KR20220101963A

KR20220101963A - 용접 지그 마이크로 클리닝 장치

Info

Publication number: KR20220101963A
Application number: KR1020210004088A
Authority: KR
Inventors: 곽동훈; 양준석
Original assignee: 주식회사 엘지에너지솔루션
Priority date: 2021-01-12
Filing date: 2021-01-12
Publication date: 2022-07-19
Also published as: EP4108371A1; EP4108371A4; US20230142000A1; WO2022154351A1; CN115427180A

Abstract

본원발명은 용접 지그 마이크로 클리닝 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하우징(100), 상기 하우징에 연결되는 샌드박스(200), 상기 샌드박스와 호스를 통해 연결되는 에어 공급부(300), 상기 하우징 내부에 위치하는 블라스팅 건(500), 상기 지그 블라스팅 건(500)의 하단에 위치하는 지그 고정부(600) 및 제어부(400)를 포함하고, 상기 지그 고정부(600)는 용접 지그(700)를 고정시키는 자성유닛(640)을 포함하는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치에 관한 것이다.

Description

용접 지그 마이크로 클리닝 장치{Welding jig micro cleaning device}

본원발명은 용접 지그 마이크로 클리닝 장치에 관한 것이다. 구체적으로 마이크로 블라스터를 이용하여 레이저 용접 지그를 클리닝할 수 있는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치에 관한 것이다.

휴대폰, 노트북 컴퓨터, 웨어러블 디바이스 등 전자기기 또는 전기자동차 등의 에너지원으로서 이차전지에 대한 수요가 증가하고 있다. 이차전지는 전극의 종류에 따라 니켈-카드뮴 이차전지, 니켈-수소 이차전지, 리튬 이차전지 등으로 분류되는데, 높은 작동 전압, 단위 중량당 고에너지 밀도를 갖는 장점을 갖는 리튬 이차전지에 대한 연구 개발이 활발히 진행되고 있다.

상기 리튬 이차전지는 전지케이스의 형상에 따라, 전극조립체가 금속 캔에 내장되는 각형 이차전지 및 원통형 이차전지와 전극조립체가 알루미늄 라미네이트 시트로 이루어진 파우치 케이스에 내장되어 있는 파우치형 이차전지로 분류된다.

이차전지 배터리 셀은 세퍼레이터를 사이에 둔 음극 및 양극 모두를 적층 또는 권취하여 얻어진 전극조립체가 케이스 내부에 수납되고, 전극조립체로부터 돌출되는 전극탭은 전극리드와 서로 연결된다. 전극탭과 전극리드는 레이저 용접 혹은 초음파 용접을 통하여 서로 연결되고, 일반적으로 전극탭과 전극리드를 용접용 지그 위에 고정하여 용접부위에 대한 용접 작업을 수행한다. 그러나 전극리드와 전극탭의 초음파 용접 시 용접부로부터 스패터(spatter)와 같은 이물질이 발생하며, 이러한 이물질은 용접용 지그에 부착되어 전극탭과 전극리드의 용접 품질을 저하시키는 문제가 있다.

한편, 특허문헌 1은 용접 노즐 클리닝 장치로 본체 프레임부; 상기 본체 프레임부에 결합되는 에어 공급부; 상기 에어 공급부로부터 공급되는 에어가 이동되는 호스부; 상기 본체 프레임부에 결합되고, 노즐이 투입되도록 일측에 개방부가 형성되며, 상기 호스부가 관통 결합되는 회수부의 구성을 개시하였으나, 용접 지그를 클리닝하기 위한 마이크로 블라스터에 대한 구성은 개시되지 않고 있다.

대한민국 등록특허공보 10-1988335호 ('특허문헌 1')

본원발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로서, 마이크로 블라스터를 이용하여 용접 지그에 부착되어 있는 스패터 등 오염물질들을 제거하여 용접품질을 향상시키는 것을 목적으로 한다.

또한 본원발명의 또 다른 목적은, 신규한 용접 지그 장착 구조에 의해 용접 지그 클리닝 작업을 간소화 하고 클리닝 효율을 향상시키는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치를 제공하는 것이다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치는 하우징(100), 상기 하우징에 연결되는 샌드박스(200), 상기 샌드박스와 호스를 통해 연결되는 에어 공급부(300), 상기 하우징 내부에 위치하는 블라스팅 건(500), 상기 지그 블라스팅 건(500)의 하단에 위치하는 지그 고정부(600) 및 제어부(400)를 포함하고, 상기 지그 고정부(600)는 용접 지그(700)를 고정시키는 자성유닛(640)을 포함할 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 상기 지그 고정부(600)는 상기 블라스팅 건(500)의 하단에서 수평 이동이 가능한 슬라이딩 유닛(620)을 포함할 수 있다.

또한 본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 상기 슬라이딩 유닛(620)은 수평방향에서 소정각도로 회전할 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치는 블라스팅 건(500)의 끝단에는 블라스팅 건 입구(510)를 포함하고, 상기 블라스팅 건 입구(510)는 토출구(511)과 흡입구(512)를 포함할 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치는 상기 블라스팅 건 입구(510)에는 밀폐부(560)를 포함할 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 상기 밀폐부(560)는 지그 고정부(600)의 다이(610)와 밀착하여 용접 지그(700)를 내부 공간에 위치 시킬 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 상기 밀폐부(560)는 탄성재질로 형성될 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 상기 블라스팅 건(500)은 이동부와 연결되어 상하 이동이 가능하다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 상기 샌드박스(200)와 에어 공급부(300)는 제어부(400)에 의해 에어와 샌드 공급량을 조절할 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 상기 하우징(100)은 하우징 도어(110)를 포함하고, 상기 하우징 도어(110)는 관찰 창구(120)를 포함할 수 있다.

본원발명은 상기와 같은 구성들 중 상충되지 않는 구성을 하나 또는 둘 이상 택하여 조합할 수 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치는 레이저 용접 공정에서 용접 지그에 부착되는 스패터와 같은 오염물질을 제거할 수 있어 레어지 용접 품질을 향상 시킬 수 있다.

본원발명에 따른 지그 고정부의 수평 이동 및 상하 회전으로 용접 지그에 대한 클리닝 효과를 향상 시킬 수 있는 이점이 있다.

본원발명에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치는 밀폐된 하우징 내에서 위치함으로 클리닝 작업에 따른 이차오염을 방지할 수 있다.

도 1은 본원발명의 일 실시예에 따른 배터리 셀의 모식도이다.
도 2는 본원발명의 일 실시예에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치 외형 사시도이다.
도 3은 본원발명의 일 실시예에 따른 도 2의 하우징 내부에 위치하는 마이크로 클리닝 장치 모식도이다.
도 4는 본원발명의 일 실시예에 따른 블라스팅 건 개요도이다.

본 출원에서 "포함한다", "가지다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

또한, 도면 전체에 걸쳐 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용한다. 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 연결되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고, 간접적으로 연결되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 포함한다는 것은 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라, 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

이하, 본원발명에 따른 마이크로 클리닝 장치에 관하여 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다.

도 1은 본원발명의 일 실시예에 따른 배터리 셀의 모식도이다.

도 1을 참조하여 본원발명의 일 실시예에 따른 배터리 셀(10) 파우치형 이차전지다. 배터리 셀(1)은 전지 케이스(10), 전극조립체(20), 전극리드(30), 절연 테이프(40) 및 전극탭(50)을 포함할 수 있다.

전지케이스(10)는 상기 배터리 셀(1)의 외관을 형성하고, 후술하는 전극조립체(20), 전극리드(30) 및 전극탭 (50)을 내부에 패키징할 수 있다. 상기 전지케이스(10)는 알루미늄 파우치 형태로 구성될 수 있고, 이러한 상기 알루미늄 파우치에는 폴리머재질의 절연층과 접착층 사이에 알루미 늄 박막이 개재될 수 있다.

상기 전극조립체(20)는 상기 전지케이스(10) 내부에 수용되며, 양극판, 음극판 및 세퍼레이터 등으로 구성될 수 있다. 상기 전극조립체(20)의 전극판들 (양극판들, 음극판들)은 전극집전체에 활물질 슬러리를 도포한 구조로 형성될 수 있다. 상기 활물질 슬러리는 통상적으로 입상의 활물질, 보조 도체, 바인더 및 가소제 등에 용매를 첨가한 상태에서 교반되어 형성될 수 있다. 그리고, 각각의 전극판에는 상기 활물질 슬러리가 도포되지 않는 무지부가 존재할 수 있으며, 이러한 상기 무지 부에는 각각의 전극판에 대응되는 후술하는 전극탭 (50)이 형성될 수 있다.

상기 전극리드(30)는 상기 전극조립체(20)와 전기적으로 연결되며, 상기 전기 케이스(10) 밖으로 돌출될 수 있다. 이러한 상기 전극리드(30)는 한쌍으로 구비되며, 상기 한쌍의 전극리드들(30)은 양극리드 및 음극리드로 이루어 질 수 있다.

이러한 상기 한쌍의 전극리드들(30)은 상기 전극조립체(20)와 연결되며, 상기 전지케이스(10)의 동일 방향 또는 양방향에서 각각 상기 전지케이스(10) 밖으로 돌출될 수 있다.

상기 절연테이프(40)는 상기 전극리드(30)의 개수에 대응되게 구비 될 수 있다. 이에 따라, 본 실시 예에서, 상기 절연테이프(40)는 한 쌍으로 구비 될 수 있다.

상기 한쌍의 절연테이프들(40)은 상기 전지케이스(10)와 상기 전극리드(30) 사이에서의 단락 발생을 방지하고 상기 전지케이스(10)의 밀봉력을 향상시킬 수 있다.

상기 전극탭(50)은 상기 전극리드(30)와 상기 전극조립체(20)를 연결할 수 있게 상기 전극조립체 (20)로부터 돌출될 수 있다. 여기서, 상기 전극탭(50)은 양극탭과 음극탭으로 구성되며, 각각, 상 기 전극조립체(20)로부터 돌출되도록 형성될 수 있다. 즉, 상기 양극탭은 상기 전극조립체(20)의 양극판으로부터 돌출되도록 형성되며, 상기 음극탭은 상기 전극조립체(20)의 음극판으로부터 돌출되도록 형성 될 수 있다.

상기 전극탭(50)의 상기 양극탭 및 상기 음극탭은 각각 복수개로 구비될 수 있다. 이 경우, 상기 복수개의 양극 탭들은 상기 전극리드(30) 중 양극리드에 연결 될 수 있으며, 상기 복수개의 음극 탭들은 상기 전극리드(30) 중 음극리드에 연결 될 수 있다.

이러한 상기 전극탭(50)은 상기 전극리드(30)와 레이저 용접을 통해 결합될 수 있다. 상기 레이 저용접은 초음파 용접, 즉, 종래 메인 초음파 용접에 비해 우수한 용접 강도를 가지며, 상기 메 인 초음파 용접에서 요구되는 상당한 크기의 용접 너비를 요구하지 않는다. 또한, 상기 레이저 용 접에서는 상기 용접시 상기 종래 메인 초음파 용접과 달리 설비의 마모나 휨 및 상기 전극탭 (50) 의 소착 등의 문제가 발생되지 않는다.

또한 레이저 용접을 위해 상기 전극리드(30) 및 상기 전극탭(50)은 용접 지그에 의해 고정 지지될 수 있다. 레이저 용접 과정에서 생성되는 스패터와 같은 오염물질은 용접지그에 부착되어 전극리드(30)와 전극탭(50)의 용접 불량을 초래한다.

도 2는 본원발명의 일 실시예에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치 외형 사시도이고, 도 3은 본원발명의 일 실시예에 따른 도 2의 하우징 내부에 위치하는 마이크로 클리닝 장치 모식도이며, 도 4는 본원발명의 일 실시예에 따른 블라스팅 건 개요도이다.

도 2 내지 도 4를 참조하면 본원발명의 일 실시예에 따른 용접 지그 마이크로 클리닝 장치는 하우징(100), 샌드박스(200), 에어 공급부(300), 제어부(400) 및 상기 하우징(100) 내부에 위치하는 지그 고정 유닛(500)과 블라스팅 건(600)을 포함할 수 있다.

먼저 하우징(100)에 관해서 구체적으로 설명하면, 용접 지그 마이크로 클리닝 장치의 외관을 이루는 부분이다. 하우징(100)은 내부 공간이 비어 있는 6면체 형상으로 이루어질 수 있다. 하우징(100)의 전단의 상부 측에는 하우징 도어(110)가 위치할 수 있다. 하우징 도어(110)는 하우징의(100)의 전면 상부와 하우징 상단의 일부를 개폐 가능하게 마련될 수 있다. 하우징 도어(110)를 개방한 후 후술 용접 지그(700)를 하우징 내부에 위치하는 지그 고정 유닛(500)에 장착 하거나, 지그 고정 유닛(500)에 장착된 용접 지그(700)를 외부로 꺼낼 수 있다. 하우징 도어(110)는 수동으로 개폐하거나, 필요에 따라 자동 제어 시스템을 연결하여 개폐 가능하게 마련될 수 있다. 하우징 도어(110)의 테두리와 하우징(100)의 밀착부에는 실링수단이 구비되어 하우징 내부를 밀폐하여 클리닝 작업 중 분산되는 오염물질 샌드 및 기타 오염물질이 외부로 배출되는 것을 방지할 수 있다.

하우징 도어(110)의 전면(xz 면)에는 관찰 창구(120)가 마련될 수 있다. 관찰 창구(120)를 통해 하우징(100)의 내부에서 용접 지그(700) 클리닝 작업 상황을 관찰할 수 있다.

이어서 샌드 박스(200)와 에어 공급부(300)에 관해서 구체적으로 설명하면 아래와 같다.

샌드 박스(200)는 하우징(100)의 상부에 위치하고, 샌드 박스(200)와 연결되어 에어 공급부(300)가 위치할 수 있다. 샌드 박스(200)는 대략적으로 원기둥 형태거나 육면체의 형태일 수 있으며, 내부 공간에 샌드를 수용할 수 있고 기타 필요한 부재들 수용이 가능하다면 그 형태는 특히 한정되지 않는다.

에어 공급부(300)은 에어 컴프레셔 일 수 있다. 에어 공급부(300)에 공급되는 압축공기는 압축공기 공급 호스(미도시)를 통해 샌드 박스(200)에 공급될 수 있다. 압축공기 공급 호스에는 압축공기 분기 수단(미도시), 차단밸브(미도시), 압력 조절 밸브(미도시) 및 유량 조절 밸브(미도시)가 배치될 수 있다. 상기 압축공기 분기 수단을 통해 에어 공급부(300)에서 공급되는 압축공기는 샌드 박스(200) 및 기타 후단 설비에 공급 될 수 있다.

에어 공급부(300)에서 공급되는 압축공기의 일부인 제1압축공기(미도시)는 연결관(미도시)을 통해 샌드 박스(200)에 공급되어 샌드와 혼합될 수 있다.

샌드 박스(200)의 하단부에는 샌드와 공기 배출구(미도시)가 위치하고, 상기 공기 배출구에는 3방 밸브(미도시)가 위치할 수 있다. 상기 3방 밸브의 제1 구멍으로 샌드 박스(200)의 내부에서 혼합된 샌드와 공기가 유입되고, 상기 3방 밸브의 제2 구멍으로는 에어 공급부(300)에서 공급되는 압축공기인 제2압축공기(미도시)가 유입될 수 있다. 상기 제2 구멍으로 유입되는 압축공기와 상기 제1 구멍으로 유입되는 혼합된 샌드 및 공기와 함께 상기 3방 밸브의 제3 구멍으로 배출될 수 있다. 여기서 상기 제3 구멍은 공급호스(530)와 연결되어 블라스팅 건(500)에 샌드 박스(200)로 공급되는 샌드를 이송시킬 수 있다. 공급호스(530)로 공급되는 샌드의 양과 유속은 상기 제1 압축공기와 상기 제2 압축공기로 조절 할 수 있고, 상기 제1 압축공기와 상기 제2압축공기 이송 라인에는 조절밸브(미도시)가 장착되어 압축공기 유량을 조절할 수 있다.

이어서 제어부(400)에 관해 설명한다.

본원발명에 따른 제어부(400)는 하우징(100)의 측면에 연결되어 위치할 수 있다. 제어부(400)에는 에어 공급부(300)의 구동, 압축공기 유량 조절을 위한 조절밸브(미도시)의 제어, 후술 블라스팅 건(500)의 지지부(550)의 상하 이동 제어, 자성부의 온 및 오프, 후술 슬라이딩 유닛(620)의 수평 이동 및 회전 등을 제어할 수 있다.

다음은 블라스팅 건(500)에 관해 설명하기로 한다.

본원발명에서 샌드 박스(200)의 하단에 위치하는 상기 3방 밸브의 상기 제3 구멍과 연결된 공급호스(610)은 블라스팅 건(500)과 연결되어 상기 3방 밸브의 상기 제3 구멍에서 배출되는 샌드와 압력공기를 블라스팅 건(500)에 공급한다. 공급호스(530)과 소정거리 이격하여 배출호스(520)이 위치하고 공급호스(530)과 배출호스(520)는 바디부(540)를 관통하여 바디부(540)와 연결된다. 공급호스(530), 배출호스(520) 및 바디부(540) 내부에서 유체의 흐름은 후술에서 자세히 설명하기로 한다. 공급호스(530)를 통해 바디부(540) 내부에 유입된 샌드와 압축공기는 블라시팅 건 입구(510)를 통해 분사되면서 후술 용접 지그(700)에 부착된 오염물질을 제거한다. 공급호스(530), 배출호스(520)와 연결된 바디부(540)은 지지부(550)에 의해 하우징(100)의 측벽에 고정 될 수 있다. 또한 지지부(550)는 상하 이동이 가능하도록 제어부에 의해 제어될 수 있다. 지지부(550)는 수직이동 실린더(미도시) 결합되어 상하 이동할 수 있고, 수직이동 실린더는 제어부(400)에서 제어할 수 있다.

도4를 참조하여 블라스팅 건 입구(510)는 토출구(511)과 흡입구(512)를 포함할 수 있다. 토출구(511)는 바디부(540)를 관통하는 공급호스(530)가 바디부(540)의 내부 유로(미도시)의 끝단에 위치할 수 있다. 토출구(511)는 공급호스(530)에 공급되는 샌드와 압축공기를 하단에 배치되는 후술 용접 지그(700)에 분사하여 클리닝을 할 수 있다. 상기 바디부(540)의 내부 유로는 호스 혹은 스테인리스 관형일 수 있다. 바디부(540)의 격벽은 상기 바디부(540)의 내부 유로를 감싸면서 상기 내부 유로의 격벽과 이격되어 공간이 생성되어 외부 유로(미도시)가 형성된다. 바디부(540)의 격벽과 상기 내부 유로의 격벽 사이는 이격되어 블라스팅 건 입구(510) 측 끝단에서 흡입구(512)를 형성하고, 흡입구(512)는 토출구(511)의 둘레에 위치한다. 상기 외부 유로를 사이에 두고 흡입구(512)와 대향하여 바디부(540)의 격벽을 관통하여 배출 호스(520)이 연결된다. 토출구(511)을 통해 샌드와 압축공기가 분사되어 용접 지그(700)에 부착된 오염물질들을 클리닝하는 과정에서 분사된 샌드와 용접 지그(700)에서 탈리된 오염물질들은 흡입구(512)를 통해 흡입된다.

여기서 블라스팅 건 입구(510)의 둘레 외부 격벽에는 밀폐부(560)가 위치할 수 있다. 밀폐부(560)는 블라스팅 건 입구(510)의 둘레에 결합되어 바디부(540)에서 외부로 연장되어 형성될 수 있고, 후술 지그 고정부(600)에 장착된 용접 지그(700)를 내부에 수용할 수 있도록 구성된다.

밀폐부(560)의 끝단면은 후술 다이(610)의 상단면에 밀착될 수 있고, 상세하게는 실리콘 혹은 합성고무와 같은 탄성 재질로 구성될 수 있다. 이는 지그 고정부(600)를 좌우 혹은 상하 이동시 밀폐부(560)와 접촉하면서 용접 지그(700)에 장착된 용접 지그(700)에 가하는 스크레치 등 손상을 방지하기 위함이다. 또한 밀폐부(560)는 블라스팅 건 입구(510)의 둘레에 접착 등 방식으로 영구 고정되거나, 탈부착 수단에 의해 탈부착 가능하다. 여기서 밀폐부(560)가 후술 다이(610)과 밀착되는 끝단 단면에는 금속물질 코팅 될 수 있다. 이는 후술 자성유닛(640)에 의해 다이(610)와의 밀착도를 향상 시켜 제거된 스패터 등 오염물질 흡입에 유리하다.

다음은 지그 고정부(600)에 관해서 상세히 설명한다.

지그 고정부(600)는 블라스팅 건(500)의 하부에 위치하고, 다이(610), 슬라이딩 유닛(620), 슬라이딩 슬릿(630) 및 자성 유닛(640)을 포함할 수 있다. 용접 지그(700)는 다이(610)의 상단에 위치하여 블라스팅 건(500)의 토출구(510)에서 분사되는 샌드 및 압축공기에 의해 클리닝 된다. 다이(610)는 플레이트 형상일 수 있다. 다이(610)에는 자성유닛(640)이 위치하여 용접 지그(700)를 고정하여 클리닝 과정에서 용접 지그(700)의 이탈 혹은 위치 이동을 방지할 수 있다. 자성유닛(640)은 영구자석 또는 전자석으로 구성될 수 있다. 전자석으로 구성될 경우 온오프 레버(미도시)를 구비될 수 있다. 상기 온오프 레버의 조작에 의해 자성유닛(640)은 자성을 갖거나 혹은 소멸될 수 있고, 자력의 제어할 수 있기에 본원발명에서의 자성유닛(640)은 전자석으로 구성되는 것이 바람직하다.

다이(610)는 슬라이딩 유닛(620)과 연결되었고, 슬라이딩 유닛(620)은 하우징(100)의 격벽에 형성되어 있는 슬라이딩 슬릿(630)을 관통하여 후단 슬라이딩 구동부(미도시)와 연결될 수 있다. 상기 슬라이딩 구동부의 조작에 의해 슬라이딩 유닛(620)은 수평방향에서 좌우로 이동 가능하다. 다이(610) 상단에 용접 지그(700)를 장착 한 후, 슬라이딩 유닛(620)의 작동에 의해 용접 지그(700)를 블라스팅 건 입구(510)의 하단으로 이동 시켜 클리닝 작업을 진행 할 수 있다.

또한 슬라이딩 유닛(620)에 마련되어 다이(610)를 소정각도 회전가능하게 하는 힌지결합부(미도시)를 포함할 수 있다. 이는 용접 지그(700)의 배치 각도를 조절하여 용접 지그(700)의 굴곡진 부분의 오염물질 클리닝을 효과적으로 진행하는데 유리하다.

이상으로 본원발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시 양태일 뿐이며, 이에 의해 본원발명의 범위가 제한되는 것은 아니며, 본원발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연하다.

1: 배터리 셀
10: 전지 케이스
20: 전극조립체
30: 전극리드
40: 절연 테이프
50: 전극탭
100: 하우징
110: 하우징 도어
120: 관찰 창구
200: 샌드박스
300: 에어 공급부
400: 제어부
500: 블라스팅 건
510: 블라스팅 건 입구
511: 토출구
512: 흡입구
520: 배출 호스
530: 공급 호스
540: 바디부
550: 지지부
560: 밀폐부
600: 지그 고정부
610: 다이
620: 슬라이딩 유닛
630: 슬라이딩 슬릿
640: 자성유닛
700: 용접 지그

Claims

하우징(100);
상기 하우징에 연결되는 샌드박스(200);
상기 샌드박스와 호스를 통해 연결되는 에어 공급부(300);
상기 하우징 내부에 위치하는 블라스팅 건(500);
상기 지그 블라스팅 건(500)의 하단에 위치하는 지그 고정부(600); 및
제어부(400);를 포함하고,
상기 지그 고정부(600)는 용접 지그(700)를 고정시키는 자성유닛(640)을 포함하는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제1항에 있어서,
상기 지그 고정부(600)는 상기 블라스팅 건(500)의 하단에서 수평 이동이 가능한 슬라이딩 유닛(620)을 포함하는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제2항에 있어서,
상기 슬라이딩 유닛(620)은 수평방향에서 소정각도로 회전할 수 있는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제1항에 있어서,
블라스팅 건(500)의 끝단에는 블라스팅 건 입구(510)를 포함하고, 상기 블라스팅 건 입구(510)는 토출구(511)과 흡입구(512)를 포함하는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제4항에 있어서,
상기 블라스팅 건 입구(510)에는 밀폐부(560)를 포함하는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제5항에 있어서,
상기 밀폐부(560)는 지그 고정부(600)의 다이(610)와 밀착하여 용접 지그(700)를 내부 공간에 위치 시키 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제5항에 있어서,
상기 밀폐부(560)는 탄성재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제1항에 있어서,
상기 블라스팅 건(500)은 이동부와 연결되어 상하 이동이 가능한 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제1항에 있어서,
상기 샌드박스(200)와 에어 공급부(300)는 제어부(400)에 의해 에어와 샌드 공급량을 조절하는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.
제1항에 있어서,
상기 하우징(100)은 하우징 도어(110)를 포함하고, 상기 하우징 도어(110)는 관찰 창구(120)를 포함하는 것을 특징으로 하는 용접 지그 마이크로 클리닝 장치.