WO2016194987A1 - タッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法 - Google Patents
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- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
Definitions
- the present invention relates to a touch panel sensor and a touch panel sensor manufacturing method, and more particularly to a touch panel sensor and a touch panel sensor manufacturing method capable of making it difficult to visually recognize the boundary between an X electrode and a Y electrode.
- the capacitive touch panel includes a plurality of X electrodes arranged in parallel on one surface of a transparent substrate, and a plurality of Y electrodes arranged in parallel on the other surface of the transparent substrate, and between these electrodes and a human finger.
- the position coordinates on the touch panel are detected by using the induced current generated in accordance with the change in the capacitance based on the electrostatic coupling in the touch panel.
- a transparent conductive film made of an indium-tin composite oxide (ITO) formed by a sputtering method has been used.
- Patent Document 1 An attempt has been made to configure the X electrode and the Y electrode with a transparent conductive film made of a conductor assembly.
- a transparent conductive film made of an assembly of conductive wires can achieve a lower resistance than an ITO transparent conductive film. Thereby, a large area touch panel, a pen input touch panel, etc. can be manufactured suitably.
- the material when a metal having a particularly low resistance is used as the conductive wire material, the material itself shields light, so that there is a limit to improvement in transmittance even if the conductive wire is thinned. It is possible to improve the transmittance to some extent by increasing the interval between the conductors to be arranged or reducing the line width of the conductors. However, the resistance value is increased, and broken lines are more likely to occur. Or
- Patent Document 1 it is desirable that the pattern formation and the X electrode and the Y electrode be accurately overlapped.
- the fine wires that configure the X electrode and the Y electrode due to an error in overlaying both electrodes and a shape error of the conducting wire. May be disturbed, and line thickening and interference fringes are likely to occur.
- high accuracy is required for superposition and there is a problem that leads to an increase in cost. Therefore, in order to solve this, by crossing the conducting wires constituting the X electrode and the Y electrode in a specific pattern, even if there is an error in overlaying both electrodes or a shape error of the conducting wire, the lattice shape is obtained. It is said that the effect that does not feel uncomfortable is obtained.
- the Y electrode is arranged through a transparent substrate with respect to the X electrode provided on the user side in use, the visibility of the X electrode is, for example, due to the difference in the optical path length. Higher than sex. As a result, a problem has been found that the user can visually recognize the boundary between the X electrode and the Y electrode.
- an object of the present invention is to provide a touch panel sensor and a method for manufacturing the touch panel sensor that can make it difficult to visually recognize the boundary between the X electrode and the Y electrode.
- a touch panel sensor comprising an X electrode on one surface of a transparent substrate, a Y electrode on the other surface of the transparent substrate, and a display disposed on the Y electrode side,
- Each of the X electrode and the Y electrode is configured by combining a plurality of conductive parallel thin wires each consisting of two conductive thin wires,
- the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive material constituting the Y electrode In order to reduce the difference in visibility between the X electrode and the Y electrode when the touch panel sensor is viewed from the X electrode side, the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive material constituting the Y electrode. Touch panel sensor with different shape and / or properties from the fine wire.
- the shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is a line width, the width of the conductive thin wire constituting the X electrode, and the Y electrode 2.
- the property of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is reflectance, the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode, and the Y electrode 2.
- the shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is a film thickness, the thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode, and the Y electrode 2.
- the touch panel sensor according to 1 above, wherein the thickness of the conductive thin wire to be configured is different. 7). 7.
- the conductive parallel thin wires constituting the X electrode and the Y electrode are used to dry the linear liquid containing the conductive material applied on the transparent substrate when the conductive material is dried. 10.
- a method of manufacturing a touch panel sensor comprising an X electrode on one surface of a transparent substrate, a Y electrode on the other surface of the transparent substrate, and a display disposed on the Y electrode side,
- the X electrode and the Y electrode are each formed by combining a plurality of conductive parallel thin wires each consisting of a pair of two conductive thin wires,
- the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive material constituting the Y electrode In order to reduce the difference in visibility between the X electrode and the Y electrode when the touch panel sensor is viewed from the X electrode side, the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive material constituting the Y electrode.
- a method for manufacturing a touch panel sensor which is different in shape and / or properties from a thin fine wire.
- the shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the shape of the conductive thin wire constituting the Y electrode is a line width, the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode, and the Y electrode 13.
- 14 14 The touch panel sensor according to 13, wherein the X electrode and the Y electrode are provided so that a line width of the conductive thin line constituting the X electrode is smaller than a line width of the conductive thin line constituting the Y electrode. Production method. 15.
- the property of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is reflectance, the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode, and the Y electrode 13.
- the shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is a film thickness, the thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode, and the Y electrode 13.
- the present invention it is possible to provide a touch panel sensor that can make it difficult to visually recognize the boundary between the X electrode and the Y electrode, and a method for manufacturing the touch panel sensor.
- FIG. 1 The figure explaining an example of a touch panel sensor Enlarged view of the main part of the touch panel sensor shown in FIG.
- the figure explaining the X electrode in FIG. The figure explaining the Y electrode in FIG.
- the figure explaining other examples of a touch panel sensor The figure explaining the further another example of a touch panel sensor Diagram explaining the coffee stain phenomenon
- the figure explaining an example of the parallel line formed on the transparent base material The figure explaining an example in case a transparent base material is a single layer structure
- the figure explaining an example in case a transparent base material is a laminated structure
- FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a touch panel sensor of the present invention.
- the touch panel sensor 1 has a plurality of belt-like X electrodes 3 arranged in parallel in the X-axis direction at a predetermined interval on the surface of a sheet-like transparent substrate 2, and a belt-like Y electrode 4 on the back surface in the Y-axis direction at a predetermined interval. A plurality of them are arranged side by side.
- the surface of the transparent substrate 2 is a surface disposed on the user side when the touch panel sensor 1 is used.
- a display can be arranged and used on the back side of the transparent substrate 2.
- the X-axis direction and the Y-axis direction are in a crossing relationship with each other.
- the X electrode and the Y electrode intersect each other at an intersection 5 with an interval corresponding to the thickness of the transparent substrate 2.
- the X electrode 3 and the Y electrode 4 are insulated from each other by the transparent substrate 2.
- the touch panel sensor 1 can be suitably used as a sensor for a touch panel such as a capacitance type by connecting the X electrode 3 and the Y electrode 4 to a control circuit, respectively. If it is a capacitive touch panel, using an induced current based on a capacitance change that occurs when a user's finger or conductor approaches or contacts the X electrode 3 and the Y electrode 4 during operation, The position coordinates of a finger, a conductor, etc. can be detected.
- Each X electrode 3 is composed of an assembly of conductive thin wires.
- Each Y electrode 4 is also composed of an assembly of conductive thin wires. This will be described with reference to FIGS.
- FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the touch panel sensor 1 shown in FIG. 1, and shows a part of the intersecting portion 5 (a square portion indicated by A in FIG. 1) in an enlarged manner.
- 3 shows only the X electrode 3 in FIG. 2
- FIG. 4 shows only the Y electrode 4 in FIG.
- the X electrode 3 is composed of an assembly of conductive thin wires 31.
- the X electrode 3 is configured by combining a plurality of conductive parallel lines 32 (hereinafter sometimes simply referred to as parallel lines) made up of a pair of conductive thin wires 31 and 31 that are parallel to each other.
- a first fine wire set 33a formed by arranging three sets of parallel lines 32 in parallel at a predetermined interval
- a second thin wire set 33b formed by arranging three sets of parallel lines 32 in parallel at a predetermined interval intersect each other.
- the X electrode 3 is configured by arranging a plurality of meshes.
- the Y electrode 4 is also composed of an assembly of conductive thin wires 41.
- the Y electrode 4 is configured by combining a plurality of parallel lines 42 each composed of a pair of conductive thin wires 41 and 41 parallel to each other.
- a first thin wire set 43a in which three sets of parallel lines 42 are arranged in parallel at a predetermined interval and a second thin wire set 43b in which three sets of parallel lines 42 are arranged in parallel at a predetermined interval intersect each other.
- a plurality of meshes are arranged to form the Y electrode 4.
- the first fine wire set 33 a constituting the X electrode 3 and the first fine wire set 43 a constituting the Y electrode 4 are in a parallel relationship with each other. And are arranged alternately so as not to overlap each other.
- the second fine wire set 33b constituting the X electrode 3 and the second fine wire set 43b constituting the Y electrode 4 are in a parallel relationship with each other and overlap each other. It is arranged alternately so that it does not become.
- a plurality of sets of parallel lines 32, 42 constituting each thin line set 33a, 33b, 43a, 43b are arranged side by side so that the conductive thin lines 31, 41 included therein are arranged at equal intervals.
- the X electrode 3 and the Y electrode 4 are configured by the aggregates of the conductive thin wires 31 and 41, respectively, the difference in visibility between the X electrode 3 and the Y electrode 4 when the touch panel sensor 1 is viewed from the X electrode 3 side.
- the shape and / or property of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 and the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 are made different. This makes it difficult to visually recognize the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4.
- the shape and / or properties of the conductive thin wires 31 and 41 can affect the visibility of the X electrode 3 and the Y electrode 4 constituted by the conductive thin wires 31 and 41.
- the shape for example, the cross-sectional shape of the conductive thin wires 31 and 41, more specifically, the line width, the film thickness, and the like can be preferably cited.
- the properties for example, the surface properties of the conductive thin wires 31 and 41, more specifically, the reflectance and the like can be preferably cited.
- the width of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is set to be the conductive thin wire constituting the Y electrode 4.
- the line width is preferably smaller than 41. Thereby, the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be preferably made difficult to visually recognize.
- the line width of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 is preferably in the range of 1.1 times or more and less than 1.5 times the line width of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3.
- the line widths of the conductive thin wires 31 and 41 constituting the X electrode 3 and the Y electrode 4 are not particularly limited, but can be preferably in the range of 1 ⁇ m to 20 ⁇ m, more preferably in the range of 2 ⁇ m to 15 ⁇ m. It is preferable to provide the above-described line width difference within the range.
- the reflectance of the conductive thin wires 31 and 41 When making the reflectance of the conductive thin wires 31 and 41 different, the visibility increases by increasing the reflectance, and the visibility decreases by decreasing the reflectance. Since the X electrode 3 disposed on the user side in use is highly visible with respect to the Y electrode 4, the reflectivity of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is the conductive thin wire constituting the Y electrode 4. It is preferable that the reflectance is less than 41. Thereby, the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be preferably made difficult to visually recognize.
- the reflectance can be obtained from the spectral reflectance measured on the surface on which the conductive thin wire to be measured is formed using a spectrophotometer.
- U-4000 type manufactured by Hitachi, Ltd.
- the back surface of the surface on which the conductive fine wire to be measured is formed is roughened, and then light absorption processing is performed with a black spray.
- the reflectance of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 is preferably in the range of 1.1 to 1.6 times the reflectance of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3. If it is this range, while being excellent in the effect of visual recognition difficulty, it can prevent suitably that the Y electrode 4 is too visible.
- the reflectivity of the conductive thin wires 31 and 41 constituting the X electrode 3 and the Y electrode 4 is not particularly limited, but is preferably in the range of 1% to 20%, more preferably in the range of 5% to 15%. It is preferable to provide the above-described reflectance difference within this range.
- the film thickness of the conductive thin wires 31 and 41 is made different, the visibility is increased by increasing the film thickness, and the visibility is decreased by decreasing the film thickness. Since the X electrode 3 disposed on the user side in use is highly visible with respect to the Y electrode 4, the film thickness of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is the conductive thin wire constituting the Y electrode 4. The film thickness is preferably smaller than 41. Thereby, the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be preferably made difficult to visually recognize.
- the film thickness of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 is preferably in the range of 1.1 times or more and less than 2.0 times the film thickness of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3.
- Each film thickness of the conductive thin wires 31 and 41 constituting the X electrode 3 and the Y electrode 4 is not particularly limited, but can be preferably in the range of 50 nm to 10 ⁇ m, more preferably in the range of 1 ⁇ m to 5 ⁇ m, It is preferable to provide the above-described difference in film thickness within this range.
- the shape and / or property may be set to the same conditions for all of the conductive thin wires 31 constituting the X electrode 3, or the conductive thin wires 31 constituting the X electrode 3. You may set a shape and / or property to different conditions for every part.
- the shape and / or properties are set to different conditions for each portion of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 will be described with reference to FIG.
- the X electrode 3 is formed by combining thin wire sets 33a and 33b.
- the conductive thin wires 31 constituting the parallel wires 32 arranged on both outer sides are provided with a smaller line width than the conductive thin wires 31 constituting the parallel wires 32 arranged on the center side. Yes.
- the conductive thin wires 31 constituting the parallel lines 32 arranged on both outer sides are adjacent to the conductive thin wires 41 constituting the Y electrode 4.
- the example in which the shape and / or the property are set to different conditions for each portion of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is shown.
- the portion of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 is shown. It is also preferable to set the shape and / or properties to different conditions for each.
- the thin wire sets 33a and 33b of the X electrode 3 are configured by three sets of parallel lines 32
- the thin wire sets 43a and 43b of the Y electrode 4 are configured by three sets of parallel lines 42.
- the number of sets of parallel lines 32 constituting the fine wire sets 33a and 33b of the X electrode 3 and the number of sets of parallel lines 42 constituting the fine wire sets 43a and 43b of the Y electrode 4 can be individually set. It is preferable to set in the range of 2 to 10 sets.
- the same value may be set for the number of sets of parallel lines 32 constituting the fine wire sets 33a and 33b of the X electrode 3 and the number of sets of parallel lines 42 constituting the fine wire sets 43a and 43b of the Y electrode 4. It is also preferable to set different values.
- the resistance value of the conductive thin wire also changes.
- the number of parallel lines constituting the thin wire set is made different between the X electrode and the Y electrode. . This will be described with reference to FIG.
- the number of parallel lines 32 constituting the thin wire sets 33 a and 33 b of the X electrode 3 (four pairs in the illustrated example) is represented by the number of parallel lines 42 constituting the thin wire sets 43 a and 43 b of the Y electrode 4.
- the number is larger than the number of sets (three in the illustrated example).
- the conductive thin wires 31 and 41 are arranged in a direction inclined with respect to the formation direction of the X electrode 3 and the Y electrode 4, but the present invention is not limited to this.
- the conductive thin wires 31 and 41 may be arranged in a direction parallel or orthogonal to the formation direction of the X electrode 3 and the Y electrode 4.
- the method of forming the conductive thin wires 31 and 41 is not particularly limited, but from the viewpoint of suitably adjusting the shape and / or properties of the conductive thin wires 31 and 41, a method of forming using the coffee stain phenomenon is preferably used. it can. This will be described with reference to FIG. In the following description, the case where the conductive thin wires 31 constituting the X electrode 3 are mainly formed will be described, but the conductive thin wires 41 constituting the Y electrode 4 can be formed in the same manner.
- a liquid 6 containing a conductive material is applied to the surface of the transparent substrate 2 in a line shape (FIG. 7A).
- a droplet discharge method such as an ink jet method can be preferably used.
- a conductive material is selectively deposited on both edges of the line-shaped liquid 6 by utilizing the coffee stain phenomenon.
- a parallel line 32 composed of a pair of two conductive thin wires 31 and 31 including a conductive material and parallel to each other is formed on the transparent substrate 2 (FIG. 7B).
- a further line-shaped liquid 6 is applied so as to intersect the parallel lines 32 formed as described above (FIG. 7C), and then the line-shaped liquid 6 is evaporated and dried.
- the parallel lines 32 can be formed so as to intersect the previously formed parallel lines 32 (FIG. 7D).
- the X electrode 3 as shown in FIG. 2 can be formed by combining a plurality of sets of parallel lines 32.
- the Y electrode 4 can be formed in the same manner.
- the drying of the line-shaped liquid 6 disposed on the transparent substrate 2 is faster at the edge than at the center, and the local deposition of the conductive material occurs at the edge of the line-shaped liquid 6.
- the edge of the line-shaped liquid 6 is fixed by the deposited conductive material, and shrinkage in the width direction of the line-shaped liquid 6 due to subsequent drying is suppressed.
- the liquid of the line-like liquid 6 forms a flow from the central portion toward the edge so as to supplement the liquid lost by evaporation at the edge. This flow causes additional conductive material to be carried to the edge and deposited.
- This flow is caused by immobilization of the contact line of the line-shaped liquid 6 accompanying drying and a difference in evaporation amount between the central portion and the edge of the line-shaped liquid 6. Therefore, in order to promote this flow, the conductive material concentration, the contact angle between the line-shaped liquid 6 and the transparent substrate 2, the amount of the line-shaped liquid 6, the heating temperature of the transparent substrate 2, the arrangement density of the line-shaped liquid 6 Alternatively, it is preferable to set conditions such as environmental factors such as temperature, humidity, and atmospheric pressure.
- a line-shaped liquid thin by using a droplet discharge method such as an ink-jet method.
- a conductive fine line formed from the line-shaped liquid by the coffee stain phenomenon is smaller than the line-shaped liquid. It becomes even thinner.
- the conductive fine wire can be made thin to the extent that it is difficult to visually recognize by itself.
- the X electrode and the Y electrode are formed by the aggregate of conductive thin wires, the boundary between the X electrode and the Y electrode is visually recognized as it is. As described above, by making the shape and / or property of the conductive thin wire different between the X electrode and the Y electrode, it is possible to make the boundary difficult to visually recognize.
- the line width of the conductive thin wire can be suitably adjusted by adjusting the concentration of the conductive material contained in the line liquid. Specifically, when increasing the line width of the conductive thin line, the concentration of the conductive material contained in the line liquid may be increased. When reducing the line width of the conductive thin line, the line liquid is What is necessary is just to make low the density
- conductive fine particles as a conductive material to be included in the line liquid, and adjusting the volume average particle diameter of the conductive fine particles, The reflectance of the conductive thin wire can be adjusted suitably.
- the conductive fine particles used for the conductive fine wires constituting the X electrode it is preferable to use those having a volume average particle diameter smaller than that of the conductive fine particles used for the conductive fine wires constituting the Y electrode.
- the conductive material contained in the line liquid include conductive fine particles and conductive polymers.
- the conductive fine particles are not particularly limited, but Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Ga.
- fine particles such as In can be exemplified, and among them, the use of metal fine particles such as Au, Ag, and Cu is more preferable because it can form conductive fine wires having low electrical resistance and resistance to corrosion.
- metal fine particles containing Ag, particularly silver nanoparticles are most preferable.
- the volume average particle diameter of these metal fine particles is preferably in the range of 1 to 100 nm, more preferably in the range of 3 to 50 nm. The particle size was measured with a Malvern Zetasizer 1000HS.
- carbon fine particles are used as the conductive fine particles.
- the carbon fine particles include graphite fine particles, carbon nanotubes, fullerenes and the like.
- the volume average particle diameter of the conductive fine particles can be adjusted and used in order to adjust the reflectance of the power transmission thin wire as described above.
- the conductive polymer is not particularly limited, but a ⁇ -conjugated conductive polymer can be preferably exemplified.
- the ⁇ -conjugated conductive polymer is not particularly limited, and polythiophenes, polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylenes, polyparaphenylene vinylenes, poly Chain conductive polymers such as paraphenylene sulfides, polyazulenes, polyisothianaphthenes, and polythiazyl can be used.
- polythiophenes and polyanilines are preferable in that high conductivity can be obtained. Most preferred is polyethylene dioxythiophene.
- the conductive polymer more preferably comprises the above-described ⁇ -conjugated conductive polymer and polyanion.
- a conductive polymer can be easily produced by chemical oxidative polymerization of a precursor monomer that forms a ⁇ -conjugated conductive polymer in the presence of an appropriate oxidizing agent, an oxidation catalyst, and a polyanion.
- the polyanion is a substituted or unsubstituted polyalkylene, a substituted or unsubstituted polyalkenylene, a substituted or unsubstituted polyimide, a substituted or unsubstituted polyamide, a substituted or unsubstituted polyester, and a copolymer thereof. It consists of a structural unit having a group and a structural unit having no anionic group.
- This polyanion is a solubilized polymer that solubilizes a ⁇ -conjugated conductive polymer in a solvent.
- the anion group of the polyanion functions as a dopant for the ⁇ -conjugated conductive polymer, and improves the conductivity and heat resistance of the ⁇ -conjugated conductive polymer.
- the anion group of the polyanion may be a functional group capable of undergoing chemical oxidation doping to the ⁇ -conjugated conductive polymer.
- a monosubstituted sulfate group A monosubstituted phosphate group, a phosphate group, a carboxy group, a sulfo group and the like are preferable.
- a sulfo group, a monosubstituted sulfate group, and a carboxy group are more preferable.
- polyanions include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, polyacrylic acid butyl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, polyisoprene sulfone. Acid, polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid, polyisoprene carboxylic acid, polyacrylic acid and the like. . These homopolymers may be sufficient and 2 or more types of copolymers may be sufficient.
- it may be a polyanion having F (fluorine atom) in the compound.
- F fluorine atom
- Nafion made by Dupont
- Flemion made by Asahi Glass Co., Ltd.
- perfluoro vinyl ether containing a carboxylic acid group and the like can be mentioned.
- a compound having a sulfonic acid is more preferable since the ink ejection stability is particularly good when the ink jet printing method is used and high conductivity is obtained.
- polystyrene sulfonic acid polyisoprene sulfonic acid
- polyacrylic acid ethyl sulfonic acid and polybutyl acrylate sulfonic acid are preferable.
- These polyanions have the effect of being excellent in conductivity.
- the polymerization degree of the polyanion is preferably in the range of 10 to 100,000 monomer units, and more preferably in the range of 50 to 10,000 from the viewpoint of solvent solubility and conductivity.
- a commercially available material can be preferably used as the conductive polymer.
- a conductive polymer (abbreviated as PEDOT / PSS) made of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid is used in H.264. C. It is commercially available from Starck as CLEVIOS series, from Aldrich as PEDOT-PSS 483095 and 560598, and from Nagase Chemtex as Denatron series. Polyaniline is also commercially available from Nissan Chemical as the ORMECON series.
- the concentration of the conductive material in the line-like liquid is preferably adjusted in order to adjust the line width of the conductive thin wire as described above. For example, it is preferable to adjust within a concentration range of 0.01 [wt%] or more and 0.5 [wt%] or less.
- liquid containing a conductive material used when forming a line-shaped liquid water, an organic solvent or the like can be used alone or in combination.
- the organic solvent is not particularly limited.
- alcohols such as 1,2-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, propylene glycol
- ethers such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monoethyl ether.
- the liquid containing the conductive material may contain various additives such as a surfactant.
- a surfactant for example, when forming a line liquid using a droplet discharge method such as an inkjet method, it is possible to stabilize the discharge by adjusting the surface tension etc. become.
- the surfactant is not particularly limited, but a silicon surfactant or the like can be used. Silicone surfactants are those obtained by modifying the side chain or terminal of dimethylpolysiloxane with polyether. For example, KF-351A and KF-642 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and BYK347 and BYK348 manufactured by Big Chemie are commercially available. Yes.
- the addition amount of the surfactant is preferably 1% by weight or less with respect to the total amount of the liquid forming the line liquid.
- the conductive thin wire it is also preferable to subject the conductive thin wire to a plating treatment. That is, it is preferable to form a metal film by plating on one or both of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode.
- the film thickness of the conductive thin wire can be adjusted by adjusting the plating conditions.
- electrolytic plating can be preferably used from the viewpoint of suitably adjusting the film thickness.
- Examples of the plating conditions include, but are not limited to, the plating processing time, the concentration of plating metal ions in the plating solution, and the current.
- the plating metal is not particularly limited, for example, silver, copper, nickel and the like can be preferably exemplified.
- FIG. 8 is a partially cutaway perspective view showing an example of parallel lines formed on a base material, and the cross section corresponds to a vertical cross section cut in a direction orthogonal to the direction in which the parallel lines are formed.
- the pair of two conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel line 32 do not necessarily have to be islands completely independent from each other.
- the two thin conductive wires 31, 31 are formed between the thin conductive wires 31, 31 by a thin film portion 30 formed at a height lower than the height of the thin conductive wires 31, 31. It is also preferred that it be formed as a connected continuum.
- the line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel line 32 are preferably 10 ⁇ m or less, respectively. If it is 10 micrometers or less, since it will become a level which cannot be visually recognized as one thin line
- wire width exceeding 10 micrometers may be sufficient considering that the visibility at the time of seeing from the X electrode side falls.
- the widths W1 and W2 of the thin conductive wires 31 and 31 are the height of the thinnest portion where the thickness of the conductive material is the thinnest between the thin conductive wires 31 and 31, and further the conductivity from the Z
- the width of the conductive thin wires 31 and 31 at half the height of Y1 and Y2 can be obtained.
- the parallel line 32 includes the thin film portion 30 described above, the height of the thinnest portion in the thin film portion 30 can be set to Z.
- the line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 are the conductivity from the surface of the transparent substrate 2.
- the width of the conductive thin wires 31 and 31 can be set to a half height of the heights H1 and H2 of the thin wires 31 and 31.
- the line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel line 32 can be made extremely thin as described above. Therefore, from the viewpoint of securing a cross-sectional area and reducing resistance, a transparent substrate It is desirable that the heights (also referred to as film thicknesses) H1 and H2 of the conductive thin wires 31 and 31 from the two surfaces are higher. Specifically, the heights H1 and H2 of the conductive thin wires 31 and 31 are preferably in the range of 50 nm to 5 ⁇ m.
- the H1 / W1 ratio and the H2 / W2 ratio are preferably in the range of 0.01 or more and 1 or less, respectively.
- the height Z of the thinnest portion where the thickness of the conductive material is the thinnest between the thin conductive wires 31, 31, specifically, the thinnest portion of the thin film portion 30 The height Z is preferably in the range of 10 nm or less. Most preferably, the thin film portion 30 is provided in the range of 0 ⁇ Z ⁇ 10 nm in order to achieve a balance between transparency and stability.
- the H1 / Z ratio and the H2 / Z ratio are each preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and particularly preferably 20 or more. .
- the range of the arrangement interval I between the conductive thin wires 31 and 31 is not particularly limited, and can be set as appropriate by setting the formation width of the line liquid. It is also preferable to set the arrangement interval I to a large value, for example, 50 ⁇ m or more, 100 ⁇ m or more, 200 ⁇ m or more, 300 ⁇ m or more, 400 ⁇ m or more, and further 500 ⁇ m or more.
- the arrangement interval I is preferably in the range of 100 ⁇ m to 1000 ⁇ m, and more preferably in the range of 100 ⁇ m to 500 ⁇ m.
- interval I of the electroconductive thin wires 31 and 31 can be made into the distance between each largest protrusion part of the electroconductive thin wires 31 and 31.
- the conductive thin wires 31 and 31 It is preferable to give the same shape (similar cross-sectional area) to the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel lines 32 generated from one line-shaped liquid.
- the conductive thin wires 31 and 31 It is preferable that the heights H1 and H2 of 31 are substantially equal.
- the line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31, 31 are preferably set to substantially the same value.
- the conductive thin wires 31 and 31 are not necessarily required to be completely parallel, and it is sufficient that the conductive thin wires 31 and 31 are not coupled over at least a certain length J in the line segment direction. Preferably, the conductive thin wires 31 and 31 are substantially parallel over at least a certain length J in the line segment direction.
- the length J of the conductive thin wires 31, 31 in the line segment direction is preferably 5 times or more, more preferably 10 times or more, the arrangement interval I of the conductive thin wires 31, 31.
- the length J and the arrangement interval I can be set corresponding to the formation length and formation width of the line-shaped liquid.
- the conductive thin wires 31 and 31 have sufficiently thin line widths W1 and W2 as compared to the distance between the two lines (arrangement interval I).
- the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel lines 32 generated from one line-shaped liquid are formed at the same time.
- the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel wire 32 satisfy all of the following conditions (a) to (c). Thereby, it becomes difficult to visually recognize the pattern, the transparency can be improved, the line segment is stabilized, and the resistance value of the pattern can be reduced.
- the transparent substrate is not particularly limited, but examples thereof include glass and plastic, and among them, plastic is preferable.
- plastic polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, acrylic, polyester, polyamide, polycarbonate and the like are suitable.
- the transparent substrate may have a single layer structure or a laminated structure.
- FIG. 9 shows an example when the transparent substrate 2 has a single-layer structure.
- the X electrode 3 is formed on one surface of the transparent substrate 2 and then the Y electrode 4 is formed on the other surface, or the Y electrode 4 is formed on the one surface of the transparent substrate 2 and then the other.
- the touch panel sensor 1 can be obtained by forming the X electrode 3 on the surface. That is, the touch panel sensor 1 in which the X electrode 3 and the Y electrode 4 are respectively formed on both surfaces of the same support (transparent substrate) can be obtained.
- FIG. 10 shows an example when the transparent substrate 2 has a laminated structure.
- a laminated structure is composed of two supports 21, 21 and an adhesive film 22 disposed between the supports 21, 21.
- the X electrode 3 is formed on the transparent first support 21 and the Y electrode is formed on the transparent second support 21. It can be set as the touch panel sensor 1 by bonding together through the transparent adhesive film 22.
- the boundary between the X electrode and the Y electrode can be made difficult to visually recognize by adjusting the shape and / or properties of the conductive thin wire as described above.
- Example 1 In Example 1, the line width of the conductive thin wire was adjusted.
- a plurality of parallel lines are combined on the PET film using line heads provided on the upstream side and the downstream side in the transport direction of the PET (polyethylene terephthalate) film (thickness 50 ⁇ m) fed from the roll-shaped wound body.
- X electrodes were formed.
- the line head is constituted by combining a plurality of inkjet heads (manufactured by Konica Minolta, Inc., piezo head (standard liquid appropriate amount 42 pl)) in a direction orthogonal to the transport direction.
- an aqueous silver nano-ink (volume average particle diameter 20 nm, solid content concentration 0.8 wt%, surface tension 27 mN / m) is applied on a transparent substrate.
- a plurality of line-shaped liquids of this set were formed.
- drying conditions were controlled to selectively deposit silver nanoparticles on both edges to form a set of two parallel lines.
- the arrangement interval I of the conductive thin wires was 250 ⁇ m.
- a plurality of first fine wire sets consisting of six conductive fine wires) composed of three sets of parallel wires were arranged in parallel at predetermined intervals.
- samples 1-1 to 1-5 were prepared by changing the concentration of the silver nanoparticles of the ink at the time of forming the X electrode so that the line width of the conductive fine wire became the value shown in Table 1.
- the touch panel sensor has a first fine wire set constituting the X electrode and a first fine wire set constituting the Y electrode when the transparent substrate is seen through by adjusting the position at the time of bonding. Are alternately arranged so as not to overlap each other.
- the second fine wire set constituting the X electrode and the second fine wire set constituting the Y electrode are alternately arranged so as not to overlap each other.
- Example 2 In Example 2, the line width of the conductive thin wires was adjusted in the same manner as in Example 1 except that a single-layer structure made of a PET film was used as the transparent substrate.
- a Y electrode was formed on the other surface of the PET film to obtain a touch panel sensor as shown in FIG.
- the width of the conductive thin wire constituting the X electrode is set to the conductive thin wire constituting the Y electrode. It was confirmed that the boundary between the X electrode and the Y electrode can be made difficult to visually recognize by making the line width smaller than.
- Example 3 In Example 3, the reflectance of the conductive thin wire was adjusted.
- Example 1 the line width of the conductive thin wires was constant (6 ⁇ m), the volume average particle diameter of the silver nanoparticles was changed, and the reflectance was the value shown in Table 2, so that samples 3-1 to 3-3 A touch panel sensor of -5 was obtained.
- Table 2 shows the results of evaluating the visual difficulty in the same manner as in Example 1.
- the boundary between the X electrode and the Y electrode can be suitably made difficult to visually recognize by making the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode smaller than the reflectance of the conductive thin wire constituting the Y electrode. Recognize.
- the reflectance shown in Table 2 is a value obtained from the spectral reflectance measured on the surface on which the conductive thin wire to be measured is formed using a spectrophotometer.
- Example 4 In Example 4, the film thickness of the conductive thin wire was adjusted.
- Electrolytic copper plating treatment was applied to the conductive thin wires constituting the X electrode and / or Y electrode of the touch panel sensor of Sample 1-1 obtained in Example 1.
- the touch panel sensors of Samples 4-1 to 4-5 were obtained by changing the plating conditions and changing the thickness of the copper film to be plated so that the thickness of the conductive thin wire became the value shown in Table 3.
- Table 3 shows the results of evaluating the visual difficulty in the same manner as in Example 1.
- the boundary between the X electrode and the Y electrode can be made difficult to visually recognize by making the film thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode smaller than the film thickness of the conductive thin wire constituting the Y electrode. Recognize.
- Example 5 the film thickness of the conductive thin wires was adjusted in the same manner as in Example 4 except that a single-layer structure made of a PET film was used as the transparent substrate.
- a Y electrode was formed on the other surface of the PET film to obtain a touch panel sensor as shown in FIG.
- the thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode is set to be the same as that of the Y electrode. It was confirmed that the boundary between the X electrode and the Y electrode can be suitably made difficult to visually recognize by making the film thickness smaller than the thickness.
- Touch panel sensor 2 Transparent substrate 21: Support 22: Adhesive film 3: X electrode 31: Conductive fine wire 32: Conductive parallel fine wire (parallel wire) 33a, 33b: Fine wire set 4: Y electrode 41: Conductive fine wire 42: Conductive parallel fine wire (parallel wire) 43a, 43b: Fine line set 5: Intersection 6: Line-shaped liquid
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Abstract
本発明は、X電極及びY電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法を提供することを課題とし、透明基材2の一面にX電極3を備え、該透明基材2の他面にY電極4を備え、該Y電極4側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサー1であって、X電極3及びY電極4は、それぞれ1組2本の導電性細線31、41からなる導電性平行細線32、42を複数組組み合わせて構成されており、X電極3側から当該タッチパネルセンサー1を見たときのX電極3とY電極4の視認性の差を減じるように、X電極3を構成する導電性細線31と、Y電極4を構成する導電性細線41との形状及び又は性状を異ならせることで解決される。
Description
本発明は、タッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法に関し、より詳しくは、X電極及びY電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法に関する。
静電容量式タッチパネルは、透明基材の一面に複数並列されたX電極を備え、透明基材の他面に複数並列されたY電極を備えており、これらの電極と人間の指との間での静電気結合に基づく静電容量の変化に伴って発生する誘導電流を利用して、タッチパネル上の位置座標を検知する。
このようなX電極及びY電極としては、スパッタリング法で製膜されたインジウム-スズの複合酸化物(ITO)からなる透明導電膜が用いられてきた。
一方、ITO透明導電膜に代えて、導線の集合体からなる透明導電膜によってX電極及びY電極を構成することも試みられている(特許文献1)。
導線の集合体からなる透明導電膜は、ITO透明導電膜よりも低抵抗を実現することができる。これにより大面積タッチパネルや、ペン入力タッチパネル等を好適に製造できるようになる。
しかしながら、導線の材料として特に抵抗の低い金属等を用いる場合には、材料自体が遮光するため、導線を細線化しても透過率の向上に限界がある。配置される導線の間隔を広げたり、導線の線幅を細くする等の対応によって、ある程度の透過率の改善は可能であるが、その分、抵抗値が高くなったり、欠線が生じ易くなったりする。
そのため、導線の集合体からなる透明導電膜を完全に透明にすることは困難であり、これを視認されにくくするための技術が求められる。
特許文献1は、パターン形成及びX電極及びY電極を重ね合わせが正確であることが望ましいが、両電極を重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差により、X電極及びY電極を構成する細線との配置関係が乱れる可能性があるため、線太りや干渉縞が生じやすい。このため、線太りや干渉縞を起こさないようにするためには、重ね合わせには高精度が要求され、コストアップにつながる問題があった旨開示する。したがって、これを解決するために、X電極及びY電極を構成する導線を特定のパターンで交差させることによって、両電極を重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差があっても、格子形状に違和感を感じない効果が得られるとしている。
しかし、使用時においてユーザー側に設けられるX電極に対して、Y電極は透明基材を介して配置されるため、例えば光路長の差などに起因してX電極の視認性がY電極の視認性よりも高くなる。その結果、ユーザーにおいて、X電極とY電極の境界が視認されてしまうという課題が見出された。
そこで本発明の課題は、X電極及びY電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法を提供することにある。
また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。
上記課題は、以下の各発明によって解決される。
1.
透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーであって、
前記X電極及び前記Y電極は、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて構成されており、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせたタッチパネルセンサー。
2.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
3.
前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さい前記2記載のタッチパネルセンサー。
4.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
5.
前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さい前記4記載のタッチパネルセンサー。
6.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
7.
前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さい前記6記載のタッチパネルセンサー。
8.
前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせてなる前記1~7の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
9.
同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極が各々形成されている前記1~8の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
10.
前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線は、前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて形成されたものである前記1~9の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
11.
前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線は、メッキにより形成された金属膜を備える前記1~10の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
12.
透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーの製造方法であって、
前記X電極及び前記Y電極を、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて形成すると共に、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせるタッチパネルセンサーの製造方法。
13.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状とが線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
14.
前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記13記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
15.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
16.
前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記15記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
17.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
18.
前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記17記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
19.
前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせる前記12~18の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
20.
同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極を各々形成する前記12~19の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
21.
前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線を形成する前記12~20の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
22.
前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線に、メッキにより金属膜を形成する前記12~21の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーであって、
前記X電極及び前記Y電極は、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて構成されており、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせたタッチパネルセンサー。
2.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
3.
前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さい前記2記載のタッチパネルセンサー。
4.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
5.
前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さい前記4記載のタッチパネルセンサー。
6.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
7.
前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さい前記6記載のタッチパネルセンサー。
8.
前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせてなる前記1~7の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
9.
同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極が各々形成されている前記1~8の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
10.
前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線は、前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて形成されたものである前記1~9の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
11.
前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線は、メッキにより形成された金属膜を備える前記1~10の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
12.
透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーの製造方法であって、
前記X電極及び前記Y電極を、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて形成すると共に、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせるタッチパネルセンサーの製造方法。
13.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状とが線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
14.
前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記13記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
15.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
16.
前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記15記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
17.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
18.
前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記17記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
19.
前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせる前記12~18の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
20.
同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極を各々形成する前記12~19の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
21.
前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線を形成する前記12~20の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
22.
前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線に、メッキにより金属膜を形成する前記12~21の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
本発明によれば、X電極及びY電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及び該タッチパネルセンサーの製造方法を提供することができる。
以下に、本発明を実施するための形態について詳しく説明する。
図1は、本発明のタッチパネルセンサーの一例を説明する図である。
タッチパネルセンサー1は、シート状の透明基材2の表面に帯状のX電極3を所定間隔でX軸方向に複数本並設すると共に、裏面に帯状のY電極4を所定間隔でY軸方向に複数本並設してなる。ここで、透明基材2の表面というのは、タッチパネルセンサー1の使用時においてユーザー側に配置される面である。透明基材2の裏面側にはディスプレイを配置して用いることができる。
X軸方向とY軸方向は互いに交差する関係にある。X電極とY電極とは、交差部5において透明基材2の厚みに対応する間隔を隔てて互いに交差している。X電極3及びY電極4は透明基材2により互いに絶縁されている。
タッチパネルセンサー1は、これらX電極3及びY電極4を各々制御回路に接続して、例えば静電容量方式等のタッチパネルのセンサーとして好適に用いることができる。静電容量方式のタッチパネルであれば、操作時において、これらX電極3及びY電極4にユーザーの指や導体等が接近、接触した際に生じる静電容量変化に基づく誘導電流を利用して、指や導体等の位置座標を検知することができる。
各々1本のX電極3は、導電性細線の集合体により構成されている。各々1本のY電極4もまた、導電性細線の集合体により構成されている。これについて、図2~図4を参照して説明する。図2は、図1に示したタッチパネルセンサー1の要部拡大図であり、交差部5の一部(図1中、Aで示した正方形部分)を拡大して示している。また、図3は図2におけるX電極3のみを、図4は図2におけるY電極4のみをそれぞれ示している。
まず、図3に示すように、X電極3は導電性細線31の集合体により構成されている。具体的には、X電極3は互いに平行な2本1組の導電性細線31、31からなる導電性平行線(以下、単に平行線という場合がある)32を複数組み合わせて構成されている。図示の例では、3組の平行線32を所定間隔で並設してなる第1細線セット33aと、3組の平行線32を所定間隔で並設してなる第2細線セット33bを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置してX電極3を構成している。
また、図4に示すように、Y電極4も導電性細線41の集合体により構成されている。具体的には、Y電極4は互いに平行な2本1組の導電性細線41、41からなる平行線42を複数組み合わせて構成されている。図示の例では、3組の平行線42を所定間隔で並設してなる第1細線セット43aと、3組の平行線42を所定間隔で並設してなる第2細線セット43bを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置してY電極4を構成している。
図2に示すように、透明基材2を透視した際に、X電極3を構成する第1細線セット33aと、Y電極4を構成する第1細線セット43aとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置されている。同様に、透明基材2を透視した際に、X電極3を構成する第2細線セット33bと、Y電極4を構成する第2細線セット43bとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置されている。各細線セット33a、33b、43a、43bを構成する複数組の平行線32、42は、これらに含まれる導電性細線31、41が等間隔で配置されるように並設されている。
X電極3及びY電極4をそれぞれ導電性細線31、41の集合体によって構成する際に、X電極3側からタッチパネルセンサー1を見たときのX電極3とY電極4の視認性の差を減じるように、X電極3を構成する導電性細線31と、Y電極4を構成する導電性細線41の形状及び又は性状を異ならせる。これにより、X電極3及びY電極4の境界を視認困難化できる。導電性細線31、41の形状及び又は性状は、該導電性細線31、41により構成されるX電極3及びY電極4の視認性に影響を与え得る。形状として、例えば導電性細線31、41の断面形状、より具体的には線幅、膜厚等を好ましく挙げることができる。性状として、例えば導電性細線31、41の表面性状、より具体的には反射率等を好ましく挙げることができる。
導電性細線31、41の線幅を異ならせる場合は、線幅を大きくすることにより視認性が高くなり、線幅を小さくすることにより視認性が低くなる。使用時においてユーザー側に配置されるX電極3はY電極4に対して視認性が高くなるため、X電極3を構成する導電性細線31の線幅は、Y電極4を構成する導電性細線41の線幅よりも小さいことが好ましい。これにより、X電極3とY電極4の境界を好適に視認困難化できる。Y電極4を構成する導電性細線41の線幅は、X電極3を構成する導電性細線31の線幅の1.1倍以上1.5倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Y電極4の光透過性が得られやすく、Y電極4が見え過ぎることも好適に防止できる。X電極3及びY電極4を構成する導電性細線31、41の各線幅は格別限定されないが、好ましくは1μm以上20μm以下の範囲、更に好ましくは2μm以上15μm以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した線幅の差を付与することが好ましい。
導電性細線31、41の反射率を異ならせる場合は、反射率を大きくすることにより視認性が大きくなり、反射率を小さくすることにより視認性が小さくなる。使用時においてユーザー側に配置されるX電極3はY電極4に対して視認性が高くなるため、X電極3を構成する導電性細線31の反射率は、Y電極4を構成する導電性細線41の反射率よりも小さいことが好ましい。これにより、X電極3とY電極4の境界を好適に視認困難化できる。反射率は、分光光度計を用いて測定対象となる導電性細線が形成された面について測定された分光反射率から求めることができる。具体的には分光光度計としてU-4000型(日立製作所製)を用い、測定対象となる導電性細線が形成された面の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400~700nm)の反射率の測定を行うことができる。Y電極4を構成する導電性細線41の反射率は、X電極3を構成する導電性細線31の反射率の1.1倍以上1.6倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Y電極4が見え過ぎることも好適に防止できる。X電極3及びY電極4を構成する導電性細線31、41の各反射率は格別限定されないが、好ましくは1%以上20%以下の範囲、更に好ましくは5%以上15%以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した反射率の差を付与することが好ましい。
導電性細線31、41の膜厚を異ならせる場合は、膜厚を大きくすることにより視認性が高くなり、膜厚を小さくすることにより視認性が低くなる。使用時においてユーザー側に配置されるX電極3はY電極4に対して視認性が高くなるため、X電極3を構成する導電性細線31の膜厚は、Y電極4を構成する導電性細線41の膜厚よりも小さいことが好ましい。これにより、X電極3とY電極4の境界を好適に視認困難化できる。Y電極4を構成する導電性細線41の膜厚は、X電極3を構成する導電性細線31の膜厚の1.1倍以上2.0倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Y電極4の光透過性が得られやすく、Y電極4が見え過ぎることも好適に防止できる。X電極3及びY電極4を構成する導電性細線31、41の各膜厚は格別限定されないが、好ましくは50nm以上10μm以下の範囲、更に好ましくは1μm以上5μm以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した膜厚の差を付与することが好ましい。
形状及び又は性状を設定する際には、X電極3を構成する導電性細線31の全てについて形状及び又は性状を同様の条件に設定してもよいし、X電極3を構成する導電性細線31の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定してもよい。以下に、X電極3を構成する導電性細線31の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定する例について、図5を参照して説明する。
図5において、X電極3は細線セット33a、33bを組み合わせて形成されている。細線セット33a、33bにおいて、両外側に配置された平行線32を構成する導電性細線31は、中央側に配置された平行線32を構成する導電性細線31よりも線幅が小さく設けられている。両外側に配置された平行線32を構成する導電性細線31は、Y電極4を構成する導電性細線41に隣接するものである。かかる導電性細線31の線幅を小さくして視認性を低下させることにより、比較的視認性が低い導電性細線41に対する視認性の差を減じることができる。その結果、X電極3からY電極4にかけて、導電性細線31、41の視認性が段階的に緩やかに変化し、X電極3とY電極4の境界を視認困難化できる。
図5の説明では、導電性細線31、41の線幅を異ならせる場合について示したが、これに限定されず、形状及び又は性状を異ならせるものであればよく、例えば反射率、膜厚等を異ならせることができる。
また、図5の説明では、X電極3を構成する導電性細線31の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定する例について示したが、Y電極4を構成する導電性細線41の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定することも好ましい。
以上に説明した例では、X電極3の細線セット33a、33bを3組の平行線32により構成し、Y電極4の細線セット43a、43bを3組の平行線42により構成する場合について示したが、これに限定されない。X電極3の細線セット33a、33bを構成する平行線32の組数と、Y電極4の細線セット43a、43bを構成する平行線42の組数は、それぞれ個別に設定することができ、例えば2~10組の範囲で設定することが好ましい。X電極3の細線セット33a、33bを構成する平行線32の組数と、Y電極4の細線セット43a、43bを構成する平行線42の組数とで、同じ値を設定してもよいが、異なる値を設定することも好ましいことである。
例えば、形状として線幅や膜厚等のような断面形状等を変化させると、当該導電性細線の抵抗値も変化する。かかる抵抗値の変化に伴って、電極としてのシート抵抗が変化することを抑制するために、細線セットを構成する平行線の組数を、X電極とY電極で異ならせることも好ましいことである。これについて、図6を参照して説明する。
図6の例では、X電極3の細線セット33a、33bを構成する平行線32の組数(図示の例では4組)を、Y電極4の細線セット43a、43bを構成する平行線42の組数(図示の例では3組)より多くしている。このようにして、例えば、X電極3を構成する導電性細線31の線幅や膜厚が、Y電極4を構成する導電性細線41よりも小さい場合であっても、X電極3のシート抵抗とY電極4のシート抵抗に差が生じることを抑制できる。
以上の説明では、X電極3、Y電極4の形成方向に対して導電性細線31、41を傾斜する方向に配置しているが、これに限定されるものではない。例えば、X電極3、Y電極4の形成方向に対して導電性細線31、41を平行又は直交する方向に配置してもよい。
導電性細線31、41を形成する方法は格別限定されないが、導電性細線31、41の形状及び又は性状を好適に調整する観点で、コーヒーステイン現象を利用して形成する方法を好ましく用いることができる。これについて、図7を参照して説明する。なお、以下の説明では主にX電極3を構成する導電性細線31を形成する場合について説明するが、Y電極4を構成する導電性細線41合も同様に形成することができる。
まず、透明基材2の表面に、導電性材料を含む液体6をライン状に付与する(図7(a))。ライン状液体6の付与には、例えばインクジェット法などの液滴吐出法を好ましく用いることができる。次いで、このライン状液体6を蒸発させ、乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、ライン状液体6の両縁に導電性材料を選択的に堆積させる。その結果、透明基材2上に、導電性材料を含む互いに平行な2本1組の導電性細線31、31からなる平行線32が形成される(図7(b))。
更に、上記により形成された平行線32と交差するように更なるライン状液体6を付与し(図7(c))、次いで、該ライン状液体6を蒸発させ、乾燥させる際に、上記と同様にコーヒーステイン現象を利用することで、先に形成された平行線32と交差するように平行線32を形成することができる(図7(d))。
複数組の平行線32を組み合わせることによって、例えば図2に示したようなX電極3を形成することができる。Y電極4も同様にして形成できる。
コーヒーステイン現象を促進させるように、ライン状液体6を乾燥させる際の条件設定を行うことは好ましいことである。即ち、透明基材2上に配置されたライン状液体6の乾燥は中央部と比べ縁において速く、ライン状液体6の縁に導電性材料の局所的な堆積が起こる。この堆積した導電性材料によりライン状液体6の縁が固定化された状態となり、それ以降の乾燥に伴うライン状液体6の幅方向の収縮が抑制される。ライン状液体6の液体は、縁で蒸発により失った分の液体を補うように中央部から縁に向かう流動を形成する。この流動によって更なる導電性材料が縁に運ばれて堆積する。この流動は、乾燥に伴うライン状液体6の接触線の固定化とライン状液体6中央部と縁の蒸発量の差に起因する。そのため、この流動を促進させるように、導電性材料濃度、ライン状液体6と透明基材2の接触角、ライン状液体6の量、透明基材2の加熱温度、ライン状液体6の配置密度、又は温度、湿度、気圧の環境因子等の条件を設定することが好ましい。
例えばインクジェット法などの液滴吐出法を用いることによりライン状液体を細く形成することが可能であるが、コーヒーステイン現象によって該ライン状液体から形成される導電性細線は、該ライン状液体よりも更に細いものになる。コーヒーステイン現象を利用することで、単独では視認困難な程度に導電性細線を細くすることができる。しかし、導電性細線の集合体によってX電極及びY電極を形成したときには、そのままではX電極とY電極の境界が視認されてしまう。上述したように導電性細線の形状及び又は性状をX電極とY電極で異ならせることによって、かかる境界を視認困難化することができる。
コーヒーステイン現象を利用して導電性細線を形成する場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を調整することにより、導電性細線の線幅を好適に調整することができる。具体的には、導電性細線の線幅を大きくする場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を高くすればよく、導電性細線の線幅を小さくする場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を低くすればよい。X電極を構成する導電性細線に用いるライン状液体における導電性材料の濃度を、Y電極を構成する導電性細線に用いるライン状液体における導電性材料の濃度よりも低くすることは好ましいことである。
また、コーヒーステイン現象を利用して導電性細線を形成する場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料として導電性微粒子を用い、且つ該導電性微粒子の体積平均粒子径を調整することにより、導電性細線の反射率を好適に調整することができる。X電極を構成する導電性細線に用いる導電性微粒子として、Y電極を構成する導電性細線に用いる導電性微粒子よりも、体積平均粒子径が小さいものを用いることは好ましいことである。
ライン状液体に含有される導電性材料としては、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー等を好ましく例示できる。
導電性微粒子としては、格別限定されないが、Au、Pt、Ag、Cu、Ni、Cr、Rh、Pd、Zn、Co、Mo、Ru、W、Os、Ir、Fe、Mn、Ge、Sn、Ga、In等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Au、Ag、Cuのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、かつ腐食に強い導電性細線を形成することができるので、より好ましい。コスト及び安定性の観点から、Agを含む金属微粒子、特に銀ナノ粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の体積平均粒子径は、好ましくは1~100nmの範囲、より好ましくは3~50nmの範囲とされる。粒径測定はマルバーン社製ゼータサイザ1000HSにより行った。
また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。
導電性材料として導電性微粒子を用いる場合は、上述したように送電製細線の反射率を調整するために、該導電性微粒子の体積平均粒子径を調整して用いることができる。
導電性ポリマーとしては、格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。
π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。
導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。
ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものである。
このポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。
ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。
ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ-2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ-2-アクリルアミド-2-メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、2種以上の共重合体であってもよい。
また、化合物内にF(フッ素原子)を有するポリアニオンであってもよい。具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン(Dupont社製)、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン(旭硝子社製)等を挙げることができる。
これらのうち、スルホン酸を有する化合物であると、インクジェット印刷方式を用いた際にインク射出安定性が特に良好であり、かつ高い導電性が得られることから、より好ましい。
さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、導電性に優れるという効果を奏する。
ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が10~100000個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、50~10000個の範囲がより好ましい。
導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー(PEDOT/PSSと略す)が、H.C.Starck社からCLEVIOSシリーズとして、Aldrich社からPEDOT-PSS483095、560598として、Nagase Chemtex社からDenatronシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からORMECONシリーズとして市販されている。
ライン状液体における導電性材料の濃度は、上述したように導電性細線の線幅を調整するために調整されることが好ましい。例えば、0.01[wt%]以上0.5[wt%]以下の濃度範囲内で調整することが好ましい。
ライン状液体を形成する際に用いる、導電性材料を含有させる液体としては、水や、有機溶剤等の1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、1,2-ヘキサンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。
また、導電性材料を含有させる液体には、界面活性剤など種々の添加剤を含有させてもよい。
界面活性剤を用いることで、例えば、インクジェット法などの液滴吐出法を用いてライン状液体を形成するような場合などに、表面張力等を調整して吐出の安定化を図ること等が可能になる。界面活性剤としては、格別限定されないが、シリコン系界面活性剤等を用いることができる。シリコン系界面活性剤とはジメチルポリシロキサンの側鎖または末端をポリエーテル変性したものであり、例えば、信越化学工業製のKF-351A、KF-642やビッグケミー製のBYK347、BYK348などが市販されている。界面活性剤の添加量は、ライン状液体を形成する液体の全量に対して、1重量%以下であることが好ましい。
また、導電性細線の形状及び又は性状を調整する観点で、導電性細線にメッキ処理を施すことも好ましいことである。即ち、X電極を構成する導電性細線、及び、Y電極を構成する導電性細線の一方又は両方に、メッキにより金属膜を形成することが好ましい。
導電性細線にメッキ処理を施す場合は、メッキ条件を調整することにより、導電性細線の膜厚を調整することができる。特に膜厚の調整を好適に行う観点で、電解メッキを好ましく用いることができる。
メッキ条件としては、例えばメッキ処理の処理時間、メッキ液中のメッキ金属イオン濃度、電流等を挙げることができるが、これらに限定されない。
メッキ金属は格別限定されないが、例えば銀、銅、ニッケル等を好ましく例示できる。
導電性細線に対して、メッキ金属が異なる複数のメッキ処理を施すことも好ましい。例えば、銀からなる導電性細線に対して、先ず電解銅メッキを施し、次いで電解ニッケルメッキを施すことにより、導電性細線の膜厚の調整とともに導電性細線に高い導電性と耐久性を付与できる。
次に、透明基材上に形成された平行線の例を図8に基づいて説明する。なお、以下の説明では主にX電極3を構成する平行線32について説明するが、この説明はY電極4を構成する平行線42にも援用することができる。
図8は、基材上に形成された平行線の一例を示す一部切り欠き斜視図であり、断面は、平行線の形成方向に対して直交する方向で切断した縦断面に対応する。
平行線32を構成する1組2本の導電性細線31、31は、必ずしも互いに完全に独立した島状である必要はない。図示するように、2本の導電性細線31、31は、該導電性細線31、31間に亘って、該導電性細線31、31の高さよりも低い高さで形成された薄膜部30によって接続された連続体として形成されることも好ましいことである。
平行線32を構成する導電性細線31、31の線幅W1、W2は、各々10μm以下であることが好ましい。10μm以下であれば、通常、1本の細線として視認できないレベルとなるので、透明性を向上する観点からより好ましい。導電性細線31、31の安定性も考慮すると、線幅W1、W2は、各々2μm以上10μm以下の範囲であることが好ましい。ここで、上述したY電極を構成する導電性細線については、X電極側から見た際の視認性が低下することを考慮して、10μmを超える線幅であってもよい。
導電性細線31、31の幅W1、W2とは、該導電性細線31、31間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さをZとし、更に該Zからの導電性細線31、31の突出高さをY1、Y2としたときに、Y1、Y2の半分の高さにおける導電性細線31、31の幅とすることができる。例えば、平行線32が上述した薄膜部30を有する場合は、該薄膜部30における最薄部分の高さをZとすることができる。なお、導電性細線31、31間における導電性材料の最薄部分の高さが0であるときは、導電性細線31、31の線幅W1、W2は、透明基材2表面からの導電性細線31、31の高さH1、H2の半分の高さにおける導電性細線31、31の幅とすることができる。
平行線32を構成する導電性細線31、31の線幅W1、W2は、上述した通り極めて細いものとすることができるため、断面積を確保して低抵抗化を図る観点で、透明基材2表面からの導電性細線31、31の高さ(膜厚ともいう)H1、H2は高い方が望ましい。具体的には、導電性細線31、31の高さH1、H2は、50nm以上5μm以下の範囲であることが好ましい。
平行線32の安定性を向上する観点から、H1/W1比、H2/W2比は、各々0.01以上1以下の範囲であることが好ましい。
平行線32の細線化を更に向上する観点から、導電性細線31、31間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さZ、具体的には薄膜部30の最薄部分の高さZが10nm以下の範囲であることが好ましい。最も好ましいのは、透明性と安定性のバランスの両立を図るために、0<Z≦10nmの範囲で、薄膜部30を備えることである。
平行線32の更なる細線化向上のために、H1/Z比、H2/Z比は、各々5以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、20以上であることが特に好ましい。
導電性細線31、31の配置間隔Iの範囲は格別限定されず、ライン状液体の形成幅の設定により適宜設定することができる。配置間隔Iを、例えば50μm以上、100μm以上、200μm以上、300μm以上、400μm以上、更には500μm以上という大きい値に設定することも好ましい。透明導電膜等を形成する場合などにおいては、配置間隔Iは、例えば100μm以上~1000μm以下の範囲とすることが好ましく、100μm以上~500μm以下の範囲とすることが更に好ましい。なお、導電性細線31、31の配置間隔Iとは、導電性細線31、31の各最大突出部間の距離とすることができる。
1本のライン状液体から生成される平行線32を構成する導電性細線31、31に同様の形状(同程度の断面積)を付与することが好ましく、具体的には、導電性細線31、31の高さH1とH2とを実質的に等しい値とすることが好ましい。これと同様に、導電性細線31、31の線幅W1とW2とについても実質的に等しい値とすることが好ましい。導電性細線の形状の調整のために、X電極とY電極で、導電性細線の高さ(膜厚)及び線幅を異なる値に設定することは好ましいことである。
導電性細線31、31は、必ずしも完全な平行である必要性はなく、少なくとも線分方向のある長さJに亘って、導電性細線31、31が結合していなければ良い。好ましくは、少なくとも線分方向のある長さJに亘って、導電性細線31、31が実質的に平行であることである。導電性細線31、31の線分方向の長さJは、導電性細線31、31の配置間隔Iの5倍以上であることが好ましく、10倍以上であることがより好ましい。
長さJ及び配置間隔Iは、ライン状液体の形成長さ及び形成幅に対応して設定することができる。
導電性細線31、31は、線幅W1、W2が2本線間距離(配置間隔I)に比して、十分に細いものであることが好ましい。
1本のライン状液体から生成される平行線32を構成する導電性細線31、31は、同時に形成されたものであることが好ましい。
平行線32を構成する導電性細線31、31は、下記(ア)~(ウ)の条件を全て満たすことが特に好ましい。これにより、パターンが視認されにくくなり、透明性を向上できると共に、線分が安定化され、パターンの抵抗値を低下できる効果に優れる。
(ア)各導電性細線31、31の高さをH1、H2とし、該導電性細線31、31間における最薄部分の高さをZとしたときに、5≦H1/Z、且つ5≦H2/Zであること。
(イ)各導電性細線31、31の幅をW1、W2としたときに、W1≦10μm、且つW2≦10μmであること。
(ウ)各導電性細線31、31の高さをH1、H2としたときに、50nm<H1<5μm、且つ50nm<H2<5μmであること。
(イ)各導電性細線31、31の幅をW1、W2としたときに、W1≦10μm、且つW2≦10μmであること。
(ウ)各導電性細線31、31の高さをH1、H2としたときに、50nm<H1<5μm、且つ50nm<H2<5μmであること。
透明基材は格別限定されないが、例えばガラス、プラスチックなどを挙げることができ、中でもプラスチックが好ましい。プラスチックとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート等が好適である。透明基材は単層構造であっても積層構造であってもよい。
図9は透明基材2が単層構造である場合の一例を示している。この場合、当該透明基材2の一面にX電極3を形成し、次いで他の面にY電極4を形成するか、あるいは、当該透明基材2の一面にY電極4を形成し、次いで他の面にX電極3を形成することにより、タッチパネルセンサー1とすることができる。即ち、同一支持体(透明基材)の両面にX電極3とY電極4が各々形成されたタッチパネルセンサー1とすることができる。
図10は透明基材2が積層構造である場合の一例を示している。かかる積層構造は、2枚の支持体21、21と、該支持体21、21間に配された接着フィルム22から構成されている。かかる積層構造を形成する際には、X電極3を透明な第1支持体21上に形成し、Y電極を透明な第2支持体21上に形成した後、これら支持体21、21を、透明な接着フィルム22を介して貼り合わせることによりタッチパネルセンサー1とすることができる。
積層構造を用いる場合は、同一基材の両面に電極形成する必要が生じる単層構造の場合と比較して、比較的容易に製造できる利点がある。単層構造を用いる場合も、積層構造を用いる場合も、上述したように導電性細線の形状及び又は性状を調整することで、X電極とY電極の境界を視認困難化できる。
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。
(実施例1)
実施例1では、導電性細線の線幅を調整した。
実施例1では、導電性細線の線幅を調整した。
<X電極の形成>
ロール状巻回体から繰り出されるPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(厚さ50μm)の搬送方向の上流側と下流側にそれぞれ設けられたラインヘッドを用いて、該PETフィルム上に複数の平行線を組み合わせたX電極を形成した。ラインヘッドは、インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製、ピエゾヘッド(標準液適量42pl))を前記搬送方向と直交する方向に複数組み合わせて構成されている。
ロール状巻回体から繰り出されるPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(厚さ50μm)の搬送方向の上流側と下流側にそれぞれ設けられたラインヘッドを用いて、該PETフィルム上に複数の平行線を組み合わせたX電極を形成した。ラインヘッドは、インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製、ピエゾヘッド(標準液適量42pl))を前記搬送方向と直交する方向に複数組み合わせて構成されている。
具体的には、まず、上流側ラインヘッドを用いて、水性銀ナノインク(体積平均粒子径20nm、固形分濃度0.8wt%、表面張力27mN/m)を透明基材上に付与して、3本セットのライン状液体を複数形成した。各ライン状液体を乾燥させる際に、乾燥条件を制御して、銀ナノ粒子を両縁に選択的に堆積させて、1組2本の平行線を形成した。導電性細線の配置間隔Iは250μmとした。3組の平行線からなる第1細線セット(6本の導電性細線により構成されている)を所定の間隔をおいて複数並設した。
次いで、下流側ラインヘッドを用いて、第1細線セットと同様にして、該第1細線セットと交差する第2細線セットを形成し、図3に示したものと同様のX電極を形成した。このとき、X電極形成時のインクの銀ナノ粒子の濃度を変更し、導電性細線の線幅が表1に示す値になるようにして、試料1-1~1-5とした。
<Y電極の形成>
X電極と同様の方法で、PETフィルム上に、図4に示したものと同様のY電極を形成した。このとき、Y電極形成時のインクの銀ナノ粒子の濃度を変更し、導電性細線の線幅が表1に示す値になるようにして、試料1-1~1-5とした。
X電極と同様の方法で、PETフィルム上に、図4に示したものと同様のY電極を形成した。このとき、Y電極形成時のインクの銀ナノ粒子の濃度を変更し、導電性細線の線幅が表1に示す値になるようにして、試料1-1~1-5とした。
<貼り合わせ>
X電極が形成されたPETフィルムと、Y電極が形成されたPETフィルムとを、接着フィルムを介して貼り合わせて、図10に示すような、透明基材が積層構造を有するタッチパネルセンサーを得た。このタッチパネルセンサーは、貼り合わせ時の位置調整により、図2に示したように、透明基材を透視した際に、X電極を構成する第1細線セットと、Y電極を構成する第1細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。同様に、透明基材を透視した際に、X電極を構成する第2細線セットと、Y電極を構成する第2細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。
X電極が形成されたPETフィルムと、Y電極が形成されたPETフィルムとを、接着フィルムを介して貼り合わせて、図10に示すような、透明基材が積層構造を有するタッチパネルセンサーを得た。このタッチパネルセンサーは、貼り合わせ時の位置調整により、図2に示したように、透明基材を透視した際に、X電極を構成する第1細線セットと、Y電極を構成する第1細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。同様に、透明基材を透視した際に、X電極を構成する第2細線セットと、Y電極を構成する第2細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。
<評価方法>
得られたタッチパネルセンサー(試料1-1~1-5)を、30cmの距離を置いてX電極側から観察し、X電極とY電極の境界の視認困難性を下記の評価基準で評価した。結果を表1に示す。
得られたタッチパネルセンサー(試料1-1~1-5)を、30cmの距離を置いてX電極側から観察し、X電極とY電極の境界の視認困難性を下記の評価基準で評価した。結果を表1に示す。
[評価基準]
下記5段階評価とした。
5:境界がほとんど見えない
4:境界がごく僅かに見える
3:境界が僅かに見える
2:境界が見える
1:境界がくっきり見える
下記5段階評価とした。
5:境界がほとんど見えない
4:境界がごく僅かに見える
3:境界が僅かに見える
2:境界が見える
1:境界がくっきり見える
なお、上記評価基準において3~5が実用上好ましい。
<評価>
表1より、X電極を構成する導電性細線の線幅を、Y電極を構成する導電性細線の線幅よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。
表1より、X電極を構成する導電性細線の線幅を、Y電極を構成する導電性細線の線幅よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。
(実施例2)
実施例2では、透明基材としてPETフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例1と同様に、導電性細線の線幅を調整した。
実施例2では、透明基材としてPETフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例1と同様に、導電性細線の線幅を調整した。
具体的には、PETフィルムの一面にX電極を形成した後、該PETフィルムの他面にY電極を形成して、図9に示したようなタッチパネルセンサーを得た。
実施例1と同様に視認困難性を評価した結果、透明基材として単層構造のものを用いる場合においても、X電極を構成する導電性細線の線幅を、Y電極を構成する導電性細線の線幅よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることが確認された。
(実施例3)
実施例3では、導電性細線の反射率を調整した。
実施例3では、導電性細線の反射率を調整した。
実施例1において、導電性細線の線幅を一定(6μm)とし、銀ナノ粒子の体積平均粒子径を変更し、反射率が表2に示す値となるようにして、試料3-1~3-5のタッチパネルセンサーを得た。
実施例1と同様に視認困難性を評価した結果を表2に示す。
<評価>
表2より、X電極を構成する導電性細線の反射率を、Y電極を構成する導電性細線の反射率よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。表2に示した反射率は、分光光度計を用いて測定対象となる導電性細線が形成された面について測定された分光反射率から求めた値である。
表2より、X電極を構成する導電性細線の反射率を、Y電極を構成する導電性細線の反射率よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。表2に示した反射率は、分光光度計を用いて測定対象となる導電性細線が形成された面について測定された分光反射率から求めた値である。
(実施例4)
実施例4では、導電性細線の膜厚を調整した。
実施例4では、導電性細線の膜厚を調整した。
実施例1で得られた試料1-1のタッチパネルセンサーのX電極及び又はY電極を構成する導電性細線に電解銅メッキ処理を施した。メッキ条件を変えて、メッキされる銅膜厚を変更し、導電性細線の膜厚が表3に示す値となるようにして、試料4-1~4-5のタッチパネルセンサーを得た。
実施例1と同様に視認困難性を評価した結果を表3に示す。
<評価>
表2より、X電極を構成する導電性細線の膜厚を、Y電極を構成する導電性細線の膜厚よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。
表2より、X電極を構成する導電性細線の膜厚を、Y電極を構成する導電性細線の膜厚よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。
(実施例5)
実施例5では、透明基材としてPETフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例4と同様に、導電性細線の膜厚を調整した。
実施例5では、透明基材としてPETフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例4と同様に、導電性細線の膜厚を調整した。
具体的には、PETフィルムの一面にX電極を形成した後、該PETフィルムの他面にY電極を形成して、図9に示したようなタッチパネルセンサーを得た。
実施例1と同様に視認困難性を評価した結果、透明基材として単層構造のものを用いる場合においても、X電極を構成する導電性細線の膜厚を、Y電極を構成する導電性細線の膜厚よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることが確認された。
1:タッチパネルセンサー
2:透明基材
21:支持体
22:接着フィルム
3:X電極
31:導電性細線
32:導電性平行細線(平行線)
33a、33b:細線セット
4:Y電極
41:導電性細線
42:導電性平行細線(平行線)
43a、43b:細線セット
5:交差部
6:ライン状液体
2:透明基材
21:支持体
22:接着フィルム
3:X電極
31:導電性細線
32:導電性平行細線(平行線)
33a、33b:細線セット
4:Y電極
41:導電性細線
42:導電性平行細線(平行線)
43a、43b:細線セット
5:交差部
6:ライン状液体
Claims (22)
- 透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーであって、
前記X電極及び前記Y電極は、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて構成されており、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせたタッチパネルセンサー。 - 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせた請求項1記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さい請求項2記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせた請求項1記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さい請求項4記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせた請求項1記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さい請求項6記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせてなる請求項1~7の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
- 同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極が各々形成されている請求項1~8の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線は、前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて形成されたものである請求項1~9の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
- 前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線は、メッキにより形成された金属膜を備える請求項1~10の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
- 透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーの製造方法であって、
前記X電極及び前記Y電極を、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて形成すると共に、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせるタッチパネルセンサーの製造方法。 - 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状とが線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせる請求項12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける請求項13記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせる請求項12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける請求項15記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせる請求項12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける請求項17記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせる請求項12~18の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極を各々形成する請求項12~19の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線を形成する請求項12~20の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
- 前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線に、メッキにより金属膜を形成する請求項12~21の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
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