WO2016068311A1 - 偏光板保護フィルム、偏光板および表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】高温高湿下での偏光性能の劣化の抑制が可能な偏光板保護フィルム、このような偏光板保護フィルムを用いた偏光板及び表示装置を提供する。 【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する偏光板保護フィルム、偏光板及び表示装置。 Ｘはホルミル基、ボロン酸基又は下記一般式（Ｉ－Ｂ）もしくは（Ｉ－Ｃ）で表される基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、ｎは２以上の整数を表す。Ｚはｎが２のとき、単結合または２価の基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価の基を表す。ただし、複数のＸのうち、一般式（Ｉ－Ｂ）もしくは（Ｉ－Ｃ）で表される基の数はそれぞれ０又は１であり、又、ｎが２のとき、ＬとＺが同時に単結合であることはない。 ＲＡ及びＲＢはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアシル基を表す。ＲＡとＲＢが互いに結合して環を形成してもよい。＊は、Ｌに結合する結合手を示す。
Description
本発明は、偏光板保護フィルム、偏光板および表示装置に関する。
に関する。
に関する。
液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。テレビ等の高品位の画像が要求される市場に加えて、携帯電話やタブレット型ＰＣ等いわゆるモバイル用途の市場が拡大するにつれて、薄型化のニーズが一段と高まっている。
液晶表示装置の基本的な構成は液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。偏光板は一定方向の光すなわち偏波面だけを通す役割を担っている。また、偏光板の性能によって液晶表示装置の性能が大きく左右される。偏光板は、一般にヨウ素や染料を吸着配向させたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子と、その偏光子の表裏両側に透明な保護フィルム（偏光板保護フィルム）を貼り合わせた構成となっている。
偏光板は、長期間の使用で、熱もしくは湿熱または紫外線で、表示性能が劣化する。この表示性能の劣化は、主に偏光板を構成する偏光子の劣化である。偏光板の薄型化にともない、偏光子はますます劣化しやすくなっている。
偏光板は、長期間の使用で、熱もしくは湿熱または紫外線で、表示性能が劣化する。この表示性能の劣化は、主に偏光板を構成する偏光子の劣化である。偏光板の薄型化にともない、偏光子はますます劣化しやすくなっている。
一方、紫外線に対する表示性能の劣化に対しては、偏光板保護フィルムに紫外線吸収剤を加える手段がある。しかしながら、熱や湿熱による偏光子の劣化に対しては、薄型化にともない、さらなる改善が求められているにもかかわらず、このような要求に十分にこたえられる手段がないのが現状である。
なお、偏光板保護フィルムに加える添加剤として、特許文献１では架橋剤が提案されている。これは、セルロースエステルフィルムを架橋し、偏光子との密着性を改善するものであり、偏光板の耐久性を改善するものではない。
なお、偏光板保護フィルムに加える添加剤として、特許文献１では架橋剤が提案されている。これは、セルロースエステルフィルムを架橋し、偏光子との密着性を改善するものであり、偏光板の耐久性を改善するものではない。
本発明は、上記のような状況を鑑みてなされたものである。
従って、本発明は、偏光板の高温高湿下での耐久性を改善し、偏光性能の劣化を防止することを課題とする。
特に、高温高湿下での偏光性能の劣化の抑制が可能な偏光板保護フィルム、このような偏光板保護フィルムを用いた偏光板および表示装置を提供することを課題とする。
従って、本発明は、偏光板の高温高湿下での耐久性を改善し、偏光性能の劣化を防止することを課題とする。
特に、高温高湿下での偏光性能の劣化の抑制が可能な偏光板保護フィルム、このような偏光板保護フィルムを用いた偏光板および表示装置を提供することを課題とする。
本発明者らは、高温高湿下で偏光子が劣化する原因の解析を行い、偏光子を構成する樹脂の物性が変化することを見出した。特に、樹脂の物性変化は、架橋された樹脂の架橋度が低下し、樹脂の結晶化が進んだものであると推定された。
このため、本発明者らは、樹脂の物性変化、特に樹脂の結晶化、を抑制する観点で、高温高湿下で、偏光板保護フィルムから偏光子に拡散移動する素材およびその手段を種々検討した。
この結果、特定の化合物が有効であることを見出し、本発明を完成させるに至った。
このため、本発明者らは、樹脂の物性変化、特に樹脂の結晶化、を抑制する観点で、高温高湿下で、偏光板保護フィルムから偏光子に拡散移動する素材およびその手段を種々検討した。
この結果、特定の化合物が有効であることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、上記課題は、以下の手段により解決された。
（１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する偏光板保護フィルム。
（１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する偏光板保護フィルム。
一般式（Ｉ）において、Ｘはホルミル基、ボロン酸基、下記一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基または下記一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、ｎは２以上の整数を表す。Ｚはｎが２のとき、単結合または２価の基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価の基を表す。ここで、複数の－Ｌ－Ｘは互いに同一でも異なってもよい。ただし、複数のＸのうち、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基の数はそれぞれ０または１であり、また、ｎが２のとき、ＬおよびＺがいずれも単結合であることはない。
一般式（Ｉ－Ｂ）および（Ｉ－Ｃ）において、ＲＡおよびＲＢは各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアシル基を表す。ここで、ＲＡとＲＢが互いに結合して、環を形成してもよい。＊は、Ｌに結合する結合手を示す。
（２）一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－５）のいずれかで表される（１）に記載の偏光板保護フィルム。
（２）一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－５）のいずれかで表される（１）に記載の偏光板保護フィルム。
一般式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－５）において、Ｘおよびｎは、一般式（Ｉ）におけるＸおよびｎと同義である。Ｚ２はｎが２のとき、２価の基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価の基を表す。Ｚ３はｎが２のとき、アルキレン基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価のアルキル基を表す。ただし、Ｚ３は環構造を有することはない。Ｒ１～Ｒ５は各々独立に置換基を表す。ｎ１は２～６の整数を表し、ｎ２は２～１２の整数を表し、ｎ３およびｎ４は各々独立に１～５の整数を表す。ｍ１、ｍ２、ｍ４およびｍ５は各々独立に０～４の整数を表し、ｍ３は０～１０の整数を表す。
（３）一般式（Ｉ）で表される化合物が、少なくとも１つのベンゼン環を有する（１）または（２）に記載の偏光板保護フィルム。
（４）一般式（Ｉ）で表される化合物が、一般式（ＩＩ－１）または（ＩＩ－３）で表される（１）～（３）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（５）ｎが２～４の整数であり、Ｘ以外の構成部分の総炭素数が４０以下である（１）～（４）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（６）２つのＸを連結する最短連結原子数が、いずれの２つのＸ間においても、２０以下である（１）～（５）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（７）Ｚが、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（Ｒａ１）（Ｒａ２）－、＞Ｃ＜、（－ＯＣＨ２ＣＨ２）２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－）２、＞Ｃ（Ｒａ３）－、＞Ｎ－または－Ｎ（Ｒａ）－であり、ここでＲａ１～Ｒａ３が各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒａが水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す（１）、（３）、（５）および（６）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（８）セルロースアシレートを含有する（１）～（７）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（９）偏光子の両側または片側に、（１）～（８）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルムを有する偏光板。
（１０）偏光子の両側または片側に有する少なくとも１つの偏光板保護フィルムに、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有する（９）に記載の偏光板。
（３）一般式（Ｉ）で表される化合物が、少なくとも１つのベンゼン環を有する（１）または（２）に記載の偏光板保護フィルム。
（４）一般式（Ｉ）で表される化合物が、一般式（ＩＩ－１）または（ＩＩ－３）で表される（１）～（３）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（５）ｎが２～４の整数であり、Ｘ以外の構成部分の総炭素数が４０以下である（１）～（４）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（６）２つのＸを連結する最短連結原子数が、いずれの２つのＸ間においても、２０以下である（１）～（５）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（７）Ｚが、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（Ｒａ１）（Ｒａ２）－、＞Ｃ＜、（－ＯＣＨ２ＣＨ２）２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－）２、＞Ｃ（Ｒａ３）－、＞Ｎ－または－Ｎ（Ｒａ）－であり、ここでＲａ１～Ｒａ３が各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒａが水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す（１）、（３）、（５）および（６）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（８）セルロースアシレートを含有する（１）～（７）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルム。
（９）偏光子の両側または片側に、（１）～（８）のいずれか１つに記載の偏光板保護フィルムを有する偏光板。
（１０）偏光子の両側または片側に有する少なくとも１つの偏光板保護フィルムに、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有する（９）に記載の偏光板。
一般式（Ａ）において、ＲＡ１およびＲＡ３は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基を表す。ここで、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基および芳香族基は置換基を有してもよい。ＲＡ５は、水素原子または置換基を表す。
（１１） （９）または（１０）に記載の偏光板を少なくとも１枚含む表示装置。
（１１） （９）または（１０）に記載の偏光板を少なくとも１枚含む表示装置。
本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
ここで、本明細書において、特段に断らない限り、置換基を有することが可能な基（例えば、アルキル部位、アリール部位、ヘテロ環部位を有する基）は置換基を有してもよい。例えば、アルキル基は、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基もしくは芳香族基は置換基を有してもよいアリール基もしくは芳香族基である。
また、同じ原子に少なくとも２つの置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよく、また、隣接する結合原子が各々置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよい。
さらに複数の同符号の基が存在する場合や、複数の繰返しにより、結果として複数の同符合の基が存在する場合、これらは互いに同一であっても異なってもよい。
また、同じ原子に少なくとも２つの置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよく、また、隣接する結合原子が各々置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよい。
さらに複数の同符号の基が存在する場合や、複数の繰返しにより、結果として複数の同符合の基が存在する場合、これらは互いに同一であっても異なってもよい。
本明細書において、複数の置換基や連結基（以下、置換基等と言う。）を同時もしくは択一的に規定するときには、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。
なお、置換基は、特段の断りがない限り、置換基Ｓを参照する。
なお、置換基は、特段の断りがない限り、置換基Ｓを参照する。
本発明により、偏光板の高温高湿下での耐久性を改善し、偏光性能の劣化を防止することが可能となった。
この結果、高温高湿下での偏光性能の劣化の抑制が可能な偏光板保護フィルムの提供が可能となり、このような偏光板保護フィルムにより、偏光子や偏光板保護フィルムが薄型化しても、偏光板の高温高湿下での耐久性が改善され、耐久性に優れた偏光板および表示装置の提供が可能となった。
しかも、本発明で使用する化合物は、ブリードアウトを起こさない、ヘイズが抑制されるなど、従来から求められている性能を満足する。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
この結果、高温高湿下での偏光性能の劣化の抑制が可能な偏光板保護フィルムの提供が可能となり、このような偏光板保護フィルムにより、偏光子や偏光板保護フィルムが薄型化しても、偏光板の高温高湿下での耐久性が改善され、耐久性に優れた偏光板および表示装置の提供が可能となった。
しかも、本発明で使用する化合物は、ブリードアウトを起こさない、ヘイズが抑制されるなど、従来から求められている性能を満足する。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
以下、本発明について、偏光板保護フィルムから順に詳細に説明する。
＜＜偏光板保護フィルム＞＞
偏光板保護フィルムは、単層の形態や複数の層の積層体の形態のいずれの形態でもよい。
偏光板保護フィルムが２層以上の積層体である場合は、２層構造または３層構造であることが好ましく、３層構造であることがより好ましい。３層構造の場合は、１層のコア層（すなわち、最も厚い層であり、以下、基層とも言う。）と、コア層を挟むスキン層Ａおよびスキン層Ｂとを有することが好ましい。本発明では、スキン層Ｂ／コア層／スキン層Ａの３層構造であることが好ましい。スキン層Ｂは、偏光板保護フィルムが溶液製膜で製造される際に、後述する金属支持体と接する層であり、スキン層Ａは金属支持体とは逆側の空気界面の層である。なお、スキン層Ａとスキン層Ｂを総称してスキン層（または表層）とも言う。
偏光板保護フィルムは、単層の形態や複数の層の積層体の形態のいずれの形態でもよい。
偏光板保護フィルムが２層以上の積層体である場合は、２層構造または３層構造であることが好ましく、３層構造であることがより好ましい。３層構造の場合は、１層のコア層（すなわち、最も厚い層であり、以下、基層とも言う。）と、コア層を挟むスキン層Ａおよびスキン層Ｂとを有することが好ましい。本発明では、スキン層Ｂ／コア層／スキン層Ａの３層構造であることが好ましい。スキン層Ｂは、偏光板保護フィルムが溶液製膜で製造される際に、後述する金属支持体と接する層であり、スキン層Ａは金属支持体とは逆側の空気界面の層である。なお、スキン層Ａとスキン層Ｂを総称してスキン層（または表層）とも言う。
本発明の偏光板保護フィルムは、少なくとも一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する。以下、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物から順に説明する。
＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞
偏光板は、偏光子の両側または片側に、偏光板保護フィルムが貼り合わせて積層されており、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、偏光子に隣接する偏光板保護フィルムに含有させ、偏光子の耐久性（偏光板耐久性とも称す）、特に高温高湿条件での耐久性を改善することができる。
本発明者らは、偏光子を構成する樹脂が、高温高湿条件で膨潤した後、樹脂の物性が変化することを突き止めた。この変化の原因は、架橋された樹脂の架橋度の低下にあり、この架橋度の低下は、架橋剤の減少に基づくものであると推定された。
偏光板は、偏光子の両側または片側に、偏光板保護フィルムが貼り合わせて積層されており、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、偏光子に隣接する偏光板保護フィルムに含有させ、偏光子の耐久性（偏光板耐久性とも称す）、特に高温高湿条件での耐久性を改善することができる。
本発明者らは、偏光子を構成する樹脂が、高温高湿条件で膨潤した後、樹脂の物性が変化することを突き止めた。この変化の原因は、架橋された樹脂の架橋度の低下にあり、この架橋度の低下は、架橋剤の減少に基づくものであると推定された。
特に偏光子を構成する樹脂がポリビニルアルコールである場合、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物による偏光子板耐久性の改良効果に優れることから、以下のメカニズムが推定される。
すなわち、ポリビニルアルコールは、通常、ホウ酸で架橋されている。高温高湿下でポリビニルアルコールが物性変化すると、ポリビニルアルコール－ヨウ素錯体は部分崩壊し、偏光子の劣化となる。一方で、架橋剤のホウ酸が減少すると、ポリビニルアルコールが結晶化する。
ここで、偏光板保護フィルム中に存在する本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、高温高湿下で、偏光板保護フィルムから偏光子に拡散して移動し、ポリビニルアルコールの物性変化、例えばホウ酸の減少によるホウ酸架橋の部分崩壊によるポリビニルアルコールの結晶化など、を抑制するものと考えられる。
すなわち、ポリビニルアルコールは、通常、ホウ酸で架橋されている。高温高湿下でポリビニルアルコールが物性変化すると、ポリビニルアルコール－ヨウ素錯体は部分崩壊し、偏光子の劣化となる。一方で、架橋剤のホウ酸が減少すると、ポリビニルアルコールが結晶化する。
ここで、偏光板保護フィルム中に存在する本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、高温高湿下で、偏光板保護フィルムから偏光子に拡散して移動し、ポリビニルアルコールの物性変化、例えばホウ酸の減少によるホウ酸架橋の部分崩壊によるポリビニルアルコールの結晶化など、を抑制するものと考えられる。
一般式（Ｉ）において、Ｘはホルミル基、ボロン酸基、下記一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基または下記一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、ｎは２以上の整数を表す。Ｚはｎが２のとき、単結合または２価の基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価の基を表す。ここで、複数の－Ｌ－Ｘは互いに同一でも異なってもよい。ただし、複数のＸのうち、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基の数はそれぞれ０または１であり、また、ｎが２のとき、ＬおよびＺがいずれも単結合であることはない。
一般式（Ｉ－Ｂ）および（Ｉ－Ｃ）において、ＲＡおよびＲＢは各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアシル基を表す。ここで、ＲＡとＲＢが互いに結合して、環を形成してもよい。＊は、Ｌに結合する結合手を示す。
Ｌは、単結合または２価の連結基を表し、２価の連結基としては、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基または２価のヘテロ環基が挙げられる。
このうち、アリーレン基、２価のヘテロ環基が好ましく、アリーレン基、ヘテロアリーレン基がより好ましく、アリーレン基がさらに好ましい。
アリーレン基は、フェニレン、ナフチレンが挙げられ、フェニレンが好ましい。また、ヘテロアリーレン基のヘテロ環としては、環構成原子が、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選択されるヘテロ原子を含み、５または６員環のヘテロ芳香環が好ましく、ベンゼン環で縮環されていてもよく、例えば、フラン環、チアゾール環、ピロール環、ピリジン環が挙げられる。
アリーレン基やヘテロ環は置換基を有していてもよく、このような置換基としては、後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
このうち、アリーレン基、２価のヘテロ環基が好ましく、アリーレン基、ヘテロアリーレン基がより好ましく、アリーレン基がさらに好ましい。
アリーレン基は、フェニレン、ナフチレンが挙げられ、フェニレンが好ましい。また、ヘテロアリーレン基のヘテロ環としては、環構成原子が、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選択されるヘテロ原子を含み、５または６員環のヘテロ芳香環が好ましく、ベンゼン環で縮環されていてもよく、例えば、フラン環、チアゾール環、ピロール環、ピリジン環が挙げられる。
アリーレン基やヘテロ環は置換基を有していてもよく、このような置換基としては、後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
ｎは２以上の整数を表すが、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２がなかでも好ましい。
Ｚは、ｎが２のとき、単結合または２価の基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価の基、すなわち３価以上の基を表す。
２価の基としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒａ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、２価のヘテロ環基（好ましくはヘテロアリーレン基）もしくはこれらの基が組み合された基が挙げられる。ここで、Ｒａは水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す。
これらの基が組み合された基としては、例えば、－Ｏ－アルキレン－Ｏ－、－Ｏ－［アルキレン－Ｏ］ｌ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－Ｙ－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｙ－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｙ－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－アルキレン－シクロアルキレン－アルキレン－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－アルキレン－シクロアルキレン－アルキレン－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－アルキレン－シクロアルキレン－アルキレン－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－などが挙げられる。ここで、ｌは１～１０の整数を表し、Ｙはアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基または２価のヘテロ環基を表す。
なお、アルキレン基は、－Ｃ（Ｒａ１）（Ｒａ２）－も好ましく、Ｒａ１およびＲａ２は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
これらの基が組み合された基としては、例えば、－Ｏ－アルキレン－Ｏ－、－Ｏ－［アルキレン－Ｏ］ｌ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－Ｙ－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｙ－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｙ－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－アルキレン－シクロアルキレン－アルキレン－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－アルキレン－シクロアルキレン－アルキレン－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－アルキレン－シクロアルキレン－アルキレン－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－などが挙げられる。ここで、ｌは１～１０の整数を表し、Ｙはアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基または２価のヘテロ環基を表す。
なお、アルキレン基は、－Ｃ（Ｒａ１）（Ｒａ２）－も好ましく、Ｒａ１およびＲａ２は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
３価の基としては、＞Ｃ（Ｒａ３）－、＞Ｎ－、３価のシクロアルキル基、３価のアリール基、３価のヘテロアリール基が挙げられる。ここで、Ｒａ３は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
４価の基としては、＞Ｃ＜、（－ＯＣＨ２ＣＨ２）２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－）２、４価のアリール基が挙げられる。
本発明において、Ｚは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（Ｒａ１）（Ｒａ２）－、＞Ｃ＜、（－ＯＣＨ２ＣＨ２）２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－）２、＞Ｃ（Ｒａ３）－、＞Ｎ－または－Ｎ（Ｒａ）－が好ましい態様のひとつである。
Ｘはホルミル基（－ＣＨＯ）、ボロン酸基〔－Ｂ（ＯＨ）２のボロニル基〕、上記一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基または上記一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基を表す。
ただし、複数のＸのうち、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基の数はそれぞれ０または１である。
本発明では、複数のＸのうち、１つ以上がホルミル基またはボロン酸基であることが好ましく、１つ以上がホルミル基であることがより好ましい。
また、本発明では、少なくとも１つのホルミル基とともに、ボロン酸基、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基から選択される置換基を少なくとも１つ有すること、または、少なくとも１つのボロン酸基とともに、ホルミル基、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基から選択される置換基を少なくとも１つ有すること、も好ましい態様の1つである。なかでも、全てのＸがホルミル基またはボロン酸基であることが好ましく、全てのＸがホルミル基であることが特に好ましい。
ただし、複数のＸのうち、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基の数はそれぞれ０または１である。
本発明では、複数のＸのうち、１つ以上がホルミル基またはボロン酸基であることが好ましく、１つ以上がホルミル基であることがより好ましい。
また、本発明では、少なくとも１つのホルミル基とともに、ボロン酸基、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基から選択される置換基を少なくとも１つ有すること、または、少なくとも１つのボロン酸基とともに、ホルミル基、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基から選択される置換基を少なくとも１つ有すること、も好ましい態様の1つである。なかでも、全てのＸがホルミル基またはボロン酸基であることが好ましく、全てのＸがホルミル基であることが特に好ましい。
以下に、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基および一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基を説明する。
ＲＡおよびＲＢにおけるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のいずれでもよく、炭素数は１～１２が好ましく、１～８がより好ましい。例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－オクチル、２－エチルヘキシル、ｎ－デシル、ｎ－ドデシル、ベンジル、フェノキシエチル、メトキシエチルが挙げられる。
ＲＡおよびＲＢにおけるシクロアルキル基の炭素数は、３～１２が好ましく、５～１２がより好ましく、５～８がさらに好ましい。例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられ、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましい。
ＲＡおよびＲＢにおけるアリール基の炭素数は６～２０が好ましく、６～１６がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。例えば、フェニル、ナフチルが挙げられ、置換基を有してもよいフェニル基が好ましい。
ＲＡおよびＲＢにおけるアシル基は、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を表す。アルキルカルボニル基は炭素数２～２０が好ましく、アルケニルカルボニル基は炭素数３～２０が好ましく、シクロアルキルカルボニル基は炭素数４～２０が好ましく、アリールカルボニル基は炭素数７～２０が好ましく、ヘテロ環カルボニル基は炭素数１～２０が好ましい。
これらの基は、例えば、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ミリストイル、アクリロイル、メタクリロイル、シクロプロピルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル、ナフトイル、ニコチノイルが挙げられる。
アシル基のうち、本発明では、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基が好ましい。
これらの基は、例えば、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ミリストイル、アクリロイル、メタクリロイル、シクロプロピルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル、ナフトイル、ニコチノイルが挙げられる。
アシル基のうち、本発明では、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基が好ましい。
ＲＡおよびＲＢにおける各基は、さらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
一般式（Ｉ－Ｂ）および一般式（Ｉ－Ｃ）において、ＲＡとＲＢが互いに結合して形成される環は、５～７員環が好ましく、５または６員環がより好ましく、一般式（Ｉ－Ｂ）においては、１，３，２－ジオキサボロラン（１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎｅ）環または１，３，２－ジオキサボリナン（１，３，２－ｄｉｏｘａｂｏｒｉｎａｎｅ）環、一般式（Ｉ－Ｃ）においては、１，３－ジオキソラン環または１，３－ジオキサン環がさらに好ましい。
ＲＡとＲＢが互いに結合して形成される環は、置換基を有してもよく、このような置換基としては後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
ＲＡとＲＢが互いに結合して形成される環は、置換基を有してもよく、このような置換基としては後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基は、下記一般式（Ｉ－Ｂ－１）、一般式（Ｉ－Ｂ－２）または一般式（Ｉ－Ｂ－３）で表される基が好ましい。
これらの基の中でも、本発明の効果をより向上する点から、一般式（Ｉ－Ｂ－２）または一般式（Ｉ－Ｂ－３）で表される基がより好ましい。
これらの基の中でも、本発明の効果をより向上する点から、一般式（Ｉ－Ｂ－２）または一般式（Ｉ－Ｂ－３）で表される基がより好ましい。
一般式（Ｉ－Ｂ－１）、（Ｉ－Ｂ－２）および（Ｉ－Ｂ－３）において、ＲＡＣ１およびＲＡＣ２は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアシル基を表す。ここで、ＲＡＣ１とＲＡＣ２とが互いに結合して、環を形成することはない。
ＲＡＣ３～ＲＡＣ１２は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表す。ここで、ＲＡＣ３～ＲＡＣ６のうちの少なくとも２つ、ＲＡＣ７～ＲＡＣ１２のうちの少なくとも２つが互いに結合して環を形成してもよい。
＊はＬに結合する結合手を示す。
ＲＡＣ３～ＲＡＣ１２は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表す。ここで、ＲＡＣ３～ＲＡＣ６のうちの少なくとも２つ、ＲＡＣ７～ＲＡＣ１２のうちの少なくとも２つが互いに結合して環を形成してもよい。
＊はＬに結合する結合手を示す。
ＲＡＣ１～ＲＡＣ１２におけるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびアシル基は、一般式（Ｉ－Ｂ）におけるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびアシル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ＲＡＣ３～ＲＡＣ１２におけるアルコキシ基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～１６がより好ましい。例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ヘキシルオキシ、２－エチルヘキシルオキシが挙げられる。また、アルコキシ基は、置換基を有してもよく、環構造を有してもよい。
ＲＡＣ３～ＲＡＣ１２におけるアルコキシカルボニル基の炭素数は、２～１２が好ましく、２～８がより好ましく、２～６がさらに好ましい。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ－ブトキシカルボニル、ｔ－ブトキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。
ＲＡＣ１～ＲＡＣ１２におけるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基およびＲＡＣ３～ＲＡＣ１２におけるアルコキシ基、アルコキシカルボニル基は、さらに置換基を有してもよく、このような置換基としては、置換基Ｓから選択される基が挙げられる。このような置換基のうち、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、シアノ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基が好ましい。
特に、ＲＡＣ１～ＲＡＣ１２が置換されたアルキル基の場合、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基で置換されたアルキル基が好ましい。
特に、ＲＡＣ１～ＲＡＣ１２が置換されたアルキル基の場合、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基で置換されたアルキル基が好ましい。
ＲＡＣ３～ＲＡＣ６のうちの少なくとも２つが互いに結合して形成される環やＲＡＣ７～ＲＡＣ１２のうちの少なくとも２つが互いに結合して形成される環は、５または６員環が好ましく、シクロペンタン環、シクロヘキサン環がより好ましい。
これらの環は、置換基を有してもよく、このような置換基としては後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
これらの環は、置換基を有してもよく、このような置換基としては後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
ＲＡＣ１およびＲＡＣ２は、アルキル基またはアシル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
ＲＡＣ３～ＲＡＣ６は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、水素原子、アルキル基がより好ましい。また、ＲＡＣ３～ＲＡＣ６は、これらの全てが水素原子の場合、少なくとも２つが水素原子の場合、または全てがアルキル基の場合が好ましい。
ＲＡＣ７～ＲＡＣ１２は、水素原子、アルキル基が好ましい。
ＲＡＣ３～ＲＡＣ６は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、水素原子、アルキル基がより好ましい。また、ＲＡＣ３～ＲＡＣ６は、これらの全てが水素原子の場合、少なくとも２つが水素原子の場合、または全てがアルキル基の場合が好ましい。
ＲＡＣ７～ＲＡＣ１２は、水素原子、アルキル基が好ましい。
一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基は、下記一般式（Ｉ－Ｃ－１）、一般式（Ｉ－Ｃ－２）または一般式（Ｉ－Ｃ－３）で表される基が好ましい。
一般式（Ｉ－Ｃ－１）において、ＲＢＣ１およびＲＢＣ２は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアシル基を表す。ここで、ＲＢＣ１とＲＢＣ２が互いに結合して、環を形成することはない。
一般式（Ｉ－Ｃ－２）および（Ｉ－Ｃ－３）において、ＲＢＣ３～ＲＢＣ１２は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表す。ここで、ＲＢＣ３～ＲＢＣ６のうちの少なくとも２つ、ＲＢＣ７～ＲＢＣ１２のうちの少なくとも２つが互いに結合して環を形成してもよい。
＊はＬに結合する結合手を示す。
一般式（Ｉ－Ｃ－２）および（Ｉ－Ｃ－３）において、ＲＢＣ３～ＲＢＣ１２は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表す。ここで、ＲＢＣ３～ＲＢＣ６のうちの少なくとも２つ、ＲＢＣ７～ＲＢＣ１２のうちの少なくとも２つが互いに結合して環を形成してもよい。
＊はＬに結合する結合手を示す。
ＲＢＣ１およびＲＢＣ２は、ＲＢＣ１とＲＢＣ２が互いに結合して、環を形成することがない以外は、一般式（Ｉ－Ｃ）におけるＲＡ、ＲＢと同義であり、好ましい範囲も同じである。
なお、ＲＢＣ１、ＲＢＣ２におけるアルキル基は、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基で置換されたアルキル基も好ましい。
ＲＢＣ３～ＲＢＣ１２は、一般式（Ｉ－Ｂ－２）、（Ｉ－Ｂ－３）におけるＲＡＣ３～ＲＡＣ１２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
なお、ＲＢＣ１、ＲＢＣ２におけるアルキル基は、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基で置換されたアルキル基も好ましい。
ＲＢＣ３～ＲＢＣ１２は、一般式（Ｉ－Ｂ－２）、（Ｉ－Ｂ－３）におけるＲＡＣ３～ＲＡＣ１２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、少なくとも１つのベンゼン環を有することが好ましく、ベンゼン環の数は１～４個が好ましく、２～４個がより好ましく、２または３個がさらに好ましく、２個が特に好ましい。
また、一般式（Ｉ）で表される化合物は、Ｘ以外の構成部分の総炭素数が、４０以下が好ましく、６～４０がより好ましく、１２～２４がさらに好ましい。このなかでも、ｎが２～４である場合が、特に好ましい。
Ｘ以外の構成部分の総炭素数が上記好ましい範囲内にあることが、一般式（Ｉ）で表される化合物の偏光子への拡散しやすさから好ましい。
Ｘ以外の構成部分の総炭素数が上記好ましい範囲内にあることが、一般式（Ｉ）で表される化合物の偏光子への拡散しやすさから好ましい。
ここで、２つのＸを連結する最短連結原子数が、いずれの２つのＸ間においても、２０以下が好ましく、２～２０がより好ましく、６～２０がさらに好ましく、８～２０がなかでも好ましい。
２つのＸを連結する最短連結原子数は、Ｘがホルミル基、ボロン酸基、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基または一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基のいずれであっても同じである。
なお、２つのＸを連結する最短連結原子数を以下の化合物（Ｘがホルミル基である）を例に説明する。Ｘであるホルミル基が結合している１番目の炭素原子から数えてもう一方のＸであるホルミル基が結合している炭素原子の番号が、上から順に８、１２であり、最短連結原子数は、それぞれ８、１２である。
２つのＸを連結する最短連結原子数は、Ｘがホルミル基、ボロン酸基、一般式（Ｉ－Ｂ）で表される基または一般式（Ｉ－Ｃ）で表される基のいずれであっても同じである。
なお、２つのＸを連結する最短連結原子数を以下の化合物（Ｘがホルミル基である）を例に説明する。Ｘであるホルミル基が結合している１番目の炭素原子から数えてもう一方のＸであるホルミル基が結合している炭素原子の番号が、上から順に８、１２であり、最短連結原子数は、それぞれ８、１２である。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－５）のいずれかで表される化合物が好ましい。
一般式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－５）において、Ｘおよびｎは、一般式（Ｉ）におけるＸおよびｎと同義である。Ｚ２はｎが２のとき、２価の基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価の基を表す。Ｚ３はｎが２のとき、アルキレン基を表し、ｎが３以上のとき、ｎ価のアルキル基を表す。ただし、Ｚ３は環構造を有することはない。Ｒ１～Ｒ５は各々独立に置換基を表す。ｎ１は２～６の整数を表し、ｎ２は２～１２の整数を表し、ｎ３およびｎ４は各々独立に１～５の整数を表す。ｍ１、ｍ２、ｍ４およびｍ５は各々独立に０～４の整数を表し、ｍ３は０～１０の整数を表す。
Ｒ１～Ｒ５における置換基は、後述の置換基Ｓから選択される基が挙げられる。
Ｒ１～Ｒ５における置換基は、なかでもアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子が好ましい。
Ｚ２における２価の基およびｎ価の基としては、一般式（Ｉ）のＺにおける２価基およびｎ価の基が好ましく挙げられる。
ｍ１～ｍ５は０～２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０がさらに好ましい。
なお、ｍ１～ｍ５の各々において、ｍ１～ｍ５が２以上の場合、複数の置換基が互いに結合して環を形成してもよい。
ここで、Ｒ１とＺ２が互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４とＲ５が互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ１～Ｒ５における置換基は、なかでもアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子が好ましい。
Ｚ２における２価の基およびｎ価の基としては、一般式（Ｉ）のＺにおける２価基およびｎ価の基が好ましく挙げられる。
ｍ１～ｍ５は０～２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０がさらに好ましい。
なお、ｍ１～ｍ５の各々において、ｍ１～ｍ５が２以上の場合、複数の置換基が互いに結合して環を形成してもよい。
ここで、Ｒ１とＺ２が互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４とＲ５が互いに結合して環を形成してもよい。
ｎ１およびｎ２は、２～４の整数が好ましく、２がより好ましい。
ｎ３およびｎ４は、１または２が好ましく、１がより好ましい。
ｎ３およびｎ４は、１または２が好ましく、１がより好ましい。
一般式（ＩＩ－１）、（ＩＩ－３）および（ＩＩ－５）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５およびＺ２は電子求引性基であることが好ましい形態のひとつである。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５が電子求引性基であると、Ｘがその電子効果を受け、本発明の効果がより効果的に奏される。
電子求引性基は、ハメット則のσ値が－０．１０以上、より好ましくは、０以上である基が好ましい。ここで、σ値は、Ｘに対する置換位置がｏ、ｐ位の場合はσｐ値を、ｍ位の場合はσｍ値を用いる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５が電子求引性基であると、Ｘがその電子効果を受け、本発明の効果がより効果的に奏される。
電子求引性基は、ハメット則のσ値が－０．１０以上、より好ましくは、０以上である基が好ましい。ここで、σ値は、Ｘに対する置換位置がｏ、ｐ位の場合はσｐ値を、ｍ位の場合はσｍ値を用いる。
σｐ値が正の置換基としては、フッ素（０．０６）、塩素（０．２３）、臭素（０．２３）、ヨウ素（０．１８）等のハロゲン原子、－ＣＨＯ（０．４２）、－ＣＯＣＨ３（０．５０）、－ＣＯＣ６Ｈ５（０．４６）、－ＣＯＮＨ２（０．３６）、－ＣＯＯＨ（０．４１）、－ＣＯＯＣＨ３（０．３９）、－ＣＯＯＣ２Ｈ５（０．４５）等のカルボニルを有する基、－ＳＯＣＨ３（０．４９）、－ＳＯ２ＣＨ３（０．７２）、－ＳＯ２Ｃ６Ｈ５（０．６８）、－ＳＯ２ＣＦ３（０．９３）、－ＳＯ２ＮＨ２（０．５７）、－ＳＯ２ＯＣ６Ｈ５（０．２３）、－ＳＯ３
－（０．０９）、－ＳＯ３Ｈ（０．５０）等のスルホニルもしくはスルフィニルを有する基、－ＣＮ（０．６６）、－ＮＯ２（０．７８）、－Ｎ（ＣＨ３）３
＋（０．８２）、－Ｎ（ＣＦ３）２（０．５３）等の含窒素置換基、－ＣＣｌ３（０．４６）、－ＣＨ２Ｃｌ（０．１８）、－ＣＨＣｌ２（０．３２）、－ＣＦ３（０．５４）等のハロゲン原子置換アルキル基が挙げられる。ここで、カッコ内はσｐ値である。
σｍ値が正の置換基としては、－ＯＨ（０．１２）、－ＯＣＨ３（０．１２）、－ＯＣ６Ｈ５（０．２５）等のアルコキシ基もしくはアリールオキシ基、－ＳＣＨ３（０．１６）等のアルキルチオ基もしくはアリールチオ基、エチニル基（０．２０）、－Ｃ６Ｈ５（０．１０）等の不飽和炭化水素基、フッ素（０．３５）、塩素（０．３７）、臭素（０．３９）、ヨウ素（０．３５）等のハロゲン原子、－ＣＨＯ（０．４２）、－ＣＯＣＨ３（０．３８）、－ＣＯＣ６Ｈ５（０．３６）、－ＣＯＮＨ２（０．３２）、－ＣＯＯＨ（０．３７）、－ＣＯＯＣＨ３（０．３６）等のカルボニルを有する基、－ＳＯＣＨ３（０．５２）、－ＳＯ２ＣＨ３（０．７０）、－ＳＯ２Ｃ６Ｈ５（０．６２）、－ＳＯ２ＣＦ３（０．８３）、－ＳＯ２ＮＨ２（０．６２）、－ＳＯ３Ｈ（０．５５）等のスルホニルもしくはスルフィニルを有する基、－ＣＮ（０．６２）、－ＮＯ２（０．７１）、－Ｎ（ＣＨ３）３
＋（０．８８）、－Ｎ（ＣＦ３）２（０．４０）等の含窒素置換基、－ＣＣｌ３（０．４０）、－ＣＨ２Ｃｌ（０．１１）、－ＣＨＣｌ２（０．３１）、－ＣＦ３（０．４９）等のハロゲン原子置換アルキル基が挙げられる。ここで、カッコ内はσｍ値である。
ハメットのσ値は、例えば、Ｃ．Ｈａｒｓｃｈ他、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１６，１２０７（１９７３）、同，２０，３０４（１９７７）、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９１，１６５（１９９１）、Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ，ｅｔ ａｌ他，“Ｅｘｐｌｏｒｉｎｇ ＱＳＡＲ Ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ，Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ，ａｎｄ Ｓｔｅｒｉｃ Ｃｏｎｓｔａｎｓ”，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，１９９５などにも記載されている。
ここで、Ｚ２が電子求引性基であるとは、Ｘが置換した１つのベンゼン環に直結する部分が電子求引性基であることを意味する。
なお、一般式（ＩＩ－１）においては、Ｚ２およびＲ１から選ばれる少なくともいずれかのハメットのσ値、特にσｐ値が、０．２０以上であることが好ましい。
なお、一般式（ＩＩ－１）においては、Ｚ２およびＲ１から選ばれる少なくともいずれかのハメットのσ値、特にσｐ値が、０．２０以上であることが好ましい。
電子求引性基としては、具体的には、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基や、水素原子の少なくともいずれかがアルキル基、シクロアルキル基およびアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基（例えば、－ＣＯＮＨＣＨ３（σｐ：０．３６、σｍ：０．３５））、チオアシル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基、水素原子の少なくともいずれかがアルキル基、シクロアルキル基およびアリール基から独立して選択される基で置換されたチオカルバモイル基（例えば、－ＣＳＮＨＣＨ３（σｐ：０．３４、σｍ：０．３０））、水素原子の少なくともいずれかがアルキルもしくはアリールのスルファモイル基（例えば、－ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）２（σｐ：０．６５、σｍ：０．５１））、アルキルもしくはアリールのスルホニル基（例えば、－ＳＯ２ＣＨ３（σｐ：０．７２、σｍ：０．７０））、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基（例えば、－ＳＯＣＨ３（σｐ：０．４９、σｍ：０．５２））、シアノ基、ニトロ基またはホスホノ基が挙げられる。
これらの電子求引性基は、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、水素原子の少なくともいずれかがアルキル基、シクロアルキル基およびアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基またはアルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましい。
一般式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－５）のいずれかで表される化合物のうち、一般式（ＩＩ－１）、（ＩＩ－３）または（ＩＩ－５）で表される化合物が好ましく、一般式（ＩＩ－１）または（ＩＩ－３）で表される化合物がより好ましい。
以下に、好ましい基本骨格とＸ部分（下記基本骨格におけるＸ１～Ｘ４部分）を示す。
本発明においては、これらの組み合わせが全て好ましい。
本発明においては、これらの組み合わせが全て好ましい。
基本骨格
Ｘ部分（上記基本骨格におけるＸ１～Ｘ４部分）
（１）ホルミル基（－ＣＨＯ）またはボロン酸基〔－Ｂ（ＯＨ）２〕
（１）ホルミル基（－ＣＨＯ）またはボロン酸基〔－Ｂ（ＯＨ）２〕
（２）一般式（Ｉ－Ｃ）で表されるアセタール基
（３）一般式（Ｉ－Ｂ）で表されるボロン酸エステル基
（２）および（３）における化学式において、＊は基本骨格に結合する結合手を示す。
また、上記（Ｘｃ－１０１－ｐ）、（Ｘｂ－１０１－ｐ）におけるｐは１～２０の整数を表し、式中のｎを意味するものであり、例えば、（Ｘｃ－１０１－１）は、－ＣＨ（ＯＣＨ３）２であり、（Ｘｂ－１０１－１）は、－Ｂ（ＯＣＨ３）２である。
また、上記（Ｘｃ－１０１－ｐ）、（Ｘｂ－１０１－ｐ）におけるｐは１～２０の整数を表し、式中のｎを意味するものであり、例えば、（Ｘｃ－１０１－１）は、－ＣＨ（ＯＣＨ３）２であり、（Ｘｂ－１０１－１）は、－Ｂ（ＯＣＨ３）２である。
以下に、本発明に用いられる一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、市販品を入手してもよく、また任意の方法によって合成してもよい。例えば、ホルミル基を有する化合物は、置換基を有するホルミル化合物を原料として、エステル化、アミド化、アルキル化など一般的な合成反応を行うことで容易に合成することができる。また、対応するアルコールを二酸化マンガン等の一般的な酸化剤を用いて酸化することで合成できる。ボロン酸基を有する化合物は、置換基を有するボロン酸化合物を原料として、エステル化、アミド化、アルキル化など一般的な合成反応を行うことで容易に合成することができる。また、市販のボロン酸化合物を用いない場合には、例えば、ハロゲン化物（例えばアリールブロマイド等）からｎ－ブチルリチウムとトリアルコキシボラン（例えばトリメトキシボラン等）によって合成することができる。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対し、０．１～３０質量部の範囲で配合するのが好ましく、１～２５質量部の範囲で配合するのがより好ましく、２～２０質量部の範囲で配合するのがさらに好ましい。
ここで、置換基Ｓについて説明する。
置換基Ｓは、以下の置換基を含むものである。
置換基Ｓは、以下の置換基を含むものである。
〔置換基Ｓ〕
置換基Ｓとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘプチル、１－エチルペンチル、２－エチルヘキシル、ベンジル、２－エトキシエチル、１－カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、エチニル、２－プロピニル、２－ブチニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３～２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４－メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６～２０で、例えば、フェニル、１－ナフチル、４－メトキシフェニル、２－クロロフェニル、３－メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０～２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５員環または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、この環は飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２－ピリジル、４－ピリジル、２－イミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、２－チアゾリル、２－オキサゾリル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～２０で、例えば、フェノキシ、１－ナフチルオキシ、３－メチルフェノキシ、４－メトキシフェノキシ等）、
置換基Ｓとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘプチル、１－エチルペンチル、２－エチルヘキシル、ベンジル、２－エトキシエチル、１－カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、エチニル、２－プロピニル、２－ブチニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３～２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４－メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６～２０で、例えば、フェニル、１－ナフチル、４－メトキシフェニル、２－クロロフェニル、３－メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０～２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５員環または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、この環は飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２－ピリジル、４－ピリジル、２－イミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、２－チアゾリル、２－オキサゾリル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～２０で、例えば、フェノキシ、１－ナフチルオキシ、３－メチルフェノキシ、４－メトキシフェノキシ等）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０で、例えば、フェニルチオ、１－ナフチルチオ、３－メチルフェニルチオ、４－メトキシフェニルチオ等）、ホルミル基、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクロリイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、エトキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０～２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ、Ｎ－エチルアミノ、アニリノ、１－ピロリジニル、ピペリジノ、モルホニル等）、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基（好ましくは炭素数０～２０で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルホンアミド、Ｎ－フェニルスルホンアミド等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０で、－ＳＯ２ＮＨ２またはアルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル、Ｎ－フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基〔好ましくは炭素数１～２０で、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２またはアルキルもしくはアリールのカルバモイル基が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル、Ｎ－フェニルカルバモイル等〕、
アシルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、チオアシル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基、チオカルバモイル基〔これらの好ましい範囲および具体例は、対応するアシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基のＣ（＝Ｏ）部分を（Ｃ＝Ｓ）に置き換えたのみ異なるものが挙げられる〕、シリル基（炭素数３～２０が好ましく、アルコキシもしくはアリールオキシが置換したシリル基がより好ましく、トリアルコキシシリル基がさらに好ましく、例えば、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）トリアルコキシシリル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アシルスルファモイル基（アルキルカルボニルスルファモイル基、アルケニルカルボニルスルファモイル基、アリールカルボニルスルファモイル基、ヘテロ環カルボニルスルファモイル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチルスルファモイル、ピバロイルスルファモイル、アクリロイルスルファモイル、メタクロリイルスルファモイル、ベンゾイルスルファモイル、ニコチノイルスルファモイル等）、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メチルスルホニルスルファモイル、エチルスルホニルスルファモイル、フェニルスルホニルスルファモイル、トリルスルホニルスルファモイル等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基もしくはそのアニオン、メルカプト基もしくはそのアニオン、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩、ボロン酸基もしくはその塩、ボロン酸エステル基、オニオ基（例えば、スルホニウム塩のスルホニオ基、アンモニウム塩のアンモニオ基、ヨードニウム塩のヨードニオ基、ホスホニウム塩のホスホニオ基）が挙げられる。
これらの置換基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては上記置換基Ｓが挙げられる。
例えば、アルキル基にアリール基が置換したアラルキル基（例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル）、アルキル基にアルコキシカルボニル基やシアノ基が置換した基（例えば、ベンゾイルメチル）、アルキル基にフッ素原子が置換したトリフルオロメチルのようなパーフルオロアルキル基、アリール基に上記の置換基Ｓが置換した置換アリール基などが挙げられる。また、活性メチンもしくは活性メチレン構造を有する基（電子求引性基が置換したアルキル基、電子求引性基にメチンもしくはメチレンが結合した部分を有する基または電子求引性基に挟まれたメチンもしくはメチレン部を有する基）も好ましく挙げられる。
例えば、アルキル基にアリール基が置換したアラルキル基（例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル）、アルキル基にアルコキシカルボニル基やシアノ基が置換した基（例えば、ベンゾイルメチル）、アルキル基にフッ素原子が置換したトリフルオロメチルのようなパーフルオロアルキル基、アリール基に上記の置換基Ｓが置換した置換アリール基などが挙げられる。また、活性メチンもしくは活性メチレン構造を有する基（電子求引性基が置換したアルキル基、電子求引性基にメチンもしくはメチレンが結合した部分を有する基または電子求引性基に挟まれたメチンもしくはメチレン部を有する基）も好ましく挙げられる。
＜樹脂＞
本発明の偏光板保護フィルムは、樹脂を含有してなり、フィルム状であることが好ましい。
偏光板保護フィルムに用いられる樹脂としては、任意の樹脂を用いることができ、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。樹脂としてはセルロースアシレート樹脂、アクリル樹脂、シクロオレフィン系樹脂を挙げられる。これらの樹脂のうち、アクリル樹脂とセルロースアシレート樹脂が好ましく、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物との相溶性に優れるという観点でセルロースアシレート樹脂がなかでも好ましい。
これらの樹脂は１種を用いてもよいし、２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用する場合は樹脂成分中最も多く含有される成分を主成分とする。
本発明の偏光板保護フィルムは、樹脂を含有してなり、フィルム状であることが好ましい。
偏光板保護フィルムに用いられる樹脂としては、任意の樹脂を用いることができ、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。樹脂としてはセルロースアシレート樹脂、アクリル樹脂、シクロオレフィン系樹脂を挙げられる。これらの樹脂のうち、アクリル樹脂とセルロースアシレート樹脂が好ましく、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物との相溶性に優れるという観点でセルロースアシレート樹脂がなかでも好ましい。
これらの樹脂は１種を用いてもよいし、２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用する場合は樹脂成分中最も多く含有される成分を主成分とする。
（セルロースアシレート）
本発明において、セルロースアシレートフィルムの主成分となるセルロースアシレートは、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。例えば、セルロースアシレートは、アシル置換基としてアセチル基のみからなるセルロースアセテートであっても、複数の異なったアシル置換基を有するセルロースアシレートを用いてもよく、異なったセルロースアシレートの混合物であってもよい。なお、主成分とは、フィルムもしくは層を構成する樹脂成分において、セルロースアシレートが５０質量％以上含有されているものを意味し、樹脂成分中のセルロースアシレートの含有量は６０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。
本発明において、セルロースアシレートフィルムの主成分となるセルロースアシレートは、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。例えば、セルロースアシレートは、アシル置換基としてアセチル基のみからなるセルロースアセテートであっても、複数の異なったアシル置換基を有するセルロースアシレートを用いてもよく、異なったセルロースアシレートの混合物であってもよい。なお、主成分とは、フィルムもしくは層を構成する樹脂成分において、セルロースアシレートが５０質量％以上含有されているものを意味し、樹脂成分中のセルロースアシレートの含有量は６０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。
本発明で使用されるセルロースアシレートの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。原料セルロースは、例えば、丸澤、宇田著，「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」，日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１－１７４５号（７頁～８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
本発明では、セルロースアシレートのアシル基は、１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２以上のアシル基を置換基として有することが好ましい。炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族のアシル基でも芳香族のアシル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基あるいは芳香族カルボニル基、芳香族アルキルカルボニル基などであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イソブタノイル、ｔｅｒｔ－ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが挙げられる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔｅｒｔ－ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、さらに好ましくはアセチル、プロピオニル、ブタノイルである。
本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２～４のアシル基を置換基として有することが好ましい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのうち１種類がアセチル基であることが好ましく、その他に用いる炭素数２～４のアシル基としてはプロピオニル基またはブチリル基が好ましい。これらのセルロースアシレートを用いることにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、濾過性のよい溶液の作製が可能となる。
本発明では、特に、セルロースアシレートのアシル基はアセチル基１種であるものが好ましい。
本発明では、特に、セルロースアシレートのアシル基はアセチル基１種であるものが好ましい。
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートについて、以下に詳細に記載する。
セルロースを構成するβ－１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離のヒドロキシ基を有している。セルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基の一部または全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。
アシル置換度は、２位、３位および６位に位置するセルロースのヒドロキシ基のアシル化の度合いを示すものであり、全てのグルコース単位の２位、３位および６位のヒドロキシ基がいずれもアシル化された場合、総アシル置換度は３である。例えば、全てのグルコース単位で、６位のみが全てアシル化された場合、総アシル置換度は１である。同様に、全グルコースの全ヒドロキシ基において、各々のグルコース単位で、６位か、２位のいずれか一方の全てがアシル化された場合も、総アシル置換度は１である。
すなわち、グルコース分子中の全ヒドロキシ基が全てアシル化された場合を３として、アシル化の度合いを示すものである。
アシル置換度の測定方法の詳細については、手塚他，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ．Ｒｅｓ．，２７３，８３－９１（１９９５）に記載の方法やＡＳＴＭ－Ｄ８１７－９６に規定の方法に準じて測定することができる。
セルロースを構成するβ－１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離のヒドロキシ基を有している。セルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基の一部または全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。
アシル置換度は、２位、３位および６位に位置するセルロースのヒドロキシ基のアシル化の度合いを示すものであり、全てのグルコース単位の２位、３位および６位のヒドロキシ基がいずれもアシル化された場合、総アシル置換度は３である。例えば、全てのグルコース単位で、６位のみが全てアシル化された場合、総アシル置換度は１である。同様に、全グルコースの全ヒドロキシ基において、各々のグルコース単位で、６位か、２位のいずれか一方の全てがアシル化された場合も、総アシル置換度は１である。
すなわち、グルコース分子中の全ヒドロキシ基が全てアシル化された場合を３として、アシル化の度合いを示すものである。
アシル置換度の測定方法の詳細については、手塚他，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ．Ｒｅｓ．，２７３，８３－９１（１９９５）に記載の方法やＡＳＴＭ－Ｄ８１７－９６に規定の方法に準じて測定することができる。
本発明で使用するセルロースアシレートの総アシル置換度をＡとすると、Ａは、１．５以上３．０以下（１．５≦Ａ≦３．０）が好ましいが、本発明では、２．８０～２．９７が、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物との相溶性、ヘイズ低減の点で好ましい。
また、セルロースアシレートのアシル基としてアセチル基のみを用いたセルロースアセテートにおいては、総アセチル置換度をＢとすると、Ｂは、２．０以上３以下（２．０≦Ｂ≦３．０）が好ましいが、本発明では、２．８０～２．９７が、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物との相溶性、ヘイズ低減の点で好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムが積層体（複層構成）である場合、セルロースアシレートフィルムは、各層中におけるセルロースアシレートのアシル基置換度は均一であっても、アシル基置換度やアシル基の異なる複数のセルロースアシレートを一つの層に混在させてもよい。
セルロースのアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、メチレンクロライドや有機酸、例えば、酢酸等が使用される。
触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、ＣＨ３ＣＨ２ＣＯＣｌ）である場合には、塩基性化合物が用いられる。
最も一般的なセルロースの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、吉草酸等）またはそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。
セルロースアシレートは、例えば、特開平１０－４５８０４号公報に記載されている方法により合成できる。
本発明の偏光板保護フィルム、特に本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、全固形分中、セルロースアシレートを５～９９質量％含むことが透湿度の観点から好ましく、２０～９９質量％含むことがより好ましく、５０～９５質量％含むことが特に好ましい。
＜添加剤＞
本発明の偏光板保護フィルム中、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物とともに、特にセルロースアシレートフィルム中には、レターデーション調整剤（レターデーション発現剤およびレターデーション低減剤）や、可塑剤として、重縮合エステル化合物（ポリマー）、多価アルコールの多価エステル、フタル酸エステル、リン酸エステル、糖エステルなど、さらには、紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤などの添加剤を加えることもできる。
なお、本明細書では、化合物群を標記するのに、例えば、リン酸エステル系化合物のように、「系」を組み込んで記載することがあるが、これは、上記の場合、リン酸エステル化合物と同じ意味である。
本発明の偏光板保護フィルム中、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物とともに、特にセルロースアシレートフィルム中には、レターデーション調整剤（レターデーション発現剤およびレターデーション低減剤）や、可塑剤として、重縮合エステル化合物（ポリマー）、多価アルコールの多価エステル、フタル酸エステル、リン酸エステル、糖エステルなど、さらには、紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤などの添加剤を加えることもできる。
なお、本明細書では、化合物群を標記するのに、例えば、リン酸エステル系化合物のように、「系」を組み込んで記載することがあるが、これは、上記の場合、リン酸エステル化合物と同じ意味である。
レターデーション低減剤、レターデーション発現剤、可塑剤、多価アルコールエステル系や重縮合エステル系を含めた疎水化剤、炭水化合物誘導体系可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、マット剤は、特開２０１３－２８７８２号公報の段落番号００６１～０１２６に記載の化合物や素材が好ましく、その含有量も含めた記載内容全てが、本明細書の一部として好ましく取り込まれる。
（ラジカル捕捉剤）
偏光板保護フィルムには、ラジカル捕捉剤を含むことが好ましい。ラジカル捕捉剤として、ＨＡＬＳ類、レダクトン類が好ましく用いられる。
ＨＡＬＳ類は、特に、２，２，６，６－テトラメチル－ピペリジン環を有する化合物が好ましく、ピペリジンの１位が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、オキシラジカル基（－Ｏ・）、アシルオキシ基、アシル基であるものが好ましく、４位は水素原子、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であるものがより好ましい。また分子中に２～５個の２，２，６，６－テトラメチル－ピペリジン環を有するものも好ましい。
このような化合物としては、例えば、Ｓｕｎｌｉｚｅｒ ＨＡ－６２２（商品名、株式会社ソート製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２０ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ、ＴＩＮＵＶＩＮ １５２、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＦＬＡＭＥＳＴＡＢ ＮＯＲ １１６ ＦＦ〔商品名、いずれもＢＡＳＦ社（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社）製〕、サイアソーブＵＶ－３３４６、サイアソーブＵＶ－３５２９（商品名、いずれもサンケミカル株式会社製）が挙げられる。
偏光板保護フィルムには、ラジカル捕捉剤を含むことが好ましい。ラジカル捕捉剤として、ＨＡＬＳ類、レダクトン類が好ましく用いられる。
ＨＡＬＳ類は、特に、２，２，６，６－テトラメチル－ピペリジン環を有する化合物が好ましく、ピペリジンの１位が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、オキシラジカル基（－Ｏ・）、アシルオキシ基、アシル基であるものが好ましく、４位は水素原子、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であるものがより好ましい。また分子中に２～５個の２，２，６，６－テトラメチル－ピペリジン環を有するものも好ましい。
このような化合物としては、例えば、Ｓｕｎｌｉｚｅｒ ＨＡ－６２２（商品名、株式会社ソート製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２０ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ、ＴＩＮＵＶＩＮ １５２、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＦＬＡＭＥＳＴＡＢ ＮＯＲ １１６ ＦＦ〔商品名、いずれもＢＡＳＦ社（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社）製〕、サイアソーブＵＶ－３３４６、サイアソーブＵＶ－３５２９（商品名、いずれもサンケミカル株式会社製）が挙げられる。
レダクトン類としては、特開平６－２７５９９号公報の段落番号００１４～００３４に例示の化合物、特開平６－１１０１６３号公報の段落番号００１２～００２０に例示の化合物、特開平８－１１４８９９号公報の段落番号００２２～００３１に例示の化合物を挙げることができる。
また、アスコルビン酸、エリソルビン酸の油溶化誘導体は好ましく用いることができ、ステアリン酸Ｌ－アスコルビルエステル、テトライソパルミチン酸Ｌ－アスコルビルエステル、パルミチン酸Ｌ－アスコルビルエステル、パルミチン酸エリソルビルエステル、テトライソパルミチン酸エリソルビルエステルなどが挙げられる。なかでも、アスコルビン酸骨格を有するものが好ましく、Ｌ－アスコルビン酸のミリスチン酸エステル、パルミチン酸エステル、ステアリン酸エステルが特に好ましい。
偏光板保護フィルム中のラジカル捕捉剤の含有量は、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．００１～２．０質量部であり、さらに好ましくは、０．０１～１．０質量部である。
また、アスコルビン酸、エリソルビン酸の油溶化誘導体は好ましく用いることができ、ステアリン酸Ｌ－アスコルビルエステル、テトライソパルミチン酸Ｌ－アスコルビルエステル、パルミチン酸Ｌ－アスコルビルエステル、パルミチン酸エリソルビルエステル、テトライソパルミチン酸エリソルビルエステルなどが挙げられる。なかでも、アスコルビン酸骨格を有するものが好ましく、Ｌ－アスコルビン酸のミリスチン酸エステル、パルミチン酸エステル、ステアリン酸エステルが特に好ましい。
偏光板保護フィルム中のラジカル捕捉剤の含有量は、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．００１～２．０質量部であり、さらに好ましくは、０．０１～１．０質量部である。
（劣化防止剤）
偏光板保護フィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。また、紫外線吸収剤も劣化防止剤の１つである。これらの劣化防止剤などは、特開昭６０－２３５８５２号、特開平３－１９９２０１号、同５－１９０７０７３号、同５－１９４７８９号、同５－２７１４７１号、同６－１０７８５４号、同６－１１８２３３号、同６－１４８４３０号、同７－１１０５６号、同７－１１０５５号、同７－１１０５６号、同８－２９６１９号、同８－２３９５０９号、特開２０００－２０４１７３号、特開２００６－２５１７４６号の各公報に記載がある。
偏光板保護フィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。また、紫外線吸収剤も劣化防止剤の１つである。これらの劣化防止剤などは、特開昭６０－２３５８５２号、特開平３－１９９２０１号、同５－１９０７０７３号、同５－１９４７８９号、同５－２７１４７１号、同６－１０７８５４号、同６－１１８２３３号、同６－１４８４３０号、同７－１１０５６号、同７－１１０５５号、同７－１１０５６号、同８－２９６１９号、同８－２３９５０９号、特開２０００－２０４１７３号、特開２００６－２５１７４６号の各公報に記載がある。
上記のラジカル補足剤も劣化防止作用を示すが、アミン類も劣化防止剤として知られており、例えば特開平５－１９４７８９号公報の段落番号０００９～００８０に記載の化合物や、トリ－ｎ－オクチルアミン、トリイソオクチルアミン、トリス（２－エチルヘキシル）アミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルドデシルアミンなどの脂肪族アミンが挙げられる。
また、２個以上のアミノ基を有する多価アミン類を用いることも好ましく、多価アミンとしては、第一級または第二級のアミノ基を２個以上有しているものが好ましい。２個以上のアミノ基を有する化合物としては、含窒素ヘテロ環化合物（ピラゾリジン環、ピペラジン環などを有する化合物）、ポリアミン系化合物（鎖状もしくは環状のポリアミンで、例えば、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（アミノエチル）－１，３－プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”－ペンタキス（２－ヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、ポリエチレンイミン、変性ポリエチレンイミン、シクラムを基本骨格して含む化合物）等が挙げられる。
偏光板保護フィルム中の劣化防止剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ～１０％が好ましく、１ｐｐｍ～５．０％がより好ましく、１０ｐｐｍ～１．０％がさらに好ましい。
また、２個以上のアミノ基を有する多価アミン類を用いることも好ましく、多価アミンとしては、第一級または第二級のアミノ基を２個以上有しているものが好ましい。２個以上のアミノ基を有する化合物としては、含窒素ヘテロ環化合物（ピラゾリジン環、ピペラジン環などを有する化合物）、ポリアミン系化合物（鎖状もしくは環状のポリアミンで、例えば、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（アミノエチル）－１，３－プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”－ペンタキス（２－ヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、ポリエチレンイミン、変性ポリエチレンイミン、シクラムを基本骨格して含む化合物）等が挙げられる。
偏光板保護フィルム中の劣化防止剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ～１０％が好ましく、１ｐｐｍ～５．０％がより好ましく、１０ｐｐｍ～１．０％がさらに好ましい。
（剥離促進剤）
偏光板保護フィルムは任意の剥離促進剤を添加してもよい。
剥離促進剤は、有機酸、多価カルボン酸誘導体、界面活性剤またはキレート剤であることが好ましい。例えば、特開２００６－４５４９７号公報の段落番号００４８～００８１に記載の化合物、特開２００２－３２２２９４号公報の段落番号００７７～００８６に記載の化合物、特開２０１２－７２３４８号公報の段落番号００３０～００５６に記載の化合物等を、好ましく用いることができる。偏光板保護フィルム中の剥離促進剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ～５．０％が好ましく、１ｐｐｍ～２．０％がより好ましい。
偏光板保護フィルムは任意の剥離促進剤を添加してもよい。
剥離促進剤は、有機酸、多価カルボン酸誘導体、界面活性剤またはキレート剤であることが好ましい。例えば、特開２００６－４５４９７号公報の段落番号００４８～００８１に記載の化合物、特開２００２－３２２２９４号公報の段落番号００７７～００８６に記載の化合物、特開２０１２－７２３４８号公報の段落番号００３０～００５６に記載の化合物等を、好ましく用いることができる。偏光板保護フィルム中の剥離促進剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ～５．０％が好ましく、１ｐｐｍ～２．０％がより好ましい。
（マット剤）
本発明の偏光板保護フィルムでは、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。見かけ比重は９０～２００ｇ／リットルがより好ましく、１００～２００ｇ／リットルがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムでは、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。見かけ比重は９０～２００ｇ／リットルがより好ましく、１００～２００ｇ／リットルがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
（バルビツール酸系添加剤）
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ａ）で表される化合物を用いることが好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。なお、下記一般式（Ａ）で表される化合物は、多くの機能を発現することが可能で、例えば、偏光板の光もしくは熱、湿熱に対する耐久性の改良や偏光板保護フィルムの硬度の向上などに有効である。
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ａ）で表される化合物を用いることが好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。なお、下記一般式（Ａ）で表される化合物は、多くの機能を発現することが可能で、例えば、偏光板の光もしくは熱、湿熱に対する耐久性の改良や偏光板保護フィルムの硬度の向上などに有効である。
一般式（Ａ）において、ＲＡ１およびＲＡ３は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基を表す。ここで、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基および芳香族基は置換基を有してもよい。ＲＡ５は、水素原子または置換基を表す。
一般式（Ａ）で表される化合物は、環構造中の水素原子が、隣接する環構造中のカルボニルとエノール化や、ＲＡ１、ＲＡ３が水素原子の場合にイミド酸化した構造の互変異性体もしくはその塩を含む。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５におけるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５がさらに好ましく、１～３が特に好ましく、なかでもメチル基またはエチル基が好ましい。ただし、環構造を有する基が置換したアルキル基の場合、その炭素数は、７～２０が好ましく、７～１２がより好ましく、７～１０がさらに好ましい。環構造を有するアルキル基における環構造は、芳香族環（芳香族複素環を含む）であっても脂肪族環であってもよいが、芳香族炭化水素環または脂肪族環であることが好ましい。環構造を有するアルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基が挙げられ、ベンジル基が特に好ましい。
ＲＡ１およびＲＡ３におけるシクロアルキル基の炭素数は、３～２０が好ましく、３～１０がより好ましく、４～８がさらに好ましく、５または６が特に好ましい。シクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシルが挙げられ、シクロヘキシルが特に好ましい。
ＲＡ１およびＲＡ３におけるアルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～５がさらに好ましい。例えば、ビニル、アリルが挙げられる。
ＲＡ１およびＲＡ３における芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても芳香族複素環基であってもよいが、芳香族炭化水素基であることが好ましい。
芳香族炭化水素基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１６がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチルが好ましく、フェニルがより好ましい。
芳香族複素環基としては、５または６員環が好ましく、ベンゼン環やヘテロ環が縮環していてもよい。芳香族複素環基の複素環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、炭素数は０～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、３～１２がより好ましい。このようなヘテロ環としては、例えば、ピロール環、チオフェン環、フラン環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、インドール環が挙げられる。
芳香族炭化水素基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１６がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチルが好ましく、フェニルがより好ましい。
芳香族複素環基としては、５または６員環が好ましく、ベンゼン環やヘテロ環が縮環していてもよい。芳香族複素環基の複素環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、炭素数は０～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、３～１２がより好ましい。このようなヘテロ環としては、例えば、ピロール環、チオフェン環、フラン環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、インドール環が挙げられる。
ＲＡ５における置換基は、置換基Ｓが挙げられるが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シアノ基、水溶性基が好ましい。
ここで、水溶性基は、化合物の水への溶解性を高める基であり、アニオンまたはカチオンの基、もしくは解離してアニオン化できる基（例えば、ｐＫａが、１０以下が好ましい。）である。
このような基としては、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、オニオ基（好ましくは、アンモニオ基）、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基が挙げられる。
このうち、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、ヒドロキシ基、アミノ基が好ましい。
ここで、水溶性基は、化合物の水への溶解性を高める基であり、アニオンまたはカチオンの基、もしくは解離してアニオン化できる基（例えば、ｐＫａが、１０以下が好ましい。）である。
このような基としては、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、オニオ基（好ましくは、アンモニオ基）、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基が挙げられる。
このうち、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、ヒドロキシ基、アミノ基が好ましい。
なお、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基は塩の状態のものをも含む。
スルホ基の塩、カルボキシ基の塩に加え、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基もしくはその塩、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基の塩を形成する対イオンは、無機のイオンでも有機のイオンでも構わない。
例えば、無機イオンでは、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）が好ましく、有機イオンでは、有機カチオンのオニウムイオンが挙げられ、有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン）、含窒素ヘテロ芳香環のカチオン（例えば、ピロリジニウムイオン、ピリジニウムイオン）、ホスホニウムイオン（テトラメチルホスホニウムイオン）、スルホニウムイオン（例えば、トリメチルスルホニウムイオン）が含まれる。これらの対イオンの中でもアルカリ金属イオン、すなわちアルカリ金属塩が好ましい。
例えば、無機イオンでは、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）が好ましく、有機イオンでは、有機カチオンのオニウムイオンが挙げられ、有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン）、含窒素ヘテロ芳香環のカチオン（例えば、ピロリジニウムイオン、ピリジニウムイオン）、ホスホニウムイオン（テトラメチルホスホニウムイオン）、スルホニウムイオン（例えば、トリメチルスルホニウムイオン）が含まれる。これらの対イオンの中でもアルカリ金属イオン、すなわちアルカリ金属塩が好ましい。
このような対イオンは、一般式（Ａ）で表される化合物が互変異性体となり塩を形成した場合の対イオンも上記と同じ対イオンが好ましい。
一方、アミノ基の塩の場合、塩を形成する酸は、無機酸であっても有機酸であっても構わない。
無機酸の場合、塩酸、臭素酸、硫酸、リン酸、ホウ酸が挙げられ、有機酸としては、脂肪族もしくは芳香族のカルボン酸またはスルホン酸（例えば、ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ニコチン酸等）が挙げられる。
また、オニオ基の場合は、無機もしくは有機のアニオンであり、上記無機もしくは有機酸のアニオンが挙げられる。
無機酸の場合、塩酸、臭素酸、硫酸、リン酸、ホウ酸が挙げられ、有機酸としては、脂肪族もしくは芳香族のカルボン酸またはスルホン酸（例えば、ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ニコチン酸等）が挙げられる。
また、オニオ基の場合は、無機もしくは有機のアニオンであり、上記無機もしくは有機酸のアニオンが挙げられる。
ＲＡ５は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シアノ基、ヒドロキシ基が好ましい。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基である場合、これらが有してもよい置換基は、置換基Ｓが挙げられ、なかでも、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シリル基、水溶性基が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シリル基、水溶性基がより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、ヒドロキシ基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、ボロン酸基もしくはその塩、カルバモイル基、スルファモイル基、オニオ基（好ましくは、第四級アンモニオ基を含むアンモニオ基）がさらに好ましい。
一般式（Ａ）で表される化合物は、その使用の目的にもよるが、好ましい範囲は、以下の２種類に大別される。
第一の好ましい態様は、以下の置換基の組み合わせの化合物である。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基であって、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基および芳香族基は置換基を有してもよく、好ましい置換基として、置換基Ｓのうち、上記の水溶性基以外の置換基を有する化合物である。
上記の各基が有してもよい置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、シリル基、ハロゲン原子が好ましい。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基であって、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基および芳香族基は置換基を有してもよく、好ましい置換基として、置換基Ｓのうち、上記の水溶性基以外の置換基を有する化合物である。
上記の各基が有してもよい置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、シリル基、ハロゲン原子が好ましい。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれかが環構造を有する基が好ましく、環構造の数は１～６が好ましく、２～６がより好ましく、２～５がさらに好ましく、３～５が特に好ましい。
このような環としては、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環が好ましく、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環がより好ましく、シクロヘキサン環、ベンゼン環がさらに好ましい。
このような環としては、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環が好ましく、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環がより好ましく、シクロヘキサン環、ベンゼン環がさらに好ましい。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、環状の基である場合、シクロアルキル基、アリール基が好ましく、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、環構造を有する基の場合、置換基として、置換基Ｓで挙げた基のうち、シクロアルキル部分またはアリール部分を有する基が挙げられ、シクロアルキル基、アリール基を置換基として有する基が好ましく、特に、シクロアルキル置換アルキル基、アラルキル基が好ましく、ベンジル基が最も好ましい。
環状の基または環構造を有する基としては、なかでも、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基が好ましい。
環状の基または環構造を有する基としては、なかでも、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基が好ましい。
第一の態様の化合物の分子量は、２５０～１２００が好ましく、３００～８００がより好ましく、３５０～６００が特に好ましい。
置換基の組み合わせ、分子量をこのような好ましい範囲にすることで、本発明における一般式（Ａ）で表される化合物の偏光板保護フィルムからの揮散抑制に優れ、透明性の高いフィルムを得ることができる。
置換基の組み合わせ、分子量をこのような好ましい範囲にすることで、本発明における一般式（Ａ）で表される化合物の偏光板保護フィルムからの揮散抑制に優れ、透明性の高いフィルムを得ることができる。
第二の好ましい態様は、以下の置換基の組み合わせの化合物である。
この態様は、極性効果を利用するものであり、拡散性も考慮するものである。
ＲＡ１およびＲＡ３が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基であり、ＲＡ５が水素原子または置換基であり、１）ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれかが水溶性基もしくは水溶性基を含む基である化合物、２）分子量が１２８以上２５０未満である化合物、または／および、３）ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれか１つまたは２つが水素原子である化合物である。
この態様は、極性効果を利用するものであり、拡散性も考慮するものである。
ＲＡ１およびＲＡ３が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基であり、ＲＡ５が水素原子または置換基であり、１）ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれかが水溶性基もしくは水溶性基を含む基である化合物、２）分子量が１２８以上２５０未満である化合物、または／および、３）ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれか１つまたは２つが水素原子である化合物である。
第二の態様の化合物の分子量は、１２８～１２００が好ましく、１５０～８００がより好ましい。
以下に、一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。
一般式（Ａ）で表される化合物は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。窒素原子上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’二置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤とを組合せて加熱することにより得られ、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，第６１巻，１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５４巻，２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４０巻，８０２９頁（１９９９年）、国際公開第２００７／１５００１１号パンフレットなどに記載の方法を好ましく用いることができる。
また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、Ｒ５に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成してもよい。
また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、Ｒ５に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成してもよい。
５位の修飾の方法としては、ハロゲン化アルキルなどとの求核置換反応やマイケル付加反応のような付加反応を用いることができる。また、アルデヒドやケトンと脱水縮合させてアルキリデンまたはアリーリデン化合物を生成させ、その後二重結合を還元する方法も好ましく用いることができる。例えば亜鉛による還元方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４４巻，２２０３頁（２００３年）に、接触還元による還元方法がＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４２巻，４１０３頁（２００１年）やＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，第１１９巻，１２８４９頁（１９９７年）に、ＮａＢＨ４による還元方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第２８巻，４１７３頁（１９８７年）などにそれぞれ記載されている。これらは何れも、５位にアラルキル基を有する場合やシクロアルキル基を有する場合に好ましく用いることができる合成方法である。
なお、一般式（Ａ）で表される化合物の合成法は上記に限定されるものではない。
なお、一般式（Ａ）で表される化合物の合成法は上記に限定されるものではない。
一般式（Ａ）で表される化合物の偏光板保護フィルム中の含有量は特に限定されないが、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．１～２０質量部であることが好ましく、０．２～１５質量部であることがより好ましく、０．３～１０質量部であることが特に好ましい。
一般式（Ａ）で表される化合物の添加量を上記の範囲とすることで、透湿度を効果的に下げることが可能となり、またヘイズの発生が抑えられる。
一般式（Ａ）で表される化合物の添加量を上記の範囲とすることで、透湿度を効果的に下げることが可能となり、またヘイズの発生が抑えられる。
（アミド、ウレタン、ウレイド系添加剤）
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ｂ－Ｉ）で表される化合物または後述の一般式（Ｂ－ＩＩ）で表される化合物を用いることも好ましい。下記一般式（Ｂ－Ｉ）で表される化合物または後述の一般式（Ｂ－ＩＩ）で表される化合物はフィルムの硬度を高める効果や偏光子の湿熱経時における性能劣化を抑制する効果があり好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ｂ－Ｉ）で表される化合物または後述の一般式（Ｂ－ＩＩ）で表される化合物を用いることも好ましい。下記一般式（Ｂ－Ｉ）で表される化合物または後述の一般式（Ｂ－ＩＩ）で表される化合物はフィルムの硬度を高める効果や偏光子の湿熱経時における性能劣化を抑制する効果があり好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。
一般式（Ｂ－Ｉ）において、ＲＢ１およびＲＢ２は各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基または炭素数６～２０のアリール基を表す。ＺＢ１およびＺＢ２は各々独立に、単結合、－Ｏ－または－Ｎ（ＲＢａ）－を表す。ここで、ＲＢａは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。ＲＢａとＲＢ１またはＲＢ２が、互いに結合して環を形成してもよい。ＸＢ１は、２価の連結基を表し、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数５～２０のシクロアルキレン基、炭素数６～２０のアリーレン基、ｓ－トリアジン－２，４，６－トリオン－１，３－ジイル、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）－またはこれらの基を組み合わせた基が好ましい。ＹＢ１およびＹＢ２は各々独立に、－ＮＨ－または－Ｏ－を表す。
ＲＢ１およびＲＢ２におけるアルキル基、アリール基は、一般式（Ａ）におけるＲＡ１、ＲＡ３、ＲＡ５におけるアルキル基、アリール基が好ましい。
ＲＢ１、ＲＢ２、ＸＢ１、ＲＢａの各基は、さらに置換基を有してもよく、このような置換基としては、一般式（Ａ）におけるＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５の各基がさらに置換基で置換してもよい置換基群に加え、カルバモイルオキシ基（アルキルカルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基を含み、好ましくは炭素数２～２０で、例えば、Ｎ－メチルカルバモイルオキシ、Ｎ、Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ等）、カルバモイルアミノ基（アルキルカルバモイルアミノ基、アリールカルバモイルアミノ基を含み、好ましくは炭素数２～２０で、例えば、Ｎ－メチルカルバモイルアミノ、Ｎ、Ｎ－ジメチルカルバモイルアミノ、Ｎ－フェニルカルバモイルアミノ、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイルアミノ等）、アルコキシカルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、２－エチルヘキシルオキシカルボニルアミノ等）、アリールオキカルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等）、－ＹＢ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＺＢ１－ＲＢ１（ＲＢ１、ＺＢ１およびＹＢ１は、一般式（Ｂ－Ｉ）におけるＲＢ１、ＺＢ１およびＹＢ１と同義である。）が挙げられる。
ＲＢ１、ＲＢ２、ＸＢ１、ＲＢａの各基は、さらに置換基を有してもよく、このような置換基としては、一般式（Ａ）におけるＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５の各基がさらに置換基で置換してもよい置換基群に加え、カルバモイルオキシ基（アルキルカルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基を含み、好ましくは炭素数２～２０で、例えば、Ｎ－メチルカルバモイルオキシ、Ｎ、Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ等）、カルバモイルアミノ基（アルキルカルバモイルアミノ基、アリールカルバモイルアミノ基を含み、好ましくは炭素数２～２０で、例えば、Ｎ－メチルカルバモイルアミノ、Ｎ、Ｎ－ジメチルカルバモイルアミノ、Ｎ－フェニルカルバモイルアミノ、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイルアミノ等）、アルコキシカルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、２－エチルヘキシルオキシカルボニルアミノ等）、アリールオキカルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等）、－ＹＢ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＺＢ１－ＲＢ１（ＲＢ１、ＺＢ１およびＹＢ１は、一般式（Ｂ－Ｉ）におけるＲＢ１、ＺＢ１およびＹＢ１と同義である。）が挙げられる。
ＲＢ１、ＲＢ２、ＸＢ１、ＲＢａの各基が置換してもよい置換基としては、なかでも、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、アルコキシカルカルボニルアミノ基、アリールオキカルカルボニルアミノ基、－ＹＢ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＺＢ１－ＲＢ１が好ましい。
特に、ＲＢ２がアルキル基の場合、カルバモイル基、アシルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、アルコキシカルカルボニルアミノ基、アリールオキカルカルボニルアミノ基が置換したアルキル基が好ましい。
ＸＢ１は、下記Ｘ－１～Ｘ－８で表される基が好ましい。
なお、式中、＊は－ＹＢ１－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＹＢ２－Ｃ（＝Ｏ）－中のＹＢ１、ＹＢ２と結合する位置を示す。また、＊＊は、ＸＢ１が有してもよい置換基である－ＹＢ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＺＢ１－ＲＢ１と結合する位置を示す。
なお、式中、＊は－ＹＢ１－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＹＢ２－Ｃ（＝Ｏ）－中のＹＢ１、ＹＢ２と結合する位置を示す。また、＊＊は、ＸＢ１が有してもよい置換基である－ＹＢ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＺＢ１－ＲＢ１と結合する位置を示す。
ＲＢａは水素原子または炭素数１～８のアルキル基が好ましく、水素原子、炭素数１～３のアルキル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
ＲＢａとＲＢ１またはＲＢ２が、互いに結合して環を形成する環は、５または６員環が好ましく、例えば、ピロリジン環、ピぺリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環が挙げられる。
ＹＢ１、ＹＢ２は－ＮＨ－が好ましい。
ＺＢ１およびＺＢ２は－Ｏ－が好ましい。
ＺＢ１およびＺＢ２は－Ｏ－が好ましい。
以下に、一般式（Ｂ－Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。
一般式（Ｂ－Ｉ）で表される化合物は既知の方法により製造することができる。
例えば、アルキルまたはアリールイソシアネートへのアルコールの付加反応、あるいはアミンとカーボネートの縮合反応などにより得ることができる。
アルキルまたはアリールイソシアネートへのアルコールの付加反応の際、触媒を用いることも好ましく、触媒として、アミン類、亜鉛、スズなどの金属有機酸塩もしくは金属キレート化合物、亜鉛、スズ、ビスマスなどの有機金属化合物などの任意のウレタン化触媒を使用できる。ウレタン化触媒としては、例えば、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテートなどが好ましく用いられる。
例えば、アルキルまたはアリールイソシアネートへのアルコールの付加反応、あるいはアミンとカーボネートの縮合反応などにより得ることができる。
アルキルまたはアリールイソシアネートへのアルコールの付加反応の際、触媒を用いることも好ましく、触媒として、アミン類、亜鉛、スズなどの金属有機酸塩もしくは金属キレート化合物、亜鉛、スズ、ビスマスなどの有機金属化合物などの任意のウレタン化触媒を使用できる。ウレタン化触媒としては、例えば、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテートなどが好ましく用いられる。
また、２価のアルコールや２価のアミン化合物のアシル化などでも合成できる。
本発明では、前述の一般式（Ｂ－Ｉ）で表される化合物以外に、下記一般式（Ｂ－ＩＩ）で表される化合物も好ましい。
一般式（Ｂ－ＩＩ）において、Ｒ１Ｂ～Ｒ７ＢおよびＲ９Ｂ～Ｒ１１Ｂは各々独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ８Ｂは、水素原子または非共役置換基を表し、Ｘ１ＢおよびＸ２Ｂは各々独立に、単結合または脂肪族連結基を表し、Ｌ１Ｂは、単結合、－Ｎ（Ｒ１２Ｂ）－または－Ｃ（Ｒ１３Ｂ）（Ｒ１４Ｂ）－を表す。ここで、Ｒ１２Ｂ～Ｒ１４Ｂは、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
一般式（Ｂ－ＩＩ）で表される化合物は、特開２０１３－１２７０５８号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物であり、上記のＲ１Ｂ～Ｒ１４Ｂ、Ｘ１Ｂ、Ｘ２Ｂ、Ｌ１Ｂを、対応するＲ１～Ｒ１４、Ｘ１、Ｘ２、Ｌに読み替えることができる。この読み替えを行った上で、特開２０１３－１２７０５８号公報の段落番号００９４～０１１６を、本明細書に好ましく取り込むことができる。
特開２０１３－１２７０５８号公報と同じく、段落番号０１１２～０１１５に記載の例示化合物１～３１が本発明でも好ましい化合物である。
特開２０１３－１２７０５８号公報と同じく、段落番号０１１２～０１１５に記載の例示化合物１～３１が本発明でも好ましい化合物である。
一般式（Ｂ－Ｉ）または（Ｂ－ＩＩ）で表される化合物の偏光板保護フィルム中の含有量は特に限定されないが、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、２～２０質量部が好ましく、５～１５質量部がより好ましい。
（フタル酸エステルオリゴマー系添加剤）
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ｅ）で表される化合物を用いることも好ましい。下記一般式（Ｅ）で表される化合物は、フィルムの硬度を高める効果や偏光子の湿熱経時における性能劣化を抑制する効果があり好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ｅ）で表される化合物を用いることも好ましい。下記一般式（Ｅ）で表される化合物は、フィルムの硬度を高める効果や偏光子の湿熱経時における性能劣化を抑制する効果があり好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。
一般式（Ｅ）において、ＲＥ１およびＲＥ２は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアシル基を表す。ｎ２２は、２以上の数を表す。
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は一般式（Ａ）のＲＡ１、ＲＡ３におけるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基と同義であり、好まし範囲も同じである。
アシル基は、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を表し、アルキルカルボニル基は炭素数２～２０が好ましく、アルケニルカルボニル基は、炭素数３～２０が好ましく、シクロアルキルカルボニル基は炭素数４～２０が好ましく、アリールカルボニル基は炭素数７～２０が好ましく、ヘテロ環カルボニル基は、炭素数１～２０が好ましい。
これらの基は、例えば、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ミリストイル、アクリロイル、メタクリロイル、シクロプロピルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル、ナフトイル、ニコチノイル等が挙げらる。
アシル基は、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を表し、アルキルカルボニル基は炭素数２～２０が好ましく、アルケニルカルボニル基は、炭素数３～２０が好ましく、シクロアルキルカルボニル基は炭素数４～２０が好ましく、アリールカルボニル基は炭素数７～２０が好ましく、ヘテロ環カルボニル基は、炭素数１～２０が好ましい。
これらの基は、例えば、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ミリストイル、アクリロイル、メタクリロイル、シクロプロピルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル、ナフトイル、ニコチノイル等が挙げらる。
ＲＥ１およびＲＥ２はアシル基が好ましく、アルキルカルボニル基がより好ましい。
ｎ２２は２以上の数を表すが、２～１５の数が好ましく、２～１０がより好ましく、３～１０の数がより好ましく、３～８の数がさらに好ましい。なお、ｎ２２が異なる整数の化合物からなる混合物を表す場合、ｎ２２は通常整数でなく、小数点の数となる。
以下に、一般式（Ｅ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。
以下に、一般式（Ｅ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。
一般式（Ｅ）で表される化合物の偏光板保護フィルム中の含有量は特に限定されないが、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、２～２０質量部が好ましく、５～１５質量部がより好ましい。
＜偏光板保護フィルムの製造方法＞
本発明の偏光板保護フィルムは、溶液流延製膜方法により製造することができる。
以下、偏光板保護フィルムの製造方法について、主成分の樹脂としてセルロースアシレートを用いた態様を例に挙げて説明するが、その他の樹脂を用いた場合も同様に偏光板保護フィルムを製造することができる。
本発明の偏光板保護フィルムは、溶液流延製膜方法により製造することができる。
以下、偏光板保護フィルムの製造方法について、主成分の樹脂としてセルロースアシレートを用いた態様を例に挙げて説明するが、その他の樹脂を用いた場合も同様に偏光板保護フィルムを製造することができる。
溶液流延製膜方法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
有機溶媒は、炭素数が３～１２のエーテル、炭素数が３～１２のケトン、炭素数が３～１２のエステルおよび炭素数が１～６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
これらのエーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。また、エーテル、ケトンおよびエステルが有する官能基（すなわち、－Ｏ－、－ＣＯ－および－ＣＯＯ－）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、炭素数は１～１２が好ましく、３～１２がより好ましい。
これらのエーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。また、エーテル、ケトンおよびエステルが有する官能基（すなわち、－Ｏ－、－ＣＯ－および－ＣＯＯ－）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、炭素数は１～１２が好ましく、３～１２がより好ましい。
セルロースアシレート溶液中におけるセルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０～４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０～３０質量％がさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液流延製膜方法における乾燥方法については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号および同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号および同７３６８９２号の各明細書、ならびに特公昭４５－４５５４号、同４９－５６１４号、特開昭６０－１７６８３４号、同６０－２０３４３０号および同６２－１１５０３５号の各公報に記載がある。バンドまたはドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、溶液流延製膜方法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成することが好ましい。流延前のドープは、固形分量が１０～４０質量％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
２層以上の複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能であり、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。これらは、例えば、特開昭６１－１５８４１４号、特開平１－１２２４１９号、および特開平１１－１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによっても、フィルム化することもできる。これは、例えば、特公昭６０－２７５６２号、特開昭６１－９４７２４号、特開昭６１－９４７２４５号、特開昭６１－１０４８１３号、特開昭６１－１５８４１３号、および、特開平６－１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６－１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。
また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４－２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を２種以上用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明におけるセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。
（添加剤の添加）
偏光板保護フィルムの樹脂原料の一例であるセルロースアシレート溶液に対し、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物等の添加剤を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時にセルロースアシレートと混合してもよい。
偏光板保護フィルムの樹脂原料の一例であるセルロースアシレート溶液に対し、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物等の添加剤を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時にセルロースアシレートと混合してもよい。
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明における偏光板保護フィルムの製造に用いる巻き取り機は、一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
（延伸処理）
本発明の偏光板保護フィルムには、延伸処理を行うこともできる。延伸処理により偏光板保護フィルムに所望のレターデーションを付与することが可能である。セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましい。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２－１１５０３５号、特開平４－１５２１２５号、同４－２８４２１１号、同４－２９８３１０号、同１１－４８２７１号などの各公報に記載されている。
本発明の偏光板保護フィルムには、延伸処理を行うこともできる。延伸処理により偏光板保護フィルムに所望のレターデーションを付与することが可能である。セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましい。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２－１１５０３５号、特開平４－１５２１２５号、同４－２８４２１１号、同４－２９８３１０号、同１１－４８２７１号などの各公報に記載されている。
フィルムの延伸は、加熱条件下で実施する。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
（鹸化処理）
偏光板保護フィルムやその積層体はアルカリ鹸化処理することによりＰＶＡのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板保護フィルムとして用いることができる。
鹸化の方法については、特開２００７－８６７４８号公報の段落番号０２１１および段落番号０２１２に記載されている方法を用いることができる。
偏光板保護フィルムやその積層体はアルカリ鹸化処理することによりＰＶＡのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板保護フィルムとして用いることができる。
鹸化の方法については、特開２００７－８６７４８号公報の段落番号０２１１および段落番号０２１２に記載されている方法を用いることができる。
例えば、偏光板保護フィルムやその積層体に対するアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの濃度は０．１～５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましく、０．５～４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲がさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温～９０℃の範囲が好ましく、４０～７０℃の範囲がさらに好ましい。
アルカリ鹸化処理の代わりに、特開平６－９４９１５号公報、特開平６－１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
［偏光板保護フィルムの膜厚］
本発明の偏光板保護フィルムである樹脂フィルムの膜厚は、１μｍ以上４０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上３０μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上２５μｍ以下がさらに好ましい。
偏光板保護フィルムの膜厚を１μｍ以上４０μｍ以下にすることで、フィルム製造および偏光板作製時における搬送工程で、フィルムや偏光板を安定に搬送させることが可能となる。
しかも、本発明では、上記のように膜厚が薄い場合に、効果的に本願発明の効果を奏することが可能となる。
本発明の偏光板保護フィルムである樹脂フィルムの膜厚は、１μｍ以上４０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上３０μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上２５μｍ以下がさらに好ましい。
偏光板保護フィルムの膜厚を１μｍ以上４０μｍ以下にすることで、フィルム製造および偏光板作製時における搬送工程で、フィルムや偏光板を安定に搬送させることが可能となる。
しかも、本発明では、上記のように膜厚が薄い場合に、効果的に本願発明の効果を奏することが可能となる。
＜＜機能性層＞＞
本発明の偏光板保護フィルムにおいて、偏光板保護フィルム上に所望により目的に応じた機能性層を設けることができる。
機能性層としては、ハードコート層、反射防止層、光散乱層、防汚層、帯電防止層、接着層、染料層、アンチハレーション層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、反射防止層、滑り層、紫外線吸収層、偏光層等が挙げられ、これらは一層で複数の機能を兼ねていていてもよい。
本発明の偏光板保護フィルムにおいて、偏光板保護フィルム上に所望により目的に応じた機能性層を設けることができる。
機能性層としては、ハードコート層、反射防止層、光散乱層、防汚層、帯電防止層、接着層、染料層、アンチハレーション層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、反射防止層、滑り層、紫外線吸収層、偏光層等が挙げられ、これらは一層で複数の機能を兼ねていていてもよい。
一例として、ハードコート層は、偏光板保護フィルムに硬度や耐傷性を付与するための層である。例えば、塗布組成物を偏光板保護フィルム上に塗布し、硬化させることによって、一般式（Ｉ）で表される化合物と相俟って偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムと密着性の高いハードコート層を形成することができる。ハードコート層にフィラーや添加剤を加えることで、機械的、電気的、光学的などの物理的な性能や撥水・撥油性などの化学的な性能をハードコート層自体に付与することもできる。ハードコート層の厚みは０．１～６μｍが好ましく、３～６μｍがさらに好ましい。このような範囲の薄いハードコート層を有することで、脆性やカール抑制などの物性改善、軽量化および製造コスト低減がなされたハードコート層を含む偏光板保護フィルムになる。
ハードコート層は、硬化性組成物を硬化することで形成するのが好ましい。硬化性組成物は液状の塗布組成物として調製されるのが好ましい。塗布組成物の一例は、マトリックス形成バインダー用モノマーまたはオリゴマー、ポリマー類および有機溶媒を含有する。この塗布組成物を塗布後に硬化することでハードコート層を形成することができる。硬化には、架橋反応、または重合反応を利用することができる
＜偏光板保護フィルムの特性＞
偏光板保護フィルムは、透湿度が低く、ヌープ硬度、鉛筆硬度などの硬度が高く、紫外線透過率、ヘイズが低いことが必要となる。
偏光板保護フィルムは、透湿度が低く、ヌープ硬度、鉛筆硬度などの硬度が高く、紫外線透過率、ヘイズが低いことが必要となる。
（透湿度）
本発明の偏光板保護フィルムは、４０℃、相対湿度９０％、２４時間経時における、透湿度が１０５０ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、９９０ｇ／ｍ２以下がより好ましい。透湿度を上記範囲にすることにより、本発明の偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板の高温高湿環境下における偏光性能劣化を小さくすることができる。
本明細書中における透湿度の値は、ＪＩＳ Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、試料面積１ｍ２あたりの値に換算した値である。
本明細書中における透湿度の値は、ＪＩＳ Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、試料面積１ｍ２あたりの値に換算した値である。
本発明の偏光板保護フィルムは、４０℃、相対湿度９０％、２４時間経時における、透湿度が１０５０ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、９９０ｇ／ｍ２以下がより好ましい。透湿度を上記範囲にすることにより、本発明の偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板の高温高湿環境下における偏光性能劣化を小さくすることができる。
本明細書中における透湿度の値は、ＪＩＳ Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、試料面積１ｍ２あたりの値に換算した値である。
本明細書中における透湿度の値は、ＪＩＳ Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、試料面積１ｍ２あたりの値に換算した値である。
（硬度）
（１）ヌープ硬度
本発明の偏光板保護フィルムは、押し込み荷重５０ｍＮでヌープ圧子を用いて測定した表面硬度は、１８５Ｎ／ｍｍ２以上が好ましい。より好ましくは、ＪＩＳ Ｚ ２２５１の方法に準じて押し込み荷重５０ｍＮで、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を回転させて測定されるヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ２以上である。表面硬度（ヌープ硬度）は、ナノインデンテーション法により測定される。なお、ＪＩＳ Ｚ ２２５１はＩＳＯ４５４５を基に作成した日本工業規格である。例えば、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を１０°ずつ回転させて測定される合計１８方位のヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ２以上である。偏光板保護フィルムの表面硬度は２２０Ｎ／ｍｍ２以上が好ましく、２３０Ｎ／ｍｍ２以上がより好ましい。
偏光板保護フィルムの表面硬度は、添加剤の種類および添加量、樹脂の重合度、ドープ溶媒組成、およびフィルムの延伸処理等により調整することができる。
（１）ヌープ硬度
本発明の偏光板保護フィルムは、押し込み荷重５０ｍＮでヌープ圧子を用いて測定した表面硬度は、１８５Ｎ／ｍｍ２以上が好ましい。より好ましくは、ＪＩＳ Ｚ ２２５１の方法に準じて押し込み荷重５０ｍＮで、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を回転させて測定されるヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ２以上である。表面硬度（ヌープ硬度）は、ナノインデンテーション法により測定される。なお、ＪＩＳ Ｚ ２２５１はＩＳＯ４５４５を基に作成した日本工業規格である。例えば、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を１０°ずつ回転させて測定される合計１８方位のヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ２以上である。偏光板保護フィルムの表面硬度は２２０Ｎ／ｍｍ２以上が好ましく、２３０Ｎ／ｍｍ２以上がより好ましい。
偏光板保護フィルムの表面硬度は、添加剤の種類および添加量、樹脂の重合度、ドープ溶媒組成、およびフィルムの延伸処理等により調整することができる。
（２）鉛筆硬度
本発明の偏光板保護フィルムは、鉛筆硬度も高いことが好ましい。
鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価に基づいて行われるものである。具体的には、偏光板保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重での評価を２０回繰り返して評価する。
実用的には、３Ｈ以上の結果が必要となる。
本発明の偏光板保護フィルムは、鉛筆硬度も高いことが好ましい。
鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価に基づいて行われるものである。具体的には、偏光板保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重での評価を２０回繰り返して評価する。
実用的には、３Ｈ以上の結果が必要となる。
（紫外線透過率）
本発明の偏光板保護フィルムは、紫外線による偏光子や液晶セル内の駆動液晶の劣化を防止するため、紫外線を遮蔽する能力が高いことが好ましい。このため、波長２９０～３００ｎｍの領域の紫外線透過率は、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。波長２９０～３００ｎｍの領域の紫外線の透過率を１０％以下にすることで、波長２９０～３００ｎｍ付近に吸収極大を有するＩ３ －などの光励起を抑制することにより、光による偏光性能の劣化を効率的に抑制できる。
本発明の偏光板保護フィルムは、紫外線による偏光子や液晶セル内の駆動液晶の劣化を防止するため、紫外線を遮蔽する能力が高いことが好ましい。このため、波長２９０～３００ｎｍの領域の紫外線透過率は、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。波長２９０～３００ｎｍの領域の紫外線の透過率を１０％以下にすることで、波長２９０～３００ｎｍ付近に吸収極大を有するＩ３ －などの光励起を抑制することにより、光による偏光性能の劣化を効率的に抑制できる。
（ヘイズ）
本発明の偏光板保護フィルムのヘイズは０．０１～１．００％であることが好ましい。より好ましくは０．０５～０．８０％である。ヘイズが１．００％以下であると液晶表示装置のコントラストが高くなり好ましい。
ヘイズの測定は、ヘイズメーター、例えば、ヘイズメーター（ＨＧＭ－２ＤＰ、スガ試験機）を使用し、ＪＩＳ Ｋ－７１３６に従って測定して求めることができる。
測定する偏光板保護フィルムもしくはその積層体を４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさにして、２５℃、相対湿度６０％の条件で測定する。
本発明の偏光板保護フィルムのヘイズは０．０１～１．００％であることが好ましい。より好ましくは０．０５～０．８０％である。ヘイズが１．００％以下であると液晶表示装置のコントラストが高くなり好ましい。
ヘイズの測定は、ヘイズメーター、例えば、ヘイズメーター（ＨＧＭ－２ＤＰ、スガ試験機）を使用し、ＪＩＳ Ｋ－７１３６に従って測定して求めることができる。
測定する偏光板保護フィルムもしくはその積層体を４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさにして、２５℃、相対湿度６０％の条件で測定する。
＜＜偏光板＞＞
本発明の偏光板は、偏光子、および少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムを含む。
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光子の片側のみに少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムが配置されてなることが好ましい。一般的には、偏光子の両面を偏光板保護フィルムで挟み両面を保護した偏光板が広く用いられている。
なお、偏光子の両側に偏光板保護フィルムを有する場合、本発明の偏光板保護フィルムを有する面とは反対の面は、本発明の偏光板保護フィルムとは異なった偏光板保護フィルムであってもよく、任意の偏光板保護フィルムであってもよい。
例えば、本発明の偏光板保護フィルムとは異なった偏光板保護フィルムとしては、含有する添加剤もしくはその種類、含有量が異なるもの、特性の異なるもの、機能層の有無もしくは機能層の異なるものなどである。
本発明の偏光板は、偏光子、および少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムを含む。
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光子の片側のみに少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムが配置されてなることが好ましい。一般的には、偏光子の両面を偏光板保護フィルムで挟み両面を保護した偏光板が広く用いられている。
なお、偏光子の両側に偏光板保護フィルムを有する場合、本発明の偏光板保護フィルムを有する面とは反対の面は、本発明の偏光板保護フィルムとは異なった偏光板保護フィルムであってもよく、任意の偏光板保護フィルムであってもよい。
例えば、本発明の偏光板保護フィルムとは異なった偏光板保護フィルムとしては、含有する添加剤もしくはその種類、含有量が異なるもの、特性の異なるもの、機能層の有無もしくは機能層の異なるものなどである。
＜位相差フィルム＞
本発明の偏光板には、本発明の偏光板保護フィルムを有する面とは反対の面に、２５℃相対湿度６０％の環境下における波長５９０ｎｍの面内レターデーション（Ｒｅ５９０）が－５～５ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ５９０）が－３０～３０ｎｍである位相差フィルムを有することが好ましい。このような構成とすることで、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｃｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード用液晶表示装置に組み込んだ時に、より効果的に本発明の効果が発揮される。Ｒｅ５９０は０～３ｎｍの範囲が好ましく、０～２ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。また、Ｒｔｈ５９０は－２０～２０ｎｍの範囲が好ましく、－１０～１０ｎｍの範囲がさらに好ましい。
このような位相差フィルムとしては、特開２０１４－４１３７１号公報の段落番号００６６～００６８に記載のフィルム等が挙げられる。
また、他の駆動モードについても液晶セルの駆動モードやレターデーションが考慮された光学補償能を有する位相差フィルムを有してもよい。
本発明の偏光板には、本発明の偏光板保護フィルムを有する面とは反対の面に、２５℃相対湿度６０％の環境下における波長５９０ｎｍの面内レターデーション（Ｒｅ５９０）が－５～５ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ５９０）が－３０～３０ｎｍである位相差フィルムを有することが好ましい。このような構成とすることで、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｃｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード用液晶表示装置に組み込んだ時に、より効果的に本発明の効果が発揮される。Ｒｅ５９０は０～３ｎｍの範囲が好ましく、０～２ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。また、Ｒｔｈ５９０は－２０～２０ｎｍの範囲が好ましく、－１０～１０ｎｍの範囲がさらに好ましい。
このような位相差フィルムとしては、特開２０１４－４１３７１号公報の段落番号００６６～００６８に記載のフィルム等が挙げられる。
また、他の駆動モードについても液晶セルの駆動モードやレターデーションが考慮された光学補償能を有する位相差フィルムを有してもよい。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定する。このようにして測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、および式（β）よりＲｅおよびＲｔｈを算出することもできる。
なお、上記のＲｅ（θ）は、法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（β）
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して－５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定する。このようにして測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
なお、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な位相差フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚにより、Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ）がさらに算出される。
なお、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な位相差フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚにより、Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ）がさらに算出される。
Ｒｅ、Ｒｔｈの測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５９０ｎｍでの値である。
＜偏光子＞
偏光子は、少なくとも二色性色素と樹脂からなる。
偏光子は、少なくとも二色性色素と樹脂からなる。
（樹脂）
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましく用いられる。本発明における偏光子は、ポリビニルアルコール樹脂を主成分とするものであり、通常は、偏光子の８０質量％以上を占める。ポリビニルアルコールは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホ基、カルボキシ基、オキシアルキレン基等を含有する変性ポリビニルアルコール系樹脂も用いることができる。
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましく用いられる。本発明における偏光子は、ポリビニルアルコール樹脂を主成分とするものであり、通常は、偏光子の８０質量％以上を占める。ポリビニルアルコールは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホ基、カルボキシ基、オキシアルキレン基等を含有する変性ポリビニルアルコール系樹脂も用いることができる。
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０～１００ｍｏｌ％が好ましく、９０～１００ｍｏｌ％が特に好ましい。また、ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は特に限定されないが、１，０００～１０，０００が好ましく、１，５００～５，０００が特に好ましい。
延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの弾性率は、好ましくは、ヤング率で表すと０．１ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下で、さらに好ましくは１ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下である。
このような範囲とすることで、延伸後のシワ発生抑制効果に優れ、十分な強度を有するポリビニルアルコール系樹脂フィルムを製造することができる。
このような範囲とすることで、延伸後のシワ発生抑制効果に優れ、十分な強度を有するポリビニルアルコール系樹脂フィルムを製造することができる。
延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの厚みは、特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ～１ｍｍが好ましく、２０～２００μｍが特に好ましい。また、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの膜厚は２～１００μｍが好ましく、光モレ改良のためには７～２５μｍが好ましい。この厚さによって、偏光子のフィルムの厚さが定められる。
（二色性色素）
本発明の偏光子は、二色性色素を含む。ここで、二色性色素とは、方向により吸光度の異なる色素のことを言い、ヨウ素イオン、ジアゾ系色素、キノン系色素、その他任意の二色性染料などが含まれる。二色性色素としては、Ｉ３ －やＩ５ －などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。
本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編，ＣＭＣ出版や工業材料，第２８巻，第７号，ｐ．３９～ｐ．４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液および／またはホウ酸水溶液にポリビニルアルコールを浸漬し、ポリビニルアルコールに吸着・配向した状態で生成することができる。
本発明の偏光子は、二色性色素を含む。ここで、二色性色素とは、方向により吸光度の異なる色素のことを言い、ヨウ素イオン、ジアゾ系色素、キノン系色素、その他任意の二色性染料などが含まれる。二色性色素としては、Ｉ３ －やＩ５ －などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。
本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編，ＣＭＣ出版や工業材料，第２８巻，第７号，ｐ．３９～ｐ．４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液および／またはホウ酸水溶液にポリビニルアルコールを浸漬し、ポリビニルアルコールに吸着・配向した状態で生成することができる。
二色性色素の含有量としては、ポリビニルアルコール系樹脂に対して０．１～５０質量部が好ましく、０．５～２０質量部がより好ましく、１．０～５．０質量部がさらに好ましい。
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂、二色性色素の他に、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤を添加してもよい。
＜偏光子の製造方法＞
本発明の偏光子の製造方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム化した後、ヨウ素を導入して偏光子を構成することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの製造は、特開２００７－８６７４８号公報の段落番号０２１３～０２３７に記載の方法、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９－３２８５９３号公報、特開２００１－３０２８１７号公報、特開２００２－１４４４０１号公報等を参考にして行うことができる。
本発明の偏光子の製造方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム化した後、ヨウ素を導入して偏光子を構成することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの製造は、特開２００７－８６７４８号公報の段落番号０２１３～０２３７に記載の方法、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９－３２８５９３号公報、特開２００１－３０２８１７号公報、特開２００２－１４４４０１号公報等を参考にして行うことができる。
本発明では、特に、ポリビニルアルコール系樹脂を有するポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、二色性色素により延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程およびホウ酸により染色後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを架橋する工程を含むことが好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程では、水に対して攪拌しながらポリビニルアルコール系樹脂を添加し、ポリビニルアルコール系樹脂を水または有機溶媒に溶解した原液を調製することが好ましい。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、好ましくは５～２０質量％である。また、得られたスリラーを脱水し、含水率４０％程度のポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキを一度調製してもよい。さらにその後添加剤を加える場合は、例えば、ポリビニルアルコールのウェットケーキを溶解槽に入れ、可塑剤、水を加え、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。内部樹脂温度は５０～１５０℃に加温することが好ましく、系内を加圧してもよい。
本発明では、上記で調製したポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。流延の方法としては、特に制限はないが、加熱したポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を２軸押し出し機に供給し、ギアポンプにより排出手段（好ましくはダイ、より好ましくはＴ型スリットダイ）から支持体上に流涎して製膜することが好ましい。また、ダイからの排出される樹脂溶液の温度については特に制限はない。
支持体としては、キャストドラムが好ましく、ドラムの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２０００～５０００ｍｍが好ましく、２５００～４５００ｍｍがより好ましく、３０００～３５００ｍｍが特に好ましい。
キャストドラムの幅は２～６ｍが好ましく、３～５ｍがより好ましく、４～５ｍが特に好ましい。
キャストドラムの回転速度は２～２０ｍ／分が好ましく、４～１２ｍ／分がより好ましく、５～１０ｍ／分が特に好ましい。
キャストドラムのキャストドラム表面温度は４０～１４０℃が好ましく、６０～１２０℃がより好ましく、８０～１００℃であることが特に好ましい。
Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度は４０～１４０℃が好ましく、６０～１２０℃がより好ましく、８０～１００℃が特に好ましい。
キャストドラムの幅は２～６ｍが好ましく、３～５ｍがより好ましく、４～５ｍが特に好ましい。
キャストドラムの回転速度は２～２０ｍ／分が好ましく、４～１２ｍ／分がより好ましく、５～１０ｍ／分が特に好ましい。
キャストドラムのキャストドラム表面温度は４０～１４０℃が好ましく、６０～１２０℃がより好ましく、８０～１００℃であることが特に好ましい。
Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度は４０～１４０℃が好ましく、６０～１２０℃がより好ましく、８０～１００℃が特に好ましい。
その後、得られたロールの裏面と表面とを乾燥ロールに交互に通過させながら乾燥を行なうことが好ましい。乾燥ロールの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２００～４５０ｍｍが好ましく、２５０～４００ｍｍがより好ましく、３００～３５０ｍｍが特に好ましい。
また、得られたフィルムの長さについても特に制限はなく、２０００ｍ以上、好ましくは４０００ｍ以上の長尺のフィルムとすることができる。フィルムの幅についても、特に制限はないが、２～６ｍが好ましく、３～５ｍがより好ましい。
また、得られたフィルムの長さについても特に制限はなく、２０００ｍ以上、好ましくは４０００ｍ以上の長尺のフィルムとすることができる。フィルムの幅についても、特に制限はないが、２～６ｍが好ましく、３～５ｍがより好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜した後、フィルムを延伸する。延伸は、米国特許第２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２－８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍～１２倍であり、さらに好ましくは３倍～１０倍である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は特開２００２－０４０２５６号公報に記載されている（偏光板保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と偏光板保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開２００２－０４０２４７号公報に記載されている０．８０≦（偏光板保護フィルム貼合時の偏光子幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５としたりすることも好ましく行うことができる。
延伸後、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素により染色する。染色は、気相または液相吸着により行われる。液相で行う場合の例として、二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、ヨウ素－ヨウ化カリウム水溶液に偏光子用ポリマーフィルムを浸漬させて行われる。ヨウ素は０．１～２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは１～２００ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１～２００が好ましい。染色時間は１０～５０００秒が好ましく、液温度は５～６０℃が好ましい。染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。染色工程は、本発明の延伸工程の前後いずれに置いてもよいが、適度に膜が膨潤され延伸が容易になることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好ましい。
また、染色は、特開２００２－８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素または染料溶液の塗布もしくは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２－２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、および浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
なお、特許第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。
なお、特許第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。
その他の工程として、膨潤工程、硬膜工程、乾燥工程を行ってもよい。これらの工程は、特開２０１１－２３７５８０号公報の段落番号００３９～００５０に記載されており、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
＜形状・構成＞
本発明の偏光板の形状は、表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。
本発明の偏光板の形状は、表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。
本発明の偏光板は、偏光子および少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムで構成されているが、さらに偏光板の一方の面にプロテクトフィルム（本発明の偏光板保護フィルムではない）を、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成されることも好ましい。
プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
＜偏光子と偏光板保護フィルムの積層方法＞
本発明の偏光板の製造方法は、上記にて得られた偏光子の少なくとも一方の面に、少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムを積層する。
本発明の偏光板の製造方法では、偏光板保護フィルム面をアルカリ処理し、ＰＶＡフィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面、好ましくは両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法により作製することが好ましい。
偏光板保護フィルムの処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ＰＶＡ、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
本発明の偏光板の製造方法は、上記にて得られた偏光子の少なくとも一方の面に、少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムを積層する。
本発明の偏光板の製造方法では、偏光板保護フィルム面をアルカリ処理し、ＰＶＡフィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面、好ましくは両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法により作製することが好ましい。
偏光板保護フィルムの処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ＰＶＡ、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
本発明の偏光板保護フィルムを偏光子に貼り合せる際、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸が直交、平行または４５°となるように貼り合せることが好ましい。
ここで、平行および直交については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含む。例えば、平行、直交に関する厳密な角度から±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
ここで、平行および直交については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含む。例えば、平行、直交に関する厳密な角度から±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸についての平行とは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが±１０°の角度で交わっていることを意味する。この角度は、５°以内が好ましく、より好ましくは３°以内、さらに好ましくは１°以内、最も好ましくは０．５°以内である。
また、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸についての直交とは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが９０°±１０°の角度で交わっていることを意味する。この角度は、好ましくは９０°±５°、より好ましくは９０°±３°、更に好ましくは９０°±１°、最も好ましくは９０°±０．１°である。上述のような範囲であれば、偏光板クロスニコル下における偏光度性能の低下が抑制され、光抜けが低減され好ましい。
また、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸についての直交とは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが９０°±１０°の角度で交わっていることを意味する。この角度は、好ましくは９０°±５°、より好ましくは９０°±３°、更に好ましくは９０°±１°、最も好ましくは９０°±０．１°である。上述のような範囲であれば、偏光板クロスニコル下における偏光度性能の低下が抑制され、光抜けが低減され好ましい。
＜偏光板の機能化＞
本発明の偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する偏光板保護フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、前方散乱層、アンチグレア層については、特開２００７－８６７４８号公報の段落番号０２５７～０２７６に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作製することができる。
本発明の偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する偏光板保護フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、前方散乱層、アンチグレア層については、特開２００７－８６７４８号公報の段落番号０２５７～０２７６に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作製することができる。
＜偏光板の性能＞
（偏光度）
本発明の偏光板は、偏光度９５．０％以上が好ましく、９８％以上がより好ましく、最も好ましくは９９．５％以上である。
（偏光度）
本発明の偏光板は、偏光度９５．０％以上が好ましく、９８％以上がより好ましく、最も好ましくは９９．５％以上である。
本発明において、偏光板の偏光度は、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０を用いて波長３８０ｎｍ～７００ｎｍで測定した直交透過率および平行透過率から、以下の式により偏光度スペクトルを算出し、さらに光源（補助イルミナントＣ）とＣＩＥ視感度（Ｙ）の重み付け平均を計算することにより求めることができる。
偏光度（％）
＝｛（平行透過率－直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝１／２×１００
＝｛（平行透過率－直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝１／２×１００
（偏光度変化）
本発明の偏光板は、湿熱経時条件下における耐久性に優れる。このため、後述する偏光板耐久性試験前後での偏光度の変化量は小さい。
本発明の偏光板は、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０を用いて直交透過率および平行透過率を測定し、上記式により偏光度を算出し、特に、８０℃、相対湿度９０％の環境下で１４４時間保存した場合の偏光度変化が５％未満であるのが好ましい。
本発明の偏光板は、湿熱経時条件下における耐久性に優れる。このため、後述する偏光板耐久性試験前後での偏光度の変化量は小さい。
本発明の偏光板は、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０を用いて直交透過率および平行透過率を測定し、上記式により偏光度を算出し、特に、８０℃、相対湿度９０％の環境下で１４４時間保存した場合の偏光度変化が５％未満であるのが好ましい。
本発明の偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。この際、本発明の偏光板保護フィルムが、ガラス側になるように貼り付ける。直交透過率測定は、このサンプルのガラス側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を直交透過率、および平行透過率とする。具体的には、実施例で記載した通りである。
（偏光子中のポリビニルアルコールの結晶化指数）
本発明では、偏光子を構成する樹脂がポリビニルアルコールが好ましく、ポリビニルアルコールで構成された偏光子の偏光板を、温度８０℃、相対湿度９０％で１４４時間経時させた後のポリビニルアルコールの結晶化指数は、０．０５以下が好ましい。
本発明では、偏光子を構成する樹脂がポリビニルアルコールが好ましく、ポリビニルアルコールで構成された偏光子の偏光板を、温度８０℃、相対湿度９０％で１４４時間経時させた後のポリビニルアルコールの結晶化指数は、０．０５以下が好ましい。
ここで、ポリビニルアルコールの結晶化指数とは、ポリビニルアルコールの結晶化の程度を示すものであり、本発明では、赤外吸収スペクトルにおいて、結晶化バンドとして知られている波数１１４１ｃｍ－１の吸光度を利用して求める方法である。
本発明では、波数１１３４ｃｍ－１の吸光度を基準にして、下記式（α）から算出する。
本発明では、波数１１３４ｃｍ－１の吸光度を基準にして、下記式（α）から算出する。
式（α）
ポリビニルアルコールの結晶化指数
＝｛Ａ（１１４１ｃｍ－１）－Ａ（１１３４ｃｍ－１）｝／Ａ（１１３４ｃｍ－１）
ポリビニルアルコールの結晶化指数
＝｛Ａ（１１４１ｃｍ－１）－Ａ（１１３４ｃｍ－１）｝／Ａ（１１３４ｃｍ－１）
式（α）において、Ａ（１１４１ｃｍ－１）は、波数１１４１ｃｍ－１における吸光度を表し、Ａ（１１３４ｃｍ－１）は、波数１１３４ｃｍ－１における吸光度を表す。
ここで、波数１１４１ｃｍ－１のピークは、ポリビニルアルコールの結晶性バンド、すなわち、結晶領域中の伸びた炭素ジグザグ鎖の骨格振動であり、波数１１３４ｃｍ－１のピーク領域（非晶部のＣ－Ｏ伸縮振動の裾）は、ポリビニルアルコールの結晶性バンドの吸光度に対して、吸光度の基準とした領域である。
本発明では、高温高湿下で、偏光板保護フィルム中の本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物が、偏光子に拡散移動し、ポリビニルアルコールの結晶化を抑制することを想定している。
このため、高温高湿下で保存後の偏光子表面の赤外吸収スペクトルを測定して、結晶化指数を求め、その効果を調べるものである。
このため、高温高湿下で保存後の偏光子表面の赤外吸収スペクトルを測定して、結晶化指数を求め、その効果を調べるものである。
具体的には、赤外全反射吸収測定法（ＡＴＲ法）により、例えば、ＦＴ－ＩＲ ＡＴＲが可能な赤外分光機（例えば、（株）Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製 Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００）で、ＡＴＲ－ＩＲスペクトルを測定する。
さらに具体的には、実施例で示す通りである。
さらに具体的には、実施例で示す通りである。
（その他の特性）
本発明の偏光板のその他の好ましい光学特性等については特開２００７－０８６７４８号公報の段落番号０２３８～０２５５に記載されており、これらの特性を満たすことが好ましい。
本発明の偏光板のその他の好ましい光学特性等については特開２００７－０８６７４８号公報の段落番号０２３８～０２５５に記載されており、これらの特性を満たすことが好ましい。
＜＜表示装置＞＞
本発明は偏光子を利用する表示装置用途として好ましく用いられる。
このような表示装置として液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置の反射防止用途等が挙げられる。
液晶表示装置を例として説明すると、本発明の液晶表示装置は、液晶セルと本発明の偏光板とを少なくとも有する。液晶表示装置では、第一偏光板および第二偏光板の様に２枚の偏光板の間に液晶セルを配置した構成を取る。液晶セルの駆動モードは特に限定されないが、ＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳ等の各駆動モードが一般的に用いられている。さらに、液晶セルの駆動モードに応じて光学補償を行う光学異方性層を用いることが好ましく、液晶セルと偏光板の間に配置される。なお、光学異方性層の機能を偏光板保護フィルムが有していてもよい。
本発明は偏光子を利用する表示装置用途として好ましく用いられる。
このような表示装置として液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置の反射防止用途等が挙げられる。
液晶表示装置を例として説明すると、本発明の液晶表示装置は、液晶セルと本発明の偏光板とを少なくとも有する。液晶表示装置では、第一偏光板および第二偏光板の様に２枚の偏光板の間に液晶セルを配置した構成を取る。液晶セルの駆動モードは特に限定されないが、ＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳ等の各駆動モードが一般的に用いられている。さらに、液晶セルの駆動モードに応じて光学補償を行う光学異方性層を用いることが好ましく、液晶セルと偏光板の間に配置される。なお、光学異方性層の機能を偏光板保護フィルムが有していてもよい。
図１は、本発明の表示装置の例を、液晶表示装置として示す概略図の一例である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層５とこの上下に配置された液晶セル上電極基板３および液晶セル下電極基板６とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１および下側偏光板８からなる。液晶セルと各偏光板との間にカラーフィルターを配置してもよい。液晶表示装置１０を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置する。
上側偏光板１および下側偏光板８は、それぞれ２枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有しており、本発明の液晶表示装置１０は、少なくとも一方の偏光板が本発明の偏光板であることが好ましい。本発明の液晶表示装置１０は、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、本発明の偏光板保護フィルム、偏光子、一般の透明保護フィルムの順序で積層することが好ましい。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明する。
以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例によって、限定的に解釈されるべきものではない。
以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例によって、限定的に解釈されるべきものではない。
〔一般式（Ｉ）で表される化合物の合成〕
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を以下のようにして合成した。
代表的な化合物の合成例を以下に示す。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を以下のようにして合成した。
代表的な化合物の合成例を以下に示す。
合成例１ 例示化合物（Ｄ－１－２５）の合成
テレフタルアルデヒド酸 １６．９８ｇ（１１３．１ｍｍｏｌ）、ジエチレングリコール３．０ｇ（２８．２７ｍｍｏｌ）、塩酸１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド ２１．６８ｇ（１１３．１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン ０．６９ｇ（５．７ｍｍｏｌ）を５００ｍＬ三口フラスコに入れ、さらにテトラヒドロフラン２００ｍＬを加えて室温で１時間撹拌した。その後、８時間加熱還流した。反応後、反応液を室温まで冷却した後に、酢酸エチル、水を添加し、有機層を抽出した。有機層は、炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）により精製することで、目的の例示化合物（Ｄ－１－２５）を白色固体として７．９３ｇ（収率７６％）得た。
得られた化合物の構造は、１Ｈ－ＮＭＲで確認した。
得られた化合物の構造は、１Ｈ－ＮＭＲで確認した。
例示化合物（Ｄ－１－２５）の１Ｈ－ＮＭＲのスペクトルデータ
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）:δ＝１０．０９（ｓ，２Ｈ）, ８．１６（ｄ，４Ｈ）, ７．８９（ｄ，４Ｈ）,４．５４（ｍ，４Ｈ），３．９０（ｍ，４Ｈ）
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）:δ＝１０．０９（ｓ，２Ｈ）, ８．１６（ｄ，４Ｈ）, ７．８９（ｄ，４Ｈ）,４．５４（ｍ，４Ｈ），３．９０（ｍ，４Ｈ）
合成例２～５
合成例１で使用したジエチレングリコールを、対応するジオール化合物に変更した以外は合成例１と同様にして、例示化合物（Ｄ－１－２４）、（Ｄ－１－２６）、（Ｄ－１－２７）および（Ｄ－１－２８）を合成した。
合成例１で使用したジエチレングリコールを、対応するジオール化合物に変更した以外は合成例１と同様にして、例示化合物（Ｄ－１－２４）、（Ｄ－１－２６）、（Ｄ－１－２７）および（Ｄ－１－２８）を合成した。
合成例６ 例示化合物（Ｄ－１－２）の合成
４－ヒドロキシベンズアルデヒドとテレフタルアルデヒド酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－２）を合成した。
合成例７ 例示化合物（Ｄ－１－１４）の合成
ジエチレングリコールとテレフタルアルデヒド酸を、テレフタル酸と４－ヒドロキシベンズアルデヒドに変更し、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－１４）を合成した。
合成例８ 例示化合物（Ｄ－１－２９）の合成
ジエチレングリコールとテレフタルアルデヒド酸を、コハク酸とバニリンに変更し、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－２９）を合成した。
合成例９ 例示化合物（Ｄ－１－３２）の合成
トリメチロールプロパンとテレフタルアルデヒド酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－３２）を合成した。
合成例１０ 例示化合物（Ｄ－１－３４）の合成
エチレングリコールと３，４－ジホルミル安息香酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－３４）を合成した。
合成例１１ 例示化合物（Ｄ－３－６）の合成
５，５－ジメチル－２－（ｐ－ヒドロキシフェニル）－１，３－ジオキサンとテレフタルアルデヒド酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－３－６）を合成した。
合成例１２ 例示化合物（Ｄ－３－７）の合成
カルボキシベンジリデンジプロピオネートと４－ヒドロキシベンズアルデヒドを用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－３－７）を合成した。
４－ヒドロキシベンズアルデヒドとテレフタルアルデヒド酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－２）を合成した。
合成例７ 例示化合物（Ｄ－１－１４）の合成
ジエチレングリコールとテレフタルアルデヒド酸を、テレフタル酸と４－ヒドロキシベンズアルデヒドに変更し、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－１４）を合成した。
合成例８ 例示化合物（Ｄ－１－２９）の合成
ジエチレングリコールとテレフタルアルデヒド酸を、コハク酸とバニリンに変更し、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－２９）を合成した。
合成例９ 例示化合物（Ｄ－１－３２）の合成
トリメチロールプロパンとテレフタルアルデヒド酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－３２）を合成した。
合成例１０ 例示化合物（Ｄ－１－３４）の合成
エチレングリコールと３，４－ジホルミル安息香酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－１－３４）を合成した。
合成例１１ 例示化合物（Ｄ－３－６）の合成
５，５－ジメチル－２－（ｐ－ヒドロキシフェニル）－１，３－ジオキサンとテレフタルアルデヒド酸を用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－３－６）を合成した。
合成例１２ 例示化合物（Ｄ－３－７）の合成
カルボキシベンジリデンジプロピオネートと４－ヒドロキシベンズアルデヒドを用い、合成例１と同様にして例示化合物（Ｄ－３－７）を合成した。
合成例１３～１６
例示化合物（Ｄ－１－４）は４－ヒドロキシベンズアルデヒド、テトラキス（ブロモメチル）メタンを用いて、定法のアルキル化反応で合成した。例示化合物（Ｄ－１－１２）は４，４’－ジカルボキシジフェニルスルホンから合成した。例示化合物（Ｄ－１－３１）は１，２－ビス（４－ホルミルフェニルチオ）エタンから合成した。また、例示化合物（Ｄ－１－３５）は４－ブロモ－３－フルオロベンズアルデヒドと２－フルオロ－４－ホルミルフェニルボロン酸を用い、定法のＰｄカップリング反応により合成した。
例示化合物（Ｄ－１－４）は４－ヒドロキシベンズアルデヒド、テトラキス（ブロモメチル）メタンを用いて、定法のアルキル化反応で合成した。例示化合物（Ｄ－１－１２）は４，４’－ジカルボキシジフェニルスルホンから合成した。例示化合物（Ｄ－１－３１）は１，２－ビス（４－ホルミルフェニルチオ）エタンから合成した。また、例示化合物（Ｄ－１－３５）は４－ブロモ－３－フルオロベンズアルデヒドと２－フルオロ－４－ホルミルフェニルボロン酸を用い、定法のＰｄカップリング反応により合成した。
合成例１７ 例示化合物（Ｄ－３－４）の合成
テレフタルアルデヒド１０．０ｇ（７４．６ｍｍｏｌ）、酒石酸ジメチル３３．２ｇ（１８６．４ｍｍｏｌ）、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物１．４２ｇ（７．５ｍｍｏｌ）を５００ｍＬ三口フラスコに入れ、さらにトルエン２００ｍＬを加えて１１０℃で６時間撹拌した。その後、４時間ディーンスターク装置で水を除きながら１１０℃で加熱還流した。反応後、反応液を室温まで冷却した後に、炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗浄し、さらに、有機層を飽和食塩水で一回洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ－ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）により精製することで、目的の例示化合物（Ｄ－３－４）を白色固体として７．９３ｇ（収率７６％）得た。
得られた化合物の構造は、１Ｈ－ＮＭＲで確認した。
得られた化合物の構造は、１Ｈ－ＮＭＲで確認した。
合成例１８、１９
例示化合物（Ｄ－３－５）はテレフタルアルデヒドと一当量の２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオールを用い、定法によりアセタール化することで合成した。また、例示化合物（Ｄ－３－１２）は４－ホルミルフェニルボロン酸ピナコール〔東京化成品工業（株）品〕とピナコールを用い、定法によりアセタール化することで合成した。
例示化合物（Ｄ－３－５）はテレフタルアルデヒドと一当量の２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオールを用い、定法によりアセタール化することで合成した。また、例示化合物（Ｄ－３－１２）は４－ホルミルフェニルボロン酸ピナコール〔東京化成品工業（株）品〕とピナコールを用い、定法によりアセタール化することで合成した。
なお、例示化合物（Ｄ－１－１）、（Ｄ－１－５）、（Ｄ－２－１）および（Ｄ－２－２）はいずれも〔東京化成品工業（株）〕の市販品であり、例示化合物（Ｄ－１－３）はアルドリッチ社の市販品である。
実施例１
以下のようにして、偏光板保護フィルムを作製し、この偏光板保護フィルムを使用して、偏光板を作製した。
以下のようにして、偏光板保護フィルムを作製し、この偏光板保護フィルムを使用して、偏光板を作製した。
Ａ．偏光板保護フィルムの作製
（１）偏光板保護フィルム１０１の作製
（セルロースアシレート溶液１０１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１０１を調製した。
（１）偏光板保護フィルム１０１の作製
（セルロースアシレート溶液１０１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１０１を調製した。
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セルロースアシレート溶液１０１の組成
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・アセチル置換度２．８７のセルロースアセテート
１００．０質量部
・偏光子耐久性改良剤（Ｄ－１－１） ７．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３８９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５８．２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１０１の組成
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・アセチル置換度２．８７のセルロースアセテート
１００．０質量部
・偏光子耐久性改良剤（Ｄ－１－１） ７．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３８９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５８．２質量部
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（マット剤溶液１０２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１０２を調製した。
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１０２を調製した。
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マット剤溶液１０２の組成
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．３質量部
・セルロースアシレート溶液１０１ ０．９質量部
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マット剤溶液１０２の組成
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．３質量部
・セルロースアシレート溶液１０１ ０．９質量部
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＜流延＞
上記マット剤溶液１０２を１．３質量部と、セルロースアシレート溶液１０１を９８．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、樹脂溶液（ドープ）を調製した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５～１０質量％の状態のフィルムを、１２０℃の温度下で幅方向に１．１０倍（１０％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、本発明の偏光板保護フィルム１０１を得た。得られた偏光板保護フィルム１０１の厚みは２５μｍ、幅は１４８０ｍｍ、巻き長さは２７００ｍであった。
上記マット剤溶液１０２を１．３質量部と、セルロースアシレート溶液１０１を９８．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、樹脂溶液（ドープ）を調製した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５～１０質量％の状態のフィルムを、１２０℃の温度下で幅方向に１．１０倍（１０％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、本発明の偏光板保護フィルム１０１を得た。得られた偏光板保護フィルム１０１の厚みは２５μｍ、幅は１４８０ｍｍ、巻き長さは２７００ｍであった。
（２）偏光板保護フィルム１０２～１１０、ｃ０１およびｃ０２の作製
偏光板保護フィルム１０１の作製において、偏光子耐久性改良剤の種類および添加量を後述の表１に記載のように変更した以外は偏光板保護フィルム１０１と同様にして、本発明の偏光板保護フィルム１０２～１１０および比較の偏光板保護フィルムｃ０１、ｃ０２をそれぞれ作製した。
偏光板保護フィルム１０１の作製において、偏光子耐久性改良剤の種類および添加量を後述の表１に記載のように変更した以外は偏光板保護フィルム１０１と同様にして、本発明の偏光板保護フィルム１０２～１１０および比較の偏光板保護フィルムｃ０１、ｃ０２をそれぞれ作製した。
（３）セルロースアシレートフィルムＳ０１の作製
（セルロースアシレート溶液１０３の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１０３を調製した。
（セルロースアシレート溶液１０３の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１０３を調製した。
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セルロースアシレート溶液１０３の組成
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・アセチル置換度２．８７のセルロースアセテート
１００．０質量部
・添加剤Ｅ－１ ８．０質量部
・シプロ化成（株）製ＳＥＥＳＯＲＢ７０６（商品名）
４．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３８９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５８．２質量部
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セルロースアシレート溶液１０３の組成
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・アセチル置換度２．８７のセルロースアセテート
１００．０質量部
・添加剤Ｅ－１ ８．０質量部
・シプロ化成（株）製ＳＥＥＳＯＲＢ７０６（商品名）
４．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３８９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５８．２質量部
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（マット剤溶液１０４の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１０４を調製した。
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１０４を調製した。
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マット剤溶液１０４の組成
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．３質量部
・セルロースアシレート溶液１０３ ０．９質量部
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マット剤溶液１０４の組成
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．３質量部
・セルロースアシレート溶液１０３ ０．９質量部
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（バルビツール酸系添加剤溶液１０５の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、バルビツール酸系添加剤溶液１０５を調製した。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、バルビツール酸系添加剤溶液１０５を調製した。
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バルビツール酸系添加剤溶液１０５の組成
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・添加剤Ａ－３ ２０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ６９．６質量部
・メタノール（第２溶媒） １０．４質量部
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バルビツール酸系添加剤溶液１０５の組成
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・添加剤Ａ－３ ２０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ６９．６質量部
・メタノール（第２溶媒） １０．４質量部
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＜流延＞
上記マット剤溶液１０４の１．３質量部と、バルビツール酸系添加剤溶液１０５の３．４質量部をそれぞれ濾過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらにセルロースアシレート溶液１０３を９５．３質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、樹脂溶液（ドープ）を調整した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５～１０質量％の状態のフィルムを、１２０℃の温度下で幅方向に１．１５倍（１５％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、セルロースアシレートフィルムＳ０１を得た。得られたセルロースアシレートフィルムＳ０１の厚みは２５μｍ、幅は１４８０ｍｍ、巻き長さは２７００ｍであった。
上記マット剤溶液１０４の１．３質量部と、バルビツール酸系添加剤溶液１０５の３．４質量部をそれぞれ濾過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらにセルロースアシレート溶液１０３を９５．３質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、樹脂溶液（ドープ）を調整した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５～１０質量％の状態のフィルムを、１２０℃の温度下で幅方向に１．１５倍（１５％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、セルロースアシレートフィルムＳ０１を得た。得られたセルロースアシレートフィルムＳ０１の厚みは２５μｍ、幅は１４８０ｍｍ、巻き長さは２７００ｍであった。
（４）セルロースアシレートフィルムＳ０２の作製
セルロースアシレートフィルムＳ０１の作製において、添加剤Ａ－３を添加しなかったこと以外はセルロースアシレートフィルムＳ０１と同様にしてセルロースアシレートフィルムＳ０２を作製した。
セルロースアシレートフィルムＳ０１の作製において、添加剤Ａ－３を添加しなかったこと以外はセルロースアシレートフィルムＳ０１と同様にしてセルロースアシレートフィルムＳ０２を作製した。
（５）セルロースアシレートフィルムＳ０３の作製
セルロースアシレートフィルムＳ０１の作製において、添加剤Ｅ－１を添加剤Ｂ－９７に置き換えた以外はセルロースアシレートフィルムＳ０１と同様にしてセルロースアシレートフィルムＳ０３を作製した。
なお、添加剤Ｂ－９７は、上記添加剤の項で記載した例示化合物Ｂ－９７である。
セルロースアシレートフィルムＳ０１の作製において、添加剤Ｅ－１を添加剤Ｂ－９７に置き換えた以外はセルロースアシレートフィルムＳ０１と同様にしてセルロースアシレートフィルムＳ０３を作製した。
なお、添加剤Ｂ－９７は、上記添加剤の項で記載した例示化合物Ｂ－９７である。
Ｂ．偏光板の作製
＜偏光子Ａの作製＞
平均重合度２４００、鹸化度９９．９％以上のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）粉体を純水に溶解して１０質量％になるように調整した水溶液を、ポリエステルフィルム上に塗布して４０℃、３時間乾燥した後、さらに１１０℃、６０分乾燥を行ない、厚さ３２μｍのＰＶＡフィルムを得た。得られたフィルムを３０℃の温水で１分間膨潤させ、３０℃のヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液に浸漬して、１．５倍に縦一軸延伸した。ヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液の濃度は、ヨウ素濃度０．３８質量％とした。次いで、５０℃の４．２５質量％のホウ酸水溶液中で、総延伸倍率が７倍になるように縦一軸延伸し、３０℃の水浴に浸漬して水洗し、５０℃、４分間乾燥し、厚さ８μｍの偏光子Ａを得た。
＜偏光子Ａの作製＞
平均重合度２４００、鹸化度９９．９％以上のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）粉体を純水に溶解して１０質量％になるように調整した水溶液を、ポリエステルフィルム上に塗布して４０℃、３時間乾燥した後、さらに１１０℃、６０分乾燥を行ない、厚さ３２μｍのＰＶＡフィルムを得た。得られたフィルムを３０℃の温水で１分間膨潤させ、３０℃のヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液に浸漬して、１．５倍に縦一軸延伸した。ヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液の濃度は、ヨウ素濃度０．３８質量％とした。次いで、５０℃の４．２５質量％のホウ酸水溶液中で、総延伸倍率が７倍になるように縦一軸延伸し、３０℃の水浴に浸漬して水洗し、５０℃、４分間乾燥し、厚さ８μｍの偏光子Ａを得た。
＜偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）の鹸化処理＞
上記で作製した偏光板保護フィルム１０１～１１０、ｃ０１、ｃ０２およびセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３をそれぞれ、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。その後、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルム１０１～１１０、ｃ０１、ｃ０２およびセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３に対して、フィルム表面の鹸化処理を行った。
上記で作製した偏光板保護フィルム１０１～１１０、ｃ０１、ｃ０２およびセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３をそれぞれ、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。その後、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルム１０１～１１０、ｃ０１、ｃ０２およびセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３に対して、フィルム表面の鹸化処理を行った。
（１）偏光板Ｈ０１の作製
鹸化処理した偏光板保護フィルム１０１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記にて製造した偏光子Ａの片側に貼り付けた。さらに、偏光板保護フィルム１０１と偏光子を挟んで反対側に鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＳ０１を貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムもしくはセルロースアシレートフィルムの幅方向が平行になるように配置した。
このようにして、本発明の偏光板Ｈ０１を作製した。
鹸化処理した偏光板保護フィルム１０１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記にて製造した偏光子Ａの片側に貼り付けた。さらに、偏光板保護フィルム１０１と偏光子を挟んで反対側に鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＳ０１を貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムもしくはセルロースアシレートフィルムの幅方向が平行になるように配置した。
このようにして、本発明の偏光板Ｈ０１を作製した。
（２）偏光板Ｈ０２～Ｈ１０、Ｈｃ１およびＨｃ２の作製
偏光板Ｈ０１の作製において、偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルムを下記表１に記載のものに変更した以外は偏光板Ｈ０１と同様にして、本発明の偏光板Ｈ０２～Ｈ１０、比較の偏光板Ｈｃ１およびＨｃ２を作製した。
偏光板Ｈ０１の作製において、偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルムを下記表１に記載のものに変更した以外は偏光板Ｈ０１と同様にして、本発明の偏光板Ｈ０２～Ｈ１０、比較の偏光板Ｈｃ１およびＨｃ２を作製した。
Ｃ．偏光板保護フィルム、偏光板の評価
以下のようにして、偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板に対して、偏光板の耐久性、偏光子中のＰＶＡの結晶化指数を評価し、偏光板保護フィルムの性能を調べた。
以下のようにして、偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板に対して、偏光板の耐久性、偏光子中のＰＶＡの結晶化指数を評価し、偏光板保護フィルムの性能を調べた。
（偏光板耐久性の評価）
上記で作製した各偏光板に対して、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０（商品名）を用いて直交透過率および平行透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。
上記で作製した各偏光板に対して、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０（商品名）を用いて直交透過率および平行透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。
偏光度（％）
＝｛（平行透過率－直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝１／２×１００
＝｛（平行透過率－直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝１／２×１００
偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製した。この際、セルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３がガラスと反対側（空気界面側）になるように貼り付けた。直交透過率の測定は、このサンプルのガラスの側を光源に向けてセットして測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を直交透過率ならびに平行透過率とした。
その後、８０℃、相対湿度９０％の環境下で１４４時間保存した後のサンプルについても同様の方法で偏光度を測定した。経時前後の偏光度の変化量を求め、以下の基準により評価した。
下記表１では、偏光板耐久性として示した。
偏光板耐久性は、偏光度変化が小さいほど好ましく、ランクＣ以上が実用レベルである。
下記表１では、偏光板耐久性として示した。
偏光板耐久性は、偏光度変化が小さいほど好ましく、ランクＣ以上が実用レベルである。
Ａ：偏光度変化が０．５％未満
Ｂ：偏光度変化が０．５％以上２％未満
Ｃ：偏光度変化が２％以上５％未満
Ｄ：偏光度変化が５％以上
Ｂ：偏光度変化が０．５％以上２％未満
Ｃ：偏光度変化が２％以上５％未満
Ｄ：偏光度変化が５％以上
（偏光子中のＰＶＡの結晶化指数）
温度８０℃、相対湿度９０％で１４４時間経時させた後の偏光板を、室温（２５℃）でメチレンクロライドに３０分間浸漬し、偏光板保護フィルムおよびセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３を溶解させ、偏光子をフィルムとして取り出した。この偏光子のセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３と接した側の面の、赤外全反射吸収測定法（ＡＴＲ法）による、ＡＴＲ－ＩＲスペクトルを以下の方法により測定し、以下の式によりＰＶＡの結晶化指数を求めた。ＰＶＡの結晶化指数は、低いほど好ましく、０．０５以下がより好ましく、負の値である場合が特に好ましい。
温度８０℃、相対湿度９０％で１４４時間経時させた後の偏光板を、室温（２５℃）でメチレンクロライドに３０分間浸漬し、偏光板保護フィルムおよびセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３を溶解させ、偏光子をフィルムとして取り出した。この偏光子のセルロースアシレートフィルムＳ０１～Ｓ０３と接した側の面の、赤外全反射吸収測定法（ＡＴＲ法）による、ＡＴＲ－ＩＲスペクトルを以下の方法により測定し、以下の式によりＰＶＡの結晶化指数を求めた。ＰＶＡの結晶化指数は、低いほど好ましく、０．０５以下がより好ましく、負の値である場合が特に好ましい。
測定装置：（株）Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製 Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００
プリズム：ゲルマニウム
波長範囲：４００ｃｍ－１～４０００ｃｍ－１
プリズム：ゲルマニウム
波長範囲：４００ｃｍ－１～４０００ｃｍ－１
式（α）
ＰＶＡの結晶化指数
＝｛Ａ（１１４１ｃｍ－１）－Ａ（１１３４ｃｍ－１）｝／Ａ（１１３４ｃｍ－１）
ＰＶＡの結晶化指数
＝｛Ａ（１１４１ｃｍ－１）－Ａ（１１３４ｃｍ－１）｝／Ａ（１１３４ｃｍ－１）
式（α）において、Ａ（１１４１ｃｍ－１）は、波数１１４１ｃｍ－１における吸光度を表し、Ａ（１１３４ｃｍ－１）は、波数１１３４ｃｍ－１における吸光度を表す。
得られた結果をまとめて、下記表１に示す。
上記表１から、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物（表中では、偏光子耐久性改良剤として記載）を添加しない比較の偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板Ｈｃ１に対して、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を添加した偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板は、いずれも偏光板耐久性に優れ、湿熱サーモ後の偏光子のＰＶＡの結晶化指数も低い。
これに対し、比較化合物を添加した偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板Ｈｃ２では、偏光板Ｈｃ１に対して偏光板耐久性が改良されず、しかも、湿熱サーモ後の偏光子のＰＶＡの結晶化指数も変化がなかった。
なお、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を添加した偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板では、湿熱サーモ後の偏光子のＰＶＡの結晶化指数が低くなっていることから、偏光板保護フィルム中の一般式（Ｉ）で表される化合物が、湿熱条件下で、偏光子まで拡散して、偏光子のＰＶＡの結晶化を抑制したと考えられる。
ここで、一般式（Ｉ）で表される化合物は、ホルミル基またはボロン酸基を２つ以上、またはホルミル基もしくはボロン酸基と１つのアセタール基もしくボロン酸エステル基を有するため、ＰＶＡの架橋が可能であり、ＰＶＡの架橋または再架橋に寄与している可能性が想定される。
これに対し、比較化合物を添加した偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板Ｈｃ２では、偏光板Ｈｃ１に対して偏光板耐久性が改良されず、しかも、湿熱サーモ後の偏光子のＰＶＡの結晶化指数も変化がなかった。
なお、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を添加した偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板では、湿熱サーモ後の偏光子のＰＶＡの結晶化指数が低くなっていることから、偏光板保護フィルム中の一般式（Ｉ）で表される化合物が、湿熱条件下で、偏光子まで拡散して、偏光子のＰＶＡの結晶化を抑制したと考えられる。
ここで、一般式（Ｉ）で表される化合物は、ホルミル基またはボロン酸基を２つ以上、またはホルミル基もしくはボロン酸基と１つのアセタール基もしくボロン酸エステル基を有するため、ＰＶＡの架橋が可能であり、ＰＶＡの架橋または再架橋に寄与している可能性が想定される。
実施例２
実施例１において、ガラス側偏光板保護フィルムの偏光子耐久性改良剤とその添加量を、下記表２のように変更したこと以外は実施例１と同様にして、偏光板保護フィルム２０１～２２２を作製した。さらに、空気側偏光板保護フィルムにセルロースアシレートフィルムＳ０１を使用したこと以外は実施例１と同様にして、偏光板Ｈ２０１～Ｈ２２２を作製した。
実施例１において、ガラス側偏光板保護フィルムの偏光子耐久性改良剤とその添加量を、下記表２のように変更したこと以外は実施例１と同様にして、偏光板保護フィルム２０１～２２２を作製した。さらに、空気側偏光板保護フィルムにセルロースアシレートフィルムＳ０１を使用したこと以外は実施例１と同様にして、偏光板Ｈ２０１～Ｈ２２２を作製した。
作製した各偏光板を、実施例１と同様の方法で偏光板耐久性と偏光子中のＰＶＡの結晶化指数を評価した。
ただし、偏光板耐久性と偏光子中のＰＶＡの結晶化指数の評価基準は、下記のように変更した。
偏光子耐久性はランクＣ以上が実用レベルである。また、偏光子中のＰＶＡの結晶化指数は値が低いほど好ましく、ランクＣ以上が合格レベルである。
ただし、偏光板耐久性と偏光子中のＰＶＡの結晶化指数の評価基準は、下記のように変更した。
偏光子耐久性はランクＣ以上が実用レベルである。また、偏光子中のＰＶＡの結晶化指数は値が低いほど好ましく、ランクＣ以上が合格レベルである。
偏光板耐久性の評価
Ａ：偏光度変化が０．５％未満
Ｂ：偏光度変化が０．５％以上２％未満
Ｃ：偏光度変化が２％以上５％未満
Ｄ：偏光度変化が５％以上
Ａ：偏光度変化が０．５％未満
Ｂ：偏光度変化が０．５％以上２％未満
Ｃ：偏光度変化が２％以上５％未満
Ｄ：偏光度変化が５％以上
偏光子中のＰＶＡの結晶化指数の評価
Ａ：結晶化指数が－０．０３未満
Ｂ：結晶化指数が－０．０３以上０．００未満
Ｃ：結晶化指数が０．００以上０．０３未満
Ｄ：結晶化指数が０．０３以上
Ａ：結晶化指数が－０．０３未満
Ｂ：結晶化指数が－０．０３以上０．００未満
Ｃ：結晶化指数が０．００以上０．０３未満
Ｄ：結晶化指数が０．０３以上
得られた結果をまとめて下記表２に示す。
実施例１と同様に、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を添加した偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板では、湿熱サーモ後の偏光子のＰＶＡの結晶化指数が低く、偏光板耐久性も優れていることがわかる。
実施例３
実施例１において作製した偏光板保護フィルム１０１、ｃ０１およびセルロースアシレートフィルムＳ０１を下記表３に示すような組み合わせで、ガラス側偏光板保護フィルムと空気側偏光板保護フィルムに使用し、実施例１における偏光子の厚みを下記表３に記載のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして本発明の偏光板Ｈ３０１、Ｈ３０２および比較の偏光板Ｈｃ３１、Ｈｃ３２を作製した。
実施例１において作製した偏光板保護フィルム１０１、ｃ０１およびセルロースアシレートフィルムＳ０１を下記表３に示すような組み合わせで、ガラス側偏光板保護フィルムと空気側偏光板保護フィルムに使用し、実施例１における偏光子の厚みを下記表３に記載のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして本発明の偏光板Ｈ３０１、Ｈ３０２および比較の偏光板Ｈｃ３１、Ｈｃ３２を作製した。
作製した各偏光板の偏光板耐久性を実施例１と同様にして測定した。
ただし、耐久性試験は、８０℃、相対湿度９０％の環境下で、下記表３に示す指定時間保存した。
得られた結果を、下記基準で評価した。ランクＢ以上が合格レベルである。
ただし、耐久性試験は、８０℃、相対湿度９０％の環境下で、下記表３に示す指定時間保存した。
得られた結果を、下記基準で評価した。ランクＢ以上が合格レベルである。
Ａ：偏光度変化が１．０％未満
Ｂ：偏光度変化が１．０％以上５．０％未満
Ｃ：偏光度変化が５．０％以上
Ｂ：偏光度変化が１．０％以上５．０％未満
Ｃ：偏光度変化が５．０％以上
得られた結果をまとめて下記表３に示す。
偏光子の厚みが厚くなった場合でも、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を添加した偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板では、偏光板耐久性に優れていることがわかる。
実施例４
〔偏光板の作製〕
１．偏光板Ｈ４０１
１）セルロースアセテート樹脂の調製
触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、酢酸を添加して、４０℃でセルロースのアセチル化反応を行った。またアセチル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアセテートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。
得られたセルロースアセテートは、総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０であった。
〔偏光板の作製〕
１．偏光板Ｈ４０１
１）セルロースアセテート樹脂の調製
触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、酢酸を添加して、４０℃でセルロースのアセチル化反応を行った。またアセチル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアセテートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。
得られたセルロースアセテートは、総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０であった。
２）偏光板保護フィルムの作製
上記のようにして調製したセルロースアセテートを用いた下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液４０１を調製した。
なお、添加剤Ｂ－１０４は、上記添加剤の項で記載した例示化合物Ｂ－１０４である。
上記のようにして調製したセルロースアセテートを用いた下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液４０１を調製した。
なお、添加剤Ｂ－１０４は、上記添加剤の項で記載した例示化合物Ｂ－１０４である。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液４０１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・例示化合物（Ｄ－１－１） ６．５質量部
・添加剤Ａ－３ ４．０質量部
・添加剤Ｂ－１０４ ８．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液４０１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・例示化合物（Ｄ－１－１） ６．５質量部
・添加剤Ａ－３ ４．０質量部
・添加剤Ｂ－１０４ ８．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液４０１を、バンド流延機を用いて流延し、１００℃で残留溶媒含量４０％まで乾燥した後、フィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムは、さらに１４０℃の雰囲気温度で２０分乾燥させた。得られた偏光板保護フィルム４０１の膜厚は４０μｍであった。
３）偏光板の作製
（ａ）偏光板保護フィルムの鹸化処理
上記で作製した偏光板保護フィルム４０１および実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムＳ０１をそれぞれ、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。その後、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルム４０１およびセルロースアシレートフィルムＳ０１に対して、フィルム表面の鹸化処理を行った。
（ａ）偏光板保護フィルムの鹸化処理
上記で作製した偏光板保護フィルム４０１および実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムＳ０１をそれぞれ、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。その後、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温（２５℃）の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルム４０１およびセルロースアシレートフィルムＳ０１に対して、フィルム表面の鹸化処理を行った。
（ｂ）偏光板の作製
鹸化処理した偏光板保護フィルム４０１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例１で製造した偏光子Ａの片側に貼り付けた。さらに、偏光板保護フィルム４０１と偏光子を挟んで反対側に鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＳ０１を貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムもしくはセルロースアシレートフィルムの幅方向が平行になるように配置した。
このようにして、本発明の偏光板Ｈ４０１を作製した。
鹸化処理した偏光板保護フィルム４０１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例１で製造した偏光子Ａの片側に貼り付けた。さらに、偏光板保護フィルム４０１と偏光子を挟んで反対側に鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＳ０１を貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムもしくはセルロースアシレートフィルムの幅方向が平行になるように配置した。
このようにして、本発明の偏光板Ｈ４０１を作製した。
２．偏光板Ｈ４０２、Ｈｃ４１およびＨｃ４２の作製
偏光板Ｈ４０１の作製において、空気側偏光板保護フィルムを、下記表４に記載の添加量で偏光子耐久性改良剤とバルビツール酸添加剤を含有するものに変更した以外は偏光板Ｈ４０１と同様にして、本発明の偏光板Ｈ４０２、比較の偏光板Ｈｃ４１およびＨｃ４２を作製した。
偏光板Ｈ４０１の作製において、空気側偏光板保護フィルムを、下記表４に記載の添加量で偏光子耐久性改良剤とバルビツール酸添加剤を含有するものに変更した以外は偏光板Ｈ４０１と同様にして、本発明の偏光板Ｈ４０２、比較の偏光板Ｈｃ４１およびＨｃ４２を作製した。
〔偏光板保護フィルム、偏光板の評価〕
以下のようにして、偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板に対して、偏光板の耐久性を評価し、偏光板保護フィルムの性能を調べた。
以下のようにして、偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板に対して、偏光板の耐久性を評価し、偏光板保護フィルムの性能を調べた。
（偏光板耐久性の評価）
上記で作製した各偏光板に対して、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０を用いて直交透過率および平行透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。
上記で作製した各偏光板に対して、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０を用いて直交透過率および平行透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。
偏光度（％）
＝｛（平行透過率－直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝１／２×１００
＝｛（平行透過率－直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝１／２×１００
各偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製した。この際、セルロースアシレートフィルムＳ０１がガラス側になるように貼り付けた。直交透過率の測定は、このサンプルのガラスの側を光源に向けてセットして測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を直交透過率ならびに平行透過率とした。
その後、８０℃、相対湿度９０％の環境下で３３６時間保存した後についても同様の方法で偏光度を測定した。経時前後の偏光度の変化量を求め、以下の基準により評価した。
下記表４では、偏光板耐久性として示した。
偏光板耐久性は、偏光度変化が小さいほど好ましく、ランクＢ以上が合格レベルである。
下記表４では、偏光板耐久性として示した。
偏光板耐久性は、偏光度変化が小さいほど好ましく、ランクＢ以上が合格レベルである。
Ａ：偏光度変化が１．０％未満
Ｂ：偏光度変化が１．０％以上４．０％未満
Ｃ：偏光度変化が４．０％以上６．０％未満
Ｄ：偏光度変化が６．０％以上
Ｂ：偏光度変化が１．０％以上４．０％未満
Ｃ：偏光度変化が４．０％以上６．０％未満
Ｄ：偏光度変化が６．０％以上
得られた結果をまとめて下記表４に示す。
表４から、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を空気界面と接する側の偏光板保護フィルム（空気側偏光板保護フィルム）に使用した偏光板でも、偏光板耐久性に優れていることがわかる。
実施例５
〔偏光板の作製〕
１．偏光板Ｈ５０１
１）偏光板保護フィルムの作製
（セルロースアシレート溶液５０１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液５０１を調製した。
〔偏光板の作製〕
１．偏光板Ｈ５０１
１）偏光板保護フィルムの作製
（セルロースアシレート溶液５０１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液５０１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液５０１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８７、重合度３５０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・添加剤Ｆ－１（質量平均分子量１０００のエステルオリゴマー）
１３．０質量部
・例示化合物（Ｄ－１－１） ７．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４１９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６３．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液５０１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８７、重合度３５０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・添加剤Ｆ－１（質量平均分子量１０００のエステルオリゴマー）
１３．０質量部
・例示化合物（Ｄ－１－１） ７．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４１９．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６３．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ここで、上記添加剤Ｆ－１の化学構造式における数字は、括弧で括る各構造のモル比を表す。
（マット剤溶液５０２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液５０２を調製した。
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液５０２を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液５０２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．２質量部
・セルロースアシレート溶液５０１ ０．９質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液５０２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒） １１．２質量部
・セルロースアシレート溶液５０１ ０．９質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
＜流延＞
上記マット剤溶液５０２の１．３質量部とセルロースアシレート溶液５０１の９８．７質量部を、インラインミキサーを用いて混合した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で形成されたフィルムを剥ぎ取り、剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５～１０質量％の状態で、１００℃の温度下で幅方向に１．０４倍（４％）延伸しつつ乾燥した。剥ぎ取ったフィルムは、さらに１４０℃の雰囲気下で２０分乾燥させた。得られた偏光板保護フィルム５０１の膜厚は２５μｍであった。
上記マット剤溶液５０２の１．３質量部とセルロースアシレート溶液５０１の９８．７質量部を、インラインミキサーを用いて混合した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で形成されたフィルムを剥ぎ取り、剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５～１０質量％の状態で、１００℃の温度下で幅方向に１．０４倍（４％）延伸しつつ乾燥した。剥ぎ取ったフィルムは、さらに１４０℃の雰囲気下で２０分乾燥させた。得られた偏光板保護フィルム５０１の膜厚は２５μｍであった。
２）偏光板の作製
（ａ）偏光板保護フィルムの鹸化処理
上記で作製した偏光板保護フィル５０１および実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムＳ０１をそれぞれ、実施例４と同様にして、フィルム表面の鹸化処理を行った。
（ａ）偏光板保護フィルムの鹸化処理
上記で作製した偏光板保護フィル５０１および実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムＳ０１をそれぞれ、実施例４と同様にして、フィルム表面の鹸化処理を行った。
（ｂ）偏光板の作製
鹸化処理した偏光板保護フィルム５０１および鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＳ０１を使用して、実施例４と同様にして、本発明の偏光板Ｈ５０１を作製した。
鹸化処理した偏光板保護フィルム５０１および鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＳ０１を使用して、実施例４と同様にして、本発明の偏光板Ｈ５０１を作製した。
２．偏光板Ｈ５０２、Ｈ５０３およびＨｃ５１の作製
偏光板Ｈ５０１の作製において、ガラス側偏光板保護フィルムの偏光子耐久性改良剤とその添加量を下記表５に示すように変更した以外は偏光板Ｈ５０１と同様にして、本発明の偏光板Ｈ５０２、Ｈ５０３および比較の偏光板Ｈｃ５１を作製した。
偏光板Ｈ５０１の作製において、ガラス側偏光板保護フィルムの偏光子耐久性改良剤とその添加量を下記表５に示すように変更した以外は偏光板Ｈ５０１と同様にして、本発明の偏光板Ｈ５０２、Ｈ５０３および比較の偏光板Ｈｃ５１を作製した。
〔偏光板保護フィルム、偏光板の評価〕
以下のようにして、偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板に対して、偏光板の耐久性を評価し、偏光板保護フィルムの性能を調べた。
以下のようにして、偏光板保護フィルムを組み込んだ偏光板に対して、偏光板の耐久性を評価し、偏光板保護フィルムの性能を調べた。
（偏光板耐久性の評価）
上記で作製した各偏光板に対して、実施例４と同様にして偏光度を算出した。
上記で作製した各偏光板に対して、実施例４と同様にして偏光度を算出した。
各偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製した。この際、セルロースアシレートフィルムＳ０１がガラスと反対側（空気界面側）になるように貼り付けた。直交透過率の測定は、このサンプルのガラスの側を光源に向けてセットして測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を直交透過率ならびに平行透過率とした。
その後、８５℃、相対湿度８５％の環境下で１２０時間保存した後のサンプルについても同様の方法で偏光度を測定した。経時前後の偏光度の変化量を求め、以下の基準により評価した。ランクＢ以上が合格レベルである。
Ａ：偏光度変化が１．０％未満
Ｂ：偏光度変化が１．０％以上５．０％未満
Ｃ：偏光度変化が５．０％以上
Ｂ：偏光度変化が１．０％以上５．０％未満
Ｃ：偏光度変化が５．０％以上
得られた結果をまとめて下記表５に示す。
表５から、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物をガラス側偏光板保護フィルムに使用した偏光板でも、偏光板耐久性に優れていることがわかる。
上記の結果から、本発明の偏光板を使用することで、偏光板耐久性の優れた液晶表示装置が作製できる。
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
本願は、２０１４年１０月３１日に日本国で特許出願された特願２０１４－２２３７７５及び２０１５年５月１８日に日本国で特許出願された特願２０１５－１０１０２５に基づく優先権を主張するものであり、これらはいずれもここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
１ 上側偏光板
２ 上側偏光板吸収軸の方向
３ 液晶セル上電極基板
４ 上基板の配向制御方向
５ 液晶層
６ 液晶セル下電極基板
７ 下基板の配向制御方向
８ 下側偏光板
９ 下側偏光板吸収軸の方向
１０ 液晶表示装置
２ 上側偏光板吸収軸の方向
３ 液晶セル上電極基板
４ 上基板の配向制御方向
５ 液晶層
６ 液晶セル下電極基板
７ 下基板の配向制御方向
８ 下側偏光板
９ 下側偏光板吸収軸の方向
１０ 液晶表示装置
Claims (11)
- 下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する偏光板保護フィルム。
- 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－５）のいずれかで表される請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、少なくとも１つのベンゼン環を有する請求項１または２に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、前記一般式（ＩＩ－１）または（ＩＩ－３）で表される請求項１～３のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記ｎが２～４の整数であり、Ｘ以外の構成部分の総炭素数が４０以下である請求項１～４のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルム。
- ２つの前記Ｘを連結する最短連結原子数が、いずれの２つのＸ間においても、２０以下である請求項１～５のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記Ｚが、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（Ｒａ１）（Ｒａ２）－、＞Ｃ＜、（－ＯＣＨ２ＣＨ２）２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－）２、＞Ｃ（Ｒａ３）－、＞Ｎ－または－Ｎ（Ｒａ）－であり、ここでＲａ１～Ｒａ３が各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒａが水素原子、アルキル基、アリール基またはアシル基を表す請求項１、３、５および６のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルム。
- セルロースアシレートを含有する請求項１～７のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルム。
- 偏光子の両側または片側に、請求項１～８のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムを有する偏光板。
- 前記偏光子の両側または片側に有する少なくとも１つの偏光板保護フィルムに、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有する請求項９に記載の偏光板。
- 請求項９または１０に記載の偏光板を少なくとも１枚含む表示装置。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
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| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
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| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 15854746 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |