３．０〜５．０のセルロースアシレートが好ましく用いられる。

これらのセルロースアシレートは１種類のみを用いてもよく、２種以上混合してもよい。また、セルロースアシレート以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースアシレートと相溶性に優れているものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上が好ましく、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。

［プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸］
本発明では、セルロースアシレート製剤（及び該製剤より形成されるセルロースアシレートフィルム）中に、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸の少なくとも１種類が、１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下、より好ましくは１０ｐｐｍ以上８００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは２０ｐｐｍ以上６００ｐｐｍ以下含まれることが好ましい。このような酸を含有することにより、その機構は詳らかではないが、前記のトリアジン環化合物との相乗効果により、セルロースアシレートフィルムの隣接した２点間の透過率の差を抑制する効果を有する。

［可塑剤］
さらに本発明では、セルロースアシレート製剤（及び該製剤より形成されるセルロースアシレートフィルム）中に可塑剤を添加してもよい。可塑剤としては、例えば、アルキルフタリルアルキルグリコレート類、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。

アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。

リン酸エステルとしては、例えばトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることができる。さらに特表平６−５０１０４０の請求項３〜７に記載のリン酸エステル系可塑剤を用いることが好ましい。

カルボン酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等のフタル酸エステル類；例えばクエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等のクエン酸エステル類；例えばジメチルアジペート、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ビス（２−エチルヘキシル）アジペート、ジイソデシルアジペート、ビス（ブチルジグリコールアジペート）等のアジピン酸エステルを挙げることができる。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン等を単独あるいは併用するのが好ましい。

これらの可塑剤は、セルロースアシレートフィルムに対し０質量％以上２０質量％以下が好ましく、より好ましくは１質量％以上２０質量％以下、さらに好ましくは２質量％以上１５質量％以下である。これらの可塑剤は必要に応じて、２種類以上を併用して用いてもよい。

［その他添加剤］
さらに、本発明のセルロースアシレート製剤（及び該製剤より形成されるセルロースアシレートフィルム）には、可塑剤以外に、種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、劣化防止剤、光学異方性コントロール剤、微粒子、赤外吸収剤、界面活性剤、臭気トラップ剤（アミン等）など）を加えることができる。

赤外吸収染料としては、例えば特開平２００１−１９４５２２のものが使用でき、紫外線吸収剤としては、例えば特開平２００１−１５１９０１に記載のものが使用でき、それぞれセルロースアシレートに対して、０．００１〜５質量％含有させることが好ましい。

微粒子としては、平均粒径が５〜３０００ｎｍのものを使用することが好ましく、金属酸化物や架橋ポリマーからなるものを使用することができ、セルロースアシレートに対して、０．００１〜５質量％含有させることが好ましい。

劣化防止剤は、セルロースアシレートに対して０．０００１〜２質量％含有させることが好ましい。
光学異方性コントロール剤は、例えば特開２００３−６６２３０、特開２００２−４９１２８記載のものを使用でき、セルロースアシレートに対して０．１〜１５質量％含有させることが好ましい。

〔セルロースアシレートフィルム〕
本発明のセルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレートと、トリアジン環化合物の少なくとも１種とを含有する溶融流延用セルロースアシレート製剤を、溶融、流延して製造されることが好ましい。製剤としての形状は特に限定されないが、粉末状又はペレット状が好ましい。

〔製剤化〕
本発明において、溶融流延によるセルロースアシレートフィルムの製造に際しては、セルロースアシレートは、製膜に先立って製剤化される。製剤化としては、粉末またはペレット化することが好ましい。この際、上記トリアジン環化合物や、可塑剤、その他添加剤と一緒に製剤化することが好ましい。これら添加剤の添加量は、最終的にフィルムで必要とする量になるよう混合してもよく、またこれより添加量を多くした製剤（以下、これらの製剤のうちペレット状のものを「マスターペレット」とも称する）を作成してもよい。マスターペレットを作成した場合、添加剤を添加していない、又はフィルムで必要とした量より少なく作成した製剤（粉末又はペレット等）を用い、必要添加量になるよう希釈して製膜すればよい。マスターペレット中へのこれら添加剤の好ましい添加量は、０．１質量％以上４０質量％以下であり、より好ましくは０．３質量％以上３０質量％以下、より好ましくは０．８質量％以上２０質量％以下である。

ペレット化する場合、その前にセルロースアシレート、トリアジン環化合物や、可塑剤、その他添加剤は、含水率が１質量％以下、より好ましくは０．１質量％以下になるまで乾燥しておくことが好ましい。

ペレット化は２軸混練押し出し機を用い、１５０℃以上２２０℃以下、より好ましくは１６０℃以上２１０℃以下、さらに好ましくは１７０℃以上２００℃以下で、スクリュー回転数３０ｒｐｍ以上８００ｒｐｍ以下、より好ましくは８０ｒｐｍ以上６００ｒｐｍ以上、さらに好ましくは１２０ｒｐｍ以上４００ｒｐｍ以下で、滞留時間１５秒以上５分以下、より好ましくは２０秒以上４分以下、さらに好ましくは２０秒以上２分以下混練する。この際、トリアジン環化合物や、可塑剤、その他添加剤は、最初からセルロースアシレートと混合して混練押出し機に供給してもよく、混練押出し機の途中に設けたポートから添加してもよい。ペレットは、混練機の出口に付けた、３ｍｍ²〜３００ｍｍ²の孔が１〜５００個空いたダイから、１０℃以上９０℃以下の水中に押出しストランド状に固化させた後、１ｍｍから２０ｍｍ間隔で裁断、乾燥することにより得ることができる。ペレットの断面は円、多角形（三角形、四角形、五角形等）いずれであってもよい。

粉末化とは、粉状、フレーク状、粒状等にすることであり、粉状とは１００μｍ以下のものを指し、フレーク状とは１００μｍを越える大きさのものを指し、粒状とは粉末の会合させたものを指す。セルロースアシレートは、均一溶剤の中で合成され、これを貧溶剤（水等）に投入する際に固化するが、この時強く撹拌しながら投入すると粉状に、弱く撹拌しながら投入するとフレーク状にすることができる。トリアジン環化合物は本来粉状であり、これをそのまま用いても良く、造粒して用いても良い。造粒は、トリアジン環化合物単独で行っても良く、セルロースアシレートと一緒に造粒しても良い。造粒する方法は特に限定されないが、これらを溶解する溶剤を少量添加し撹拌することで造粒しても良く、加熱し少し融解させながら撹拌することで造粒しても良い。
これらの粉末は、トリアジン環化合物とセルロースアシレートが混合されていることが必要である。混合は溶融製膜前であればどこでおこなっても良く、例えばミキサー等で十分撹拌したものを一旦ストックし、これを溶融押し出し機に投入すても良く、これらを撹拌しながら直接溶融押し出し機に投入しても良い。このような粉末を溶融する場合、溶融押し出し機は２軸の溶融押し出し機を用いるのがより好ましい。

［溶融製膜］
（１）乾燥
溶融製膜には上述の方法で粉末又はペレット化したものを用いるのが好ましく、製膜に先立ち、粉末又はペレット中の含水率を１質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下にした後、溶融押出し機のホッパーに投入する。このときホッパーの温度を、使用されるセルロースアシレートのガラス転移点（Ｔｇ）を基準にして、Ｔｇ−５０℃以上でＴｇ＋３０℃以下の温度、より好ましくはＴｇ−４０℃以上でＴｇ＋１０℃以下の温度、さらに好ましくはＴｇ−３０℃以上でＴｇ以下の温度の範囲にすることが好ましい。これによりホッパー内での水分の再吸着を抑制し、上記乾燥の効率をより発現し易くできる。

（２）混練押出し
乾燥されたセルロースアシレート製剤は、押出し機中で、１２０℃以上２５０℃以下、より好ましくは１４０℃以上２２０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以上２００℃以下で混練溶融される。この時、製剤の溶融は一定温度で行ってもよく、いくつかの温度領域に分割制御して行ってもよい。好ましい混練時間は２分以上６０分以下であり、より好ましくは３分以上４０分以下であり、さらに好ましくは４分以上３０分以下である。さらに、溶融押出し機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのも好ましい。

（３）キャスト
溶融した樹脂を、ギヤポンプに通して押出機の脈動を除去した後、金属メッシュフィルター等で濾過を行い、この後ろに取り付けたＴ型のダイから冷却ドラム上にシート状に押し出す。押出しは単層で行ってもよく、マルチマニホールドダイやフィードブロックダイを用いて複数層押出してもよい。この時、ダイのリップの間隔を調整することで幅方向の厚みむらを調整することができる。

この後キャスティングドラム上に押出す。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い、キャスティングドラムと溶融押出ししたシートの密着を上げることも好ましい。このような密着向上法は、溶融押出しシートの全面に実施してもよく、一部に実施してもよい。キャスティングドラムは６０℃以上１６０℃以下が好ましく、より好ましくは７０℃以上１５０℃以下、さらに好ましくは８０℃以上１４０℃以下である。

次ぎに、得られたキャストフィルムをキャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は１０ｍ／分以上１００ｍ／分以下が好ましく、より好ましくは１５ｍ／分以上８０ｍ／分以下、さらに好ましくは２０ｍ／分以上７０ｍ／分以下である。製膜幅は１ｍ以上５ｍ以下、さらに好ましくは１．２ｍ以上４ｍ以下、さらに好ましくは１．３ｍ以上３ｍ以下が好ましい。このようにして得られた未延伸フィルムの厚みは３０μｍ以上４００μｍ以下が好ましく、より好ましくは４０μｍ以上３００μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以上２００μｍ以下である。

得られた未延伸フィルムは両端をトリミングし、巻き取ることが好ましい。トリミングされた部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料として、又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。また、巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。

［延伸］
延伸は縦方向、横方向の少なくとも一方方向（一軸方向）に延伸するのが好ましく、縦、横両方延伸するのがより好ましい。好ましい延伸温度は、セルロースアシレートのＴｇ以上Ｔｇ＋５０℃以下であり、より好ましくはＴｇ＋１℃以上Ｔｇ＋３０℃以下、さらに好ましくはＴｇ＋２℃以上Ｔｇ＋２０℃以下である。好ましい延伸倍率は、少なくとも一方方向（一軸方向）に１０％以上３００％以下延伸することが好ましく、より好ましくは２０％以上２５０％以下、さらに好ましくは３０％以上２００％以下である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施しても良い。ここで云う延伸倍率は、以下の式を用いて求めたものである。

延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／延伸前の長さ

このような延伸は縦延伸、横延伸、及びこれらの組み合わせによって実施される。縦延伸は：（１）ロール延伸（出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて、長手方向に延伸）、（２）固定端延伸（フィルムの両端を把持し、これを長手方向に次第に早く搬送し長手方向に延伸）、等を用いることができる。さらに横延伸は：テンター延伸（フィルムの両端をチャックで把持しこれを横方向（長手方向と直角方向）に広げて延伸）、等を使用することができる。これらの縦延伸、横延伸は、それだけでおこなってもよく（１軸延伸）、組み合わせて行ってもよい（２軸延伸）。２軸延伸の場合、縦、横逐次で実施してもよく（逐次延伸）、同時に実施してもよい（同時延伸）。

縦延伸、横延伸の延伸速度は、１０％／分以上１００００％／分以下が好ましく、より好ましくは２０％／分以上１０００％／分以下、さらに好ましくは３０％／分以上８００％／分以下である。多段延伸の場合、延伸速度は、各段の延伸速度の平均値を指す。
このような延伸に引き続き、縦又は横方向に０％から１０％緩和することも好ましい。さらに、延伸に引き続き１５０℃以上２５０℃以下で、１秒以上３分以下熱固定することも好ましい。

このような延伸により発現するＲｅ，Ｒｔｈは、上述の範囲であることが好ましい。さらに上述のように、ＲｔｈはＲｅ以上であることがより好ましい。このようなＲｅ，Ｒｔｈは、固定端１軸延伸、より好ましくは縦、横方向の２軸延伸により達成される。すなわち縦、横に延伸することで、面内の屈折率（ｎ_md、ｎ_td）の差を小さくし、Ｒｅを小さくすることができ、さらに、縦、横に延伸し面積倍率を大きくして厚み減少に伴う厚み方向の配向を強くすることで、Ｒｔｈを大きくすることができるためである。
このようにして延伸した後の膜厚は、１０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは２０μｍ以上２００μｍ以下、さらに好ましくはは３０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。

また製膜方向（長手方向）とフィルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが、０°、＋９０°又は−９０°に近いほど好ましい。すなわち縦延伸の場合は、０°に近いほど好ましく、０゜±３°が好ましく、より好ましくは０゜±２°、さらに好ましくは０゜±１°である。横延伸の場合は、９０゜±３°又は−９０゜±３°が好ましく、より好ましくは９０゜±２°又は−９０゜±２°、さらに好ましくは９０゜±１°又は−９０゜±１°である。

これらの延伸又は未延伸セルロースアシレートフィルムは、単独で使用してもよく、これらを偏光板に組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用してもよい。

［表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、場合により、表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層やバック層）との接着性の向上を図ることができる。このような表面処理には、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理などを用いることができる。

ここでいうグロー放電処理は、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンなどのフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、発明協会公開技報、公技番号２００１−１７４５号、３０頁〜３２頁（２００１年３月１５日発行）に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。

これら表面処理の中でも、特に好ましいものはアルカリ鹸化処理であり、セルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく、鹸化液を塗布してもよい。浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した槽に、セルロースアシレートフィルムを０．１分から１０分かけて通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成することができる。

塗布法の場合には、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法などを用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、セルロースアシレートフィルムに対して塗布するため、鹸化液の濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させることなく、表面状態を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液に用いられるアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗すること又は、酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜塗設を、連続して行うことができ、工程数を減少できる。これらの鹸化方法は、具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、ＷＯ０２／４６８０９号公報に内容の記載が挙げられる。

機能層との接着性を向上させるため下塗層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報、公技番号２００１−１７４５号、３２頁（２００１年３月１５日発行）に記載されている。

これらの表面処理、下塗工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。

〔機能層〕
本発明のセルロースアシレートフィルムに、発明協会公開技報、公技番号２００１−１７４５号、３２頁〜４５頁（２００１年３月１５日発行）に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与（偏光板）、光学補償層の付与（光学補償フィルム）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。

（１）偏光膜の付与（偏光板の作成）
［偏光膜の使用素材］
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素又は二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素又は二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例えば、スルホ基、アミノ基、ヒドロキシル基）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載の化合物が挙げられる。

偏光膜に用いられる基材には、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋するポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。これらの基材には、例えば特開平８−３３８９１３号公報段落番号［００２２］に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）及び変性ポリビニルアルコール（変性ＰＶＡ）、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることもできる。水溶性ポリマー、例えばポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ＰＶＡ、変性ＰＶＡが好ましく、ゼラチン、ＰＶＡ及び変性ＰＶＡがさらに好ましく、ＰＶＡ及び変性ＰＶＡが最も好ましい。重合度が異なるＰＶＡ又は変性ＰＶＡを２種類併用することが特に好ましい。

ＰＶＡの鹸化度は、７０〜１００％の範囲であることが好ましく、８０〜１００％の範囲であることがさらに好ましい。ＰＶＡの重合度は１００〜５０００の範囲であることであることが好ましい。変性ＰＶＡについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号及び同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。ＰＶＡ及び変性ＰＶＡは、２種以上を併用してもよい。

偏光膜に用いられる基材の厚みは、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よいが、取り扱い性、および偏光板耐久性の観点から、その下限は１０μｍであることが好ましい。この範囲内であれば、透湿による、偏光層を架橋している硼酸の拡散、散逸が起こらず、偏光性能が維持され、好ましい。またその上限は、現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。

偏光膜に用いられる基材は架橋されていてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーを偏光膜の基材中に混合してもよく、基材ポリマー自身に架橋性官能基を付与してもよい。架橋は、光、熱又はｐＨ変化により行うことができ、架橋構造をもった偏光膜基材を形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。偏光膜基材の架橋剤の添加量は、基材に対して０．１〜２０質量％が好ましい。このことにより偏光膜の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。
架橋反応終了後、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性を向上させることができる。

［偏光膜の延伸］
偏光膜は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、又はラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。

延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸はＭＤ方向に平行に行ってもよく（平行延伸）、斜め方向におこなってもよい（斜め延伸）。これらの延伸は、１回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
より好ましくは、斜め方向に１０゜から８０゜の傾きを付けて延伸する斜め延伸である。

（イ）平行延伸法
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の質量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、１５〜５０℃、就中１７〜４０℃の浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づき、前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は１．２〜３．５倍、就中１．５〜３．０倍である。この後、５０℃から９０℃において乾燥させて偏光膜を得る。

（ロ）斜め延伸法
斜め延伸法には、特開２００２−８６５５４号公報に記載の斜め方向に張り出したテンターを用いて延伸する方法を採用することができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが好ましい。好ましい含水率は５％以上１００％以下、より好ましくは１０％以上１００％以下である。延伸時の温度は４０℃以上９０℃以下が好ましく、より好ましくは５０℃以上８０℃以下である。湿度は５０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下が好ましく、より好ましくは７０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下、さらに好ましくは８０％ＲＨ以上１００％ＲＨ以下である。長手方向の進行速度は、１ｍ／分以上が好ましく、より好ましくは３ｍ／分以上である。延伸終了後、好ましくは５０℃以上１００℃以下、より好ましくは６０℃以上９０℃以下で、好ましくは０．５分以上１０分以下、より好ましくは１分以上５分以下乾燥する。
このようにして得られた偏光膜の吸収軸の方向は、長手方向に対して１０゜から８０゜傾いていることが好ましく、より好ましくは３０゜から６０゜であり、さらに好ましくは実質的に４５゜（４０゜から５０゜）である。

［貼り合せ］
前記鹸化処理後のセルロースアシレートフィルムと、延伸して調製した偏光膜とは貼り合わせられて、偏光板が調製される。貼り合わせる方向は、セルロースアシレートフィルムの流延軸方向と、偏光膜の延伸軸方向が４５゜になるように行うのが好ましい。

貼り合わせに用いられる接着剤は、特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の官能基を含有する変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。

このようにして得られた偏光板の光線透過率は、高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。

さらにこのようにして得られた偏光板は、λ／４板と積層して円偏光を作成することができる。この場合、λ／４板の遅相軸と偏光板の吸収軸を４５゜になるように積層する。この時、λ／４板は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような、波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し２０゜〜７０゜傾いた吸収軸を有する偏光板、及び液晶性化合物からなる光学異方性層からなるλ／４板を用いることが好ましい。

（２）光学補償層の付与（光学補償フィルムの作成）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、セルロースアシレートフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成されることが好ましい。

［配向膜］
前記で表面処理したセルロースアシレートフィルム上に配向膜を設ける。配向膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を終えているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。すなわち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光膜上に転写して偏光板を作製することも可能である。

配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチル）の累積などの手段により設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。

本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、又は液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。

配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することもできる。ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ＰＶＡ及び変性ＰＶＡ、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー、例えばポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ＰＶＡ、変性ＰＶＡが好ましく、ゼラチン、ＰＶＡ及び変性ＰＶＡがさらに好ましく、ＰＶＡ及び変性ＰＶＡが最も好ましい。重合度が異なるＰＶＡ又は変性ＰＶＡを２種類併用することが特に好ましい。ＰＶＡの鹸化度は、７０〜１００％の範囲であることが好ましく、８０〜１００％の範囲であることがさらに好ましい。ＰＶＡの重合度は、１００〜５０００の範囲であることであることが好ましい。

液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有している。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類及び必要とする配向状態に応じて決定することができる。例えば、変性ＰＶＡの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、メルカプト基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、又は液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償フィルムの強度を著しく改善することができる。

配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。

架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％の範囲であることが好ましく、０．５〜１５質量％の範囲であることがさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用したり、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置したりしても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマーを、セルロースアシレートフィルム上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、セルロースアシレートフィルム上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えばメタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

工業的に実施する場合には、搬送されている偏光膜の貼付されたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成されるが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ（偏芯）はいずれも３０μｍ以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は１〜１００ｍ／分の範囲であることが好ましい。ラビング角は０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０゜が好ましい。４５゜が特に好ましい。
このようにして得られた配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。

次に、配向膜の上で光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、又は架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。

光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子及び円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子及び円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。

［棒状液晶性分子］
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。換言すれば、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。

棒状液晶性分子については、「季刊化学総説」第２２巻「液晶の化学」（１９９４年）（日本化学会編）第４章、第７章及び第１１章、及び「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編）第３章に記載がある。

棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。

棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。

［円盤状液晶性分子］
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告“Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ．”，７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告“Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ．”，１２２巻、１４１頁（１９８５年）、“Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ．，Ａ”，７８巻、８２頁（１９９０年）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告“Ａｎｇｅｗ． Ｃｈｅｍ．”，９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告“Ｊ．Ｃｈｅｍ． Ｃｏｍｍｕｎ．”，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告“Ｊ．Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．”，１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が、母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば低分子の円盤状液晶性分子が、熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。

円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［０１５１］〜「０１６８」記載の化合物等が挙げられる。

ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光膜の面との角度が、光学異方性層の深さ方向で、且つ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加又は減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。

偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子もしくは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子、又は円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。長軸配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。

［光学異方性層の他の成分］
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗布膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。これらの成分は、液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、又は配向を阻害しないものであることが好ましい。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性を有するものであることが好ましく、例えば、特開２００２−２９６４２３号公報段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。重合性モノマーの添加量は、円盤状液晶性分子に対して、一般に１〜５０質量％の範囲であり、５〜３０質量％の範囲であることが好ましい。

界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。

円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられるものであることが好ましい。このようなポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。ポリマーの添加量は、液晶性分子の配向を阻害しないように、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。

円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。

［光学異方性層の形成］
光学異方性層は、液晶性分子及び、必要に応じて、後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。

塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施することができる。

光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。

［液晶性分子の配向状態の固定］
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。

光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

この光学補償フィルムと偏光膜を組み合わせることも好ましい。具体的には、例えば、光学補償フィルムと偏光膜とは、貼り合わせてもよい。前記［貼り合せ］において述べた、セルロースアシレートフィルムと偏光膜の貼り合わせと同様に、貼り合わせることができる。

偏光膜と光学補償層の傾斜角度を、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度にあわせるように偏光膜を延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５゜である。しかし最近では、透過型、反射型及び半透過型ＬＣＤにおいて、必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整することが好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明に従う偏光板、光学補償フィルムを大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。
このような偏光板、光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。

［ＴＮモード液晶表示装置］
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

［ＯＣＢモード液晶表示装置］
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させる、ベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルも、ＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

［ＶＡモード液晶表示装置］
電圧無印加時に棒状液晶性分子が、実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル｛ＳＩＤ９７、“Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ”，（予稿集）２８（１９９７年）８４５記載｝、（３）棒状液晶性分子を、電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル｛日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８年）記載｝及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

［ＩＰＳモード液晶表示装置］
電圧無印加時に棒状液晶性分子が、実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号、特開２００４−１２７３１号、特開２００４−２１５６２０号、特開２００２−２２１７２６号、特開２００２−５５３４１号、特開２００３−１９５３３３号の各公報に記載のものなどを使用できる。

（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモード及びＳＴＮモードに対しても、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。

（３）反射防止膜の付与（反射防止フィルム）
反射防止フィルムは、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（すなわち、高屈折率層、中屈折率層）を透明基体上に設けてなる。透明基体に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができる。

反射防止膜の形成方法として、屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜を、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾル／ゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法などが挙げられる。

一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散させてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。このような塗布による反射防止フィルムとしては、最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性が付与された反射防止層からなる反射防止フィルムも挙げられる。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。

［塗布型反射防止フィルムの層構成］
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなる反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
各屈折率層の屈折率は相対的なものである。

また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、反射防止膜は、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。このような塗布型反射防止フィルムについては、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載されたものが挙げられる。

さらにこれら各層には他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

反射防止フィルムのヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また、フィルムの表面硬度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

［高屈折率層及び中屈折率層］
反射防止フィルムの高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜からなる。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

無機化合物をこのような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報；アニオン性化合物又は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤を併用すること（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許ＵＳ６２１０８５８Ｂ１号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。

更に、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基のいずれかの重合性基を、少なくとも２個以上含有する多官能性化合物含有組成物、又は加水分解性基を含有する有機金属化合物及びその部分縮合体組成物の少なくともいずれかを含有する組成物がマトリックスを形成する材料として好ましい。これらは、例えば特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載されている。

また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と、金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も高屈折率層及び中屈折率層のマトリックスを形成する材料として好ましい。これらは、例えば特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。

高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。中屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

［低屈折率層］
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は一般に１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーン化合物の導入、フッ素化合物の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。

上記含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また含フッ素化合物は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性又は重合性の官能基を含む化合物が好ましい。このような含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。

上記シリコーン化合物は、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基又は重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン［例えば「サイラプレーン」｛チッソ（株）製｝等］、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）などが挙げられる。

架橋又は重合性基を有する含フッ素もしくは含珪素ポリマー、又は両元素を含有するポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。重合開始剤、増感剤としては、従来公知のものを用いることができる。

またシランカップリング剤等の有機金属化合物と、特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。このような硬化膜としては、例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「ペルフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤｛例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の、一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等｝、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合には、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、通常、透明支持体の表面に設けられる。特に、セルロースアシレートフィルムと前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び熱の少なくともいずれかによる硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したものと同様のものが挙げられる。

ハードコート層の具体的な構成成分としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ００／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能（後述））を付与した防眩層を兼ねることもできる。

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。

ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

［前方散乱層］
前方散乱層は、反射防止フィルムを液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設けられる。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。前方散乱層としては、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等に記載のものが挙げられる。

［その他の層］
反射防止フィルムには、上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗層や保護層等を設けてもよい。

［塗布方法］
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）などの方法で塗布することにより形成することができる。

［アンチグレア機能］
反射防止フィルムは、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。

反射防止フィルム表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）含有させて表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持しながら低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設後の表面に、物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。

以下、本発明を実施例により例証するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されるものではない。なお本実施例で使用した測定法について次ぎに記載する。

（１）セルロースアシレートの置換度
セルロースアシレートのアシル置換度は、“Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ． Ｒｅｓ．”，２７３巻（１９９５年）８３〜９１頁（手塚他）に記載の方法で、¹³Ｃ−ＮＭＲにより求めた。

（２）隣接した２点の透過率の差
サンプルフィルムを全幅にわたり２ｃｍ間隔で、幅方向１．５ｃｍ長手方向５ｃｍに裁断した。これを分光光度計のサンプル側にセット、リファレンス側は空気で、５５０ｎｍの光で透過率を測定した。隣接する２点間の吸光度の差を求め最大値を「隣接した２点の透過率の差」とした。

次ぎに、本発明で使用されるトリアジン環化合物の合成法に関して具体的に記載するが、これ以外の化合物に対しても、これらの例と同様に合成することができる。

合成例１：例示化合物（１−１）
（１）２，４−ジ−ｍ−トルイジノ−６−クロル−１，３，５−トリアジンの合成
４００Ｌの反応容器に塩化シアヌル２５ｋｇ（１３６モル）を入れ、メチルエチルケトン２００Ｌで溶解した。次いで、ｍ−トルイジン２９．１ｋｇ（２７０モル）を５℃以下で滴下し、その後、ジイソプロピルエチルアミン３５．２ｋｇ（２７０モル）を５℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水５００Ｌ中に注ぎ込み、有機層を酢酸エチル５００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール１００Ｌに溶解し再結晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た（収量３７．７ｋｇ、収率８５モル％）。

（２）例示化合物（１−１）の合成
上記で得られた２，４−ジ−ｍ−トルイジノ−６−クロル−１，３，５−トリアジン８．１ｋｇ（２５モル）と、アニリン２．３ｋｇ（２５モル）とを３００Ｌの反応容器に入れ、ＤＭＦ２０Ｌで溶解した。次いで、炭酸カリウム５．２ｋｇ（３７．５モル）を加え１２０℃で２時間反応させた後、冷却し、酢酸エチル１００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量８．６ｋｇ、収率９０モル％）。化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトル及び元素分析で確認した。

合成例２：例示化合物（１−２）の合成
上記合成例１（１）で得られた２，４−ジ−ｍ−トルイジノ−６−クロル−１，３，５−トリアジン８．１ｋｇ（２５モル）と、ｐ−アニシジン３．１ｋｇ（２５モル）とを２００Ｌの反応容器に入れ、ＤＭＦ２０Ｌで溶解した。次いで、炭酸カリウム５．２ｋｇ（３７．５モル）を加え１２０℃で２時間反応させた。冷却後、酢酸エチル１００Ｌで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量９．１ｋｇ、収率８８モル％）。化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトル及び元素分析で確認した。

合成例３：例示化合物（１−３５）の合成
（１）２−（２−クロルアニリノ）−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの合成
５００Ｌの反応容器に塩化シアヌル１４．４ｋｇ（７８モル）を入れ、メチルエチルケトン８０Ｌに溶解した。次いで、ｏ−クロルアニリン１０ｋｇ（７８モル）を０℃以下で滴下し、更にジイソプロピルエチルアミン１０．１ｋｇ（７８モル）を０℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水１６０Ｌ中へ注ぎ込んで有機層を酢酸エチル２００Ｌで抽出した。その後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量１９．３ｋｇ、収率９０モル％）。

（２）例示化合物（１−３５）の合成
上記で得られた２−（２−クロルアニリノ）−４，６−ジクロル−１，３，５−トリアジン５．４ｋｇ（２０モル）を４００Ｌの反応容器に入れ、ＤＭＦ２０Ｌで溶解した。次いで、ｍ−トルイジン４．２ｋｇ（４０モル）と炭酸カリウム８．２ｋｇ（６０モル）とを加え、１２０℃で２時間反応させた。冷却後、反応液を氷水１００Ｌ中へ注ぎ込み、有機層を酢酸エチル１５０Ｌで抽出した。抽出液を無水 硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量７．３ｋｇ、収率８７モル％）。化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトル及び元素分析で確認した。

合成例４：例示化合物（２−２９）の合成
４００Ｌの反応容器に塩化シアヌル２５ｋｇ（１３６モル）を入れ、メチルエチルケトン２００Ｌで溶解した。次いで、ｍ−トルイジン３８ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下し、その後、ジイソプロピルエチルアミン５２．８ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水５００Ｌ中に注ぎ込み、有機層を酢酸エチル５００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール１００Ｌに溶解し再結晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た（収量５４．４ｋｇ、収率８５モル％）。

合成例５：例示化合物（２−１）の合成
４００Ｌの反応容器に塩化シアヌル２５ｋｇ（１３６モル）を入れ、メチルエチルケトン２００Ｌで溶解した。次いで、アニリン４０ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下し、その後、ジイソプロピルエチルアミン５２．８ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水５００Ｌ中に注ぎ込み、有機層を酢酸エチル５００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール１００Ｌに溶解し再結晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た（収量５０．４ｋｇ、収率８５モル％）。

次いで、本発明のセルロースアシレートフィルムについて、実施例に基づき、具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

１．セルロースアシレートフィルムの製膜
（１）セルロースアシレートの調製
表１に記載のアシル基の種類、置換度の異なるセルロースアシレートを調製した。これは、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の種類、量を調整することで、アシル基の種類、置換度を調整した。またアシル化後、４０℃で熟成を行った。このようにして得たセルロースアシレートの重合度は下記の方法で求め、表１に記載した。

（重合度測定法）
絶乾したセルロースアシレート約０．２ｇを精秤し、メチレンクロリド：エタノール＝９：１（質量比）の混合溶媒１００ｍｌに溶解した。これをオストワルド粘度計にて２５℃で落下秒数を測定し、重合度ＤＰを以下の式により求めた。

η_r＝Ｔ／Ｔ₀
［η］＝（ｌｎη_r）／Ｃ
ＤＰ＝［η］／Ｋｍ
ここで、η_rは相対粘度、［η］は固有粘度、Ｔは測定試料（セルロースアシレート溶液）の落下秒数（秒）、Ｔ₀は溶媒単独の落下秒数（秒）、Ｃはセルロースアシレート溶液の濃度（ｇ／Ｌ）を表し、Ｋｍ＝６×１０^-4である。

（２）セルロースアシレートのペレット化
上記セルロースアシレートを１２０℃で３時間乾燥して含水率を０．１質量％にしたものに、本発明におけるトリアジン環化合物（表１に前記の例示化合物の記号で記載）、カルボン酸（プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸）を添加した。これらの添加量｛セルロースアシレートに対する質量比（％又はｐｐｍ）｝は表１に記載した。

さらに下記から選択した可塑剤（表１に記載）を加え、さらに全水準に二酸化珪素微粒子「アエロジルＲ９７２Ｖ」０．０５質量％を添加した。
可塑剤Ａ：１，４−フェニレン−ビスジフェニルホスフェート
可塑剤Ｂ：トリフェニルホスフェート
可塑剤Ｃ：ジメチルフタレート
可塑剤Ｄ：ジオクチルアジペート

これらを混合したものを２軸混練押出し機のホッパーに入れ、１９０℃で、３００回転／分、滞留時間１分で混練した。なお、この２軸混練押出し機には真空ベントを設け、真空排気（０．３気圧に設定）した。このようにして融解した後、直径３ｍｍのストランド状に押出し、４５℃の水浴中に１０秒間浸漬した後、１０℃の水中に１０秒通過させ固化した後、長さ５ｍｍに裁断しペレット化した。これを１００℃で１０分乾燥した後、袋詰した。
さらに、セルロースアシレートのみからなるブランクペレットを上記方法と同様に調製した。

（３）溶融製膜
上記方法で調製したトリアジン環化合物を添加したセルロースアシレートペレットを用い、一部の水準は単独で、一部の水準はブランクペレットと混合して使用した（表１に記載）。
これらのペレットは１１０℃の真空乾燥機で３時間乾燥した後、８０℃に調整したホッパーに投入し、１９０℃で５分間かけ溶融した後、Ｔ−ダイからキャスティングドラム上に押出し、固化した。なお、キャスティングドラムの温度はフィルムのＴｇ−１０℃に設定した。なお、フィルムのＴｇは下記方法で測定した。

（Ｔｇ測定）
１）溶融製膜後のフィルムを２０ｍｇサンプリングし、ＤＳＣの測定パンに入れる。
２）これを窒素気流中で、１０℃／分で３０℃から２５０℃まで昇温した後（操作１）、３０℃まで−１０℃／分で冷却する。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温する（操作２）。
３）操作２で求めたＴｇ（ベースラインが低温側から偏奇し始める温度）を表１に記載した。

固化したフィルムを剥ぎ取り、巻き取り直前に両端（全幅の各５％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた後、３０ｍ／分で巻き取った。このようにして得た未延伸フィルムの幅は各水準とも１．５ｍであり、厚みを表２に記載した。

本発明の試料はいずれも良好な特性を示した。本発明の範囲外のものは隣接した２点の透過率の差が増大した。特に特開２０００−３５２６２０号公報の実施例の試料Ｎｏ．１１に準じて実施した比較例９の試料は、特にその隣接した２点の透過率の差が増大し、表示むら（像のゆがみ）も発生した。一方、それと同様な条件（セルロースアシレートの組成比は、本発明のより好ましい範囲外ではあるが）で本発明を実施した実施例２５は良好な結果を示した。さらに実施例２５のセルロースアシレートの組成を、本発明のより好ましい組成の範囲内とした実施例２４の試料はさらに好ましい結果を示した。
またトリアジン環との結合基（Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³）が−Ｏ−のもの（実施例２６〜２８）の性能は、結合基が−ＮＨ−のものに比べ、むらがやや増大した。

（４）延伸
このようにして得た未延伸フィルムを表２に記載の倍率で延伸した。この後、両端各５％ずつトリミングした。このようにして得た延伸フィルムのＲｅ，Ｒｔｈ、これらの湿度変動を下記方法で測定し表２に記載した。なお、延伸は上記で測定したＴｇより１０℃高い温度で、３００％／分で実施した。

（Ｒｅ，Ｒｔｈ測定）
サンプルフィルムを２５℃、６０％ＲＨに３時間以上調湿後、自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ／ＰＲ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、２５℃、６０％ＲＨにおいて、サンプルフィルム表面に対し垂直方向及び、フィルム面法線から±４０°傾斜させて方向から波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定する。垂直方向から面内のレターデーション（Ｒｅ）、垂直方向、±４０°方向の測定値から算出する。これをＲｅ₆₀、Ｒｔｈ₆₀とする。

（Ｒｅ，Ｒｔｈの湿度変動）
上記測定で用いたサンプルフィルムを、２５℃、１０％ＲＨで１２時間以上調湿した後、２５℃、１０％ＲＨ中で上記と同様にしてＲｅ，Ｒｔｈを測定する（Ｒｅ₁₀、Ｒｔｈ₁₀とする）。
これと同じサンプルフィルムを用い、２５℃、８０％ＲＨで１２時間以上調湿した後、２５℃、８０％ＲＨ中で上記と同様にしてＲｅ，Ｒｔｈを測定する（Ｒｅ₈₀、Ｒｔｈ₈₀とする）。
下記式からＲｅ湿度変動（％）及びＲｔｈ湿度変動（％）を算出した。
Ｒｅ湿度変動（％）＝｛｜Ｒｅ₁₀−Ｒe₈₀｜／Ｒｅ₆₀｝×１００
Ｒｔｈ湿度変動（％）＝｛｜Ｒｔｈ₁₀−Ｒｔｈ₈₀｜／Ｒｔｈ₆₀｝×１００

２．偏光板の作成
（１）セルロースアシレートフィルムの鹸化
未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムを下記１）浸漬鹸化法で鹸化した。
１）浸漬鹸化法
ＮａＯＨの１．５モル／Ｌ規定水溶液を鹸化液として用いた。
これを６０℃に調温し、セルロースアシレートフィルムを２分間浸漬した。
この後、０．０５モル／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、水洗浴を通した。
なお、下記塗布鹸化法でも実施したが、下記液晶表示板に組み込んでの表示むらの評価は浸漬鹸化法と同様の結果を示した。

２）塗布鹸化
イソプロパノール８０質量部に水２０質量部を加え、これにＫＯＨを１．５規定となるように溶解し、これを６０℃に調温したものを鹸化液として用いた。
これを６０℃のセルロースアシレートフィルム上に１０ｇ／ｍ²塗布し、１分間鹸化した。
この後、５０℃の温水をスプレー状に、１０Ｌ／ｍ²・分で１分間吹きかけ洗浄した。

（２）偏光層の作成
特開平２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸した。

（３）貼り合わせ
このようにして得た偏光層と、上記鹸化処理した未延伸、延伸セルロースアシレートフィルム及び鹸化処理した「フジタック」（未延伸トリアセテートフィルム）｛富士写真フィルム（株）製｝を、ＰＶＡ“ＰＶＡ−１１７Ｈ”｛（株）クラレ製｝３質量％水溶液を接着剤として、偏光軸とセルロースアシレートフィルムの長手方向が４５゜となるように下記組み合わせで貼り合わせた。
１）偏光板Ａ：延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／未延伸セルロースアシレートフィルム
２）偏光板Ｂ：延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／「フジタック」
３）偏光板Ｃ：延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／延伸セルロースアシレートフィルム
なお未延伸セルロースアシレートは、同じ水準の延伸前のフィルムを使用した。

３．光学補償フィルム・液晶表示素子の作成
上記位相差偏光板Ａ，Ｂ，Ｃを、富士通（株）製１５インチディスプレー“ＶＬ−１５３０Ｓ”（ＶＡ方式）の偏光板に代えて使用した。このとき、表２に記載したように、一対の偏光板のうち片側のみに偏光位相差板を用いた場合は「片側」、両方の偏光板に用いた場合は「両側」と記載した。このようにして得た液晶表示装置を用い、５ｍｍ間隔の格子を表示させ、縦、横方向の線のゆがみを定規を用い計測し、直線（定規）からずれを計測し、画面内で最も大きなずれを、表２に示した。

本発明の、延伸セルロースアシレートフィルムを用いた位相差偏光板を使用したものは、表示むら（像のゆがみ）がほとんど発生せず、良好な光学補償フィルムを作成できた。中でもトリアジン環との結合基Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³に−ＮＨ−基を用いたもの（実施例２９）が、−Ｏ−，−Ｓ−基を用いたもの（実施例２６，３０）に比べ良好であった。一方、本発明の範囲外のものは、スジ状の表示むら（像のゆがみ）が顕著であった。特に、特開２０００−３５２６２０号公報の実施例中の試料１１に準じたもの（表１、表２の比較例９）の表示むら（像のゆがみ）が顕著であった。これに対し、比較例９に近い条件で本発明を実施した実施例２４は良好な結果を示した。

さらに、特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを使用しても、良好な光学補償フィルムを作成できた。

特開平７−３３３４３３号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムに代わって、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムに変更し光学補償フィルターフィルムを作製しても、良好な光学補償フィルムを作成できた。

さらにまた本発明の偏光板、位相差偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置に用いたところ、表示むら（像のゆがみ）の無い良好な液晶表示素子を得た。

４．反射防止フィルムの作成
本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号）の実施例４７に従い、本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを用いて反射防止フィルムを作成したところ、良好な光学性能が得られた。
さらに本発明の反射防止フィルムを、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置の最表層に貼り評価を行ったところ、良好な液晶表示素子を得た。

Claims (9)

1. 溶融流延によって形成されるセルロースアシレートフィルムであって、隣接した２点の透過率の差が０．０５％以上２％以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
2. セルロースアシレートと、トリアジン環化合物の少なくとも１種とを含有する溶融流延用セルロースアシレート製剤。
3. トリアジン環化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である請求項２に記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤。
   一般式（１）：
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し；Ｘ¹は単結合、−ＮＲ⁴−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ²は単結合、−ＮＲ⁵−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ³は単結合、−ＮＲ⁶−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）
4. トリアジン環化合物をセルロースアシレートに対し０．１質量％以上４０質量％以下含有する請求項２または３に記載のセルロースアシレート製剤。
5. セルロースアシレートのアシル基の置換度が、下記の数式（１）〜（３）を満たす請求項２〜４のいずれかに記載のセルロースアシレート製剤。
   数式（１）：２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
   数式（２）：０≦Ｘ≦１．８
   数式（３）：１．０≦Ｙ＜３
   （式中、Ｘはアセチル基の置換度を表し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基及びヘキサノイル基の置換度の総和を表す。）
6. 請求項２〜５のいずれかに記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤を溶融して流延することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
7. 請求項４に記載のセルロースアシレート製剤を流延して形成され、上記一般式（１）記載のトリアジン環化合物を、セルロースアシレートに対し０．１質量％以上１５質量％以下含有することを特徴とする請求項１記載のセルロースアシレートフィルム。
8. 請求項２〜５のいずれかに記載の溶融流延用セルロースアシレート製剤を溶融して流延することで製造されたセルロースアシレートフィルム。
9. 請求項１、７又は８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを、少なくとも一軸方向に１０％以上３００％以下延伸したことを特徴とする延伸セルロースアシレートフィルム。