JPH0663866A - パウダービームエッチングとデポジションの方法及びその装置 - Google Patents
パウダービームエッチングとデポジションの方法及びその装置Info
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- JPH0663866A JPH0663866A JP21796392A JP21796392A JPH0663866A JP H0663866 A JPH0663866 A JP H0663866A JP 21796392 A JP21796392 A JP 21796392A JP 21796392 A JP21796392 A JP 21796392A JP H0663866 A JPH0663866 A JP H0663866A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】パウダーを気体中に均一に分散した固気２相混
合流を噴射口から高速噴射させ、被加工物の表面に均一
なエッチングとデポジションを施すことを目的とする。 【構成】固気２相混合流室体１の中心軸線９に垂直な軸
線１０方向には、前記固気２相混合流室体１に開口した
噴射口６と気体供給口３を対向する位置になるように設
け、その接線１１方向には、その混合流室体１に開口し
たパウダー供給口５を設けることにより、前記均一な固
気２相混合流１６を噴射口６から高速噴射して、被加工
物１３の表面にエッチングとデポジションを施すように
したものである。
合流を噴射口から高速噴射させ、被加工物の表面に均一
なエッチングとデポジションを施すことを目的とする。 【構成】固気２相混合流室体１の中心軸線９に垂直な軸
線１０方向には、前記固気２相混合流室体１に開口した
噴射口６と気体供給口３を対向する位置になるように設
け、その接線１１方向には、その混合流室体１に開口し
たパウダー供給口５を設けることにより、前記均一な固
気２相混合流１６を噴射口６から高速噴射して、被加工
物１３の表面にエッチングとデポジションを施すように
したものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パウダーを気体中に均
一に分散した固気２相混合流を噴射口からビーム状に高
速噴射して被加工物の表面にエッチングとデポジション
を施すようにしたパウダービームエッチングとデポジシ
ョンの方法及びその装置に関する。
一に分散した固気２相混合流を噴射口からビーム状に高
速噴射して被加工物の表面にエッチングとデポジション
を施すようにしたパウダービームエッチングとデポジシ
ョンの方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の噴射加工方法とその装置の一例と
してサンドブラスト法とその装置があり、その代表例を
図６を用いて説明する。図６はその正面断面図である。
してサンドブラスト法とその装置があり、その代表例を
図６を用いて説明する。図６はその正面断面図である。
【０００３】その方法としては、砥粒供給管５０から砥
粒を供給し、圧縮空気供給管５１から圧縮空気を供給す
ると、圧縮空気供給管５１の吸引ノズル５２の周辺部５
３には負圧が生じ、砥粒が吸引されて圧縮空気と混合さ
れ、噴射ノズルの噴射口５４から加速噴射され、被加工
物５５の表面を研磨、切断、溝穴加工、バリ取り、面取
り加工等を施している。
粒を供給し、圧縮空気供給管５１から圧縮空気を供給す
ると、圧縮空気供給管５１の吸引ノズル５２の周辺部５
３には負圧が生じ、砥粒が吸引されて圧縮空気と混合さ
れ、噴射ノズルの噴射口５４から加速噴射され、被加工
物５５の表面を研磨、切断、溝穴加工、バリ取り、面取
り加工等を施している。
【０００４】また、その装置は、砥粒を供給する砥粒供
給管５０と、圧縮空気を供給する圧縮空気供給管５１
と、その供給管５１の先端部に備えた吸引ノズル５２と
を設けて成り、その砥粒供給管５０に供給した砥粒と圧
縮空気供給管５１に供給した圧縮空気とを吸引ノズル５
２の周辺部５３で混合させ、噴射ノズルの噴射口５４か
ら被加工物５５の表面に高速噴射して、被加工物５５の
表面を研磨、切断、溝穴加工、バリ取り、面取り加工等
を施すようにしている。
給管５０と、圧縮空気を供給する圧縮空気供給管５１
と、その供給管５１の先端部に備えた吸引ノズル５２と
を設けて成り、その砥粒供給管５０に供給した砥粒と圧
縮空気供給管５１に供給した圧縮空気とを吸引ノズル５
２の周辺部５３で混合させ、噴射ノズルの噴射口５４か
ら被加工物５５の表面に高速噴射して、被加工物５５の
表面を研磨、切断、溝穴加工、バリ取り、面取り加工等
を施すようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来このようなサンド
ブラスト法及びその装置は、砥粒として１５〜数１００
μｍのものを使用している。このために噴射ノズルの噴
口５４からの噴射流は噴射ムラが多く、砥粒を均一に分
散させて被加工物５５の表面に高速噴射させることが困
難である。
ブラスト法及びその装置は、砥粒として１５〜数１００
μｍのものを使用している。このために噴射ノズルの噴
口５４からの噴射流は噴射ムラが多く、砥粒を均一に分
散させて被加工物５５の表面に高速噴射させることが困
難である。
【０００６】また、数μｍ以下の砥粒になると砥粒が互
いに帯電、凝集、付着し、安定な供給ができなくなり、
噴射ノズルの噴射口５４が詰まったり、あるいは圧縮空
気のみが、その噴射口５４から噴射される場合等があ
る。このために、被加工物５５の表面に均一に分散した
噴射流を高速噴射することができない。
いに帯電、凝集、付着し、安定な供給ができなくなり、
噴射ノズルの噴射口５４が詰まったり、あるいは圧縮空
気のみが、その噴射口５４から噴射される場合等があ
る。このために、被加工物５５の表面に均一に分散した
噴射流を高速噴射することができない。
【０００７】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
提案されたものであって、均一に分散した固気２相混合
流を被加工物の表面に高速噴射してエッチングを施すだ
けでなく、デポジションを施すことが可能なパウダービ
ームエッチングとデポジションの方法及びその装置を提
供することを目的とするものである。
提案されたものであって、均一に分散した固気２相混合
流を被加工物の表面に高速噴射してエッチングを施すだ
けでなく、デポジションを施すことが可能なパウダービ
ームエッチングとデポジションの方法及びその装置を提
供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、パウダーを含
む固気２相混合流を噴射ノズルから高速噴射して被加工
物の表面にエッチングとデポジションを施すようにした
ものであり、固気２相混合流室体の中心軸線に垂直な軸
線方向にはその固気２相混合流室体に開口した噴射口と
気体供給口を対向する位置になるように配設し、その接
線方向にはパウダー供給口を配設するようにして、均一
に分散した固気２相混合流を噴射口から高速噴射して被
加工物の表面にパウダービームエッチングとデポジショ
ンを施すようにしたものである。
む固気２相混合流を噴射ノズルから高速噴射して被加工
物の表面にエッチングとデポジションを施すようにした
ものであり、固気２相混合流室体の中心軸線に垂直な軸
線方向にはその固気２相混合流室体に開口した噴射口と
気体供給口を対向する位置になるように配設し、その接
線方向にはパウダー供給口を配設するようにして、均一
に分散した固気２相混合流を噴射口から高速噴射して被
加工物の表面にパウダービームエッチングとデポジショ
ンを施すようにしたものである。
【０００９】また、前記固気２相混合流室体を、その両
端を密閉した中空の円筒体で形成し、その固気２相混合
流室体に設けた噴射口、気体供給口、そしてパウダー供
給口を長方形で形成することにより、均一に分散した固
気２相混合流を噴射口から高速噴射して被加工物の表面
にパウダービームエッチングとデポジションを施すよう
にしたものである。
端を密閉した中空の円筒体で形成し、その固気２相混合
流室体に設けた噴射口、気体供給口、そしてパウダー供
給口を長方形で形成することにより、均一に分散した固
気２相混合流を噴射口から高速噴射して被加工物の表面
にパウダービームエッチングとデポジションを施すよう
にしたものである。
【００１０】
【作用】固気２相混合流室体内で、気体供給口から噴出
する気体噴流と、パウダー供給口から噴出するパウダー
を含む固気２相噴流を均一に混合させることにより、均
一に分散した固気２相混合流を生成することができる。
また、噴射口からその均一に分散した固気２相混合流を
被加工物の表面に高速噴射して、被加工物の表面に均一
なエッチングとデポジションを施すことができる。そし
て、高品質の表面構造、表面性状のエッチングとデポジ
ションを施すことができる。
する気体噴流と、パウダー供給口から噴出するパウダー
を含む固気２相噴流を均一に混合させることにより、均
一に分散した固気２相混合流を生成することができる。
また、噴射口からその均一に分散した固気２相混合流を
被加工物の表面に高速噴射して、被加工物の表面に均一
なエッチングとデポジションを施すことができる。そし
て、高品質の表面構造、表面性状のエッチングとデポジ
ションを施すことができる。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例に係わ
るパウダービームエッチングとデポジションの方法及び
その装置を図１〜図５を用いて説明する。図１は本発明
のパウダービームエッチングとデポジションの方法及び
その装置を説明するための平面図であり、図２は同正面
図、図３は同下面図、図４は同側面図でる。図５は図１
のＸ1 −Ｘ2 線上における断面図である。
るパウダービームエッチングとデポジションの方法及び
その装置を図１〜図５を用いて説明する。図１は本発明
のパウダービームエッチングとデポジションの方法及び
その装置を説明するための平面図であり、図２は同正面
図、図３は同下面図、図４は同側面図でる。図５は図１
のＸ1 −Ｘ2 線上における断面図である。
【００１２】この装置は図２、図５の図面上で、固気２
相混合流室体１の上側には気体供給管２が配設されてお
り、その先端部には固気２相混合流室体１に開口した気
体供給口３が配設されている。また、その左側にはパウ
ダー供給管４が配設されており、その先端部にはパウダ
ー供給口５が配設されている。そして、その下側には固
気２相混合流室体１に開口した噴射口６が配設されてい
る。
相混合流室体１の上側には気体供給管２が配設されてお
り、その先端部には固気２相混合流室体１に開口した気
体供給口３が配設されている。また、その左側にはパウ
ダー供給管４が配設されており、その先端部にはパウダ
ー供給口５が配設されている。そして、その下側には固
気２相混合流室体１に開口した噴射口６が配設されてい
る。
【００１３】このような上記の構成を具現化させるため
に、一実施例では、図１、図３、図４に示すように、管
路体７と管路蓋８とを図示しない治具を用いて接合さ
せ、一体構造を成している。尚、この管路体７と管路蓋
８の材料としては、Ａｌ2 Ｏ3等のセラミックス材料、
ステンレス鋼等の金属材料を用いた。
に、一実施例では、図１、図３、図４に示すように、管
路体７と管路蓋８とを図示しない治具を用いて接合さ
せ、一体構造を成している。尚、この管路体７と管路蓋
８の材料としては、Ａｌ2 Ｏ3等のセラミックス材料、
ステンレス鋼等の金属材料を用いた。
【００１４】前記固気２相混合流室体１は、中空の円筒
体で形成されており、その内径Ｄ＝１０ｍｍ程度、その
長さＬ1 ＝１０〜２０ｍｍの寸法になっている。また、
その固気２相混合流室体１の中に軸線９に垂直な軸線１
０上には固気２相混合流室体１に開口した気体供給口３
と噴射口６とが対向した位置になるように設けられてい
る。
体で形成されており、その内径Ｄ＝１０ｍｍ程度、その
長さＬ1 ＝１０〜２０ｍｍの寸法になっている。また、
その固気２相混合流室体１の中に軸線９に垂直な軸線１
０上には固気２相混合流室体１に開口した気体供給口３
と噴射口６とが対向した位置になるように設けられてい
る。
【００１５】そして、気体供給口３と噴射口６は、長方
形で形成されており、固気２相混合流室体１の中心軸線
９方向にその長方形の長手方向が位置するように形成さ
れている。ここでは気体供給口３と噴射口６は同一なる
寸法とし、その長辺Ｌ2 ＝１０〜２０ｍｍ、その短辺Ｌ
3 ＝０．１〜１ｍｍの寸法になっている。それから固気
２相混合流室体１の接線方向にはその固気２相混合流室
体１に開口したパウダー供給口５が設けられている。
形で形成されており、固気２相混合流室体１の中心軸線
９方向にその長方形の長手方向が位置するように形成さ
れている。ここでは気体供給口３と噴射口６は同一なる
寸法とし、その長辺Ｌ2 ＝１０〜２０ｍｍ、その短辺Ｌ
3 ＝０．１〜１ｍｍの寸法になっている。それから固気
２相混合流室体１の接線方向にはその固気２相混合流室
体１に開口したパウダー供給口５が設けられている。
【００１６】そして、パウダー供給口５は長方形で形成
されており、固気２相混合流室体１の中心軸線９方向に
その長方形の長手方向が位置するように形成されてい
る。ここではその長辺Ｌ4 ＝１０〜２０ｍｍ、その短辺
Ｌ5 ＝０．１〜１ｍｍの寸法になっている。この長辺Ｌ
4 は、前記気体供給口３と噴射口６の長辺Ｌ2 と同一寸
法になっている。また、気体供給管２とパウダー供給管
４の断面形状も前記気体供給口３とパウダー供給口５の
形状と同じように長方形で形成されている。
されており、固気２相混合流室体１の中心軸線９方向に
その長方形の長手方向が位置するように形成されてい
る。ここではその長辺Ｌ4 ＝１０〜２０ｍｍ、その短辺
Ｌ5 ＝０．１〜１ｍｍの寸法になっている。この長辺Ｌ
4 は、前記気体供給口３と噴射口６の長辺Ｌ2 と同一寸
法になっている。また、気体供給管２とパウダー供給管
４の断面形状も前記気体供給口３とパウダー供給口５の
形状と同じように長方形で形成されている。
【００１７】そして、図２及び図５の図面上で、噴射口
６の下部には被加工物取付台１２に載置された被加工物
１３の表面がその噴射口６に対向する位置になるように
配置されている。ここで、被加工物取付台１２は、図示
しない可動装置により、図面上で、前後左右上下方向に
移動可能であり、被加工物１３の表面がその噴射口６に
対して所定の位置になるように構成されている。
６の下部には被加工物取付台１２に載置された被加工物
１３の表面がその噴射口６に対向する位置になるように
配置されている。ここで、被加工物取付台１２は、図示
しない可動装置により、図面上で、前後左右上下方向に
移動可能であり、被加工物１３の表面がその噴射口６に
対して所定の位置になるように構成されている。
【００１８】次に、このような構成による動作を説明す
る。まず、気体供給管２には１〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の高
圧気体１４、例えば空気、ドライ窒素等を供給する。ま
た、パウダー供給管４にはパウダーを含む固気２相流１
５を供給する。この固気２相流１５に用いる気体として
は高圧気体１４と同様に空気、ドライ窒素等を用い、そ
の圧力としては１〜１．３ｋｇ／ｃｍ2 とした。また、
パウダーとしは被加工物１３の表面にエッチングを施す
場合には、１〜１５μｍの粒径のＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＣ等
を用いるようにし、デポジションを施す場合には、０．
０１〜１μｍの粒径のＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、
Ｓｉ3 Ｎ4 等を用いた。
る。まず、気体供給管２には１〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の高
圧気体１４、例えば空気、ドライ窒素等を供給する。ま
た、パウダー供給管４にはパウダーを含む固気２相流１
５を供給する。この固気２相流１５に用いる気体として
は高圧気体１４と同様に空気、ドライ窒素等を用い、そ
の圧力としては１〜１．３ｋｇ／ｃｍ2 とした。また、
パウダーとしは被加工物１３の表面にエッチングを施す
場合には、１〜１５μｍの粒径のＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＣ等
を用いるようにし、デポジションを施す場合には、０．
０１〜１μｍの粒径のＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、
Ｓｉ3 Ｎ4 等を用いた。
【００１９】そこで、気体供給管２に供給された高圧気
体１４には気体供給口３から固気２相混合流室体１内へ
気体噴流となって噴出し、パウダー供給管４に供給され
たパウダーを含む固気２相流１５は、パウダー供給口か
らその固気２相混合流室体１内へ固気２相噴流となって
噴出する。
体１４には気体供給口３から固気２相混合流室体１内へ
気体噴流となって噴出し、パウダー供給管４に供給され
たパウダーを含む固気２相流１５は、パウダー供給口か
らその固気２相混合流室体１内へ固気２相噴流となって
噴出する。
【００２０】この固気２相混合流室体１内では前記気体
噴流と固気２相噴流が均一に混合されて固気２相混合流
１６が生成される。ここでは、気体供給口３とパウダー
供給口５を前記加工条件のような長方形で形成すること
により、それらの噴流圧力分布が固気２相混合室体１内
でその中心軸線９方向に均一な圧力分布状態となる。こ
のために高圧気体１４と固気２相流１５の均一に分散し
た固気２相混合流１６を生成することができる。
噴流と固気２相噴流が均一に混合されて固気２相混合流
１６が生成される。ここでは、気体供給口３とパウダー
供給口５を前記加工条件のような長方形で形成すること
により、それらの噴流圧力分布が固気２相混合室体１内
でその中心軸線９方向に均一な圧力分布状態となる。こ
のために高圧気体１４と固気２相流１５の均一に分散し
た固気２相混合流１６を生成することができる。
【００２１】このようにして均一に分散した固気２相混
合流１６を固気２相混合流室体１の下部に開口した噴射
口６からビーム状に高速噴射して被加工物１３の表面に
エッチングとデポジションを施すことができる。
合流１６を固気２相混合流室体１の下部に開口した噴射
口６からビーム状に高速噴射して被加工物１３の表面に
エッチングとデポジションを施すことができる。
【００２２】図２及び図５は被加工物１３の表面に薄膜
１７を形成するためにデポジションを施したパウダービ
ームデポジションの方法とその装置を説明した図である
が、パウダービームエッチングの場合にも、図面は省略
するが、前記のエッチング条件を与えることにより、被
加工物１３を研磨、切断、溝穴加工、面取り加工等の微
細加工を行うことができる。
１７を形成するためにデポジションを施したパウダービ
ームデポジションの方法とその装置を説明した図である
が、パウダービームエッチングの場合にも、図面は省略
するが、前記のエッチング条件を与えることにより、被
加工物１３を研磨、切断、溝穴加工、面取り加工等の微
細加工を行うことができる。
【００２３】また、被加工物１３の表面をエッチングす
る場合には、固気２相混合流１６の流速は３０〜８０ｍ
／ｓとし、デポジションする場合には、流速は８０〜１
２０ｍ／ｓとする。そして、被加工物１３の材料として
は一実施例では、オーディオ・ビデオ機器の微小機構等
に利用するアルミニウム材料を用いた。
る場合には、固気２相混合流１６の流速は３０〜８０ｍ
／ｓとし、デポジションする場合には、流速は８０〜１
２０ｍ／ｓとする。そして、被加工物１３の材料として
は一実施例では、オーディオ・ビデオ機器の微小機構等
に利用するアルミニウム材料を用いた。
【００２４】
【発明の効果】以上のように、本発明は、固気２相混合
流室体内で気体噴流と固気２相噴流の圧力分布を、その
固気２相混合流室体の中心軸線方向に均一に形成するの
で、高圧気体とパウダーを含む固気２相流の均一に分散
した固気２相混合流を生成させることができる。このた
め、その固気２相混合流室体に設けた噴射口から前記均
一に分散した固気２相混合流を高速噴射して被加工物の
表面にエッチングとデポジションを施すことが可能とな
り、均一な表面構造、表面性状の微細加工、成膜加工が
可能となる。
流室体内で気体噴流と固気２相噴流の圧力分布を、その
固気２相混合流室体の中心軸線方向に均一に形成するの
で、高圧気体とパウダーを含む固気２相流の均一に分散
した固気２相混合流を生成させることができる。このた
め、その固気２相混合流室体に設けた噴射口から前記均
一に分散した固気２相混合流を高速噴射して被加工物の
表面にエッチングとデポジションを施すことが可能とな
り、均一な表面構造、表面性状の微細加工、成膜加工が
可能となる。
【図１】本発明のパウダービームエッチングとデポジシ
ョンの方法及びその装置を説明するための平面図であ
る。
ョンの方法及びその装置を説明するための平面図であ
る。
【図２】同正面図である。
【図３】同下面図である。
【図４】同側面図である。
【図５】図１のＸ1 −Ｘ2 線上における断面図である。
【図６】従来の噴射加工方法とその装置を説明するため
の正面断面図である。
の正面断面図である。
１ 固気２相混合流室体 ２ 気体供給管 ３ 気体供給口 ４ パウダー供給管 ５ パウダー供給口 ６ 噴射口 ７ 管路体 ８ 管路蓋 ９ 中心軸線 １０ 軸線 １１ 接線 １２ 被加工物取付台 １３ 被加工物 １４ 高圧気体 １５ 固気２相流 １６ 固気２相混合流 １７ 薄膜 ５０ 砥粒供給管 ５１ 圧縮空気供給管 ５２ 吸引ノズル ５３ 周辺部 ５４ 噴射口 ５５ 被加工物 Ｌ1 固気２相混合流室体１における円筒長さ Ｌ2 気体供給口３及び噴射口６の長辺寸法 Ｌ3 気体供給口３及び噴射口６の短辺寸法 Ｌ4 パウダー供給口５の長辺寸法 Ｌ5 パウダー供給口５の短辺寸法 Ｄ 固気２相混合流室体１における円筒内径
Claims (12)
- 【請求項１】 パウダーと気体の固気２相混合流を噴射
口から高速噴射して被加工物の表面にエッチングとデポ
ジションを施す方法において、 固気２相混合流室体の中心軸線に垂直な軸線方向には前
記固気２相混合流室体に開口した噴射口と気体供給口を
対向する位置になるように配設すると共に、接線方向に
は前記固気２相混合流室体に開口したパウダー供給口を
設けて、前記固気２相混合流室体内で前記気体供給口か
ら噴出する気体噴流と前記パウダー供給口から噴出する
固気２相噴流とを混合させることにより、固気２相混合
流を形成させ、該固気２相混合流を前記噴射口から高速
噴射して被加工物の表面にエッチングとデポジションを
施すことを特徴とするパウダービームエッチングとデポ
ジションの方法。 - 【請求項２】 前記固気２相混合流室体を、両端を密閉
した中空の円筒体で構成することにより、均一に分散し
た固気２相混合流を生成し、前記噴射口から前記均一に
分散した固気２相混合流を高速噴射して被加工物の表面
にエッチングとデポジションを施すことを特徴とする請
求項１記載のパウダービームエッチングとデポジション
の方法。 - 【請求項３】 前記固気２相混合流室体に開口した気体
供給口の先端部とパウダー供給口の先端部とが隣接する
位置に配設することにより、前記気体供給口から噴出す
る気体噴流と前記パウダー供給口から噴出する前記固気
２相噴流とを均一に混合させ、固気２相混合流を生成さ
せ、前記固気２相混合流を前記噴射口から被加工物の表
面に高速噴射してエッチングとデポジションを施すこと
を特徴とする請求項１記載のパウダービームエッチング
とデポジションの方法。 - 【請求項４】 前記気体供給口と前記パウダー供給口と
を長方形で形成すると共に、該長方形の長手方向を前記
固気２相混合流室体の中心軸線方向の位置になるように
配設して、前記固気２相混合流室体内で均一な固気２相
混合流を生成し、該均一な固気２相混合流を前記噴射口
から高速噴射して被加工物の表面にエッチングとデポジ
ションを施すことを特徴とする請求項１記載のパウダー
ビームエッチングとデポジションの方法。 - 【請求項５】 前記気体供給口の先端部と前記パウダー
供給口の先端部を長方形で形成させ、該長方形の一辺を
共有することにより、前記気体と前記固気２相流を均一
に混合させて固気２相混合流を生成させ、該固気２相混
合流を前記噴射口から高速噴射して被加工物の表面にエ
ッチングとデポジションを施すことを特徴とする請求項
１記載のパウダービームエッチングとデポジション方
法。 - 【請求項６】 前記固気２相混合流室体に開口した噴射
口を長方形で形成させると共に、該長方形の長手方向を
前記固気２相混合流室体の中心軸線方向の位置に配設す
ることにより、前記均一な分散した固気２相混合流を前
記噴射口から高速噴射して被加工物の表面にエッチング
とデポジションを施すことを特徴とする請求項１記載の
パウダービームエッチングとデポジションの方法。 - 【請求項７】 パウダーと気体の固気２相混合流を噴射
口から高速噴射して被加工物の表面にエッチングとデポ
ジションを施す装置において、固気２相混合流室体の中
心軸線に垂直な軸線方向には前記固気２相混合流室体に
開口した噴射口と気体供給口を対向する位置になるよう
に配設すると共に、接線方向には前記固気２相混合流室
体に開口したパウダー供給口を配設したことを特徴とす
るパウダービームエッチングとデポジションの装置。 - 【請求項８】 前記固気２相混合流室体を、両端を密閉
した中空の円筒体で構成したことを特徴とする請求項７
記載のパウダービームエッチングとデポジションの装
置。 - 【請求項９】 前記固気２相混合流室体に開口した気体
供給口の先端部とパウダー供給口の先端部が隣接する位
置になるように配設したことを特徴とする請求項７記載
のパウダービームエッチングとデポジションの装置。 - 【請求項１０】 前記気体供給口とパウダー供給口とを
長方形で形成すると共に、該長方形の長手方向を前記固
気２相混合流室体の中心軸線方向の位置になるように配
設したことを特徴とする請求項７記載のパウダービーム
エッチングとデポジションの装置。 - 【請求項１１】 前記気体供給口とパウダー供給口の先
端部を長方形で形成すると共に、該長方形の一辺を共有
したことを特徴とする請求項７記載のパウダービームエ
ッチングとデポジションの装置。 - 【請求項１２】 前記固気２相混合流室体に開口した噴
射口を長方形で形成すると共に、該長方形の長手方向を
前記固気２相混合流室体の中心軸線方向の位置になるよ
うに配設したことを特徴とする請求項７記載のパウダー
ビームエッチングとデポジションの装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21796392A JPH0663866A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | パウダービームエッチングとデポジションの方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21796392A JPH0663866A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | パウダービームエッチングとデポジションの方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0663866A true JPH0663866A (ja) | 1994-03-08 |
Family
ID=16712475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21796392A Pending JPH0663866A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | パウダービームエッチングとデポジションの方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0663866A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009226522A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Asahi Sunac Corp | 粉体噴射ノズル |
| WO2011024613A1 (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | 新東工業株式会社 | ブラスト加工用噴射ノズル |
| CN102267101A (zh) * | 2010-06-04 | 2011-12-07 | 新东工业株式会社 | 板状部件的加工装置及其加工方法 |
-
1992
- 1992-08-17 JP JP21796392A patent/JPH0663866A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2011051021A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Sintokogio Ltd | ブラスト加工用噴射ノズル |
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| US9308624B2 (en) | 2010-06-04 | 2016-04-12 | Sintokogio, Ltd. | Apparatus for treating a plate-like member and method of treating the same |
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