TWI402139B - Nozzle processing device - Google Patents

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TWI402139B
TWI402139B TW099144877A TW99144877A TWI402139B TW I402139 B TWI402139 B TW I402139B TW 099144877 A TW099144877 A TW 099144877A TW 99144877 A TW99144877 A TW 99144877A TW I402139 B TWI402139 B TW I402139B
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Tomoo Suzuki
Kazumichi Hibino
Takayuki Kato
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Sintokogio Ltd
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Description

噴珠加工裝置
本發明係關於一種可連續地進行表面處理的噴珠加工裝置。
在被加工物之粗面化、平滑化修整、表面粗糙度調整、去角、去毛邊、蝕刻等表面處理的領域,係使用噴珠加工裝置。噴珠加工裝置通常係將被加工物投入至具有透過分級裝置及導管與集塵裝置連通之空間的噴珠加工室內後,藉由噴射嘴朝向被加工物吹送珠粒或研磨材等噴珠加工介質(之後,記述為「噴射材」)來進行加工。前述噴射材及在噴珠加工所產生之粉塵,係藉由前述集塵裝置運出至噴珠加工室外。由於前述噴射材及前述粉塵會附著於被加工物,因此將例如壓縮送風至被加工物而將此等予以除去(送風)之後,再從噴珠加工室取出該被加工物,噴珠加工處理即完成。噴珠加工一般而言係反覆進行「起動集塵裝置」→「將被加工物投入至噴珠加工室」→「朝向被加工物(被加工面)噴射噴射材」→「停止噴射材之噴射,進行送風」→「從噴珠加工室取出被加工物」-→「停止集塵裝置」,亦即以批次處理進行。
基於作業效率,以不停止集塵裝置,而連續將被加工物投入至噴珠加工室內,亦即進行連續處理較佳。作為進行連續處理之噴珠裝置,例如如圖10所示,可使用一種能將被加工物沿一方向連續投入之噴珠加工裝置(專利文獻1)。如圖10之噴珠加工裝置中,載置於噴珠搬送裝置114之被加工物W,係藉由設於噴珠加工室110側面之搬入口110i,搬入至噴珠加工室110內,並藉由具備有噴珠加工用嘴112之噴珠加工用嘴單元111,進行噴珠加工之後,再藉由設於相反側側面之排出口110o排出。又,此時在排出口110o之前方亦可配置用以進行送風之送風用嘴113。此處,由於噴珠加工室110之內部係負壓,因此噴射材等並不會從搬入口110i及排出口110o洩漏至外部。
如專利文獻1之噴珠加工裝置中,雖並無複雜之機構及動作即可進行噴珠加工處理,不過由於必需在被加工物之往噴珠加工室內之投入口側及排出口側之雙方配置搬送裝置,因此於被加工物W之行進方向(圖10中左右方向)噴珠加工裝置會變大。
作為可連續處理之噴珠加工裝置的其他例,專利文獻2中,已提出另一種將被加工物載置於旋轉台上以進行噴珠加工的噴珠加工裝置。此種噴珠加工裝置中,係具備將被加工物保持成旋轉自如之作為自轉旋轉處理部的自轉台、用以載置前述自轉台既定個數並使其往噴珠加工區域或投入/取出區域移動而旋轉自如地動作之作為公轉旋轉部的公轉台、以及包圍該被加工物及公轉台,且自轉台之中既定個數為了被加工物之投入/取出而開放於作業者側,其餘之自轉台則為了防止噴射材或粉塵之吹漏(漏出)而具有密閉之構造的噴珠加工室。
專利文獻2中,由於透過自轉台載置於公轉台(旋轉台)上之被加工物,係藉由該旋轉台之旋轉而移動於投射區域及被加工物之投入/取出區域,亦即被加工物係僅移動於該旋轉台之範圍內,因此可實現噴珠加工裝置之小型化。然而,作為防止前述噴射材或粉塵之吹漏的手段,雖已提出設置用以使被加工物各自分離之分隔壁,或者設置配合前述旋轉台之旋轉而開閉之開閉門,不過近年來在噴珠加工上更精密之加工要求已逐漸增加,為了進行精密之加工而使用更微細之噴射材的情形亦逐漸增加。在使用微細之噴射材的情況下,以前述防止吹漏之手段可能會產生不夠充分之情形。又,無法充分地除去附著在被加工物及前述旋轉台之噴射材及粉塵,而可能產生該噴射材及粉塵因該旋轉台之旋轉而漏出至噴珠加工室之外部的情形。
又,專利文獻2中,關於將被加工物載置或取出於旋轉台,推測係由作業者進行(參照專利文獻2之段落0005),不過基於減輕作業者之作業負擔、及由於噴珠加工係處理微粉末因此從作業者健康上之觀點,被加工物之投入及取出係以自動進行較佳。
專利文獻1:日本特開2009-279752號公報
專利文獻2:國際公開第2009/001639號手冊
有鑑於上述事由,而提供一種小型之噴珠加工裝置,其從噴珠加工室並無噴射材及粉塵之漏出,且能以自動且連續地進行噴珠加工處理。
為了解決前述課題,本發明係使用以下技術性手段,亦即一種噴珠加工裝置,具備:噴珠加工室,具有將內部分割成至少2個以上之空間之分隔壁;分級手段,用以從自設置於噴珠加工室內之噴珠加工用嘴噴射之噴射材及粉塵取出可再使用之噴射材;回收手段,用以吸引回收無法再使用之噴射材及粉塵;以及噴射材補充手段,用以補充噴射材;其特徵在於:該噴珠加工室具備由用以保持被加工物之至少2個以上之保持構件、與用以保持該保持構件且使其移動之柱狀構件構成之旋動手段;該保持構件係正交且放射狀配置於該柱狀構件。(第1發明)
又,第1發明所記述之噴珠加工裝置中,該噴珠加工室係藉由該分隔壁分割成3個以上之區域;於該區域形成有噴珠加工區域、送風區域、及投入/取出區域各至少1個以上;該噴珠加工區域具備噴珠加工用嘴並從該嘴朝向被加工物噴射噴射材;該送風區域具備送風用嘴並從該嘴朝向被加工物及該保持構件噴射壓縮空氣;該投入/取出區域進行被加工物之投入及/或取出亦可。(第2發明)
又,第1發明所記述之噴珠加工裝置中,該保持構件,具備:1對保持具,係彼此平行,用以保持被加工物;結合具,與該保持具相同厚度且與該保持具連結;以及連結具,與該結合具相同厚度且用以連結該柱狀構件與該結合具亦可。(第3發明)
又,第3發明所記述之噴珠加工裝置中,該保持具,具備:平面位置調整具,用以限制被加工物往平面方向之移動;以及垂直位置調整具,用以防止被加工物之上面位於較該保持具之上面更上方亦可。(第4發明)又,第1發明所記述之噴珠加工裝置中,於該分隔壁形成有該保持構件可通過之開口部亦可。(第5發明)又,第5發明所記述之噴珠加工裝置中,該開口部在噴珠加工時係藉由開口部封閉手段封閉亦可。(第6發明)又,第6發明所記述之噴珠加工裝置中,該開口部封閉手段係正交且放射狀配置於該柱狀構件之封閉構件亦可。(第7發明)
又,第7發明所記述之噴珠加工裝置中,該柱狀構件係連接於驅動手段,該保持構件及該開口部封閉手段係藉由該驅動手段移動亦可。(第8發明)
又,第2發明所記述之噴珠加工裝置中,該送風用嘴係配置成該嘴之噴射口與被加工面所形成之角度為5°~90°亦可。(第9發明)
又,第9發明所記述之噴珠加工裝置中,該送風用嘴係配置成該嘴之噴射口與被加工面所形成之角度為60°~90°、且該噴射口與被加工面之距離為5mm以下亦可。(第10發明)
又,第9發明所記述之噴珠加工裝置中,該送風區域具備用以將振動施加於被加工物之加振手段亦可。(第11發明)
又,第1發明所記述之噴珠加工裝置中,該噴射材補充手段具備供噴射材投入之內壁部、及外包該內壁部之外壁部;在該內壁部與該外壁部之間形成有空間,且該空間之上端部及下端部之至少一部分開口亦可。(第12發明)又,在該被加工物外周部之上方配置有噴射阻礙構件亦可。(第13發明)
又,第1發明所記述之噴珠加工裝置中,在該保持構件具備用以自動載置被加工物之載置手段亦可。(第14發明)
又,第14發明所記述之噴珠加工裝置中,該載置手段,具備:担持部,担持被加工物;以及搬送手段,使該担持部升降及旋動;該担持部具備用以担持被加工物之担持構件、及一端連結於該搬送手段且在另一端附近可配置該担持構件之旋動構件亦可。(第15發明)
又,第15發明所記述之噴珠加工裝置中,該載置手段具備該担持部至少2個以上亦可。(第16發明)
又,第16發明所記述之噴珠加工裝置中,該載置手段,相鄰之該担持部所形成之角度為90°,以該担持部之交叉點為中心旋轉自如地動作亦可。(第17發明)
載置於保持構件之被加工物係以柱狀構件為中心旋動且移動於藉由分隔壁分割之空間,藉此可連續地進行噴珠加工與被加工物之載置/取出。一般而言,在噴珠加工結束後之被加工物及保持該被加工物之構件等,會附著有噴射材或粉塵。噴珠加工結束後,大多以送風等除去所附著之噴射材或粉塵,不過卻難以完全地除去尤其是附著於前述構件之噴射材或粉塵。將此取出至噴珠加工室外時,所附著之噴射材或粉塵便會漏出至噴珠加工室外。如第1發明般,相較於將被加工物載置於屬平面板之旋轉盤的情形,由於前述保持構件其表面積較小,因此可減少前述噴射材及前述粉塵附著於該保持構件之量。又,如第2發明般,藉由設置3種區域,被加工物即可依「投入/取出區域」→「噴珠加工區域」→「送風區域」→「投入/取出區域」之序通過,以連續進行噴珠加工。本說明書中,「投入/取出區域」在無特別聲明時,係可將「投入」及「取出」設置成同一區域,或者設置成不同區域,任一種情形皆可。
又,由於可進一步縮小前述保持構件之表面積,因此可進一步減少前述噴射材及前述粉塵附著於該保持構件之量(第3發明)。又,作為保持被加工物之機構,藉由設置成第4發明所記述之構造,即可既簡單又確實地保持被加工物。
在使被加工物移動於藉由分隔壁所分割之空間時,必需使被加工物及前述保持構件不會與分隔壁碰撞。藉由設置成第5發明所記述之構造,無需對各空間開放分隔壁之全面,便可抑制噴射材從進行噴珠加工之區域漏出至其他區域。又,設置於分隔壁之開口部(之後,記述為「分隔壁開口部」),最好具備在噴珠加工中封閉之機構(第6發明)。由於將使前述機構中之前述開口部封閉之構件(封閉構件)與保持構件之動作連動,亦即保持構件及封閉構件之驅動係利用驅動手段,因此以簡單之構造即可抑制噴射材漏出至不同之空間(第7、8發明)。
在送風區域,藉由將送風用嘴設置成該嘴之噴射口與被加工面所形成之角度為5°~90°,即可高效率地以送風除去附著於被加工物及前述保持構件之噴射材及粉塵(第9發明)。又,例如欲在具有凹凸之被加工物,除去附著於凹部之角落部之噴射材及粉塵等,可對應被加工物之形狀及除去之目的,設置成該嘴之噴射口與被加工面所形成之角度為60°~90°,而且該嘴之噴射口與被加工面之距離為5mm以下(第10發明)。又,對附著力較強之噴射材及粉塵,則藉由賦予振動來減弱附著力,即容易利用送風除去。又,亦可高效率地除去附著於例如前述保持構件與被加工面所形成之角落部等的噴射材及粉塵。振動至少只要傳達至被加工物即可,亦可僅施加於被加工物,或者施加於被加工物與前述保持構件之兩方,任一種情形皆可(第11發明)。
為了供應噴射材而開放前述補充手段之一部分時,有時儲留於該補充手段或者附著於壁面之噴射材會飛揚而飛散。藉由設置成如第12發明之構造,由於利用形成在該補充手段之上方的開口部(之後,記述為「補充手段開口部」),即可獲得前述回收裝置之吸引力,因此即使噴射材即將飛揚,亦可從該開口部吸引/回收,所以可抑制噴射材之飛散。
噴珠加工及送風中,為了對被加工物整體進行噴珠加工及送風,有時會使噴珠加工用嘴或送風用嘴進行掃描。為了處理該被加工物之端部,其各嘴之加工、處理位置必需進行至越過端部之空間。因此,由於對較被加工物之外周位於外側之前述保持構件亦會進行噴珠加工,所以該保持構件之損耗顯著。又,從噴珠加工用嘴所噴射之固氣二相流、或從送風用嘴所噴射之空氣流,有時會與噴珠加工室之壁面碰撞並反射,此時反射後之前述固氣二相流及空氣流會與被加工物之下面碰撞,而有該被加工物會從前述保持構件脫落之虞。如前述第13發明所記述般,藉由將噴射防止構件配置在該位置,即可防止該保持構件受到噴珠加工,而且可防止該被加工物從前述保持構件脫落。
噴珠加工係近年來精密之加工要求增加而使用微粒子作為噴射材亦已逐漸增加。在作業者萬一吸入大量之微粒子的情況下,有可能會損及作業者之健康。藉由第14發明,作業者便無需隨時待在噴珠加工室旁,萬一即使粉塵從噴珠加工裝置漏出,亦可大幅降低作業者吸入之風險。又,亦可實現減輕作業者之作業負擔。就此種機構而言,藉由設置成如第15發明之構造,利用旋動構件所具備之担持部担持被加工物後,藉由連結於旋動構件之搬送手段的上升及旋轉運動,往保持構件搬送至載置位置之後,使其下降以解除被加工物之担持,藉此不依賴人工即可自動地將被加工物載置於前述保持構件。又,如第16發明般,藉由具備担持部2個以上,將在各担持部之被加工物的担持及其解除、前述驅動部之被加工物的搬送加以組合,藉此即可高效率地進行從前述保持構件回收完成噴珠加工之被加工物、以及將噴珠加工前之被加工物載置於前述保持構件。又,如第17發明般,將相鄰之前述担持部配置成90°,亦即前述担持部彼此呈L字型或十字型,並使其進行以前述担持部彼此之交點為中心的旋轉運動,藉此即可搬送被加工物。
以板狀之被加工物W的噴珠加工為例,使用圖式說明本發明之噴珠加工裝置之構成之一例。此外,本發明並不限制於本實施形態,視需要可將其一部分加以變更。
(噴珠加工室)
噴珠加工室10內係設置有藉由柱狀構件22及保持構件23構成之旋動手段20,以前述柱狀構件22之軸心為中心,以放射狀設置有分隔壁11a,11b,11c,藉由該分隔壁11a,11b,11c分割成3個區域(12a,12b,12c)。本實施例中,係以12a為投入/取出區域,以12b為噴珠加工區域,以12c為送風區域。被加工物W係藉由旋動手段20而移動於該等區域。(參照圖1)
前述柱狀構件22係連結於驅動手段21而能以前述軸心為中心旋動。又,至少只要在噴珠加工室10內配置有保持構件23即可,前述柱狀構件22其一部分亦可突出至噴珠加工室10之外部。保持構件23係藉由以下方式所構成,亦即藉由具有與該保持具23a同一厚度之結合具23b連結彼此平行之1對保持具23a,並且將具有與該保持具23a同一厚度之連結具23c之一端,以與該保持具23a水平地且反方向之方式,連結於該結合具23b之長邊方向的中心。本實施形態中,保持具23a、結合具23b、以及連結具23c雖分別使用四角柱狀之構件,不過只要是具有同一厚度之構件,亦可使用圓柱、多角柱任一者。雖在一對保持具23a之間載置被加工物W,不過安裝有用以固定圖2(B)中之左右方向之位置的平面位置調整具23d、以及用以固定同圖之上下方向之位置的垂直位置調整具23e。本實施例中,垂直位置調整具23e與平面位置調整具23d係分別以板狀之構件形成,並以螺栓固定於該保持具23a,藉此即可對應被加工物之尺寸任意地設定該調整具23d及23e之位置。又,基於後述之理由,垂直位置調整具23e之位置最好設置成被加工物W之被加工面不會較該保持具23a之上面位於上方,亦即被加工面係與該保持具23a之上面相同或者位於其下方。(參照圖2)
前述連結具23c另一方之端部,係相對於前述柱狀構件22,以與該柱狀構件22之軸心方向(長邊方向)垂直的方式,連結有保持構件23與該柱狀構件22。本實施形態中,係將3個保持構件23設置成使各保持具23a呈水平而且相鄰之連結具23c所形成之角度為120°。本實施形態中,柱狀構件雖使用圓柱,不過形狀並無特別限制,亦可使用多角柱,或者使用圓柱與多角柱之組合。
又,本實施形態中,用以使柱狀構件22旋轉之驅動手段21,係使用具有軸之旋轉馬達(未圖示)作為驅動源。傳達該旋轉馬達之驅動力的手段,只要柱狀構件22能以前述方式旋轉,則該手段並無特別限制。例如,可使該軸與該柱狀構件22以聯軸器等連結,或者於該軸與該柱狀構件22之一端分別設置連接構件(例如凸緣),而透過該連接構件使其連結,或者於該軸與該柱狀構件22之一端分別配置滑輪,並透過驅動力傳達具(皮帶)使各滑輪連結,或者使用其他公知之手段。
為了使被加工物W及保持構件23以12a→12b→12c→12a移動,在分隔壁11a,11b,11c係分別設有分隔壁開口部11o。前述開口部11o係盡可能較小,以使噴射材及粉塵不會在其各區域間移動。亦即,只要具有保持構件23及被加工物W可通過之尺寸即可。如前述般,藉由設置成被加工物W之被加工面(上面)為保持構件23之上面以下,即可進一步縮小前述開口部11o之高度。
前述開口部11o較佳為在噴珠加工時封閉。作為開口部封閉手段,本實施形態中,係將可在噴珠加工時封閉前述開口部11o之封閉構件25連接於前述柱狀構件22。具體而言,以各相鄰之封閉構件25所形成之角度為120°而且相鄰之封閉構件25與連結具23c所形成之角度為60°的方式,使隨著前述柱狀構件22之旋轉而可通過前述開口部11o程度之與該開口部11o同尺寸之柱狀構件22之長邊方向的一端連接於前述柱狀構件22。藉此,在保持構件23移動至既定位置時,前述封閉構件25即位於分隔壁11a,11b,11c之位置,而可封閉前述開口部11o。(參照圖1)
其次,針對各區域12a,12b,12c加以說明。投入/取出區域12a中,係將噴珠加工前之被加工物W載置於保持構件23,並且將完成噴珠加工之被加工物W從噴珠加工室10取出。因此,在形成有投入/取出區域12a之噴珠加工室10外壁的一部分,配置有用以進行被加工物W之投入及取出的開閉門(未圖示)。本實施形態中,形成投入/取出區域12a之外壁之中,由於頂板只要是較保持構件23上面即足夠,而亦可設置於較進行噴珠加工及送風之區域12b,12c之頂板低的位置,因此將形成投入/取出區域12a之頂板設置於足夠低的位置,並在該頂板部配置前述開閉門。
在噴珠加工區域12b之內部,如圖3(A)所示,係設置有噴珠加工用嘴單元30,其具備:噴珠加工用嘴31、用以使該嘴31進行掃描之掃描手段32、以及連結於該掃描手段32且可固定該嘴31之臂33。噴珠加工用嘴31係可適當使用直壓式、吸引式之任一種,本實施形態中,係以吸引式加以說明。噴珠加工用嘴31係透過軟管HP1 與壓縮空氣供應源34連接,透過軟管HA 連接於噴射材進料斗53。從該壓縮空氣供應源34所產生之壓縮空氣,係供應於該嘴31,當壓縮空氣噴射至該嘴31內部時,在該嘴31之內部即產生負壓,藉由該負壓噴射材進料斗33內部之噴射材便供應於該嘴31內。所供應之噴射材及壓縮空氣係在該嘴31之內部混合,以固氣二相流受到加速而朝向被加工物噴射。在該嘴31之噴珠加工範圍小於被加工物W之加工面的情況下,如圖3(B)所示般藉由掃描手段32使該嘴31進行掃描,藉此即可對被加工物整體進行處理。又,使該嘴31進行掃描時,必需如圖3(B)所示般越過被加工物W之端面使其進行掃描,以使被加工物W之端面亦均勻地處理。此時,則變成對保持有被加工物W之保持構件23噴射噴射材,其結果該保持構件23便會損傷。又,由於所噴射之噴射材會與噴珠加工區域12b之下部壁面碰撞並朝向上方反射,因此反射後之噴射材便會碰撞且附著於被加工物W之背面。因此,在對被加工物W之端面該嘴31掃描於外側而且較被加工物W上面之位置,如圖4(B)所示般配置噴射阻礙構件26,藉此可防止保持構件23之損傷,而且亦可防止因前述反射導致噴射材附著於被加工物W之背面。該噴射阻礙構件26在後述送風區域12c亦可同樣地配置。
在送風區域12c之內部,如圖5所示,係設置有送風用嘴單元40,其具備:送風用嘴41、用以使該嘴41進行掃描之掃描手段42、以及可固定該嘴41之臂43。該嘴41係透過軟管HP2 連接於壓縮空氣供應源34。從該壓縮空氣供應源34供應於該嘴41內部之壓縮空氣,係受到加速並朝向被加工物W噴射。此時,該嘴41係以可高效率地除去因噴珠加工而附著/堆積於被加工物及保持構件23之噴射材及粉塵的方式,設定該嘴41之噴射口與被加工物所形成之角度及距離並設置於前述臂43。又,該嘴41之噴射口與被加工物所形成之角度θ,係考量被加工物W之形狀、所附著之噴射材及粉塵的附著力等,而可選自5°~90°之範圍。例如,在表面為水平之被加工物W,欲高效率地除去被加工物W與保持具23a所形成之角落部之噴射材及粉塵的情況下,θ最好較小(例如5°~60°,最好係20°~60°),在噴射材及噴射材之附著力較強的情況下,θ最好較大(例如60°~90°,最好係70°~80°)。又,在表面藉由山谷、球形、柱狀形成有凹凸之具有3維構造的被加工物W,欲高效率地除去其凹部之噴射材及粉塵的情況下,θ最好較大(例如60°~90°,最好係70°~80°)。又,可藉由前述掃描手段42使該嘴41進行掃描,以使壓縮空氣可噴射至被加工物W或保持構件23之整體。(參照圖5)
如圖6(A)所示,可在被加工物W之表面側及背面側分別配置送風用嘴41。藉此,可除去被加工物W整體之噴射材及粉塵。然而,若表面側之送風的噴射壓力P1 小於背面側之送風的噴射壓力P2 ,則由於被加工物W會從保持具23a浮起,而且若雙方之風量及噴射位置之均衡不佳時會產生同樣的結果,因此必需調整雙方之噴射壓力、噴射風量、及噴射位置之均衡。又,如圖6(B)所示,可在該送風區域12c內設置能將振動施加於被加工物W之加振手段44。藉由振動所附著之噴射材及粉塵的附著力會變弱,利用從該嘴41噴射之壓縮空氣即可容易地除去。又,由於被加工物W與保持構件23係有接觸,因此施加於被加工物W之振動亦會傳達至保持構件23,而可獲得同樣之效果。在使被加工物W直接接觸於加振手段44的情況下,當振動力過強而產生問題時,亦可透過振動傳達具45來傳達振動。本實施形態中,係以鐵製之薄板狀構件作為振動傳達具45,將其一端連接於加振手段44,並使另一方之端部接觸於被加工物W。又,雖未圖示不過亦可將送風用嘴41配置於被加工物W之表面側及背面側,並進一步配置加振手段44。
(噴珠加工裝置)
在噴珠加工室之下部係設有吸引口16,於該吸引口16則連接有導管之一端。該導管之另一方之端部係連接有回收/供應手段50。回收/供應手段50係以分級手段51、回收手段52、以及噴射材進料斗53所構成,其中該分級手段51係用以從噴珠加工後之噴射材及粉塵分成再度噴珠加工所可使用之噴射材、以及其以外(因撞擊被加工物W等導致破裂或缺損而無法再使用之噴射材與因噴珠加工所產生之粉塵。之後,記述為「粉塵」),該回收手段52係用以使其產生吸引力並且將前述粉塵加以回收,該噴射材進料斗53則係連接於分級手段51,將前述可再使用之噴射材予以儲留,並供應至前述噴珠加工用嘴31。本實施形態中,於分級手段51係使用氣旋式分級裝置,於回收手段52則使用集塵裝置。以下,根據此構成加以說明。
藉由將導管D1 之一端連接於設在噴珠加工室10之下部的吸引口16,將另一方之端部連接於分級手段51,噴珠加工室10與分級手段51即形成連通之空間。又,藉由將導管D2 之一端連接於該分級手段51,將另一方之端部連接於回收手段52,分級手段51與回收手段52即形成連通之空間。亦即,噴珠加工室10與回收手段52即形成連通之空間。
藉由使回收手段52起動,因噴珠加工及送風而浮遊於噴珠加工室10內之噴射材及粉塵,即通過導管D1 而被移送至分級手段51。由於前述粉塵係較可再使用之噴射材輕,因此會移動至分級手段51之上方,並通過導管D2 而被回收至回收手段52。較粉塵重之可再使用的噴射材,則會移動至下方,而儲留在連接於分級手段51之下方的噴射材進料斗53。如前述般,該噴射材進料斗53係透過軟管HA 與噴珠加工用嘴31連接,而所儲留之該噴射材則通過軟管HA 供應於噴珠加工用嘴31。此外,吸引口16之位置及個數只要可吸引噴珠加工室10內,則無特別限制。各區域12a,12b,12c係可分別設置,亦可使其共有吸引口16。(參照圖7)
以此方式,噴射材雖係循環使用,不過由於因噴珠加工而產生粉塵導致噴射材之量會減少,因此必需補充不足之部分。本實施形態中,在前述導管D1 係具備有噴射材補充手段60。噴射材補充手段60係藉由內壁部62、外壁部61、以及蓋部63所形成,其中該內壁部62係將具有一定之剖面積且兩端開口之中空狀構件(本實施形態中係四角柱)、與最上部具有與前述中空構件同一剖面且朝向下方剖面積連續減少之兩端開口的中空狀構件(本實施形態中係四角錐)加以組合,該外壁部61係形成為外包前述內壁部62而且於與該內壁部62之間具有空間,該蓋部63則係覆蓋該外壁部61之上面而且可開閉。此時,外壁部61與內壁部62所形成之空間,係上方、下方皆開口而具有彼此連續之空間。噴射材係儲留於內壁部62之內側,藉由D1 所產生之吸引力通過分級手段51並移動至噴射材進料斗53。由於在外壁部61與內壁部62所形成之空間,會產生朝向D1 流動之氣流,因此即使在打開蓋部63時導致儲留於該噴射材補充手段60內部之噴射材飛揚,亦會在壁部62之上部(補充手段開口部)受到吸引而移動至導管D1 ,所以並不會飛散至外部。(參照圖8)
(載置手段)
載置手段70係藉由用以担持被加工物W之担持部71、以及使該担持部71移動至被加工物W之担持位置及載置於噴珠加工室10之位置的搬送手段72所形成。前述担持部71係藉由一端連結於前述搬送手段72之旋動構件71b、以及配置於前述担持部71之另一端附近且可担持被加工物W及解除担持的担持構件71a所形成,將以担持構件71a所担持之被加工物W,自動地載置於前述保持構件23,並且將噴珠加工結束後之被加工物W取出至噴珠加工室10之外部。
担持構件71a係可使用藉由1對挾持構件(未圖示)挾持被加工物者、利用吸引力使其吸附者等公知之方法。本實施例中,係使用以1對挾持構件挾持之機構。担持部雖可使用1個旋動構件71b,或者將複數個旋動構件71b加以組合者之任一種皆可,不過本實施例中係設置成以長邊方向之端部連結2支旋動構件(臂)71b1 ,71b2 而形成為L字狀,且以該交叉點為中心在搬送手段72旋動之構造。
搬送手段72係以旋動手段72a、以及升降手段72b所形成,其中該旋動手段72a係用以使前述担持部71旋動,該升降手段72b係為了担持前述被加工物W以進行將該被加工物W投入及取出於前述投入/取出區域,而使前述担持部移動於上下方向。(參照圖9)
(噴珠加工裝置之動作)
將本實施形態之整體構成表示於圖11。針對圖11中之噴珠加工裝置1的動作加以說明。
(1)打開配置在噴珠加工室10之投入/取出區域12a之頂板部的開閉門。
(2)以担持構件71a1 担持噴珠加工後之被加工物W,以担持構件71a2 担持噴珠加工前之被加工物W。
(3)藉由以升降手段72b使担持部71上升,舉升被加工物W。
(4)藉由旋動手段72a使担持部71旋轉90°,以使担持構件71a2 移動至担持構件71a1 先前之位置(區域12a)。
(5)以升降手段72b使担持部71下降之後,解除被加工物W之担持,藉此担持於担持構件71a2 之被加工物W即載置於保持構件23。又,担持於担持構件71a1 且完成噴珠加工之被加工物W則在前述(1)步驟之担持構件71a2 之位置的相反側回收。
(6)以升降手段72b使担持部71上升之後,關閉前述開閉門。然後,藉由旋動手段72a使担持部71往與前述(4)步驟反方向旋轉90°,担持構件71a1 ,71b2 即返回前述(1)步驟之位置。
(7)在進行前述(1)~(6)步驟之期間,區域12b及區域12c中係分別進行噴珠加工及送風。
(8)藉由旋動手段20旋動120°,載置於區域12a,12b,12c之被加工物W即分別移動至12b,12c,12a。
(9)藉由反覆進行前述(1)~(8)步驟,即可連續地進行噴珠加工。
(變更例)
本實施形態中,雖將噴珠加工室10區劃成3個區域,不過至少只要區劃成進行噴珠加工之區域與進行被加工物W之投入及取出之區域,則區域之數並無特別限制。例如,若噴射材及粉塵之附著較少而無需送風,則亦可設置成不具送風區域之構成,再者在「粗噴射材之噴珠加工」→「細噴射材之噴珠加工」等在其他階段進行噴珠加工的情況下,亦可設置2個以上噴珠加工區域。
在噴珠加工室10中,被加工物之投入及取出亦可設置成分別在不同區域進行之構成。
保持構件23為了保持其強度,在不超過其厚度下亦可配置例如肋部等補強構件。
本實施例中之噴珠加工用嘴31雖使用吸引式,不過將儲留噴射材之壓力槽予以加壓而與壓縮空氣一起將噴射材供應於噴珠加工用嘴的所謂加壓式亦可。
在送風區域12c中,只要直接傳達用以將振動施加於被加工物W之加振手段44的振動力,亦不會對被加工物W及噴珠加工裝置1造成不良影響,則亦可不使用振動傳達具45。
在分級手段51與噴射材進料斗53之間,亦可配置用以阻斷分級手段51與噴射材進料斗53之空間的手段。例如,亦可使用周期地開閉之門、或套管內部之轉子旋轉之旋轉閥。不論何種情形,皆可一邊阻斷分級手段51與噴射材進料斗53之空間,一邊將可再使用之噴射材從分級手段51送至噴射材進料斗53。
在噴射材補充手段60之外壁部61或內壁部62的底部附近,可配置用以調節噴射材之流量的機構(例如閘閥)。
在載置手段70中,担持部71亦可設置成在長邊方向之端部連結4支旋動構件(臂)71b而形成為十字狀,並以該交叉點為中心在搬送手段72旋動的構造。
在載置手段70中,担持部71可設置成將担持構件71a配置於圓盤狀之旋動構件71b之圓周附近的構造,而以該圓周之中心為中心旋動。此時,担持構件71a之個數及配置係可對應噴珠加工裝置之設置空間等狀況而任意地予以選擇。
1...噴珠加工裝置
10...噴珠加工室
11a,11b,11c...分隔壁
11o...分隔壁開口部
12a...投入/取出區域
12b...噴珠加工區域
12c...送風區域
20...旋動手段
21...驅動手段
22...柱狀構件
23...保持構件
23a...保持具
23b...結合具
23c...連結具
23d...平面位置調整具
23e...垂直位置調整具
25...封閉構件
26...噴射阻礙構件
30...噴珠加工用嘴單元
31...噴珠加工用嘴
32...掃描手段
33...臂
34...壓縮空氣供應源
40...送風用嘴單元
41...送風用嘴
42...掃描手段
43...臂
44...加振手段
45...振動傳達具
50...回收/供應手段
51...分級手段
52...回收手段
53...噴射材進料斗
60...噴射材補充手段
61...外壁部
62...內壁部
63...蓋部
70...載置手段
71...担持部
71a,71a1 ,71a2 ...担持構件
71b,71b1 ,71b2 ...旋動構件
72...搬送手段
72a...旋動手段
72b...升降手段
W...被加工物
HP1 ,HP2 ,HA ...軟管
D1 ,D2 ...導管
圖1係用以說明本發明之實施形態之噴珠加工室的說明圖。圖1(A)係從上方觀看之噴珠加工室內部的示意圖,圖1(B)係用以說明在圖1(A)中旋動構件及開口部封閉手段之配置的示意圖,圖1(C)則係圖1(A)中之A-A線剖面圖。
圖2係用以說明本發明之實施形態之保持構件的說明圖。圖2(A)係從上方觀看的說明圖,圖2(B)係從圖2(A)中之A-A線方向觀看載置有被加工物W之保持構件的剖面圖,圖2(C)則係從圖2(A)中之B-B線方向觀看載置有被加工物W之保持構件的剖面圖。
圖3係用以說明本發明之實施形態之噴珠加工區域的說明圖。圖3(A)係表示噴珠加工區域之構成的示意圖,圖3(B)則係表示噴珠加工用嘴進行掃描之軌跡之一例的示意圖。
圖4係說明本發明之實施形態之噴射阻礙構件之效果的說明圖。圖4(A)係表示無噴射阻礙構件時之固氣二相流之流動的說明圖,圖4(B)則係表示配置有噴射阻礙構件時之固氣二相流之流動的說明圖。
圖5係說明本發明之實施形態之送風區域的說明圖。
圖5(A)係表示送風區域的示意圖。
圖6係表示送風區域之變更例的說明圖。圖6(A)係相對於被加工物W將送風用嘴配置於上下方向的示意圖,圖6(B)係表示將振動傳動至被加工物之一例的示意圖。
圖7係說明本發明之實施形態之裝置之構成的說明圖。
圖8係說明本發明之實施形態之噴射材補充手段的說明圖。
圖9係說明本發明之實施形態之載置手段的說明圖。
圖9(A)係從上方表示載置手段及噴珠加工室的示意圖,圖9(B)則係圖9(A)中之A-A線方向圖。
圖10係說明習知噴珠加工裝置之一例的說明圖。
圖11係表示本發明之噴珠加工裝置之構成之一例的示意圖。
10...噴珠加工室
11a,11b,11c...分隔壁
11o...分隔壁開口部
12a...投入/取出區域
12b...噴珠加工區域
12c...送風區域
20...旋動手段
21...驅動手段
22...柱狀構件
23...保持構件
25...封閉構件
W...被加工物

Claims (17)

  1. 一種噴珠加工裝置,具備:噴珠加工室,具有將內部分割成至少2個以上之空間之分隔壁;分級手段,用以從自配置於噴珠加工室內之噴珠加工用嘴噴射之噴射材及粉塵取出可再使用之噴射材;回收手段,用以吸引回收無法再使用之噴射材及粉塵;以及噴射材補充手段,用以補充噴射材;其特徵在於:該噴珠加工室具備由用以保持被加工物之至少2個以上之保持構件、與用以保持該保持構件且使其移動之柱狀構件構成之旋動手段;該保持構件係正交且放射狀配置於該柱狀構件。
  2. 如申請專利範圍第1項之噴珠加工裝置,其中,該噴珠加工室內係藉由該分隔壁分割成3個以上之區域;於該區域形成有噴珠加工區域、送風區域、及投入/取出區域各至少1個以上;該噴珠加工區域具備噴珠加工用嘴並從該嘴朝向被加工物噴射噴射材;該送風區域具備送風用嘴並從該嘴朝向被加工物及該保持構件噴射壓縮空氣;該投入/取出區域進行被加工物之投入及取出之至少任一者。
  3. 如申請專利範圍第1項之噴珠加工裝置,其中,該保持構件,具備:1對保持具,係彼此平行,用以保持被加工物;結合具,與該保持具相同厚度且與該保持具連結;以及連結具,與該結合具相同厚度且用以連結該柱狀構件與該結合具。
  4. 如申請專利範圍第3項之噴珠加工裝置,其中,該保持具,具備:平面位置調整具,用以限制被加工物往平面方向之移動;以及垂直位置調整具,用以防止被加工物之上面位於較該保持具之上面更上方。
  5. 如申請專利範圍第1項之噴珠加工裝置,其中,於該分隔壁形成有該保持構件可通過之開口部。
  6. 如申請專利範圍第5項之噴珠加工裝置,其中,該開口部在噴珠加工時係藉由開口部封閉手段封閉。
  7. 如申請專利範圍第6項之噴珠加工裝置,其中,該開口部封閉手段係正交且放射狀配置於該柱狀構件之封閉構件。
  8. 如申請專利範圍第7項之噴珠加工裝置,其中,該柱狀構件係連接於驅動手段,該保持構件及該開口部封閉手段係藉由該驅動手段移動。
  9. 如申請專利範圍第2項之噴珠加工裝置,其中,該送風用嘴係配置成該嘴之噴射口與被加工面所形成之角度為5°~90°。
  10. 如申請專利範圍第9項之噴珠加工裝置,其中,該送風用嘴係配置成該嘴之噴射口與被加工面所形成之角度為60°~90°、且該噴射口與被加工面之距離為5mm以下。
  11. 如申請專利範圍第9項之噴珠加工裝置,其中,該送風區域具備用以將振動施加於被加工物之加振手段。
  12. 如申請專利範圍第1項之噴珠加工裝置,其中,該噴射材補充手段具備供噴射材投入之內壁部、及外包該內壁部之外壁部;在該內壁部與該外壁部之間形成有空間,且該空間之上端部及下端部之至少一部分開口。
  13. 如申請專利範圍第1項之噴珠加工裝置,其中,在該被加工物外周部之上方配置有噴射阻礙構件。
  14. 如申請專利範圍第1至13項中任一項之噴珠加工裝置,其中,在該保持構件具有用以自動載置被加工物之載置手段。
  15. 如申請專利範圍第14項之噴珠加工裝置,其中,該載置手段,具備:担持部,担持被加工物;以及搬送手段,使該担持部升降及旋動;該担持部具備用以担持被加工物之担持構件、及一端連結於該搬送手段且在另一端附近可配置該担持構件之旋 動構件。
  16. 如申請專利範圍第15項之噴珠加工裝置,其中,該載置手段具備該担持部至少2個以上。
  17. 如申請專利範圍第15項之噴珠加工裝置,其中,該載置手段,相鄰之該担持部所形成之角度為90°,以該担持部之交叉點為中心旋轉自如地動作。
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