TWI513547B

TWI513547B - Spraying material recovery apparatus and jetting processing apparatus and jetting processing method including jetting material recovery apparatus

Info

Publication number: TWI513547B
Application number: TW099128611A
Authority: TW
Inventors: Kazumichi Hibino; Kazuyoshi Maeda; Norihito Shibuya
Original assignee: Sintokogio Ltd
Priority date: 2009-09-11
Filing date: 2010-08-26
Publication date: 2015-12-21
Also published as: TW201127557A; JP2013504439A; CN102216032A; WO2011030924A2; KR101548243B1; KR20120047842A; CN102216032B; JP5578181B2; WO2011030924A3

Description

噴射材回收裝置及具備噴射材回收裝置之噴珠加工裝置及噴珠加工方法

本發明係關於於對被加工物噴射噴射材之噴珠加工中，效率良好地進行噴射材之回收之噴射材回收裝置及具備該噴射材回收裝置之噴珠加工裝置。

以往，噴珠加工技術在去毛邊、細面化、鑄造品之去流線、蝕刻等微細加工等表面加工之領域等持續被使用。在一般被使用之噴珠加工裝置係回收對被加工物進行噴珠加工後之噴射材，將不可使用之噴射材或因噴珠加工而由被加工物產生之粉塵等與可使用之噴射材分級後，進行再利用。例如，於專利文獻1有揭示具備於噴珠加工被加工物之噴珠室之下部設形成為漏斗狀之回收部，吸引回收往回收部落下之研磨材，以氣旋分級之構成之噴珠加工裝置。

專利文獻1：日本特開平9-323263號公報

然而，上述之構成之噴珠加工裝置會因噴射材往容積大之噴珠室全體飛散，往噴珠室壁面或搬送路徑附著，故有效率之回收困難。特別是在噴射材為數μm以下之微粉之場合，容易往噴珠室壁面或搬送路徑附著，回收更加困難。此外，為了以分級裝置之負壓吸引容積大之噴珠室內之噴射材，分級裝置等使吸引力產生之設備被要求高吸引力(吸引負壓及吸引風量)，故會有噴珠加工裝置中之分級及回收路徑大型化之問題。

針對上述問題，本發明係以可效率良好地進行噴射材之回收，且能將分級裝置等使為了回收噴射材所必要之吸引力產生之設備小型化來實現使噴珠加工裝置之小型化為可能之噴射材回收裝置及具備該噴射材回收裝置之噴珠加工裝置及噴珠加工方法為目的。

在本發明係為了達成上述目的而如於請求項1記載之發明使用一種噴射材回收裝置，安裝於噴珠加工用噴射嘴，吸引回收被從噴珠加工用噴射嘴對被加工物噴射之噴射材及因噴珠加工而產生之粉塵，其特徵在於具備：形成為具有覆蓋前述噴珠加工用噴射嘴之噴射口之開口之箱狀且構成為於開口端部與被加工物之加工面之間設置可吸引外氣之空隙之防止噴射材及粉塵之飛散之飛散防止蓋；以從前述空隙被導入之外氣為移送媒體並從設於前述飛散防止蓋之吸引構件將前述飛散防止蓋內之噴射材及粉塵往外部吸引排氣之吸引裝置之技術手段。

利用於請求項1記載之發明，以飛散防止蓋防止噴射材及粉塵之飛散，以吸引裝置透過設於飛散防止蓋之吸引構件，以從設於飛散防止蓋之開口端部與被加工物之加工面之間之空隙被導入之外氣為移送媒體，在被加工物之極近處吸引排氣，故僅吸引飛散防止蓋內部之小容積即可，可效率良好地進行噴射材及粉塵之回收。此外，由於可防止噴射材及粉塵附著於被加工物之搬送機構等，故沒有於搬送時於被加工物造成損傷之虞。此外，由於於開口端部與被加工物之加工面之間設有可吸引外氣之空隙，故亦沒有於噴珠加工中使嘴或被加工物移動時或於被加工物之搬送時於被加工物造成損傷之虞。

在請求項2記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，前述吸引構件係設於前述飛散防止蓋之上端部；設有設於設有前述吸引構件之側之前述飛散防止蓋之側面之輔助吸引構件之技術手段。

利用於請求項2記載之發明，藉由設於側面之輔助吸引構件，在飛散防止蓋內有往吸引構件之方向之氣流產生，故可效率良好地回收噴射材。另外，在此所謂上端部係指於飛散防止蓋之上部(頂部)比中心靠近端面(外周部方向)。

在請求項3或4記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，於前述飛散防止蓋之開口端部附近之內側面設有做為朝向前述開口端部從前述飛散防止蓋之內部往外部之面被形成且導引來自前述空隙之外氣之導入之導引部之技術手段。

利用於請求項3或4記載之發明，由於於前述飛散防止蓋之開口端部附近之內側面形成有導引來自空隙之外氣之導入之導引部，故可從形成於開口端部與被加工物之加工面之間之空隙將外氣順利導入飛散防止蓋之內部。藉此，可消除於飛散防止蓋之開口端部附近剝離渦流等產生之區域，故可防止於空隙之吸入外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之増大或噴射材及粉塵之滯留，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

在請求項5至8中任一項記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，前述噴珠加工用噴射嘴係噴射口形成為長方形之技術手段。

如請求項5至8中任一項記載之發明，噴射口形成為長方形之噴珠加工用噴射嘴可使加工寬度增廣，故可將寬度較廣之區域效率良好地噴珠加工。但由於此加工方法噴射材之噴射量變多，故以以往之噴射材之回收方法無法充分回收噴射材。利用本發明，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵，故在使用此種噴珠加工用噴射嘴之場合，可適切地使用本發明。

在請求項9至12中任一項記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，前述噴珠加工用噴射嘴係重力噴射式之技術手段。

根據請求項9至12中任一項記載之發明，藉由使噴珠加工用噴射嘴為重力噴射式亦即藉由因被供給至嘴內部之壓縮空氣而於嘴內部產生之負壓供給噴射材並噴射之方式，不需要如直壓噴射式亦即於將噴射材供給至加壓槽後藉由加壓該加壓槽來對噴珠加工用嘴供給噴射材之方式之加壓槽等大型之附帶設備，可實現噴珠加工裝置之小型化。

在請求項13記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，前述噴珠加工用噴射嘴係配置為對被加工物之加工面傾斜，前述吸引構件朝向被加工物之加工面中之噴射材之噴射位置設於與前述噴珠加工用噴射嘴之傾斜方向相反方向之技術手段。

根據請求項13記載之發明，藉由將嘴配置為對被加工物之加工面傾斜而使噴射材及粉塵容易往與嘴之傾斜方向相反方向飛散，並於噴射材及粉塵飛散之方向配置有吸引構件，故可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。此外，如請求項14記載前述吸引構件朝向被加工物之加工面中之噴射材之噴射位置傾斜設於與前述噴珠加工用噴射嘴之傾斜方向相反方向亦可。

在請求項15或16記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，前述噴珠加工用噴射嘴之設置角度係對被加工面為30～75度之技術手段。

根據請求項15或16記載之發明，使前述噴珠加工用噴射嘴之設置角度為30～75度可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

在請求項17記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，前述吸引構件係於以被加工物之加工面中之噴射材之噴射位置為中心之圓周上設為吸引方向為圓周之切線方向之技術手段。

如請求項17記載之發明配置吸引構件可於飛散防止蓋之內部使漩渦狀之氣流產生。藉此，可使噴射材及粉塵不易從空隙往外部漏出，故可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

在請求項18至21中任一項記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，將後述之清潔裝置鄰接配置於前述飛散防止蓋之外側，該清潔裝置係於噴珠加工後除去殘留於被加工物表面之前述噴射材及粉塵，具備：形成為具有開口之箱狀且構成為於開口端部與被加工物之加工面之間設置可吸引外氣之第2空隙之第2飛散防止蓋；於第2飛散防止蓋內部對被加工物表面吹送壓縮空氣以將前述噴射材及粉塵從被加工物表面剝離並除去之空氣鼓風嘴；設於前述飛散防止蓋並以從前述第2空隙被導入之外氣為移送媒體將前述第2飛散防止蓋內之噴射材及粉塵往外部吸引排氣之第2吸引構件之技術手段。

根據請求項18至21中任一項記載之發明，於噴珠加工後以設置於第2飛散防止蓋內之空氣鼓風嘴對被加工物之加工面進行壓縮空氣之噴射，可將附著於被加工物表面之噴射材及粉塵剝離、除去。被剝離之噴射材及粉塵被第2飛散防止蓋防止飛散，透過設於第2飛散防止蓋之第2吸引構件，以從設於第2飛散防止蓋之開口端部與被加工物之加工面之間之第2空隙被導入之外氣為移送媒體，在被加工物之極近處吸引排氣，可清潔被加工物表面。藉此，可防止起因於因噴珠加工而往被加工物之附著之噴射材及粉塵之往噴珠加工裝置外之漏出及飛散。在此所謂噴珠加工後除被加工物全體之加工結束後之場合外，亦包含於加工中加工面之一部分往第2飛散防止蓋外面相對移動之場合。

在請求項22至25中任一項記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置中，於前述第2飛散防止蓋之開口端部附近之內側面設有做為朝向前述開口端部從前述飛散防止蓋之內部往外部之面被形成且導引來自前述空隙之外氣之導入之導引部之技術手段。

利用於請求項22至25中任一項記載之發明，由於於第2飛散防止蓋之開口端部(第2開口端部)附近之內側面形成有導引來自空隙之外氣之導入之導引部(第2導引部)，故可從形成於開口端部與被加工物之加工面之間之空隙將外氣順利導入第2飛散防止蓋之內部。藉此，可消除於第2開口端部附近剝離渦流等產生之區域，故可防止於空隙之吸入外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之増大或噴射材及粉塵之滯留，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

在請求項26至33中任一項記載之發明係使用一種噴珠加工裝置，具備前述噴射材回收裝置之技術手段。另外，在請求項34至41中任一項記載之發明係使用於前述噴珠加工裝置中，進一步具備為了吸引回收噴射材之吸引裝置、由前述回收後之噴射材分離取出可再使用之噴射材之分級機之技術手段。

如請求項26至41中任一項記載之發明，在具備前述噴射材回收裝置之噴珠加工裝置係噴射材及粉塵被噴射材回收裝置吸引回收，可使用之噴射材被供給至噴珠加工裝置，故可將使為了噴射材之移送而必要之吸引力產生之分級裝置、集塵機等設備小型化，藉此可將噴珠加工裝置全體小型化。

在請求項42至49中任一項記載之發明係使用一種使用前述噴珠加工裝置之噴珠加工方法，以前述噴射嘴將噴射材往被加工面噴射，並以前述吸引裝置吸引回收飛散防止蓋內或飛散防止蓋及第2飛散防止蓋內之噴射材；由前述回收後之噴射材分離取出可再使用之噴射材之技術手段。

如請求項42至49中任一項記載之發明，以吸引裝置回收被噴射嘴噴射且飛散防止蓋內或飛散防止蓋及第2飛散防止蓋內之噴射材後，由回收後之噴射材分離取出可再使用之噴射材，可實現分級裝置之小型化，可將噴珠加工裝置全體小型化。在以往之噴珠加工裝置因有吸引加工室全體之必要故需要甚大之吸引能力，且吸引後立即投入分級機(分離取出可再使用之噴射材。一般係氣旋等風力分級機被使用)，故配合吸引風量該分級機亦為大型。在本發明係吸引風量少及先往吸引裝置回收後再分離取出可再使用之噴射材，故分級機只要具有分離之能力即可，結果可實現分級機之小型化。

針對本發明之噴射材回收裝置及具備該噴射材回收裝置之噴珠加工裝置參照圖說明。在本實施形態係以重力噴射(吸引)式噴珠加工裝置為例說明。如圖1所示，噴珠加工裝置1具備：對被加工物W噴射噴射材以進行噴珠加工之噴射裝置10、回收於噴射裝置10被噴射之噴射材及因噴珠加工而由被加工物W產生之粉塵之回收裝置20、將被回收裝置20回收之噴射材分級並對噴射裝置10供給噴射材之供給裝置30、將被加工物W以噴射裝置10進行噴珠加工之噴珠加工部40。

噴射裝置10具備：對被加工物W噴射噴射材之噴射嘴11、對噴射嘴11透過空氣配管13供給壓縮空氣之壓縮機等壓縮空氣供給裝置12、不圖示之噴射嘴移動機構。噴射嘴11係透過噴射材供給管51連接於後述之漏斗32。

回收裝置20具備：防止從噴射嘴11被噴射之噴射材之飛散之飛散防止蓋21、將飛散防止蓋21內之噴射材與被噴珠加工之被加工物W之粉塵透過吸引風道52吸引回收之吸引裝置22、為了除去附著於通過飛散防止蓋21之被加工物W之前述噴射材與前述粉塵之清潔裝置23。清潔裝置23係透過第2吸引風道53連結於吸引裝置22。

關於飛散防止蓋21及清潔裝置23之詳細之構造後述。本實施形態之吸引裝置22具備：吸引及捕集噴射材(亦包含因破碎等而無法使用之噴射材)或因噴珠加工而由被加工物W產生之粉塵之捕集單元22a、貯藏噴射材及粉塵之貯藏槽22b。噴射材及粉塵係被以捕集單元22a吸引，透過捕集單元22a中之過濾器捕集。被捕集之噴射材及粉塵係被脈衝噴射或機械式手段等公知之方法由前述過濾器玻剝離，被貯藏於貯藏槽22b。

供給裝置30具備：透過回收風道54從吸引裝置22吸引噴射材與被研磨後之被加工物W之粉塵並將可使用之噴射材與無法使用之噴射材及粉塵分級之分級裝置31、具備貯藏從分級裝置31供給之噴射材之貯藏槽並具備對噴射嘴11透過噴射材供給管51定量供給既定量之噴射材之定量供給裝置之漏斗32、將在分級裝置31被分級之無法使用之噴射材及粉塵透過風道55排氣回收之集塵機33。

在本實施形態係採用氣旋式分級裝置做為分級裝置31。氣旋式分級裝置係將粉體與空氣一起吹入氣旋塔31a之上部後進行分級者。因被集塵機33給予之負壓而產生之氣流中之噴射材及粉塵之中，可使用之噴射材因旋轉氣流而受離心力，從氣流中被分離而到達周壁，被捕集於氣旋塔31a下方之暫存槽31b。另外，無法使用之噴射材及粉塵被風道55吸入後被集塵機33回收。

噴珠加工部40具備：進行噴珠加工之噴珠加工室41、搬送被加工物W之搬送機構42。搬送機構42係由搬送被加工物W之搬送滾輪42a、吸附保持被加工物W並進行定位之載台42b等構成。

其次，針對飛散防止蓋21之構造說明。在本實施形態係使用噴射口形狀為長方形之嘴做為噴射嘴11，如圖2(A)及圖2(B)所示，以噴射口之長邊對被加工物W或嘴之掃瞄方向垂直之方式對被加工物W之加工面S被傾斜配置。若使用此種噴射嘴11可使加工寬度較廣，故可效率良好地將寬度較廣之區域噴珠加工，但由於噴射材之噴射量變多，故以以往之噴射材之回收方法無法充分回收噴射材。飛散防止蓋21係形成為具有開口部之箱狀以覆蓋噴射嘴11，安裝於噴射嘴11且一體地被設置。

飛散防止蓋21係被配置為與加工面S之距離被設定為於開口端部21a與被加工物W之加工面S之間設置可吸引外氣之空隙T。

於飛散防止蓋21之上部連接於吸引風道52設有以從空隙T被導入之外氣將飛散防止蓋21內之噴射材及粉塵往外部吸引排氣之吸引構件21b。吸引構件21b係朝向噴射嘴11之噴射材之噴射位置P，傾斜設於與噴射嘴11之傾斜方向相反方向。

噴射嘴11之傾斜角度以相對加工面S為30～75度配置較理想。其原因在於若角度小則被噴射之噴射材之速度勝過吸引力，往該飛散防止蓋21外漏出，若角度大則無法充分獲得傾斜配置之效果。在本實施形態雖係使用飛散防止蓋21在從側面觀察之場合為長方形之箱狀物，但使用例如梯形般具有既定之角度之斜面之箱狀物並於該斜面設置噴射嘴11或吸引構件21b，藉此使具有設置角度之噴嘴之設置較容易。

空隙T之寬度係設定為可吸引充分之外氣且使噴射材及粉塵不會往外部漏出之寬度。在此，空隙T之寬度係數mm程度，較理想為1.0～4.0mm。在空隙T為未滿1.0之場合，會有吸引外氣時之壓力損失變大或飛散防止蓋21與被加工物W接觸之虞。亦即，有因飛散防止蓋21與被加工物W之接觸而於被加工物W造成損傷之虞。此外，在空隙T超過4.0mm之場合，由空隙T吸入之外氣之速度降低，使低於由噴射嘴11被噴射之噴射材之速度，噴射材及粉塵往飛散防止蓋21之外部漏出。

如圖2(C)所示，於飛散防止蓋21之開口端部21a附近之內側面設有做為朝向開口端部21a從飛散防止蓋21之內部往外部之面被形成且導引來自空隙T之外氣之導入之導引部21c。在本實施形態中，導引部21c係將飛散防止蓋21之開口下端往外方圓弧地折彎而做為往外方凸出之曲面部被形成。藉由導引部21c可消除導入外氣時於開口端部21a附近產生剝離渦流等之區域，故可防止於空隙T之吸入外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之増大或噴射材及粉塵之滯留，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

此外，可如圖10所示，於飛散防止蓋21之上部將吸引構件21h配置為比該飛散防止蓋21之中心線靠近端面，且將噴射嘴11配置為靠近該吸引構件21h之相反側端面，進而於配置有該吸引構件21h之側之側面設置輔助吸引構件21i。藉由由輔助吸引構件21i所產生之吸引力，在該飛散防止蓋21內產生往設置有吸引構件21h之側之氣流，故可以吸引構件21h有效地吸引噴射材。輔助吸引構件21i係使為了以吸引構件21h有效地吸引噴射材之氣流之產生促進之目的，故輔助吸引構件21i中之吸引力不比吸引構件21h中之吸引力高亦可。在本實施例係將具有比吸引構件21h之徑充分小之徑之輔助吸引構件21i配置5個。

噴射嘴11雖對加工面S設置為垂直或傾斜設置皆可，但較理想為傾斜配置，更理想為對加工面S具有30～75度之角度配置較理想。其原因在於若角度小則被噴射之噴射材之速度勝過吸引力，往該飛散防止蓋21外漏出，若角度大則無法獲得從輔助吸引構件21i產生之吸引力導致之氣流之產生之充分之效果。

此外，在本實施形態係於開口端部21f於飛散防止蓋21之內側面設有做為朝向開口端部21f從飛散防止蓋21之內部往外部之面被形成且導引來自空隙T之外氣之導入之導引部21g。

其次，針對清潔裝置23說明。在本實施形態係使用噴射口形狀為長方形之嘴做為空氣鼓風嘴23b，如圖3(A)及(B)所示，被配置為噴射口之長邊對被加工物W或嘴之掃瞄方向垂直。若使用此種空氣鼓風嘴23b，可使壓縮空氣之噴射寬度較廣，故可將寬度較廣之區域效率良好地處理。第2飛散防止蓋23a係形成為具有開口部之箱狀以覆蓋空氣鼓風嘴23b，安裝於空氣鼓風嘴23b且一體地被設置。

第2飛散防止蓋23a係被配置為與加工面S之距離被設定為於第2開口端部23d與被加工物W之加工面S之間設置可吸引外氣之空隙t。

於第2飛散防止蓋23a之上部連接於第2吸引風道53設有以從空隙t被導入之外氣將第2飛散防止蓋23a內之噴射材及粉塵往外部吸引排氣之第2吸引構件23c。第2吸引構件23c係設置為對被加工物W大致垂直。

空隙t之寬度係設定為可吸引充分之外氣且使噴射材及粉塵不會往外部漏出之寬度。在此，空隙t之寬度係數mm程度，較理想為1.0～4.0mm。在空隙t為未滿1.0之場合，會有吸引外氣時之壓力損失變大或第2飛散防止蓋23a與被加工物W接觸之虞。亦即，有因第2飛散防止蓋23a與被加工物W之接觸而於被加工物W造成損傷之虞。此外，在超過4.0mm之場合，由空隙t吸入之外氣之速度降低，使低於由空氣鼓風嘴23b被噴射之噴射材之速度，噴射材及粉塵往第2飛散防止蓋23a之外部漏出。

如圖3(C)所示，於第2飛散防止蓋23a之第2開口端部23d附近之內側面設有做為朝向第2開口端部23d從第2飛散防止蓋23a之內部往外部之面被形成且導引來自空隙t之外氣之導入之第2導引部23e。在本實施形態中，第2導引部23e係將第2飛散防止蓋23a之開口下端往外方圓弧地折彎而做為往外方凸出之曲面部被形成。藉由第2導引部23e可消除導入外氣時於第2開口端部23d附近產生剝離渦流等之區域，故可防止於空隙t之吸入外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之增大或噴射材及粉塵之滯留，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

其次，針對如上述構成之噴珠加工裝置1之動作說明。首先，以搬送機構42將被加工物W配置於噴射嘴11下方緊貼處，將噴射嘴11固定於既定之位置。

其次，使被加工物W相對於噴射嘴11移動同時進行噴珠加工。在以既定之操作由壓縮空氣供給裝置12將壓縮空氣導入噴射嘴11內部後，於噴射嘴11內部負壓產生，從漏斗32被定量供給之噴射材透過噴射材供給管51被往噴射嘴11內部吸引。被吸引至噴射嘴11內部之噴射材被壓縮空氣加速，被往被加工物W之加工面S噴射，進行噴珠加工。在此，可以搬送機構42使被加工物W相對噴射嘴11移動，亦可以不圖示之嘴移動機構使噴射嘴11移動。

從噴射嘴11被噴射並衝撞被加工物W而飛散之噴射材及因噴珠加工而產生之粉塵等係以從設於飛散防止蓋21與加工面S之間之空隙T被吸引之外氣為移送媒體，被吸引構件21b由飛散防止蓋21內部吸引除去。被吸引構件21b吸引除去之噴射材及粉塵係經由吸引風道52被吸引裝置22吸引回收。

由於以飛散防止蓋21防止噴射材及粉塵之飛散，以從空隙T被導入之外氣為移送媒體，在被加工物W之極近處吸引排氣，故僅吸引飛散防止蓋21內部之小容積即可，可效率良好地進行噴射材及粉塵之回收。特別是以往回收為困難之數μm以下之微粉之噴射材亦可有效率地回收。此外，即使於使用噴射量多之噴射口為長方形之噴射嘴11之場合，亦可充分回收噴射材及粉塵。此外，亦沒有噴射材及粉塵附著於被加工物W之搬送機構42等而於搬送時於被加工物W造成損傷之虞。

將噴射嘴11配置為對被加工物W之加工面S傾斜而使噴射材及粉塵容易往與噴射嘴11之傾斜方向相反方向飛散，並於噴射材及粉塵飛散之方向配置有吸引構件21b，故可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

另外，由於於開口端部21a形成有導引來自空隙T之外氣之導入之導引部21c，故可消除由空隙T導入外氣時於開口端部21a附近產生渦流等之區域，故可防止於空隙T之吸入外氣時之通氣抵抗之増大或噴射材及粉塵之滯留等，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

被噴珠加工後之被加工物W係被搬送機構42往飛散防止蓋21外搬送。於其路徑設置有清潔裝置23，被噴珠加工後之被加工物W係通過清潔裝置23之下方。

對被移送後之被加工物W由空氣鼓風嘴23b噴射由壓縮空氣供給裝置12供給之壓縮空氣。藉此，附著於被加工物W表面之噴射材及粉塵被由被加工物W表面剝離。被剝離之噴射材及粉塵以從設於第2飛散防止蓋23a與加工面S之間之空隙t被吸引之外氣為移送媒體，被第2吸引構件23c由第2飛散防止蓋23a內部吸引除去。被第2吸引構件23c吸引除去之噴射材及粉塵係經由連結於前述飛散防止蓋21與吸引裝置22之路徑即吸引風道52之第2吸引風道53被吸引裝置22吸引回收。

被吸引回收之噴射材及粉塵被貯藏於吸引裝置22中之貯藏槽22b。在此，吸引裝置22只要能吸引體積皆小之飛散防止蓋21及第2飛散防止蓋23a之內部即可，故不必為大容量之設備。

被具備飛散防止蓋21、吸引裝置22、清潔裝置23之回收裝置20回收之噴射材被移送往分級裝置31。在此，由於噴射材已被回收裝置20吸引回收，故可使以為了噴射材之移送而必要之集塵機33使分級裝置31產生之風量較小。藉此，可將分級裝置31、集塵機33等使吸引力產生之設備小型化。

被移送至分級裝置31之噴射材及粉塵被分級為可使用之噴射材與不可使用之噴射材及粉塵。不可使用之噴射材及粉塵經由風道55被集塵機33回收。

可使用之噴射材被貯藏於暫存槽31b，視需要被供給往漏斗32。如上述再利用回收之噴射材，可持續良好地連續之噴珠加工。

(變更例)

噴珠加工裝置1之噴射裝置10、供給裝置30、噴珠加工部40並不受限於上述之實施形態，可採用公知之方法。例如，噴珠加工裝置1可採用加壓式噴珠加工裝置。此外，噴射嘴11可採用噴射口為圓形之嘴，亦可配置為噴射方向垂直於加工面S。

於圖2顯示之飛散防止蓋21、於圖3顯示之第2飛散防止蓋23a雖為四角之箱狀，但此等蓋之形狀並不受限於此，可採用例如圓柱狀、圓錐狀、角錐狀等各種形狀。

導引部21c只要是於飛散防止蓋21之開口端部21a附近之內側面做為朝向開口端部21a從飛散防止蓋21之內部往外部之面被形成且能從空隙T導引外氣並順利導入，可採用各種形狀。亦可例如圖4(A)及(B)所示，對開口端部21a之至少內側進行R面加工，形成導引部21c。

吸引構件21b之數量、配置位置可適當選定。例如，上述之實施形態中，可於噴射嘴11之長邊方向追加設置吸引構件21b。藉此，可有效率地吸引除去往噴射嘴11之長邊方向飛散之噴射材及粉塵。

此外，如圖5所示，採用將吸引構件21b於以被加工物W之加工面S中之噴射材之噴射位置為中心之圓周上設為吸引方向為圓周之切線方向之配置亦可。藉由如上述配置吸引構件21b，可於飛散防止蓋21之內部使漩渦狀之氣流產生。藉此，可使噴射材及粉塵不易從空隙T往外部漏出，故可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。特別是在將噴射嘴11配置為噴射方向垂直於加工面S之場合，噴射材及粉塵容易在飛散防止蓋21之內部放射狀地飛散，故可適當地使用本構成。

空氣鼓風嘴23b並非受限於上述之實施形態者。例如，可使用噴射口為圓形之嘴，可使用複數支嘴，亦可配置為噴射方向對加工面S傾斜。

第2導引部23e只要是於第2開口端部23d附近之內側面做為朝向第2開口端部23d從第2飛散防止蓋23a之內部往外部之面被形成且從空隙t導引外氣並順利導入，可採用各種形狀。亦可例如圖6(A)及(B)所示，對第2開口端部23d之至少內側進行R面加工，形成第2導引部23e。

第2吸引構件23c之數量、配置位置可適當選定。例如，上述之實施形態中，可對被加工物W之進行方向於空氣鼓風嘴23b之前後方向追加設置第2吸引構件23c。藉此，可有效率地吸引除去往第2飛散防止蓋23a內飛散之噴射材及粉塵。

此外，如圖8所示，採用將第2吸引構件23c於以被加工物W之噴射位置p為中心之圓周上設為吸引方向為圓周之切線方向之配置亦可。藉由如上述配置第2吸引構件23c，可於第2飛散防止蓋23a之內部使漩渦狀之氣流產生。藉此，可使噴射材及粉塵不易從空隙t往外部漏出，故可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。特別是在將空氣鼓風嘴23b配置為噴射方向垂直於被加工物W之場合，噴射材及粉塵容易在第2飛散防止蓋23a之內部放射狀地飛散，故可適當地使用本構成。

空氣鼓風嘴23b不僅噴射壓縮空氣，亦可具有藉由噴珠加工除去噴射材及粉塵或被附加於被加工物W之電荷之手段。例如，可使含有若干之水分或靜電除去劑，可以電量放電等將離子或原子團導入壓縮空氣並噴射，亦可使用超音波(超音波空氣鼓風)。

本實施形態之清潔裝置23在噴珠加工後之被加工物W之表面沒有噴射材及粉塵之附著之場合，或附著量極少可無視之場合，為不具備清潔裝置23之構成亦可。

本實施形態之吸引裝置22在可不考慮供給裝置30之大型化之場合，為不具備吸引裝置22之構成亦可。

供給裝置30只要具備充分之吸引能力，可使兼用做為回收裝置20。例如，在被加工物W小且噴珠加工室41之容積小之場合，只要僅從集塵機33被給予之吸引力便足夠，即使不另外設置回收裝置20亦可。在此場合，分級裝置31及集塵機33相當於回收裝置20。

(實施例1)

在本實施形態係針對飛散防止蓋21中之導引部21c之形狀檢討。另外，本發明並非被限定於以下之實施例者。

使用為直徑150mm、高度45mm之圓筒形狀且具有導引部21c之形狀被以如圖9(A)所示之從飛散防止蓋21之內部往外部之R面形成之導引部21c與吸引構件21b之飛散防止蓋21。測定以吸引風道52將鼓風機連結於吸引構件21b時之鼓風機之吸引靜壓及開口端部21a之靜壓。此外，使用如圖9(B)所示之不具有導引部21c之飛散防止蓋21做為比較例。其他條件係設定為與實施例相同。

將結果顯示於表1。飛散防止蓋21具備導引部21c之場合之鼓風機之吸引靜壓為-8.3kPa，吸引風量為5.2m³ 。另一方面，不具備導引部21c之場合之鼓風機之吸引靜壓為-11.2kPa，吸引風量為4.1m³ 。

以上之結果，確認具有導引部21c使鼓風機之靜壓負荷變低，比起不具備導引部21c之場合可獲得較大之風量。

(實施例2)

在本實施例係針對輔助吸引構件21i之效果及噴射嘴11之傾斜角度之影響調查。另外，本發明並非被限定於以下之實施例者。

使用為寬度160mm、長度200mm、高度45mm且於開口端部21f從內部往外部具有R形狀之導引部21g之飛散防止蓋21。於此飛散防止蓋21之頂部設置有直徑13mm之吸引構件21h。吸引構件21h係設置於因吸引構件21h與飛散防止蓋21交叉而形成之橢圓(包含圓)之中心從飛散防止蓋21之長邊之長度方向之中心往端面側移動90mm之位置。進而，於從開口端部21a離開10mm之飛散防止蓋21之側面設置有輔助吸引構件21i。在本實施形態係均等配置有5支直徑8mm之管。此外，以25、30、45、75、80度之角度傾斜設置有噴射嘴11。

將吸引構件21h及輔助吸引構件21i透過吸引風道52及輔助吸引風道56直接連結於吸引裝置(不圖示)。由該噴射嘴11以噴射壓力0.6MPa噴射噴射材(WA#600)，同時使前述吸引裝置作動，觀察噴射材往飛散防止蓋21之外部之漏出及於前述噴射後被加工物W之噴射材之殘留。

在噴射嘴11之傾斜角度為30、45、75、80度之場合之任一者，噴射材之漏出皆沒有被觀察到，但在25則有噴射材之漏出被觀察到。此外，對噴射後之被加工面之噴射材之殘留在噴射嘴11之傾斜角度為80度之場合被確認。因此，噴射嘴11之傾斜角度之最佳值為30～75度。

[實施形態之效果]

(1)利用於本發明之回收裝置20，以飛散防止蓋21防止噴射材及粉塵之飛散，以從空隙T被導入之外氣為移送媒體，在被加工物W之極近處吸引排氣，故僅吸引飛散防止蓋21內部之小容積即可，可效率良好地進行噴射材及粉塵之回收。特別是以往回收為困難之微粉之噴射材亦可有效率地回收。此外，即使於使用噴射量多之噴射口為長方形之噴射嘴11之場合，亦可充分回收噴射材及粉塵。此外，由於可防止噴射材及粉塵附著於被加工物W之搬送機構42等，故亦沒有於搬送時於被加工物W造成損傷之虞。

(2)由於於開口端部21a形成有導引來自空隙T之外氣之導入之導引部21c，故可消除由空隙T導入外氣時於飛散防止蓋之開口端部附近產生剝離渦流等之區域，可防止於空隙之吸引外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之増大或噴射材及粉塵之滯留，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

(3)藉由將噴射嘴11配置為對被加工物W之加工面S傾斜而使噴射材及粉塵容易往與嘴之傾斜方向相反方向飛散，並於噴射材及粉塵飛散之方向配置有吸引構件21b，故可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

(4)於噴珠加工後由空氣鼓風嘴23b對被加工物吹送壓縮空氣，可將附著於被加工物W之噴射材及粉塵剝離。被剝離之噴射材及粉塵被第2飛散防止蓋23a防止飛散，以從空隙t被導入之外氣為移送媒體，在被加工物W之極近處吸引排氣，故沒有往外部之噴射材及粉塵之飛散，可清潔被加工物表面。

(5)由於於第2開口端部23d形成有導引來自空隙t之外氣之導入之第2導引部23e，故可消除由空隙t導入外氣時於第2開口端部23d附近產生剝離渦流等之區域，故可防止於空隙t之吸引外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之増大或噴射材及粉塵之滯留，可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。

(6)利用具備本發明之回收裝置20之噴珠加工裝置1，噴射材被回收裝置20吸引回收，故可將使為了噴射材之移送而必要之由集塵機33供給之風量較小。藉此，可將使為了噴射材之移送而必要之吸引力產生之分級裝置、集塵機等設備小型化。

[其他本實施形態]

在因噴射材之噴射量小等理由而可不考慮來自飛散防止蓋21之噴射材及粉塵之漏出之場合等，可不設噴珠加工室41。此外，再進行不希望有塵埃之材料、製品之噴珠加工之場合，亦可將噴珠加工室41等之噴珠加工部40做為潔淨室構成。

本申請係基於在日本於2009年09月11日被提出申請之特願2009-210309號及於2010年05月06日被提出申請之特願2010-106095號，其內容係做為本申請之內容形成其一部分。

此外，本發明應可藉由本說明書之詳細之說明進一步完全理解。然而，詳細之說明及特定之實施例為本發明之較理想之實施形態，僅係為了說明之目的而被記載者。因從此詳細之說明各種變更、改變對當業者而言為明顯。

申請人無將被記載之實施形態之任一者對公眾獻上之意圖，被揭示之改變、代替案之中，即使文言上可能不包含於申請專利範圍內者，亦為在均等論下之發明之一部分。

於本說明書或申請專利範圍之記載中，名詞及同樣之指示詞之使用只要沒有特別被指明或只要非根據文脈被明確否定，應解釋為包含單數與複數雙方。在本說明書中被提供之任一例示或例示性用語之使用(例如：「等」)亦僅係為了使本發明容易說明之意圖，只要沒有在申請專利範圍記載便非對本發明之範圍施加限制者。

1．．．噴珠加工裝置

10．．．噴射裝置

11．．．噴射嘴

12．．．壓縮空氣供給裝置

13．．．空氣配管

20．．．回收裝置

21．．．飛散防止蓋

21a．．．開口端部

21b．．．吸引構件

21c．．．導引部

21f．．．開口端部

21g．．．導引部

21h．．．吸引構件

21i．．．輔助吸引構件

22．．．吸引裝置

22a．．．捕集單元

22b．．．貯藏槽

23．．．清潔裝置

23a．．．第2飛散防止蓋

23b．．．空氣鼓風嘴

23c．．．第2吸引構件

23d．．．第2開口端部

23e．．．第2導引部

30．．．供給裝置

31．．．分級裝置

31a．．．氣旋塔

31b．．．暫存槽

32．．．漏斗

33．．．集塵機

40．．．噴珠加工部

41．．．噴珠室

42．．．搬送機構

42a．．．搬送滾輪

42b．．．載台

51．．．噴射材供給管

52．．．吸引風道

53．．．第2吸引風道

54．．．回收風道

55．．．風道

56．．．輔助吸引風道

S．．．加工面

T．．．空隙

t．．．空隙(第2空隙)

W．．．被加工物

P．．．噴射材之噴射位置

p．．．壓縮空氣之噴射位置

圖1為具備本發明之噴射材回收裝置之噴珠加工裝置之構成圖。

圖2為回收裝置之飛散防止蓋及吸引構件之說明圖。圖2(A)為剖面說明圖，圖2(B)為平面說明圖，圖2(C)為飛散防止蓋之開口端部之擴大剖面說明圖。

圖3為清潔裝置之第2飛散防止蓋及第2吸引構件之說明圖。圖3(A)為剖面圖，圖3(B)為平面說明圖，圖3(C)為第2飛散防止蓋之開口端部之擴大剖面說明圖。

圖4為顯示形成於飛散防止蓋之開口端部之將外氣往飛散防止蓋內部導引之導引部之變更例之剖面說明圖。

圖5為顯示飛散防止蓋之變更例之平面說明圖。

圖6為顯示形成於第2飛散防止蓋之開口端部之將外氣往第2飛散防止蓋內部導引之第2導引部之變更例之剖面說明圖。

圖7為顯示清潔之變更例之剖面說明圖。

圖8為顯示第2飛散防止蓋之變更例之平面說明圖。

圖9為顯示實施例及比較例之說明圖。圖9(A)為實施例之說明圖，圖9(B)為比較例之說明圖。

圖10為設有輔助吸引構件之回收裝置之說明圖。