TWI602896B - Polarizing film with adhesive layer and image display device - Google Patents

Description

附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 發明領域

本發明係有關於附黏著劑層之偏光薄膜，該附黏著劑層之偏光薄膜具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層。進而，本發明係有關於使用前述附黏著劑層之偏光薄膜之液晶顯示裝置、有機電致發光顯示裝置、PDP等之影像顯示裝置。

發明背景

液晶顯示裝置等，由於其影像形成方式，於液晶晶胞之兩側配置偏光元件係必要而不可或缺，一般是貼附有偏光薄膜。將液晶晶胞貼附於前述偏光薄膜時，一般係使用黏著劑。又，偏光薄膜與液晶晶胞之接著，通常為降低光損失，各個材料係使用黏著劑加以密著。於此場合，由於具有不需要用以讓偏光薄膜固著之乾燥程序等之優點，黏著劑一般係使用作為黏著劑層而預先設於偏光薄膜之單側之附黏著劑層之偏光薄膜。於附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層，通常係貼附有離型薄膜。

液晶顯示裝置於製造時，將前述附黏著劑層之偏光薄膜貼附於液晶晶胞時，係由附黏著劑層之偏光薄膜之 黏著劑層將離型薄膜加以剝離，惟由於該離型薄膜之剝離，會產生靜電。如此產生之靜電會對液晶顯示裝置內部之液晶的配向產生影響，招致不良情況。又，於液晶顯示裝置使用時，會因靜電而產生顯示不均之情況。靜電之產生雖可藉由譬如於偏光薄膜之外部面形成抗靜電層而加以抑制，但有其效果不彰，無法根本的防止靜電產生之問題。 因此，為根本的抑制靜電產生，係要求對於黏著劑層賦予抗靜電功效。作為對於黏著劑層給予抗靜電功效之方法，係提出有譬如於形成黏著劑層之黏著劑摻合離子化合物(專利文獻1至2)。專利文獻1中記載有包含咪唑陽離子及無機陰離子之離子固體，專利文獻2至4中記載有將包含四級氮原子之碳數6~50之陽離子、及包含氟原子之陰離子構成之鎓鹽等之常溫且液體之有機熔融鹽，摻合至使用於偏光薄膜之丙烯醯系黏著劑。又，提出有使用聚噻吩等之導電性聚合物之固著劑，於偏光薄膜與黏著劑層之間設置抗靜電層之方法等(專利文獻3)。再者，對於附黏著劑層之偏光薄膜，係要求於接著狀態中之耐久性。

【專利文獻】

專利文獻1 日本特開2009-251281號公報

專利文獻2 國際公開2007/034533號公報

專利文獻3 日本特開2003-246874號公報

發明概要

專利文獻1至2係藉由將以含有離子化合物之黏 著劑組成物所形成之黏著劑層，應用於偏光薄膜而賦予抗靜電功效。專利文獻1至2中所適用之偏光薄膜，均係使用於偏光片之兩側具有透明保護薄膜等之保護基材者。

另一方面，作為附黏著劑層之偏光薄膜，有時亦 使用僅於偏光片之單側設置透明保護薄膜，另一側不設置透明保護薄膜，且設有黏著劑層者。此種附黏著劑層之偏光薄膜，由於僅單側具有透明保護薄膜，相較於兩側均具有透明保護薄膜之態樣，係可削減透明保護薄膜一層份之成本，惟，讓黏著劑層含有離子化合物而賦予抗靜電功能時，該黏著劑層中之離子化合物將對於偏光片造成之影響重大，譬如，使用離子液體及離子固體作為離子化合物時，會讓偏光片劣化，而於潮濕試驗時具有光學特性大幅降低之問題。

又，如專利文獻3，將含有聚噻吩等之導電聚合物之層設於偏光薄膜之態樣，偏光片亦劣化，光學特性降低。

本發明之目的係提供一種包含具抗靜電功效且滿足耐久性之黏著劑層，光學特性之劣化微小之附黏著劑層之偏光薄膜。

又，本發明之目的係提供一種使用前述附黏著劑層之偏光薄膜之影像顯示裝置。

本案發明者群為解決前述課題而經銳意研究之 結果，找出下述附黏著劑層之偏光薄膜而完成本發明。

亦即，本發明係有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，其係具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層者，其特徵在於：前述偏光薄膜係僅於偏光子之單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層設於偏光子之不具有前述透明保護薄膜之側，且前述黏著劑層係由包含(甲基)丙烯醯系聚合物(A)及鎓一含氟醯亞胺陰離子鹽(B)之黏著劑組成物所形成者。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之鎓宜選自含氮鎓、含硫鎓及含磷鎓中之至少1種。

又，前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之鎓宜選自銨、吡咯烷鎓、哌啶及鋶中之至少1種。

又，前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之鎓宜不具有不飽和鍵。

又，前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之鎓係一具有碳數1~4之烷基之烷鎓。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，宜含有0.1~10重量份之前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，偏光子宜使用厚 度10μm以下者。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯醯系 聚合物(A)宜含有甲基丙醯酸烷酯及含羥基單體作為單體單元。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯醯系 聚合物(A)宜含有甲基丙醯酸烷酯及含羧基單體作為單體單元。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述黏著劑組成 物可進而含有交聯劑。該黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，宜含有0.01~20重量份之交聯劑(C)。作為交聯劑(C)，宜選自異氰酸酯系化合物及過氧化物之至少1種。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙 烯醯系聚合物(A)100重量份，可進一步含有矽烷偶合劑(D)0.001~5重量份。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙 烯醯系聚合物(A)100重量份，可進一步含有聚醚改質矽氧烷化合物0.001~10重量份。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯醯系 聚合物(A)之重量平均分子量宜為50萬~300萬。

前述附黏著劑層之偏光薄膜中，宜於偏光薄膜與 黏著劑層之間具有易接著層。

又，本發明係有關一種影像顯示裝置，其特徵在 於：使用至少1個前述之附黏著劑層之偏光薄膜。

在將丙烯醯系聚合物作為基底聚合物使用之黏著劑中，藉由在該黏著中記摻合離子性化合物，係可賦予抗靜電效能。此時，可考慮藉由讓離子性化合物由黏著劑層表面釋放，而可有效地展現抗靜電功效。另一方面，由於離子性化合物接觸到偏光子，而有偏光度等之光學特性低落之情況。

形成本發明之附黏著劑層之偏光薄膜其黏著劑層之黏著劑層組成物，除基底聚合物之(甲基)丙烯醯系聚合物(A)，並含有作為離子性化合物且可賦予抗靜電功效之鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)，藉由該黏著劑層組成物而形成之黏著劑層，抗靜電功效優異。又，可知本發明藉由使用前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)，可不招致偏光子劣化，且可賦予抗靜電功效。

用以實施發明之形態

形成本發明之附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層之黏著劑組成物，係含有(甲基)丙烯醯系聚合物(A)作為基底聚合物。一般上，(甲基)丙烯醯系聚合物(A)係含有(甲基)丙烯酸烷酯為主成分以作為單體單元。又，(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明中之(甲基)同義。

構成(甲基)丙烯醯系聚合物(A)之主骨架之(甲基) 丙烯酸烷酯，係可例示直鏈狀或支鏈狀之烷基之碳數1~18者。譬如作為前述之烷基，可例示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異十四基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。其等可單獨或組合使用。該等烷基之平均碳數宜為3~9。

前述(甲基)丙烯醯系聚合物(A)中，以改善接著性 及耐熱性為目的，係可藉由共聚合而導入1種類以上、具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合性官能基的共聚合單體。作為此種共聚合單體之具體例，係可例舉如：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酸或(4-羥甲基環己基)-丙烯酸甲酯等之含羥基單體；(甲基)丙烯酸、羥乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等之含羧機單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等之含磺酸單體；2-羥乙基丙烯醯基燐酸酯等之含燐酸基單體等。

又，改質目的之單體例亦可舉出：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等 之(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等之(甲基)丙烯酸烷基胺烷酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等之(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯系單體；N-(甲基)丙烯醯基亞甲基丁二醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基伸辛基丁二醯亞胺、N-丙烯醯基瑪福琳等之丁二醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來西亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等之醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等之伊康醯亞胺系單體等。

再者，作為改質單體，亦可使用醋酸乙烯酯、丙 酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基六氫吡、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基瑪福琳、N-乙烯基羧醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等之乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等之氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙基酯等之含環氧基丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等之二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、氟素(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧烷(甲 基)丙烯酸酯、2-甲氧基乙基丙烯酸酯等之丙烯酸酯系單體。進而，可例舉如異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。

進而，上述以外之可共聚合單體，可例舉含有矽 原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可舉出譬如3-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。

又，共聚合單體亦可使用三丙二醇二(甲基)丙烯 酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸與多價醇的酯化物等具有2個以上的(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的多官能性單體，抑或在聚酯、環氧化物、胺基甲酸酯等的骨架附加2個以上，作為與單體成分相同之官能基的(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵而成之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。

(甲基)丙烯醯系聚合物(A)於全部構成單體之重 量比中，係以(甲基)丙烯酸烷酯為主成分，而(甲基)丙烯醯系聚合物(A)中之前述共聚合單體的比率並無特別限制，惟前述共聚合單體之比率於全部構成單體之重量比中，約0~20%、約0.1~15%，進而，0.1~10%為宜。

其等共聚合單體之中，由接著性、耐久性之觀 點，宜使用含羥基單體或含羧基單體。可併用含羥基單體及含羧基單體。其等共聚合單體於黏著劑組成物含有交聯劑時，會成為與交聯劑之反應點。含羥基單體、含羧基單體等，係富有與分子間交聯劑之反應性，故適合使用以提高所得之黏著劑層之凝集性及耐熱性提高。含羥基單體於再加工性之點是為理想，又，含羧基單體於兼顧耐久性與再加工性之點，是適宜的。

作為共聚合單體，具有含羥基單體時，其比率宜 為0.01~15重量%，0.03~10重量%較佳，進而，0.05~7重量%更佳。作為共聚合單體，具有含羧基單體時，其比率宜為0.05~10重量%，0.1~8重量%較佳，進而，0.2~6重量%更佳。

本發明之(甲基)丙烯醯系聚合物(A)，通常係使用 重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考量到耐久性，特別是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬~270萬者。進而，80萬~250萬為佳。若重量平均分子量小於50萬，於耐熱性之點並不理想。又，若重量平均分子量大於300萬，為調整成塗敷所用之黏度，需要大量的稀釋溶劑，會 提高成本，故不理想。又，重量平均分子量係指以GPC(Gel Permeation Chromatography膠透層析術)加以測量，並由聚苯乙烯換算而算出之值。

此種(甲基)丙烯醯系聚合物(A)之製造，係可適宜 地選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等習知的製造方法。又，所得之(甲基)丙烯醯系聚合物(A)可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一者。

又，溶液聚合中，作為聚合溶劑，係可使用譬如 醋酸乙酯、甲苯等。作為具體的溶液聚合例，反應係於氮等惰性氣體氣流下，加入聚合起始劑，且通常以約50~70℃、約5~30小時之反應條件進行。

自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳 化劑等並無特別限定，可適宜地選擇使用。又，(甲基)丙烯醯系聚合物(A)之重量平均分子量，係可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而加以控制，並因應其等之種類而適宜地調整其使用量。

聚合起始劑係可例舉如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’- 偶氮雙(2-甲腈基丙烷)二氯酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啶-2-基)丙烷]二氯酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙腈)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁腈)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙腈]水合物(和光純藥工業株式會社製VA-057)等之偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨、過硫酸鹽等之過硫酸鹽；二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-第三丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-第二丁基過氧化 二碳酸酯、第三丁基過氧化新癸酸酯、第三己基過氧化三甲基乙酸酯、第三丁基過氧化三甲基乙酸酯、二月桂醯過氧化物、二-正辛醯過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物、二苯甲醯過氧化物、第三丁基過氧化異丁酸酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、第三丁基過氧化氫、過氧化氫等之過氧化物系起始劑；過硫酸鹽及亞硫酸鹽之組合、過氧化物及抗壞血酸鈉之組合等的過氧化物與還原劑而成之氧化還原起始劑等，但不限定於此。

前述聚合起始劑係可單獨使用，或亦可混合2種 以上使用，惟全體之含量係相對於單體100重量份，宜約為0.005~1重量份，約0.02~0.5重量份更佳。

又，作為聚合起始劑，譬如使用2,2’-偶氮雙異丁 脒來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯醯系聚合物(A)時，聚合起始劑之使用量係相對於單體成分總量100重量份，宜約為0.06~0.2重量份，進而以約0.08~0.175重量份為宜。

作為鏈轉移劑，係可舉出如月桂基硫醇、環氧丙 基硫醇、巰基醋酸、2-巰基乙醇、硫乙二醇酸、硫乙二醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑係可單獨使用，或亦可混合2種以上使用，惟全體之含量相對於單體成分的總量100重量份，宜約為0.1重量份以下。

又，進行乳化聚合時所使用之乳化劑，係可例舉 月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷苯醚硫酸鈉等之硫酸鈉等之陰離 子系乳化劑；聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷苯醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。其等乳化劑可單獨使用，亦可併用2種類以上。

進而，作為反應性乳化劑，如導入有丙烯基、烯 丙基醚基等之自由基聚合性官能基之乳化劑，具體上係譬如有Aqualon()HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上均為第一工業製藥公司製)，ADEKA REASO SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑於聚合後被取入聚合物鏈，因此耐水性變佳，是為合宜。乳化劑之使用量係相對於單體成分之總量100重量份，為0.3~5重量份，由聚合穩定性及機械性的穩定性，0.5~1重量份更佳。

本發明之黏著劑組成物，除前述(甲基)丙烯醯系 聚合物(A)，並含有前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)。前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)係「離子性化合物」，「離子性化合物」亦稱為離子性液體、離子性固體。前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)係由陽離子成分及陰離子成分構成之陽離子-陰離子鹽。於本發明，係使用該陽離子-陰離子鹽之中，陽離子為鎓，陰離子為含氟醯亞胺陰離子之鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽。

<含氟醯亞胺陰離子>

作為構成前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之陰離子部的含氟醯亞胺陰離子，係可例示如具有全氟烴基之亞胺陰離子。

具體上，係可使用(CF₃SO₂)(CF₃CO)N^-、或下述一般式(1)~(3)所示者，即：(1)：(C_nF_2n+1SO₂)₂N^-(惟n為1~10之整數)、(2)：CF₂(C_mF_2mSO₂)₂N^-(惟m為1~10之整數)、(3)：(C_pF_2p+1SO₂)N^-(C_qF_2q+1SO₂)(惟p、q為1~10之整數)。其等含氟醯亞胺陰離子由於可獲得離子解離性優異之離子性化合物，故可合宜地使用。又，前述含氟醯亞胺陰離子係具有碳數1~4之氟化烷基或氟化伸烷基者，在可減少表面電阻值且抑制靜電紊亂方面，是為理想。作為前述含氟醯亞胺陰離子，宜為以(CF₃SO₂)₂N^-、(C₂F₅SO₂)₂N^-等之前述一般式(1)表示之(全氟過氧化烷基磺醯亞胺)，特別是以(CF₃SO₂)₂N^-表示之(三氟甲烷磺醯亞胺)為宜。

<鎓>

作為構成前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之陽離子部的鎓，係成為鎓離子之原子經質子化者。又，本發明之鎓由不會因雙鍵、三鍵等之不飽和鍵而形成鎓鹽者可抑制偏光子劣化之點，是為合宜。亦即，本發明之鎓宜為以有機基等之置換而形成鎓離子之有機鎓為佳。

又，作為前述有機鎓中之有機基，係可例示烷基、烷氧基、烯基等。其等之中，由抑制偏光子劣化之點，係以不具有不飽和鍵者為佳。烷基之碳數係可譬如由1~12選擇，較佳為1~8，更佳者為1~4。作為有機鎓，所有的置換基宜為具有碳數1~4之烷基的烷鎓。烷基係可使用直鏈或分支鏈，惟直鏈較佳。再者，有機鎓具有環狀構造時，鎓 宜具有5環或6環，其他的置換基宜為碳數1~4之烷基。

作為前述鎓，並無特別限制，可例舉如含氮鎓、含硫鎓、含磷鎓等。其等之中以含氮鎓、含硫鎓為宜。

作為含氮鎓，可例舉銨陽離子、哌啶陽離子、吡咯烷陽離子、吡陽離子、具吡咯啉骨架之陽離子、具吡咯骨架之陽離子、咪唑鹽陽離子、四氫嘧啶陽離子、二氫嘧啶陽離子、吡唑陽離子、二氫化吡唑等。其等之中由抑制偏光子劣化之點，宜為銨陽離子、哌啶陽離子、吡咯烷陽離子。特別是以四烷基銨陽離子、烷基哌啶陽離子、烷基吡咯烷陽離子為宜。

作為含硫翁，可例舉鋶陽離子等。又，作為含磷鎓，可例舉鏻陽離子。

鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽之具體例，係可適宜地選擇使用前述鎓成分與含氟醯亞胺陰離子成分之組合而成之化合物，且可合宜地使用選自含氮鎓鹽、含硫鎓鹽及含磷鎓鹽中之至少一者。進而，可適宜地使用選自銨鹽、吡咯烷鹽、哌啶鹽及鋶鹽中之至少一者。

可例舉如1-丁基-3-甲基吡雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-丁基-3-甲基咪唑雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1,2-二甲基-3-丙基咪唑雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺二烯丙基二甲基銨雙(五 氟乙烷磺醯)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-雙丙基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-十二烷銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟 甲基磺醯)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-雙丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-雙丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-雙丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-雙丙基-N,N-十二烷銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺等。其等之市售品係可使用譬如「CIL-314」(Japan Carlit Co.,Ltd.製)、「ILA2-1」(KOEI CHEMICAL COMPANY,LIMITED製)等。

又，譬如可例舉四甲基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞 胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺等。

再者，可例舉如1-二甲基吡咯烷鎓雙(三氟甲基 磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1- 戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1,1-雙丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1,1-雙丙基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙 (五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1,1-雙丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、1,1-雙丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯) 醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺等。

又，取代前述化合物之鎓成分，係可例舉使用三 甲基硫鎓陽離子、三乙基硫鎓陽離子、三丁基硫鎓陽離子、三己基硫鎓陽離子、二乙基甲基硫鎓陽離子、二丁基乙基硫鎓陽離子、二甲基癸基硫鎓陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子等之化合物等。

又，取代前述之雙(三氟甲基磺醯)醯亞胺，係可 例舉使用雙(五氟乙烷磺醯)醯亞胺、雙(七氟丙基磺醯)醯亞胺、雙(九氟丁基磺醯)醯亞胺、三氟甲磺醯九氟丁基磺醯醯亞胺、七氟丙基磺醯三氟甲磺醯醯亞胺、五氟乙基磺醯九氟丁基磺醯醯亞胺、環六氟丙基-1,3-雙(磺醯)醯亞胺陰離子等之化合物等。

本發明之黏著劑組成物中之鎓-含氟醯亞胺陰離 子鹽(B)之比例，係相對於(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，宜為0.1~10重量份。前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)不滿0.1重量份，會有抗靜電功能提高效果不足之情況。前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)宜為0.2重量份以上，進而0.5重量份以上為佳。另一方面，前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)若超過10重量份，會有耐久性變得不充分之情況。前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)宜為5重量份以下，3重量份以下較佳，進而2重量份以下為佳。前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)之比例，係可採用前述上限值或下限值而設定合宜之範圍。

進而，本發明之黏著劑組成物可含有交聯劑 (C)。交聯劑(C)可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉例如異氰酸系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結者。 多價金屬原子可例舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，係可舉出氧原子等，有機化合物可舉出烷基酯、醇化合物、羧氧化合物、醚化合物、銅化合物等。

交聯劑(C)宜為異氰酸系交聯劑及/或過氧化物 系交聯劑。異氰酸系交聯劑之化合物係可例舉如二異氰酸甲苯酯、氯伸苯基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、伸苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等之異氰酸酯單體，以及將該等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等行加成反應而成之化合物或異氰尿酸酯化物、滴定管型化合物，進而，添加聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯、聚異戊二烯多元醇等並加以反應之聚氨酯預聚物型之異氰酸酯等。特別理想者係聚異氰酸酯化合物，且選自由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸苯二甲基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯組成之群中之一者或由其而來之聚異氰酸酯化合物。此處，選自由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸苯二甲基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯組成之群中之一者或由其而來之聚異氰 酸酯化合物中，係含有六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸苯二甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基二異氰酸酯、多元醇改質氫化伸苯二甲基二異氰酸酯、三聚物型氫化伸苯二甲基二異氰酸酯及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。所例示之聚異氰酸酯化合物，由於其與羥基之反應速度，特別是如將聚合物所含之酸、鹽作為觸媒般，而可迅速地進行，故，對於交聯之速度進行特別有幫助，而為理想者。

作為過氧化物，只要是可藉由加熱或光照射而產 生自由基活性種，讓黏著劑組成物之基底聚合物之交聯進行者，即可適宜地加以使用，惟考量作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃之過氧化物，使用90℃~140℃之過氧化物更佳。

可使用之過氧化物，譬如可舉出二(2-乙基己酯) 過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-t-丁基環己基)過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二-sec-丁基過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、t-丁基過氧化新癸酸酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、t-己基過氧化新戊酸酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、t-丁基過氧化新戊酸酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二-n-辛醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化物-2-乙酸乙酯酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯過氧化物 (1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、t-丁基過氧化異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(t-己基過氧化)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，特別是由交聯反應效率優異之點，宜使用二(4-t-丁基環己基)過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度130.0℃)等。

又，過氧化物之半衰期，係表示過氧化物之分解 速度的指標，意指迄至過氧化物之殘存量低至一半之時間。有關於為在任意時間下達到半衰期之分解溫度，或在任意溫度下之半衰期時間，係記載於廠商型錄等，譬如記載於日本油脂株式會社(NOF CORPORATION.)之「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。

交聯劑(C)之使用量，相對於(甲基)丙烯醯系聚合 物(A)100重量份，宜為0.01~20重量份，進而，0.03~10重量份為佳。又，若交聯劑(C)低於0.01重量份，會有黏著劑之凝集力不足的傾向，加熱時恐有發泡產生之虞，另一方面，超過20重量份時，耐溼性並不充分，於可靠度試驗等易產生剝離情況。

前述異氰酸酯系交聯劑係可單獨1種使用，亦可 混合2種以上使用，惟全體之含量，相對於前述(甲基)丙烯醯係聚合物(A)100重量份，含有前述聚異氰酸酯化合物交聯劑0.01~2重量份而成者為佳，含有0.02~2重量份而成者更佳，含有0.05~1.5重量份而成者尤佳。亦可考量預防凝集 力、耐久性試驗之剝離情況而適宜地含有。

前述過氧化物可單獨1種使用，亦可混合2種以上 使用，惟全體之含量，相對於前述(甲基)丙烯醯係聚合物(A)100重量份，前述過氧化物為0.01~2重量份，含有0.04~1.5重量份而成者為宜，含有0.05~1重量份而成者更佳。為調整加工性、重工性、交聯穩定性、剝離性等，可於此範圍內適宜地選擇。

又，作為反應處理後殘存之過氧化物分解量之測 量方法，係譬如可藉由HPLC(高速液體層析法)加以測量。

更具體地，譬如可將反應處理後之黏著劑組成物 以每份約0.2g取出，浸漬於醋酸乙酯10ml，並以振盪機於25℃下以120rpm振盪3小時後，取出於室溫靜置三天。其次，加入10ml乙腈，於25℃下以120rpm振盪30分鐘，以膜過濾機(0.45μm)過濾，將所得之取出液10μl注入HPLC進行分析，作為反應處理後之過氧化物量。

再者，本發明之黏著劑組成物中可含有矽烷偶合 劑(D)。藉由使用矽烷偶合劑(D)，可提高耐久性。矽烷偶合劑具體上係可舉出譬如3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己烷基)乙基三甲氧基矽烷等之含環氧基矽烷偶合劑；3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等之含胺基矽烷偶合劑；3-丙烯醯氧丙 基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等之含(甲基)丙烯醯基矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等之含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。

前述矽烷偶合劑(D)係可單獨使用，亦可混合2 種類以上使用，惟全體之含量相對於前述(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，前述矽烷偶合劑宜為0.001~5重量份，0.01~1重量份較佳，進而0.02~1重量份更佳，而0.05~0.6重量份尤佳。其係可提高耐久性，適度的保持對於液晶晶胞等光學構件之接著力量。

進而，可於本發明之黏著劑組成物摻雜聚醚改質 矽氧烷化合物。聚醚改質矽氧烷化合物係可使用譬如日本特開2010-275522號公報所揭示者。

聚醚改質矽氧烷化合物係具有聚醚骨架，且至少於一個末端具有以下述一般式(1)：-SiR_aM_3-a

(式中，R為可具有取代基之碳數1~20之1價有機基，M為羥基或水解性基，a為0~2之整數。惟R為複數存在時，複數個R可為彼此相同或相異，M為複數存在時，複數個M可為相彼此同或相異)表示之反應性矽烷基。

前述聚醚改質矽氧烷化合物係可舉出以一般式(2)：R_aM_3-aSi-X-Y-(AO)_n-Z

(式中，R為可具有取代基之碳數1~20之1價有機基，M為羥基或水解性基，a為0~2之整數。惟R為複數存在時，複數個R可為彼此相同或相異，M為複數存在時，複數個M可為彼此相同或相異。AO為表示直鏈或分支鏈之碳數1~10之 氧基伸烷基，n為1~1700，表示氧基伸烷基之平均添加莫耳數。X為表示碳數1~20之直鏈或分支鏈之伸烷基。Y為表示醚鍵、酯鍵、胺基甲酸酯鍵或碳酸酯鍵。)

Z為氫原子、1價之碳數1~10之烴基；一般式(2A)：-Y¹-X-SiR_aM_3-a

(式中，R、M、X係與前述相同。Y¹為表示單鍵結、-CO-鍵、-CONH-鍵或-COO-鍵)，或一般式(2B)：-Q{-(OA)_n-Y-X-SiR_aM_3-a}_m

(式中，R、M、X、Y係與前述相同。OA與前述之AO相同，n與前述相同。Q為2價以上之碳數1~10之烴基，m與該烴基之價數相同)所表示之基)所示之化合物。

聚醚改質矽氧烷化合物之具體例係可例舉如日本力力社(KANEKA CORPORATION)製之MS聚合物S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；SAT10、SAT200、SAT220、SAT350、SAT400，日本旭硝子社(ASASHI GLASS CO.,LTD.)製之EXCESTAR S2410、S2420或S3430等。

進而，本發明之黏著劑組成物中亦可含有其他已知之添加劑，譬如可依使用聚丙烯乙二醇等之聚烯烴乙二醇的聚醚化合物、著色劑、顏料等之粉體、染料、界面活性劑、可塑劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、流平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合禁止劑、無機或有機之充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等之用途而適宜地添加。又，亦於可抑制之範圍內， 採用添加還原劑之氧化還原系者。

藉由前述黏著劑組成物而形成黏著劑層，但黏著劑層形成時，宜調整交聯劑整體之添加量，並且充分考量交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。

藉由使用之交聯劑，交聯處理溫度及交聯處理時間係可加以調整。交聯處理溫度宜為170℃以下。

又，此種交聯處理係可以黏著劑層乾燥程序時之溫度進行，亦可於乾燥程序後另外進行交聯處理程序。

又，有關交聯處理時間，係可考慮生產性及作業性而加以設定，惟通常約0.2~20分鐘，約0.5~10分鐘為宜。

本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，係僅於偏光子之單側是這透明保護薄膜，另一側並不設置透明保護薄膜，藉由前述黏著劑組成物而將黏著劑層形成於偏光子。

形成黏著劑層之方法，係譬如可藉由以下之方法加以製作，即，將前述黏著劑組成物塗布於經剝離處理之離型材等，乾燥去除聚合溶劑等而形成黏著劑層後轉移至偏光薄膜之方法，或在偏光薄膜塗布前述黏著劑組成物，乾燥去除聚合溶劑等而於偏光薄膜性成黏著劑層之方法等。又，進行黏著劑塗布時，亦可適宜地重新加入聚合溶劑以外之一種以上之溶劑。

作為經剝離處理之離型材，宜使用聚矽氧烷離型襯材。於此種襯材上塗布本發明之接著劑組成物並使其乾燥而形成黏著劑層之程序中，作為使黏著劑層乾燥之方法，係可依目的而適宜地採用適切之方法。理想者，可採 用加熱乾燥前述塗布膜之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，進而50℃~180℃為佳，70℃~170℃尤佳。藉由使加熱溫度為前述範圍，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。

乾燥時間係可適宜地採用適切之方法。前述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，5秒~10分鐘為佳，10秒~5分鐘尤佳。

又，亦可於偏光薄膜之表面形成錨定層，於施行電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後而形成黏著劑層。再者，亦可於黏著劑層之表面進行易接著處理。

黏著劑層之形成方法係可使用各種方法。具體上，係可例舉如輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹板塗佈法、逆輥塗佈法、滾動刷塗法、噴塗法、浸漬輥塗佈法、棒塗佈法、刮刀塗佈法、氣動刮刀塗佈法、簾塗佈法、模嘴塗佈法、鑄模塗佈法等之押出成形法等。

黏著劑層之厚度並無特別限制，譬如約1~100μm。宜為2~50μm，較佳為2~40μm，5~35μm尤佳。

前述黏著劑層露出時，迄至供予實際使用，亦可以經剝離處理之片材(離型材)來保護黏著劑層。

作為離型材之構成材料，係可例舉如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲乙二酯、聚酯薄膜等之塑料薄膜；紙、布、不織布等之多孔質材料；網狀物、發泡片材、金屬箔及其等之積層體等的適宜的薄葉體等，惟由表面平化性優異之點，塑料薄膜係適宜使用。

作為該塑料薄膜，只要是可保護前述黏著劑層之 薄膜，即無特別限定，譬如可例舉聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯化乙烯薄膜、氯化乙烯酯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺基甲酸酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜。

前述離型材之厚度通常為5~200μm，宜約為 5~100μm。於前述離型材，亦可依需求，進行經由聚矽氧烷系、氟素系、長鏈烷基系或脂肪酸胺系之離型劑、氧化矽粉末等之離型及防污處理，或塗佈型、揉合型、蒸鍍型等之抗靜電處理。特別係可適宜地對前述離型材之表面進行聚矽氧烷處理、長鏈烷基處理、氟素處理等之剝離處理，而更提高自前述黏著劑層剝離性。

又，製作前述附黏著劑層之偏光薄膜時使用的經 剝離處理之片材，係可直接作為附黏著劑層之偏光薄膜之離型材使用，於程序面可加以簡化。

偏光薄膜係使用僅於偏光子之單側具有透明保 護薄膜者。

偏光子並無特別限定，可使用各種偏光子。作為 偏光子，係可例舉如聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化之聚乙烯醇系薄膜、於乙烯-醋酸乙烯酯共聚合物系部分皂化薄膜等之親水性高分子薄膜，吸附碘或二色性染料之二色性物質並作單軸延伸者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等之聚烯系配向薄膜等。其等之中，係以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質構成之偏光子為宜。 其等偏光子之厚度並無特別限制，惟通常約80μm以下。

將聚乙烯醇系薄膜以碘染色並單軸延伸之偏光 子，係譬如可藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘之水溶液而加以染色，延伸為原來長度的3~7倍而製成。可依需要浸漬於其中亦可含有硼酸、硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進而，亦可依需求於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中加以水洗。藉由將聚乙烯醇系薄膜加以水洗，除可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污垢及結塊，且亦有可藉由讓聚乙烯醇系薄膜變得膨脹濕潤而防止染色不均等不均一的效果。延伸可於碘染色後進行，亦可邊進行染色邊進行延伸，又，亦可延伸後再以碘染色。亦可於硼酸及碘化鉀等之水溶液或水浴中進行延伸。

又，作為偏光子，可使用厚度為10μm以下之薄型偏光子。若由薄型化之觀點言之，該厚度宜為1~7μm。此種薄型偏光子係厚度不均少，視辨性優，且尺寸變化少，故耐久性優異，進而，作為偏光薄膜之厚度亦可追求薄型化，因而為宜。另一方面，薄型偏光子係易偏光劣化。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，係黏著劑層含有鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)，因此不會招致光學特性劣化，且可賦予抗靜電功效。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係縱或使用薄型偏光子時，亦可抑制偏光特性低落。

作為薄型偏光子，代表性地係可例舉記載於日本特開昭51-069644號公報與特開2000-338329號公報、以及WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書， 或特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書中之薄型偏光層。其等薄型偏光層係可經由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層及延伸用樹脂基材，以積層體之狀態延伸之程序與染色程序之製法而獲得。若為此製法，即使PVA系樹脂層很薄，亦可以延伸用樹脂基材加以支撐，而無因延伸而破裂斷開等之不理想情況地加以延伸。

前述薄型偏光層，即使於包含以積層體之狀態而 延伸之程序及染色程序之製法中，由可高倍率地延伸而提高偏光性能之點，係宜為如WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書，或特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書中所記載之包含於硼酸水溶液中延伸之程序的製法而獲得者，特別宜為藉由願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書中所記載之包含於硼酸水溶液中延伸前，補助性地空中延伸之程序的製法而獲得者。

前述PCT/JP2010/001460之說明書所記載之薄型 高機能偏光層，係由在樹脂基材一體地製膜，讓二色性物質配向之PVA系樹脂構成之厚度為7μm以下之薄型高機能偏光層，具有單體穿透率為42.0%以上以及偏光度為99.95%以上之光學特性。

前述薄型高機能偏光層係可於具有至少20μm厚 度之樹脂基材，藉由PVA系樹脂之塗佈及乾燥而生成PVA系樹脂層，將所生成之PVA系樹脂層浸漬於二色性物質之染色液中，讓二色性物質吸附於PVA系樹脂層，並將吸附 有二色性物質之PVA系樹脂層，於硼酸水溶液中，與樹脂基材一體地使總延伸倍率為原來長度5倍以上地加以延伸，而加以製造。

又，製作包含配向有二色性物質之薄型高機能偏 光層之積層體薄膜的方法，係包含有：生成積層體薄膜之程序，該積層體薄膜係包含具有至少20μm厚度之樹脂基材，及於樹脂基材之單面塗佈含有PVA系樹脂之水溶液並使其乾燥而形成之PVA系樹脂層之程序；吸附二色性物質之程序，其係藉由將包含樹脂基材及形成於樹脂基材單面之PVA系樹脂層之前述積層體薄膜，浸漬於含有二色性物質之染色液中，而使二色性物質吸附於積體層薄膜所含之PVA系樹脂層；延伸程序，係將包含吸附有二色性物質之PVA系樹脂層之前述積層體薄膜，於硼酸水溶液中，使總延伸倍率為原來長度5倍以上地加以延伸；及製作形成有薄型高機能偏光層之積層體薄膜程序，係藉由讓吸附有二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材一體地延伸，而在樹脂基材之單面，製得由配向有二色性物質之PVA系樹脂層構成，厚度7μm以下、具有單體穿透率42.0%以上且偏光度99.95%以上之光學特性的薄型高積層偏光層；且藉由上述程序而製造前述薄型高積層偏光層。

本發明中，如前述，於前述附黏著劑層之偏光薄 膜，作為厚度10μm以下之偏光子係由配向有二色性物質之PVA系樹脂所構成之連續卷狀偏光層，其可使用包含成膜於熱可塑性樹脂基材之聚乙烯醇系樹脂上的積層體，以包 含空中補助延伸及硼酸水中延伸構成之2段延伸程序來加以延伸而獲致者。前述熱可塑性樹脂基材，宜為非晶形酯系熱可塑性樹脂基材或結晶形酯系熱可塑性樹脂基材。

前述特願2010-269002號說明書籍特願 2010-263692號說明書之薄型偏光層，係由配向有二色性物質之PVA系樹脂所構成之連續卷狀偏光層，且包含形成於非晶形酯系熱可塑性樹脂基材上之PVA系樹脂層的積層體，藉由以包含空中補助延伸及硼酸水中延伸構成之2段延伸程序來加以延伸，而做成10μm以下之厚度。此種薄型偏光層係令單體穿透率為T、偏光度為P時，宜具有滿足P>-(10^0.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)以及P≧99.9(惟T≧42.3)之條件的光學特性者。

具體上，前述薄型偏光層係可藉由包含有下述程 序之薄型偏光層之製造方法來製造，即：生成延伸中間生成物程序，係藉由對於形成於連續卷狀非晶形酯系熱可塑性樹脂基材上之PVA系樹脂層進行空中高溫延伸，而生成由經配向之PVA系樹脂層所構成之延伸中間生成物；生成著色中間生成物程序，係藉由對延伸中間生成物進行二色性物質之吸附，而生成由經配向二色性物質(宜為碘、或碘與有機染料之混合物)之PVA系樹脂層構成之著色中間生成物；及生成偏光層程序，係藉由對著色中間生成物進行硼酸水中延伸，而生成由經配向二色性物質之PVA系樹脂層構成之厚度10μm以下之偏光層。

於此製造方法中，形成於以空中高溫延伸及硼酸 水中延伸而得之非晶形酯系熱可塑性樹脂基材上的PVA系樹脂層之總延伸倍率，宜為5倍以上。用以於硼酸水中延伸之硼酸水溶液的液溫，可為60℃以上。於硼酸水溶液中延伸著色中間生成物前，對於著色中間生成物宜施行不溶解化處理，此時，宜藉由將前述著色中間生成物浸漬於液溫不超過40℃之硼酸水溶液中而進行。前述非晶形酯系熱可塑性樹脂基材，可為包含共聚合間苯二甲酸之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯共聚物、共聚合環己烷二甲醇之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯共聚物、或其他共聚合聚對苯二甲酸乙二酯共聚物之非晶形聚對苯二甲酸乙二酯，且宜為由透明樹脂構成者，其厚度可為經製膜之PVA系樹脂層之厚度的7倍以上。又，空中高溫延伸之延伸倍率宜為3.5倍以下，空中高溫延伸之延伸溫度宜高於PVA系樹脂之玻璃轉化溫度，具體上，宜為95℃~150℃之範圍。空中高溫延伸係以自由端單軸延伸進行時，經成膜於非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層之總延伸倍率，宜為5倍以上、7.5倍以下。又，空中高溫延伸以固定端單軸延伸進行時，經成膜於非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層之總延伸倍率，宜為5倍以上、8.5倍以下。

進一步，更具體上，係可藉由以下之方法來製造薄型偏光層。

製作共聚合有6mol%間苯二甲酸之間苯二甲酸- 聚對苯二甲酸乙二酯共聚合(非晶形PET)之連續卷狀基材。非晶形PET之玻璃轉化溫度為75℃。以下述方法來製作 由連續卷狀之非晶形PET基材及聚乙烯醇(PVA層)構成之積層體。順帶一提，PVA之玻璃轉化溫度為80℃。

準備將200μm厚之非晶形PET基材，及聚合度 1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末溶解於水之4~5%濃度的PVA水溶液。其次，將PVA水溶液塗佈於200μm厚之非晶形PET基材，以50~60℃之溫度乾燥，獲得於非晶形PET基材成膜有7μm厚之PVA層的積層體。

讓包含7μm厚之PVA層的積層體，經由包含空中 補助延伸及硼酸水中延伸之2段延伸程序的以下程序，而製造3μm厚之薄型高機能偏光層。藉由第1段之空中補助延伸程序，讓包含7μm厚之PVA層的積層體與非晶形PET基材一體地延伸，生成包含5μm厚之PVA層的延伸積體層。具體上，該延伸積體層係將7μm厚之PVA層，置於配備有設定為130℃之延伸溫度環境之烘箱的延伸裝置，並以延伸倍率為1.8倍方式作自由端單軸延伸而成者。經此延伸處理，係可令包含於延伸積層體之PVA層轉變為PVA分子經配向之5μm厚的PVA層。

其次，藉由染色程序，生成讓PVA分子經配向之 5μm厚的PVA層吸附有碘之著色積層體。具體上，該著色積層體係藉由將延伸積層體，以使構成最後產生之高機能偏光層之PVA層的單體穿透率為40~44%，於任意時間，浸漬於液溫30℃之包含碘及碘化鉀之染色液中，俾使延伸積層體所包含之PVA層吸附碘而成者。於本程序，染色液係以水作為溶劑，令碘濃度為0.12~0.30重量%之範圍內，碘化 鉀濃度為0.7~2.1重量%之範圍內。碘及碘化鉀之濃度比為1比7。順帶一提，將碘溶解於水係需要碘化鉀。更詳而言之，藉由將延伸積層體浸漬於碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液60秒鐘，而於PVA分子經配向之5μm厚的PVA層生成吸附有碘之著色積層體。

再者，藉由第2段硼酸水中延伸程序，將著色積 層體與非晶形PET基材一體地更佳延伸，生成包含構成3μm厚高機能偏光層之PVA層的光學薄膜積層體。具體上，該光學薄膜積層體係將著色積層體，置於配備有處理裝置之延伸裝置，以延伸倍率為3.3倍方式作自由端單軸延伸而成者，前述處理裝置設有包含硼酸及碘化鉀之液溫範圍60~85℃之硼酸水溶液。更詳而言之，硼酸水溶液之液溫為65℃。又，令硼酸含量相對水100重量份為4重量份，令碘化鉀含量相對於水100重量份為5重量份。本程序中，係先將調整過碘吸附量之著色積層體，浸漬於硼酸水溶液中5~10秒。之後，讓該著色積層體直接通過配備有處理裝置之延伸裝置之周速相異的多數組輥筒間，經30~90秒以令延伸倍率為3.3倍方式作自由端單軸延伸。藉此延伸，可使著色積層體所含有之PVA層轉變為所吸附之碘為多碘離子錯合體，且經單一方向高度配向之3μm厚PVA層。該PVA層係構成光學薄膜積層體之高機能偏光層。

雖非為光學薄膜積層體之製造中所必要的程 序，但宜藉由洗淨程序，將光學薄膜積層體由硼酸水溶液取出，將附著在經成膜於非晶形PET基材上之3μm厚PVA層 表面的硼酸，以碘化鉀水溶液洗淨。之後，將業已洗淨之光學薄膜積層體，藉由60℃溫風之乾燥程序予以乾燥。又，洗淨程序係用以消除硼酸析出等之外觀不良的程序。

同樣地，雖非為光學薄膜積層體之製造中所必要 的程序，但亦可藉由貼合及/或轉移程序，將接著劑塗佈在成膜於非晶形PET基材上之3μm厚PVA層表面，同時貼合80μm厚之三醋酸纖維素薄膜後，將非晶形PET基材剝離，使3μm厚之PVA層轉移至80μm厚之三醋酸纖維素薄膜。

[其他程序]

前述薄型偏光層之製造方法除前述程序，並可包含其他程序。其他程序係可例舉不溶解化程序、交聯程序、乾燥(水分率調節)程序等。其他程序係可以在任意的適當時間點進行。

前述不溶解化程序，代表性地係藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液而進行。藉由進行不溶解化處理，可給予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液之濃度係相對於水100重量份，宜為1重量份~4重量份。不溶解化浴(硼酸水溶液)之液溫，宜為20℃~50℃。較佳者為不溶解化程序係於積層體製作後、染色程序或水中延伸程序之前進行。

前述交聯程序，代表性地係藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液而進行。藉由進行交聯處理，可給予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水容亦濃度係相對於水100重量份，宜為1重量份~4重量份。又，於進行前述染色程序後進行交聯程序時，宜進一步混合碘化物。藉由混合碘化物，係可抑 制吸附於PVA系樹脂層之碘溶出。碘化物之混合量係相對於水100重量份，宜為1重量份~5重量份。碘化物之具體例係如前述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫，宜為20℃~50℃。 較佳者，交聯程序係於前述第2硼酸水中延伸程序之前進行。較佳實施形態中，係以染色程序、交聯程序及第2硼酸水中延伸程序之順序進行。

作為構成透明保護薄膜之材料，係可使用譬如機 械性強度、熱穩定性、水分阻絕性、等向性等優異之熱可塑性樹脂。此種熱可塑性樹脂之具體例，係可例舉如三醋酸纖維素等之纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚烯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳族酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇數至及其等之混合物。透明保護薄膜中，亦可包含1種類以上任意的適當添加劑。作為添加劑，係可舉出如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、離型劑、抗著色劑、難燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之前述熱可塑性樹脂之含量，宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，進而，60~98重量%為佳，70~97重量%尤佳。透明保護薄膜中之前述熱可塑性樹脂之含量為50重量%以下時，恐有熱可塑性樹脂本身具有之高透明性等無法充分展現之疑慮。

又，透明保護薄膜係藉由接著劑層而貼合於偏光子之單側。偏光子與透明保護薄膜之接著處理係使用接著 劑。接著劑係可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。前述接著劑通常係作為由水溶液構成之接著劑使用，一般含有0.5~60重量%之固形份。除前述，作為偏光子及透明保護薄膜之接著劑，係可例舉紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光薄膜用接著劑，對於前述各種透明保護薄膜係顯示合宜之接著性。又，本發明所使用之接著劑，亦可含有金屬化合物填料。

又，前述偏光薄膜係可與其他的光學薄膜積層。 其他的光學薄膜係可例舉如反射板或反穿透板、相位差薄膜(包含1/2或1/4等之波長板)、視覺補償薄膜、增亮膜等，作為形成液晶顯示裝置等所使用之光學層。其等係可在實際使用時，使用1層或2層以上，積層於前述偏光薄膜。

於偏光薄膜積層有前述光學層之光學薄膜，在液 晶顯示裝置等之製造過程，亦可以依次個別地積層之方式形成，惟預先積層而成為光學薄膜者對於品質穩定性及組裝作業等方面較佳，具有可提升液晶顯示裝置等之製造程序的優點。積層時，可使用黏著層等適合的接著方法。前述偏光薄膜與其他光學層接著時，其等光學軸係可依作為目標之相位差特性等而施予適宜的配置角度。

本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，係可合宜地使 用於液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成，可依習知進行。亦即，液晶顯示裝置一般係藉由適宜地組裝液晶晶胞等顯示面板與附黏著劑層之偏 光薄膜，以及視需求之照明系統等的構成構件，並安裝驅動電路等而形成，於本發明中，除使用本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之點，並無特別限定，可依習知進行。有關液晶晶胞，可使用譬如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意種類之任意形式。

可形成於液晶晶胞等之顯示面板的單側或雙側，配置有附黏著劑層之偏光薄膜之液晶顯示裝置，或於照明系統使用背光或反射板者等之適宜的液晶顯示裝置。此時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，係可設置於液晶晶胞等顯示面板之單側或雙側。於兩側設置光學薄膜時，其等可為相同者，亦可為不同者。進而，形成液晶顯示裝置時，可將譬如擴散層、抗眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光等適宜的構件，1層或2層以上配置於適合之位置。

【實施例】

以下，依實施例具體說明本發明，但本發明並不受其等實施例所限制。又，各例中之「份」及「%」均以重量為基準。以下並無特別規定之室溫放置條件係全為23℃ 65%RH。

<(甲基)丙烯醯系聚合物(A)之重量平均分子量之測定>

(甲基)丙烯醯系聚合物(A)之重量平均分子量係以GPC(膠透層析術)測量。

‧分析裝置：東社(TOSOH CORPORATION)製、 HLC-8120GPC

‧管柱：東社(TOSOH CORPORATION)製、G7000H_XL+GMH_XL+GMH_XL

‧管柱尺寸：各7.8mmψ×30cm計90cm

‧管柱溫度：40℃

‧流量：0.8ml/min

‧注入量：100μl

‧溶離液：四氫呋喃

‧檢出器：微差折射計(RI)

‧標準樣品：聚苯乙烯

<偏光薄膜(1)之製作>

為製作薄型偏光層，首先，藉由延伸溫度130℃之空中補助延伸，讓於非晶形PET基材成膜有9μm厚之PVA層的積層體生成延生積層體，其次，藉由讓延伸積層體染色而生成著色積層體，進而使著色積層體於延伸溫度65度之硼酸水中延伸，生成包含以總延伸倍率為5.94倍方式而與非晶形PET基材一體地延伸之4μm厚PVA層之光學薄膜積層體。藉由此種2段延伸，可生成包含厚度4μm之PVA層之光學薄膜積層體，其係構成經成膜於非晶形PET基材之PVA層的PVA分子呈高度配向，且以染色而吸附之碘係以多碘離子錯合體單一方向地高度配向之高機能偏光層。進而，將聚乙烯醇系接著劑塗佈於該光學薄膜積層體之偏光層表面，同時貼合經皂化之40μm厚三醋酸纖維素薄膜後，剝離 非晶形PET基材，製作使用薄型偏光層之偏光薄膜。以下，將其稱為薄型偏光薄膜(1)。

<偏光薄膜(2)之製作>

將厚度80μm聚乙烯醇薄膜置於速度比相異之輥筒間，於30℃且0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘，同時延伸至3倍。之後，於包含60℃且4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中，浸漬0.5分鐘，同時總延伸倍率延伸至6倍。 其次，藉由於包含30℃且1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬10秒而加以洗淨，之後，以50℃進行乾燥4分鐘，製得厚度20μm之偏光子。於該偏光子之單面，藉由聚乙烯醇系接著劑貼合經皂化之厚度40μm之三醋酸纖維素薄膜，製作偏光薄膜。以下，將其稱為TAC係偏光薄膜(2)。

製造例1 <丙烯醯系聚合物(A-1)之製作>

配備有攪拌器具、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之4個反應容器中，加入含有丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥丁基1份之單體混合物。進而，將作為起始劑且相對於前述單體混合物(固形份)100份，2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯一起加入，邊緩慢攪拌，邊導入氮，進行氮置換後，將反應容器內之液溫保持於60℃附近，進行7小時聚合反應。之後，於所得之反應液加入醋酸乙酯，調整為固形濃度30%，調製重量平均分子量140萬之丙烯醯系聚合物(A-1)之溶液。

製造例2 <丙烯醯系聚合物(A-2)之製作>

配備有攪拌器具、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之4個反應容器中，加入含有丙烯酸丁酯99份、丙烯酸2-羥丁基0.5份及丙烯酸0.5份之單體混合物。進而，將作為起始劑且相對於前述單體混合物(固形份)100份，2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯一起加入，邊緩慢攪拌，邊導入氮，進行氮置換後，將反應容器內之液溫保持於60℃附近，進行7小時聚合反應。之後，於所得之反應液加入醋酸乙酯，調整為固形濃度30%，調製重量平均分子量140萬之丙烯醯系聚合物(A-2)之溶液。

實施例1 (黏著劑組成物之製作)

相對於製造例1所製得之丙烯醯系聚合物(A-1)溶液之固形份100份，摻合三甲基丙基胺雙(三氟甲烷磺醯)醯亞胺(東京化成工業)0.2份，進而，摻合三羥丙烷二甲基苯二異氰酸二甲基苯酯(三井化學製： D110N(TAKENATE^TM))0.1份，及過氧化二苯甲醯基0.3份、γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業製：KBM-403)0.075份，調製丙烯醯系黏著劑溶液。

(附黏著劑層之偏光薄膜之製作)

其次，藉由噴注式刮刀塗佈機將前述丙烯醯係黏著劑溶液，均一地塗於以矽氧烷系剝離劑處理過後之聚對苯二甲酸乙二酯(隔離膜)表面，並以155℃之空氣循環式恆溫爐乾燥2分鐘，於隔離膜表面形成厚度20μm之黏著劑層。再者，於以前述做成之薄型偏光薄膜(1)之偏光子其偏光層側，轉移 形成於隔離膜上之黏著劑層，製作附黏著劑層之偏光薄膜。

實施例2~20、比較例1~4

除於實施例1中調製黏著劑組成物時，讓各成分之種類或使用量如表1所示般加以變化，以及製作附黏著劑層之偏光薄膜時，讓偏光薄膜之種類如表1所示般加以變化，其餘係與實施例1同樣地製作附黏著劑層之偏光薄膜。

對於前述實施例及比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜，進行以下之評價。將評價結果顯示於表1。

<表面電阻值：初期>

剝離附黏著劑層之偏光薄膜之隔離膜後，使用三菱化学社(MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH CO.,LTD.)製MCP-HT450來測量黏著劑表面之表面電阻值(Ω/□)。

<抗靜電評價>

將所製得之附黏著劑層之偏光薄膜切斷成100mm×100mm之大小，貼附于液晶面板。將該面板置於具有10000cd之亮度的背光上，使用靜電產生裝置之ESD(SANKI社製、ESD-8012A)，產生5kv之靜電，藉此引起液晶之配向紊亂。使用瞬間多點測光分析儀(大塚電子社製、MCPD-3000)，測量該配向不良產生之顯示不良的回復時間(秒)，並以下述基準加以評價。

◎：顯示不良不到1秒即消失。

○：顯示不良在1秒以上、未達10秒即消失。

×：顯示不良10秒以上才消失。

<耐久性>

將附黏著劑層之偏光薄膜之隔離膜剝離，使用積層裝置將之貼附於厚度0.7mm之無鹼玻璃(社(CORNING INCORPORATED)製、1737)。其次，以50℃、5atm，進行15分鐘之高壓釜處理，讓前述附黏著劑層之偏光薄膜完全密著於無鹼玻璃。接著，將之分別投入80℃之加熱爐(加熱)及60℃/90%RH之恆溫恆濕機(加濕)之條件下，以下述基準評價500小時後之偏光薄膜有無剝離。

◎：確認完全無剝離。

○：確認目視下無法確認程度之剝離。

△：確認目視下可確認之微小剝離。

×：確認明顯剝離。

<偏光度之測量>

將附黏著劑層之偏光薄膜之隔離膜剝離，使用積層裝置將之貼附於厚度0.7mm之無鹼玻璃(社(CORNING INCORPORATED)製、1737)。其次，以50℃、0.5MPa，進行15分鐘之高壓釜處理，讓前述附黏著劑層之偏光薄膜完全密著於無鹼玻璃。接著，將之投入60℃/90%RH之恆溫恆濕機500小時。使用日本分光(股份有限公司)製之V7100測量投入前及投入後之偏光薄膜之偏光度，求得變化量△P=(投入前之偏光度)-(投入後之偏光後)。

Claims (15)

1. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，係具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層者，其特徵在於：前述偏光薄膜係僅於偏光子之單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層則設於偏光子之不具有前述透明保護薄膜之側，且前述黏著劑層係由包含(甲基)丙烯醯系聚合物(A)及鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)之黏著劑組成物所形成者，且前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之鎓係選自吡咯烷鎓及哌啶鎓中之至少1種。
2. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之鎓不具有不飽和鍵。
3. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)中之鎓係一具有碳數1~4之烷基之烷鎓。
4. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，含有0.1~10重量份之前述鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽(B)。
5. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中偏光子之厚度為10μm以下。
6. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中(甲基)丙烯醯系聚合物(A)含有甲基丙醯酸烷酯及含羥基單體作為單體單元。
7. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中(甲基)丙烯醯系聚合物(A)含有甲基丙醯酸烷酯及含羧基單體作為單體單元。
8. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑組成物係進而含有交聯劑(C)。
9. 如請求項8之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，含有0.01~20重量份之交聯劑(C)。
10. 如請求項9之附黏著劑層之偏光薄膜，其中交聯劑(C)係選自異氰酸酯系化合物及過氧化物中之至少1種。
11. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，進一步含有矽烷偶合劑(D)0.001~5重量份。
12. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯醯系聚合物(A)100重量份，進一步含有聚醚改質矽氧烷化合物0.001~10重量份。
13. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中(甲基)丙烯醯系聚合物(A)之重量平均分子量係50萬~300萬。
14. 如請求項1至13中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其係於偏光薄膜與黏著劑層之間具有易接著層。
15. 一種影像顯示裝置，其特徵在於：使用至少1個如請求項1至14中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜。