201210747 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種加工裝置，在基材表面形成有薄膜 層之板狀構件中’將邊緣部不需要之薄膜層加以除去。 【先前技術】 將薄膜層形成於基材表面時，在基材之邊緣部，薄膜 層之厚度有時比内側部厚，或薄膜層到達背面。 例如，專利文獻1中，已提案有一種成膜裝置，其係 用以防止形成藉由浸潰塗布法（濕製程之一種）形成能使用 於化學濾材或有機電致發光（EL : electroluminescence)之薄 膜夺所產生因塗布液往邊緣部流下所引起之薄膜層厚度之 不均句’但要作成完全均勻之厚度不易，較佳係依據形成 於板狀構件上之薄膜層厚度所要求之精度形成薄膜後，再 進行用以使厚度均勻之處理。 又’薄膜太陽電池面板(以下稱為太陽電池面板)，係藉 由於玻璃等基板之表面積層透明電極層、丨導體層、金屬 層等薄膜而形成。雖積層步驟利用例如氣相反應進行，作 此時’該薄膜層有時透過邊緣部而到達背φ。太陽電池模 組要求絕緣特性’已提案有，利用喷砂加工技術，將薄膜 太陽電池面板邊緣部之薄膜層加以除去之方法(專利文獻 2)。 之薄膜層之除去時，用 除去之薄膜層等之粉塵 為進行該邊緣部之薄膜 使用噴砂加工技術進行邊緣部 於除去之喷射材（研磨材）及被切削 有時會殘留於太陽電池面板上。作 201210747 層之除去之方法且不 留喷射材及粉塵之方法，已提案有 專利文獻3。 專利文獻1 ·日本特開2008 — 000718號公報 專利文獻2·日本特開2〇〇〇_15〇944號公報 專利文獻3:日本特開2〇1〇—〇36324號公報 【發明内容】 專利文獻3中’將連結於吸引手段之罩配置於太陽電 池面板之被加工面及其背面之雙面’從該罩之兩側方將研 磨材及粉塵加以除去，但若發生於被加工面之負壓（吸引力） 與發生於其背面側之負壓之平衡調整不充分，就不能充分 回收該喷射材及粉塵。又，雖在實施形態揭示使用集塵機 以作為該吸引手段，但由於集塵機之集塵力隨時間經過而 變化（因進行吸引，喷射材及粉塵往濾布堆積所造成），被加 工面側與背面之吸引平衡調整非常困難，結果，可能不能 充分回收該喷射材及粉塵。 又’從喷砂加工喷嘴所喷射之喷射材碰撞太陽電池面 板而進行反彈（反射）’但反彈之研磨材例如碰撞該喷嘴 等進行反彈而再次碰撞太陽電池面板之結果，因該喷射材 而使太陽電池面板邊緣部以外之部位受損傷，導致太陽電 池模組之光電動勢降低，因此喷射材及因該喷砂加工所產 生之粉塵（碎片、破片等變小之喷射材及被切削除去之該薄 膜層等），必須在使該邊緣部以外部分受損傷前加以吸引及 回收。 又’喷砂加工裝置中’使喷砂加工喷嘴或被加工物移 4 201210747 動，藉此進行全面加工。從裝置之設置成本來看，雖多選 擇使被加工物移動之方法，但從喷砂加工喷嘴喷射之喷射 材會附著於用以使被加工物（太陽電池面板）之搬運裝置，因 附著之喷射材與太陽電池面板之接觸，有時會使太陽電池 面板受損傷。 本發明有鑑於以上課題，其目的在於，提供一種加工 裝置’其係在基材表面形成有薄膜層之板狀構件中，用以 獲得將邊緣部不需要之薄膜層加以除去之板狀構件。 另外，所謂本發明之「除去不需要之薄膜層」，無特 別說明時，不僅包含從基材表面將薄膜層完全除去，亦包 3例如，如前所述，為調節形成薄膜層時在邊緣部與内側 邛所產生之薄膜層厚度之不均衡而將薄膜層之表面一部分 加以除去。 本發明係一種板狀構件之加工裝置，用以將於平面為 長方形或正方形之板狀基材之該平面上形成有薄膜層之板 狀構件邊緣部不需要之薄膜層予以除去’其特徵在於，具 備： 、 上邊緣部加工室，插入有該板狀構件之邊緣部，用以除 緣部不需要之薄膜層；以及移動何，用以使該二 :構件對配置於該邊緣部加工室之喷砂加工用噴嘴相對移 防止罩， 之面被開 工面噴射 ，該邊緣部加工室，具備：邊緣部加工用飛散 形成頂面之一端面被關閉，且與該頂面相對向 口；邊緣部加工用噴砂加工噴嘴，係用以對被加 5 201210747 噴射材以進行噴砂加工之喷嘴，以該喷嘴之嘴射口被該邊 緣部加工用飛散防止罩之壁面覆蓋之方式配置於該飛散防 止罩；邊緣部加工用吸引罩，具有與該邊緣部加工用飛散 防止罩之帛口面相同形狀之開口面；以及周緣部加工用吸 引構件，兩端面被開口，端面連通於該邊緣部加工用吸引 罩及吸引手段之中空形狀； 形成連結有該邊緣部加工用飛散防止罩之該開口面與 該邊緣部加工用吸引罩之該開口面之構造體， ' 該構造體能插入該邊緣部，且來占 |且形成有插入該邊緣部 時，能形成空隙之開口部’該空隙能將外氣引進至1力工 室之開口端部與該板狀構件之被加工面及其背面之二 1發明） v罘 又’第1發明之板狀構件之加工裝置中，該邊緣部加 工用喷砂加工喷嘴被配置成將噹妬 力乂刑及扳狀構件插入該開口部 時’與該板狀構件形成之角度為3〇〜75。。（第2發明） 又，第1發明之板狀構件 ^ , 干之加工裝置中，該開口部之 至少一開口端部具備用以引進外氣之導弓丨部。（帛3發明> 又’帛1發明之板狀構件之加工裝置中，其具備2個 该邊緣部加工室；該邊緣部加 至被分別配置於位於水平 面之該板狀構件平行之被加工邊 n、 透即2邊之外周面。（第4發 明） 又，第4發明之板狀構件 + , 馎仟之加工裝置中，該邊緣部加 工至被分別配置成為平行於兮姑★ τ .直 人q τ π化4破加工邊以外之 2 (第5發明） 6 201210747 又，第4發明之板狀構件之加工裝置中，以與該板狀 構件之被加工邊即邊緣部平行之方式，在平行之被加工邊 即邊緣部之間至少配置-個以上用以加工該板狀構件内側 部之内側部加工室。（第6發明） 又，第6發明之板狀構件之加工裝置中，該内側部加 工室具備：内側部加工用吸引罩，形成頂面之-端面被關 閉，且與該頂面相對向之面被開口之中空形狀；内側部加 工用喷砂加工喷嘴，係用以對被加工面喷射喷射材以進行 噴砂加工之喷嘴，以該喷嘴之嗔射口被該内側部加工用吸 引罩之側壁覆蓋之方式配置於該吸引罩；以及内側部加工 用吸引構件’兩端面被開口，該端面連通於該内側部加工 用吸引罩及吸引手段； 配置為設置能吸引外氣之空隙而於該吸引罩之開口端 部與被加工面之間。（第7發明） 又，第7發明之板狀構件之加工裳置中，該内側部加 工用噴砂加工噴嘴，相對於該内側部加卫用吸引構件 配置^板狀構件對該喷砂加工喷嘴相對㈣方向之後方 側’並且該内側部加工用吸引構件’相對於該喷砂加工喷 配置於該板狀構件對該喷砂加工喷嘴之相對移動方 向之削方側之上面。（第8發明） 工用二:！8:明之板狀構件之加工裝置中，該内側部加 用喷◊加工喷嘴被配置成與該板狀構 〜75。。（第9發明） 戍之角度為30 又，第8發明之板狀構件之加工裝置中，在該内側部 201210747 2用吸引罩之側壁面配置有連通於Η手段之輔助吸引 構件，該輔助吸引構件相對於該内側部喷砂加工喷嘴，被 配置於位於該板狀構件對該喷砂加工嘴嘴之移動方向之前 方側之相側部加工用吸引罩之側壁面。(第1〇發明） 又，第7發明之板狀構件之加工裝置中該内側部加 工用吸引罩之開口端部具備：用以弓丨進外 1 1發明） | | w 邙加二：I③7發明之板狀構件之加工裝置中，該邊緣 邛加工用喷砂加工噴嘴之 工喷嘴之喷射口之至+ _4 以側部加工用喷砂加 夕噴射口係矩形。（第12、13發明） 工用喷明之板狀構件之加工裳置中，該邊緣部加 -喷嘴具備：喷砂=::Γ工用噴砂加工喷嘴之至少 *氣引料啫丨 t觜本體，空氣喷嘴’用以將壓縮 二轧引進該噴砂加工喷 喷嘴本體之内部產& 4 ’並且在該喷砂加工 係用以嘴射藉由及喷射部，具備喷射口，其 並且在該喷至喷砂加工喷嘴本體之内部， 合之喷射材。(第14發明)内部之混合室與壓縮空氣混 部加工室至少：接4 f明之板狀構件之加工裝置中，該邊緣 回收附著於被加工而個以上邊緣部用清淨室，用以吸引及 塵。（第1 5發明）《喷射材及因喷砂加卫而產生之粉 又’第15發明之 部加工用清淨*， 構件之加卫裝置，其中，該邊緣 I備.邊緣部清淨用吸引罩，形成頂面 8 201210747 之一端面被關閉，且與該頂面相對向之面被開口之中空形 狀，邊緣部清淨用送風噴嘴，係用以將壓縮空氣吹向被加 工面以將附著於該被加工面之該噴射材及該粉塵從該被加 工面剝離並加以除去之噴嘴，以該喷嘴之喷射口被該邊緣 部清淨用吸引罩之側壁覆蓋之方式配置於該吸引罩；以及 邊緣部清淨用吸引構件，兩端面被開口，該端面連通於該 邊緣部清淨用吸引罩及吸引手段； 配置為設置能吸引外氣之空隙而於該吸引罩之開口端 部與被加工面之間。（第16發明） 又第1 6發明之板狀構件之加工裝置中，該邊緣部加 工，用β淨至之開口端部，具備用以引進外氣之導引部。（第 1 7發明） •八，丨八1丹卄〈加工裝置f，該内側部加 工室鄰接有内側部加工用清淨室，用以將附著於被加工面 喷射材及因喷妙加工而產生之粉塵予以吸引及回收。（第 1 8發明） <第1 8發明之板狀構件之加工裝置中，該内側部加 :凊淨至具備：内側部清淨用吸引罩，形成頂面之—端 面破關閉，且與該頂面柏 ,al A 兴忑員面相對向之面被開口之中空形狀；内 側4清淨用送風喷嘴， 糾— 你用以對被加工面吹壓縮空氣以將 著於該被加工面之該立 廿Α χ射材及该粉塵從該被加工面剝離 並加以除去之嘴嘴，以 』離 吸引罩之側壁覆蓋…嘴之喷射口被該内側部清淨用 淨用吸引構伴 置於該吸引罩；以及内側部清 1構件，兩端面被開口，該端面連通於該内側部 201210747 淨用吸引罩及吸引手段； 配置為設置能吸引外氣之空隙而於該吸引罩之開口端 部與被加工面之間。（第1 9發明） 又’第19發明之板狀構件之加工裝置中，該内側部加 工用清淨室之開口端部，具備用以引進外氣之導引部。（第 20發明） 又，第1發明之板狀構件之加工裝置中，該移動手段 具備：載置有該板狀構件’為加工該板狀構件而使移動之 機構。（第21發明） 又’第1、4、6、15、19、21發明中任一項之板狀構 件之加工裝置中’具備：用以在加工該板狀構件之被加工 邊即邊緣部後，使該板狀構件旋轉大致9〇。之手段。（第Μ 發明） 又，第1、4、6、15、19、21發明中任一項之板狀構 件之加工裝置中，具備：將該板狀構件搬運至加工該板狀 構件邊緣部區域之搬入手段；該搬入手段具備：具有獨立 氣泡構造之胺甲酸酯（urethane)樹脂製搬運滾輪。（第23發 明） 又，第23發明之板狀構件之加工裝置中，該搬入手段 具備：停止位置設定手段’用以設定被搬運之該板狀構： 之停止位置。（第24發明） 又，第24發明之板狀構件之加工裝置中，該停止位置 設定手段具備：搬運方向側設定手段，用以設定搬運方向 側之停止位置； 10 25 201210747 該搬運方向側設定手段以與該搬運方向正交之方式 至少配置1個以上圓柱狀之搬運方向側設定構件。（第 發明） 又，第25發明之板狀構件之加工裝置中，該停止位置 設定手段具備：加工邊側設定手段，用以設定與搬運方向 側正交之側之停止位置； 個以上圓柱狀之加 5玄加工邊側設定手段，至少配置 工邊側設定構件。（第2 6發明） 又 手段， ，第23發明之板狀構件之加 加工該板狀構件之邊緣部後 區域外； 工裝置，其具備：搬出 ’將該構件搬送至加工 之胺甲酸酯 .該搬出手段具備：具有獨立氣泡構造 (urethane)樹脂製搬運滾輪。（第27發明 又，係第1、4、6、15、19、21發明中任一項之板狀 構件之加工裝置中’藉由該板狀構件之加工裝置加工之板 狀構件’❹膜太陽電池面板，積層有為在玻璃等透光性 基材之平面上形成透明電極層、&光半導體層、或金屬層 等薄膜太陽電池面板所需要之薄膜層。（第28發明） 又，係申請專利範圍S卜4、6、15、19、21項中任 -項之板狀構件之加工方法，具備：將被加工物即板狀構 件之邊緣部從加工開始位置插入該邊緣部加工室空隙之步 驟；從該邊緣部加工时砂喷嘴向被加工物噴射喷射材之 步驟；藉由該噴射材將被加工物表面不需要之薄膜層加以 切削除去之步冑；以及將該噴射材及因喷砂加工所產生之 201210747 粉塵藉由吸引丰in·工、 , 又予以吸引之步驟。（第29發明 又’第29發明之板狀構件之加工方 =狀構件方向往插入該板狀構件之方向移動，=二 薄膜層予以除去之步驟;最初之被加: 工成後，使該板狀構件旋轉大致90。， 加工物移動至該加卫開始位置 U被 分兮故、+ , 邱以及將该板狀構件 φ插入方向移動，藉此將鄰接於最初被加工邊之邊之不 需要之薄膜層予以除去之步驟。(第30發明） =插入該邊緣部加工室之被加工物(在平面為四角形 #之5亥平面上形成有薄膜層之板狀構件)之邊緣 部，從該邊緣部加工用喷砂加工喷嘴喷射喷射材 = 加工物不需要之薄膜層藉由噴砂加工予以除去。此時，， 喷射材及被除去之薄膜層等喷砂加工所產生之粉塵（以1 稱「粉塵」）藉由該邊緣部加 工用明. 用飛政防止罩及該邊緣部加 用及引罩’不朝該邊緣部加工室之外部飛散 通於該吸引罩之吸引手段予以 田逑 也 吸弓丨及回收。又，藉由該邊 緣袖工室之該開口部之開口端部與被加工物所形成之* 隙，被加工面側及其背面側之開口端部與被加工物不： 觸’能邊引進外氣邊高效率進行該喷射材及該粉塵 及回收(第卜29之發明)。又’將該喷砂加工喷 工物呈3〇〜75。之角度’且該喷砂加工喷嘴之喷射口朝被加 工物之邊緣部側之方式配置，藉此能促使從該喷砂加工 嘴喷射之喷射材往吸引手段移動，並且能防止因噴射材使 被加工物未加工之内側受損傷（第2發明）。 12 201210747 將該邊緣部加工官西？番~t 置於破加工物平行之2邊(被加工 邊），藉由移動手段，使被加工物對該邊緣部加工用 ::嘴相對移動’藉此能同時進行該2邊之加工。該移動 、使》亥邊緣部加工室移動或使被加工物移動皆可，但 使被加工物移動之構造能簡化裝置(第Η發明)。又，該邊 緣邛加工室亦可配置為對與該被加工邊正交之邊成亦 即，連結該喷砂加工喷嘴之喷射口之中心點彼此之假想線 (照圖Π)成為平行）之方式配置（第4、5發明）。又，㈣ 被加工邊加工後，使被加工物對該喷砂加工喷嘴旋轉^ 後進行相同之加工，藉此能加工4邊之邊緣部(第22 發明）。 將大型板狀構件切斷以獲得複數片邊緣部被除去之板 狀構件之情形，能使用先將作為大型板狀構件之外周部及 切斷後之板狀構件之外周部之部位(内側部)之薄膜層除去 後再^刀斷之手段。以這種方式，當必須加工内側部時，可 在：仃之該被加工邊之間配置内側部加工室，用以除去内 側部不需要之薄膜層。藉由從該内側部加工用喷砂加工噴 嘴二噴射之喷射材，不f要之薄膜層被除去，且該嗔射材 2粉塵，藉由該内側部加工用吸引罩，不往該内側部加工 弓室之外部飛散，且藉由連通於該吸引罩之吸引手段加以吸 引及回收。又，藉由形成於該吸引罩之開口端部與被加工 物之空隙’該開口端部與該被加工物不接觸，能邊弓丨進 卜氣邊阿效率進行該噴射材及該粉塵之吸引及回收（第6、7 發明)。又，將該内側部加工用吸引構件配置於被加工物之 13 201210747 相對移動方向前方之上方，將該噴嘴配置於後方，藉此從 该喷嘴噴射並碰撞該構件，或殘留之喷射材通過該吸引構 件下方緊貼處附近，能進行高效率吸引及回收該喷射材（第 8發明）。又，若將該喷嘴配置成對被加工物呈3〇〜75。之角 度，在該前方壁面配置該辅助吸引構件，則更有效（第9、 1 〇發明）。 將該邊緣部加工用噴砂加工喷嘴及該内側部加工用1 砂加工噴嘴之喷射口作成矩形（寬度Xwg長度XL)，藉此 相較於噴射口係圓形狀之情形，*卜次廣面積加工。又， ::加工物之移動方向作為該喷射口之長度方向，藉此能 第二更發廣明寬度之加工(第12 ' 13發明)。又’將該喷嘴作成 加工。構造，藉此不需複雜之附屬設備就能進行連續 通過該邊緣部加工室之被加工物 :時:從喷嘴吹出壓縮空氣，藉此能從被加工物剝離 淨室鄰接具備該邊緣部清淨用送風喷嘴之該邊緣部加工用 之壓缩^料緣部加卫室’藉此藉由從料風喷嘴哨 被剝離二Γ將該喷射材及該粉塵從該被加工物剝離 不往該清淨室之=及該粉塵藉由該邊緣部清淨用吸引罩 手段予以Ml及回Γ飛散，J藉由連通於該吸引罩之吸 部與被加工物門之*。又，藉由形成於該吸引罩之開口 能邊引進外氣:高二工物不接觸 (第15、16發明卜 _及引及回收該喷射材及該粉 14 201210747 同樣地，在通過該内側部加工室之被加工物殘留有喷 射材及粉塵時，使該内側部加工用清淨室鄰接於該内側部 加工室，藉此使該噴射材及該粉塵從被加工物剝離，並且 不往該清淨室外飛散而進行吸引及回收（第18、19發明）。 該邊緣部加工室、該内側部加工室、該邊緣部加工用 清淨室、該内側部加工用清淨室之開口端部具備用以引進 外氣之導引部，藉此外氣之引進變順利，結果，可促使該 喷射材及被切削除去之薄膜層往粉塵之吸引手段移動，能 高效率進行吸引及回收（第3、U、17、2〇發明）。 具有·從該邊緣部加工室及該内側部加工室，將被加 工物搬運至進行加工之區域之搬人手段、及從該區域，將 加工後之被加工物搬運至外部之搬出手段；藉此能自動連 續進行被加工物之加工。若搬運被加工物之該搬入手段及 搬出手段作成透過搬運滾輪進行搬運之構造，就能以簡 单構造搬運被加工物。萬一喷射材或粉塵附著於該搬運滚 輪之It形’备搬運被加工物時，可能會因該喷射材及該粉 塵而使被加工物受損傷。將與被加工物接觸之該搬運滚輪 之材質作成具有獨立氣泡構造之胺甲酸醋樹脂製，藉此能 不刮傷被加工物而進行搬運(第23、27發明）…在該搬 運手段中配置停止位置設定手段，用以設定被搬運之板狀 構件之停止位置’藉此能進行連續且穩定之加卫（第Μ發 明）。該停止位置設定手段較佳係以第25、％發明之方式配 置。 藉由該板狀構件之加工裝置，將積層有為在玻璃等透 15 201210747 光性基材之表面形成太陽電池面板所需要之薄膜層之薄膜 太陽電池面板之邊緣部及内側部不需要之薄膜層加以除 去’藉此可獲得能確保該薄膜層之積層面與該積層面之背 面之絕緣性之薄膜太陽電池面板（第2 8發明）。 另外，本說明書中所謂「平面為四角形之板狀構件」 係指例如平面為正方形或長方形之板狀構件，且亦包含具 有製造上誤差者。 ' 【實施方式】 以下’將板狀構件作為薄膜太陽電池面板，以該薄膜 太陽電池面板之加工為例，表示用以實施本發明之一例。 如前所述，薄膜太陽電池面板為確保形成有薄膜層之面與 其背面之絕緣性，邊緣部之薄膜層必須從玻璃等基材完全 予以除去。本實施形態，係針對將玻璃基材上形成有薄膜 層之大型薄膜太陽電池面板切斷，以獲得被除去4邊之邊 緣部薄膜層之4片小型薄膜太陽電池面板之方法，加以說 明。另外，本發明之加工裝置，並不限於本實施形態之構 成，能視需要予以適當變更。又，說明中之前後左右方向 只要沒有特別限定，僅表示圖中之方向。 本實施形態之加工裝置（01)，係由用以加工被加工物（w) 之邊緣部及内側部之加工單元（6〇)、用以搬運被加工物（w) 之搬運單70(50)、以及用以覆蓋該加工單元（6〇)及搬運單元 (50)之外罩（70)構成。該加工單元（6〇)包含：用以加工被加 工物（w)邊緣部之邊緣部加工室（1〇)、用以加工被加工物 内側部之内側部加工室（30)、視需要鄰接於該邊緣部加工室 16 201210747 (ίο)之邊緣部加工用清 以及鄰接於内側部加工室⑽之，為清*室E」）㈣、 稱為「清淨室！」）(67)。 内側部加工用清淨室（以下 (邊緣部加工室） Ο。：用:：說明邊緣部加工室(1°)之構成。邊緣部加工室 :飛政:止罩(邊緣部加工用(以下稱為「飛散… 狀:丄Γ定之四角形橫剖面，頂面被關閉之令空形 士，引軍（邊緣部加工用（以下稱為「吸引罩A」_，連 :具有與該飛散防止罩A相同之橫剖面，並且向下方(底 部）’橫剖面之面積連續減少（倒四角雜形狀），且兩端被開 口之中空形狀；用以連結該飛散防止罩A與該吸引罩A之 連結構件（以下稱為「連結構件A」）（14);用以進行喷砂加 工之喷◊加工喷嘴（邊緣部加工用以下稱為「噴嘴
Aj).( 15)，以及用以連結吸引手段與該吸引罩a之吸引構件 (邊緣部加工用）（以下稱為「吸引構件A」）〇3)構成（參照圖 1)。 在連結飛散防止罩A(ll)及吸引罩A(12)之位置分別配 置有同形狀之凸緣部（1U)、（12a)(本發明形態係「〕」字形 狀）。凸緣部（11 a)、（ 12a)皆係相同形狀，且透過與該凸緣部 相同形狀之連結構件A(14)以連結該飛散防止罩a(ii)與該 吸引罩B( 12)，藉此該飛散防止罩a與該吸引罩a形成内部 連續之空間’並且在飛散防止罩A(ll)與吸引罩a(12)間之 一部分（一端）能獲得空隙（SA)。該空隙（SA)能插入太陽電池 面板（以下稱為「被加工物」）（W)之邊緣部（被加工邊），並 17 201210747 且必須係能通過之形狀…當被加工物(w)插入空隙⑽ 時，使能充分確保飛散防止罩A⑴）及吸引$ A(i2)之開口 端部(mwm)與被加工物(w)間之空隙㈣)、_)(參昭 圖1及圖2。® 2(c)中之虛線係表示外氣被引進之情形)':、 使如圖2⑷般插入之被加工物對該喷嘴A相對往同圖上下 方向移動，藉此被加工邊即邊緣部被予以加工。 吸引罩A(12)於底部配置有吸引構件A(13)。該吸引構 件A(13)之兩端係被開口之中空形狀，一端連結於吸引罩 A(12)之底部側之開口面，另一端透過導管（邊緣部加工 用)(未圖示)連結於吸引手段(未圖示)(本實施形態係集塵裝 置）。亦即，形成飛散防止罩A(11)及吸引罩八（12)之空間、 與形成該吸引手段之空間成為連通之空間。 在飛散防止罩A( 1 1)之頂面配置有喷嘴a ^亦即，藉由 该飛散防止罩A(ll)覆蓋有該喷嘴A(1丨）之喷射口（15a)。雖 喷嘴AGS)對被加工物（W)之角度（0a)亦可係垂直，但較佳 係該喷射口（15a)以朝向被加工物（w)之邊緣方向之方式在 30〜75之範圍傾斜。從該噴射口（15a)向被加工物（w)喷射 後，碰撞被加工物（W)之喷射材及因與喷射材碰撞而被切削 除去之溥膜層等粉塵（以下簡稱「粉塵」）朝上方飛揚。另一 方面，由於在被加工物（W)之下部即吸引罩（12)側，藉由連 結於吸引構件（13)之吸引手段，邊從空隙（sal)、（sa2)引進外 氣邊進行吸引’因此該喷射材及該粉塵往吸引罩（12)側移 動，透過吸引構件（1 3 )，藉由吸引手段予以回收。特別是喷 射材，碰撞被加工物（W)而反彈之喷射材碰撞飛散防止罩 201210747 Α( Π )内部之頂面或側壁面部後進行反彈，可能再碰撞被加 工物（W)，但由於如上所述，將噴嘴A(i 5)朝被加工物（W) 之邊緣部方向傾斜，藉此產生促使從喷嘴A( 15)喷射之喷射 材朝向下方即吸引構件A( 13)之氣流，因此不對飛散防止罩 (11)之頂面及側壁面碰撞，故不反彈，能防止因喷射材而使 破加工物（W)受損傷（參照圖3^若喷嘴A(15)與被加工物（W) 形成之角度0 a太小，就不能獲得切削薄膜層之力，若0 a 太大，就會不能充分獲得因將喷嘴Λ( 15)傾斜而導致之促使 噴射材及粉塵朝向吸引構件Α(13)之效果。又，將喷嘴Α(15) 之喷射口（15a)之形狀作成矩形形狀（寬度Xwg長度Xl)，配 置喷嘴A(15)以使該喷射口（15a)之長度方向為與被加工邊 正交（參照圖13(A))。 喷嘴A(15)具備：噴嘴本體（15c);空氣喷嘴（15b)，用 以將壓縮空氣引進於該喷砂加工喷嘴本體之内部，並且在 該喷砂加工喷嘴本體之内部產生負M ;以&喷射部（i5d)， 具備喷射口（15a)，用以喷射藉由該負壓被吸引至喷砂加工 f嘴本體之㈣’並且在該喷砂加卫喷嘴本體内部之混合 至與麼縮空氣混合之喷射材。將從a縮空氣產生源（未圖示） 所產生之壓縮空氣透過壓縮空氣引㈣軟f (邊緣部加工 用κ未圖示）’從該空氣喷嘴（15b)引進至該嘴嘴本體（i5c)之 内部’藉此產生負壓。喷射材，藉由該喷嘴本體（i5c)内所 ==負壓，從喷射材貯藏送料斗（未圖示）透㈣㈣供應 用軟管(未圖示)，被吸引至該喷嘴本體(15c)内、被吸 射材在該喷嘴本體⑴c)内之混合室〇5e)與壓縮空氣混八， 201210747 以固氣二相流從喷射口 (15a)喷射。藉由本實施形態之構造 能穩定進行長時間加工(參照圖12)β又，當薄膜層之硬度 較硬’需更強力之加工力時’亦可採用將農填喷射材之加 壓槽内加壓，藉此將喷射材投人壓縮空氣流，以壓縮空氣 與喷射材之固氣二相流壓送至喷嘴，從喷射口射出之構 造。雖因需要加壓槽及伴隨加壓槽之附屬設備，相較於本 實施形態，裝置大型化，但喷射材之喷射速度變快，能獲 得強力之加工力。 在飛散防止罩Α(11)及吸引罩Α(12)之開口端部（nb)、 (12b)’如圖2(C)之虛線所示，從該空隙（sal)' (sa2)將外氣 引進至邊緣部加工室之内部。為更高效率引進外氣，亦可 在該開口端部（lib)、（12b)分別配置用以引進外氣之導引部 (He)、（12c)。藉由配置導引部能減低壓力損失，且能高效 率引進外氣。本實施形態，導引部形狀作成從内側向外側 之R形狀（參照圖4。圖4(c)中之虛線係表示外氣被引進之 情形）。 (内側部加工室） 使用圖式，說明配置於平行之2邊之該被加工邊間之 内側部加工室。内側部加工室（30)以：吸引罩（内側部加工 用）（以下稱為「吸引罩B」）（32)，具有連續四角形之橫剖面， 頂面被關閉之中空形狀；用以連結該吸引罩B與吸引手段 之吸引構件（内側部加工用以下稱為「吸引構件B」; 以及喷砂加工噴嘴（内側部加工用）（以下稱為「喷嘴 B」）（35)，用以將壓縮空氣吹向被加工物（w)以使附著於被 20 201210747 物（w)之噴射材及粉塵從被加工物剝離構成。兩端被開 口之中空形狀之該吸引構件B之一端連結於該吸引罩B(32) 之頂面，另一端透過導管（内側部加工用）.(未圖示）連結於吸 引手段。亦即，該吸引罩B(32)與該吸引手段形成連通之空 間（參照圖5 )。 吸引罩B(32)配置於被加工物（w)之上方，且為引進用 以藉由該吸引手段進行吸引之外氣，使能充分確保被加工 物（W)” °及弓丨罩B(32)之開口端部（奶）間之空隙（如）（參照 圖5(D)。圖中之虛線係表示外氣被引進之情形）。又，被加 工物(w)係如前所述，對喷嘴B(35)相對移動以進行加工。 該噴嘴B(35)配置於該吸引罩B(32)之頂面。亦即，藉 由吸引罩B(32)覆蓋該喷嘴B(35)之喷射口（未圖示吸引構 件B(33)與噴嘴B(35)之位置關係，較佳係將吸引構件B(33) 配置於被加工物（W)之移動方向前方側（圖5(c)中箭頭方 向）’相對於被加工物（w)之移動方向，將喷嘴0(35)配置於 該吸引構件B(33)之後方。又，雖喷嘴B(35)對被加工物㈤ 之角度（Θ13)亦可係垂直，但較佳係喷嘴B(35)之喷射口 ο”） 以向被加工物（W)之移動方向側即配置有該吸引構件Bp〕） 之側之方式，對被加工物（w)配置成為3〇〜75。。在内側部 加工室（3〇)之被加工物（W)之加工，從嘴嘴叩5)向被加工物 喷射之喷射材與被加工物碰撞，藉此薄膜層被㈣除去。 碰撞被加工物（W)之喷射材及被切削除去之粉塵朝上方飛 揚。另-方面，在被加工物(W)之上部，由於藉由連結於吸 引構件（33)之吸引手段，邊從空隙（sb2)引進外氣邊進行吸 21 201210747 引，因此該喷射材及粉塵透過吸引構件（33)，藉由吸引手段 予以回收。喷嘴B(35)之喷射口（35a)以朝向被加工物（w)2 移動方向側之方式傾斜設置，藉此喷射材碰撞被加工物（w) 後，向吸引構件B(3 3)之方向進行反彈，能高效率回收喷射 材。若0b太小，由於開口端部（32b)中之外氣吸引力低於 噴射材之喷射力，因此喷射材會漏出至邊緣部加工室外， 若0b太大，不僅不能充分獲得前述效果，而且可能因碰撞 壁面而反彈之喷射材使被加工物（w)受損傷（參照圖6(a)及 (B))。為傾斜配置喷嘴B，吸引罩B(32)作成剖面呈梯形之 箱狀，藉此能將吸引構件B(33)配置於單側之斜面上，將喷 嘴B(35)配置於與設有吸引構# B(33)之側相反側之斜面上 (參照圖6(C))。 又，兩端被開口，一端透過導管（邊緣部加工用（輔助吸 引))(未圖示），將連結於吸引手段之中空形狀之輔助吸引構 件（36)之另-端配置於設有吸引構件b(33)側之壁面。輔助 吸引構件（36)之目的在於，在内側部加卫室（3_，促使喷 射材及粉塵朝向吸引構件之氣流之產生。因此，輔助吸引 構件（3 6)中之吸引力即使比吸引構件B(33)中之吸引力小亦 可。本實施例中，配置5個具有比吸引構件B (3 3)徑充分小 徑之輔助吸引構件（36)(參照圖7)。 該喷嘴B(35)，只減藉由喷砂加工將被加工物㈤之 薄膜層予以除去，其形狀及構造雖無特別限定，但本實施 ㈣係使用與該喷嘴AU5H目同者β又’噴嘴b(35)係以喷 射口㈣之長度方向與該被加工邊正交之方式配置(參照 22 201210747 圖 13(B))。 亦可在吸引罩B(32)之開口端部（32b)配置用以高效率 引進外氣之導引部（32c)。本實施形態中，導引部之形狀係 與前述之邊緣部加工室（1〇)相同，作成從内側向外側之尺形 狀（參照圖8。圖8(C)中之虛線係表示外氣被引進之情形卜 (清淨室） 藉由該邊緣部加工室（10)及該内側部加工室（3〇)加工被 加工物（w)後，噴射材及粉塵附著（殘留）於被加工物（w)之表 面時，能視需要在該邊緣部加工室（10)及該内側部加工室 (30)鄰接清淨室（20)。清淨室以：吸引罩（清淨用）（以下稱為 「吸引罩C」）(22) ’具有連續四角形之橫剖面，頂面被關 閉之中空形狀；吸引構件（清淨用）（以下稱為「吸引構件 C」）（23)，用以連結該吸引罩c與吸引手段；以及送風噴嘴 (以下稱為「喷嘴C」）（25)，用以將壓縮空氣吹向被加工物 (W)’使附著於被加工物（霤）之噴射材及粉塵從被加工物剝 離構成。兩端被開口之中空形狀之該吸引構件c之一端連 結於該吸引罩C(22)之頂面，另一端透過導管（清淨用从未圓 示）連結於吸引手段。亦即，該該吸引罩c(22)與該吸引手 段形成連通之空間。另外，鄰接於邊緣部加工室之清淨 室e(62)與鄰接於内側部加卫室之清淨室ι(67)即使係:同 形狀或不同形狀哪個皆彳’但本實施形態係使用才目同形狀 者0 又，該噴嘴C(25)係配置於該吸引罩c(22)之頂面亦 即’藉由吸引罩C(22)覆蓋該喷嘴c(25)之噴射口（未圖^ 23 201210747 該吸引構件c(23)及喷嘴c(25)之位置關係、及設置角度等 並無特別規定，能配合運轉條件適當變更。例#，亦可在 吸引罩C(22)之頂部，於被加工物（w)之移動方向前方側配 置吸引構件C(23)，相對於被加工物(w)之移動方向，於該 吸引構件C(23)之後方側配置喷冑c(25)。本實施例，喷嘴 C(25)設置為成為吸引罩c(22)之頂部中心，夾喷嘴“Μ)， 將喷嘴⑽）分別設置於被加工物（w)之㈣方向前方側及 後方側（參照圖9)。 吸引罩C(22)配置於被加工物（w)之上方，且為引進用 以藉由該吸引手段進行吸引之外氣’使能充分確保被加工 物（w)與吸引罩c(22)之開口端部（22b)間之空隙⑽小將從 壓縮空氣供應、源所U之壓縮空氣透過連結於壓缩空氣供 應源及喷嘴C(25)之壓縮空氣引進用軟管（邊緣部清淨 用）（未圖示）’弓！進於喷嘴c(25)，將壓縮空氣從喷嘴c(25) 之喷射口吹向被加工物（W)，藉此使喷射材及粉塵從被加工 物脫離。脫離後之喷射材及粉塵藉由空隙（scl)邊引進外氣 邊透過吸引構件C(23)，藉由吸引手段予以吸引及回收（參 照圖9。圖9(D)中之虛線係表示外氣被引進之情形）。亦可 在吸引罩C(22)之開口端部（22b)配置用以高效率引進外氣 之導引部（32c)。本實施形態，導引部之形狀係與前述之邊 緣部加工室（10)及内側部加工室（30)相同，作成從内側向外 側之R形狀（參照圖10。圖10(C)中之虛線係表示外氣被引 進之情形）。 當喷射材及粉塵強固附著時，亦可與壓縮空氣一起喷 24 201210747 射例如將該噴射材及該粉塵之帶 著力之手段（些許水分、靜電除去材餘:去專用以减弱附 可使用超音波送風。又，紡洽缸 ）亦 q ’ 口之形狀係矩形或圓形等， 並無特別限定，能適當進行選擇。 (加工單元） 11 加工單元（60)，以：邊緣部加工單元 加工圖"中平行之2邊之被加工邊U對邊緣 (10)、及透過連結構件（邊緣部加工用）（以下稱為「連結構= E」）（61c)分別鄰接於該邊緣部加工室（1〇)之清淨室ε^2)構 成；以及内側部加工單元（66)，其係由配置於該邊緣部加工 室間之内側部加工室（30)、及透過連結構件（内側部加工 用）（以下稱為「連結構件I」）（66c)鄰接於該内側部加工室（3〇) 之清淨室1(67)構成構成。内側部加工單元（66)亦可視需要 配置複數台或不配置。又，如前所述，由於被加工物（％)對 喷嘴A(15)及喷嘴B(35)相對移動，因此該清淨室e(62)及清 淨室1(67)亦可配置於對被加工物之對喷嘴八（1 5)及喷嘴 B(3 5)之相對移動方向之前方側外壁面或前方側與後方側之 外壁面兩者或不配置。本實施形態，如 台内側部加工室（30)，又，將清淨室E(62)及清淨室ι(67) 分別配置於該移動方向前方側（同圖中之箭頭方向）。 1對邊緣部加工室（10)，若連結喷嘴A(1 5)之噴射口（15a) 中心之假想線⑴對被加工邊（圖13(A)中之剖面線部）以外之 平行水平面上之邊平行配置，加工時間就會變最短而較 佳’但亦能依照被加工物（W)之大小及加工裝置（0 1)之形狀 25 201210747 適當選擇平行或非平行之任一種。又，内側部加工室⑽ 只要配置於邊緣部即被加工邊之間即可，即使噴嘴b(35)之 喷射口（35a)之中心未配置於該假想線⑴上亦可（參照圖 13(B))。 (搬運單元） 搬運單元以：搬運手段⑴），其係用以將被加工物(w) 搬運至移送手段（52)之位置，且將加q成之被^物㈤ 往外罩（7G)之外部搬運；以及移送手段（52)，用以為藉由該 加工單元（60)加工被加工物（w)而使移動構成。另外，用以 將加工完成之被加工物（W)往外罩（71)之外部搬運之搬出手 段（5 1B) ’雖亦可兼作用以將被加工物（w)搬運至移送手段 (52)之位置之搬入手段（5 1A)，但本實施形態係分別配置搬 入手·^又（51A)與搬出手段（51B)之搬運手段（51)。 搬入手段（51A)以··搬運滾輪（51a)，載置被加工物（w)， 用以進行該被加工物（W)之搬運；軸（51b)，將該搬運滾輪 (51a)之軸心貫穿，並且用以保持該搬運滾輪（5ia);以及驅 動手段（未圖示），連結於該軸（51b)，用以驅動該搬運滾輪 (5 1 a)構成。又，鄰接之該搬運滾輪（5 la)被配置成交錯狀。 其原因在於，搬運被加工物（W)時，假如蜿蜒力作用時，能 適當傳達往搬運方向之搬運力並予以修正。 被載置於搬入手段（51A)之被加工物（w)係與搬運滾輪 接觸。又，該驅動手段（本實施形態係馬達）係透過驅動傳達 手段（本實施形態係滑輪及皮帶）而與該軸連結。藉由驅動該 驅動手段使該軸（51b)及該搬運滾輪（51a)旋轉，藉此搬運被 26 201210747 加工物（w)。為使被搬運之被加工物（w)在既定位置停止， 配置有停止位置設定手段。停止位置設定手段係由配置於 被加工物（W)之搬運方向側（圖14(B)中之右方向）之搬運方 向側設定手段、以及配置於圖14(B)之上下方向側之加工邊 側設定手段構成。本實施形態’搬運方向側設定手段係將 圓柱形狀之2個搬運方向側構件（以下稱為「設定構件 A」）（53a)加以配置，使連結該設定構件A(53a)之軸心彼此 之假想線（ia)對搬運方向（圖14(B)中之右方向）成為垂直。被 搬運之被加工物（w)會因與該設定構件八（53幻碰撞而停 止，故根據該設定構件A(53a)之配置位置而設定搬運之被 加工物（W)之搬運方向側之停止位置。又，加工邊側設定手 段對上下方向之各邊至少各配置冑1個圓柱形之加工邊 側設定構件（以下稱為「設定構件B」）（53b)。設定構件B(53b) 係分:別連結於驅動手段（未圖示），藉由該驅動手段設定構 件B(53b)往被加工物（W)之方向移動，言史定構# B(53b)之圓 弧面與被加工物（W)之該邊接觸，使被加工 此對搬運方向設定垂直方向之位置…卜，將該)設定構: A(53a)及該設定構件B(53b)作為滾輪，#此與被加工物（w) 碰撞之點因每次操作而不同’因此能防止接觸點集中磨 損。本實施形態、’該設定構件A(53a)對被加工物（w)之搬運 方向側之邊配置2個，該設杨件B(53b)係於被加工物（w) 之上下方向之各邊分別配置1個。亦可視需要變更設置個 數（例如對被加工邊分別配置各2個該設定構件B(53b)，連 結該定位構件之轴心彼此之假想線對該邊配置成為平行）。 27 201210747 又’亦可視需要不配置停止位置設定手段，亦可對任一側 邊配置加工邊側設定手段。又，該搬運方向側設定手段亦 可組合該設定構件A(53a)與其他構件，該加工邊側設定手 段亦可組合該設定構件B(53b)與其他構件。 又’搬出手段（5 1B)除未配置有該停止位置設定手段以 外’其他係與該搬入手段（5 1A)相同構造。 當藉由搬入手段（51A)及搬出手段（51B)搬運被加工物 (w)時，有時會因搬運滾輪（51a)之材質而使被加工物（w)之 接觸面受損傷。例如，大氣中之塵埃咬入搬運滾輪（5丨a)申， 使得被加工物（W)之接觸面因而受損傷。又，搬運手段 B(51B)，因加工而使喷射材及粉塵殘留於被加工物（w)時， 此等咬入搬運滾輪（5 la)中，同樣使被加工物（w)之接觸面受 損傷。為防止該受損傷，搬運滾輪（51a)之材質較佳係，具 有獨立氣泡構造之發泡胺曱酸酯（urethane)。即使塵埃或喷 射材等硬質異物咬入時，由於作為緩衝材有效作用，因此 能防止被加工物（W)受損傷。 如前所述，對喷嘴A(1 5)及喷嘴B(35)，使被加工物（W) 相對移動，藉此能加工連續之範圍。相對移動，雖亦可使 邊緣部加工室（10)、邊緣部加工單元（20)、内側部加工室 (30)、内側部加工單元（4〇)移動，但使被加工物（w)移動之 方式能簡化裝置，故較佳。本實施形態係以移送手段⑻) 使被加工物（W)移動。 本實施形態之移送手段（52)包含：用以載置被加工物㈤ 之台(52a);用以進行被加工物之高度方向定位之定位手段 28 201210747 (以下稱為「定位手段」）（52b);旋轉手段（52c)，用以使被 加工物（W)以其平面之中心點為中心旋轉9〇。；以及移動手 奴（52d) ’為連續加工被加工物（w)，使移送手段（52)本身移 動又該0(52a)配置有固定手段（未圖示），用以將載置之 被加工物（W)加以固定。 (加工裝置） 如圖14所不，配置加工單元（6〇)、搬運單元（5〇)、及外 罩(J〇)以構成加工裝置(01)β另外，為方便起見，同圖中之 導s及軟管予以省略。邊緣部加工單元(6 ”係透過連結於連 結構件E(61C)之臂（邊緣部加工用）（以下稱為「臂E」）(61a) 而連結於對位手段（65)。藉由對位手段（65)，邊緣部加工單 兀㈣配合被加工物(w)之大小及動作，於_ i4(c)中之左右 向移動，月b调整位置。又，内側部加工單元⑽係透過連 結構件I(66c)而連結於對位手段（65)。 圖14(B)中，被加工物（臂）係由左往右移動。搬運單元 (50)’係由同圖之左側依搬運手段A(51A)、移送手段（52)、 搬運手段B(51B)之順序配置且其中心、點配置成為―直線 上。又，加工單元（60)配置為該假想線⑴之中心與喷嘴B 之喷射口 (35a)之中心點位於連結搬運手段—A)、移送手 段（叫、搬運手段B(51B)之中心線之線上。 外罩（70)係以覆蓋加工單元（6〇)、移送手段⑼之整 及搬入手段A(51A)、搬出手段b(5ib)之方式形成。又， ❹插人外罩内之開口部（71小及用 以進行排出之開口部（未圖示）。 29 201210747 (加工方法） 使用圖1 5，針對使用本實施形態之加工裝置（〇丨），進 行除去太陽電池面板之薄膜層之加工方法加以說明。此 外’圖1 5中’剖面線部係藉由加工薄膜層被除去之部位。 將各種加工條件（被加工物（W)之尺寸、被加工物（w)之 移動速度、喷射材之喷射壓力、加工形式（加工寬度、内側 部有無加工等）等）輸入控制手段（未圖示）。配合所輸入之被 加工物（w)之尺寸，藉由對位手段（65)設定邊緣部加工單元 間之距離以使被加工物（w)之平行之2邊通過邊緣部加工室 (10)之開口部（SA)e將被加工物（w)載置於搬入手段（51A)， 將被加工物（W)由外罩（70)之開口部（7〇a)搬入至外罩（7〇)之 内部。被搬入之被加工物（W)之與被加工邊（圖14(B)中之上 下邊）正交之搬運方向側之邊碰撞設定構件A(53a)之圓弧面 而在省位置停止。然後，連結於驅動手段之設定構件3b) 分別向被加工邊移動，使被加工物（w)於圖i 4(b)中之上下 方向移動至既定位置。藉由以上動作，被加工物㈤藉由搬 入手段（51A)被搬運至移送手段（52)上（以下此位置稱為「加 工開始位置」）。被搬運至移送手段(52)上之被加工物 係藉由配置於台（52a)之該固定手段（例如吸引吸附裝置、或 摩擦係數高之墊）被固定於移送手段（52)上。’然後，藉由定 位手段（52b)使被加工物（w)上升，藉此解除與搬運手段 A(51A)之接觸’並且藉由定位手段⑽）設定高度方向之位 置（圖14(D)中之上下方向）以使被加工物（w)能通過該開口 部（SA)，且充分確保被加kw)與邊緣部加卫單元⑹）間 201210747 之空隙及被加工物（W)與内側部加工單元（66)間之空隙。 由喷嘴八（15)及喷嘴3(35)之噴射口（15&)、（35&)喷射喷 射材之同時，使分別連結於邊緣部加工室（丨〇)、内側部加工 室（30)、清淨室a(62)、及清淨室b(67)之吸引手段動作（吸 引手段之台數並無特別規定）。然後，藉由移送手段（52)， 使被加工物（W)從圖14(B)及15(A)中之左側移動至右側，使 通過喷嘴A(15)及喷嘴B(35)之下方緊貼處，藉此從喷嘴 A(15)及喷嘴B(35)喷射之喷射材與被加工物（w)碰撞，藉由 此碰撞，薄膜層被切削除去。又，該噴射材及粉塵係透過 吸引構件A(13)及吸引構件B(33)，藉由吸引手段予以吸引 及回收。插入邊緣部加工室（1〇)之被加工物完全通過邊 緣部加工單元（20)及内側部加工單元（40)，藉此被加工物（W) 之平行之2邊之邊緣部及内側部之加工完成（以下此位置稱 為「加工完成位置」）（參照圖15(A)及圖15(B))。 藉由對位手段（65) ’使邊緣部加工單元（20)往擴大其間 距離之方向移動。此距離比被加工物（w)之對角線長度充分 加長。然後’藉由旋轉手段（52c)使被加工物旋轉9(Γ之同 時，藉由移送手段（52)，使被加工物（w)移動至加工開始位 置。移動後’藉由對位手段（61)，依照前述所輸入之加工條 件设定邊緣部加工單元（2〇)間之距離（參照圖15(c))。然後， 藉由移送手段（52) ’同樣地使被加工物（w)從圖中左側移動 至右側，移動至加工完成位置，藉此剩餘之2邊之邊緣部 及内側部之中心部之加工便告完成（參照圖1 5(D))。 疋位手段（52b)下降，藉此加工完成之被加工物（w)被放 31 201210747 置於搬出手段（5 1B)上《接著，藉由搬出手段（51B)通過外罩 (70)之開口部而向外罩（70)之外部進行搬運（搬出）。用一般 所知之手段將所獲得之被加工物（W)加以切斷，能獲得邊緣 部被加工之複數個（圖15中為4個）之被加工物（Wc)(參照圖 1 5(E))。所獲得之被加工物（Wc)之邊緣部之薄膜層被除去， 基材（玻璃）露出於表面。 (變更例） 噴射過之喷射材及粉塵，藉由連結於邊緣部加工室（1〇) 及内側部加工室（30)之吸引手段能充分吸引時，即使不設置 清淨室A(62)及清淨室B(67)亦可，亦即，能僅以邊緣部加 工室（10)及内側部加工室（3G)進行加工。又，亦可使用清淨 室A(62)或清淨室b(67)中之任一室。 僅加工邊緣部時，亦可不配置内側部加工室（30)，或 可配置内側部加工室（3G)時，不從該喷嘴B(35)喷射喷射材 —内側部加工室（3 〇)能酉己置魏台。配置複數台内側部; 至（）進行上述之加工藉此能將被加工物（w)分到 :小。例如，若配置2台内側部加工室(3〇)， :: 物（W)獲得9片被加工物（w)。 - =淨室(2。)’亦可在被加工物陳相對移 ^ (23)，在其相反側配置喷嘴C(25卜又，
此時’較佳係喷嘴9 U 私卡—m(25)之喷射口以向該被加 J之方式配置。從該喷嘴c(25)喷射 雖碰撞該被加工物後g彳 縮工痛 视便進仃反彈，但藉由傾
吸引構件c(23) » t 0 斜配置使朝向言I 再件L(23)。亦即，反彈 二軋之矾流中含有從被 32 201210747 加工物（w)脫離之噴射材及粉塵，能高效率吸引及回收此等 喷射材及粉塵。該被加工物（W)與該噴嘴c(25)所形成之角 度較佳係30〜75。。若角度太小，吸引罩χ(22)之開口端部 (22b)中之外氣吸引力就會低於壓縮空氣之喷射力，因此嘴 射材及粉塵會漏出到邊緣部加工室外，若角度太大，就不 能充分獲得前述之效果。 本實施形態之加工中’只要在使被加工物（w)旋轉9〇。 前之加工時（圖15(A))或使旋轉90。後之加工時（圖15(D))之 任一加工，從喷嘴B(35)喷射喷射材即可。例如，以本實施 例之方式，使用1台内側部加工單元（4〇)進行正方形之被加 工物（w)之加工時，能從正方形之被加工物（w)獲得2片長 方形之被加工物（w)。又，與前述相同’能配合作為目的之 被加工物（w)之尺寸設置複數台内側部加工室或内側部加工 OP — 單7C。 加工平行之2邊之邊緣部後，在該加工結束之位置反 轉被加工物（w)後，亦可藉由移送手段（52)移送至加工開始 位置，加工剩餘之2邊。亦即，能籍由移送手段（52)之來回 運動進行加X。但’此時’當加工剩餘之2邊時由於被 加工物（w)之移動方向成為反方向，因此當使清淨室a(2i) 及清淨室B(4D鄰接於邊、緣部加卫室（1〇)及内側部加工室 _，必須設置於反轉前之移動方向前方側與反轉後之移 動方向前㈣之兩者。X ’此時’搬運裝置a(5ia)能兼作 被加工物（W)之插入及排出。 亦可將被加工物（W)固定於台（52a)後，使加工單元（6〇) 33 201210747 移動以進行加工。 外罩不需覆蓋加工單元（60)、移送手段（52)之整體、及 搬入裝置（51A)、搬出裝置（51B)之整體，亦可僅覆蓋該加工 開始位置與該加工結束位置之間等局部。又當沒有從加 工單元漏出喷射材及粉塵且周邊;裒*免之塵埃等不可能附著 於被加工物（W)及該滾輪（51b)時，亦可不配置外罩。 本實施形態，為同時加工被加工物（w)平行之2邊配 置2台邊緣部加工室(10)，但亦可僅配置i台進行加工。 (實施例） 使用該實施形態之加工裝置，進行u〇〇xi4〇〇m… 膜太陽電池面板之4邊之邊緣部之薄膜層之除去(除去寬石 為η_)(因僅除去邊緣部之薄膜層，故喷射材不從噴j B(35)喷射）。從噴嘴A Μ射壓力〇.6MPa喷射喷射木 (WA#600)。X ’薄膜太陽電池面板之移動速度設定》 2〇_/s(實施例小又，作為比較，在下部與吸引手段連沒 之't /加至内’使用丨個連結於使喷砂加卫喷嘴移送戈 手段之喷砂加工喷嘴使該噴嘴移動，#此進行相同之力， 工。喷砂加工喷嘴、喑射廠+ „ ^ _ 嘴射壓力、及喷射材係與實施例1和 同且喷石/加工噴嘴之移送速度與實施例i中之薄膜太擇 電也面板之移動速度相同為200m油（比較例"。針對加J 時間、在加工區域有無薄膜層殘留、及在加工區域以外之 f膜層有無受損傷進行評價。在加工區域之評價係藉由錦 描式電子顯微鏡（SEM: seanning eu_n mi㈣ 進行，評價係，無殘留薄膜層：0;雖有殘留薄膜層，）== 34 201210747 :薄膜層以單獨存在(與加工部 ^殘留薄膜層，且與加工部位以外之續): 又，針對加工區域以外”“ 寻犋層連續.x。 顯微鏡觀察進行 Γ膜層之受損傷藉由掃描式電子 d 十對加工區域以外之薄膜声之〜废 加工邊界lmm以上之部位’無受損 邊界2_以上之部 〇’在離加工 以上之部位，有受損傷.1〇’在離加工邊界2_ 部分））。太陽電圖16°箭頭係表示受損傷（― 層之〜傷二 加工中，由於加工部位以外之薄膜 貝傷會導致電動勢之降低，因此較佳係離加工邊界 ::以上之部位無受損傷’但實際上，當作為太陽電池模 ::要在離加工邊界2_以上之部位無受損傷即可： 膜 子門係㈣之加工時間’無殘留薄 、曰，在加工。Η立以外之薄臈層之受損傷，離加工邊 | 1侧以上之部位不被發現。相對於此，比較例1中，加 工時間為90秒’必須係實施例i之2 25倍，又，雖無薄膜 層殘留’但在加工部位以外之受損傷，在離加工邊界2随 以上之部位亦發現很多。其原因在於’碰撞被加工面而彈 回之喷射材及粉塵’碰撞噴砂加卫喷嘴及其周彡設備（例 如’該噴嘴之移送手段)而反彈之結果，該喷射材碰撞加工 部位以外所導致。實施例！中，應是由於碰撞被加工面之 喷射材係透過吸引構件（13)，藉由吸引手段予以吸引及回 收，因此如前述，能防止受損傷。又，藉由用以將外氣引 進邊緣部加工室（丨〇)内之空隙（sal)、（sa2)，被加工物（w)與 邊緣部加工室（1〇)不接觸，因接觸所造成之受損傷亦沒有被 35 201210747 發現。 又，本實施形態中，從喷嘴B(35)亦以與實施例1相同 條件喷射喷射材（WA#600)，藉此進行邊緣部及内側部之加 工（實施例2)。能以與實施例1相同之加工時間進行邊緣部 及内側部之加工，在加工部位無薄膜層殘留。在不加工部 位之薄膜層之受損傷，邊緣部與實施例1相同在離加工邊 界1 mm以上部位沒有被發現而成為◎之評價，但在内側 部，在2mm以上之部位，受損傷沒有被發現，但在1〜2mm 之部位能確認’因此成為評價〇。這應是因為碰撞被加工 面之喷射材透過吸引構件（3 3)，藉由吸引手段予以吸引及回 收，藉此能防止比較例1所示之受損傷。然而，應是因為 相較於邊緣部加工室，喷射材及粉塵之往吸引構件（33)之移 動不太順利，因此邊緣部與内側部之評價出現差異者，但 實際使用被加工物（W)則如前述並無問題。又，藉由用以將 外氣引進内側部加工室（30)内之空隙（sb2)，被加工物（w)與 内側部加工室（30)不接觸，因接觸所造成之受損傷亦沒有被 發現。 (表1) 加工時間⑻ 實施例1 40 實施例2 40 比較例1 90 在加工區域之在加工區域外之 .Λ膜殘留 皮膜殘留 Ρ . . ◎ 〇 〇 〇 X ' 實施形態中，雖說明太陽電池面板之加工，但板狀構 件不僅可作為如太陽電池面板之加工般完全除去薄膜層之 基板使用，而且可作為將邊緣部變厚之薄膜層（例如，藉 由濕式製程所形成之薄膜層）之—部分除去，用以調整整 36 201210747 體薄膜層厚度之裝置使用。 為I虫刻各種基板，形成光阻膜，触刻加工後，藉由藥 品等將該光阻膜加以除去。然而，有時在邊緣部殘留該光 阻膜’能藉由本裝置將該光阻膜加以除去。 本申請係根據在曰本於2010年6月4曰所申請之曰本 特願2010 — 128 542 ’該内容作為本申請之内容，形成其一 部分。 又’本發明藉由本說明書之詳細說明應能更完全理 解。然而’詳細之說明及特定之實施例係本發明較佳實施 形態，係僅為說明目的而揭示者。其原因在於從該詳細之 说明’各種變更及改變對所屬技術領域中具有通常知識者 而言為顯而易見。 申請人並非意圖將所揭示之任一實施形態貢獻給公 眾’所揭示之改變、替代案中’在申請專利範圍内文語上 或許未包含者亦作為均等論下之發明之一部分。 本說明書或申請範圍之揭示中，所使用之名詞及同樣 之心不語’只要不特別指示、或只要不依照文脈被明瞭否 又，應解釋為包含單數及複數兩者。本說明書中所提供 例不或例示之用語（例如「等」）之使用亦只是意圖容易 说明本發明，只要不特別揭示於申請範圍，不對本發明之 範圍加以限制。 【圖式簡單說明】 ^圖1係表示實施形態之邊緣部加工室之說明圖。圖丨（A) 係前視圖，圖！（B)係圖1(A)中之A_a方向視圖（俯視圖）， 37 201210747 圖1 (c)係表示結構之示意圖。 圖2係表示實施形態之邊緣部 I加工至之說明圖。圖2(A) 係插入被加工物時之俯視圖，圖2(b)係圖Μ)中之Μ線 剖面圖’ ® 2(C)係圖2(B)中之開口端部之放大圖。 圖3係表示實施形態之邊緣部加工用喷砂加工喷嘴之 配置狀態之說明圖，3⑷係表示對被加工物以9〇。配置時 之示意圖’圖3(B)係表示對被加卫物以^之角度傾斜配置 時之示意圖。 圖4係表示實施形態之邊緣部加工室之導引部之說明 圖。圖4(A)係俯視圖，圖4(B)係圖4(A)中之A_A線剖面圖， 圖4(C)係圖4(B)中之開口端部之放大圓。 圖5係表示實施形態之内側部加工室之說明圖。圖5(a) 係前視圖，圖5(B)係圖5(A)中之Α·Α線視圖（俯視圖），圖 5(C)係圖5(A)中之Β-Β線視圖（右側視圓），圖5(D)係圖5(c) 中之開口端部之放大圖。 圖6係表示實施形態之内側部加工用喷砂加工喷嘴之 配置狀態之s兒明圖。圖6(A)係表示對被加工物以9〇。配置時 之不意圖’圖6(B)係表示對被加工物以θ b之角度傾斜配置 時之示意圖’圖6(C)係表示内側部加工用喷砂加工喷嘴之 配置例之示意圖。 圖7係表示實施形態之内側部加工室之輔助吸引手段 之說明圖。圖7(A)係俯視圖，圖7(B)係圖7(A)中之A-A線 剖面圖。 係表示實施形態之内側部加工室中之導引部之說 38 201210747 明圖。圖8(A)係俯視圖’圖8(B)係圖8(A)中之α·α線剖面 圖’圖8(C)係圖8(B)中之開口端部之放大圖。 圖9係表示貫施形態之邊緣部加工用清淨室之說明 圖。圖9(A)係前視圖，圖9(B)係圖9(A)中之Α-Α線視圖（俯 視圖），圖9(C)係圖9(B)中之β·β線剖面圖，圖9(D)係圖 9(C)中之開口端部之放大圖。 圖10係表示實施形態之邊緣部加工用清淨室之導引部 之說明圖。圖10(A)係前視圖，圖ι〇(Β)係圖ι〇(Α)中之α_α 線剖面圖’圖10(C)係圖10(B)中之開口端部之放大圖。 圖1 1係表示將清淨室鄰接於實施形態之邊緣部加工室 及内側部加工室之狀態之說明圖。圖1丨（Α)係表示將邊緣部 加工用清淨室鄰接邊緣部加工室之狀態之示意圖（邊緣部加 工單元），圖1 1 (B)係表示將内側部加工用清淨室鄰接於内 側部加工室之狀態之示意圖（内側部加工單元）。 圖12係表示實施形態之喷砂加工喷嘴之說明圖。圖 12(A)係前視圖’圖12(B)係圖^(八）中之a_a線視圖，圖 12(C)係圖12(A)中之B-B線視圖，圖12(D)係圖12(A)中之 C - C線剖面圖。 圖13係實施形態之喷砂加工喷嘴之喷射口（開口部）與 被加工物之位置關係說明圖。圖13(A)、（B)係於被加工物 之被加工邊以外之平行之2邊之上方配置喷砂加工噴嘴（邊 緣部加工用）之示意圖，圖13(C)、（D)係於1對噴砂加工噴 嘴（邊緣部加工用）之中心配置1個喷砂加工喷嘴（内側部加 工用）之示意圖。 39 201210747 圖14係表示實施形態之裝置結構之說明圖。圖1 4(A) 係前視圖，圖14(B)係圖14(A)中之A-A線剖面圖，圖14(C) 係圖14(A)中之B-B線視圖，圖14(D)係圖14(B)中之C-C 線剖面圖。 圖1 5係表示實施形態之加工步驟之說明圖。 圖1 6係用以說明實施例之說明圖。 【主要元件符號說明】 01 加工裝置 10 邊緣部加工室 11 飛散防止罩（邊緣部加工用） 11a 凸緣部 lib 開口端部 11c 導引部 12 吸引罩（邊緣部加工用） 12a 凸緣部 12b 開口端部 12c 導引部 13 吸引構件（邊緣部加工用） 14 連結構件 15 喷砂加工用喷嘴（邊緣部加工用） 15a 喷射口 15b 空氣喷嘴 15c 喷嘴本體 15d 喷射部 40 201210747 15e 混合室 20 清淨室 22 吸引罩（清淨用） 22b 開口端部 22c 導引部 23 吸引構件（清淨用） 25 送風喷嘴 30 内側部加工室 32 吸引罩（内側部加工用） 32b 開口端部 32c 導引部 33 吸引構件（内側部加工用） 35 喷砂加工用喷嘴（内側部加工用） 35a 喷射口 36 輔助吸引構件 51 搬運手段 5 1 A 搬入手段 51B 搬出手段 51a 搬運滚輪 5 1b 軸 52 移送手段 52a 台 52b 定位手段 52c 旋轉手段 41 201210747 52d 53a 53b 60 61 61a 61c 62 65 66 66a 66c 67 70 70a W Wc SA、 移動手段 搬運方向側設定構件 加工邊側設定構件 加工單元 邊緣部加工單元 臂（邊緣部加工用） 連結構件（邊緣部加工用） 清淨室（邊緣部加工用） 對位手段 内側部加工單元 臂（内側部加工用） 連結構件（内側部加工用） 清淨室（内側部加工用） 外罩 開口部 被加工物 被加工物（藉由切斷所獲得） sal、sa2、sbl、scl 空隙 假想線 42