TW201307237A - 洗淨劑及玻璃基板之洗淨方法 - Google Patents

洗淨劑及玻璃基板之洗淨方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201307237A
TW201307237A TW101118531A TW101118531A TW201307237A TW 201307237 A TW201307237 A TW 201307237A TW 101118531 A TW101118531 A TW 101118531A TW 101118531 A TW101118531 A TW 101118531A TW 201307237 A TW201307237 A TW 201307237A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
glass substrate
cleaning
detergent
amine
mass
Prior art date
Application number
TW101118531A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisao Enomoto
Koji Sahara
Aiko Kaneko
Chiaki Ishikawa
Tetsushi Yokoyama
Yoshitaka Maeyanagi
Akira Tanaka
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Parker Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd, Parker Corp filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of TW201307237A publication Critical patent/TW201307237A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075—Cleaning of glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
    • C11D1/38—Cationic compounds
    • C11D1/42—Amino alcohols or amino ethers
    • C11D1/44—Ethers of polyoxyalkylenes with amino alcohols; Condensation products of epoxyalkanes with amines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
    • C11D3/12—Water-insoluble compounds
    • C11D3/1213—Oxides or hydroxides, e.g. Al2O3, TiO2, CaO or Ca(OH)2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2075—Carboxylic acids-salts thereof
    • C11D3/2082—Polycarboxylic acids-salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/34—Organic compounds containing sulfur
    • C11D3/3418—Toluene -, xylene -, cumene -, benzene - or naphthalene sulfonates or sulfates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/34—Organic compounds containing sulfur
    • C11D3/3454—Organic compounds containing sulfur containing sulfone groups, e.g. vinyl sulfones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/36—Organic compounds containing phosphorus
    • C11D3/362—Phosphates or phosphites

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本發明係有關玻璃基板之洗淨方法，其不損及業經含有氧化鈰之研磨劑研磨的玻璃基板之平坦性，而將殘留‧附著於表面的研磨顆粒予以分散並除去。本發明亦關於用以洗淨業經含有氧化鈰之研磨劑研磨的玻璃基板之水系洗淨劑，其含有(A)有機膦酸、(B)多羧酸鹽、(C)芳香族磺酸(aromatic sulfonic acid)及(D)胺-環氧烷(amine-alkylene oxide)加成物。玻璃基板之洗淨方法係具有下述步驟：研磨步驟，係使用含有氧化鈰之研磨劑來研磨玻璃基板者，以及洗淨步驟，係藉由前述洗淨劑來洗淨該研磨步驟後的該玻璃基板者。

Description

洗淨劑及玻璃基板之洗淨方法 發明領域
本發明係關於用以洗淨業經含有氧化鈰之研磨劑研磨的玻璃基板的洗淨劑，以及玻璃基板之洗淨方法。
發明背景
例如，使用於液晶顯示器(LCD)等FPD(Flat Panel Display)用之玻璃基板係藉由被稱為浮製玻板法的製法來將溶融玻璃成形為板狀，再將切割所獲得之玻璃基板，例如以進行自轉及公轉的研磨具進行研磨，來除去表面微小的凹凸及起伏，藉此來製造成預定厚度(例如，0.4~1.1mm)的薄板狀且該預定厚度滿足對FPD用之玻璃基板所要求之平坦度(例如，參見專利文獻1)。
為了研磨這般的玻璃基板，使用以氧化鈰作為主成分且含有鑭等稀土元素的研磨顆粒，但在FPD用之玻璃基板般被要求高平坦性的玻璃基板來說，基板表面研磨劑的殘留會成為問題。為此，在研磨後，進行洗淨並除去附著於玻璃基板表面的研磨劑(研磨粒)(例如，參見專利文獻2)。
通常研磨劑的洗淨及除去，係使用含有鹼成分而成的洗淨劑，但是對於含有以氧化鈰為主成分之研磨粒的研磨劑而言，鹼系洗淨劑之洗淨性係不充分。還有，為了提高以氧化鈰為主成分之研磨粒的洗淨‧除去性，亦使用 含有無機或是有機的鹼成分與界面活性劑的洗淨劑，但無法充分地降低粒徑為次微米等級的研磨粒殘渣。
進一步，為了除去玻璃基板上之研磨粒的殘渣，可思及使用含有屬有機酸之1種的檸檬酸的洗淨劑將氧化鈰予以溶解。然而，在使用檸檬酸作為有機酸的洗淨劑來說，初期的洗淨特性雖係良好的，但隨著時間的推移，排放液中的研磨粒殘渣會結塊而有在排水處理發生不良狀況的問題。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1 日本特開2007-190657號公報
專利文獻2 日本特開2009-215093號公報
發明概要
本發明係為解決上述問題而作者，以提供玻璃基板用洗淨劑及玻璃基板之洗淨方法為目的，該玻璃基板用洗淨劑可不損及玻璃基板的平坦性並將殘留及/或附著於其表面的研磨顆粒予以分散並除去者。
本發明的第1態樣係用以洗淨業經含有氧化鈰之研磨劑研磨的玻璃基板的洗淨劑，其特徵在於其係含有A)有機膦酸、(B)多羧酸鹽、(C)芳香族磺酸及(D)胺-環氧烷(amine-alkylene oxide)加成物的水系洗淨劑者。
就第1態樣的洗淨劑來說，其相對於前述(A)有機膦酸、前述(B)多羧酸鹽、前述(C)芳香族磺酸及前述(D)胺-環氧烷加成物的合計量，以含有0.01~50質量%之前述(A)有機膦酸、0.01~10質量%之前述(B)多羧酸鹽、0.01~50質量%之前述(C)芳香族磺酸、以及0.02~10質量%之前述(D)胺-環氧烷加成物為佳。
還有，前述(A)有機膦酸係以具有以式：-P(=O)(OH)2所示之基鍵結至碳原子的結構的有機化合物為佳。
進一步，前述(D)胺-環氧烷加成物係以伸烷基二胺之環氧丙烷-環氧乙烷加成物為佳。
進一步，包含前述(A)有機膦酸、前述(B)多羧酸鹽、前述(C)芳香族磺酸、前述(D)胺-環氧烷與水，且相對於前述(A)至(D)各成分及水的合計量，以含有55~98質量%的水為佳。
表示上述數值範圍的「~」係指，包含記載於其之前後的數值作為下限值及上限值之意味來使用，只要沒有特別規範，以下在本說明書中「~」係帶有相同的意味被使用。
本發明的第2態樣係玻璃基板之洗淨方法，其特徵在於具有研磨步驟與洗淨步驟，該研磨步驟係使用含有氧化鈰之研磨劑來研磨玻璃基板者；該洗淨步驟係藉由前述第1態樣之洗淨劑來洗淨該研磨步驟後的該玻璃基板者。
就第2態樣玻璃基板之洗淨方法來說，前述研磨劑可令人滿意地使用含有以氧化鈰作為主成分且含有稀土元素的研磨顆粒。
還有，就前述洗淨步驟來說，可令人滿意地以單片方式來洗淨前述玻璃基板。
進一步，以藉由已使前述洗淨劑經水稀釋之稀釋洗淨液來洗淨前述研磨步驟後的該玻璃基板為佳。
進一步，在前述洗淨步驟中，可藉由一邊噴灑前述洗淨劑，一邊使用刷具來刷洗而令人滿意地洗淨被連續搬送之前述玻璃基板的兩面。
依據本發明的洗淨劑，可不損及業經含有氧化鈰之研磨劑研磨的玻璃基板的平坦性並將殘留‧附著於其之表面之由氧化鈰等構成的研磨顆粒予以分散並除去。
還有，依據本發明的洗淨方法，可不損及表面的平坦性並有效地洗淨以含有氧化鈰之研磨劑進行研磨後的玻璃基板，而可提供於表面極少研磨顆粒般之異物的殘留的玻璃基板。
圖式簡單說明
第1圖係顯示本發明玻璃基板之洗淨方法的一實施形態的圖。
用以實施發明之形態
以下，就本發明實施形態，以將作為LCD等FPD用所使用的玻璃基板予以洗淨的洗淨劑，及使用該洗淨劑的洗淨方法為例進行說明。業經含有氧化鈰之研磨劑研磨 的FPD用玻璃基板係為了除去研磨後玻璃基板上的研磨劑殘渣而進行洗淨，本發明的實施形態即係用於此洗淨的洗淨劑及洗淨方法。本發明非被限定於此等實施形態者，只要是與本發明的宗旨一致，其他的實施形態亦可屬於本發明的範疇。
本發明第1實施形態係FPD用玻璃基板的洗淨劑，其係含有(A)有機膦酸、(B)多羧酸鹽、(C)芳香族磺酸及(D)胺-環氧烷加成物的水系洗淨劑。
依據此洗淨劑，可將由殘留及/或附著於研磨後之玻璃基板表面的氧化鈰等構成的研磨顆粒良好地分散並除去，亦不損及玻璃基板的平坦性。還有，洗淨排放液中的研磨粒殘渣不會隨著時間的推移而結塊，而洗淨排放液的處理亦可良好地進行。
在本發明第1實施形態之玻璃基板的洗淨劑來說，相對於氧化鈰，(A)成分的有機膦酸係起到作為螯合劑的作用，促進由殘留及/或附著於玻璃基板之表面的氧化鈰等構成的研磨顆粒的分散，並進行將其從玻璃基板表面剝下並除去的功能。
就本發明來說，所謂(A)成分的有機膦酸係指下述有機化合物，其具有以式：-P(=O)(OH)2所示之基(以下，稱為膦酸基)鍵結至碳原子之結構。每1分子有機膦酸之膦酸基的數目係以2以上為佳，以2~8為較佳，以2~4為特佳。
在本發明中作為有機膦酸，以具有下述結構的化合物為佳：將鍵結至可具有取代基之烴類之碳上的氫原子 取代為膦酸基之結構的化合物，以及將鍵結至氨或胺類之氮原子的氫原子取代為以-CH2-P(=O)(OH)2所示之亞甲基膦酸基之結構的化合物。
在上述前者結構之有機膦酸中，作為可具有取代基的烴類，以脂肪族烴及含有氫氧基之脂肪族烴為佳。在此等脂肪族烴等中，其碳數係以1~6為佳，且氫氧基數係以2以下為佳。作為具有此結構之有機膦酸，具體來說，可舉例如：甲基二膦酸及1-羥乙叉-1,1-二膦酸等。
下述具有亞甲基膦酸基結構的有機膦酸亦包含在內，作為在本發明中的有機膦酸，以具有將鍵結至含有氫氧基之脂肪族烴之碳的氫原子取代為膦酸基之結構的化合物為特佳，具體來說，以1-羥乙叉-1,1-二膦酸為最佳。
作為前述後者之結構的有機膦酸，以具有下述結構之化合物為佳：鍵結至氨或脂肪族胺之氮原子的氫原子全部取代為亞甲基膦酸基之結構。惟，亦可係鍵結至胺類氮原子的氫原子的其中一部份取代為烷基等有機基。作為脂肪族胺，以伸烷二胺及其多聚物的聚伸烷基多胺(polyalkylene polyamine)為佳。伸烷二胺的碳數係以2~4為佳。鍵結至此等胺類之氮原子的氫原子(可取代為亞甲基膦酸基之氫原子)的數目以2~8為佳，以2~4為較佳。
作為具有此結構的有機膦酸，具體來說，可舉：胺基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)、六亞甲基二胺四(亞甲基膦酸)、丙二胺四(亞甲基膦酸)、二伸乙基三胺五(亞甲基膦酸)、三伸乙基四胺六(亞甲基膦酸)、三(2-胺基 乙基)胺六(亞甲基膦酸)、反-1,2-環己二胺四(亞甲基膦酸)、乙二醇醚二胺四(亞甲基膦酸)及四乙烯五胺七(亞甲基膦酸)等。
所謂(B)成分的多羧酸鹽與(C)成分的芳香族磺酸，係進行提升由前述(A)有機膦酸所致之研磨顆粒的分散性及/或除去性並且防止研磨顆粒再附著的功能。作為(B)成分的多羧酸鹽，可例示：聚(甲基)丙烯酸鹽、(甲基)丙烯酸-順丁烯二酸共聚物鹽等。
於此處，(甲基)丙烯酸這樣的表記係意味丙烯酸與甲基丙烯酸兩者。聚羧酸的重量平均分子量(以下，略記為Mw)，從防止研磨顆粒再附著及低泡性的觀點來看，以2,000~50,000的範圍為佳。另外，Mw係藉由凝膠滲透層析術(以下，略記為GPC)所測定之值。
就多羧酸鹽來說，形成鹽之相對離子，並未特別限定，以下述為佳：鹼金屬(例如，鈉及鉀)鹽、銨鹽、一級胺(例如，甲胺、乙胺及丁胺等烷基胺)鹽、二級胺(例如，二甲胺、二乙胺及二丁胺等二烷基胺還有二乙醇胺)鹽、三級胺(例如，三甲胺、三乙胺及三丁胺等三烷基胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺，還有1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯(DBU)、1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯(DBN)，或是1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷(DABCO)、1H咪唑、2-甲基-1H-咪唑、2-乙基-1H-咪唑、4,5-二氫-1H咪唑、2-甲基-4,5-二氫-1H咪唑、1,4,5,6-四氫-嘧啶、1,6(4)-二氫嘧啶)鹽，以及第4級銨鹽(例如，四烷基銨)鹽。從防止顆粒再附著的觀點來看， 此等之中較佳者係：鹼金屬(例如，鈉及鉀)鹽、銨鹽、一級胺鹽、二級胺鹽、三級胺鹽及第4級銨鹽，特佳者係：鹼金屬(例如，鈉及鉀)鹽、銨鹽。
作為(C)成分的芳香族磺酸，可舉：具有碳數8~14之烷基的烷基苯磺酸、石油磺酸鹽(petroleum sulfonate)、對甲苯磺酸、二甲苯磺酸及異丙苯磺酸(cumene sulfonic acid)等。特別係以間二甲苯磺酸(meta-xylene sulfonic acid)(2,4-二甲苯磺酸)的使用為佳。
(D)成分的胺-環氧烷加成物，係進行促進前述(A)有機膦酸浸透至研磨顆粒與玻璃基板之界面的功能。在本實施形態中，作為胺-環氧烷加成物，以作為環氧烷加成型之非離子性界面活性劑為人所知的化合物為佳。作為環氧烷，以環氧乙烷(以下，亦稱為EO)與環氧丙烷(以下，亦稱為PO)為佳，可係僅加成有該等中一者之結構的化合物，亦可係加成有該等兩者之結構的化合物。就加成有EO與PO兩者之化合物來說，EO的單位(即，氧乙烯基)與PO的單位(即，氧丙烯基)亦可係以嵌段狀存在，亦可無規則狀地存在。前者係將分別依序加成EO與PO至胺來獲得，後者係加成EO與PO的混合物至胺來獲得。在本發明中所謂PO-EO加成物係稱以該等加成方法中任一種所獲得的加成物。
作為加成有環氧烷之胺類，以鍵結至氮原子之氫原子的數目為2~8且胺基的數目為1~4的胺類為佳。還有，胺類的碳數以16以下為佳，以10以下為較佳。作為這般的胺類，可舉，例如：脂肪族的單胺或多胺、脂環族的單胺 或多胺、芳香族的單胺或多胺。更具體地說，以下述為佳：烷基單胺、伸烷二胺或其多聚物的聚伸烷基多胺、具有1個以上鍵結至脂環的胺基或胺烷基之脂環族的單胺或多胺、具有1個以上鍵結至芳香環之胺基或胺烷基之脂環族的單胺及多胺等等。
作為(D)成分的胺-環氧烷加成物，以其之至少一部份係伸烷二胺的PO-EO加成物為佳。作為伸烷二胺，以碳數2~4之伸烷二胺為佳，以乙二胺為特佳。作為乙二胺的PO-EO加成物，可舉例如：在鍵結至乙二胺之氮原子的4個氫原子加成有PO與EO的化合物。還有，作為(D)成分的胺-環氧烷加成物，以與前述乙二胺的PO-EO加成物一起併用芳香胺的PO加成物亦佳。作為芳香胺的PO加成物，可舉例如：間苯二甲胺的PO加成物。當將乙二胺的PO-EO加成物與芳香胺的PO加成物一起併用作為(D)胺-環氧烷加成物的狀況時，洗淨劑之洗淨‧除去能力的安定性係更加提升。
相對於包含本發明洗淨劑的水在內的整體，(A)成分、(B)成分、(C)成分及(D)成分(以下，當蓋括稱呼(A)成分至(D)成分的狀況時，亦有稱為「(A)~(D)」的情事)各成分的含有比例係，相對於包含水在內之(A)~(D)各成分的合計量，以含有0.01~50質量%之(A)有機膦酸、0.01~10質量%之(B)多羧酸鹽、0.01~50質量%之(C)芳香族磺酸，及0.02~10質量%之(D)胺-環氧烷加成物為佳。
還有，相對於包含水在內之(A)~(D)之合計量，(B)多羧酸鹽與(C)芳香族磺酸的合計質量%，係以0.03~60質量%為 佳。
作為(D)胺-環氧烷加成物，當併用伸烷二胺的PO-EO加成物與芳香胺的PO加成物的狀況時，係0.01~5質量%之伸烷二胺的PO-EO加成物與0.01~5質量%之芳香胺的PO加成物，且相對於包含水在內之(A)~(D)之合計量，其合計的質量%係以上述0.02~10質量%為佳。
本發明的洗淨劑係使前述(A)~(D)各成分溶解於水而成的水系洗淨劑。在本發明中，洗淨劑中的水係用以溶解上述(A)有機膦酸、(B)多羧酸鹽、(C)芳香族磺酸及(D)胺-環氧烷加成物的溶媒。作為此水，可使用去離子水、超純水、電荷離子水、加氫水及臭氧水等等。另外，水係具有控制本發明洗淨劑之流動性的機能，因此其含量係可配合洗淨速度等作為目標的洗淨特性來適宜設定。在以前述範圍來含有前述(A)~(D)各成分且含有水的洗淨劑中，相對於前述(A)~(D)各成分及水之合計量，可使水的含有比例為55~98質量%。以下，亦將以前述範圍來含有(A)~(D)各成分及水的洗淨劑稱為「洗淨劑原液」。
在本發明的洗淨劑中，除上述(A)~(D)各成分以外可於水中摻混其他的添加劑。作為其他的添加劑，可舉：分散劑、水溶性有機溶劑、抗氧化劑、防銹蝕劑、pH值調節劑、緩衝劑、消泡劑、防腐劑、水溶助劑等。
如以上般所構成之本發明洗淨劑，可在包含至少下述研磨步驟與洗淨步驟2步驟之玻璃基板的製造方法中使用於洗淨步驟：該研磨步驟係使用含有氧化鈰作為主成 分之研磨顆粒的研磨劑來研磨玻璃基板，該洗淨步驟係將研磨步驟後的玻璃基板予以洗淨。於實際地將本發明之洗淨劑使用於洗淨的時候，較佳係將前述洗淨劑原液進一步以水稀釋使該洗淨劑原液的含有比率(濃度)成為0.5~2.5質量%來使用。藉由這般地以水稀釋來使用，可不損傷玻璃基板表面並且良好地除去由殘留‧附著的氧化鈰等構成的研磨顆粒。
研磨步驟係可令為如以下：使用研磨墊，藉由含有研磨顆粒(該研磨顆粒係以氧化鈰作為主成分並含有稀土元素且平均粒徑為例如0.5~3.0μm者)的研磨劑漿料來將玻璃基板的表面予以研磨者。上述之平均粒徑係將研磨顆粒以布萊恩空氣透過法(Blaine air permeability method：BLAIN method)所測定之值，以下，在本說明書中當表記平均粒徑時，係稱藉此測定方法而求得之值。
另外，就此處而言，所謂以氧化鈰作為主成分並含有稀土元素的研磨顆粒，係指稱在研磨顆粒整體中，含有45質量%以上之氧化鈰，並含有0質量%~55質量%之稀土元素的化合物(例如，稀土元素氧化物)。另外，作為稀土元素，可舉：La、Pr、Nd等等。
洗淨步驟係可藉由使本發明洗淨劑直接接觸研磨後的玻璃基板，以單片方式洗淨之方法來進行。就本發明的洗淨方法來說係採用，例如，如於第1圖所示般，一邊向藉由輸送輥1等機構在洗淨室2內在水平方向上連續搬送之玻璃基板3的上下兩面噴灑由洗淨噴嘴4所噴出的洗淨劑 5，一邊以配置於兩面側的旋轉刷具6來刷洗(scribe)的方法。
於此處，洗淨劑5的溫度，未被特別限定，以室溫(15℃)~95℃來使用。超出95℃時因水有沸騰之虞，在洗淨操作上不便而不佳。還有，作為洗淨用的旋轉刷具6，可使用複數個例如：PVA(聚乙烯醇)之海綿製且外徑70~100mm的圓柱形狀者。而且，此狀況時，以將此等刷具配置為例如使得旋轉軸相對於玻璃基板3之被洗淨面呈垂直，並且前端部係與玻璃基板3之被洗淨面接觸，或是配置為呈小於2mm的間隔。旋轉刷具6之旋轉速度以令為100~500rpm為佳。
作為洗淨劑5，可使用將前述之本發明的洗淨劑原液以水稀釋為所欲之濃度而作成稀釋洗淨液者。噴出量係可令為15~40升/分。
實施例
於以下針對本發明的實施例進行具體地說明，但本發明並非被限定於此等實施例者。在以下的例中，只要沒有特別事先說明，則「%」係意味著質量%。
<關於氧化鈰之洗淨性的初步試驗1>
首先，製作試驗片。即，將已知的研磨用氧化鈰(CeO2)粒子(平均粒徑0.8~1.0μm)的4質量%水溶液滴下至長5.0cm×寬4.0cm×厚度0.07cm的玻璃基板(商品名：AN100；旭硝子(有限公司)製。以下亦同)的單面，並於室溫下使之乾燥20分鐘。如此進行來製作於單面附著有白色氧化鈰(CeO2)粒子的玻璃基板(以下，表示為有粒子附著的玻璃基 板)作為試驗片。
接下來，調製以1質量%之濃度來含有於表1所示之有機酸的酸水溶液。而且，將前述有粒子附著的玻璃基板在室溫下浸漬於此水溶液中1小時。接著，用肉眼觀察浸漬後之玻璃基板的表面狀態，依據下述標準來評價洗淨性。將評價結果顯示於表1。
(評價標準)
○：氧化鈰粒子從玻璃基板表面被完全地除去。
△：若干氧化鈰粒子殘留在玻璃基板表面。
×：可見氧化鈰粒子的殘留。
從表1的結果瞭解到，當使用1-羥乙叉-1,1-二膦酸作為有機酸的狀況時，氧化鈰的洗淨性高且玻璃基板表面的氧化鈰粒子被良好地除去。
<關於氧化鈰之洗淨性的初步試驗2>
將已知的研磨用氧化鈰(CeO2)粒子(平均粒徑0.8~1.0μm)的4質量%水溶液滴下至與上述相同之玻璃基板(商品名：AN100)的單面，於室溫下使之乾燥60分鐘來製作有氧化鈰粒子附著的玻璃基板。
接下來，調製分別以1質量%的比例(濃度)含有於 表2所示之各種界面活性劑等化合物的水溶液後，將前述之有氧化鈰粒子附著的玻璃基板在室溫下浸漬於此水溶液中20小時；該界面活性劑係欲改良氧化鈰粒子之分散性所可想到者。然後，用肉眼觀察浸漬後之玻璃基板的表面狀態，依據下述標準來評價氧化鈰粒子的分散除去性。將評價結果顯示於表2。另外，使用之化合物係作為界面活性劑等在市面上所販售的化合物。
(評價標準)
○：玻璃基板表面之氧化鈰粒子被分散於界面活性劑的水溶液中而被完全地除去。
△：氧化鈰粒子往界面活性劑水溶液中之分散及/或除去兩者皆不充分。氧化鈰粒子在水溶液中成為塊狀而沉澱。
×：氧化鈰粒子往界面活性劑水溶液中的分散及/或除去幾乎不可見。
從表2的結果來看，可確認到以下事項。即，從 氧化鈰粒子之分散性的觀點來看，瞭解到以多羧酸鹽、間二甲苯磺酸及乙二胺的PO-EO加成物的使用為佳。還有，瞭解到亦可使用間苯二甲胺的PO加成物。
(實施例1、2、比較例1~5)
將已知的研磨用氧化鈰(CeO2)粒子(平均粒徑0.8~1.0μm)的4質量%水溶液滴下至長5.0cm×寬4.0cm×厚度0.07cm之玻璃基板(商品名：AN100)的單面，在50℃下使之乾燥30分鐘。如此進行來製作於表面附著有白色氧化鈰(CeO2)粒子的玻璃基板。
還有，作為實施例1、2及比較例1~5，係將表3所示之各成分以同表所示之組成來摻混以調製洗淨劑原液。接下來，如以下所示般調查如此進行所獲得之洗淨劑原液的洗淨性。即，將所獲得之洗淨劑原液(包含水)添加水來稀釋使濃度成為2質量%後，將前述有粒子附著的玻璃基板於室溫下浸漬於此洗淨稀釋液中9小時。然後，用肉眼觀察浸漬後之玻璃基板的表面狀態並依據下述標準來評價洗淨性。將評價結果顯示於表3。
(評價標準)
○：玻璃基板表面的氧化鈰粒子被完全地除去。
△：若干氧化鈰粒子殘留在玻璃基板表面。
×：氧化鈰粒子幾乎沒有被除去而殘留在玻璃基板表面。
從表3瞭解到，當將含有1-羥乙叉-1,1-二膦酸作為(A)成分、多羧酸鹽作為(B)成分、間二甲苯磺酸作為(C)成分，及乙二胺的PO-EO加成物作為(D)成分之實施例1及實施例2(進一步含有間苯二甲胺的PO加成物)的洗淨劑原液予以稀釋來使用的狀況時，玻璃基板表面的氧化鈰粒子被良好地除去。
(實施例3、4、比較例6)
以於第1圖所示之方法來進行研磨步驟後之玻璃基板的洗淨。作為洗淨劑，在實施例3來說，係使用以水稀釋使得於實施例1所獲得之洗淨劑原液(以下示為有機酸系1)成 為原液濃度(包含水的原液濃度)係0.5質量%的稀釋洗淨液；而在實施例4來說，則係使用以水稀釋使得於實施例2所獲得之洗淨劑原液(以下示為有機酸系2)成為原液濃度(包含水的原液濃度)係0.5質量%的稀釋洗淨液。進一步，在比較例6來說，則係使用以水稀釋使得習知的鹼系洗淨劑成為濃度係0.1質量%之稀釋洗淨液，來相同地進行洗淨。另外，鹼系洗淨劑係分別含有氫氧化鉀及氫氧化鈉作為無機鹼、乙二胺四醋酸鹽作為螯合劑，以及聚氧乙烯十二烷基醚作為界面活性劑，而剩餘部份由水所構成的洗淨劑。
使用AN100(商品名)作為玻璃基板，研磨步驟係使用含有以平均粒徑0.8~1.0μm之已知的氧化鈰粒子作為主成分之研磨顆粒的研磨劑漿料(商品名SHOROX A10；昭和電工(有限公司)製)作為研磨劑，並使用研磨墊對此玻璃基板的表面進行。還有，在洗淨步驟來說，係一邊將前述各種稀釋洗淨液以1秒內250~700mL的比例來噴灑至研磨後之玻璃基板的表面，一邊透過以100~500rpm的速度來旋轉之PVA製的刷具進行刷洗6~10秒。
這樣進行洗淨之後，將實施例3及實施例4洗淨之玻璃基板以及比較例6洗淨之玻璃基板表面所殘留之Ce及La量，藉由以感應耦合電漿質譜儀所致之質量分析(簡稱ICP-MS)來測定。將測定結果顯示於表4。
從表4瞭解到，相較於使用鹼系洗淨劑之比較例6，在使用將於實施例1及實施例2所獲得之洗淨劑原液，即，有機酸系1及有機酸系2，以水稀釋為濃度0.5%的稀釋洗淨液來進行洗淨實施例3及實施例4來說，玻璃基板表面的Ce殘留極少，此外La的殘留亦變得極少。
實施例5~8、比較例7、8
在實施例5~8來說，係如表5所示般，使用以水將前述有機酸系1或是有機酸系2稀釋至同表所示之濃度的稀釋洗淨液，並以第1圖所示之方法來進行研磨步驟後之玻璃基板的洗淨。還有，在比較例7及8來說，係使用稀釋至表5所示濃度之習知的鹼系洗淨劑來同樣地進行洗淨。另外，鹼系洗淨劑與在前述比較例6使用者係相同的洗淨劑。
使用AN100(商品名)作為玻璃基板，研磨步驟係使用包含以平均粒徑0.8~1.0μm之已知的研磨用氧化鈰粒子作為主成分之研磨顆粒的研磨劑漿料(商品名SHOROX A10)作為研磨劑，並使用研磨墊來對此玻璃基板的表面進行。還有，在洗淨步驟來說，係一邊將前述稀釋洗淨液以1秒內250~700mL的比例來噴灑至研磨後之玻璃基板的表面，一邊透過以100~500rpm之速度來旋轉之PVA製的刷具進行刷洗6~10秒。
這樣進行洗淨之後，將殘留於玻璃基板表面之研磨粒等粒子(顆粒)的數目依粒子之限幅電平(slice level)區分並且分別進行測定。限幅電平係進行分類之方法的一 種，其係將雷射光照射至粒子，依據其之散射的光強度來實施粒子尺寸的分類。測定係透過雷射散射成像方式(HS830E；東麗工程(有限)公司製)來進行。將測定結果顯示於表5。
從表5瞭解到，相較於使用鹼系洗淨劑的比較例7及比較例8，在使用將於實施例1及實施例2所獲得之洗淨劑原液，即有機酸系1及有機酸系2以水稀釋為0.5質量%、2.0質量%、2.5質量%之濃度的稀釋洗淨液來進行洗淨的實施例5~8來說，玻璃基板表面之粒子(顆粒)的殘渣變少，特別是尺寸(限幅電平)0.3μm左右之研磨顆粒微粒子的殘留變得極少。
產業上可利用性
本發明的洗淨劑由於係可不損及研磨後之玻璃基板的平坦性並將殘留‧附著於其之表面之由氧化鈰等構成之研磨顆粒予以分散並除去，因此可有效地適用於使用在FPD用之玻璃基板的洗淨方法。
另外，將2011年5月24日提申之日本專利申請案第 2011-115353號的說明書、申請專利範圍、圖式及摘要的全部內容引用於此，作為本發明的揭示而併入。
1‧‧‧輸送輥
2‧‧‧洗淨室
3‧‧‧玻璃基板
4‧‧‧洗淨噴嘴
5‧‧‧洗淨劑
6‧‧‧旋轉刷具
第1圖係顯示本發明玻璃基板之洗淨方法的一實施形態的圖。
1‧‧‧輸送輥
2‧‧‧洗淨室
3‧‧‧玻璃基板
4‧‧‧洗淨噴嘴
5‧‧‧洗淨劑
6‧‧‧旋轉刷具

Claims (10)

  1. 一種洗淨劑，係用於洗淨業經含有氧化鈰之研磨劑研磨的玻璃基板者，其特徵在於：該洗淨劑係含有下述成分的水系洗淨劑：(A)有機膦酸、(B)多羧酸鹽、(C)芳香族磺酸(aromatic sulfonic acid)及(D)胺-環氧烷(amine-alkylene oxide)加成物。
  2. 如申請專利範圍第1項之洗淨劑，其相對於前述(A)有機膦酸、前述(B)多羧酸鹽、前述(C)芳香族磺酸及前述(D)胺-環氧烷加成物的合計量，含有：0.01~50質量%之前述(A)有機膦酸、0.01~10質量%之前述(B)多羧酸鹽、0.01~50質量%之前述(C)芳香族磺酸以及0.02~10質量%之前述(D)胺-環氧烷加成物。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之洗淨劑，其中前述(A)有機膦酸係具有下述結構之有機化合物：式：-P(=O)(OH)2所示之基鍵結至碳原子的結構。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之洗淨劑，其中前述(D)胺-環氧烷加成物係伸烷基二胺之環氧丙烷-環氧乙烷加成物。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之洗淨劑，其含有前述(A)有機膦酸、前述(B)多羧酸鹽、前述(C)芳香族磺酸、前述(D)胺-環氧烷加成物及水，且相對於前述(A)至(D)各成分及水的合計量，含有水55~98質量%。
  6. 一種玻璃基板之洗淨方法，其特徵在於具有下述步驟： 研磨步驟，係使用含有氧化鈰之研磨劑來研磨玻璃基板者；以及洗淨步驟，係藉由如申請專利範圍第1至5項中任一項之洗淨劑來洗淨前述研磨步驟後的該玻璃基板者。
  7. 如申請專利範圍第6項之玻璃基板之洗淨方法，其中前述研磨劑含有研磨顆粒，該研磨顆粒係以氧化鈰作為主成分且含有稀土元素。
  8. 如申請專利範圍第6或7項之玻璃基板之洗淨方法，其在前述洗淨步驟中係以單片方式洗淨前述玻璃基板。
  9. 如申請專利範圍第6至8項中任一項之玻璃基板之洗淨方法，其係藉由已使前述洗淨劑經水稀釋之稀釋洗淨液來洗淨前述研磨步驟後的該玻璃基板。
  10. 如申請專利範圍第6至9項中任一項之玻璃基板之洗淨方法，其係在前述洗淨步驟中，一邊噴灑前述洗淨劑或是前述稀釋洗淨液，一邊使用刷具來刷洗被連續搬送之前述玻璃基板的兩面。
TW101118531A 2011-05-24 2012-05-24 洗淨劑及玻璃基板之洗淨方法 TW201307237A (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011115353 2011-05-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201307237A true TW201307237A (zh) 2013-02-16

Family

ID=47217342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101118531A TW201307237A (zh) 2011-05-24 2012-05-24 洗淨劑及玻璃基板之洗淨方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2012161270A1 (zh)
KR (1) KR20140053003A (zh)
CN (1) CN103562366A (zh)
TW (1) TW201307237A (zh)
WO (1) WO2012161270A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103524054A (zh) * 2013-09-17 2014-01-22 江西沃格光电科技有限公司 褪膜剂及使用该褪膜剂的ito玻璃的褪膜方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103920687B (zh) * 2014-04-15 2016-02-10 苏州凯利昂光电科技有限公司 一种清洗薄化研磨后的tft玻璃的方法
JP2016094596A (ja) * 2014-11-10 2016-05-26 三洋化成工業株式会社 硬質表面処理薬剤
JP2016140816A (ja) * 2015-01-30 2016-08-08 株式会社 ハリーズ 透明板清掃システム
JP2016140815A (ja) * 2015-01-30 2016-08-08 株式会社 ハリーズ 透明板清掃システム
CN106694416A (zh) * 2016-12-30 2017-05-24 武汉华星光电技术有限公司 一种湿式设备背面毛刷
CN110419094B (zh) * 2017-03-14 2023-12-19 福吉米株式会社 表面处理组合物、其制造方法、及使用其的表面处理方法
CN107214162A (zh) * 2017-07-18 2017-09-29 合肥余塝电子商务有限公司 一种玻璃制品用清洁装置
KR102071670B1 (ko) * 2018-07-24 2020-01-30 (주)피스코 유리용 스케일 제거제 조성물
JP7276343B2 (ja) * 2018-08-30 2023-05-18 三菱ケミカル株式会社 洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法
CN115318747A (zh) * 2022-08-16 2022-11-11 江西佳鼎光电科技有限公司 一种光学镜片超声波清洗工艺

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001003081A (ja) * 1999-06-24 2001-01-09 Toho Chem Ind Co Ltd 微粒子除去用洗浄剤組成物
WO2009035089A1 (ja) * 2007-09-14 2009-03-19 Sanyo Chemical Industries, Ltd. 電子材料用洗浄剤
JP5192953B2 (ja) * 2007-09-14 2013-05-08 三洋化成工業株式会社 磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤
JP5192952B2 (ja) * 2007-09-14 2013-05-08 三洋化成工業株式会社 磁気ディスク基板用洗浄剤
CN101888906B (zh) * 2007-12-17 2012-12-19 三洋化成工业株式会社 电子材料用清洗剂和清洗方法
JP2010086563A (ja) * 2008-09-29 2010-04-15 Kao Corp ハードディスク用ガラス基板用洗浄剤組成物。
JP5553985B2 (ja) * 2008-12-11 2014-07-23 三洋化成工業株式会社 電子材料用洗浄剤
JP5417095B2 (ja) * 2009-09-09 2014-02-12 ライオン株式会社 洗浄剤組成物、およびガラス製ハードディスク基板の洗浄方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103524054A (zh) * 2013-09-17 2014-01-22 江西沃格光电科技有限公司 褪膜剂及使用该褪膜剂的ito玻璃的褪膜方法
CN103524054B (zh) * 2013-09-17 2016-01-20 江西沃格光电股份有限公司 褪膜剂及使用该褪膜剂的ito玻璃的褪膜方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2012161270A1 (ja) 2014-07-31
KR20140053003A (ko) 2014-05-07
WO2012161270A1 (ja) 2012-11-29
CN103562366A (zh) 2014-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201307237A (zh) 洗淨劑及玻璃基板之洗淨方法
TWI388659B (zh) Detergent composition
TWI398514B (zh) 用於清潔磁光碟基板的清潔劑
WO2014080917A1 (ja) ガラス基板の洗浄方法
JP5518392B2 (ja) 電子デバイス基板用洗浄剤組成物、および電子デバイス基板の洗浄方法
US20080173328A1 (en) Cleaning liquid and cleaning method using the same
KR101956388B1 (ko) 사파이어 웨이퍼 세정제 조성물
JP5417095B2 (ja) 洗浄剤組成物、およびガラス製ハードディスク基板の洗浄方法
KR20040064641A (ko) 반도체 기판용 세정액
CN111020610A (zh) 一种用于Cu互连CMP后腐蚀抑制剂的清洗液及配制方法
CN101092541A (zh) 一种用于硅晶片的精抛液
JP6847657B2 (ja) 半導体デバイス用基板用の洗浄剤組成物
JP4130514B2 (ja) 精密洗浄剤組成物
JP5500911B2 (ja) ハードディスク基板用洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法
JP2019081124A (ja) ガラス基板に蓄積する静電気を低減させる洗浄方法
JP2012201741A (ja) 精密部品用洗浄剤組成物
JP2016060862A (ja) ガラス用洗浄剤
US11458590B2 (en) Abrasive slurry regeneration method
TW201602035A (zh) 玻璃基板、玻璃基板之製造方法、及黑矩陣基板
JP2012219186A (ja) ハードディスク基板用洗浄剤
JP5983164B2 (ja) Ｔｉ膜付きガラス基板及びこれを用いた金属膜付きガラス基板、Ｔｉ膜付きガラス基板及びこれを用いた金属膜付きガラス基板の製造方法、ならびにガラス基板表面の平坦度評価方法
JP2018002881A (ja) 液体洗浄剤組成物
JP2009197175A (ja) 洗浄剤原液
CN101432412A (zh) 用于后cmp清洗工艺的含有防腐剂化合物的清洗溶液
KR20170059589A (ko) 세정제 및 유리 기판의 세정 방법