TW201135757A - Conductive film and method for manufacturing same - Google Patents

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201135757 J / 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於-種透明性、導電性優異的導電膜及 其製造方法。 【先前技術】 -透明性優異的導電膜廣泛地用於電聚顯示器、液晶顯 示器等平板顯示器的顯示電極；觸摸面板用透明電極；太 陽電池用透明電極；電磁波屏蔽膜等用途。 作為形成透明性優異的導電膜的材料，廣為人知的有 推錫氧化麵（Indium Tin Oxide，以下稱為「ΙΤ〇」）β IT〇 膜是藉，雜法、真空蒸鑛法等氣相法來製造，但氣相法 必需有尚真空裝置，而需要極大的設備投資。尤其，於需 ，大面積的用途中，該設備投資及維持費變得巨大。另外， 每當製造ΙΤΟ膜時，必需精密地控制製造裝置内的成分氣 壓’因此於製造成本與量產性方面存在課題。 作為解決該課題的方法，報告有塗佈ΙΤ0微粒子分散 ，並進行乾燥，藉此形成ΙΤ0膜的方法（專利文獻但 疋，ITO膜存在如下等許多應解決的課題：銦的價格高、 難以於維持透明性的狀態下提昇導電性、不耐彎曲。 近年來，業界正進行使用代替ITO的導電材料的導電 膜的開發。尤其，提出有如下方法：利用網版印刷、噴墨 印刷、或自我組織現象，使將金屬微粒子或極細線分散於 溶液中而成者形成網眼狀等的圖案（專利文獻2〜專女 獻6)。 4 201135757f 但是，於印刷法中，存在由篩孔或喷嘴的堵塞所引起 的生產性的下降、或者難以製作線寬為6 μιη以下的微細 的圖案之類的課題。於喷墨印刷中，雖然有可製作2 左右的圖案的報告，但由於塗佈量為極微量，因此需要大 量的時間，而無法應對工業規模下的生產。另外，於自我 組織現象中，利用基板與溶液的親水性/疏水性相互作用 力，因此存在無法自由地選擇基板、圖案形狀的控制較困 難等課題。 除此以外，亦&出有光微影法、或使用電鑛加工篩孔 的方法等。 於光微影法中’提出有將銅结貼合於透明基板上，並 利用光微影法進行軸加工的方法（專利文獻該方法 可進行微細的加卫’可製作高開孔率（高穿透率）的筛孔， 導電性亦較向。但是’光微景彡法是驗微小面積的加工的 方法’大面積化並不容易。 於使用電鑛加工筛孔的方法中，提出有將於電鍵基板 上使用金屬的電解液進行魏而賴篩孔狀金屬電鍍層黏 接並轉印至透板上的方法（專敎獻8)。於專利文獻 8中，揭示有線寬為30 的篩孔。於該方法中，線寬較 寬’可容易地識㈣孔形狀。使線寬變細並不容易。 如此，藉由先前的技術所製造的表面具有金屬篩孔的 導電膜的導雜比較高，但於微細圖案的形成及大面積化 的任'^方面均存在課題。 [先前技術文獻] 201135757t [專利文獻] [專利文獻l]日本專购L332134號公 [專利文獻2]日本專利特開2004 55363號公報 [專利文獻3]日本專利特開2〇〇3_266583號公 [專利文獻4]曰本專利特開2〇〇9167〇〇號公報 [專利文獻5]日本專利特開2〇〇4-296424號公報 [專利文獻6]曰本專利特開2〇〇8_41445號公報 [專利文獻7]日本專利特開2〇〇3_46293號公報 [專利文獻8]日本專利特開平u_2698〇號公報 【發明内容】 本發明的課題在於提供一種用於以可大面積化的簡便 的方法製造透雜、導紐優異的導賴的製造方法。 本發明者等人為獲得如上所述的導電膜而努力研究的 結果’發現於基板表祕置與欲形成的圖案姻形狀的鑄 模後，使分散有金屬等導電材料的分散液於基板表面散 開，並對分散媒進行乾燥，藉此以較鑄模的線寬更微細的 線寬於基板表面上形成與鑄模相同形狀的圖案。進而，發 現可藉由轉印法而容易地將所形成的圖案轉印至膜等基板 上，從而完成本發明。 即，本發明是一種導電膜的製造方法，其包括如下步 驟.於基板（A)的表面上配置具有貫穿與基板（A)接觸 的面及其背面的網眼構造的開口部的鑄模（B)，使導電性 粒子（P)的分散液（D)於配置有鑄模（B)的基板（A) 的表面散開並進行乾燥，藉此於基板（A)與鑄模（B)的 6 201135757 連接點附近形成由導電性粒子（p)所形成的網眼狀構造 ()後將鑄模（B)自基板（A)上卸除，藉此使由導 電性粒子（P)卿成的罐狀構造（C)形躲基板（A) 的表面上。 另外，本發明是包括如下步驟的上述的導電膜的製造 方法.使由導電性粒子（P)所形成的網眼狀構造（C)形 成，基板（A)的表面上後，進而於基板（A)的表面上形 成樹脂層’於其上配置基板（E)後’將基板（A)剝離， 藉此將由導電性粒子（p)所形成的網眼狀構造（c)轉印 至基板（E)的表面。 另外，本發明是一種導電膜’其是於基板表面上藉由 導體而形成有微細圖案的導電膜，其具有下述（1 )〜下 述（ΠΙ )的特徵： (I )上述微細圖案具有網眼構造。 (U )上述微細圖案的線寬為〇.5 μιη〜6 μιη。 (ΠΙ )上述微細圖案的細線的剖面的形狀具有上方書 有弧形的弓形構造。 [發明的效果] 本發明的製造方法能夠以可大面積化的方法簡便地製 造透明性、導電性優異的導電膜，因此工業價值大。 另外，本發明的導電膜的透明性、導電性優異，進而 町簡單地製造，因此工業價值大。 *為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 易懂’下文特舉較佳實施例’並配合所附圖式，作詳細說 201135757 明如下。 【實施方式】 對本發明的導電膜的製造方法進行說明。 本發明的導電膜可藉由包括如下步驟來製造：於基板 (A)的表面上配置具有貫穿與基板（a)接觸的面及其背 面的網眼構造的開口部的鑄模（B)，使導電性粒子（p) 的分散液（D)於配置有鑄模（b)的基板（A)的表面散 開並進行乾燥，藉此於基板（A)與鑄模（B)的連接點附 近形成由導電性粒子（p)所形成的網眼狀構造（c)後， 將鑄模（B)自基板（A)上卸除，藉此使由導電性粒子（p) 所形成的網眼狀構造（C)形成於基板（A)的表面上。 另外，本發明的導電膜亦可藉由包括如下步驟來製 造：使導電性粒子〇>)的分散液⑼於基板⑷的表 面上散開，自於基板（A)的表面散開的分散液（D)的上 方，配置具有貫穿與基板（A)接觸的面及其背面的網眼 構造的開口部的鑄模（B)並進行乾燥，藉此於基板（A) 與鑄模（B)的連接點附近形成由導電性粒子所形成 的網眼狀構造（C)後，將鑄模（B)自基板（A)上卸除， 藉此使由導電性粒子（P)所形成的網眼狀構造（c)形成 於基板（A)的表面上。 <基板（A) > 本發明中所使用的基板（A)的表面與後述的導電性 粒子（P)的分散液（D)的接觸角較佳為〇丨。〜5〇。，接 觸角更佳為0.1°〜30。，接觸角進而更佳為〇丨。〜2〇。。 8 201135757 行表面處理。作為表面處理的=對基板⑷進 照射處理、電晕放電處=子=射處理、編 等有機溶劑的清洗處理。子束處理等；利用丙酮、醇 若考的形狀，例如可列舉：平板狀、膜狀。 右考慮彳呆作的谷易性，則較佳為平板狀。 铭箄2基的材質’例如可列舉:玻璃;不鏽鋼、 鋁等金屬’聚§曰树脂、丙烯酸樹脂等樹脂。 ^將形成有後述的網眼狀構造（c)的基板（a)用作 透，導電構件時，可選擇玻勉透师丨脂⑽透明基板作 為基板（A)。 當使用透明樹脂作為基板⑷肖，楊式模數較佳為 0.5 GPa以上，130〇c下的熱收縮率較佳為1%以下，溶點 較佳為70°C以上，膜厚較佳為15μιη以上。 作為透明樹脂，例如可列舉··聚對苯二曱酸乙二酯、 聚對苯二甲酸丁二g旨、聚萘二曱酸乙二醋等聚醋樹脂；聚 曱基丙烯酸曱酯等丙烯酸樹脂；聚碳酸酯；聚醚砜；聚砜； 聚烯烴；聚醯亞胺；聚醯胺；聚醯胺醯亞胺；聚苯乙烯。 當需要網眼狀構造（C)的煅燒步驟時，可考慮煅燒 度來選擇基板（A)的素材。 〈鑄模（Β) > 本發明中所使用的鑄模（Β)具有貫穿與基板（Α)接 9 201135757 觸的面（s)及其背面（r)的網眼構造的開口部。可通過 該開口部而使後述的導電性粒子（P)的分散液（D)的分 散媒蒸發。另外，於並非開口部的部分（鑄模的網眼的邊 部女），可藉由表面張力而使導電性粒子（P)自我组織地 聚集° … 當藉由表面張力而使導電性粒子（p)自我組織地聚 集於鑄模的網眼的邊部分時，較佳為與基板（A)對向的 鑄模的各邊全部未密接於基板⑷。再者，即使當基板（A) 與鑄模+(B) *接時’於後述的步驟1_步驟3的乾燥步驟 中，亦藉由分散液（D)的表面張力而將鑄模（B)向上推。 作為銹模⑻’例如刊料_製、料的金網。 ^丄利用不脑製、崎的細線進行傾織或斜紋織而 成的金網_眼邊的交㈣起’若將其載置於基板 上’則網賴各邊不密接於基板（A)，故較佳。 相ηΓ二較= 與上述基板(A)的預備的表面處理 相冋的方法，亦賴模⑻預先實施表面處理。 當使用此種金㈣，料發明㈣ 眼狀構造（C )的線寬、開口部 :所&作的網 的線圖)的直徑、二：=由=該金網 r可r圓形、方形等任上=:用= :金_距’是指自 止的間隔。 主綠的中心為 利用電成形法所製作的網目艮構造的鑄模、或微筛亦可 201135757 用作鎊模（Β )。當使驗篩時，較佳為使微細粒子（例如， 奈米或微小尺寸的二氧化雜子）_或熔接於表面，炎 使二氧化帅子麟著或熔接的面與紐（Α)對向 後载置於基板（Α)上使用。 根據本發明的製造方法，可於基板（Α)上形成線寬 為用於鑄模（Β)的金網的線的直徑的·〜1/3左右的網 眼狀構造（C)。 線+的直徑較佳為5 μηι〜6〇 μιη，更佳為1〇叫〜3〇 μ^η若線的直控為5 μιη〜6〇 μιη，則所形成的網眼狀構造 C)的線寬亦較細，因此所獲得的導電膜的透明性變高。 田將微筛麟鑄模時，其網眼各邊的寬度較佳為與上述線 的直徑相同程度。 μ若鑄模⑻為無缺陷的有規則的網眼構造，則使用 j模所製作的導電膜的圖案成為有規則的網眼構造。所 :規則的網眼構造，是指各個網眼為相同形狀的網 造。 _ 如’當正方形的網眼、長方形的網眼、正六角形的 有各自的邊*連續時，該些為有規則的網眼構造。 二規貞丨的網眼構造相連續，導電性變得均勻。即，於 任何部位均錢$補的導電性。 <導電性粒子（P) > 2本發明中所使用的導電 例如 子、導電性聚合物的微粒子、碳。 *.、、、屬微粒子’例如可列舉：Au、Ag、Cu、Ni、 201135757

Pt、Pd、Fe、Cr、Zn、Sn 等务屈斗 L ^ 哥金屬，该些的氧化物，以及該 些的合金。該些之中，就導雷祕古二_ ^ ^ _ 电性冋而舌，較佳為Au、Ag、

Cu、Pt。另外，就成本方面 ， 处人a · 。較佳為Ag、Cu、銅鎳 辞。金（Cu、Ζη、Νι的合金）。金屬 種，亦可個兩_上。衫錄子可早獨使用一 作為導電性聚合物，例如可列舉：聚苯胺、聚嘆吩、 該些騎生物。導聚合物可單獨使用 亦可併用兩種以上。 導電性粒子（P)的質量平均粒徑較佳為1聰〜誦 邮，更佳為i励〜議nm，進而更佳為i麵〜3〇唧，特 佳為1 nm〜20 nm。導電性粒子⑺的質量平均粒徑越小， 對於鑄模（B)的圖案形狀的追隨性變得越高。 <分散液（D) > 導電性粒子⑺的分散液⑼的固體成分較佳為〇 〇1 質量°/❶〜80質量％，更佳為0.01質量％〜1〇質量％，進而 更佳為〇.〇1質量％〜5質量％’特佳為0.01質量。/❶〜3質量 扁。分散液（D)的固體成分越低，網眼狀構造（匚）的線 寬變得越細，因此可獲得色調淺、透明性高的導電獏。 作為分散液（D)的分散媒，例如可列舉：水；醇等 有機溶劑。該些之中，就蒸發速度適度，不存在揮發性有 機物（Volatile Organic Compounds ’ VOC)而言，較佳為 水。分散媒可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。 另外’為了導電性粒子（P)的分散穩定化，亦可使 用分散助劑。 12 201135757 <網眼狀構造（c)的形成> 本發明的網眼狀構造（c)可藉由改變使導電性粒 〇>)的分散液（D)於基板U)的表面散開的順序 以下述的製造方法1或製造方法2來製作。於該方法中， 使用具有網眼構造的開口部的鑄模（網眼狀的鑄模），因 可容易地獲得網眼狀的圖案的導電膜。 、 再者，於本發曰月中，所謂「導電膜」，是指包含由 性粒子⑺所形成的網眼狀構造（c)或對其進行導電化 處理而成者（以下，將其總稱為網眼狀構造物）、以及基 或樹脂層的具有導電性的膜或板狀（片材狀）物。土 另外，於本發明中，為便於說明，亦存在將「導電膜 稱為網眼狀構造（C)或網眼狀構造物的情況。 、」 藉由使用本發明的製造方法，例如即便是米量級的大 面積的導電膜，亦可簡便地製造。 以下’對各製造方法進行說明。 <製造方法1> 步驟1-1 :將鑄模（B)以不會因步驟u〜步驟L3 的操作而偏移的方式配置於基板（A)的表面上。（圖υ 步驟1-2 :於配置有鑄模（Β)的基板（Α)上，自鑄 模（Β)的上表面起使導電性粒子（ρ)的分散液（D)散 開。（圖2 ) 步驟1-3 :對分散液（d)的分散媒進行乾燥，藉此使 如下的網眼狀構造（C)自我組織地形成，該網眼狀構造 (c)是使導電性粒子（P)於基板（A)與鑄模的 13 201135757 連接點附近凝結而成者。 步驟1-4 ·•卸除鑄模（B)，藉此於基板（A)的表面上 形成由導電性粒子（P)所形成的網眼狀構造（C)，從而 獲得網眼狀構造物。（圖3) <製造方法2> 步驟2-1 :使導電性粒子（P)的分散液（D)於基板 (A)的表面上散開。（圖4) 步驟2-2 :將鑄模（B)以不會因步驟2-3的操作而偏 移的方式配置於散開有分散液（D)的基板（A)的表面。 (圖5) 步驟2-3 :對分散液（D)的分散媒進行乾燥，藉此使 如下的網眼狀構造（C)自我組織地形成，該網眼狀構造 (C)是使導電性粒子（p)於基板（A)與鑄模（B)的 連接點附近凝結而成者。 步驟2-4 :卸除鑄模（B)，藉此於基板（A)的表面上 形成由導電性粒子（P)所形成的網眼狀構造，從而 獲得網眼狀構造物。（圖6) 藉由製造方法1或製造方法2，可容易地獲得網眼狀 構造物，但就良率良好而言，較佳為製造方法1。 藉由本發明的製造方法，能夠以較鑄模（B)的線寬 更細的線寬，於基板（A)的表面上形成與鑄模（B)相同 形狀的圖案。例如，若將不鏽鋼製的金網用作鑄模（B)， 則藉由導電性粒子（P)而使線寬為構成該金網的不鏽鋼 線的直徑的1/1〇〜1/3左右的網眼狀構造物形成於基板 201135757 M * 一 · w ^ (A)的表面上。 網眼狀構造物的職㈣成鑄模⑻的線 外細的現象是由本發明者等人所發現的現象。k件格 該現象的原因推測如下··於上述步驟Μ或 中’在使分散液（D)乾燥的過程巾，藉由分散液 表面張力而將鑄模⑻向上推，伴隨乾燥的進行，於= 成鑄模（Β)的細線的下方，導電性粒子（ρ)在基板（Α〕 的表面上凝結。 於本發明的製造方法中，可容易地形成網眼狀構造物 的線的剖面形狀為如上方晝有弧形的弓形（凸型）的網眼 狀構造物。藉由線的剖面形狀躬形，表面電阻值變小， 於其後的轉印步驟中，轉印變得容易。 以下’對製造方法1的各步驟進行詳細說明。 <步驟1-1 > 本步驟是於基板（Α)的表面上配置鑄模（Β)的步驟。 田以批量操作來實施製造方法丨時，只要於將鑄模（Β) 自基板（Α)上卸除的步騍^4之前的期間内，兩者的位 置不偏^卩可，可使用公知的黏接劑或歸帶等。 但是，若於基板（Α)的表面進行黏接，則就該部分 無法形成網眼狀構造物而言，黏接部分較理想的是基板的 角。 基板（Α)與鑄模（Β)無需密接。鑄模（Β)的與基 板（Α)接觸的面（s)與基板⑷的間隔較佳為〇〇1 μΐη 〜20 μιη，更佳為o.oi μηι〜2 μιη。若面（s)與基板（Α) 15 201135757 的間隔為該範圍内’則可獲得使矯模（B)的圖案形狀幾 乎完全再現的網眼狀構造物。 〈步驟1-2〉 本步驟是使成為網眼狀構造物的原料的導電性粒子 (P)的分散液（D)於配置有鑄模（B)的基板（A)上 散開的步驟。於本步驟中，只要使分散液（D)於形成網 眼狀構造物的部分的一面上散開即可，且只要是可不使鑄 模（B)偏離基板（A) ’而將分散液（D)均勻地導入至 鑄模（B)的開口部的方法，則並無限定。 作為將分散液（D)導入至開口部的方法，例如可列 旋塗法、刮刀法、浸塗法、喷霧法、剪切塗佈法。 如上所述，預先對基板⑷進行表面處理，藉·“

<步驟1-3>

、減壓至大氣壓以下的方法。乾焊你 桑時間達到秒以μ _ v 乂上，較佳為達到 201135757 30秒以上二更佳為達到1分鐘以上的方式決定。 於對为散媒進行乾燥的過程中，導電性粒子（P)自 我組織地向鎮植、 缚模（B)與基板（A)所密接或接近的部分聚 集。^結果’形成與鑄模⑻相同形狀的圖案。 /θ右其他條件相同’則乾燥溫度變得越低，乾燥速度變 jit H成對於鑄模（Β)的圖案形狀的追隨性高、 密度高的線。 .於該步驟中自我組織地形成網眼狀構造物的原因在 於曰於對刀散媒進行乾燥的過程中，導電性粒子（p) 一 祕’-面藉由分散媒本身的表面張力而被吸引至 土板（A)與鑄模（B)的間隙。

於分散媒的乾燥後，亦可重複步驟〜步驟U。藉 此’亦可進-步提昇導麵的導紐。 ，S <步驟1-4> ^驟是將鑄模⑻自基板（A)上卸除的步驟 要不$所形成的_狀構造物，則方法並無特別限定。 人，對製造方法2的各步驟進行詳細說明。 <步驟2-1> 本步驟是使成為網眼狀構造物的原料的導電 的分躲（D)於練⑷咐面 子 邱八沾 I液（D)於形成網眼狀構造物的 邛分的一面上散開即可。 丹故切的 =為使分散液⑼散開的方法，例 法、刮刀法、浸塗法、儒法、剪切塗佈法。+知塗 17 201135757 〈步驟2-2> 本步驟是自步驟2-1中於基板（A)上散開的分散液 (D)的上方，將鑄模（B)配置於基板（A)上的步驟。 於^步驟中，只要步驟2-1中所散開的分散液（D)得到 乾燥、或者不會因表面張力而產生無分散液的部分，則配 置鑄模（B)的方法並無特別限定。作為配置鑄模（B)的 方法’可列舉步驟M中所例示的方法。 <步驟2-3> 本步驟是與步驟1_3相同的步驟。 乾燥後’亦可再次使導電性粒子（P)的分散液（£)) 進一步散開，並進行步驟2-3。藉此，亦可進一步提昇具 備網眼狀構造物的導電膜的導電性。 <步驟2-4> 本步驟是與步驟1-4相同的步驟。 <網眼狀構造物> 本發明令所獲得的網眼狀構造物可使線寬變成鑄模 (B)的線寬的1/1〇〜1/3左右。網眼狀構造物的線寬較佳 為 0.5 μιη〜6 μιη。 網眼狀構造物的透明性可藉由改變鑄模（Β)的開口 部的寬度而自由地變更。當使用微篩作為鑄模（Β)時， 由於微篩的規則性高，因此所獲得的網眼狀構造物的圖案 亦成為規則性優異的圖案。 當網眼狀構造物的線寬為〇.5 μιη〜6 μιη時，藉由調整 網眼狀構造物的開口部的寬度，可將例如於1 mm厚的玻

1S 201135757 璃基板（光線穿透率：90%〜93%)上形成導電膜時的光 線穿透率設定為80%以上。 本發明的網眼狀構造物可使線寬變成先前未曾有的細 度’因此可使開口部的寬度變小。 於為先前技術的較粗的線寬的情況下，為了提高網眼 狀構造物的透明性，必需使開口部的寬度變寬。由於開口 部為絕緣部分，因此若提高透明性，則絕緣部分變大，作 為透明導電膜的性能並不充分。 <導電化處理> 本發明中所獲得的網眼狀構造物可於形成由導電性粒 子（Ρ)所形成的網眼狀構造（C)後，藉由公知的方法進 行導電化處理。例如，作為導電化處理，可例示：使用煅 燒爐的方法、利用雷射或電子束的加熱、利用藥液的分散 劑的去除等方法。進行加熱來緞燒的方法較簡便，故較佳。 <锻燒處理> 通常，金屬微粒子為分散於水或有機溶劑中的分散液 的狀態，且表面吸附有用於維持分散穩定性的分散劑。當 使用金屬微粒子作為導電性粒子（ρ)時，於形成由金屬 微粒子所形成_眼狀構造（C)後，進行輯，藉此可 使金屬微粒子彼此熔接，而形成導電性高的導電膜。 煅燒時的加熱溫度較佳為5〇t>c〜6〇〇〇c，更佳為i〇〇£>c 〜450°c °锻燒時間根據加熱溫度或分散液⑼的物性而 不同’但難為5分鐘〜3Q分鐘左右。 锻燒可於藉由步驟丨_4或步驟2_4將戦⑻卸除後 201135757 進行，亦可於卸除前進行。 <電鍍> 本發明中所獲得的導電膜亦可於形成由導電性粒子 (P)所形成的網眼狀構造（c)後，將所形成的導電膜作 為電極來進行電鍍。藉此，金屬的細線的密度得到提昇， 因此可提昇導電性。 但是’於此情況下’由於電鍍的形成速度快，導電膜 的線寬及膜厚急遽增加，因此需要進行電鍍槽的金屬離子 濃度、電壓、電流值的調整等。 <表面保護> 於本發明中，亦可不實施後述的轉印步驟，而藉由透 ，樹脂等來塗佈（固定化）導電膜。當基板（A)為玻璃 等透明基板時，藉由上述方法可麟透明導電基板。 但疋，於此情況下，若使塗佈層較導電膜更厚，則導 ,電臈完全被透明樹脂等包覆，基板表面的導電性消失。去 欲一面維持透明導電基板的表面的導電性，一面提昇導$ 膜的對於基板的密接性時，必需調整塗佈層的厚度。 <其他> & 的所獲得料電膜亦可藉醜化鋅、氧化錫等 亦且;ίίΐΓ來塗佈。藉此，可使原本為絕緣層的開口部 ‘錫、摻錫Α化銦、軸氧化鋅、摻嫁氧 為透明導電膜，例如可列舉··氧化鋅 氧化錫、摻氟氧化:一 化鋅。 作為透明導電膜的形成方法，可使用先前已知的方 201135757 i解t如可列舉：真空蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法、熱 噴霧化學氣相沈積（Chemical Vapor Deposition， CVD)法、膠體法、溶膠凝膠法。 〈轉印步驟> ;本發明的製造方法中，可於使網眼狀構造物形成在 ^板（A)的表面上後，進而於基板（A)的表面上形成樹 脂層’然後將所獲得的樹脂層自基板（A)上剝離，藉此 將網眼狀構造物轉印至樹脂層的表面（轉印方法1)。 例如’可於使網眼狀構造物形成在基板（A)的表面 上後’進而於基板（A)的表面上塗佈單體組成物（X)並 進行聚合’藉此形成樹脂層，然後將所獲得的樹脂層自基 板（A)上剝離’藉此將網眼狀構造物轉印至樹脂層的表 面。作為其他方法’亦可代替單體組成物（X)，將樹脂組 成物（Y)塗佈於基板（A)的表面上，藉此形成樹脂層。 另外，於本發明的製造方法中，可於使網眼狀構造物 形成在基板（A)的表面上後，進而於基板（a)的表面上 塗佈早體組成物（X )或樹脂組成物（γ )，於其上配置夷 板（E)後，形成樹脂層，繼而將基板自基板 上剝離，藉此將網眼狀構造物轉印至基板（E)的表面（轉 印方法2)。例如，可於在基板（A)的表面上所塗佈的單 體組成物（X)上配置基板（E)後，使單體組成物（X) 聚合，藉此形成樹脂層，繼而將基板（E)自基板（a)上 剝離，藉此將單體組成物（X)的聚合物作為黏合劑而將 網眼狀構造物轉印至基板（E)的表面。作為他方法， 21 201135757 亦可於使基板（A)的表面上所塗佈的單體組成物（χ)半 硬化後，將基板（E)配置於經半硬化的單體組成物 ’繼而使經半硬化的單體組成物（χ)聚合，藉此形成 樹脂層，進而將基板⑻自基板（Α)上剝離，藉此將單 體組成物（X)的聚合物作為黏合劑而將網眼狀構造物轉 印至基板（Ε)的表面。 Α較佳為於塗佈單體組成物（X)或樹脂組成物⑺之 1藉由UV照射處理、準分子照射處理、電㈣射處理、 處理、電子束處理等預先對形成有網眼狀構造物 偏Ϊ/Α)的表面進行處理。藉由該操作，網眼狀構造 物的轉印變得容易。 <單體組成物（X) > H'i發财所使㈣單體組錢（χ)為光硬化性單體 3 或熱硬化性單體組成物（x2)，該些可單獨 使用一種，亦可併用兩種以上。 另外，當使用透明的基板作為基板⑻時 得的聚合物(樹脂層)與基板(E)的折射率Ϊ變 .以下。聚合物（樹脂層）與基板⑺ 小，透明性轡俱抵古$ . ^射旱差越 f生支传越同。再者，折射率可根據瓜 利用光學工業（股份）製造的咖 = <光硬化性單體組成物（χι) > 仃涮疋。 當使用光硬化性單體組成物（χι)時， =Α)的表面上的光硬化性單體組成物（昭 線專活性能量射線來進行聚合，藉此轉印導電丄:、射紫外 22 201135757 料ίΐί性單體組成物（X1)含有乙⑽單體r n由 先聚合起始劑（X2)。 ^示早體（xl)與 其混合比率就硬化速度適度而言 ⑻⑽質量份，《合起始劑 系單體 若光聚合起始劑⑽為1〇質量份:二：2 ::外， 物的著色得到抑制。 丨所獲侍的聚合 〈乙烯系單體（xl) > 作為乙烯系單體（xl)，例如可 烯基的乙烯系單體（χ1·υ、 舉^有至少2個乙

Ui-2)。 ，、有1個乙婦基的乙婦系單體 作為具有至少2個乙職的乙烯系單體（χΐ

Si .二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲臭）

=，酯、四乙二醇二(甲基)丙軸旨、聚丁二醇:ί J '，‘丁二醇二(甲基)丙軸、!，6-已二;二Γ甲 基)丙烯酸醋、1，9·壬二醇二(甲基)丙婦酸醋、三 烧三(曱基)丙烯酸醋、季戊四醇四（曱基)丙稀酸醋ς 一 (了基)丙稀酸醋、二季戊四醇六（甲基)丙歸酸醋。另外，$ ，舉.公知的酉旨-聚（曱基)丙烯酸酉旨、公知的胺基甲酸醋 聚(甲基)丙烯酸醋、公知的環氧-聚(曱基)丙烯酸醋、公知 的％氧乙烷改質雙酚Α二（曱基)丙烯酸酯等。 該些可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。 作為具有1個乙烯基的乙稀系單體（χ12)，例如可列 23 201135757 __ 1 舉：（甲基)丙烯酸曱酯、（曱基)丙烯酸乙酯、（曱基)丙烯酸 丁酯、（甲基)丙烯酸己酯、（曱基)丙烯酸環己酯、（曱基)丙 烯酸二環戊烯酯、（甲基)丙烯酸苯酯、（曱基)丙烯酸苄酯、 (曱基)丙烯酸苯氧基乙酯、（曱基)丙烯酸異莰酯、（曱基)丙 烯酸2-羥基乙酯、（甲基)丙烯酸二氧磷基乙酯、苯乙烯。 該些可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。 當併用乙烯系單體（xl-1)與乙烯系單體（χ1·2)作 為乙烯系單體（XI)時，相對於乙烯系單體1〇〇 質量份，較佳為使用乙烯系單體（xl_2) 01質量份〜20 質量伤，更佳為使用0.5質量份〜15質量份，進而更佳為 使用1質量份〜10質量份。若使用乙烯系單體（χ1_2)〇 ι 質量份以上，則可降低光硬化性單體組成物（χι)的黏度。 另外，若使用乙稀系單體（xl_2) 20質量份以下，則不會 降低所獲得的聚合物的耐熱性。 <光聚合起始劑（x2) > 作為光聚合起始劑（x2)，例如可列舉：安息香單曱醚、 二苯基酮、1-羥基環己基苯基酮（Ciba japan(股份）製造， IRGACURE184 (商品名））、2-羥基_1气4-[4-(2-羥基-2-曱基 丙醯基)-苄基]-苯基}-2-甲基丙烷—μ酮（Ciba Japan (股份） 製造，IRGACURE127 (商品名））等羰基化合物；一硫化 四曱基秋蘭姆、二硫化四甲基秋蘭姆等硫化合物；2,4,6_ 二曱基苯曱醯基二苯基氧化膦、雙(2,4,6·三曱基苯曱醢基) 笨基氧化膦等醯基氧化膦類；雙(1^5_2,4_環戊二稀_丨_基)_ 雙似二氟各即-咐嘻小私笨基放⑽^坤⑽：股份） 24 201135757f 製造’ IRGACURE784 (商品名））。該些之中，就硬化性 優異而言’較佳為1-羥基環己基苯基酮、2_羥基_1{4_[4_(2_ 沒基·2_甲基丙醯基)_节基苯基}_2_甲基丙烧小嗣、2,4，卜 三曱基苯甲醯基二苯基氧化膦。 該些可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。 〈光硬化的方法> 作為用於光硬化的活性能量射線的光源，例如可列 舉：化學燈、低壓水銀燈、高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、 無電極UV燈（Fusion UV Systems公司製造）、可見光鹵 素燈、氙氣燈、太陽光。 照射活性能量射線時的環境可為空氣中，亦可為氮 氣、氬氣等惰性氣體中》 作為活性能量射線的照射能量，較佳為以使於2 〇 〇 n m 〜600 nm，較佳為320 nm〜390 nm的波長範圍内的累計 能量達到0.01 j/cm2〜1〇 j/cm2，較佳為〇 5 J/cm2 〜8 J/cm2 的方式進行照射。 較佳為將基板（A)側作為背面，並自表面侧照射活 性能量射線。 〈熱硬化性單體組成物（X2) > 當使用熱硬化性單體組成物（X2)時，可對塗佈於基 板（A)的表面上的熱硬化性單體組成物（χ2)施加熱來 進行聚合，藉此轉印網眼狀構造物。 熱硬化性單體組成物（Χ2)含有乙烯系單體（χ1)與 熱聚合起始劑（x3)。 25 201135757 其混。比率就硬化速度適度而言，相對於乙稀系單體 ⑷1⑻質量份，熱聚合起始劑（χ3)較佳為〇]質量 份〜10質量份。若熱聚合起始劑（x3U() lf量份以上， 則熱硬化性單舰成物（X2)的硬化性得職昇。另外， 始Γχ3)為10質量份以下，則所獲得的聚合 物的著色付到抑制。 冉耆 奸早成物（X2)中所使㈣乙稀系 與光硬化性單體組成物（X1)巾所㈣的 系早體（xi)相同。 <熱聚合起始劑（x3) > 作為熱聚合起始劑（x3)，例如可列舉：2,2，偶氛雙異 丁腈、4,4’-偶氮雙_(4·氰基戊酸)等偶氮化合物·過硫酸錄 ，，過硫酸，合物；二異丙基笨過氧化氫、過氧化氮對薄 =·元異丙|過氧化氫、第二丁基過氧化氫等有機過氧化 <熱硬化的方法> 較佳為於6Gt〜13Gt的溫度下賴硬錄單體組7 物（X2)加熱〇j小時〜2小時左右。 <樹脂組成物（Y) > 作為本發明中所使用的樹脂組成物 明，曰:為主成分，如可例示:丙烯酸系樹脂、聚3 =月=、丙烯腈系樹脂、聚_系樹脂、聚g|系樹脂 、私月曰、二聚氰胺系樹脂、環氧樹脂等透明樹脂。 進而，樹脂組成物（γ)較佳為於溶劑等令稀釋而製 26

201135757 w I 一 < W 備成清漆。作為該溶劑，例如可列舉：苯、曱苯、二甲苯、 曱基乙基_、曱基異丁基酮、丙酮、曱醇、乙醇、異丙醇、 2 丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲趟、丙二醇單 曱醚乙酸酯、二丙酮醇、N，N，-二甲基乙醯胺等。樹脂組成 物（Y)亦可含有紫外線吸收劑等添加劑。 藉由於使樹脂組成物（Y)熔融的狀態下進行，塗伟， 可形成樹脂層。另外’例如當將樹脂組成物（γ)於溶劑 中稀釋後使用時，藉由於塗佈後進行加熱（乾燥）等，可 形成樹脂層。 <基板（E) > 作為轉印方法2中所使用的基板（E)，就可獲得透明 的導電構件而言，較佳為使用透明的材質。 作為透明的材質，較佳為可撓性透明樹脂膜、透明樹 脂片材’具體而言’可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯 (Polyethylene Terephthalate，PET)等的聚醋膜；聚乙烯 或聚丙烯等的聚烯烴膜；聚碳酸酯膜；丙烯酸膜；降莰烯 膜0 <連續製程的流程> 本發明的製造方法考慮生產性，較佳為設定成連續製 程。關於連續製程，使用概略圖（圖15〜圖17)進行說明。 <導電膜形成步驟的連續化> 將連續地實施本發明中的「導電膜」的形成時所設想 的製程的概略圖示於圖15。 將基板（A) 1移送至用於調整與導電性粒子（P)的 27 201135757 分散液（D)的接觸角的表面處理步驟m # 2配置在基板（A) 1的上表面後，將基板瑪模广 送至使分散液（D)散開的步驟20、^燥步^3) 1依次移 此時，將鑄模（B) 2設定成圓筒狀或環帶【Ο，。

更高效地連續地形成導電膜。 錯此J 藉由表面處理步驟10而使基板（A)1 、⑼的接觸㈣小，藉此分散液⑼藉由表面張== 速地於基板（A) 1的上表面一致地散開。 重複2次以上，亦可 另外，藉由將步驟20〜步驟3〇 進一步提昇導電性。 於乾燥步驟之後，視需要亦可設置炮燒步驟。 <轉印步驟的連續化> & 層 將連續地實施本發明中的「轉印」時所設想的製程 一例的概略圖示於圖16«本例是代表如下型鲅的例子. 基板（E) 3配置於基板（A)丨的表面上職佈的單體 成物（X)上後，使單體組成物⑻聚合，藉此形

麻A 、視需要，於藉由表面處理步驟1〇進行表面處理後，將 形成有導電朗基板（A) 11依序移送至塗佈單體組成物 (X)的步驟40、使單體組成物⑻聚合的步驟5〇。 於步驟40之後、步，驟50之前，將基板⑻3按壓於 塗佈有單體組成物（X)的基板（A) u上並使單體組成 物（X)聚合’然後自基板（A) i上剝離基板（E) 3，藉 此可獲得導電膜被轉印至基板⑻3上的導電構件（產品） 28 201135757 31 (轉印方法2)。 =基板⑻3按壓於基板⑷n =即可。按壓輥亦承擔如下的作用 = 單體組成物（Χ)中的空^表面上擴展’一面趕走捲入至 〈導電膜形成〜轉Ϊ步驟的連續化〉 亦可將自「導電膜」的形成至「轉印」為 本發明中所獲得的形成有導 導電膜的聚合物(樹脂層)(轉印方法小二= 電膜的基板（Ε)(轉印方半从、曾奋 轉Ρ有導 為導電構件_ )料雜均«’因此作 本發明中所獲得_成有導電膜的基板⑷、 電膜的聚合物(樹脂層)(轉印方 印有導電朗紐⑻（轉印杨2)的透雜亦^轉 因此尤其作為透明導電構件有用。 、 藉由本發明的方法所獲得的導電膜的較佳的型態是如 :的板表面上藉由導體而形成有微細圖 案’且具有下述⑴〜下述（DI)的特徵：_ (I )上述微細圖案具有網眼構造； (Π)上述微細圖案的線寬為^μιη〜6μιη:以及 (m)上述微細圖案的細線的剖 有弧形的弓形構造。 1工石堇 29 201135757 * a 於本發明中，所謂網眼（狀）構造（ϊ )，是指利用幾 根線^又連結若干個點而成的構造。上述（I)的網眼構造 可為有規則的網眼狀的構造，另外，亦可為不規則的網眼 狀的構造’但特佳為有規則的網眼狀的構造。 於本發明中’所謂有規則的網眼狀的構造，是指各個 網眼為相同形狀的網眼構造。例如，當正方形的網眼、長 方形的網眼、正六角形的網眼共有各自的邊而連續時，該 些為有規則的網眼構造。 於本發明中，由於有規則的網眼狀的構造對導電膜的 質產生較大的影響這一點，因此較佳為於包含較佳為透 明且絕緣性的膜、及不透明的導體部分的導電膜中，有規 則的構造遍及大面積而連續。 再者，於為如上所述的包含透明且絕緣性的膜、及不 透明的導體部分的導電膜的情況下，在幾μιη以下的量級 中，即使是有規則的網眼狀的構造，因導電部分與絕緣部 分的連續，故若對導電部分與絕緣部分進行比較，則於嚴 格意義上，亦可以說導電性不均勻，但於實際的導電膜的 用途中’成為問題的情況較少。 另外，關於（Π)的線寬，作為不透明部分的導體的 線寬若為以人眼無法確認的粗細，則作為導電膜看上去透 明，因此線寬為遠小於作為人的視覺的解析度的下限的30 μηι的值，進而，為提高透明性，線寬較佳為小於3〇 μιη。 於本發明中，可製成藉由現有技術難以達成的6 μχη以下 的細線。關於（皿）的剖面形狀，由於剖面具有弓形，因 201135757. 此線的厚度大於藉由先前技術所製造的導體細線，因此， 可使表面電阻率變小。 進而，本發明的導電膜較佳為（IV)光線穿透率為8〇% 以上，該穿透率越高，作為透明導電膜越佳。穿透率受到° 成為基底的透明膜的影響較大，但亦受到導體部分的A口 徑的影響。具備上述（Ϊ )〜上述（IV)的特徵的導^膜 就可使高導電性與高穿透性並存，且於導電膜表 h 部分，表面電阻率均顯示固定的數值這一點上特佳γ π 本發明的導電膜的表面電阻率較佳為100 Ω/口以下， ^佳為ι〇Ω/口以下。導電膜的表面電阻率是產品的基本性 能之一，藉由該表面電阻率來決定用途，若為100 Ω/口以 下，則可應用於電磁波遮罩、太陽電池用、顯示器用等各 ，用途。由於導電膜上的導體於基板上藉由表面張力而固 疋且其剖面具有弓形，因此線的厚度大於藉由先前技術所 製造的導體細線，因此，可使表面電阻率變小。 <用途> 本發明中所獲得的導電構件可較佳地用於電漿顯示 器、液晶顯示器、場發射顯示器、電致發光顯示器、電子 ，等圖像顯示褒置用透明電極；觸摸面板用透明電極；太 陽電池用透明電極；電磁波屏蔽膜等用途。 [實例] 以下，列舉實例更詳細地說明本發明，但本發明並不 限定於該些實例。 <線寬、開口部的寬度（間距）的測定> 31 201135757 使用光學顯微鏡（奥林巴斯（〇lympUS )(股份）製造’ 系統顯微鏡BX51123MDS (商品名））觀察導電膜，根據 圖像對線寬、開口部的寬度各測定5個部位，將其平均值 作為線寬、開口部的寬度。 <透明性（光線穿透率）的測定> 使用測霾計（日本電色工業（股份）製造，NDH2〇〇〇 (商品名））測定試樣的5個部位的光線穿透率，將其平均 值作為透明性（光線穿透率）<^ · 〈導電性（表面電阻值）的測定> 於電阻率計（三菱化學（股份）製造，L〇resta Gp (商 品名））上串聯地安裝四點探針（f〇Ur-p〇int pr〇be)，測定 試樣的5個部位的表面電阻值，將其平均值作為導電性（表 面電阻值）。 <單體組成物（X)的製備> 按以下所示的比例混合各原料，製備單體組成物 (X) ° 單體組成物（X); New Frontier BPEM-10 40皙眚 (環氧乙烷改質雙酚A二甲基丙烯酸脂） New Frontier GX-8662V 35質量％ (胺基曱酸酯聚丙烯酸酯） Acryester PBOM 20質量％ (聚丁二醇二曱基丙烯酸脂） New Frontier PHE 5質量％ 32 201135757^ (丙烯酸苯氧基乙脂） IRGACURE184 1.6 質量 ％ 上述原料中，New Frontier BPEM-10、New Frontier GX-8662V、New Frontier PHE均為第一工業製藥（股份） 製造，Acryester PBOM為三菱麗陽（股份）製造， IRGACURE184 為 Ciba Japan (股份）製造。 <實例1〜實例11> 作為基板（A)，使用玻璃基板（尺寸：5〇 mmx5〇 mmxl.O mm，光線穿透率：91%，表面電阻值：ι〇ι〇 Ω/α 以上’松浪硝子工業（Matsunami Glass Ind)(股份）製造）。 作為鑄模（B)’使用表1所示的不鏽鋼製的金網（平 紋織的金網）。 作為分散液（D)，利用去離子水將下述的金微粒子的 水分散液以成為表1所示的固體成分的方式適當稀釋後使 用。

Finesphere Gold W011(立邦漆（Nippon paint)(股份） 製造，導電性微粒子：金，質量平均粒徑為1〇 nm，固體 成分為10質量％ (商品名））

FinesphereGoldWIOl (立邦漆（股份）製造，導電性 微粒子：金，質量平均粒徑為2〇nm，固體成分為1〇質量 % (商品名）） 於玻璃基板的表面配置不鏽鋼製的金網，然後使表i 所示的塗佈量的金微粒子的水分散液散開，於5艽下靜置 60分鐘，使水分散液乾燥。 33 201135757 將不鏽鋼製的金網自玻璃基板的表面卸除後 ，於加熱 至表1所示的煅燒溫度的乾燥機中對金微粒子進行烺燒， 使金的網眼狀構造（正方形的有規則的網眼）形成於玻璃 基板上，從而獲得導電膜。 繼而’使用桌上型光表面處理裝置（SENLIGHTS (股 份）製造，低壓水銀燈PL16-110 (商品名）），於自光源的 距離為15 mm的位置設置形成有導電膜的玻璃基板，對玻 璃基板的表面（導電膜侧）進行約丨分鐘的uv照射。 繼而，自玻璃基板的導電膜的上方，使用玻璃吸管塗 佈單體組成物（X) ’然後一面以不捲入氣泡的方式按壓一 面配置作為基板（E)的PET膜（東洋紡織（股份）製造， A4300 (商品名），厚度：188 μιη，光線穿透率：88%，表 面電阻值：1〇15Ω/口以上，無抗反射膜）。 其後’使用6 kW ( 120 W/cm)的高壓水銀燈，自pet 膜側照射800 mJ/cm2的紫外線，而使單體組成物（χ)聚 合。將PET膜自玻璃基板上緩慢地剝離，藉此獲得轉印有 導電膜的PET膜。 使用測微計（三豐（股份）製造，MDC-25MJ (商品 名））測定轉印有導電膜的PET膜的厚度的結果，均為220 μιη〜230 μηι。根據該結果，單體組成物（χ)的聚合物（樹 脂層）的厚度為30 μηι〜40 μιη。 <實例12> 使金微粒子的水分散液散開並於5°C下乾燥60分鐘 後，進而重複相同的操作（散開〜乾燥進行2次），除此以 34 201135757 外，以與實例5相同的方式獲得導電膜。 <製造例1 (鑄模（B5)的製作）> 於250個篩孔的微篩（Tokyo Process Service(股份） 製造’線寬：20 μιη ’間距：1〇2 μιη，開孔率：75%)的底 面。卩塗佈分散有粒徑為nm的二氧化矽粒子的懸浮液 後，進行乾燥。進而，藉由加熱至45〇。〇，而使二氧化矽 粒子熔接於微篩的底面部，使底面部親水化，形成表面具 有凹凸的細線狀。 <實例13> 將製造例1中所製作的鑄模（B5)以使熔接有二氧化 矽粒子的面朝下的方式配置於玻璃基板的表面，然後使金 微粒子的水分散液（質量平均粒徑：20nm，固體成分：1 w/%) 11〇 散開，於5ΐ下靜置6〇分鐘，使水分散液乾 燥。於乾燥過程中，金微粒子被吸引至細線，而形成規則 的網眼狀構造。 將鱗模（Β5)自玻璃基板的表面卸除後，於加熱至 450 C的乾燥機中對玻璃基板進行17 5分鐘煅燒，使金的 網眼狀構造形成於玻璃基板上，從而獲得導電膜。 (圖 13) 構成該導電膜的金的網眼狀構造是有規則的正方形， 線寬為4.5 μιη，網眼的間距為102μπ^另外，該導電膜的 表面電阻值為15Ω/[=ι。 、 <實例14> 除使用不鏽鋼板作為基板（Α)以外，以與實例3相 35 201135757, 同的方式製作。 <實例15> 除使用PET膜（東洋紡織（股份）製造，A43〇〇 (商 品名））作為基板（A)以外，以與實例3相同的方式製作。 <實例16〜實例17> 利用去離子水將作為分散液（D)的下述微粒子的水 溶液稀釋成固體成分為2質量。/。（實例16)或5質量％(實 例Π) ’然後以與實例3相同的方式製作。將此時的煅燒 溫度設定為275。〇 & SVW001 (立邦漆（股份）製造，銀微粒子水溶液， 平均徑為10 nm，固體成分為1〇質量％) 將實例1〜實例17的評價結果示於表i。 將若干個實例中的玻璃基板上的導電膜（轉印前）的 顯微鏡照片、及ΪΈΤ膜上的導電膜（轉印後）的顯微鏡照 片示於圖7〜圖13及圖18〜圖21。 可確認轉印前後的構成導電膜的金的網眼狀構造與所 使用的鑄模的構造幾乎相同，網眼狀構造的線寬較鑄模的 線寬（金網的情況下為線的直徑）更細。 另外’以原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope， AFM)的接觸模式觀察實例3中所獲得的玻璃基板上的導 電膜（轉印前）的細線的剖面形狀，結果可確認於玻璃基 板上該剖面形狀為上方晝有弧形的弓形。（圖14) <比較例1> 於15(TC、20kgf/cm2的條件下將厚度為2 μηι的銅箔 36 201135757 滾筒層壓於厚度為100 μηι的4 cm2的PET膜（Unitika(股 膜 份）製造，EmbletS (商品名））上，製成表面具有铜箔的 藉由光微影步驟，於該膜上形成線寬為18 μιη，間距 為250 μιη的篩孔狀幾何圖案。於光微影步驟中，進行抗 银劑（乾膜抗#劑（Dry Film Resist，DFR))黏合步驟、 曝光步驟、顯影步驟、化學蝕刻步驟、抗蝕劑剝離步驟。 將評價結果示於表1。 <比較例2> 於200°C、20 kgf/cm2的條件下，將表面包覆有Ni的

尼龍纖維（直徑：30 μιη)於厚度為125 μιη的4 cm2的PET 膜上壓接成篩孔狀，藉此製成間距為22〇 μπι，線寬為25 Μ·ηι ’膜厚為25 μιη的表面具有Ni篩孔的PET膜。 將評價結果示於表1。 〈比較例3> 使粒徑為2·2μιη的聚苯乙烯微粒子4g分散於水10g 中藉由剪切塗佈法將所獲得的分散液塗佈於玻璃基板 上，而形成單層膜。繼而，於加熱板上，於15〇。〇下加熱 30秒，藉由聚笨乙烯微粒子的熱變形而形成單層平面六角 構造。 使粒徑為20 nm的金的微粒子0」g分散於水〇 9 g 中，藉由剪切塗佈法將所獲得的分散液於上述形成有聚笨 乙烯單層膜的玻璃基板上塗佈10次，而使金粒子滲透。 利用加熱器熟至45(TC ’藉此使金粒子熔接，且藉由 37 201135757. 加熱去除聚苯乙烯單層膜，從而製成具有金的平面六角構 造的導電膜。 將評價結果示於表1。 38 201135757 J-ae 寸 αε 【I啭】 □/U】 £13隸 si οε

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Claims (1)

1. 201135757 七、申請專利範圍·· 1· 一種導電膜的製造方法，其包括如下步驟： 於基板（A)的表面上配置具有貫穿與基板（A)接觸 的面及其背面的網眼構造的開口部的鑄模（B)， 使導電性粒子（P)的分散液（D)於配置有上述鑄模 (B)的上述基板（A)的表面散開並進行乾燥，藉此於上 述基板（A)與上述鑄模（B)的連接點附近形成由上述導 電性粒子（p)所形成的網眼狀構造（C)後， 將上述鑄模（B)自上述基板（A)上卸除，藉此使由 上述導電性粒子（P)所形成的上述網眼狀構造（c)形成 於上述基板（A)的表面上。 2. 如申請專利範圍第1項所述之導電膜的製造方法， 其包括如下步驟： 於上述基板（A)的表面上配置上述鑄模（b)後，自 上述鑷模（B)的上部供給上述分散液（D)，並使上述分 散液（D)於上述基板（A)的表面散開。 3. —種導電膜的製造方法，其包括如下步驟： 使導電性粒子（P)的分散液（D)於基板（A)的表 面上散開， 自於上述基板（A)的表面散開的上述分散液（D)的 上方，配置具有貫穿與上述基板（A)接觸的面及其背面 的網眼構造的開口部的鑄模（B)並進行乾燥，藉此於上 述基板（A)與上述鑄模（B)的連接點附近形成由上述導 電性粒子（P)所形成的網眼狀構造（C)後， 44 201135757 將上述鑄模（B)自上述基板（A)上卸除， 藉此使由 上述導電性粒子（p)所形成的上述網眼狀構造（c)形成 於上述基板（A)的表面上。 4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之導 電膜的製造方法，其包括如下步驟： 使由上述導電性粒子所形成的上述網眼狀構造 (C)形成於上述基板（A)的表面上後，進而進行導電化 處理。 5. 如申請專利範圍第4項所述之導電膜的製造方法， 其中上述導電化處理為進行加熱來锻燒。 6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之導 電膜的製造方法，其包括如下步驟： 使由上述導電性粒子（P)所形成的上述網眼狀構造 (C)形成於上述基板（a)的表面上、以及進而對上述網 眼狀構造（C)進行電艘。 7. —種導電膜的製造方法，其包括如下步驟： 藉由如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之 方法形成網眼狀構造（C);以及於基板（A)的表面上形 成樹脂層，然後將所獲得的樹脂層自上述基板（A)上剝 離，藉此將上述網眼狀構造（C)或對其進行導電化處理 而成者轉印至上述樹脂層的表面。 8. —種導電膜的製造方法，其包括如下步驟： 藉由如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之 方法形成網眼狀構造（C);以及於基板（A)的表面上塗 45 201135757 佈單體組成物（x)或樹脂組成物（γ)，於其上配置美 ⑻後，在使用上述單體組成物（χ)的情況下 ^ 來形成樹脂層，然後將所獲得的上述樹脂層自上述美5 (Α)上剝離，藉此將上述網眼狀構造（c)或對其^ 電化處理而成者轉印至上述樹脂層的表面。 仃 9. -種導電膜，其是藉由如巾請專職圍第 8項中任一項所述之方法來製造。 10. 種導電膜，其是於基板表面上藉由$ 有微細圖_導電膜，其包括下述⑴ 特徵： < wiu的 (I )上述微細圖案具有網眼構造； (π)上述微細圖案的線寬為〇 5μιη〜丨以及 (冚）上述微細圖案的細線的剖面的形狀呈 有弧形的弓形構造。 上方1 11. 如申請專利範圍帛10項所述之導電膜，其 膜表面電阻率為100 Ω/口以下。 、 12. -種導電膜’其是將如申請專利範圍帛1〇項或 Π項所述之導賴轉印至可撓輯賴或細旨片材^ 成的，電膜，其包括下述（a)〜下述⑷的特徵： 8轉印後的導體的微細圖案具有網眼構造； ⑴轉印後的導體的微細圖案的線寬為〇〜 μιη ； ^ (c)導電膜的光線穿透率為77%以上；以及 ⑷導電膜表面電阻率為100 Ω/□以下。 46