TW201307512A - 附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Atsushi Yasui
Yuusuke Toyama
Tomoyuki Kimura
Masayuki Satake
Shusaku Goto
Takeharu Kitagawa
Minoru Miyatake
Tomohiro Mori
Takashi Kamijo
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Nitto Denko Corp
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Abstract

一種附黏著劑層之偏光薄膜，其係具有偏光薄膜、以及設置於該偏光薄膜之黏著劑層者，其特徵在於，前述偏光薄膜係僅於偏光件之單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層係設置於不具有前述透明保護薄膜之側的偏光件，且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及鹼金屬鹽(B)之黏著劑組成物所形成者。

Description

附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 發明領域
本發明係有關於一種具有偏光薄膜、以及設置於該偏光薄膜之黏著劑層之附黏著劑層之偏光薄膜。更進一步地，本發明係有關於一種使用前述附黏著劑層之偏光薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等影像顯示裝置。
發明背景
液晶顯示裝置等從其影像形成方式來看，在液晶單元的兩側配置偏光元件是必不可少的，一般而言係貼附偏光薄膜。在液晶單元貼附前述偏光薄膜等之光學零件之際，通常使用黏著劑。另外，偏光薄膜與液晶單元之附著，通常為了降低光之損失，各自的材料係使用黏著劑進行密著。這種情形下，由於具有在固定偏光薄膜時不需要乾燥步驟等的優點，所以在偏光薄膜的單側預先以黏著劑層的形式設有黏著劑之附黏著劑層之偏光薄膜一般會受到應用。附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層上通常會貼有脫模薄膜。
在製造液晶顯示裝置時，在液晶單元貼附前述附黏著劑層之偏光薄膜之際，會從附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層將脫模薄膜剝離，而該脫模薄膜之剝離會導致靜電產生。像這樣產生的靜電會對液晶顯示裝置內部的液晶配向帶來影響，會造成不良。又，液晶顯示裝置於使用時會有因為靜電而產生顯示偏差之情形。靜電的產生可以藉由例 如於偏光薄膜外表面形成防靜電層來抑制，但其效果不彰，會有無法根本地防止靜電產生之問題點。因此，要在靜電產生之根源位置抑制產生，賦予黏著劑層防靜電機能是被要求的。作為賦予黏著劑層防靜電機能之方法，有將離子性化合物調配至形成黏著劑層之黏著劑中的方法被提出(專利文獻1~4)。專利文獻1記載有鋰鹽，專利文獻2記載有鹼金屬鹽及鹼土金屬鹽之至少一者，專利文獻3記載有具有有機陽離子、且在室溫下為固體之離子性化合物，專利文獻4記載有包含咪唑鎓陽離子與無機陰離子之離子性固體，係可調配至偏光薄膜所使用之丙烯酸系黏著劑者。又，使用聚塞吩等導電性聚合物之結合劑，於偏光薄膜與黏著劑層之間設置防靜電層之方法已被提出(專利文獻5)。又，附黏著劑層之偏光薄膜係要求附著狀態下的耐久性。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2010-189489號公報
專利文獻2：日本專利特開2010-065217號公報
專利文獻3：日本專利特開2010-066756號公報
專利文獻4：日本專利特開2009-251281號公報
專利文獻5：日本專利特開2003-246874號公報
發明概要
專利文獻1乃至4中，係將含離子性化合物之黏著劑組 成物所形成之黏著劑層使用於偏光薄膜，藉此賦予防靜電機能。專利文獻1乃至4中所使用之偏光薄膜，任一者均係使用偏光件兩側具有透明保護薄膜等保護基材的偏光薄膜。
另一方面，作為附黏著劑層之偏光薄膜，會有使用僅於偏光件之單側設置透明保護薄膜，另一側沒有設置透明保護薄膜，設有黏著劑層之附黏著劑層之偏光薄膜的情況。該附黏著劑層之偏光薄膜因透明保護薄膜僅設於其單側，故相較於兩側設有透明保護薄膜之情況，可削減相當於透明保護薄膜一層的成本，惟該黏著劑層中的離子性化合物之對偏光件的影響為大，例如，作為離子性化合物，使用離子性液體或離子性固體時，會有令偏光件劣化，加濕實驗後光學特性會大幅降低之問題。
又，如專利文獻5，將含有聚塞吩等導電性聚合物之層設於偏光薄膜與黏著劑層時，亦會偏光件劣化，光學特性降低。
本發明係以提供一種光學特性之劣化較小之附黏著劑層之偏光薄膜為目的，該附黏著劑層之偏光薄膜具有黏著劑層，該黏著劑層具有防靜電機能，且能滿足耐久性。
另外，本發明之目的在於提供一種影像顯示裝置，係使用了前述附黏著劑層之偏光薄膜。
本發明人等為解決前述課題反復悉心研究之結果，發現下述附黏著劑層之偏光薄膜，終而完成本發明。
亦即，本發明係有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，其係具有偏光薄膜、以及設置於該偏光薄膜之黏著劑層者，其特徵在於，前述偏光薄膜係僅於偏光件之單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層係設置於不具有前述透明保護薄膜之側的偏光件，且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及鹼金屬鹽(B)之黏著劑組成物所形成者。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鹼金屬鹽(B)係以鋰鹽為佳。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，鹼金屬鹽(B)宜含有0.0001~5重量份。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，作為偏光件，係可使用厚度為10μm以下者。作為厚度為10μm以下之偏光件，係可使用配向有二色性物質之聚乙烯醇系樹脂所構成之連續波偏光膜，且係透過對積層體進行空中輔助延伸及硼酸水中延伸的2段延伸步驟來延伸所獲得者，而前述積層體係含有熱可塑性樹脂基材製膜而成的聚乙烯醇系樹脂層者。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可以合適地使用含有(甲基)丙烯酸烷基酯以及含羥基的單體以作為單體單元。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可以合適地使用含有(甲基)丙烯酸烷基酯以及含羧基的 單體以作為單體單元。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，上述黏著劑組成物可以進一步含有交聯劑。該黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份宜含有交聯劑(C)0.01~20重量份。作為交聯劑(C)，宜為選自於異氰酸酯系化合物及過氧化物的至少任1種化合物。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，可以進一步含有矽烷偶合劑(D)0.001~5重量份。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，可以進一步含有聚醚改質聚矽氧化合物0.001~10重量份。
上述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量以50萬~300萬為佳。
上述附黏著劑層之偏光薄膜可於偏光薄膜與黏著劑層之間具有易附著層。
另外，本發明係關於一種影像顯示裝置，其特徵在於，使用了至少1個前述附黏著劑層之偏光薄膜。
在使用丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之黏著劑中，藉由於該黏著劑中調配離子性化合物可賦予防靜電機能。此種狀況被認為係離子性化合物在黏著劑層之表面上浮出(bleed out)而能有效率地表現防靜電機能。另一方面，因離子性化合物接觸偏光件，故會有偏光度等光學特性低下之 情況。
形成本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層的黏著劑組成物在基礎聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之外，還含有能賦予防靜電機能的鹼金屬鹽(B)，藉由該黏著劑組成物所形成的黏著劑層之防靜電機能優秀。本發明中，發現因使用鹼金屬鹽(B)，能不導致偏光件之劣化，且可賦予防靜電機能。
用以實施發明之形態
形成本發明之附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑組成物作為基礎聚合物係含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常作為單體單元係含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。再者，將(甲基)丙烯酸酯稱為丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明之(甲基)為同樣的意義。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以例示直鏈狀或支鏈狀之烷基的碳數1~18者。例如，前述烷基可以例示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二烷基(dodecyl)、異十四烷基(isomyristyl)、月桂基(lauryl)、十三烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基等。該等可以單獨或組合使用。該等烷基的平均碳數以3~9為佳。
另外，從黏著特性、耐久性、相位差之調整、折射率之調整等的觀點來看，可以使用含有如苯氧基乙基(甲基) 丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯的含芳香族環之(甲基)丙烯酸烷基酯。含有芳香族環的(甲基)丙烯酸烷基酯雖然可以將令其聚合而成之聚合物混合到前述例示之(甲基)丙烯酸系聚合物進行使用，惟從透明性之觀點來看，含有芳香族環的(甲基)丙烯酸烷基酯宜與前述(甲基)丙烯酸烷基酯發生共聚合以進行使用。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中前述含有芳香族環的(甲基)丙烯酸烷基酯之比例，係以在全體構成單體(100重量%)之重量比率中，可含有50重量%以下之比例。含有芳香族環的(甲基)丙烯酸烷基酯之之含有率更以1~35重量%為宜，又以1~20重量%為宜，又以7~18重量%為宜，更以10~16重量%為宜。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，以改善附著性和耐熱性為目的，可以利用共聚合導入具有聚合性官能基之1種以上的共聚單體，該聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等的不飽和雙鍵。這種共聚單體的具體例可舉例如，(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯(2-hydroxyethyl(methyl)acrylate)、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥十二酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等的含羥基單體；(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧庚基(甲基)丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸等之含羧基單體；順丁烯二酸酐、伊康酸酐等之含酸酐基單體；丙烯酸的己內酯加成物； 苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸(allyl sulfonic acid)、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等之含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等之含磷酸基單體等。
另外，作為改質目的的單體之例，還可以例舉(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等的(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸t-丁基胺基乙酯等的(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基嗎福林(N-acryloyl morpholine)等的琥珀醯亞胺系單體；N-環己基順丁烯二醯亞胺或N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺或N-苯基順丁烯二醯亞胺等的順丁烯二醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等的伊康醯亞胺系單體等。
此外，作為改質單體可以使用醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯吡咯啶酮(N-vinyl pyrrolidone)、甲基乙烯吡咯啶酮、乙烯吡啶(vinyl pyridine)、乙烯哌啶酮(vinyl piperidone)、乙烯嘧啶(vinyl pyrimidine)、乙烯哌啶(vinyl piperidine)、乙烯吡嗪(vinyl pyrazine)、乙烯吡咯(vinyl pyrrole)、乙烯咪唑(vinyl imidazole)、乙烯噁唑(vinyl oxazole)、乙烯嗎福林(vinyl morpholine)、N-乙烯羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯己內醯胺等的乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等的氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸氧化丙烯等的含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等的二元醇系丙烯酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等的丙烯酸酯系單體等。此外，可以例舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯醚等。
此外，上述以外的可以共聚之單體可以例舉含有矽原子的矽烷系單體等。矽烷系單體可舉例如，3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷(10-methacryloyloxydecyltrimethoxysilane)、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
另外，作為共聚單體亦可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯 酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸和多元醇的酯化物等之具有2個以上的(甲基)丙烯醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵之多官能性單體或，在聚酯、環氧、胺甲酸乙酯等的骨架上作為與單體成分相同的官能基加成了2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)在全體構成單體之重量比率中，以烷基(甲基)丙烯酸酯為主成分，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中之前述共聚單體的比例不作特殊限定，不過前述共聚單體的比例在全體構成單體之重量比率中，以0~20%左右，0.1~15%左右，進一步以0.1~10%左右為佳。
在該等共聚單體之中，從附著性、耐久性的點來看，可以合適地使用含羥基單體、含羧基單體。含羥基單體以及含羧基單體可以一併使用。該等共聚單體在黏著劑組成物含有交聯劑時，會成為與交聯劑的反應點。因為含羥基單體、含羧基單體等富於和分子間交聯劑的反應性，所以為提高製得之黏著劑層的凝集性和耐熱性可以合適地使用。在重工性的點上以含羥基單體為佳，而在兼具耐久性和重工性的點上以含羧基單體為佳。
當共聚單體含有含羥基單體時，其比例以0.01~15重量%為佳，0.03~10重量%較佳，0.05~7重量%更好。當共聚單體含有含羧基單體時，其比例以0.05~10重量%為佳，0.1~8重量%較佳，0.2~6重量%更好。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常係使用重量平均分子量在50萬~300萬之範圍者。若考慮耐久性，特別是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬~270萬者。進一步以80萬~250萬為佳。重量平均分子量若比50萬還小，在耐熱性的點上就不合適。另外，重量平均分子量若比300萬還大，要調整成用於塗工之黏度會需要多量的稀釋溶劑，成本會提高故不合適。再者，重量平均分子量係指利用GPC(凝膠滲透層析儀)作測定，並用聚苯乙烯換算而算出的數值。
這種(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的製造可以適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等之公知的製造方法。另外，所製得之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一種均可。
再者，溶液聚合中，聚合溶媒可以使用例如，醋酸乙酯、甲苯等。作為具體的溶液聚合例係，反應在氮等的不活潑氣體氣流下，加入聚合起始劑，通常於50~70℃左右，5~30小時左右的反應條件下實行。
自由基聚合所用的聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等可以不作特殊限定地適當選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量可以利用聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件來控制，根據該等之種類調整適當 的該使用量。
聚合起始劑可舉例如，2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽(2,2'-azobis(2-amidinopropane)dihydrochloride)、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等的偶氮系起始劑，過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽，二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-t-丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-sec-丁基過氧化二碳酸酯、t-丁基過氧化新癸酸酯、t-己基過氧化新戊酸酯、t-丁基過氧化新戊酸酯、二月桂醯基過氧化物、二-n-辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物、二苯甲醯過氧化物、t-丁基過氧化異丁酸酯、1,1-二(t-己基過氧化物)環己烷、t-丁基過氧化氫(t-butyl hydroperoxide)、過氧化氫等的過氧化物物系起始劑，過硫酸鹽和亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物和抗壞血酸鈉之組合等過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系起始劑等，惟並不限定於該等。
前述聚合起始劑可以單獨使用，或者亦可混合2種以上進行使用，不過作為全體的含量相對於單體100重量份，以0.005~1重量份左右為佳，0.02~0.5重量份左右較佳。
再者，聚合起始劑係使用例如2,2’-偶氮雙異丁腈，為製造前述重量平均分子量的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，聚合起始劑之使用量相對於單體成分的全體量100重量份，宜 採0.06~0.2重量份左右，採0.08~0.175重量份左右更好。
鏈轉移劑可舉例如，月桂基硫醇、氧化丙烯硫醇(glycidyl mercaptan)、巰乙酸(mercaptoacetic acid)、2-巰基乙醇、氫硫基乙酸(thioglycollic acid)、氫硫基乙酸-2-乙基己酯(2-ethylhexyl thioglycollate)、2,3-二巰-1-丙醇等。鏈轉移劑可以單獨使用，或者亦可混合2種以上進行使用，不過作為全體的含量相對於單體成分之全體量100重量份，為0.1重量份左右以下。
另外，進行乳化聚合之情形使用的乳化劑可舉例如，月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、月桂基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等的陰離子系乳化劑，聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等的非離子系乳化劑等。該等之乳化劑可以單獨使用，亦可將2種以上一併使用。
此外，反應性乳化劑，作為導入了丙烯基、烯丙醚基等的自由基聚合性官能基之乳化劑，具體而言有例如，Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上，任一種均為第一工業製藥公司製)，ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製)等。因反應性乳化劑在聚合後進入聚合物鏈，故耐水性良好因而合適。乳化劑的使用量相對於單體成分之全體量100重量份，為0.3~5重量份，從聚合安定性和機械安定性來看以0.5~1重量份較佳。
本發明之黏著劑組成物在前述(甲基)丙烯酸系聚合物 (A)之外，含有鹼金屬鹽(B)。鹼金屬鹽(B)可單獨1種或複數併用。鹼金屬鹽(B)可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。
構成鹼金屬鹽(B)之陽離子部份的鹼金屬離子，可舉出鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子中以鋰離子為佳。
鹼金屬鹽(B)之陰離子部份可為有機物構成，亦可為無機物構成。作為以有機鹽構成之陰離子部份，可舉例如CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)2N-、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、(C2F5SO2)2N-、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-等。特別是，含氟原子之陰離子部份係由離子解離性佳的離子化合物獲得而能適宜使用。作為構成無機鹽之陰離子部份，可舉例如Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。作為陰離子部份，(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等(全氟烷基磺醯)醯亞胺為佳，特別是(CF3SO2)2N-所示之(三氟甲烷磺醯)醯亞胺為佳。
作為鹼金屬之有機鹽，具體而言可舉出醋酸鈉、褐藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，其中LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等較佳，Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等含氟鋰醯亞胺鹽更佳，特別是(全氟烷基磺醯)醯亞胺鋰鹽為佳。
又，作為鹼金屬之無機鹽，可舉出過氯酸鋰、碘化鋰。
本發明之黏著劑組成物中鹼金屬鹽(B)之比例，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，以含有0.001~5重量份為佳。前述鹼金屬鹽(B)不足0.001重量份時，會有防靜電性能之提昇效果不夠充分的情形。前述鹼金屬鹽(B)宜為0.01重量份以上，更佳為0.1重量份以上。另一方面，前述鹼金屬鹽(B)多於5重量份時，會有耐久性不夠充分的情形。前述鹼金屬鹽(B)宜為3重量份以下，更以1重量份以下為佳。鹼金屬鹽(B)之比例可採用前述上限值或下限值以適宜設定較佳範圍。
此外，本發明之黏著劑組成物中可以含有交聯劑(C)。交聯劑(C)可以使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可以例舉異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。多價金屬原子可以例舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結的有機化合物中之原子可以例舉氧原子等，有機化合物可以例舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
交聯劑(C)以異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化物型交聯劑為佳。有關異氰酸酯系交聯劑之化合物可舉例如，甲苯二異氰酸酯、氯苯二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、經加氫的二 苯基甲烷二異氰酸酯等的異氰酸酯單體及該等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等經加成之異氰酸酯化合物或異氰尿酸化物、縮二脲型化合物，此外可以例舉聚醚聚醇或聚酯聚醇、丙烯酸聚醇、聚丁二烯聚醇、聚異戊二烯聚醇等經加成反應而成之胺甲酸乙酯預聚物型的異氰酸酯等。特別合適的是聚異氰酸酯化合物，係由選自於六亞甲基二異氰酸酯、加氫苯二甲基二異氰酸酯，以及異佛酮二異氰酸酯組成之族群中的1種或由其衍生之聚異氰酸酯化合物。此處，由選自於六亞甲基二異氰酸酯、加氫苯二甲基二異氰酸酯，以及異佛酮二異氰酸酯組成之族群中的1種或由其衍生之聚異氰酸酯化合物中，包含六亞甲基二異氰酸酯、加氫苯二甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、聚醇改質六亞甲基二異氰酸酯、聚醇改質加氫苯二甲基二異氰酸酯、三聚物型加氫苯二甲基二異氰酸酯以及聚醇改質異佛酮二異氰酸酯等。例示出的聚異氰酸酯化合物與羥基的反應係將特別是聚合物中所含的酸、鹼當做觸媒處理，因為進行迅速，所以特別有助於交聯的迅速性，因而合適。
過氧化物只要是利用加熱或光照產生自由基活性物(radical active species)以進行黏著劑組成物的基礎聚合物之交聯者就可以適當使用，考慮到操作性和安定性，以使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃的過氧化物為佳，使用90℃~140℃的過氧化物較佳。
可以使用的過氧化物可舉例如，二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-t-丁基環己基) 過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二-sec-丁基過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、t-丁基過氧化新癸酸酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、t-己基過氧化新戊酸酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、t-丁基過氧化新戊酸酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二-n-辛醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、t-丁基過氧化異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(t-己基過氧化)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中從特別是交聯反應效率優異來看，可以合適地使用二(4-t-丁基環己基)過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。
再者，過氧化物的半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，係指過氧化物之殘存量直到一半為止的時間。關於用以在任意的時間下獲得半衰期之分解溫度或在任意的溫度下之半衰期時間，係記載於製造商目錄等，例如，記載於日本油脂株式會社的「有機過氧化物目錄第9版(2003年5月)」等。
交聯劑(C)的使用量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，以0.01~20重量份為佳，0.03~10重量份更 好。再者，交聯劑(C)低於0.01重量份時，黏著劑的凝集力有不足的傾向，加熱時有產生發泡之虞，另一方面，若多於20重量份，耐濕性就會不夠，在信賴性試.驗等容易發生剝離。
上述異氰酸酯系交聯劑可以單獨使用1種，或者亦可混合2種以上進行使用，作為全體的含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述聚異氰酸酯化合物交聯劑以含有0.01~2重量份為佳，含有0.02~2重量份較佳，含有0.05~1.5重量份更好。考慮凝集力、在耐久性試驗之剝離的阻止等，可以適當地含有。
前述過氧化物可以單獨使用1種，或者亦可混合2種以上進行使用，作為全體的含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，為前述過氧化物0.01~2重量份，以含有0.04~1.5重量份為佳，含有0.05~1重量份較佳。為了加工性、重工性、交聯安定性、剝離性等之調整，而在該範圍內適當地選擇。
再者，反應處理後的殘存過氧化物分解量之測定方法可以利用例如HPLC(高速液體層析法)作測定。
較具體地說，例如，將反應處理後的黏著劑組成物每取出約0.2g，浸漬於醋酸乙酯10ml，並用振搖機在25℃下、120rpm振搖3小時以提取後，在室溫靜置3日。接下來，加入乙腈10ml，在25℃下、120rpm振搖30分鐘，且利用薄膜過濾器(0.45μm)過濾，將製得之提取液約10μl注入HPLC進行分析，可以得到反應處理後的過氧化物量。
此外，本發明之黏著劑組成物中可以含有矽烷偶合劑(D)。藉由使用矽烷偶合劑(D)可以提高耐久性。具體而言，矽烷偶合劑可舉例如3-縮水甘油醚氧基丙基三甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyl trimethoxysilane)、3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等的含環氧基矽烷偶合劑，3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等的含胺基矽烷偶合劑，3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等的含(甲基)丙烯基矽烷偶合劑，3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等的含異氰酸酯基矽烷偶合劑等。
前述矽烷偶合劑(D)可以單獨使用，或者亦可混合2種以上進行使用，作為全體的含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述矽烷偶合劑以0.001~5重量份為佳，進一步以0.01~1重量份為佳，更進一步以0.02~1重量份較佳，又進一步以0.05~0.6重量份為佳。係提高耐久性，適度地保持對液晶單元等的光學零件之附著力的量。
此外，本發明之黏著劑組成物中可混合聚醚改質聚矽氧化合物。聚醚改質聚矽氧化合物可使用例如特開2010-275522號公報所揭示者。
聚醚改質聚矽氧化合物係具有聚醚骨架，而且在至少1個末端具有以下述一般式(1)：-SiRaM3-a(式中，R為亦可有取代基之碳數1~20的1價有機基團，M 為羥基或水解性基團，a為0~2的整數。但是，R為複數存在時，複數的R互相可以相同亦可不同，M為複數存在時，複數的M互相可以相同亦可不同。)表示之反應性矽基。
作為前述聚醚改質聚矽氧化合物，可舉出一般式(2)：RaM3-aSi-X-Y-(AO)n-Z(式中，R為亦可具有取代基之碳數1~20的1價有機基團，M為羥基或水解性基團，a為0~2的整數。但是，R為複數存在時，複數的R互相可以相同亦可不同，M為複數存在時，複數的M互相可以相同亦可不同。AO表示直鏈或支鏈的碳數1~10之氧伸烷基，n為1~1700，表示氧伸烷基的平均加成莫耳數。X表示碳數1~20的直鏈或支鏈伸烷基。Y表示醚鍵、酯鍵、胺甲酸乙酯鍵或者碳酸酯鍵。
Z為氫原子、1價的碳數1~10之烴基、以一般式(2A)：-Y1-X-SiRaM3-a(式中，R、M、X與前述相同。Y1表示單鍵、-CO-鍵、-CONH-鍵或者-COO-鍵。)或者以一般式(2B)：-Q{-(OA)n-Y-X-SiRaM3-a}m(式中，R、M、X、Y與前述相同。OA與前述AO相同，n與前述相同。Q為2價以上的碳數1~10之烴基，m與該烴基的價數相同。)表示之基團。)表示的化合物。
聚醚改質聚矽氧化合物的具體例可舉例如，鐘淵化學(KANEKA)公司製的MS聚合物S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；SAT10、SAT200、SAT220、SAT350、SAT400、旭硝子公司製的EXCESTAR S2410、S2420或S3430 等。
此外，本發明的黏著劑組成物中亦可含有其他的公知添加劑，例如，根據使用用途可以適當添加聚丙二醇等的聚烷二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等的粉體、染料、界面活性劑、可塑劑、黏著型附著劑、表面潤滑劑、均染劑、軟化劑、防氧化劑、防老化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑製劑、無機或有機的填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。另外，在可以控制的範圍內，亦可採用在還原劑之外的氧化還原系。
利用前述黏著劑組成物形成黏著劑層，不過當黏著劑層的形成時，宜在調整交聯劑全體之添加量的同時，充分考慮交聯處理溫度和交聯處理時間的影響。
交聯處理溫度和交聯處理時間可以利用使用的交聯劑進行調整。交聯處理溫度以170℃以下為佳。
另外，該交聯處理可以在黏著劑層的乾燥步驟時之溫度實行，亦可在乾燥步驟後設置另外的交聯處理步驟。
另外，關於交聯處理時間可以考慮生產性和操作性進行設定，惟通常在0.2~20分鐘左右，以0.5~10分鐘為佳。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係僅於偏光件之單側設置透明保護薄膜，另一側不設透明保護薄膜，利用前述黏著劑組成物於偏光件形成黏著劑層者。
形成黏著劑層的方法有例如，將前述黏著劑組成物塗佈到經過剝離處理的隔離膜等，再乾燥除去聚合溶劑等，在形成黏著劑層後轉印到偏光薄膜的方法，或者在偏光薄 膜塗佈前述黏著劑組成物，再乾燥除去聚合溶劑等，且將黏著劑層形成於偏光薄膜的方法等，可以藉此加以製作。再者，黏著劑的塗佈時，亦可適當地重新添加聚合溶劑以外的一種以上之溶劑。
經過剝離處理的隔離膜可以合適地使用聚矽氧剝離襯裡。在於這種襯裡上塗佈、乾燥本發明之附著劑組成物以形成黏著劑層的步驟中，乾燥黏著劑的方法依目的可以採用適當、合適的方法。宜採用加熱乾燥上述塗佈膜的方法。加熱乾燥溫度以40℃~200℃為佳，50℃~180℃更好，70℃~170℃特別合適。透過加熱溫度是在上述的範圍，可以獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可以採用適當、合適的時間。上述乾燥時間以5秒~20分鐘為佳，5秒~10分鐘更好，10秒~5分鐘特別合適。
另外，可以在偏光薄膜之表面形成錨層(anchor layer)同時施加電暈處理、電漿處理等之各種易附著處理後形成黏著劑層。另外，在黏著劑層的表面實行易附著處理亦可。
黏著劑層的形成方法可以採用各種方法。具體而言，可舉例如輥塗、吻式輥塗(kiss roll coat)、凹板塗佈、逆塗式塗佈、滾刷(roll brush)、噴塗、浸漬式輥塗、刮條塗佈、刮刀塗佈、氣刀式塗佈、簾幕式塗佈、唇嘴塗佈、利用模具塗佈等之押出塗佈法等的方法。
黏著劑層的厚度不作特殊限制，為例如1~100μm左右。以2~50μm為佳，2~40μm較佳，5~35μm更好。
當前述黏著劑層露出時，直到供以實際應用為止，利用經過剝離處理的膜(隔離膜)保護黏著劑層亦可。
隔離膜的構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等的塑膠薄膜，紙、布、不織布等的多孔質材料，網、發泡膜、金屬箔以及該等之積層體等之適當的薄片體等，從表面平滑性優異的點上看適宜使用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜只要是可以保護前述黏著劑層的薄膜就不作特殊限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯化乙烯薄膜、氯化乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯共聚物薄膜等。
前述隔離膜的厚度通常為5~200μm，以5~100μm左右為佳。前述隔離膜依需要亦可進行聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或者脂肪酸醯胺系的脫模劑，二氧化矽粉等造成的脫模以及防污處理或，塗佈型、混入型、蒸鍍型等的防靜電處理。特別是藉由在前述隔離膜的表面適當地實行矽處理、長鏈烷基處理、氟處理等的剝離處理，可以進一步提高從前述黏著劑層的剝離性。
再者，上述附黏著劑層之偏光薄膜之製作時使用的，經過剝離處理之膜可以保持不變地作為附黏著劑層之偏光薄膜之隔離膜使用，步驟方面可以簡略化。
偏光薄膜係使用僅於偏光件之單側具有透明保護薄膜 者。
偏光件不作特殊限定，可以使用各種偏光件。偏光件可舉例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．醋酸乙烯共聚物系部分皂化薄膜等的親水性高分子薄膜上，吸附碘或二色性染料之二色性物質且經單軸延伸者，聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯化乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等之中以聚乙烯醇系薄膜和碘等的二色性物質形成之偏光件為合適。該等之偏光件的厚度不作特殊限制，一般而言係80μm左右以下。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色且經單軸延伸的偏光件可以藉由例如將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘的水溶液來進行染色，且透過延伸至原長的3~7倍以製成。依需要亦可浸漬於亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等之水溶液中。此外依需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水進行水洗亦可。透過水洗聚乙烯醇系薄膜除了可以洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污物或抗結塊劑之外，透過使聚乙烯醇系薄膜膨脹亦有防止染色的偏差等之不均勻的效果。延伸可以在用碘染色後實行，亦可邊進行染色邊進行延伸，或者亦可在延伸之後用碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等的水溶液或水浴中進行延伸。
又，作為偏光件可使用10μm以下的薄型偏光件。由薄型化之觀點來說，該厚度係以1~7μm為宜。此種薄型偏光件之厚度偏差較少，視認性優異，且尺寸變化較少，故耐久性優異，另外在作為偏光薄膜的厚度上亦因可追求薄型 化而較佳。
作為薄型的偏光件，具代表性的是日本專利特開昭51-069644號公報和特開2000-338329號公報、及WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、以及特願2010-269002號說明書和特願2010-263692號說明書所記載的薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱作PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體之狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法來獲得。透過此製法，即使PVA系樹脂層較薄，因可受延伸用樹脂基材支撐，能夠延伸而不發生因延伸導致的破斷等不良狀況。
作為前述薄型偏光膜，包含在積層體之狀態下延伸之步驟及染色步驟的製法之中，從可高倍率延伸及提昇偏光性能之觀點來看，如同於WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460說明書、及特願2010-269002號說明書和特願2010/263692號說明書所記載之包含在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所獲得者為佳，特別是如特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書所記載，包含在硼酸水溶液中延伸之前，進行輔助性地空中延伸之步驟的製法所獲得者較佳。
上述PCT/JP2010/001460說明書所記載之薄型高機能偏光膜，係於樹脂基材一體製膜，且配向有二色性物質之PVA系樹脂所構成之厚度7μm以下之薄型高機能偏光膜，具有單體透過率42.0%以上且偏光度99.95%之光學特性。
上述薄型高機能偏光膜係於具有至少20μm厚度的樹脂基材上，進行PVA系樹脂的塗佈以及乾燥而形成PVA系樹脂層，所形成的PVA系樹脂層浸漬於二色性物質之染色液，使PVA系樹脂層吸附二色性物質，將吸附二色性物質之PVA系樹脂層於硼酸水溶液中與樹脂基材一體地延伸成為總延伸倍率為原長之5倍以上來製造。
又，為製造包含配向有二色性物質之薄型高機能偏光膜之積層體薄膜之方法，可藉由包含下述步驟來製造上述薄型高機能偏光膜：形成積層體薄膜之步驟，該積層體薄膜包含將具有至少20μm厚度之樹脂基材、及於樹脂基材單面上透過塗佈含有PVA系樹脂的水溶液及乾燥形成之PVA系樹脂層；使包含於積層體薄膜之PVA系樹脂層吸附二色性物質之步驟，係將包含樹脂基材與形成於樹脂基材單面的PVA系樹脂層之前述積層體薄膜浸漬於含有二色性物質之染色液中；延伸步驟，係使包含有吸附了二色性物質之PVA系樹脂層的積層體薄膜於硼酸水溶液中延伸，使其成為總延伸倍率為原長之5倍以上；以及將吸附了二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材一體地延伸，藉此製出製膜有薄型高機能偏光膜之積層體薄膜之步驟，而該薄型高機能偏光膜係於樹脂基材之單面上配向有二色性物質之PVA系樹脂層所構成，厚度7μm以下、具有單體透過率42.0%以上且偏光度99.95%以上之光學特性者。
本發明係如上所述，關於上述附黏著劑層之偏光薄膜，作為厚度10μm以下之偏光件，係配向有二色性物質之 PVA系樹脂所構成之連續波偏光膜，且可使用透過對包含有於熱可塑性樹脂基材上製膜而成的聚乙烯醇系樹脂層之積層體進行空中輔助延伸及硼酸水中延伸的2段延伸步驟來延伸而製成者。作為前述熱可塑性樹脂基材，係以非晶酯系熱可塑性樹脂基材或結晶酯系熱可塑性樹脂基材為佳。
上述特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書之薄型偏光膜係配向有二色性物質之PVA系樹脂所構成之連續波偏光膜，且係透過對包含有於非晶酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而成的PVA系樹脂層之積層體進行空中輔助延伸及硼酸水中延伸的2段延伸步驟來延伸，使其厚度成為10μm以下者。該薄型偏光膜係以具有滿足以下條件之光學特性者為佳：令單體透過率為T、偏光度為P時，P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟，T<42.3)及P≧99.9(惟，T≧42.3)。
具體而言，前述薄型偏光膜可由包含下述步驟之薄型偏光膜製造方法來製造：藉由對在連續波的非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而成之PVA系樹脂層進行空中高溫延伸，使經配向之PVA系樹脂層構成的延伸中間生成物形成之步驟；藉由對於延伸中間生成物之二色性物質吸附，形成經二色性物質(碘或碘與有機染料之混合物為佳)配向之PVA系樹脂層所構成之著色中間生成物之步驟；藉由對於著色中間生成物之硼酸水中延伸，形成配向有二色性物質之PVA系樹脂層所構成之厚度10μm以下的偏光膜之步驟。
於該製造方法中，藉由空中高溫延伸與硼酸水中延伸而製膜於非晶酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率，係以成為5倍以上為理想。用於硼酸水中延伸之硼酸水溶液的液溫可為60℃以上。於硼酸水溶液中延伸著色中間生成物之前，對著色中間生成物施以不溶化處理較理想，此時，係以將前述著色中間生成物浸漬在液溫不超過40℃之硼酸水溶液來進行為理想。上述非晶酯系熱可塑性樹脂基材可為令異酞酸共聚合之共聚合聚乙烯對苯二甲酸酯、令環己烷二甲醇共聚合之共聚合聚乙烯對苯二甲酸酯、或其他含共聚合聚乙烯對苯二甲酸酯之非晶聚乙烯對苯二甲酸酯，且為由透明樹脂構成者較佳，其厚度可作成為經製膜之PVA系樹脂層的厚度之7倍以上。又，空中高溫延伸之延伸倍率係以3.5倍以下為佳，空中高溫延伸之延伸溫度在PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體來說在95℃~150℃範圍較佳。空中高溫延伸係以自由端單軸延伸來進行時，製膜於非晶酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率係以5倍以上、7.5倍以下為佳。又，空中高溫延伸係以固定端單軸延伸來進行時，製膜於非晶酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率係以5倍以上、8.5倍以下為佳。
更具體來說，係以如下方法來製造薄型偏光膜。
製作令異酞酸6mol%共聚合之異酞酸共聚合聚乙烯對苯二甲酸酯(非晶PET)之連續波基材。非晶PET之玻璃轉移溫度為75℃。由連續波之非晶PET基材與聚乙烯醇(PVA)層 所構成之積層體係如下所述製作。另外，PVA之玻璃轉移溫度為80℃。
準備200μm厚的非晶PET基材、與聚合度1000以上、膠化度99%以上的PVA粉末溶解於水之4~5%濃度的PVA水溶液。接著，於200μm厚的非晶PET基材上塗佈PVA水溶液，於50~60℃之溫度下乾燥，獲得於非晶PET基材上製膜有7μm厚PVA層之積層體。
包含有7μm厚PVA層之積層體經過包含有空中輔助延伸及硼酸水中延伸的2段延伸步驟之下述步驟，以製造3μm厚的薄型高機能偏光膜。藉由第1段的空中輔助延伸步驟，使包含有7μm厚PVA層之積層體與非晶PET基材一體地延伸，形成包含有5μm厚PVA層之延伸積層體。具體而言，該延伸積層體係將包含有7μm厚PVA層之積層體用在配備於設定成130℃延伸溫度環境之烤箱的延伸裝置，使自由端單軸延伸成為延伸倍率1.8倍者。藉由此延伸處理，延伸積層體所含之PVA層會變化成PVA分子經配向之5μm厚的PVA層。
接著，透過染色步驟，形成令碘吸附於PVA分子經配向之5μm厚PVA層之著色積層體。具體而言，此著色積層體係將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液，經任意時間使得構成最後所形成的高機能偏光膜之PVA層的單體透過率為40~44%，藉此而讓延伸積層體所含之PVA層吸附碘者。本步驟中，染色液係以水作溶劑、碘濃度設於0.12~0.30重量%之範圍內，碘化鉀濃度設為 0.7~2.1重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度比為1比7。另外，欲使碘溶於水，碘化鉀是必須的。更詳細來說，藉由將延伸積層體浸漬60秒於碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液，會形成令碘吸附於PVA分子經配向之5μm厚PVA層之著色積層體。
接著，藉由第2段硼酸水中延伸步驟，將著色積層體與非晶PET基材一體地進一步延伸，形成含有構成3μm厚高機能偏光膜的PVA層之光學薄膜積層體。具體而言，此光學薄膜積層體係將著色積層體用在配備於處理裝置之延伸裝置，使自由端單軸延伸成為延伸倍率3.3倍者，該處理裝置設定於含硼酸及碘化鉀之液溫範圍60~85℃的硼酸水溶液。更詳細地說，硼酸水溶液之液溫為65℃。又，硼酸含量係相對水100重量份為4重量份，碘化鉀含量係相對水100重量份為5重量份。本步驟中，經調整碘吸附量之著色積層體首先浸漬5~10秒於硼酸水溶液。之後，該著色積層體以原狀通過配備於處理裝置之延伸裝置，其為周速相異之複數組滾軸，花費30~90秒使其自由端單軸延伸成為延伸倍率為3.3倍。藉由此延伸處理，將著色積層體所含之PVA層變化成經吸附的碘係作為聚碘離子錯合物而單一方向高次配向之3μm厚的PVA層。此PVA層係構成偏光薄膜積層體之高機能偏光膜。
雖然不是偏光薄膜積層體之製造所必須的步驟，藉由洗淨步驟，偏光薄膜積層體自硼酸水溶液取出，用碘化鉀水溶液洗淨於非晶PET基材製膜之3μm厚的PVA層之表面 附著的硼酸較理想。此後，經洗淨之光學薄膜積層體以60℃溫風之乾燥步驟來乾燥。又，洗淨步驟係用以解消硼酸析出等外觀不良之步驟。
同樣地並非偏光薄膜積層體之製造所必須的步驟，藉由貼合及/或轉印步驟，於非晶PET基材製膜之3μm厚的PVA層之表面塗佈附著劑，並貼合80μm厚的三醋酸纖維素薄膜後，剝離非晶PET基材，將3μm厚的PVA層轉印至80μm厚的三醋酸纖維素薄膜亦可。
[其他步驟]
上述薄型偏光膜之製造方法，除上述步驟以外，還可包含其他步驟。其他步驟可舉例如不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(水份率之調節)步驟等。其他步驟可於任意適合的時機進行。
上述不溶化步驟具代表性的是將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液來進行。藉由施予不溶化處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液之濃度相對於水100重量份為1重量份~4重量份較佳。不溶化浴(硼酸水溶液)之液溫係以20℃~50℃為佳。不溶化步驟宜於積層體製作後，染色步驟或水中延伸步驟之前進行。
上述交聯步驟具代表性的是將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液來進行。藉由施予交聯處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液之濃度相對於水100重量份為1重量份~4重量份較佳。又，於上述染色步驟後進行交聯步驟時，更以添加碘化物為佳。藉由添加碘化物，可以抑制吸 附於PVA系樹脂層之碘溶出。碘化物之添加量係相對於水100重量份為1重量份~5重量份較佳。碘化物之具體例係如上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫係以20℃~50℃為佳。交聯步驟宜於上述第2之硼酸水中延伸步驟之前進行。較佳實施型態中，染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中延伸步驟係以此順序進行。
構成透明保護薄膜的材料可以使用例如透明性、機械強度、熱安定性、防濕性、等方性等優異之熱可塑性樹脂。這種熱可塑性樹脂的具體例可以例舉三醋酸纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸(polyethersulfone)樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂以及該等之混合物。透明保護薄膜中亦可含有1種以上之任意適當的添加劑。添加劑可舉例如，紫外線吸收劑、防氧化劑、潤滑劑、可塑劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量以50~100重量%為佳，50~99重量%較佳，60~98重量%更好，70~97重量%特別合適。當透明保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量為50重量%以下時，熱可塑性樹脂本來具有的高透明性等會有無法充分體現之虞。
再者，在偏光件的單側，透明保護薄膜係利用附著劑層加以貼合。偏光件與透明保護薄膜之附著處理係使用附著劑。作為附著劑，可例示如異氰酸酯系附著劑、聚乙烯 醇系附著劑、明膠系附著劑、乙烯系乳膠系、水系聚酯等。前述附著劑通常係作為由水溶液而成之附著劑，且通常係含有0.5~60重量%之固體含量而成。上述以外，作為偏光件與透明保護薄膜之附著劑，可舉出紫外線硬化型附著劑、電子束硬化型附著劑等。電子束硬化型偏光薄膜用附著劑對於上述各種透明保護薄膜顯示有合適的附著性。另外本發明所用之附著劑中，可含有金屬化合物填充物。
另外，前述偏光薄膜可與其他光學薄膜相積層。作為其他光學薄膜，可舉例如反射板或反透射板、相位差薄膜(包含1/2和1/4等波長的板)、視覺補償薄膜、增亮薄膜等用於液晶顯示裝置等之形成的光學層而成者。該等在實際應用之際，在前述偏光薄膜可以積層使用1層或2層以上。
在偏光薄膜積層了前述光學層的光學薄膜雖然亦可在液晶顯示裝置等的製造過程中以順次個別地積層之方式形成，惟以預先積層以製成偏光薄膜者品質的安定性和組裝操作等優異，有提高液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。積層可以採用黏著層等之適當的附著手段。前述的偏光薄膜在與其他的光學層附著之際，該等之光學軸可以根據目標相位差特性等形成適當的配置角度。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可以合適地用於液晶顯示裝置等之各種影像顯示裝置的形成等。液晶顯示裝置的形成可以遵循習知來實行。亦即，液晶顯示裝置一般係利用適當地組裝液晶單元等的顯示面板和附黏著劑層之偏光薄膜以及依需要的照明系統等之結構零件並裝入驅動線 路等加以形成，本發明中，除了使用依據本發明的附黏著劑層之偏光薄膜的點外不作特殊限定，可以遵循習知。針對液晶單元亦可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等的任意類型等之任意類型的液晶單元。
可以形成在液晶單元等的顯示面板之單側或兩側配置有附黏著劑層之偏光薄膜的液晶顯示裝置或者，在照明系統使用背光源或反射板等之適當的液晶顯示裝置。在該情形，依據本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可以設置在液晶單元等的顯示面板之單側或兩側。在兩側設置偏光薄膜時，該等可以相同亦可不同。此外，液晶顯示裝置的形成之際，可以在適當的位置配置1層或2層以上例如擴散板、抗眩層、防反射膜、保護板、棱鏡陣列、透鏡陣列膜、光擴散板、背光膜等的適當零件。
實施例
以下，將利用實施例具體說明本發明，惟本發明並不因該等實施例受到限定。再者，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特殊限定的室溫放置條件全部為23℃ 65%RH。
<(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量之測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量係利用GPC(凝膠滲透層析儀)作測定。
．分析裝置：東曹公司製，HLC-8120GPC
．管柱：東曹公司製，G7000HXL+GMHXL+GMHXL
．管柱尺寸：各7.8mm ×30cm計90cm
．管柱溫度：40℃
．流量：0.8ml/min
．注入量：100μl
．溶離液：四氫呋喃
．檢測器：示差折射計(RI)
．標準試料：聚苯乙烯
<偏光薄膜(1)的製作>
為製作薄型偏光膜，首先，9μm厚PVA層製膜於非晶PET基材之積層體藉由於延伸溫度130℃下之空中輔助延伸來形成延伸積層體，接著，將延伸積層體藉由染色形成著色積層體，再將著色積層體藉由延伸溫度65度之硼酸水中延伸，將其與非晶PET基材一體地延伸成為總延伸倍率為5.94倍，形成含有4μm厚PVA層之光學薄膜積層體。像這樣透過2段延伸使製膜於非晶PET基材之PVA層的PVA分子高次配向，透過染色形成包含厚度4μmPVA層之偏光薄膜積層體，可構成使吸附之碘作為聚碘離子錯合物經單一方向高次配向之高機能偏光膜。接下來，於該光學薄膜積層體之偏光膜表面塗佈聚乙烯醇系附著劑，並貼合經皂化處理之40μm厚三醋酸纖維素薄膜後，剝離非晶PET基材，製作出使用薄型偏光膜之偏光薄膜。以下，將其稱為薄型偏光薄膜(1)。
<偏光薄膜(2)的製作>
將厚度80μm的聚乙烯醇薄膜在速度比不同之滾筒間，於30℃、0.3%濃度的碘溶液中染色1分鐘，且延伸直到3倍 為止。之後，於60℃且含有4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，且進行延伸令總延伸倍率達6倍為止。接下來，透過在30℃且含有1.5%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬10秒鐘以進行洗淨後，在50℃實行4分鐘乾燥以製得厚度20μm的偏光件。在該偏光件的兩面，利用聚乙烯醇系附著劑貼合經過皂化處理的厚度40μm之三醋酸纖維素薄膜以製成偏光薄膜。以下，將其稱作TAC系偏光薄膜(2)。
製造例1 <丙烯酸系聚合物(A-1)的製備>
準備含有丁基丙烯酸酯82份、丙烯酸苄酯15份、4-羥丁基丙烯酸酯3份之單體，裝入具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中。又，相對於前述單體混合物(固體含量)100份，準備聚合起始劑2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯，邊緩緩攪拌邊導入氮氣，氮氣取代完後，將燒瓶內的液溫保持在60℃附近進行7小時聚合反應。其後，所得反應液中加入醋酸乙酯，調整成固體含量濃度30%，以製備重量平均分子量100萬的丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液。
製造例2 <丙烯酸系聚合物(A-2)的製備>
於製造例1中，作為單體混合物，使用含有丁基丙烯酸酯76.8份、丙烯酸苄酯10份、苯氧基乙基丙烯酸酯10份、4-羥丁基丙烯酸酯3份及丙烯酸0.2份之單體混合物，除此以 外均與製造例1同樣，製備重量平均分子量100萬的丙烯酸系聚合物(A-2)之溶液。
製造例3 <丙烯酸系聚合物(A-3)的製備>
於製造例1中，作為單體混合物，使用含有丁基丙烯酸酯81.9份、丙烯酸苄酯13份、2-羥乙基丙烯酸酯0.1份及丙烯酸5份之單體混合物，除此以外均與製造例1同樣，製備重量平均分子量100萬的丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液。
實施例1 (黏著劑組成物的製備)
相對於製造例1中製得之丙烯酸系聚合物(A-1)溶液之固體含量100份，混合鋰雙(三氟甲烷磺醯)醯亞胺(日本Carlit公司製)0.002份，接著，混合三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯(三井化學公司製：Takenate D110N)0.1份、二苯甲醯過氧化物0.3份及γ-縮水甘油醚氧基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)0.075份，配製丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之偏光薄膜的製備)
接著，將上述丙烯酸系黏著劑溶液以噴泉塗佈(fountain coater)均勻地塗於經聚矽氧系剝離劑處理之聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(隔離薄膜)表面，並於155℃之空氣循環式恆溫烤爐乾燥2分鐘，於隔離薄膜表面形成厚20μm的黏著劑層。接著，將隔離薄膜上所形成的黏著劑層轉印於上述製成之薄型偏光薄膜(1)的偏光件之偏光膜側，製備出附黏著 劑層之偏光薄膜。
實施例2~17、比較例1~4
於實施例1中，除了黏著劑組成物之調製時係將各成份之使用量改變為如表1所示、以及製備附黏著劑層之偏光薄膜時係將偏光薄膜種類改變為如表1所示，其他皆與實施例1相同，製備出附黏著劑層之偏光薄膜。
對於由上述實施例及比較例所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜進行以下的評價。評價結果表示於表1。
<表面抵抗值：初期>
將附黏著劑層之偏光薄膜的隔離薄膜剝除後，用三菱化學Analytech公司(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.)製MCP-HT450測定黏著劑表面之表面抵抗值(Ω/□)。
<靜電偏差之評價>
將製備出的附黏著劑層之偏光薄膜切斷成100mm×100mm大小，貼附於液晶面板。將此面板置於亮度10000cd之背光上，使用靜電產生裝置ESD(SANKI公司製，ESD-8012A)產生5kv的靜電，藉此令液晶產生配向紊亂。因該配向不良造成的顯示不良的回復時間係以瞬間多重測光檢出器(大塚電子公司製，MCPD-3000)測定，以下述基準來評價。
◎：顯示不良於未滿1秒即消失。
○：顯示不良於1秒以上，未滿10秒即消失。
×：顯示不良於10秒以上才消失。
<耐久性>
將附黏著劑層之偏光薄膜的隔離薄膜剝除，使用積層器將其貼附至厚度0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司(Corning Incorporated)製，1737)。接著，進行50℃、0.5Mpa下之高壓釜處理15分鐘，使上述附黏著劑層之偏光薄膜完全密著於無鹼玻璃。接著，將此在80℃加熱烤爐(加熱)及60℃/90%RH之恆溫恆濕機(加濕)之條件下分別投入，將500小時後偏光薄膜有無剝離用下述基準來評價。
◎：完全沒有確認到剝離。
○：確認到有目視無法確認的程度之剝離。
△：確認到有目視能確認的微小剝離。
×：確認到有顯著剝離。
<偏光之測定>
將附黏著劑層之偏光薄膜的隔離薄膜剝除，使用積層器將其貼附至厚度0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司(Corning Incorporated)製，1737)。接著，進行50℃、0.5Mpa下之高壓釜處理15分鐘，使上述附黏著劑層之偏光薄膜完全密著於無鹼玻璃。接著，將此投入60℃/95%RH之恆溫恆濕機500小時。投入前與投入後之偏光薄膜的偏光度係以日本分光(株)製的V7100來測定，求得變化量△P=(投入前之偏光度)-(投入後之偏光度)。
表1中，鹼金屬鹽(B)「B-1」表示日本Carlit公司製的鋰雙(三氟甲烷磺醯)醯亞胺、「B-2」表示日本Carlit公司製的過氯化鋰、「B-3」表示關東化學公司製的1-己基-4-甲基吡啶陽離子六氟磷酸鹽。
交聯劑(C)中，「C-1」表示三井武田化學公司製的異氰酸酯交聯劑(Takenate D110N，三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯)、「C-2」表示日本聚胺甲酸乙酯工業公司製的異氰酸酯交聯劑(Colonate L，三羥甲基丙烷之甲苯二異氰酸酯的加成物)、「C-3」表示日本油脂公司製的過氧化苯甲醯(NYPER BMT)。
矽烷偶合劑(D)中，「D-1」表示信越化學工業公司製的KBM403。
其他化合物(E)中，「E-1」表示鐘淵化學公司製的Silyl SAT 10(數量平均分子量4000)、「E-2」表示聚丙二醇(數量平均分子量5000)。

Claims (15)

  1. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，係具有偏光薄膜、以及設置於該偏光薄膜之黏著劑層者，其特徵在於：前述偏光薄膜係僅於偏光件之單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層係設置於不具有前述透明保護薄膜之側的偏光件；且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及鹼金屬鹽(B)之黏著劑組成物所形成者。
  2. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鹼金屬鹽(B)為鋰鹽。
  3. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其係相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有鹼金屬鹽(B)0.0001~5重量份。
  4. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中偏光件之厚度為10μm以下。
  5. 如申請專利範圍第4項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中厚度為10μm以下之偏光件係由配向有二色性物質之聚乙烯醇系樹脂所構成的連續波偏光膜，且係藉由對積層體進行空中輔助延伸及硼酸水中延伸的2段延伸步驟來延伸所獲得者，且該積層體係含有已製膜於熱可塑性樹脂基材的聚乙烯醇系樹脂層者。
  6. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯以及含羥基的單體以作為單體單元。
  7. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯以及含羧基的單體以作為單體單元。
  8. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其進一步含有交聯劑。
  9. 如申請專利範圍第8項之附黏著劑層之偏光薄膜，其係相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有交聯劑(C)0.01~20重量份。
  10. 如申請專利範圍第8項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中交聯劑(C)係選自於異氰酸酯系化合物及過氧化物的至少任1種化合物。
  11. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其係相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有矽烷偶合劑(D)0.001~5重量份。
  12. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有聚醚改質聚矽氧化合物0.001~10重量份。
  13. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量為50萬~300萬。
  14. 如申請專利範圍第1項之附黏著劑層之偏光薄膜，其係在偏光薄膜與黏著劑層之間具有易附著層。
  15. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用至少1個如申請專利範圍第1至14項中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜。
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