JP5823545B2 - 偏光子、それを用いた偏光板、液晶表示装置、および偏光板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、偏光子に関する。さらに、かかる偏光子を有する偏光板、液晶表示装置、および偏光板の製造方法に関する。

液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として普及しており、年々その用途が広がっている。
液晶表示装置の一般的な構成は液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。偏光板は一定方向の偏波面の光だけを通す役割を担っており、偏光板の性能によって液晶表示装置の性能が大きく左右される。偏光板は、一般にヨウ素や染料を吸着配向させたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子の表裏両側に透明な保護フィルムを貼り合わせた構成となっている。

近年、液晶表示装置の用途拡大につれ、テレビ等の大サイズかつ高品位用途が拡大してきており、偏光板の品質に対する要求も一段と高まっている。特に、大サイズかつ高品位用途の液晶表示装置は、従来に比べて室外をはじめとして様々な過酷な環境下での使用も求められる。このような観点から、近年、液晶表示装置に用いる偏光板には、高温高湿下での偏光子の耐久性を改善することが強く望まれてきている。

ここで、特許文献１には、特定の有機酸を偏光子に配合することによって、高温高湿度下での偏光子耐久性を向上することが記載されている。
また、特許文献２には、保護フィルムにバルビツール酸を配合することが記載されている。

特開２０１１−２３７５８０号公報 特開２０１１−１１８１３５号公報

ここで、特許文献１に記載の偏光子は優れた偏光子であるが、近年の要求は高くなっており、偏光子自体の性能のさらなる向上が求められている。一方、特許文献２の偏光板保護フィルムに有機酸を含める方法は環状オレフィンやアクリル樹脂の様な溶融成膜で用いられる原料に対しては原料を溶融させる過程で低分子の有機酸が揮散してしまいフィルム中に残らないため、特定の偏光板保護フィルムにしか導入できない。
本願発明はかかる課題を解決することを目的としたものであって、偏光子自体の性能が高く、その性能が高温高湿度下でも十分に耐久性のある偏光子であって、かつ、幅広い偏光板保護フィルムに適用可能な偏光子を提供することを目的とする。
また、かかる偏光子を有する偏光板、および液晶表示装置を提供することにある。

本発明者らが上記課題を解決することを目的として鋭意研究したところ、所定のバルビツール酸骨格の化合物を所定量偏光子に含有させることで、偏光子自身の透過率が高く、さらに、経時の高湿度下でのクロス透過率上昇が大幅に抑制され、かつ単板透過率も変化が小さいことを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、下記手段＜１＞により、好ましくは、＜２＞〜＜１２＞により、上記課題は解決された。

＜１＞ポリビニルアルコール系樹脂と、二色性色素と、下記一般式（１）で表わされる化合物、下記一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩の少なくとも１種を含み、
前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩の合計量が、前記ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部であることを特徴とする偏光子；
一般式（１）

一般式（１）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；
一般式（１−２）

一般式（１−２）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；但し、Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁵の少なくとも１つは水溶性基であるか、水溶性基を含んでいるか、Ｒ¹とＲ³の両方が水素原子である。
＜２＞前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩において、前記Ｒ⁵がアルキル基、アリール基、またはアラルキル基である、＜１＞に記載の偏光子。
＜３＞前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩が、一般式（１）で表される化合物であり、前記Ｒ⁵が芳香環を有し、極性効果を示す置換基である、＜１＞または＜２＞に記載の偏光子。
＜４＞前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩において、前記Ｒ⁵が芳香環を有し、極性効果を示す置換基である、＜１＞または＜２＞に記載の偏光子。
＜５＞前記Ｒ⁵がアリール基またはアラルキル基である、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の偏光子。
＜６＞前記Ｒ⁵がフェニル基またはベンジル基である、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の偏光子。
＜７＞＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の偏光子の少なくとも一方の面に保護フィルムを有する、偏光板。
＜８＞前記保護フィルムがセルロースアシレートフィルムである、＜７＞に記載の偏光板。
＜９＞＜７＞または＜８＞に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
＜１０＞ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム状に製膜する工程と、
前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、
二色性色素により延伸後の前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程とを含み、
さらに、ポリビニルアルコール系樹脂に対し、一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、上記化合物の水和物、上記化合物の溶媒和物および上記化合物の塩を、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部の割合で適用することを含む、偏光子の製造方法；
一般式（１）

一般式（１）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；
一般式（１−２）

一般式（１−２）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；但し、Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁵の少なくとも１つは水溶性基であるか、水溶性基を含んでいるか、Ｒ¹とＲ³の両方が水素原子である。
＜１１＞前記適用する工程は、前記ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム状に製膜する工程において、前記ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部であるポリビニルアルコール系樹脂溶液を用いることにより行う、＜１０＞に記載の偏光子の製造方法。
＜１２＞一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、上記化合物の水和物、上記化合物の溶媒和物および上記化合物の塩は、一般式（１）で表される化合物であり、Ｒ⁵が芳香環を有し、極性効果を示す置換基である、＜１０＞または＜１１＞に記載の偏光子の製造方法。

本発明によれば、偏光子自体の性能が高く、その性能が高温高湿度下でも十分に耐久性のある偏光子であって、かつ、幅広い偏光板保護フィルムに適用可能な偏光子を可能になった。

本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。

＜偏光子＞
本発明の偏光子はポリビニルアルコール系樹脂と、二色性色素と、下記一般式（１）で表わされる化合物、下記一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩（以下、これらを、「一般式（１）で表される化合物等」ということがある。）の少なくとも１種を含み、
前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩の合計量が、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部であることを特徴とする。
一般式（１）

一般式（１）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；
一般式（１−２）

一般式（１−２）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；但し、Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁵の少なくとも１つは水溶性基であるか、水溶性基を含んでいるか、Ｒ¹とＲ³の両方が水素原子である。

本発明の課題に関連する現象として光による劣化が考えられ、光劣化の原因の一つとしては紫外線等の強いエネルギー線が偏光板中のヨウ素錯体に吸収され、樹脂を分解する機構が知られている。
本発明者らが上記課題を解決することを目的として鋭意研究したところ、所定の構造のバルビツール酸骨格の化合物を所定量偏光子に含有させることで、偏光子自身の透過率が高く、さらに、経時の高湿度下でのクロス透過率上昇が大幅に抑制され、かつ単板透過率も変化が小さいことを見出し、本発明を完成するに至った。
特に、本発明にかかる一般式（１）または一般式（１−２）中のＲ⁵が、芳香環を有し、極性効果を示す置換基である場合、本発明の効果がより効果的に発揮されることが分かった、この理由は推定であるが、一般式（１）または一般式（１−２）中のＲ⁵が、芳香環を有し、極性効果を示す置換基が連結した炭素原子が紫外線等のエネルギー線によって生じるヨウ素ラジカルを捕集して安定化させる機構として考えられ、しかも、一般式（１）または一般式（１−２）の骨格であるバルビツール酸は酸性を示し偏光子の安定化にも寄与するため、顕著な効果を示すことができる。さらに一般式（１）で表される化合物は、下記式に一例を示すように空気中の酸素がヨウ素イオン（Ｉ^-）をヨウ素分子（Ｉ₂）に酸化する反応の有効なメディエーターとして機能することにより、ヨウ素錯体（Ｉ₃ ^-/ＰＶＡ、Ｉ₅ ^-/ＰＶＡ）の生成を促進することができ、これにより偏光板の直交透過率を高める効果も有する。すなわち、一般式（１）または一般式（１−２）で表される化合物を偏光子に含有させることで、本発明の偏光子を偏光板に用いた場合、前記偏光板を高温高湿下で経時させたときの偏光子耐久性や単板透過率を顕著に改善することができる。

＜＜一般式（１）で表される化合物＞＞
本発明の偏光子は、通常、一般式（１）で表される化合物を含む。

（一般式（１）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す。）

一般式（１）のＲ¹およびＲ³の好ましい範囲について述べる。
上記炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基は、炭素数が１〜１０の直鎖のアルキル基または炭素数３〜２０の分岐のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１〜５の直鎖のアルキル基または炭素数３〜５の分岐のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜３の直鎖のアルキル基であることがさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
上記炭素数３〜２０のシクロアルキル基は、炭素数が３〜１０のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数４〜８のシクロアルキル基であることがより好ましい。シクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基が挙げられ、シクロヘキシル基が特に好ましい。なお、シクロアルキル基とは、環状のアルキル基を表す。
上記炭素数２〜２０のアルケニル基は、炭素数が２〜１０のアルケニル基であることが好ましく、炭素数２〜５のアルケニル基であることがより好ましい。
上記炭素数６〜２０の芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても芳香族複素環基であってもよいが、芳香族炭化水素基であることが好ましい。当該芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。

Ｒ¹およびＲ³は置換基を有してもよい。置換基としては、特に制限はなく、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０で、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、１−エチルペンチル基、ベンジル基、２−エトキシエチル基、１−カルボキシメチル基等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、ビニル基、アリル基、オレイル基等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エチニル基、ブタジイニル基、フェニルエチニル基等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０で、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、４−メトキシフェニル基、２−クロロフェニル基、３−メチルフェニル基等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、前記環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−イミダゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、２−チアゾリル基、２−オキサゾリル基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基等）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、ベンジルチオ基等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、３−メチルフェニルチオ基、４−メトキシフェニルチオ基等）、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル基、ピバロイル基、アクリロイル基、メタクロロイル基、ベンゾイル基、ニコチノイル基等）、アリーロイルアルキル基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、アニリノ基、１−ピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホニル基等）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド基、Ｎ−フェニルスルホンアミド基等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルアミノ基、アクリロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、ニコチンアミド基等）、シアノ基、水酸基、メルカプト基またはハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。Ｒ¹およびＲ³が有しうる上記置換基は、さらに上記置換基を有していてもよい。
Ｒ¹およびＲ³の各基が有してもよい上記の置換基のうち、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基が好ましい。

一般式（１）で表される化合物のうち、好ましい化合物を列挙すると以下の通りである。
・Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁵の少なくとも１つが、極性効果を有する置換基を有する
・Ｒ¹およびＲ³のいずれか１つがアラルキル基である化合物
なお、アラルキル基はアルキル基にアリール基が置換した化合物であり、アラルキル基のなかでも、アルキル基に１個または２個のアリール基が置換したもの（２個のアリール基が置換した場合、同一炭素原子に置換していることが好ましい。）が好ましい。さらに、アルキル基にアリール基とアシル基（好ましくはアリーロイル基）が置換したものも好ましい。
・Ｒ¹およびＲ³のいずれか１つが、シクロアルキル基を含む基で、好ましくは、シクロアルキル基を含む基がシクロアルキル基である化合物
・Ｒ¹およびＲ³が水素原子である化合物、特に、Ｒ¹およびＲ³が水素原子で、Ｒ⁵が炭素数１〜３のアルキル基である化合物

Ｒ⁵は置換基を表す。置換基は、特に制限はなくＲ¹およびＲ³が有する置換基として示したものがあげられる。Ｒ⁵は、アルキル基（好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基）、アリール基、アラルキル基であることが好ましく、アリール基またはアラルキル基がより好ましく、フェニル基またはベンジル基であるがさらに好ましい。
本発明では、Ｒ⁵は、特に、芳香環を有し、極性効果を示す置換基であることがさらに好ましい。これらの基はさらに置換基で置換されていてもよい。Ｒ⁵で示される、芳香環を有し、極性効果を示す置換基はラジカルを捕集し安定化に寄与するため極性効果を示す構造であることが好ましい。極性効果を示す構造としては分極を示す効果を有する置換基を用いることができるが、Ｒ⁵は芳香環を有し、極性効果を示す置換基であることが好ましい。

このような芳香環を有し、極性効果を示す置換基としては、炭素数６〜２０の芳香族基または炭素数７〜２０のアラルキル基であることが好ましく、炭素数６〜１４の芳香族基または炭素数７〜１５のアラルキル基であることがより好ましく、炭素数６〜１０の芳香族基または炭素数７〜１１のアラルキル基であることがさらに好ましい。なお、ここで炭素数は総炭素数を表す。アラルキル基はアルキル基にアリール基が置換した化合物であり、アラルキル基のなかでも、アルキル基に１個または２個のアリール基が置換したもの（２個のアリール基が置換した場合、同一炭素原子に置換していることが好ましい。）が好ましい。芳香環を有し、極性効果を示す置換基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基等が挙げられる。
Ｒ⁵としては、フェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−トルイル基、ベンジル基、エチルフェニル基、ｍ−トルイル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−トリフルオロメチルフェニル基、ｐ−メチルベンジル基、ジフェニルメチル基、メチルベンゾイルフェニルメチル基等が挙げられる。

＜＜一般式（１−２）で表される化合物＞＞
本発明では上述のとおり、一般式（１）で表される化合物に変えて、または、一般式（１）で表される化合物と共に、一般式（１−２）で表される化合物を用いることができる。一般式（１−２）で表される化合物を用いると、ポリビニルアルコール樹脂との相溶性が高めることができる。本発明では、バルビツール酸として、一般式（１−２）で表される化合物としては、Ｒ¹、Ｒ³、およびＲ⁵の少なくとも１つが、水溶性基である化合物、または、水溶性基によって置換されている化合物が例示される。その他の部分については、一般式（１）と同義であり、好ましい範囲も同様である。
水溶性基とは、一般式（１−２）で表される化合物の水溶解性に寄与する基であって、水溶性基とは、スルホ基（またはその塩）、カルボキシ基（またはその塩）、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、アンモニオ基、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基、活性メチン基、またはこれらの基を含む置換基を表し、好ましくはスルホ基（またはその塩）、カルボキシ基（またはその塩）、ヒドロキシ基、アミノ基等の基が挙げられる。
カルボキシル基、スルホンアミド基およびスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対イオンの例には、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）および有機カチオン（例、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、テトラメチルホスホニウムイオン）が含まれる。対イオンの中でもアルカリ金属塩が好ましい。
また、本発明で用いる一般式（１−２）で表される化合物に水溶性を付与する基として、Ｒ¹とＲ³の両方が水素原子である態様が例示される。このような構成とすることにより、水溶性が高く成るためである。

＜＜水和物、溶媒和物若しくは塩＞＞
また、本発明における一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表される化合物は、それぞれ、水和物、溶媒和物もしくは塩の形態で用いてもよい。なお、本発明において、水和物は有機溶媒を含んでいてもよく、また溶媒和物は水を含んでいてもよい。即ち、「水和物」および「溶媒和物」には、水と有機溶媒のいずれも含む混合溶媒和物が含まれる。

溶媒和物が含む溶媒の例には、一般的な有機溶剤のいずれも含まれる。具体的には、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）、エステル（例えば、酢酸エチル）、炭化水素（脂肪族もしくは芳香族炭化水素のいずれでもよく、例えば、トルエン、ヘキサン、ヘプタン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）、ニトリル（例えば、アセトニトリル）、ケトン（例えば、アセトン、２−ブタノン）等が挙げられる。好ましくは、アルコールの溶媒和物であり、より好ましくは、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールである。これらの溶媒は、本発明における一般式（１）で表される化合物の合成時に用いられる反応溶媒であっても、合成後の晶析精製の際に用いられる溶媒であってもよく、またはこれらの混合であってもよい。
また、二種類以上の溶媒を同時に含んでもよいし、水と溶媒を含む（例えば、水とアルコール（例えば、メタノール、エタノール、t−ブタノール）など）であってもよい。

塩としては、無機または有機酸で形成された酸付加塩が含まれる。無機酸は、ハロゲン化水素酸（塩酸、臭化水素酸）、硫酸、リン酸などが挙げられる。また、有機酸は、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、クエン酸が挙げられ、アルカンスルホン酸（メタンスルホン酸）、アリールスルホン酸（ベンゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、１，５−ナフタレンジスルホン酸）が挙げられる。

また、塩は、親化合物に存在する酸性部分が、金属イオン（例えばアルカリ金属塩、例えばナトリウム又はカリウム塩、アルカリ土類金属塩、例えば、カルシウムまたはマグネシウム塩、アンモニウム塩アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンまたはアルミニウムイオン）により置換されるか、あるいは有機塩基（エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ピペリジン）と調整されたときに形成される塩が挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくはナトリウム塩、カリウム塩である。

なお、本発明における一般式（１）で表される化合物または一般式（１−２）で表される化合物の塩の形態は、たとえば、ナトリウム塩の場合、下記に一例を示したように互変異性体が存在するが、本発明ではそれらを区別せず同一のものとみなし、具体例中ではその片方のみの構造で記載している。

分子中に少なくとも１つ以上の水溶性基持つ様態、水和物もしくは塩の様態は、偏光子層中に含有させる場合、偏光子が親水性高分子からなるため相溶性の観点から好ましい。一方、疎水性の形態も、偏光子層上へ直接塗布する等の操作によって本発明の化合物が偏光子層へ添加される形態と同様に、偏光子耐久性改良効果を発現することができる。

本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物等の分子量としては、１２５〜２０００の範囲であることが好ましく、２００〜１５００の範囲であることがより好ましく、２５０〜１０００の範囲であることがさらに好ましく、３５０〜８００の範囲であることが一層好ましい。

本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物等の親水性の程度はＬｏｇＰ値として表すことができる。ＬｏｇＰにおけるＰとは、ｎ−オクタノール−水系での分配係数を表し、ｎ−オクタノールと水を用いて測定することができるが、これら分配係数は、ＣｌｏｇＰ値推算プログラム（Daylight Chemical Information Systems 社のPC Modelsに組み込まれたＣＬＯＧＰプログラム）を使用して推算値ＣＬｏｇＰ値として求めることもできる。ＣｌｏｇＰとしては、−８．０〜１２．０が好ましく、−５．０〜１０．０がより好ましく、−５．０〜８．０がさらに好ましい。

以下に、一般式（１）で表される化合物等の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記例示化合物中、Ｍｅはメチル基を表す。

上記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表される化合物は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。Ｎ上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’二置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤とを組合わせて加熱することにより得られ、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、第６１巻、１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５４巻、２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、第４０巻、８０２９頁（１９９９年）、ＷＯ２００７／１５００１１号公報などに記載の方法を好ましく用いることができる。
また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、Ｒ⁵に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより一般式（１）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表される化合物を合成してもよい。
５位の修飾の方法としては、ハロゲン化アルキル等との求核置換反応やマイケル付加反応のような付加反応を用いることができる。また、アルデヒドやケトンと脱水縮合させてアルキリデンまたはアリーリデン化合物を生成させ、その後二重結合を還元する方法も好ましく用いることができる。このような方法は例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第５巻，２８８７頁（２００３年）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第１７巻，１１９４頁（１９７４年）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第６８巻，４６８４頁（２００３年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４２巻，４１０３頁（２００１年）やＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，第１１９巻，１２８４９頁（１９９７年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第２８巻，４１７３頁（１９８７年）などに記載の方法を好ましく用いることができる。
なお、本発明に用いる一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表される化合物等の合成法は上記に限定されるものではない。

前記一般式（１）または一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩の合計の含有量は、ポリビニルアルコール系樹脂に対して０．０１〜３０質量部であり、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、１〜１０質量部であることがさらに好ましい。含有量が０．０１質量％以上であれば、偏光子耐久性改良効果が得られやすく、また３０質量％以下であれば、ポリビニルアルコール系樹脂と十分に相溶し透明性を維持できて好ましい。

＜＜ポリビニルアルコール系樹脂＞＞
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂（以下、ＰＶＡともいう）が用いられる。本発明における偏光子は、ポリビニルアルコール樹脂を主成分とするものであり、通常は、偏光子の８０質量％以上を占める。ポリビニルアルコールは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ポリビニルアルコール系樹脂も用いることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。また、ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。

延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの弾性率は、低すぎると延伸時、延伸後の収縮率が低くなり、シワが消えにくくなる。また、高すぎると延伸時にかかる張力が大きくなり、フィルム両端を保持する部分の強度を高くする必要が生じ、機械に対する負荷が大きくなる。好ましいフィルムの弾性率は、ヤング率で表すと０．１ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下で、更に好ましくは１ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下である。

延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの厚みは、特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。また、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの膜厚は２〜１００μｍが好ましく、光モレ改良のためには１０〜２５μｍが好ましい。この厚さによって、偏光子のフィルムの厚さが定められる。

＜＜二色性色素＞＞
本発明の偏光子は、二色性色素を含む。ここで、二色性色素とは、本明細書中、方向により吸光度の異なる色素のことを言い、ヨウ素イオン、ジアゾ系色素、キノン系色素、その他公知の二色性染料などが含まれる。前記二色性色素としては、Ｉ₃‐やＩ₅ ^-などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。
本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、ＣＭＣ出版や工業材料、第２８巻、第７号、ｐ．３９〜ｐ．４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液および／またはホウ酸水溶液にポリビニルアルコールを浸漬し、ポリビニルアルコールに吸着・配向した状態で生成することができる。

二色性色素の含有量としては、ポリビニルアルコール系樹脂に対して０．１〜５０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがより好ましく、１．０〜５．０質量部であることがさらに好ましい。

本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂、二色性色素、および一般式（１）で表わされる化合物の他に、必要に応じて、可塑剤などを添加してもよい。

＜偏光子の製造方法＞
本発明の偏光子の製造方法は、ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム状に製膜する工程と、
前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、
二色性色素により延伸後の前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程とを含み、
さらに、ポリビニルアルコール系樹脂に対し、一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、上記化合物の水和物、上記化合物の溶媒和物および上記化合物の塩を、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部の割合で適用することを含む、偏光子の製造方法；
一般式（１）

一般式（１）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；
一般式（１−２）

一般式（１−２）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵は置換基を表す；但し、Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁵の少なくとも１つは水溶性基であるか、水溶性基を含んでいるか、Ｒ¹とＲ³の両方が水素原子である。

本発明の偏光子の製造方法としては、例えば、前記ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム化した後、ヨウ素を導入して偏光子を構成することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの製造は、特開２００７−８６７４８号公報の〔０２１３〕〜〔０２３７〕に記載の方法、特許登録第３３４２５１６号明細書、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報等を参考にして行うことができる。また、前記一般式（１）で表される化合物をポリビニルアルコール系樹脂に添加するタイミングについても特に制限はない。

一般式（１）で表される化合物等をポリビニルアルコール系樹脂に適用する方法は公知の方法を採用できる。具体的には、一般式（１）で表される化合物等を含有した偏光子等は、偏光子層中に直接一般式（１）で表される化合物を添加する形態、もしくは、偏光子層の表面へ塗布する形態等、一般式（１−２）で表される化合物を用いることでポリビニルアルコール系樹脂と相溶性を持たせる形態等、様々な方法で製造することができ、偏光子層中に一般式（１）で表される化合物等を含有させる手法は限定されない。偏光子層の表面へ塗布する場合、特に限定はないが、塗布液調整に用いる溶媒中になるべく高濃度で溶解させることが好ましい。
このような種々の手法により、本発明の化合物が含まれている偏光子層を作成することで偏光子耐久性を高めることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程では、水に対して攪拌しながらポリビニルアルコール系樹脂を添加し、ポリビニルアルコール系樹脂を水または有機溶媒に溶解した原液を調製することが好ましい。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、好ましくは５〜２０質量％である。また、得られたスリラーを脱水し、含水率４０％程度のポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキを一度調製してもよい。さらにその後添加剤を加える場合は、例えば、ポリビニルアルコールのウェットケーキを溶解槽に入れ、可塑剤、水を加え、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。内部樹脂温度は５０〜１５０℃に加温することが好ましく、系内を加圧してもよい。
また、前記偏光子中に前記一般式（１）で表される化合物をこの工程で加える場合、一般式（１）で表される化合物の塩もしくは水和物の形態とすることが、偏光子中に均一に分散する観点から好ましい。また、一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表される化合物の添加はポリビニルアルコールのウェットケーキを溶解槽に入れた後で、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。

本発明では、上記にて調製したポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。流延の方法としては、特に制限はないが、加熱した前記ポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を２軸押し出し機に供給し、ギアポンプにより排出手段（好ましくはダイ、より好ましくはＴ型スリットダイ）から支持体上に流涎して製膜することが好ましい。また、ダイからの排出される樹脂溶液の温度については特に制限はない。
前記支持体としては、キャストドラムが好ましく、ドラムの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、前記キャストドラムの直径（Ｒ１）は２０００〜５０００ｍｍであることが好ましく、２５００〜４５００ｍｍであることが特に好ましく、３０００〜３５００ｍｍであることが特に好ましい。
前記キャストドラムの幅は２〜６ｍであることが好ましく、３〜５ｍであることが特に好ましく、４〜５ｍであることが特に好ましい。
前記キャストドラムの回転速度は２〜２０ｍ／分であることが好ましく、４〜１２ｍ／分であることが特に好ましく、５〜１０ｍ／分であることが特に好ましい。
前記キャストドラムのキャストドラム表面温度は４０〜１４０℃であることが好ましく、６０〜１２０℃であることが特に好ましく、８０〜１００℃であることが特に好ましい。
前記Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度は４０〜１４０℃であることが好ましく、６０〜１２０℃であることが特に好ましく、８０〜１００℃であることが特に好ましい。
その後、得られたロールの裏面と表面とを乾燥ロールに交互に通過させながら乾燥を行なうことが好ましい。前記乾燥ロールの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、前記キャストドラムの直径（Ｒ１）は２００〜４５０ｍｍであることが好ましく、２５０〜４００ｍｍであることが特に好ましく、３００〜３５０ｍｍであることが特に好ましい。
また、得られたフィルムの長さについても特に制限はなく、２０００ｍ以上、好ましくは４０００ｍ以上の長尺のフィルムとすることができる。フィルムの幅についても、特に制限はないが、２〜６ｍであることが好ましく、３〜５ｍであることが好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜した後、フィルムを延伸する。延伸は、米国特許２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍〜１２倍であり、さらに好ましくは３倍〜１０倍である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は特開２００２−０４０２５６号公報に記載されている（保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開２００２−０４０２４７号公報に記載されている０．８０≦（保護フィルム貼合時の偏光子幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５としたりすることも好ましく行うことができる。

延伸後、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素により染色する。染色は、気相または液相吸着により行われる。液相で行う場合の例として、二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液に偏光子用ポリマーフィルムを浸漬させて行われる。ヨウ素は０．１〜２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは１〜２００ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２００が好ましい。染色時間は１０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜６０℃が好ましい。染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。染色工程は、本発明の延伸工程の前後いずれに置いても良いが、適度に膜が膨潤され延伸が容易になることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好ましい。

また、染色は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２−２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、および浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
また、特許登録第３１４５７４７号明細書に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。

また、その他の工程として、膨潤工程、硬膜工程、乾燥工程を行ってもよい。これらの工程は、特開２０１１−２３７５８０号公報の段落００３９〜００５０に記載されており、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

一般式（１）で表される化合物または一般式（１−２）で表される化合物等は、前記工程で用いられる処理浴のいずれか少なくとも１つに含有させてもよい。たとえば、一般式（１）で表される化合物または一般式（１−２）で表される化合物を処理液に対して０．００００１〜１０質量％添加した染色液を用いてポリビニル系アルコール樹種を染色する様態が挙げられる。

＜偏光板＞
本発明の偏光子は、少なくとも一方の面に保護フィルム（透明保護フィルム）や液晶セルの基板等に貼り合わせて偏光板として用いることができる。本発明の偏光板は、本発明の偏光子を有することから、高温高湿下での偏光子耐久性が改善される。

偏光板保護フィルムは、以下の特性を満たすことが好ましい。
ここで、本発明の偏光板が２枚の偏光板保護フィルムを含む場合は、ともに同じ偏光板保護フィルムであっても、異なる偏光板保護フィルムであってもよい。
本発明の偏光板の透過光量を十分に確保できるという観点から、偏光板保護フィルムの光線透過率は８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
偏光板保護フィルムのヘイズは２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることが特に好ましい。

偏光板保護フィルムの厚さは、保護のための機能やハンドリングや加工の適性を勘案すれば通常、５μｍ以上であり、１０μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がさらに好ましい。また、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、１００μｍ以下がさらに好ましい。

偏光板保護フィルムの原料として、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアクリレート系樹脂、ポリメタクリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、オレフィンマレイミド系樹脂やグルタルイミド系樹脂などのイミド系樹脂を挙げることができ、これらを単独または混合して用いることができる。上記樹脂のなかでも、分子の配向による複屈折、及び、光弾性係数の比較的小さい、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂やポリスチレン系樹脂、イミド系樹脂、ポリメタクリレート系樹脂、などからなるフィルムを好ましく用いることができる。

偏光板保護フィルムとしては、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）、特開２００６−５８３２２号公報に記載の脂環式構造含有重合体樹脂フィルム、特開２００９−１２２６４４号公報に記載のアクリル系樹脂などを好ましく用いることができる。

また、偏光板保護フィルムとして好ましい樹脂や添加剤とその製造方法については、特開２００５−１０４１４９号公報や、特開２０１２−０１４１４８号公報の［００３４］〜［００４０］段落などを参照することができる。

本発明の偏光板は、ディスプレイの視認性や機械特性向上のために、位相差層、反射防止層、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を偏光板保護フィルムに積層する形態や、それら機能層を有するフィルムや光学補償フィルム、輝度向上フィルムなどの光学フィルムと複合した機能化偏光板としても使用することができる。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア層については、特開２００７−８６７４８号公報の〔０２５７〕〜〔０２７６〕に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作製することができる。
本発明の偏光板は、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層や保護層等の機能層を設けた機能性光学フィルムとして使用することもできる。これらの機能層は、前述の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいは光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用しても良い。これらの機能層は、偏光子側および偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、または両面に設けて使用できる。
これらの偏光板保護フィルムに複合化できる機能については、特開２００５−１０４１４９号公報や、特開２０１２−０１４１４８号公報の［０１３９］〜［０１６０］などを参照することができる。

＜＜偏光板の形状＞＞
本発明の偏光板の形状としては、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は１０００ｍｍ以上とすることが好ましい。

＜＜偏光板の性能＞＞
本発明の偏光板は、上記のような構成をすることで、高温低湿下での偏光子耐久性を悪化させることなく、高温高湿下での偏光子耐久性を改善したものである。
本明細書中、偏光子耐久性は、特定の環境下における偏光板の直交透過率変化を測定することにより評価を行う。

（直交透過率ＣＴ）
本発明の偏光板は直交透過率ＣＴがＣＴ≦２．０であることが好ましく、より好ましい範囲としてはＣＴ≦１．３であり、特に好ましくはＣＴ≦０．６（単位はいずれも％）である。

（直交透過率変化）
本発明の偏光板は、偏光板耐久性試験ではその変化量はより小さいほうが好ましい。
本発明の偏光板は、６０℃、相対湿度９５％に５００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）が０．６０％以下であることが好ましく、且つ、８０℃、Ｄｒｙ環境下（調湿をしていない状態であり、本発明における実施例では相対湿度０％〜２０％）に５００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）が０．１０％以下であることが好ましい。
６０℃、相対湿度９５％に５００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）は、０．３０％以下であることが好ましく、０．２５％以下であることがより好ましい。一方、８０℃、Ｄｒｙ環境下に５００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）は、０．０５％以下であることがより好ましい。
ここで、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値である。
上記直交透過率の変化量の範囲を満たせば、偏光板の高温高湿下および高温低湿下で長時間使用中あるいは保管中の安定性が確保でき、好ましい。

偏光板の直交透過率ＣＴは、ＶＡＰ−７０７０（日本分光（株）社製）を用いて測定した。測定では、４１０ｎｍおよび５５０ｎｍで測定し、１０回測定の平均値を用いた。
偏光板耐久性試験は偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた形態で次のように行うことができる。ガラスの上に偏光板を本発明のセルロースアシレートフィルムが空気界面側になるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製する。
直交透過率測定ではこのサンプルのフィルムの本発明のセルロースアシレートフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。
２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を実施例における偏光板の直交透過率とした。
偏光板の直交透過率は、日本分光（株）製、自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、４１０ｎｍおよび５５０ｎｍにおける測定値を採用した。
その後、６０℃、相対湿度９５％ＲＨの環境下で各偏光板を１０００時間経時保存した後に同様の方法で直交透過率を測定した。
経時前後の直交透過率の変化を求め、これを偏光板耐久性として評価した。なお、調湿なしの環境下での相対湿度は、０〜２０％ＲＨの範囲であった。

（その他の特性）
本発明の偏光板のその他の好ましい光学特性等については特開２００７−０８６７４８号公報の〔０２３８〕〜〔０２５５〕に記載されており、これらの特性を満たすことが好ましい。

＜偏光板の製造方法＞
本発明の偏光板は、接着剤層等により偏光子、各構成部材と積層されて用いられる。接着剤層を形成する面は、偏光子と偏光板保護フィルム等の各構成部材との貼合面であるが、さらにその双方であってもよい。
偏光板保護フィルムの本発明の偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と前記偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に平行となるように貼り合せることが好ましい。
ここで、実質的に平行であるとは、前記化合物を含む偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが５°以内であることをいい、１°以内、好ましくは０．５°以内であることが好ましい。ずれが１°以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下しにくく、光抜けが生じにくく好ましい。

偏光板保護フィルム以外の構成部材としては偏光板保護フィルム以外に、液晶セルや有機ＥＬパネルの様な表示デバイスの透明基板や、表示装置の保護のために配置される前面板などの部材であっても良い。

なお、本発明の偏光板と偏光板保護フィルム等の各構成部材の積層方法としては、接着剤層の特性によって異なる。接着剤層が粘着性を持つ場合はそのまま貼り合わせて使う事が出来る。なお、その際に鹸化処理など接着性を向上させる工程を含めてもよい。

＜液晶表示装置＞
次に本発明の液晶表示装置について説明する。

図１は、本発明の液晶表示装置の例を示す概略図の一例である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層５とこの上下に配置された液晶セル上電極基板３および液晶セル下電極基板６とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１および下側偏光板８からなる。液晶セルと各偏光板との間にカラーフィルターを配置してもよい。前記液晶表示装置１０を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置する。

上側偏光板１および下側偏光板８は、それぞれ２枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成で用いられることが多いが、本発明の液晶表示装置１０は、偏光板の液晶セル側の保護フィルムに光学補償フィルムを用いても良く、また保護フィルムを有さずに偏光子と電極基板３や６と接着層で直接貼り合わされていてもよい。
液晶表示装置１０には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。液晶層５の駆動モードとしては、ＴＮモード、ＶＡモード、ＩＰＳモードを含む横電界モード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード等の既知のいかなるモードを用いることができる。

なお、例示していないが、他の構成として反射型や半透過型の液晶表示装置や有機ＥＬ等の自発光素子の反射防止用途として配置される円偏光板の一部として本発明の偏光板を用いることができる。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

＜一般式（Ｉ）で表される化合物の合成＞
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を以下のようにして合成した。

合成例１ 例示化合物（Ａ−４）の合成
以下のスキームにしたがって、例示化合物（Ａ−４）を合成した。

１）中間体１−ベンジル−３−フェニルバルビツール酸の合成
温度計、還流冷却管および撹拌機を付した３００ｍｌのガラス製フラスコに合成例１で合成したＮ−ベンジル−Ｎ’−フェニル尿素５．０ｇ、マロン酸２．５ｇ、トルエン２０ｍＬ、および無水酢酸５．６ｇを仕込み、攪拌しながら内温が８０℃になるように加熱し、そのまま８０℃で３時間攪拌を続けた。その後５０℃まで冷却し、水１５ｍＬを加えて分液し、水相を廃棄した。有機層を室温で攪拌しながらイソプロパノール５ｍLを滴下し
た。さらに１０℃以下で０．５時間攪拌した後に吸引ろ過して析出した結晶をろ取し、冷却したイソプロパノールで洗浄後、乾燥し、中間体１−ベンジル−３−フェニルバルビツール酸４．６ｇを得た。

２）中間体１−ベンジル−５−ベンジリデン−３−フェニルバルビツール酸の合成
温度計、還流冷却管および撹拌機を付した３００ｍｌのガラス製フラスコに１−ベンジル−３−フェニルバルビツール酸４．０ｇ、ベンズアルデヒド１．６ｇ、酢酸４０ｍＬを仕込み、硫酸１滴を加えて攪拌しながら内温が１００℃になるように加熱し、そのまま１００℃で３時間攪拌を続けた。その後５０℃まで冷却し、イソプロパノール３９ｍLと水１７ｍＬの混合溶液を加えて１０℃以下で１時間攪拌した後に吸引ろ過して析出した結晶をろ取し、メタノールで洗浄後、中間体１−ベンジル−５−ベンジリデン−３−フェニルバルビツール酸３．９ｇを得た。
得られた化合物の構造は、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。

¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）、δ：８．７０（ｓ，１Ｈ）、８．１０（ｄ，２Ｈ）、７．５８−７．２０（ｍ，１５Ｈ）、５．２０（ｓ，２Ｈ）

３）例示化合物（Ａ−４）の合成
５０ｍｌのオートクレーブに１−ベンジル−５−ベンジリデン−３−フェニルバルビツール酸３．５ｇ、メタノール８ｍＬを仕込み、Ｐｄ−Ｃ（１０％）０．１ｇを加えて攪拌しながら、Ｈ２を充填し内温が５０℃になるように加熱し、そのまま５０℃で３時間攪拌を続けた。その後Ｐｄ−Ｃを濾別し、５℃まで冷却し、さらに水４ｍLを加えて５℃で１時間攪拌した後に吸引ろ過して析出した結晶をろ取し、メタノール／水＝１／１の混合溶媒で洗浄後、乾燥し、例示化合物（Ａ−４）を３．０ｇ得た。
得られた化合物の構造は、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルおよびマススペクトルで確認した。

¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）、δ：７．５２−７．１６（ｍ，１０Ｈ）、５．１０（ｓ，２Ｈ）、３．８６（ｓ，２Ｈ）

合成例２ 例示化合物（Ａ−５５）の合成
以下のスキームにしたがって、例示化合物（Ａ−５５）を合成した。

５００ｍＬのオートクレーブにバルビツール酸５．０ｇ、4-ホルミルベンゼン-1,3-ジスルホン酸二ナトリウム１２．１ｇ、メタノール４００ｍＬを仕込み、Ｐｄ−Ｃ（１０％）０．１ｇを加えて攪拌しながら、Ｈ２を３．０ＭＰａまで充填し内温が５０℃になるように加熱し、そのまま５０℃で７時間攪拌を続けた。その後Ｐｄ−Ｃを濾別し、溶媒を留去した。そこに４０℃のメタノール２００ｍLを加えて粗生成物を再溶解させ０℃まで冷却し、得られた結晶を吸引ろ過後、乾燥し、例示化合物（Ａ−５５）を１５．４ｇ得た。
得られた化合物の構造は、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルおよびマススペクトルで確認した。

¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）、δ：１２．５８（ｓ，１Ｈ）、１０．８４（ｓ，１Ｈ）１０．６２（ｓ，１Ｈ）７．９９（ｄ，１Ｈ）、７．４５（ｄ，１Ｈ）、７．３８（ｄ，２Ｈ）、３．９４（ｓ，２Ｈ）

合成例３ 例示化合物（Ａ−３５）（Ａ−６９）の合成
以下のスキームにしたがって、例示化合物（Ａ−３５）（Ａ−６９）を合成した。

温度計、還流冷却管および撹拌機を付した３００ｍｌの三口フラスコにＮ−ベンジル尿素３０．４ｇ（０．２０ｍｏｌ）、フェニルマロン酸エチル５６．７ｇ（０．２４ｍｏｌ）、２０％ナトリウムエトキシド／エタノール溶液１０２．１ｇ（０．３０ｍｏｌ）を仕込み、攪拌しながら加熱還流下で４時間攪拌を続けた。その後、エタノールを一部留去した後、室温まで冷却し、酢酸エチル１００ｍＬを加えた。析出した固体を吸引濾過して濾取し、酢酸エチルで洗浄、濾取し、減圧乾燥することで例示化合物（Ａ−６９）を白色固体として４３．０ｇ（収率６８％）得た。
例示化合物（Ａ−６９）の一部（２１．５ｇ）を水１００ｍＬに溶解させ、ｐＨ１となるように塩酸を滴下することで、析出させた。析出した固体を吸引ろ過して濾取し、水で洗浄した。さらにこの粗体をイソプロピルアルコールで加熱洗浄した後に室温まで冷却して濾取し、減圧乾燥することで、例示化合物（Ａ−３５）を白色固体として１９．１ｇ得た。得られた化合物の構造は、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルおよびマススペクトルで確認した。

合成例４ 例示化合物（Ａ−３３）（Ａ−６７）の合成
合成例３においてＮ−ベンジル尿素を尿素に変更した以外は同様にして、例示化合物（Ａ−３３）（Ａ−６７）を合成した。

合成例５ 例示化合物（Ａ−４０）（Ａ−６８）の合成
合成例３においてＮ−ベンジル尿素を尿素に、フェニルマロン酸エチルをベンジルマロン酸エチルに変更した以外は同様にして、例示化合物（Ａ−４０）（Ａ−６８）を合成した。

＜実施例１０１＞
＜＜偏光子の作製＞＞
５００Ｌのタンクに１８℃の水２００ｋｇを入れ、攪拌しながら、重量平均分子量１６５０００、ケン化度９９．８モル％のポリビニルアルコール系樹脂４２ｋｇを加え、１５分間攪拌した。得られたスラリーを脱水し、含水率４０％のポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキを得た。

得られたポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキ７０ｋｇ（樹脂分４２ｋｇ）を溶解槽に入れ、可塑剤としてグリセリン４．２ｋｇ、一般式（１）で表される化合物（Ａ−３３）０．４２ｋｇ（ポリビニルアルコール系樹脂に対して１．０質量部）、水１０ｋｇを加え、槽底から水蒸気を吹き込んだ。内部樹脂温度が５０℃になった時点で攪拌（回転数：５ｒｐｍ）を行い、内部樹脂温度が１００℃になった時点で系内を加圧し、１５０℃まで昇温した後、水蒸気の吹き込みを停止した（水蒸気の吹き込み量は計７５ｋｇ）。３０分間攪拌（回転数：２０ｒｐｍ）を行い均一に溶解した後、濃度調整により水に対するポリビニルアルコール系樹脂濃度２３％のポリビニルアルコール系樹脂水溶液を得た。

次にポリビニルアルコール系樹脂水溶液（液温１４７℃）をギアポンプ１より２軸押し出し機に供給し、脱法した後、ギアポンプ２により排出した。排出されたポリビニルアルコール系樹脂水溶液を、Ｔ型スリットダイ（ストレートマニホールダイ）よりキャストドラムに流延して製膜した。流延製膜の条件は以下の通りである。

キャストドラム直径（Ｒ１）：３２００ｍｍ、
キャストドラム幅４．３ｍ、
キャストドラム回転速度：８ｍ／分、
キャストドラム表面温度：９０℃、
Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度：９５℃
得られた膜の表面と裏面とを下記の条件にて複数の乾燥ロールを交互に通過させながら乾燥を行った。

乾燥ロール直径（Ｒ２）：３２０ｍｍ、
乾燥ロール幅：４．３ｍ、
乾燥ロール本数（ｎ）：１０本、
乾燥ロール回転速度：８ｍ／分、
乾燥ロール表面速度：５０℃

上記で作製したポリビニルアルコールフィルム（長さ４０００ｍ、幅４ｍ、厚み５０μｍ）を４０℃の温水に２分間浸漬し、膨潤処理した後、１．３０倍に延伸した。得られたフィルムを、ホウ酸（Societa Chimica Larderello s.p.a社製）１７．２ｇ／Ｌ、ヨウ素（純正化学社製）０．１５ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム（純正化学社製）０．６ｇ／Ｌを含有した水溶液中で３０℃、２分浸漬してヨウ素およびヨウ化物による染色処理をおこなった。染色処理して得られたフィルムを５．０倍に一軸延伸しながらホウ酸３０．０ｇ／Ｌ含有した５０℃の水溶液中で５分間処理を行った。得られたフィルムを７０℃で９分間乾燥処理を行った。なお、このとき、偏光子はｐＨ４．３程度のホウ酸溶液で架橋処理をしたのみであり、その他に酸性溶液で処理する工程は行わなかった。

＜＜偏光板の作製＞＞
（偏光板保護フィルムの鹸化処理）
富士フイルム製セルロースアセテートフィルム（フジタックＴＧ４０、およびＺＲＴ４０）を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルムについて表面の鹸化処理を行った。

鹸化処理した偏光板保護フィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記にて製造した実施例１０１の偏光子の片側に、それぞれ一枚ずつ貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルム（セルローストリアセテートフィルム）の遅相軸とは、直交するように配置した。
このようにして実施例１０１の偏光板を作製した。

＜実施例１０２〜１０７および比較例２０１〜２０４＞
＜＜実施例１０２〜１０７の偏光子の作製＞＞
実施例１０１において一般式（１）で表される化合物等の種類および添加量を下記表１に記載したとおりに変更した以外は同様にして、実施例１０２〜１０７の偏光子を作製した。
なお、下記表１中、一般式（１）で表される化合物等の添加量は、ポリビニルアルコール樹脂１００質量部に対する添加量（質量部、ｍｍｏｌ）をそれぞれ表す。

＜比較例２０１〜２０４の偏光子の作製＞
実施例１０１において一般式（１）で表される化合物等を添加しないか、もしくは一般式（１）で表される化合物等を下記表１に記載した比較化合物に変更した以外は同様にして、比較例２０１〜２０４の偏光子を作製した。

＜実施例１０２〜１０７および比較例２０１〜２０４の偏光板の作製＞
実施例１０２〜１１１および比較例２０１〜２０４で用いる偏光板保護フィルムについても、それぞれ実施例１０１と同様にしてけん化処理および偏光板の作製を行い、上記にて作製した各実施例および比較例の偏光子に下記表１に記載の態様で積層し、各実施例および比較例の偏光板を作製した。

比較化合物Ｎ：東京化成（株）製 ６−Ｏ−パルミトイル-L-アスコルビン酸

＜＜実施例３０１の偏光子の作製＞＞
厚み７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを２５℃の純水に６０秒間浸漬し、膨潤処理した後、１．３０倍に延伸した。得られたフィルムを、水１００質量部に対し、０．２質量部のヨウ素と、５質量部のヨウ化カリウムとを含む染色浴に、２５℃で３０秒間浸漬して染色した後、水１００質量部に対し、４．３質量部のホウ酸と３質量部のヨウ化カリウムとを含む架橋浴に、６０℃で８０秒間浸漬させながら、元長に対して８倍に延伸した。この延伸フィルムを１００℃のオーブンで４分間乾燥させて、偏光子を作製した。

＜＜実施例３０１の偏光板の作製＞＞
実施例１０１においてセルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）をフジタックＴＤ８０とした以外は同様にして、実施例３０１の偏光板保護フィルムのけん化処理を行い、上記にて作製した各実施例および比較例の偏光板の片側に1枚貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルム（セルローストリアセテートフィルム）の遅相軸とは、直交するように配置した。
一般式（１）で表される化合物（Ａ−４）をＭＥＫ（メチルエチルケトン）に溶解し、０．１７ｍｏｌ／Ｌの溶液とした。この溶液を前記偏光板の、偏光板保護フィルムを貼付した面と反対側の面に塗布量が２６ｃｃ／ｍ²（２６ｍｌ／ｍ²）となるようにバーコーターにて塗布し、８０℃で９０秒間乾燥させた。一般式（１）で表される化合物（Ａ−４）の含有量を測定したところ、ポリビニルアルコール樹脂１００質量部に対して０．１質量部であった。
このようにして一般式（１）で表される化合物を偏光子に含む実施例３０１の偏光板を作製した。

＜＜実施例３０２〜３０７の偏光子の作製＞＞
実施例３０１において、一般式（１）で表される化合物等の種類、塗布溶媒および添加量を下記表２のとおりに変更した以外は同様にして、実施例３０２〜３０７の偏光子を作製した。
なお、下記表２中、一般式（１）で表される化合物等の添加量は、ポリビニルアルコール樹脂１００質量部に対する添加量（質量部、ｍｍｏｌ）をそれぞれ表す。

＜＜実施例３０８の偏光子の作製＞＞
実施例３０１において、一般式（１）で表される化合物の塩（Ａ−５５）を染色浴（硬膜液）に０．３質量部添加し、塗布をしなかった以外は同様にして、実施例３０８の偏光子を作製した。一般式（１）で表される化合物（Ａ−５５）の含有量を測定したところ、ポリビニルアルコール樹脂１００質量部に対して０．１〜３０質量部の範囲内であった。

＜＜実施例３０９の偏光子の作製＞＞
実施例３０１において、一般式（１）で表される化合物の塩（Ａ−５５）を架橋浴に０．３質量部添加し、塗布をしなかった以外は同様にして、実施例３０９の偏光子を作製した。一般式（１）で表される化合物（Ａ−５５）の含有量を測定したところ、ポリビニルアルコール樹脂１００質量部に対して０．１〜３０質量部の範囲内であった。

＜＜比較例４０１の偏光子の作製＞＞
実施例３０１において、一般式（１）で表される化合物等を添加しなかった以外は同様にして、比較例４０１の偏光子を作製した。

＜＜比較例４０２の偏光板の作製＞＞
偏光子に一般式（１）で表される化合物等を添加せずに、偏光板保護フィルムに一般式（１）で表される化合物等を含む比較例４０２の偏光板を作製した。

セルロースアシレートフィルム４０２の製膜
＜＜＜セルロースアシレート溶液４０２の調製＞＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液４０２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液４０２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・本発明の化合物（Ａ−４） ２．５質量部
・疎水化剤１（Ｂ−１） １０．５質量部
・紫外線吸収剤Ｄ １．５質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４１２．２質量部
・エタノール（第２溶媒） ３５．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

紫外線吸収剤Ｄ

疎水化剤（Ｂ−１）

＜＜＜マット剤溶液１０２の調製＞＞＞
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液４０２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液４０２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７９．９質量部
エタノール（第２溶媒） ６．９質量部
前記セルロースアシレート溶液４０２ ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜＜＜流延＞＞＞
上記マット剤溶液４０２の１．３質量部と、セルロースアシレート溶液４０２を９８．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合した。バンド流延装置を用い、前記調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５〜１０質量％の状態で、１２０摂氏の温度下で幅方向に１．１０倍（１０％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥することでセルロースアシレートフィルムを得た。得られたセルロースアシレートフィルム（偏光板保護フィルム）４０２の厚みは８０μｍ、幅は１４８０ｍｍであった。
上記のように調整したセルロースアシレートフィルム４０２を偏光板保護フィルムとして用いた以外は実施例３０１と同様にして比較例４０２の偏光板を作成した。

＜実施例３０２〜３０９および比較例４０１の偏光板の作製＞
実施例３０２〜３０９および比較例４０１で用いる偏光板保護フィルムについても、それぞれ実施例３０１と同様にしてけん化処理および偏光板の作製を行い、上記にて作製した各実施例および比較例の偏光子に下記表２に記載の態様で積層し、各実施例および比較例の偏光板を作製した。

＜評価＞
＜＜偏光板耐久性の評価＞＞
上記で作製した各実施例および比較例の偏光板について、劣化の度合いが他の波長より顕著に出る波長４１０ｎｍ、および視感度が高い波長５５０ｎｍにおける偏光子の直交透過率を本明細書に記載した方法で測定した。その後、６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間保存した後に、波長４１０ｎｍ、および波長５５０ｎｍで同様の手法で直交透過率を測定した。経時前後の直交透過率の変化を求め、これを偏光子耐久性として下記表にその結果を記載した。

上記表１、表２の結果から、前記一般式（１）で表される化合物等を含む本発明の偏光子を用いた本発明の偏光板は、高温高湿経時後の偏光子の劣化が生じにくいことがわかった。
一方、前記一般式（１）で表される化合物等を用いていない比較例２０１、４０１の偏光板、比較例２０２の偏光板、クエン酸を含む比較例２０３、および６−Ｏ−パルミトイル−Ｌ−アスコルビン酸を含む比較例２０４の偏光板は、高温高湿経時後の偏光子の劣化が大きいことがわかった。また、実施例３０１および３０２を参照すると、比較例４０２のように偏光板保護フィルムに本発明の化合物を含む様態よりも、１桁程度少ない量で本発明の効果を奏することが分かる。

以上の結果から、本発明の化合物を用いた偏光子層を組み込んだ偏光板を用いることで、高温高湿経時後の視認性が良好な液晶表示装置を作製できることがわかる。

１ 上側偏光板
２ 上側偏光板吸収軸の方向
３ 液晶セル上電極基板
４ 上基板の配向制御方向
５ 液晶層
６ 液晶セル下電極基板
７ 下基板の配向制御方向
８ 下側偏光板
９ 下側偏光板吸収軸の方向
１０ 液晶表示装置

Claims (11)

1. ポリビニルアルコール系樹脂と、二色性色素と、下記一般式（１）で表わされる化合物、下記一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩の少なくとも１種を含み、
   前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩の合計量が、前記ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部であることを特徴とする偏光子；
   一般式（１）
   

   

   一般式（１）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵はアルキル基またはアラルキル基を表す；
   一般式（１−２）
   

   

   一般式（１−２）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵はアルキル基またはアラルキル基を表す；但し、Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁵の少なくとも１つは水溶性基であるか、水溶性基を含んでいるか、Ｒ¹とＲ³の両方が水素原子である。
2. 前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩において、前記Ｒ ⁵ がアラルキル基である、請求項１に記載の偏光子。
3. 前記Ｒ ⁵ がアラルキル基である前記一般式（１）で表される化合物を含有する、請求項１または２に記載の偏光子。
4. 前記Ｒ⁵が、炭素数７〜２０のアラルキル基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光子。
5. 前記Ｒ⁵が、ベンジル基である、請求項４に記載の偏光子。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光子の少なくとも一方の面に保護フィルムを有する、偏光板。
7. 前記保護フィルムがセルロースアシレートフィルムである、請求項６に記載の偏光板。
8. 請求項６または７に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
9. ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム状に製膜する工程と、
   前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、
   二色性色素により延伸後の前記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程とを含み、
   さらに、ポリビニルアルコール系樹脂に対し、一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、上記化合物の水和物、上記化合物の溶媒和物および上記化合物の塩を、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部の割合で適用することを含む、偏光子の製造方法；
   一般式（１）
   

   

   一般式（１）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵はアルキル基またはアラルキル基を表す；
   一般式（１−２）
   

   

   一般式（１−２）中、Ｒ¹およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０の直鎖のアルキル基、炭素数３〜２０の分岐のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、または、炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｒ⁵はアルキル基またはアラルキル基を表す；但し、Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁵の少なくとも１つは水溶性基であるか、水溶性基を含んでいるか、Ｒ¹とＲ³の両方が水素原子である。
10. 前記適用する工程は、前記ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム状に製膜する工程において、前記ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、前記一般式（１）で表される化合物、一般式（１−２）で表わされる化合物、前記化合物の水和物、前記化合物の溶媒和物および前記化合物の塩の合計量が０．０１〜３０質量部であるポリビニルアルコール系樹脂溶液を用いることにより行う、請求項９に記載の偏光子の製造方法。
11. 前記ポリビニルアルコール系樹脂に対し、前記Ｒ ⁵ がアラルキル基である前記一般式（１）で表される化合物を、前記ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して０．０１〜３０質量部の割合で適用する、請求項９または１０に記載の偏光子の製造方法。

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