TW201305891A - 靜電電容式觸控面板及防眩性薄膜 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種將具備防眩性和指紋辨識困難性之操作面予以持有之靜電電容式觸控面板4。構成在靜電電容式觸控面板4之操作面側，具有滿足下列條件a~d之全部之表面凹凸。條件a係Ra（算數平均粗糙度）為0.1~0.5μm。條件b係R△q（二次方平均平方根斜率）為2°以上。條件c係Rsm（平均間隔）為0.1mm以下。條件d係Rp（最大波峰）為1.0μm以下。但是，任何數值係也根據JIS B0601：2001而測定之值。

Description

靜電電容式觸控面板及防眩性薄膜
本發明係關於一種具有防眩性之靜電電容式觸控面板。此外，本發明係關於一種貼合於各種機器表面之薄膜以及使用於其他之觸控面板用薄膜等之防眩性薄膜。
大多是在各種機器(液晶顯示裝置、商品陳列櫥、鐘錶或測量計器之玻璃蓋片等)之表面，貼合表面保護用之透明薄膜。
在近年來，正如銀行之ATM、票卷之販賣機之所代表而增加具備觸控面板方式之液晶顯示器之電子機器。作為此種液晶顯示器等之表面保護用之透明薄膜以及使用於觸控面板之透明薄膜係為了防止由於外部光之映入造成刺眼導致之看見困難，因此，使用施行表面凹凸處理之防眩性薄膜。
為了提高防眩性薄膜之防眩效果，因此，可以提高表面凹凸之粗糙程度。但是，在碰觸到具備提高此種表面凹凸之粗糙程度之防眩性薄膜之電子機器之狀態下，有附著之指紋容易顯著之傾向發生。這個係因為藉由在防眩性薄膜，以指紋成分，填補以手來碰觸之部分之表面凹凸，而使得以該指紋成分來掩埋之部分之濁度變低，比起這個以外之部分，還出現濁度差異之緣故。
像這樣，粗化防眩性薄膜之表面係必要於發現防眩性之方面，但是，在其相反面，有藉由碰觸而附著之指紋容易顯著之傾向發生。因此，在僅單純地粗化防眩性薄膜之表面，不容易同時滿足防眩性和附著之指紋不容易顯著之性能(指紋辨識困難性)。於是，即使是在表面具備此種防眩性薄膜之觸控面板，也不容易同時滿足防眩性和指紋辨識困難性。
作為粗化表面同時解決關於指紋問題之防眩性薄膜係消光薄 膜之表面潤濕張力為25mN/m以上(專利文獻1)。該專利文獻1之防眩性薄膜係藉由指紋成為非常薄之膜，容易塗佈擴散於寬廣面積，而提高指紋之拭除性能(指紋消去性)。
〔先前技術文獻〕
〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕國際公開2004/046230號公報
〔發明之概要〕
專利文獻1之防眩性薄膜係藉由容易溶合於指紋成分而提高指紋消去性，但是，不一定困難附著指紋。因此，在拭除指紋之前，附著之指紋容易顯著而無法滿足指紋辨識困難性。
像這樣，在表面具備習知之防眩性薄膜之電子機器係無法在以手來碰觸之際，不顯著附著之指紋。特別是位處於近年增加傾向之靜電電容式觸控面板，其係藉由指頭而進行複雜之操作，因此，期待改善指紋顯著之問題。
在本發明之某一側面，提供一種將具備防眩性和指紋辨識困難性之操作面予以具有之靜電電容式觸控面板。在本發明之其他側面，提供一種具備指紋辨識困難性之防眩性薄膜。
本發明人係得知在指頭接地於靜電電容式觸控面板之時間點，因為載置於觸控面板上之薄膜之不同而造成之指紋之附著量，無很大之差異。另一方面，得知在顯示裝置之表面來進行指頭滑動之操作(畫像之擴大˙縮小等)之狀態下，因為載置於觸控面板上之薄膜之不同，而在指紋之附著量，出現差異。
接著，本發明人係還進行研究，結果發現：可以藉由觸控面板之操作性，控制於特定之表面性狀，而在具備防眩性之後，抑 制指紋之附著量，不容易顯著附著之指紋(也就是可以同時成立防眩性和指紋辨識困難性)，完成本發明。
本發明之靜電電容式觸控面板，其特徵為：在操作面側，具有滿足下列條件a~d之全部之表面凹凸。規定之表面凹凸之賦予方法係並無特別限定，可以在操作面側，配置本發明之防眩性薄膜而實現。此外，可以將藉由蝕刻玻璃而實現規定之表面凹凸者，來配置於操作面側而實現。此外，也可以藉由在操作面，直接地施行凹凸賦予之加工而實現。
本發明之防眩性薄膜，其特徵為：具有滿足下列條件a~d之全部之表面凹凸。
本發明之顯示裝置，其特徵為：將本發明之防眩性薄膜，配置於畫面上而構成。
條件a：Ra(算數平均粗糙度)為0.1~0.5μm；條件b：R△q(二次方平均平方根斜率)為2°以上；條件c：Rsm(平均間隔)為0.1mm以下；條件d：Rp(最大波峰)為1.0μm以下。
(但是，任何數值係也根據JIS B0601：2001而測定之值。)本發明係包含以下之部分。
(1)可以藉由本發明之防眩性薄膜，配置於操作面側，而構成本發明之靜電電容式觸控面板。
(2)可以調整形成滿足前述條件a~d之全部之表面凹凸之面相對於純水之接觸角而成為100°以上。
(3)可以調整表面凹凸而還一起滿足前述之條件a~d以及下列之條件e及條件f之至少任何一種。
條件e：Rzjis(十點平均粗糙度)為2.0μm以下；條件f：Ry(最大高度)為1.5μm以下。
(但是，任何數值係也根據JIS B0601：2001而測定之值。)
(4)可以調整本發明之防眩性薄膜之根據JIS K7136：2000而測定之濁度，來成為5%以上、30%以下。
(5)本發明之防眩性薄膜係可以包含具備前述特定之表面凹凸之防眩層。在該狀態下，特定之防眩層係可以藉由以模子來造成之成型或者是含粒子塗料之塗佈等而得到，但是，在使用含粒子塗料之狀態下，可以構成而滿足下列之關係。
粒子之平均粒徑(D)：2.0μm以上、4.0μm以下； 防眩層之厚度：(D)之170%以上、210%以下。
本發明之靜電電容式觸控面板係在其操作面側，賦予特定條件之表面性狀，因此，可以同時成立防眩性和指紋辨識困難性。也就是說，如果藉由本發明的話，則可以提供一種將具備防眩性和指紋辨識困難性之操作面予以具有之靜電電容式觸控面板。
本發明之防眩性薄膜係賦予特定條件之表面性狀，因此，可以不損害防眩性，實現指紋辨識困難性。也就是說，如果藉由本發明的話，則可以提供例如配置於靜電電容式觸控面板之操作面等而具備適當之指紋辨識困難性之防眩性薄膜。
本發明之顯示裝置係將賦予特定條件之表面性之防眩性薄膜，配置於畫面上，因此，可以同時成立防眩性和指紋辨識困難性。也就是說，如果藉由本發明的話，則也可以提供一種將具備防眩性和指紋辨識困難性之顯示畫面予以具有之顯示裝置。
〔發明之實施形態〕
首先，說明本發明之防眩性薄膜之一例。正如圖一所示，本發明之防眩性薄膜1係在透明基材11之上來層積防眩層12之層積構造之例子。此外，本發明之防眩性薄膜係不限定於圖一之層 積構造，例如圖二所示，在單獨地處理這個之狀態下，可以藉由單層之防眩層12而構成防眩性薄膜1a。
作為透明基材11係列舉例如藉由聚乙烯對苯二甲酸酯、聚丁烯對苯二甲酸酯、聚乙烯萘二甲酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、三乙醯基纖維素、丙烯等之材質而形成之透明薄膜。即使是在這些當中，也由機械強度或尺寸安定性呈良好之方面，則最好是延伸加工之聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜、特別是二軸延伸加工之聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜。此外，也適合使用藉由在透明基材11之表面來施行電暈放電處理或者是設置容易接合層而提高和防眩層12之接合性者。作為透明基材11之厚度係一般為25~500μm、最好是50~200μm。
防眩層12係適度地調整其表面性狀。具體地說，防眩層12表面之算術平均粗糙度、二次方平均平方根斜率、平均山間隔和最大山高度係調整成為規定之範圍。
Ra(算數平均粗糙度)係顯示粗糙度曲線之粗糙度之平均之參數。
Rp(最大波峰)係顯示基準長度之粗糙度曲線之山高度之最大值之參數。
在本發明，藉由實驗而發現：選擇Ra和Rp來作為控制參數者係可以藉由控制這些參數，而在操作來動作指頭之際，不容易由指頭來削除指紋之皮脂成分之方面。
R△q(二次方平均平方根斜率)係表示基準長度之局部斜率dz/dx之二次方平均平方根，成為粗糙度曲線之斜率程度之指標之參數。R△q之值越大而粗糙度曲線之斜率越加銳利，R△q之值越小而粗糙度曲線之斜率越加平滑。
Rsm(平均間隔)係表示基準長度之輪廓曲線要素之長度之平 均，成為凹凸間隔之指標之參數。
在本發明，藉由實驗而發現：選擇R△q和Rsm來作為控制參數者係可以藉由控制這些參數，而即使是在操作來動作指頭之狀態下，也可以縮小指頭之接觸面積之方面。
在本例子，調整防眩層12之表面性狀而滿足條件a~d之全部(條件a、條件b、條件c及條件d)。
條件a係Ra值成為規定之範圍，具體地成為0.1μm以上、0.5μm以下之條件。最好是0.4μm以下、更加理想是0.2μm以下。
條件b係R△q值成為規定以上，具體地成為2°以上之條件。最好是10°程度以下、更加理想是6°程度以下。
條件c係Rsm值成為規定以下，具體地成為0.1mm以下之條件。最好是0.07mm以下、更加理想是0.05mm以下。此外，最好是0.02mm以上。
條件d係Rp值成為規定以下，具體地成為1.0μm以下之條件。最好是0.9μm以下。此外，最好是0.6μm程度以上。
在條件a，可以藉由Ra成為0.1μm以上而發現防眩性。此外，可以藉由在條件a，Ra成為0.5μm以下，並且，在條件d，Rp成為1.0μm以下，無過度地粗化表面，而在操作來動作指頭之際，不容易由指頭來削除指紋之皮脂成分。特別是可以藉由Ra成為0.4μm以下，而更加不容易由指頭來削除指紋之皮脂成分。
此外，也可以藉由Ra成為0.5μm以下，而防止不容易看見顯示畫面。
可以藉由在條件b，R△q成為2°以上，並且，在條件c，Rsm成為0.1mm以下，而使得防眩層12之表面，成為銳利之突起呈密集之形狀，可以縮小指頭接觸到防眩層12表面之面積。
可以藉由在條件c，Rsm成為0.07mm以下，而縮小指頭接觸到防眩性薄膜之面積。
可以藉由在條件d，Rp成為0.9μm以下，而不容易由指頭來削除指紋之皮脂成分。
在本發明，正如前面之敘述，即使是在操作來動作指頭之際，藉著不容易由指頭來削除指紋皮脂成分之技術思想(Ra及Rp)和縮小指頭之接觸面積之技術思想(R△q、Rsm)之相乘作用，而在防眩性薄膜上，進行呈複雜地動作指頭之操作之後，也可以抑制指紋之附著量，並且，不容易顯著附著之指紋(指紋辨識困難性之實現)。
在本例子，除了前述之4個參數以外，還最好是十點平均粗糙度和最大高度之1個以上係調整成為規定之範圍。Rzjis(十點平均粗糙度)及Ry(最大高度)係相同於Ra而表示防眩層12表面之凹凸狀態之參數。
具體地說，在本例子，最好是調整防眩層12之表面性狀而一起滿足前述之條件a~d以及條件e和條件f之1個以上。
條件e係Rzjis值成為規定以下，具體地成為2.0μm以下之條件。最好是1.5μm以下、更加理想是1.0μm以下。最好是0.5μm程度以上。
條件f係Ry值成為規定以下，具體地成為1.5μm以下之條件。最好是1.3μm以下。
可以藉由在條件e，Rzjis成為2.0μm以下，而更加不容易由指頭來削除指紋之皮脂成分。
可以藉由在條件f，Ry成為1.5μm以下，而更加不容易由指頭來削除指紋之皮脂成分。
此外，前述之Ra、R△q、Rsm、Rp、Rzjis及Ry係全部表示 藉由根據JIS B0601：2001之方法而測定之值，例如可以使用接觸式表面粗糙度測定機(SURFCOM 1500SD2-3DF；東京精密公司)而進行測定。
在本例子，包含防眩層12之防眩性薄膜1、1a整體之濁度係最好是調整成為5%以上、更加理想是10%以上、最好是30%以下、更加理想是25%以下。此外，在本例子之濁度(Haze)值係表示根據JIS K7136：2000而測定之值。
可以藉由防眩性薄膜1、1a整體之濁度，調整成為5%以上，而使得防眩性，更加地良好。可以藉由薄膜1、1a整體之濁度，調整成為30%以下，而防止不容易看見顯示畫面。
在本例子，期待防眩層12之厚度係最好是3μm以上、更加理想是4μm以上、甚至最好是5μm以上、最好是9μm以下、更加理想是8μm以下、甚至最好是7μm以下。
具備以上說明之表面性狀(表面凹凸)之本例子之防眩層12係例如可以藉由以模子來造成之成型或者是含粒子塗料之塗佈而得到。另外，蝕刻或壓印之手段係也有效。
可以藉由在以模子來造成之成型之狀態下，製作由互補於表面凹凸之形狀而組成之模子，在該模子來流入由高分子樹脂等之構成防眩層12之材料而進行硬化之後，由模子取出，來進行製造。 可以藉由在使用透明基材11之狀態下，在模子，流入高分子樹脂等，在其上面來重疊透明基材11之後，硬化高分子樹脂等，由模子來取出每一個之透明基材11，而進行製造。
製作具有互補於表面凹凸之形狀之模子之方法係並無特別限定，但是，列舉例如藉由雷射微細加工技術而使得至少符合於條件a~d之凹凸形狀，形成於平板上，以這個作為公模，製作成型用之模子(母模)之手段。
可以在塗佈含粒子塗料之狀態下，將包含粒子和黏合劑樹脂之防眩層塗佈液，塗佈於透明基材11之上，進行乾燥而形成。
作為粒子係列舉無機粒子(例如二氧化矽、氧化鋁、滑石、黏土、碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鋇、氫氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯等)或樹脂粒子(例如丙烯系樹脂粒子、矽酮系樹脂粒子、耐綸系樹脂粒子、苯乙烯系樹脂粒子、聚乙烯系樹脂粒子、苯并鳥糞胺系樹脂粒子、胺基甲酸乙酯系樹脂粒子等)。即使是在這些當中，比重未滿2.0g/cm3之粒子係也適合於可以提高R△q之方面。特別適合為比重未滿2.0g/cm3之二氧化矽。
粒子之平均粒徑(D)係最好是2.0~4.0μm。此外，防眩層12中之粒子含有量係最好是相對於黏合劑樹脂100重量份而成為7~10重量份。此外，防眩層12之厚度係最好是粒子之平均粒徑(D)之170~210%。可以藉由滿足這些條件，並且，使用比重未滿2.0g/cm3者，來作為粒子，而且，使用有機無機混合電離放射線硬化型樹脂，來作為黏合劑樹脂，而容易滿足前述之條件a~d。
此外，本發明之樹脂粒子之平均粒徑及粒徑分布之變動係數，係藉由庫爾特(Coulter)計數器法而測定之值。
所謂庫爾特(Coulter)計數器法係呈電氣地測定分散於溶液中之粒子之數目及大小之方法，粒子分散於電解液中，在使用吸引力而使得粒子通過電氣流動之細孔之際，僅以粒子之體積部分，來取代電解液，增加電阻，測定比例於粒子體積之電壓脈衝之方法。因此，藉由呈電氣地測定該電壓脈衝之高度和數目，而測定粒子數和各個之粒子體積，求出粒徑及粒徑分布。
所謂變異係數(CV值：coefficient of variation)係顯示粒徑分布之分散狀態之值，係粒徑分布之標準差(不偏分散之平方根) 除以粒徑之算術平均值(平均粒徑)之值之百分率。也就是說，表示粒徑分布之擴散(粒徑之偏差)相對於平均值(算術平均直徑)而成為何種程度，通常係藉由CV值(無單位)=(標準差/平均值)而求出。CV值係這個越小而粒度分布越加狹窄(銳利)，這個越大而粒度分布寬廣(寬幅)。
防眩層12之黏合劑樹脂成分係列舉熱塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型。即使是在這些當中，也由耐擦傷性之觀點來看的話，則最好是熱硬化型樹脂或電離放射線硬化型，由容易得到前述表面形狀之觀點來看的話，則最好是電離放射線硬化型樹脂。
作為熱硬化型樹脂係列舉三聚氰胺系、苯酚系、胺基甲酸乙酯系樹脂等。
作為電離放射線硬化型樹脂係可以使用能夠藉由電離放射線(紫外線或電子線)之照射而進行交聯˙硬化之光聚合性預聚體，作為該光聚合性預聚體係特別最好是使用藉由在1分子中具有2個以上之丙烯醯基來進行交聯˙硬化而成為3次元網目構造之丙烯系預聚體。作為該丙烯系預聚體係可以使用胺基甲酸乙酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、聚氟烷基丙烯酸酯、矽酮丙烯酸酯等。此外，這些丙烯系預聚體係也可以單獨地使用，但是，為了提高交聯硬化性而更加地提高防眩層12之硬度，因此，最好是加入光聚合性單體。
作為光聚合性單體係使用2-乙基己基丙烯酸酯、2-羥基乙基丙烯酸酯、2-羥基丙基丙烯酸酯、丁氧基乙基丙烯酸酯等之單官能丙烯單體、1,6-己烷二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸酯新戊二醇二丙烯酸酯等之2官能丙烯單體、二季戊四醇六丙烯酸 酯、三甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等之多官能丙烯單體等之1種或2種以上。
電離放射線硬化型樹脂係除了前述之光聚合性預聚體和光聚合性單體以外，最好是在藉由紫外線之照射而進行硬化之狀態下，還使用光聚合起始劑或光聚合促進劑等之添加劑。作為光聚合起始劑係列舉乙醯苯、二苯甲酮、米蚩酮、苯偶因、苄基甲基酮縮醇、苯醯苯甲酸酯、α-醯基肟酯、噻噸酮類等。光聚合促進劑係可以減輕由於硬化時之空氣而造成之聚合障礙，來加速硬化速度，列舉例如對二甲基胺基安息香酸異戊基酯、對二甲基胺基安息香酸乙基酯等。
此外，作為電離放射線硬化型樹脂係也最好是使用電離放射線硬化型有機無機混合樹脂。電離放射線硬化型有機無機混合樹脂係具有浮起防眩層12中之粒子之作用，因此，可以提高R△q。
此外，所謂電離放射線硬化型有機無機混合樹脂係不同於來自玻璃纖維強化塑膠(FRP)所代表之以前之複合體，有機物和無機物之混合方式係變得緊密，並且，分散狀態係成為分子位準或者是接近於此，可以藉由電離放射線之照射而使得無機成分和有機成分發生反應，形成被覆膜。作為此種電離放射線硬化型有機無機混合樹脂之無機成分係列舉二氧化矽、二氧化鈦等之金屬氧化物，但是，即使是在其中，也最好是使用二氧化矽。
防眩層12係由防止損傷之觀點來看的話，則最好是JIS-K5400：1990之鉛筆硬度為H以上，更加理想是2H以上，甚至最好是3H以上。
此外，防眩層12之表面相對於純水之接觸角係最好是100°以上。可以藉由純水之接觸角成為100°以上，而容易彈開指紋成分，防止因為以指紋成分來掩埋表面凹凸而產生之濁度差來顯著 指紋。也就是說，可以藉由防眩層12之表面相對於純水之接觸角成為100°以上，而即使是附著於防眩層12之少量之指紋，也無法更加地顯著，因此，還可以更加地顯著本發明之效果。
為了提高防眩層12之表面相對於純水之接觸角，因此，最好是在防眩層12之中，含有氟系或矽酮系樹脂或者是添加劑。
防眩層12係可以藉由在透明基材11之上，將包含構成防眩層12之前述之黏合劑樹脂成分或粒子等之組成物予以塗佈，進行乾燥，配合需要來進行硬化(電離放射線之照射或加熱)，而形成防眩層。
本例子之防眩性薄膜1、1a係具有賦予前述特定條件之表面性狀之防眩層12，因此，可以維持防眩性，並且，在操作來動作指頭之際，不容易由指頭來削除指紋之皮脂成分，而且，可以縮小指頭之接觸面積。也就是說，可以不損害防眩性，能夠實現指紋辨識困難性。
本例子之防眩性薄膜1、1a係可以配置在各種顯示裝置(例如液晶顯示裝置、CRT顯示裝置、電漿顯示裝置、EL顯示裝置等)之畫面上或廣告招牌等之顯示物、商品陳列櫥、鐘錶或測量計器之玻璃蓋片等之上而使用。
本例子之防眩性薄膜1、1a係例如圖三所示，可以配置在顯示裝置2之畫面(設置於顯示元件21上之保護板22)之上，並且，也可以配置在顯示裝置2之畫面(載置於顯示元件21上之電阻膜式觸控面板或靜電電容式觸控面板23)之上。
接著，說明本發明之靜電電容式觸控面板之一例。此外，靜電電容式觸控面板係一般分類為表面電容型(Surface Capacitive)和投影電容型(Projected Capacitive)。
本例子之靜電電容式觸控面板4係正如圖四所示而成為表面 型之例子，在藉由接合劑412而貼合2片之透明基材411之透明基板41之某一邊之面，具有透明導電層42、保護層43和本例子之防眩性薄膜1(或者是1a。在以下相同。)。在透明基板41之其他邊之面，在具有電磁波屏蔽層44而組成之層積體，連接基本電路。
基本電路係一般在驅動訊號，使用正弦波，在透明導電層42之四角落，同時地流動極為微弱電流之定電壓電路。在人無接觸之時，成為四角落同時電位，因此，在面板，幾乎無流動電流，但是，在指頭碰觸到某點之時，由於人體電容而改變流動於面板上之電流。此時之電流變化量係反比例於由四角落開始至接觸點為止之距離。接著，電流轉換成為電壓而決定座標。
其他例之靜電電容式觸控面板4a係正如圖五所示而成為投影型之例子，在藉由接合劑412而貼合2片之透明基材411之透明基板41之某一邊之面，具有透明導電層42、保護層43和防眩性薄膜1。由在透明基板41之其他邊之面具有透明導電層42、拉出電極線45和保護層43之構造而組成。
在投影型之靜電電容式觸控面板4a，某一邊之透明導電層42係由辨識X座標之X電極而形成，其他邊之透明導電層42係由辨識Y座標之Y電極而形成。接觸點之座標係檢測指頭接近而產生之X-Y電極間之電壓變化，由此而決定。
此外，圖四之例子(表面型)和圖五之例子(投影型)兩者係也在透明導電層42之上，依序地具有保護層43和防眩性薄膜1，但是，可以省略保護層43而成為防眩性薄膜1兼具保護層43之構造。此外，在保護層43之上，具有無圖示之保護板(玻璃基板或塑膠基板)，可以是在保護板43之上具有防眩性薄膜1之構造。此外，作為保護層43係適合為二氧化矽等之無機薄膜。
本例子之靜電電容式觸控面板4、4a係在操作面側，具有特定形狀之表面凹凸，因此，可以具備防眩性，同時，也在以指頭來進行複雜之操作之際，不顯著指紋。
此外，在前述之實施形態，以設置本例子之防眩性薄膜1(或1a)而使得其凹凸面(防眩層12側)成為操作面側之構造，來作為一例而進行說明，但是，在本發明，並非限定於該構造。並非排除例如將藉由蝕刻玻璃而形成規定之表面凹凸者來設置於觸控面板4、4a之操作面之構造等之其他例子。
〔實施例〕
在以下，列舉更加具體化之實施例而更加詳細地說明本發明之實施形態。此外，在本實施例，「份」、「%」係只要是無特別表示的話，則成為重量基準。
〔實施例1〕
在厚度125μm之透明聚酯薄膜(Cosmoshine A4350：東洋紡織公司)之某一邊之面，塗佈下列處方之防眩層塗佈液a，進行乾燥˙紫外線照射，形成厚度6μm之防眩層，得到實施例1之防眩性薄膜。
<防眩層塗佈液a>
〔實施例2〕
除了藉由改變塗佈條件而形成厚度5μm之防眩層以外，其餘係相同於實施例1而得到實施例2之防眩性薄膜。
[比較例1]
除了改變防眩層塗佈液a而成為下列之防眩層塗佈液b以外，其餘係相同於實施例1而得到比較例1之防眩性薄膜。
<防眩層塗佈液b>
[比較例2]
除了改變防眩層塗佈液a而成為下列之防眩層塗佈液c，改變防眩層之厚度而成為2.5μm以外，其餘係相同於實施例1而得到比較例2之防眩性薄膜。
<防眩層塗佈液c>
[比較例3]
除了改變防眩層塗佈液a而成為下列之防眩層塗佈液d，改變防層之厚度而成為6.8μm以外，其餘係相同於實施例1而得到比較例之防眩性薄膜。
<防眩層塗佈液d>
[比較例4]
除了改變防眩層塗佈液a而成為下列之防眩層塗佈液e，改變防眩層之厚度而成為5.1μm以外，其餘係相同於實施例1而得到比較例4之防眩性薄膜。
<防眩層塗佈液e>
[比較例5]
除了改變防眩層塗佈液a而成為下列之防眩層塗佈液f，改變防眩層之厚度而成為3.6μm以外，其餘係相同於實施例1而得到比較例5之防眩性薄膜。
<防眩層塗佈液f>
[比較例6]
除了改變防眩層塗佈液a而成為下列之防眩層塗佈液g，改變防眩層之厚度而成為4.7μm以外，其餘係相同於實施例1而得到比較例6之防眩性薄膜。
<防眩層塗佈液g>
[表面形狀之測定]
就藉由各例子來得到之防眩性薄膜而言，使用接觸式表面粗糙度測定機(SURFCOM 1500SD2-3DF：東京京密公司)，藉由下列之條件而測定防眩層表面之形狀。將測定10點之平均值，顯示於表1。
<測定條件>
觸針前端半徑：2μm、觸針前端之錐形角度：60度、測定力：0.75mN、截止值λc：0.8mm、測定速度：0.6mm/s。
[濁度]
就藉由各例子來得到之防眩性薄膜而言，藉由濁度計(NDH2000：日本電色工業公司)，按照JIS K7136而測定濁度。將結果顯示於表1。
1.顯示畫面之辨識性
在具備靜電電容式觸控面板之可攜式終端機(iPad：Apple公司)之觸控面板操作面側，貼合各個之防眩性薄膜，藉由目視而進行顯示畫面之觀察。結果，可以良好地辨識顯示畫面者係成為「○」，不容易看見顯示畫面若干發白者係成為「△」。
2.指紋之辨識性
在具備靜電電容式觸控面板之可攜式終端機(iPad：Apple公司)之觸控面板操作面側，貼合各個之防眩性薄膜，在防眩性薄膜上而動作指頭來進行操作之後，藉由目視而評價指紋是否顯著。結果，指紋不顯著者係成為「○」，指紋若干顯著者係成為「△」，指紋顯著者係成為「×」。
3.防眩性
在三波長螢光燈之燈具下，於黑色基材之上，放置各個之防眩性薄膜而使得防眩層成為上面，藉由目視而觀察螢光燈之映入。結果，無映入螢光燈之燈具之輪廓者係成為「○」，映入若干之輪廓者係成為「△」。
實施例1係Ra、R△q、Rsm、Rp滿足本發明之a~d之條件，因此，畫面之辨識性呈良好，指紋也不顯著，在防眩性也良好。
實施例2係Ra、R△q、Rsm、Rp滿足本發明之a~d之條件，畫面之辨識性呈良好，指紋也不顯著，在防眩性也良好。但是，在實施例1，RzJIS成為0.92，在實施例2，RzJIS成為1.21，因此，指紋之辨識性係實施例1比起實施例2，還更加地良好。
此外，實施例1、2係防眩層表面之純水接觸角，皆為100°以上。因此，容易彈開指紋成分，可以防止由於以指紋成分來掩埋表面凹凸而產生之濁度差來容易顯著指紋。
比較例1係Ra、Rsm、Rp滿足本發明之條件，但是，R△q變小，因此，擴大指頭之接觸面積，增加指紋之附著量，指紋呈顯著。
比較例2係Ra、Rsm滿足本發明之條件。但是，R△q變小，因此，擴大指頭之接觸面積，並且，Rp變大，所以，容易削除指紋。因此，容易附著指紋，指紋呈顯著。
比較例3係Ra滿足本發明之條件。但是，R△q變小，Rsm變大，因此，擴大指頭之接觸面積，並且，Rp變大，所以，容易削除指紋。因此，容易附著指紋，指紋呈顯著。
比較例4係Ra、R△q、Rsm滿足本發明之條件。但是，Rp變大，所以，容易削除指紋，指紋呈顯著。
比較例5係Ra、R△q滿足本發明之條件。但是，Rsm變大，因 此，擴大指頭之接觸面積，並且，Rp變大，所以，容易削除指紋。因此，容易附著指紋，指紋呈顯著。
比較例6係Ra、R△q、Rsm滿足本發明之條件。但是，Rp變大，因此，容易削除指紋，指紋呈顯著。此外，認為由於比起其他之比較例而指紋比較不顯著之理由係表面非常粗糙，因此，以短距離來削除指紋，使得指紋之附著面積變窄之緣故。
1、1a‧‧‧防眩性薄膜
11‧‧‧透明基材
12‧‧‧防眩層
2‧‧‧顯示裝置
21‧‧‧顯示元件
22‧‧‧保護板
23‧‧‧觸控面板
4、4a‧‧‧靜電電容式觸控面板
41‧‧‧透明基板
42‧‧‧透明導電層
43‧‧‧保護層
44‧‧‧電磁波屏蔽層
45‧‧‧拉出電極線
圖一係顯示本發明之防眩性薄膜之一例之剖面圖。
圖二係顯示本發明之防眩性薄膜之其他例之剖面圖。
圖三係顯示本發明之顯示裝置之一例之剖面圖。
圖四係顯示本發明之靜電電容式觸控面板之一例之剖面圖。
圖五係顯示本發明之靜電電容式觸控面板之其他例之剖面圖。
1‧‧‧防眩性薄膜
4‧‧‧靜電電容式觸控面板
41‧‧‧透明基板
42‧‧‧透明導電層
43‧‧‧保護層
44‧‧‧電磁波屏蔽層
411‧‧‧透明基材
412‧‧‧接合劑

Claims (10)

  1. 一種靜電電容式觸控面板，其特徵為：在操作面側，具有滿足下列條件a~d之全部之表面凹凸；條件a：Ra(算數平均粗糙度)為0.1~0.5μm；條件b：R△q(二次方平均平方根斜率)為2°以上；條件c：Rsm(平均間隔)為0.1mm以下；條件d：Rp(最大波峰)為1.0μm以下(但是，任何數值係也根據JIS B0601：2001而測定之值)。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述之靜電電容式觸控面板，其中，將具有滿足前述a~d條件之表面凹凸之防眩性薄膜，配置於操作面側而構成。
  3. 根據申請專利範圍第1或2項所述之靜電電容式觸控面板，其中，形成前述表面凹凸之面係調整純水之接觸角而成為100°以上。
  4. 根據申請專利範圍第1至3項中任一項所述之靜電電容式觸控面板，其中，前述之表面凹凸係還滿足下列之條件e及條件f之至少任何一種；條件e：Rzjis(十點平均粗糙度)為2.0μm以下；條件f：Ry(最大高度)為1.5μm以下(但是，任何數值係也根據JIS B0601：2001而測定之值)。
  5. 一種防眩性薄膜，其特徵為：具有滿足下列條件a~d之全部之表面凹凸；條件a：Ra(算數平均粗糙度)為0.1~0.5μm；條件b：R△q(二次方平均平方根斜率)為2°以上；條件c：Rsm(平均間隔)為0.1mm以下；條件d：Rp(最大波峰)為1.0μm以下(但是，任何數值係也根據 JIS B0601：2001而測定之值)。
  6. 根據申請專利範圍第5項所述之防眩性薄膜，其中，形成前述表面凹凸之面係調整純水之接觸角而成為100°以上。
  7. 根據申請專利範圍第5或6項所述之防眩性薄膜，其中，前述之表面凹凸係還滿足下列之條件e及條件f之至少任何一種；條件e：Rzjis(十點平均粗糙度)為2.0μm以下；條件f：Ry(最大高度)為1.5μm以下(但是，任何數值係也根據JIS B0601：2001而測定之值)。
  8. 根據申請專利範圍第5至7項中任一項所述之防眩性薄膜，其中，根據JIS K7136：2000而測定之濁度係進行調整而成為5%以上、30%以下。
  9. 根據申請專利範圍第5至8項中任一項所述之防眩性薄膜，其具有防眩層，該防眩層係由將含粒子塗料塗佈於透明基材上進行乾燥而構成，在該來形成前述表面凹凸之狀態下，滿足下列之關係；粒子之平均粒徑(D)：2.0μm以上、4.0μm以下；防眩層之厚度：(D)之170%以上、210%以下。
  10. 一種裝置，其特徵為：將申請專利範圍第5至9項中任一項所述之防眩性薄膜，配置於畫面上而構成。
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