TWI630426B - Polarizing film with adhesive layer and image display device - Google Patents

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Abstract

本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係具有偏光薄膜，及設於該偏光薄膜上之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，且前述偏光薄膜只在偏光件單側上具有透明保護薄膜，又，前述黏著劑層設在沒有前述透明保護薄膜側之偏光件上，且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)及鹼金屬鹽(B2)之黏著劑組成物形成。該附黏著劑層之偏光薄膜即使在嚴格條件下之加濕試驗後，亦具有抗靜電機能，且具有滿足耐久性之黏著劑層，並且光學特性之劣化小。

Description

附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 技術領域
本發明係有關於偏光薄膜，及具有設在該偏光薄膜上之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。又，本發明係有關於使用前述附黏著劑層之偏光薄膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等之影像顯示裝置。
背景技術
液晶顯示裝置等，由其影像形成方式來看，將偏光元件配置在液晶單元兩側是必要而不可或缺的。一般係黏貼偏光薄膜。在將前述偏光薄膜黏貼在液晶單元上時，通常係使用黏著劑。又，偏光薄膜與液晶單元之接著，通常，為了減少光之損失，各個材料係使用黏著劑密接。在這種情形下，由於具有在固定偏光薄膜時不需要乾燥步驟等之優點，故一般係使用在偏光薄膜之單側預先以黏著劑層的形式設有黏著劑的附黏著劑層之偏光薄膜。在附黏著劑層之偏光薄膜上，通常黏貼有脫模薄膜。
製造液晶顯示裝置時，在液晶單元黏貼前述附黏著劑層之偏光薄膜之際，由附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層將脫模薄膜剝離，但是因該脫模薄膜之剝離會產生 靜電。如此產生之靜電會對液晶顯示裝置內部之液晶定向產生影響，而招致不良。又，在液晶顯示裝置使用時，有時會因靜電產生顯示不均。靜電之產生雖然可藉由例如在偏光薄膜外面形成抗靜電層來抑制，但是其效果不大，而有無法根本地防止靜電產生之問題。因此，為了在靜電產生之根本位置抑制其產生，要求在黏著劑層上賦予抗靜電機能。例如，有人提出在形成黏著劑層之黏著劑中摻合離子性化合物之方案(專利文獻1至2)，作為在黏著劑層上賦予抗靜電機能之方法。在專利文獻1中記載包含咪唑鎓陽離子及無機陰離子之離子性固體，在專利文獻2中記載由含有4級氮原子之碳數6至50之陽離子及含氟原子陰離子形成之鎓鹽等在常溫下為液體的有機熔融鹽，摻合於偏光薄膜所使用之丙烯酸系黏著劑中。又，有人提出使用聚噻吩等之導電性聚合物之黏結劑，且在偏光薄膜與黏著劑層之間設置抗靜電層之方法等(專利文獻3)。又，附黏著劑層之偏光薄膜係要求在接著狀態下之耐久性。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2009-251281號公報
專利文獻2：國際公開2007/034533號手冊
專利文獻3：日本特開2003-246874號公報
發明概要
在專利文獻1至2中，係將藉由含有離子性化合物之黏著劑組成物所形成的黏著劑層使用於偏光薄膜，藉此賦予抗靜電機能。專利文獻1至2中所使用之偏光薄膜均係使用偏光件兩側具有透明保護薄膜等保護基材之偏光薄膜。
另一方面，附黏著劑層之偏光薄膜有時使用只在偏光件之單側設置透明保護薄膜，且在另一側沒有設置透明保護薄膜，而是設置黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。該附黏著劑層之偏光薄膜，由於透明保護薄膜只在單側，故與在兩側具有透明保護薄膜之情形比較，可減少透明保護薄膜一層分之成本，但是使黏著劑層含有離子性化合物賦予抗靜電機能時，對該黏著劑層中之離子性化合物之偏光件的影響大，例如，使用離子性液體及離子性固體作為離子性化合物時，會有使偏光件劣化，且加濕後光學特性大幅降低之問題。
又，如專利文獻3，將含有聚噻吩等導電性聚合物之層設於偏光薄膜與黏著劑層時，亦會偏光件劣化，光學特性降低。
本發明之目的在於提供一種即使在嚴格條件下之加濕試驗後，亦具有抗靜電機能，且具有滿足耐久性之黏著劑層，並且光學特性之劣化小的附黏著劑層之偏光薄膜。
又，本發明之目的在於提供一種使用前述附黏著劑層之偏光薄膜之影像顯示裝置。
本發明者等為了解決前述課題而反覆致力研討，結果發現下述黏著劑組成物，終至完成了本發明。
亦即本發明係有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，係具有偏光薄膜，及設於該偏光薄膜上之黏著劑層者，其特徵在於：前述偏光薄膜只在偏光件之單側上具有透明保護薄膜，前述黏著劑層設在沒有前述透明保護薄膜側之偏光件上，且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)及鹼金屬鹽(B2)之黏著劑組成物形成。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-陰離子鹽(B1)係以鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽為佳。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓宜為選自於含氮鎓、含硫鎓及含磷鎓之至少一種。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓宜為選自於銨、吡咯啶鎓、哌啶鎓及鋶中至少一種。鎓-陰離子鹽(B1)之鎓特佳的是吡咯啶鎓。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓宜不具有不飽和鍵。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓宜為具有碳數1至4之烷基的烷鎓。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基) 丙烯酸系聚合物(A)100重量份，鎓-陰離子鹽(B1)宜含有0.1至10重量份。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，前述鹼金屬鹽(B2)中之鹼金屬係以鋰為佳。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述鹼金屬鹽(B2)宜含有0.01至5重量份。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，偏光件可使用厚度10μm以下者。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可較佳地使用含有(甲基)丙烯酸烷酯及含羥基單體作為單體單元。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可較佳地使用含有(甲基)丙烯酸烷酯及含羧基單體作為單體單元。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，上述黏著劑組成物可進一步含有交聯劑。該黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份宜含有交聯劑(C)0.01至20重量份。交聯劑(C)宜為選自於異氰酸酯系化合物及過氧化物中至少1種化合物。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，可進一步含有矽烷偶合劑(D)0.001至5重量份。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，相對於(甲基) 丙烯酸系聚合物(A)100重量份，可進一步含有聚醚改質聚矽氧化合物0.001至10重量份。
在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量以50萬至300萬為佳。
又，本發明係有關於一種影像顯示裝置，其特徵在於使用至少1前述附黏著劑層之偏光薄膜。
在使用丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之黏著劑中，藉由於該黏著劑中摻合離子性化合物可賦予防靜電機能。此種狀況被認為係離子性化合物在黏著劑層之表面上浮出(bleed out)而能有效率地表現防靜電機能。另一方面，因離子性化合物接觸偏光件，故會有偏光度等光學特性低下之情況。
形成本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層的黏著劑組成物除了作為基底聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之外，更含有鎓-陰離子鹽(B1)及鹼金屬鹽(B2)作為可賦予抗靜電機能之離子性化合物。
在本發明中，發現藉由鎓-陰離子鹽(B1)以外，亦併用鹼金屬鹽(B2)，即使在嚴格條件下之加濕試驗後，仍可維持抗靜電機能及耐久性，因此可抑制偏光件之劣化。特別地，鎓-陰離子鹽(B1)係鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽時，可有效地抑制偏光件之劣化。
用以實施發明之形態
形成本發明之附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑組成物係含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作為基底聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常含有(甲基)丙烯酸烷酯作為主成分，且作為單體單元。再者，將(甲基)丙烯酸酯稱為丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明之(甲基)為同樣的意義。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的(甲基)丙烯酸烷酯，可以直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數1至18者為例。例如，前述烷基可以舉例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二烷基、異十四烷基、月桂基、十三烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基等。該等係可單獨或組合使用。該等烷基的平均碳數係以3至9為佳。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，以改善接著性和耐熱性為目的，可藉由共聚合導入具有聚合性官能基之1種以上的共聚單體，該聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等的不飽和雙鍵。如此之共聚單體的具體例可舉例如：(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥十二酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等的含羥基單 體；(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧庚基(甲基)丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸等之含羧基單體；順丁烯二酸酐、伊康酸酐等之含酸酐基單體；丙烯酸的己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等之含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等之含磷酸基單體等。
又，作為改質目的之單體例亦可舉例如：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等的(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸t-丁基胺基乙酯等的(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基嗎福林等的琥珀醯亞胺系單體；N-環己基順丁烯二醯亞胺或N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺或N-苯基順丁烯二醯亞胺等的順丁烯二醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等的伊康醯亞胺系單體等。
又，改質單體可使用醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、 N-乙烯吡咯啶酮、甲基乙烯吡咯啶酮、乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯嘧啶、乙烯哌啶、乙烯吡嗪、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯噁唑、乙烯嗎福林、N-乙烯羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯己內醯胺等的乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等的氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸氧化丙烯等的含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等的二醇系丙烯酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等的丙烯酸酯系單體等。此外，可舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯醚等為例。
此外，上述以外之可共聚單體可舉含有矽原子之矽烷系單體等為例。矽烷系單體可舉例如：3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，共聚單體亦可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異戊四 醇三(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸和多元醇的酯化物等具有2個以上之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的多官能性單體；及在聚酯、環氧、胺甲酸乙酯等的骨架上附加2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵作為與單體成分相同的官能基的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)在全體構成單體之重量比率中，以(甲基)丙烯酸烷酯為主成分，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中之前述共聚單體的比例沒有特別限定，但是前述共聚單體的比例在全體構成單體之重量比率中，以0至20%左右，0.1至15%左右，且0.1至10%左右更佳。
在該等共聚單體之中，從接著性、耐久性的觀點來看，可以合適地使用含羥基單體、含羧基單體。含羥基單體及含羧基單體可合併使用。該等共聚單體在黏著劑組成物含有交聯劑時，會成為與交聯劑的反應點。含羥基單體、含羧基單體等因為和分子間交聯劑之反應性豐富，故可合適地使用以提高所獲得之黏著劑層之凝集性和耐熱性。由再加工性的觀點來看以含羥基單體為佳，又由兼具耐久性與再加工性之觀點來看以含羧基單體為佳。
共聚合單體在含有含羥基單體時，其比例宜為0.01至15重量%，較佳為0.03至10重量%，更佳為0.05至7重 量%。共聚合單體在含有含羧基單體時，其比例宜為0.05至10重量%，較佳為0.1至8重量%，更佳為0.2至6重量%。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常係使用重量平均分子量在50萬至300萬之範圍者。若考慮耐久性，特別是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬至270萬者。80萬至250萬更佳。重量平均分子量若比50萬小，在耐熱性方面不理想。另外，重量平均分子量若比300萬大，為了調整成塗布用之黏度需要大量之稀釋溶劑，成本會提高故不理想。又，重量平均分子量係指利用GPC(凝膠滲透層析儀)來測量，且藉由聚苯乙烯換算所算出之值。
如此之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之製造係可適當地選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等之公知的製造方法。又，所製得之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)亦可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
又，溶液聚合中，聚合溶劑可使用，例如，醋酸乙酯、甲苯等。具體之溶液聚合例係在氮等之惰性氣體氣流下，加入聚合起始劑，通常是以在50至70℃左右，5至30小時左右的反應條件來進行反應。
自由基聚合所使用的聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等沒有特別限制，可適當地選擇使用。又，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件來控制，且可根據該等之種類調整其適當之使用量。
聚合起始劑可舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等的偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽；二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-t-丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二第二丁基過氧化二碳酸酯、t-丁基過氧化新癸酸酯、t-己基過氧化新戊酸酯、t-丁基過氧化新戊酸酯、二月桂醯基過氧化物、二-n-辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物、二苯甲醯過氧化物、t-丁基過氧化異丁酸酯、1,1-二(t-己基過氧化)環己烷、t-丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系起始劑；過硫酸鹽和亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物和抗壞血酸鈉之組合等過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系起始劑等，但是並不限定於該等。
前述聚合起始劑係可單獨使用，亦可混合2種以上使用，作為全體之含量相對於單體100重量份宜為0.005至1重量份左右，且較佳為0.02至0.5重量份左右。
又，聚合起始劑，例如在使用2,2’-偶氮雙異丁腈來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)時，聚合起始劑的使用量相對於單體成分之全量100重量份宜為0.06至0.2重量份左右，更佳為0.08至0.175重量份左右。
鏈轉移劑可舉例如：月桂基硫醇、環氧丙基硫 醇、巰乙酸、2-巰乙醇、氫硫基乙酸、氫硫基乙酸-2-乙基己酯、2,3-二巰-1-丙醇等。鏈轉移劑係可單獨使用，亦可混合2種以上使用，但是作為全體之含量相對於單體成分之全量100重量份係0.1重量份左右以下。
又，乳化聚合時使用之乳化劑可舉例如：月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、月桂基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑；聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等之乳化劑可以單獨使用，亦可合併使用2種以上。
此外，反應性乳化劑，作為導入丙烯基、烯丙醚基等之自由基聚合性官能基的乳化劑，具體而言包括，例如，Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上，均為第一工業製藥公司製)，ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製)等。因反應性乳化劑在聚合後進入聚合物鏈，故耐水性變好而為佳。乳化劑之使用量相對於單體成分之全體量100重量份，係0.3至5重量份，由聚合安定性和機械安定性來看以0.5至1重量份更佳。
本發明之黏著劑組成物，除了前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之外，更含有前述鎓-陰離子鹽(B1)及鹼金屬鹽(B2)。
[鎓-陰離子鹽(B1)]
前述鎓-陰離子鹽(B1)係關於「離子性化合物」，亦可說 是離子性液體、離子性固體。前述鎓-陰離子鹽(B1)係關於由陽離子成分及陰離子成分構成之陽離子-陰離子鹽。在本發明中，該陽離子-陰離子鹽特別使用陽離子為鎓之鎓-陰離子鹽。
陰離子成分係使用，例如，Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、及以下述通式(1)至(4)：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(但是，n係1至10之整數)，(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(但是，m係1至10之整數)，(3)：-O3S(CF2)lSO3 -(但是，l係1至10之整數)，(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)，(但是，p、q係1至10之整數)表示者等。特別地，由於可得到離子解離性良好之離子化合物，故宜使用含有氟原子之陰離子成分。陰離子成分特佳的是含氟醯亞胺陰離子。
《含氟醯亞胺陰離子》
前述含氟醯亞胺陰離子可舉具有全氟烷基之醯亞胺陰離子為例。
具體而言，可使用前述例示之陰離子成分中之(CF3SO2)(CF3CO)N-、及以下述通式(1)、(2)、(4)：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(但是，n係1至10之整數)，(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(但是，m係1至10之整數)，(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)，(但是，p、q係1至10 之整數)表示者等。由於可得到離子解離性良好之離子化合物，故宜使用該等含氟醯亞胺陰離子。又，在抑制表面電阻值為小且抑制靜電不均方面，前述含氟醯亞胺陰離子宜具有碳數1至4之氟化烷基或氟化伸烷基。前述含氟醯亞胺陰離子宜為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等以前述通式(1)表示之(全氟烷基磺醯)醯亞胺，且特佳的是以(CF3SO2)2N-表示之(三氟甲烷磺醯)醯亞胺。
<鎓>
構成前述鎓-陰離子鹽(B1)之鎓部的鎓係成為鎓離子之原子質子化者。又，由抑制偏光件劣化之觀點來看，本發明之鎓宜不藉由雙鍵、三鍵等不飽和鍵形成鎓鹽。即，本發明之鎓宜為藉由有機基之取代形成鎓離子之有機鎓。
又，前述有機鎓之有機基可舉烷基、烷氧基、烯基等為例。由抑制偏光件劣化來看，其中較佳的是沒有不飽和鍵者。烷基之碳數可，例如，選自於1至12，但是較佳的是1至8，且更佳的是1至4。有機鎓宜全部取代基均係具有碳數1至4之烷基的烷鎓。烷基可使用直鏈或分支鏈，但是以直鏈為佳。又，有機鎓具有環狀構造時，鎓宜具有5環或6環，且其他取代基係碳數1至4之烷基。
前述鎓沒有特別限制，但是可舉含氮鎓、含硫鎓、含磷鎓等為例。其中較佳的是含氮鎓、含硫鎓。
含氮鎓可舉例如：銨陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離 子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡嗪鎓陽離子等。由偏光件劣化之觀點來看，其中較佳的是銨陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子，且特佳的是吡咯啶鎓陽離子。具有之含氮鎓宜為四烷基銨陽離子、烷基哌啶鎓陽離子、烷基吡咯啶鎓陽離子。
含硫鎓可舉鋶陽離子為例。又，含磷鎓可舉鏻陽離子為例。
前述鎓-陰離子鹽(B1)可適當地選擇使用由上述鎓成分與陰離子成分之組合構成之化合物。在本發明中，該自鎓-陰離子鹽(B1)中，陰離子宜為含氟醯亞胺陰離子之鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽。
鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽之具體例可適當地選擇使用用由上述鎓成分與含氟醯亞胺陰離子成分之組合構成之化合物，且適合地使用選自於含氮鎓鹽、含硫鎓鹽及含磷鎓鹽中至少任一種。又，可適合地使用選自於銨鹽、吡咯啶鎓鹽、哌啶鎓鹽及鋶鹽中至少任一種。
可舉例如：1-丁基-3-甲基吡啶雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基咪唑雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,2-二甲基-3-丙基咪唑雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N- 甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲乙基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲乙基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲烷磺 醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺等。該等之市售品可使用，例如，「CIL-314」(日本Carlit公司製)、「ILA2-1」(廣榮化學公司製)等。
又，可舉例如：四甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺等。
又，可舉例如：1-二甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1- 甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺、1,1- 二甲基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基) 醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙烷磺醯基)醯亞胺等。
又，可舉例如：使用三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子，取代上述化合物之鎓成分之化合物等。
又，可舉例如：使用雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(五氟丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(十氟丁烷磺醯基)醯亞胺、三氟甲烷磺醯基十氟丁烷磺醯基醯亞胺、七氟丙烷磺醯基三氟甲烷磺醯基醯亞胺、五氟乙烷磺醯基十氟甲烷磺醯基醯亞胺、環六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等，取代上述雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺之化合物等。
鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽以外之鎓-陰離子鹽(B1)可適當地選擇使用由上述鎓成分與含氟醯亞胺陰離子鹽以外之鎓成分之組合形成的化合物。可舉例如：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1-吡咯啉四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓醋酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑 鎓三氟醋酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁烷磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三(三氟甲烷磺醯基)甲基化合物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟醋酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁烷磺酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓溴化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓氯化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲烷磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、二丙烯基二甲基銨四氟硼酸鹽、二丙烯基二甲基銨三氟甲烷磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧乙基)銨三氟甲烷磺酸鹽、1-丁基吡啶鎓(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧乙基)銨(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯胺、環氧丙基三甲基銨(三氟甲烷磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶-1-鎓三氟甲烷磺酸鹽等。
本發明之黏著劑組成物中鎓-陰離子鹽(B1)之比 例，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，以含有0.1至10重量份為佳。前述鎓-陰離子鹽(B1)不足0.1重量份時，會有防靜電性能之提昇效果不足的情形。前述鎓-陰離子鹽(B1)宜為0.2重量份以上，更佳為0.5重量份以上。另一方面，前述鎓-陰離子鹽(B1)多於10重量份時，會有耐久性變得不足的情形。前述鎓-陰離子鹽(B1)係以7重量份以下為佳，5重量份以下為佳，4重量份以下為佳，且2重量份以下更佳。前述鎓-陰離子鹽(B1)之比例可採用前述上限值或下限值設定較佳範圍。
[鹼金屬鹽(B2)]
鹼金屬鹽(B2)可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。
構成鎓-陰離子鹽(B2)之陽離子部份的鹼金屬離子，可舉鋰、鈉、鉀之各離子為例。該等鹼金屬離子中以鋰離子為佳。
鹼金屬鹽之陰離子部份可藉有機物構成，亦可藉無機物構成。構成有機鹽之陰離子部份，可使用舉例如：CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-、及以下述通式(1)至(4)：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(但是，n係1至10之整數)，(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(但是，m係1至10之整數)，(3)：-O3S(CF2)lSO3 -(但是，l係1至10之整數)，(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)，(但是，p、q係1至10之整數)表示者等。特別是，含有氟原子之陰離子部份係由 離子解離性良好之離子化合物獲得，故可適宜使用。構成無機鹽之陰離子部份，可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。陰離子部份宜為以(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等之前述通式(1)表示之(全氟烷基磺醯)醯亞胺，且特佳的是以(CF3SO2)2N-表示之(三氟甲烷磺醯)醯亞胺。
鹼金屬之有機鹽，具體而言，可舉例如：醋酸鈉、褐藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，其中以LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等為佳，更佳的是Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等之含氟鋰醯亞胺鹽，且特佳的是(全氟烷基磺醯)醯亞胺鋰鹽。
又，鹼金屬之無機鹽可舉過氯酸鋰、碘化鋰為例。
本發明之黏著劑組成物中鹼金屬鹽(B2)之比例，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，以含有0.01至5重量份為佳。前述鹼金屬鹽(B2)不足0.1重量份時，會有無法抑制嚴格條件下之加濕試驗後偏光件劣化的情形。前述鹼金屬鹽(B2)宜為0.05重量份以上，更佳為0.1重量份以上。另一方面，前述鹼金屬鹽(B2)多於10重量份時，會有無法抑制嚴格條件下之加濕試驗後抗靜電性能提高效果不足的情形。前述鹼金屬鹽(B2)係以1重量份以下為佳，0.5重量份以下為佳。前述鹼金屬鹽(B2)之比例可採用前述 上限值或下限值設定較佳範圍。
此外，本發明之黏著劑組成物中可含有交聯劑(C)。交聯劑(C)可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉例如：異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。多價金屬原子可以例舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。共價鍵結或配位鍵結的有機化合物中之原子可舉氧原子等為例，且有機化合物可舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等為例。
交聯劑(C)宜為異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化物型交聯劑。有關異氰酸酯系交聯劑之化合物可舉例如：甲苯二異氰酸酯、氯苯二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等的異氰酸酯單體及該等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等經加成之異氰酸酯化合物或異氰尿酸酯化物、縮二脲型化合物，又可舉例如：聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等經加成反應而成之胺甲酸乙酯預聚物型的異氰酸酯等。特佳的是聚異氰酸酯化合物，係選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成之群組的1種或由其衍生之聚異氰酸酯化合物。在此，選自於由六亞甲基二異氰酸酯、加氫二甲苯二異氰酸酯及 異佛酮二異氰酸酯所構成之群組的1種或由其衍生之聚異氰酸酯化合物中包含：六亞甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基二異氰酸酯、多元醇改質氫化二甲苯二異氰酸酯、三聚物型氫化二甲苯二異氰酸酯及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。例示之聚異氰酸酯化合物與羥基的反應係特別以聚合物中所包含之酸、鹼為觸媒，迅速地進行，因此特別有助於迅速交聯而為佳。
過氧化物只要是利用加熱或光照射產生自由基活性物來進行黏著劑組成物之基底聚合物的交聯者，即可適當地使用，但是考慮到作業性及安定性，宜使用1分鐘半衰期溫度為80℃至160℃的過氧化物，更佳的是使用90℃至140℃的過氧化物。
可使用之過氧化物可舉例如：二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-t-丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二-sec-丁基過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、t-丁基過氧新癸酸酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、t-己基過氧新戊酸酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、t-丁基過氧新戊酸酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二-n-辛醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半衰期溫 度：130.0℃)、t-丁基過氧異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(t-己基過氧)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。由於交聯反應效率優異，其中特別適合使用二(4-t-丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯過氧物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。
又，過氧化物的半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，係指過氧化物之殘存量變成一半為止的時間。關於用以在任意的時間獲得半衰期之分解溫度或在任意的溫度之半衰期時間，係記載於製造商目錄等，例如，記載於日本油脂股份公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
交聯劑(C)的使用量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，以0.01至20重量份為佳，更佳的是0.03至10重量份。再者，交聯劑(C)低於0.01重量份時，有黏著劑之凝集力不足之傾向，恐有加熱時產生發泡之虞，另一方面，若多於20重量份，耐濕性就會不夠，在信賴性試驗等中容易產生剝離。
上述異氰酸酯系交聯劑係可單獨使用1種，亦可混合使用2種以上，但是作為全體之含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述聚異氰酸酯化合物交聯劑宜為0.01至2重量份，較佳的是0.02至2重量份，且更佳的是0.05至1.5重量份。考慮在凝集力、耐久性試驗中阻止剝離等，可使其適當地含有。
前述過氧化物係可單獨使用1種，亦可混合使用2種以上，但是作為全體之含量，相對於前述前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述過氧化物為0.01至2重量份，較佳的是0.04至1.5重量份，且更佳的是0.05至1重量份。為了調整加工性、再加工性、交聯安定性、剝離性等，可在該範圍內適當地選擇。
又，可藉由，例如，HPLC(高速液體層析法)，作為反應處理後之殘存過氧化物分解量之測定方法來測定。
更具體而言，例如，將反應處理後的黏著劑組成物約每0.2g分別取出，浸漬於10ml醋酸乙酯中，利用振動機在25℃下、以120rpm進行3小時振動萃取之後，在室溫下靜置3天。接著，加入乙腈10ml，在25℃下以120rpm振動30分鐘，將藉由膜過濾器(0.45μm)過濾所得之萃取液約10μl注入HPLC進行分析，可得到反應處理後之過氧化物量。
又，本發明的黏著劑組成物中，可含有矽烷耦合劑(D)。藉由使用矽烷耦合劑(D)，可使耐久性提高。具體而言，矽烷耦合劑可舉例如：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基矽烷耦合劑、3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷之含胺基矽烷耦合劑、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽 烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷之含(甲基)丙烯醯基矽烷耦合劑、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等之含異氰酸酯基矽烷耦合劑等。
前述矽烷耦合劑(D)係可單獨使用，亦可混合使用2種以上，但是作為全體之含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述矽烷耦合劑係以0.001至5重量份為佳，較佳的是0.01至1重量份，且更佳的是0.02至1重量份，又更佳的是0.05至0.6重量份。該量係提高耐久性，適度地保持對液晶單元等之光學零件之接著力的量。
此外，本發明之黏著劑組成物中可摻合聚醚改質聚矽氧化合物。聚醚改質聚矽氧化合物可使用例如日本特開2010-275522號公報所揭示者。
聚醚改質聚矽氧化合物具有聚醚骨架，且在至少1個末端具有以下述通式(1)：-SiRaM3-a(式中，R可具有取代基且係碳數1至20之1價有機基，M為羥基或水解性基，a為0至2之整數。但是，R為複數存在時，複數R彼此可相同亦可不同，M為複數存在時，複數M彼此可相同亦可不同。)表示之反應性矽基。
前述聚醚改質聚矽氧化合物可舉例如：以一般式(2)：RaM3-aSi-X-Y-(AO)n-Z
(式中，R可具有取代基且係碳數1至20之1價之有機基，M為羥基或可水解基，a為0至2之整數。但是，當R為複數存在時，複數R彼此可相同亦可不同，當M為複數存在時，複數M彼此可相同亦可不同。AO表示直鏈或支鏈之碳 數1至10之氧伸烷基，n為1至1700，且表示氧伸烷基的平均加成莫耳數。X表示碳數1至20之直鏈或支鏈伸烷基。Y表示醚鍵、酯鍵、胺甲酸乙酯鍵或者碳酸酯鍵。
Z為氫原子、1價之碳數1至10之烴基，以通式(2A)：-Y1-X-SiRaM3-a
(式中，R、M、X係與前述相同。Y1係表示單鍵、-CO-鍵、-CONH-鍵、或-COO-鍵。)，或通式(2B)：-Q{-(OA)n-Y-X-SiRaM3-a}m
(式中，R、M、X、Y係與前述相同。OA係與前述的AO相同，n係與前述相同。Q係2價以上之碳數1至10的烴基，m係與該烴基的價數相同。)所表示之基。)所表示之化合物。
聚醚改質聚矽氧化合物的具體例可舉例如：KANEKA公司製之MS聚合物S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；SAT10、SAT200、SAT220、SAT350、SAT400、旭硝子公司製之EXCESTAR S2410、S2420或S3430等。
此外，本發明的黏著劑組成物中亦可含有其他公知之添加劑，例如，可根據使用用途可以適當添加聚丙二醇等的聚烷二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等的粉體、染料、界面活性劑、可塑劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、均染劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機之充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍內，亦可採用還原劑以外之氧化還原系。
藉由前述黏著劑組成物形成黏著劑層，但是當黏 著劑層形成時，宜在調整交聯劑全體之添加量的同時，充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間的影響。
藉由使用之交聯劑，可調整交聯處理溫度及交聯處理時間。交聯處理溫度係以170℃以下為佳。
又，該交聯處理係可在黏著劑層之乾燥步驟時的溫度進行，亦可在乾燥步驟後設置另外之交聯處理步驟。
又，關於交聯處理時間，可考慮生產性及作業性來進行設定，但是通常為0.2至20分鐘左右，且以0.5至10分鐘左右為佳。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係僅於偏光件之單側設置透明保護薄膜，另一側不設透明保護薄膜，藉由前述黏著劑組成物於偏光件形成黏著劑層者。
藉由，例如，將前述黏著劑組成物塗在經過剝離處理的分離件等上，乾燥除去聚合溶劑等且形成黏著劑層後轉印至偏光薄膜之方法，或者在偏光薄膜塗布前述黏著劑組成物，乾燥除去聚合溶劑等且在偏光薄膜上形成黏著劑層之方法等，作為形成黏著劑層之方法來製作。又，在塗布黏著劑時，亦可適當地新添加聚合溶劑以外之一種以上之溶劑。
經過剝離處理的分離件宜使用聚矽氧剝離襯墊。在如此之襯墊上塗布、乾燥本發明之接著劑組成物以形成黏著劑層的步驟中，可依目的採用適當、合適之方法，作為乾燥黏著劑之方法。宜採用加熱乾燥上述塗布膜之方法。加熱乾燥溫度以40℃至200℃為佳，更佳的是50℃至 180℃，且特佳的是70℃至170℃。藉由令加熱溫度在上述的範圍內，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可採用適當、合適的時間。上述乾燥時間以5秒至20分鐘為佳，更佳的是5秒至10分鐘，且特佳的是10秒至5分鐘。
另外，可以在偏光薄膜之表面形成錨固層，或在施加電暈處理、電漿處理等之各種易接著處理後形成黏著劑層。另外，亦可在黏著劑層的表面實行易接著處理。
黏著劑層的形成方法可使用各種方法。具體而言，可舉例如：輥塗布、接觸輥塗布、凹版塗布、逆塗布、輥刷、噴塗、浸漬輥塗布、棒式塗布、刮刀塗布、氣刀塗布、簾式塗布、噴嘴塗布、利用模塗布機等之壓出塗布法等的方法。
黏著劑層之厚度並無特別限制，例如，1至100μm左右。宜為2至50μm，較佳的是2至40μm，且更佳的是5至35μm。
在前述黏著劑層露出的情況中，直到供實際使用之前，亦可以經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。
分離件之構成材料，可舉例如：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等之塑膠膜，紙、布、不織布等之多孔質材料，網、發泡片、金屬箔及該等之積層體等適宜之薄片體等，但是由表面平滑性優異之觀點來看，宜使用塑膠膜。
該塑膠膜只要是可保護前述黏著劑層即可，並無 特別限制，可舉例如：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺甲酸乙酯膜、乙烯-醋酸乙烯共聚物膜等。
前述分離件之厚度通常為5至200μm，且以5至100μm左右為佳。在前述分離件上，亦可依需要利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、矽粉等來進行脫模及防汙處理，亦可進行塗布型、捏揉型、蒸鍍型等之抗靜電處理。特別是，藉由在前述分離件之表面適宜地進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等之剝離處理，可進一步提高相對前述黏著劑層之剝離性。
又，製作上述附黏著劑層之偏光薄膜時使用之經過剝離處理的片材可直接作為附黏著劑層之偏光薄膜的分離件使用，可在步驟方面簡化。
偏光薄膜係使用僅於偏光件之單側具有透明保護薄膜者。
偏光件沒有特別限制，可使用各種偏光件。偏光件可舉例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-醋酸乙烯共聚物系部分皂化薄膜等的親水性高分子薄膜上，吸附碘或二色性染料之二色性物質且經單軸延伸者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。其中尤其以由聚乙烯醇系薄膜和碘等之二色性物質形成之偏光件為宜。該等偏光件之厚度沒有特別限制，一般而言係80μm左右以下。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色且經單軸延伸之偏光件可藉由，例如，將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘之水溶液中來染色，且延伸為原長之3至7倍來作成。又，可依需要浸漬於亦可含有硼酸、硫酸鋅及氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。又，亦可依需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬在水中進行水洗。除了可藉由水洗聚乙烯醇系薄膜來將聚乙烯醇系薄膜表面之汙垢或抗結塊劑洗淨之外，亦有藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤防止染色不均等之不均一的效果。延伸係可在以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，且亦可在延伸後再以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中延伸。
又，偏光件可使用10μm以下之薄型偏光件。由薄型化之觀點來說，該厚度係以1至7μm為佳。如此之薄型偏光件厚度偏差少，可視性優異，且尺寸變化少，故耐久性優異，又，在謀求作為偏光薄膜之厚度亦薄型化方面是理想的。另一方面，薄型偏光件容易偏光劣化。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜由於含有鎓-陰離子鹽(B1)，故不會引起光學特性之劣化，且可賦予抗靜電機能。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜即使在使用薄型偏光件時，亦可抑制偏光特性之降低。
薄型的偏光件，具代表性的係可舉例如：日本特開昭51-069644號公報、日本特開2000-338329號公報、WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、或日本特願2010-269002號說明書及日本特願2010-263692號 說明書所記載之薄型偏光層。該等薄型偏光層可藉由包含聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱作PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體之狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法來獲得。若為該製法，即使PVA系樹脂層薄，亦可藉由受延伸用樹脂基材支撐，在無因斷延伸導致破斷等不佳狀況下延伸。
前述薄型偏光層，在包含在積層體之狀態下延伸之步驟及染色步驟的製法中，以由可高倍率延伸及提昇偏光性能之觀點來看，以藉由如WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、或日本特願2010-269002號說明書及日本特願2010-263692號說明書所記載之包含在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所獲得者為佳，且特佳的是如日本特願2010-269002號說明書及日本特願2010-263692號說明書所記載之包含在硼酸水溶液中延伸之前輔助地在空氣中延伸之步驟的製法所獲得者。
上述PCT/JP2010/001460之說明書所記載之薄型高機能偏光層係於樹脂基材一體地製膜，且由配向二色性物質之PVA系樹脂形成之厚度為7μm以下的薄型高機能偏光層，並且具有單體透過率42.0%以上及偏光度99.95%之光學特性。
上述薄型高機能偏光層係可藉由在具有至少20μm厚度之樹脂基材上，藉由塗布及乾燥PVA系樹脂來生成PVA系樹脂層，且將所生成之PVA系樹脂層浸漬於二色性物質的染色液中，在PVA系樹脂層上吸附二色性物質，再 將吸附有二色性物質之PVA系樹脂層，且在硼酸水溶液中，與樹脂基材一體地延伸使總延伸倍率成為原長之5倍以上來製造。
又，藉由一種製造包含配向有二色性物質之薄型高機能偏光層之積層體薄膜的方法，可製造上述薄型高機能偏光層，該方法包含以下步驟：生成積層體薄膜，且該積層體薄膜具有至少具20μm厚度之樹脂基材，及藉由在樹脂基材之單面上塗布含有PVA系樹脂之水溶液及乾燥所形成之PVA系樹脂層；將包含樹脂基材及在樹脂基材單面上所形成之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，浸漬於含有二色性物質之染色液中，藉此使二色性物質吸附於積層體薄膜所含有的PVA系樹脂層；將包含吸附有二色性物質之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，於硼酸水溶液中，延伸使總延伸倍率成為原長5倍以上；及製造製有薄型高機能偏光層之積層體薄膜，該薄型高機能偏光層係由藉由與樹脂基材一體地延伸吸附有二色性物質之PVA系樹脂層，在樹脂基材之單面上，配向有二色性物質之PVA系樹脂層形成，且厚度在7μm以下，並且具有單體透過率在42.0%以上且偏光度在99.95%以上之光學特性。
在本發明中，如上所述，在上述附黏著劑層之偏光薄膜中，厚度10μm以下之偏光件係由配向有二色性物質之PVA系樹脂形成之連續帶的偏光層，可使用利用由在空氣中輔助延伸與硼酸水中伸延形成之2段延伸步驟來延伸包含在熱可塑性樹脂基材上製膜之聚乙烯醇系樹脂層的積 層體而得者。前述熱可塑性樹脂基材係以非晶性酯系熱可塑性樹脂基材或結晶性酯系熱可塑性樹脂基材為佳。
上述日本特願2010-269002號說明書及日本特願2010-263692號說明書之薄型偏光層係由配向有二色性物質之PVA系樹脂形成之連續帶的偏光層，且係利用由在空氣中輔助延伸與硼酸水中伸延形成之2段延伸步驟來延伸包含在非晶酯系熱可塑性樹脂基材上製膜之PVA系樹脂層的積層體，使其厚度成為10μm以下者。該薄型偏光層宜具有令單體透過率為T、偏光度為P時，滿足P>-(100.929T-42.4-1)×100(但是，T<42.3)及P≧99.9(但是，T≧42.3)之條件的光學特性。
具體而言，前述薄型偏光層可藉由薄型偏光層之製造方法來製造，該製造方法包含下述步驟：對在連續帶之非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而成之PVA系樹脂層進行空氣中高溫延伸，生成由經配向之PVA系樹脂層形成之延伸中間生成物；藉由二色性物質對延伸中間生成物之吸附，生成由配向有二色性物質(宜為碘或碘與有機染料之混合物)之PVA系樹脂層形成之著色中間生成物；及藉由硼酸對著色中間生成物之水中延伸，生成由配向有二色性物質之PVA系樹脂層形成之厚度10μm以下的偏光層。
在該製造方法中，藉由空氣中高溫延伸與硼酸水中延伸在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而得之PVA系樹脂層的總延伸倍率希望成為5倍以上。用於硼酸水中延伸之硼酸水溶液之液溫可為60℃以上。在硼酸水溶液中延 伸著色中間生成物前，希望對著色中間生成物實施不溶化處理，此時，希望藉由在液溫不超過40℃之硼酸水溶液中浸漬前述著色中間生成物來進行。上述非晶性酯系熱可塑性樹脂基材可為使異酞酸共聚合所形成之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯、使環己烷二甲醇共聚合所得之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯或其他含有共聚合聚對苯二甲酸乙二酯之非晶性聚對苯二甲酸乙二酯，且以由透明樹脂形成者為佳；其厚度係可為經製膜之PVA系樹脂層厚度之7倍以上。又，空氣中高溫延伸之延伸倍率宜為3.5倍以下，且空氣中高溫延伸之延伸溫度係在PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體而言係以95℃至150℃之範圍為佳。藉自由端單軸延伸進行空氣中高溫延伸時，在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上經製膜而得之PVA系樹脂層的總延伸倍率宜在5倍以上、7.5倍以下。又，藉固定端單軸延伸進行空氣中高溫延伸時，在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上經製膜而得之PVA系樹脂層的總延伸倍率宜在5倍以上、8.5倍以下。
更具體而言，可藉由如下之方法來製造薄型偏光層。
製作將6mol%異酞酸共聚合而得之異酞酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(非晶性PET)之連續帶的基材。非晶性PET之玻璃轉移溫度為75℃。如下述地製作由連續帶之非晶性PET基材與聚乙烯醇(PVA)層形成之積層體。另外，PVA之玻璃轉移溫度為80℃。
準備200μm厚之非晶性PET基材，及將聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末溶解於水中所得之4 至5%濃度的PVA水溶液。接著，在200μm厚之非晶性PET基材上塗布PVA水溶液，以50至60℃之溫度乾燥，獲得在非晶性PET基材上製膜7μm厚之PVA層的積層體。
將含7μm厚PVA層的積層體，經由包含空氣中輔助延伸及硼酸水中延伸之2段延伸步驟之以下的步驟，製造3μm厚之薄型高機能偏光層。藉由第1段的空氣中輔助延伸步驟，將包含7μm厚PVA層之積層體與非晶性PET基材一體地延伸，生成包含5μm厚之PVA層的延伸積層體。具體而言，該延伸積層體係將包含7μm厚之PVA層的積層體，掛在配備於設定在130℃之延伸溫度環境之烘箱中的延伸裝置上，以使延伸倍率成為1.8倍之方式，在自由端單軸延伸而得者。藉由該延伸處理，使延伸積層所包含之PVA層變化為PVA分子經配向之5μm厚的PVA層。
接著，藉由染色步驟，生成使碘吸附在PVA分子經配向之5μm厚PVA層上的著色積層體。具體而言，該著色積層體係將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中任意時間，使構成最終生成之高機能偏光層之PVA層的單體透過率成為40至44%，藉此使碘吸附於延伸積層體所包含之PVA層而得者。在本步驟中，染色液係以水為溶劑，令碘濃度在0.12至0.30重量%之範圍內，且令碘化鉀濃度在0.7至2.1重量%之範圍內。碘與碘化鉀濃度之比係1比7。另外，要將碘溶於水中需要碘化鉀。更詳而言之，藉由將延伸積層體浸漬在碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液中60秒，生成使碘吸附於PVA分子經配 向之5μm厚PVA層的著色積層體。
接著，藉由第2段之硼酸水中延伸步驟，將著色積層體與非晶性PET基材一體地進一步延伸，生成包含構成3μm厚高機能偏光層之PVA層的光學膜積層體。具體而言，該光學膜積層體係將著色積層體掛在配備於設定在含有硼酸與碘化鉀之液溫範圍60至85℃的硼酸水溶液中之處理裝置的延伸裝置上，以使延伸倍率成為3.3倍之方式，在自由端單軸延伸而得者。更詳而言之，硼酸水溶液之液溫係65℃。除此之外，令硼酸含量相對於水100重量份為4重量份，令碘化鉀含量相對於水100重量份為5重量份。在本步驟中，首先將經調整碘吸附量之著色積層體浸漬在硼酸水溶液中5至10秒。然後，將該著色積層體直接通過配備於處理裝置之延伸裝置的周速互異之複數組輥之間，花費30至90秒之時間，以使延伸倍率成為3.3倍的方式在自由端單軸延伸。藉由該延伸處理，使著色積層體所包含之PVA層變化成經吸附之碘朝單一方向高次配向而作成聚碘離子錯合物的3μm厚PVA層。該PVA層係構成光學膜積層體之高機能偏光層。
雖非製造光學膜積層體必要之步驟，但宜藉由洗淨步驟，從硼酸水溶液中取出光學膜積層體，以碘化鉀水溶液洗淨附著於經製膜在非晶性PET基材上之3μm厚PVA層表面的硼酸。然後，藉由60℃熱風之乾燥步驟乾燥經洗淨之光學膜積層體。又，洗淨步驟係用於消除硼酸析出等之外觀不良的步驟。
同樣地，雖稱不上是製造光學膜積層體必要之步驟，但可藉由黏貼及/或轉印步驟，一邊在經製膜在非晶性PET基材上之3μm厚PVA層的表面塗布接著劑，一邊在黏貼80μm厚之三醋酸纖維素薄膜之後，剝離非晶性PET基材，將3μm厚之PVA層轉印至80μm厚之三醋酸纖維素薄膜上。
[其他步驟]
在上述步驟以外，上述之薄型偏光層的製造方法可包含其他步驟。其他步驟可舉例如：不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(水分率之調節)步驟等。其他步驟係可在任意之適合時機進行。
上述不溶化步驟具代表性的是藉由將PVA系樹脂層浸漬在硼酸水溶液中來進行。藉由實施不溶化處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100重量份，係以1重量份至4重量份為佳。不溶化浴(硼酸水溶液)之液溫宜為20℃至50℃。較佳地，不溶化步驟係在積層體製作後，在染色步驟或水中延伸步驟之前進行。
上述交聯步驟中具代表性的是藉由將PVA系樹脂層浸漬在硼酸水溶液中來進行。藉由實施交聯處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100重量份，係以1重量份至4重量份為佳。又，在上述染色步驟後進行交聯步驟時，宜進一步摻合碘化物。藉由摻合碘化物，可抑制吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物摻合量，相對於水100重量份，宜為1重量份至5重量份。碘化物之具體例係如上所述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫宜為 20℃至50℃。較佳地，交聯步驟係在上述第2硼酸水中延伸步驟之前進行。在較佳實施形態中，依序進行染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中延伸步驟。
構成透明保護薄膜之材料可使用例如透明性、機械強度、熱安定性、防水性、等向性等優異之熱可塑性樹脂。如此之熱可塑性樹脂的具體例可舉例如：三醋酸纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降冰片烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及該等之混合物。在透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意之適當添加劑。添加劑可舉例如：紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中上述熱可塑性樹脂之含量係以50至100重量%為佳，較佳的是50至99重量%為較佳，更佳的是60至98重量%，且特佳的是70至97重量%。透明保護薄膜中上述熱可塑性樹脂之含量在50重量%以下時，恐有熱可塑性樹脂本來具有之高透明性等無法充分展現之虞。
又，透明保護薄膜係藉由接著劑層來黏貼在偏光件之單側。偏光件與透明保護薄膜之接著處理係使用接著劑。接著劑可舉例如：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。前述接著劑通常係作為由水溶液形成之接著劑來使用，且通常含有0.5至60重量%固形份。除上述以外，偏光件與透明 保護薄膜之接著劑可舉例如：紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。對上述各種透明保護薄膜，電子束硬化型偏光薄膜用接著劑展現理想之接著性。又，本發明使用之接著劑中可含有金屬化合物填料。
又，前述偏光薄膜可與其他光學薄膜積層。其他光學薄膜可舉例如：反射板、反透過板、相位差薄膜(包含1/2及1/4等之波長板)、視覺補償膜、及增亮薄膜等之用以形成液晶顯示裝置等的形成光學層者。該等可在實際使用時，在前述偏光薄膜上積層使用1層或2層以上。
在偏光薄膜上積層前述光學層而成之光學薄膜，雖然可在液晶顯示裝置等之製造過程中，依序以個別積層之方式形成，但是預先積層而形成光學膜者具有品質安定性及組裝作業等優異，可善液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層可使用黏著層等適宜之接著手段。前述偏光薄膜與其他光學層接著時，該等之光學軸係可根據目標相位差特性等形成適當之配置角度。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係可合適地用以形成液晶顯示裝置等之各種影像顯示裝置。液晶顯示裝置之形成係可依循常法來實行。亦即液晶顯示裝置一般係藉由適當地組裝液晶單元等之顯示面板與附黏著劑層之偏光薄膜及視需要之照明系統等構成部件並裝入驅動電路等來形成，但是在本發明中，除了使用本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之外無特別限制，可依循常法。就液晶單元而言，亦可使用例如TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等之 任意型的任意型液晶單元。
可形成在液晶單元等之顯示面板的單側或兩側配置有附黏著劑層之偏光薄膜的液晶顯示裝置，及在照明系統使用背光或反射板等之適當液晶顯示裝置等。此時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可設置在液晶單元等之顯示面板的單側或兩側。在兩側設置偏光薄膜時，該等偏光薄膜可相同亦可不同。此外，形成液晶顯示裝置時，可在適當位置配置1層或2層以上例如擴散層、抗眩層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散片、背光單元等之適當部件。
[實施例]
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但是本發明並不因該等實施例受到限制。又，各例中的份及%均為重量基準。以下沒有特別規定之室溫放置條件全部為23℃65%RH。
<(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量之測量>
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係藉由GPC(凝膠滲透層析儀)測量。
．分析裝置：TOSOH公司製，HLC-8120GPC
．管柱：TOSOH公司製，G7000HXL+GMHXL+GMHXL
．管柱尺寸：各7.8mm×30cm計90cm
．管柱溫度：40℃
．流量：0.8ml/min
．注入量：100μl
．溶離液：四氫呋喃
．檢測器：示差折射計(RI)
．標準試料：聚苯乙烯
<偏光薄膜(1)的製作>
為製作薄型偏光層，首先，藉由延伸溫度130℃之空氣中輔助延伸將製膜於非晶PET基材之9μm厚PVA層的積層體形成延伸積層體，接著，藉由染色將延伸積層體形成著色積層體，再藉由延伸溫度65度之硼酸水中延伸將著色積層體，以使總延伸倍率為5.94倍之方式，形成包含與非晶PET基材一體地延伸之4μm厚PVA層的光學薄膜積層體。藉由如此之2段延伸，可形成包含厚度4μmPVA層之光學薄膜積層體，且該厚度4μmPVA層構成製膜於非晶PET基材之PVA層的PVA分子高次配向，且藉由染色吸附之碘朝單一方向高次配向而作成聚碘離子錯合物的高機能偏光層。接著，一邊在該光學薄膜積層體之偏光層表面上塗佈聚乙烯醇系接著劑，一邊黏貼經皂化處理之40μm厚的三醋酸纖維素薄膜後，剝離非晶PET基材，製作使用薄型偏光層之偏光薄膜。以下，將該偏光薄膜稱為薄型偏光薄膜(1)。
<偏光薄膜(2)的製作>
將厚度80μm之聚乙烯醇薄膜在速度比不同之輥間，於30℃、0.3%濃度的碘溶液中染色1分鐘，且延伸直到3倍為止。然後，一邊於60℃、含有4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，一邊延伸到總延伸倍率達 6倍為止。接著，藉由在30℃、含有1.5%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬10秒鐘進行洗淨後，在50℃進行4分鐘乾燥，獲得厚度20μm的偏光件。在該偏光件之單面，藉由聚乙烯醇系接著劑黏貼經皂化處理之厚度40μm的三醋酸纖維素薄膜而製成偏光薄膜。以下，將該偏光薄膜稱為一般偏光薄膜(2)。
製造例1
<丙烯酸系聚合物(A-1)的製備>
在具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中，準備含有丁基丙烯酸酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份之單體。又，相對於前述單體混合物(固形份)100份，準備聚合起始劑2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯，一邊緩緩攪拌一邊導入氮氣進行氮氣取代，然後將燒瓶內之液溫保持在60℃附近進行7小時聚合反應。然後，在得到之反應液中加入醋酸乙酯，調整成固形份濃度30%，製成重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液。
製造例2
<丙烯酸系聚合物(A-2)的製備>
在具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之4口燒瓶中，準備含有丙烯酸丁酯99份、丙烯酸2-羥乙酯0.5份及丙烯酸酯0.5份之單體混合物。又，相對於前述單體混合物(固形份)100份，準備聚合起始劑2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯，一邊緩緩攪拌一邊導入氮氣進行氮氣取代，然後將燒瓶內之液溫保持在60℃附近進行7小時聚合反應。然 後，在得到之反應液中加入醋酸乙酯，調整成固形份濃度30%，製成重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物(A-2)之溶液。
實施例1
(黏著劑組成物之製備)
相對於製造例1中製得之丙烯酸系聚合物(A-1)溶液之固形份100份，混合乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺(東京化成工業製)0.2份及鋰雙(三氟甲烷磺醯)醯亞胺(三菱Material電子化成公司製)0.2份，接著，混合三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井化學公司製：Takenate D110N)0.1份、二苯甲醯過氧化物0.3份及γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)0.075份，製成丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之偏光薄膜之製作)
接著，藉噴注式刮刀塗布機(fountain coater)將上述丙烯酸系黏著劑溶液均勻地塗布在藉聚矽氧系剝離劑處理後之聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(分離薄膜)表面，並在155℃之空氣循環式恆溫烤箱乾燥2分鐘，於分離薄膜表面形成厚20μm的黏著劑層。接著，將在分離薄膜上形成的黏著劑層轉印在上述製成之薄型偏光薄膜(1)的偏光件之偏光層側，製成附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2至23、比較例1至5
除了在實施例1中，製備黏著劑組成物時，將各成份之種類或使用量改變為如表1及表2所示、及製成附黏著劑層 之偏光薄膜時將偏光薄膜之種類改變為如表1所示以外，與實施例1相同地，製成附黏著劑層之偏光薄膜。
對於由上述實施例及比較例所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜進行以下的評價。評價結果表示於表1及表2。
<表面電阻值>
剝離附黏著劑層之偏光薄膜之分離薄膜後，使用Mitsubishi Chemical Analytech公司製MCP-HT450測量黏著劑表面之表面電阻值(Ω/□)(初期)。又，在60℃/95%RH之恆溫恆濕機之條件下投入附黏著劑層之偏光薄膜48小時後，亦與上述同樣地測量黏著劑表面之表面電阻值(高加濕)。表面電阻值係以5.0×1012Ω/□以下為佳，且更佳的是1.0×1012Ω/□以下。
<靜電不均之評價>
將製成之附黏著劑層之偏光薄膜切斷成100mm×100mm大小，黏貼在液晶面板上。將該面板置於具有10000cd亮度之背光上，使用靜電產生裝置ESD(SANKI公司製，ESD-8012A)產生5kv的靜電，藉此使液晶產生配向紊亂。使用瞬間多重測光檢測器(大塚電子公司製，MCPD-3000)測量因該配向不良造成之顯示不良的回復時間(秒)，且以下述基準評價。又，在60℃/95%RH之恆溫恆濕機之條件下投入附黏著劑層之偏光薄膜48小時後，亦與上述同樣之評價(高加濕)。
◎：顯示不良於不到1秒消失。
￮：顯示不良於1秒以上、不到10秒消失。
×：顯示不良於10秒以上消失。
<耐久性>
將附黏著劑層之偏光薄膜之分離薄膜剝離，使用積層機黏貼在厚度0.7mm之無鹼玻璃(Corning公司製，1737)上。接著，在50℃、5atm，進行15分鐘之高壓釜處理，使上述附黏著劑層之偏光薄膜完全密接在無鹼玻璃上。接著，在85℃之加熱烘箱(加熱)及60℃/95%RH之恆溫恆濕機(高加濕)之條件下將此分別投入，以下述基準評價500小時後偏光薄膜有無剝離。
◎：確認完全沒有剝離。
￮：確認有目視無法確認之程度之剝離。
△：確認有目視能確認之微小剝離。
×：確認有顯著剝離。
<偏光度之測定>
將附黏著劑層之偏光薄膜之分離薄膜剝離，使用積層機黏貼在厚度0.7mm之無鹼玻璃(Corning公司製，1737)上。接著，在50℃、0.5MPa，進行15分鐘之高壓釜處理，使上述附黏著劑層之偏光薄膜完全密接在無鹼玻璃上。接著，在60℃/90%RH之恆溫恆濕機(加濕)及60℃/95%RH之恆溫恆濕機(高加濕)之條件下分別投入500小時。使用日本分光(股)製之V7100測量投入前與投入後之偏光薄膜之偏光度，求取變化量△P=(投入前之偏光度)-(投入後之偏光度)。對於加濕、高加濕之任一者而言，變化量△P宜小於0.15，且更佳的是0.05以下。
表1及表2中，(C-1)表示三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井化學公司製，Takenate D110N)，(C-2)表示苯甲醯過氧化物，且(D-1)表示γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)。
由實施例及比較例2、5，確認藉由使用鎓-陰離子鹽(B1)作為離子性化合物，抗靜電性效能及耐久性良好，且抑制在加濕條件之偏光度下降△P。又，由實施例1至17與比較例2，及實施例22與比較例5之對比，確認由於使用鎓-陰離子鹽(B1)及鹼金屬鹽(B2)作為離子性化合物，亦可抑制在高加濕條件之偏光度下降△P。另一方面，在比較例3、4中，由於只有鹼金屬鹽(B2)作為離子性化合物，所以雖然可抑制在高加濕條件之偏光度下降△P，但是在高加濕條件之抗靜電性效能不足且無法解決有關靜電不均之課題。

Claims (20)

  1. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，係具有偏光薄膜、及設於該偏光薄膜上之黏著劑層者，其特徵在於：前述偏光薄膜只在偏光件之單側上具有透明保護薄膜，前述黏著劑層設在沒有前述透明保護薄膜側之偏光件上，且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)及鹼金屬鹽(B2)之黏著劑組成物(但是，前述黏著劑組成物不含有下述化學式1：[式中，R1與R2各自獨立表示C1~C20烷基或芳基，R3表示氫或甲基，n為整數2-20]所表示具有至少一個以上醚鍵的之酯類塑化劑)形成；前述鹼金屬鹽(B2)之陰離子成分為下述通式(1)至(4)所表示者：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(但是，n係1至10之整數)，(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(但是，m係1至10之整數)，(3)：-O3S(CF2)lSO3 -(但是，l係1至10之整數)，(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)，(但是，p、q係1至10之整數)。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-陰離子鹽(B1)係鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽。
  3. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓係選自於含氮鎓、含硫鎓及含磷鎓之至少一種。
  4. 如請求項3之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓係選自於銨、吡咯啶鎓、哌啶鎓及鋶之至少一種。
  5. 如請求項4之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓係吡咯啶鎓。
  6. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓不具有不飽和鍵。
  7. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鎓-陰離子鹽(B1)中之鎓係具有碳數1至4之烷基的烷鎓。
  8. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述鎓-陰離子鹽(B1)0.1至10重量份。
  9. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鹼金屬鹽(B2)中之鹼金屬係鋰。
  10. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述鹼金屬鹽(B2)0.01至5重量份。
  11. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述偏光件之厚度係10μm以下。
  12. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷酯及含羥基單體作為單體單元。
  13. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷酯及含羧基單體作為單體單元。
  14. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑組成物進一步含有交聯劑(C)。
  15. 如請求項14之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述交聯劑(C)0.01至20重量份。
  16. 如請求項14之附黏著劑層之偏光薄膜，其中交聯劑(C)係選自於異氰酸酯系化合物及過氧化物之至少1種化合物。
  17. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有矽烷偶合劑(D)0.001至5重量份。
  18. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有聚醚改質聚矽氧化合物0.001至10重量份。
  19. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係50萬至300萬。
  20. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用至少1個如請求項1至19中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜。
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