JP6160040B2 - 導電性材料を含む平行線パターンの形成方法及び透明導電膜付き基材の形成方法 - Google Patents
導電性材料を含む平行線パターンの形成方法及び透明導電膜付き基材の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6160040B2 JP6160040B2 JP2012181940A JP2012181940A JP6160040B2 JP 6160040 B2 JP6160040 B2 JP 6160040B2 JP 2012181940 A JP2012181940 A JP 2012181940A JP 2012181940 A JP2012181940 A JP 2012181940A JP 6160040 B2 JP6160040 B2 JP 6160040B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parallel
- line
- parallel lines
- line segment
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
基材の表面に導電性材料を含む液体を1本以上の線分パターンとして付与し、該線分パターンにおいて該液体の乾燥過程における濡れ広がり及び動きにより幅手方向に2極化させ、互いに平行である2本の線分を形成させて平行線とする導電性材料を含む平行線パターンの形成方法により、交点において互いに交わる2組以上の前記平行線を有する透明導電膜からなる1つの透明電極を形成することを特徴とする透明電極の形成方法。
2.
前記基材の表面への線分パターンの付与は、インクジェットを用いた印字により行うことを特徴とする前記1記載の透明電極の形成方法。
3.
前記2組以上の平行線として、線幅が20μm以下の線分から構成された平行線を少なくとも含むことを特徴とする前記1又は2記載の透明電極の形成方法。
4.
前記2組以上の平行線として、該平行線を構成する各線分間の距離が10μm以上300μm以下の平行線を少なくとも含むことを特徴とする前記1〜3の何れかに記載の透明電極の形成方法。
5.
前記2組以上の平行線として、該平行線を線分方向に対して直行する方向で切断したときの断面形状が下記(ア)の条件を満たす平行線を少なくとも含むことを特徴とする前記1〜4の何れかに記載の透明電極の形成方法。
(ア)前記平行線を構成する各線分の高さをh1、h2とし、該各線分間における最薄部分の高さをZとしたときに、5≦h1/Z、且つ5≦h2/Zであること
6.
前記2組以上の平行線として、該平行線を線分方向に対して直行する方向で切断したときの断面形状が下記(ア)〜(エ)の全ての条件を満たす平行線を少なくとも含むことを特徴とする前記1〜5の何れかに記載の透明電極の形成方法。
(ア)前記平行線を構成する各線分の高さをh1、h2とし、該各線分間における最薄部分の高さをZとしたときに、5≦h1/Z、且つ5≦h2/Zであること
(イ)前記平行細線を構成する各線分の幅をW1、W2としたときに、W1≦10μm、且つW2≦10μmであること
(ウ)前記平行細線を構成する各線分間の距離をIとしたときに、10μm≦I≦200μmであること
(エ)前記平行細線を構成する各線分の高さをh1、h2としたときに、50nm<h1<5μm、且つ50nm<h2<5μmであること
7.
前記透明導電膜における全光線透過率が85%以上、且つ前記透明導電膜における面抵抗率が500Ω/□以下とすることを特徴とする前記1〜6の何れかに記載の透明電極の形成方法。
(ア)前記平行線を構成する各線分の高さをh1、h2とし、該各線分間における最薄部分の高さをZとしたときに、5≦h1/Z、且つ5≦h2/Zであること
(イ)前記平行線を構成する各線分の幅をW1、W2としたときに、W1≦10μm、且つW2≦10μmであること
(ウ)前記平行線を構成する各線分間の距離をIとしたときに、10μm≦I≦200μmであること
(エ)前記平行線を構成する各線分の高さをh1、h2としたときに、50nm<h1<5μm、且つ50nm<h2<5μmであること
(実施例1〜7及び比較例1、2)
インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製「KM512L」;標準液滴量42pl)により、表1に示す組成のインクNo.1〜8を用いて、表1に示す印字条件で、50℃に保持されたクリヤハードコート層付きPETフィルム(基材)の該クリヤハードコート層表面に、ワンパス印字で描画した。
インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製「KM512L」;標準液滴量42pl)により、表1に示す組成のインクを用いて、表1に示す印字条件で、50℃に保持されたクリヤハードコート層付きPETフィルムの該クリヤハードコート層表面に、2パス印字で描画した。
(実施例8)
インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製「KM512L」;標準液滴量42pl)により、表1に示したインクNo.3を用いて、表2に示す印字条件で、50℃に保持されたクリヤハードコート層付きPETフィルムの該クリヤハードコート層表面に、ワンパス印字で複数の塗布液細線からなる格子形状を描画した。
実施例8において、表1に示したインクNo.7を用いて、表2に示す印字条件としたこと以外は、実施例8と同様にして格子形状を描画した。
インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製「KM512L」;標準液滴量42pl)により、表1に示したインクNo.8を用いて、表2に示す印字条件で、50℃に保持されたクリヤハードコート層付きPETフィルムの該クリヤハードコート層表面に、2パス印字で格子形状を描画した。
表2において、実施例8と比較例4を比較すると、実施例8の方が、面抵抗率が低く、且つ全光線透過率が高いことがわかる。
(実施例9)
・第1インクによる描画
インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製「KM512L」;標準液滴量42pl)により、下記表3に示す第1インク(導電性材料含有インク)を用いて、表3に示す印字条件で、50℃に保持されたクリヤハードコート層付きPETフィルムの該クリヤハードコート層表面に、ワンパス印字で描画した。
上記第1インクによる描画の5秒後に、同じ画像位置に重なるように、インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製「KM512L」;標準液滴量42pl)により、下記表3に示す第2インク(透明インク)を用いて、表3に示す印字条件で、ワンパス印字で描画した。この間、基材は50℃に保持された。
10:平行線
11、12:線分
13:薄膜部
14:交点
2:基材
Claims (7)
- 基材の表面に導電性材料を含む液体を1本以上の線分パターンとして付与し、該線分パターンにおいて該液体の乾燥過程における濡れ広がり及び動きにより幅手方向に2極化させ、互いに平行である2本の線分を形成させて平行線とする導電性材料を含む平行線パターンの形成方法により、交点において互いに交わる2組以上の前記平行線を有する透明導電膜からなる1つの透明電極を形成することを特徴とする透明電極の形成方法。
- 前記基材の表面への線分パターンの付与は、インクジェットを用いた印字により行うことを特徴とする請求項1記載の透明電極の形成方法。
- 前記2組以上の平行線として、線幅が20μm以下の線分から構成された平行線を少なくとも含むことを特徴とする請求項1又は2記載の透明電極の形成方法。
- 前記2組以上の平行線として、該平行線を構成する各線分間の距離が10μm以上300μm以下の平行線を少なくとも含むことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の透明電極の形成方法。
- 前記2組以上の平行線として、該平行線を線分方向に対して直行する方向で切断したときの断面形状が下記(ア)の条件を満たす平行線を少なくとも含むことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の透明電極の形成方法。
(ア)前記平行線を構成する各線分の高さをh1、h2とし、該各線分間における最薄部分の高さをZとしたときに、5≦h1/Z、且つ5≦h2/Zであること - 前記2組以上の平行線として、該平行線を線分方向に対して直行する方向で切断したときの断面形状が下記(ア)〜(エ)の全ての条件を満たす平行線を少なくとも含むことを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の透明電極の形成方法。
(ア)前記平行線を構成する各線分の高さをh1、h2とし、該各線分間における最薄部分の高さをZとしたときに、5≦h1/Z、且つ5≦h2/Zであること
(イ)前記平行細線を構成する各線分の幅をW1、W2としたときに、W1≦10μm、且つW2≦10μmであること
(ウ)前記平行細線を構成する各線分間の距離をIとしたときに、10μm≦I≦200μmであること
(エ)前記平行細線を構成する各線分の高さをh1、h2としたときに、50nm<h1<5μm、且つ50nm<h2<5μmであること - 前記透明導電膜における全光線透過率が85%以上、且つ前記透明導電膜における面抵抗率が500Ω/□以下とすることを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の透明電極の形成方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012181940A JP6160040B2 (ja) | 2012-08-20 | 2012-08-20 | 導電性材料を含む平行線パターンの形成方法及び透明導電膜付き基材の形成方法 |
CN201380043690.2A CN104584142B (zh) | 2012-08-20 | 2013-08-20 | 包含导电性材料的平行线图案、平行线图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件以及电子设备 |
PCT/JP2013/072201 WO2014030647A1 (ja) | 2012-08-20 | 2013-08-20 | 導電性材料を含む平行線パターン、平行線パターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 |
KR1020157006276A KR101792585B1 (ko) | 2012-08-20 | 2013-08-20 | 도전성 재료를 포함하는 평행선 패턴, 평행선 패턴 형성 방법, 투명 도전막을 구비한 기재, 디바이스 및 전자 기기 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012181940A JP6160040B2 (ja) | 2012-08-20 | 2012-08-20 | 導電性材料を含む平行線パターンの形成方法及び透明導電膜付き基材の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014038992A JP2014038992A (ja) | 2014-02-27 |
JP6160040B2 true JP6160040B2 (ja) | 2017-07-12 |
Family
ID=50286880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012181940A Active JP6160040B2 (ja) | 2012-08-20 | 2012-08-20 | 導電性材料を含む平行線パターンの形成方法及び透明導電膜付き基材の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6160040B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI554338B (zh) | 2014-06-25 | 2016-10-21 | 柯尼卡美能達股份有限公司 | 圖案形成方法、附透明導電膜基材、畫像顯示裝置及畫像顯示用電子機器 |
WO2016068161A1 (ja) | 2014-10-28 | 2016-05-06 | コニカミノルタ株式会社 | パターン、パターン付き基材及びタッチパネル |
JP6620758B2 (ja) * | 2014-11-19 | 2019-12-18 | コニカミノルタ株式会社 | 機能性パターン、機能性パターン付き基材及び機能性パターンの形成方法 |
JP6413712B2 (ja) * | 2014-12-02 | 2018-10-31 | コニカミノルタ株式会社 | 細線パターン形成装置 |
JP6652124B2 (ja) | 2015-03-02 | 2020-02-19 | コニカミノルタ株式会社 | パターン形成方法 |
JP6413978B2 (ja) | 2015-08-21 | 2018-10-31 | コニカミノルタ株式会社 | 機能性細線パターン前駆体の形成方法、機能性細線パターンの形成方法、透明導電膜の形成方法、デバイスの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに、機能性細線パターン、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4325343B2 (ja) * | 2003-09-25 | 2009-09-02 | セイコーエプソン株式会社 | 膜形成方法およびデバイス製造方法 |
WO2011090034A1 (ja) * | 2010-01-19 | 2011-07-28 | 国立大学法人京都大学 | 導電膜及びその製造方法 |
JP2012054078A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Tohoku Univ | 透明異方導電性膜、及び、その製造方法 |
-
2012
- 2012-08-20 JP JP2012181940A patent/JP6160040B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014038992A (ja) | 2014-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2014030647A1 (ja) | 導電性材料を含む平行線パターン、平行線パターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 | |
JP6007776B2 (ja) | 平行線パターン形成方法、透明導電膜付き基材の製造方法、デバイス及び電子機器の製造方法 | |
JP6160040B2 (ja) | 導電性材料を含む平行線パターンの形成方法及び透明導電膜付き基材の形成方法 | |
JP6331457B2 (ja) | 塗膜形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 | |
US10993320B2 (en) | Population of metal oxide nanosheets, preparation method thereof, and electrical conductor and electronic device including the same | |
JP6508062B2 (ja) | パターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 | |
KR101385684B1 (ko) | 투명 전극의 제조방법 | |
CN104575698A (zh) | 透明导电膜结构 | |
KR101853193B1 (ko) | 기능성 세선 패턴 전구체의 형성 방법, 기능성 세선 패턴의 형성 방법, 투명 도전막의 형성 방법, 디바이스의 제조 방법 및 전자 기기의 제조 방법, 및 기능성 세선 패턴, 투명 도전막을 구비한 기재, 디바이스 및 전자 기기 | |
JPWO2017056978A1 (ja) | 機能性細線パターンの形成方法及び機能性細線パターン | |
KR102282834B1 (ko) | 패턴, 패턴을 갖는 기재 및 터치 패널 | |
WO2016148036A1 (ja) | 導電性パターン、導電性パターンの製造方法、タッチパネル及び液晶表示装置 | |
WO2016194987A1 (ja) | タッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法 | |
JP6418210B2 (ja) | 平行線パターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 | |
WO2017056977A1 (ja) | タッチパネルセンサーの製造方法及びタッチパネルセンサー | |
CN203117929U (zh) | 触控电极结构 | |
JP6665699B2 (ja) | 透明面状デバイス及び透明面状デバイスの製造方法 | |
JP6658800B2 (ja) | 機能性細線パターン、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 | |
WO2019064595A1 (ja) | タッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法 | |
JP6620758B2 (ja) | 機能性パターン、機能性パターン付き基材及び機能性パターンの形成方法 | |
WO2016140284A1 (ja) | パターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器 | |
JP6492805B2 (ja) | パターン形成方法、凹凸透明導電膜、太陽電池モジュール及び光取り出し素子 | |
Teymouri et al. | Promising hybrid graphene-silver nanowire transparent conductive electrode |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160322 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170516 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170529 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6160040 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |