JPWO2016194987A1 - タッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、Ｘ電極及びＹ電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法を提供することを課題とし、透明基材２の一面にＸ電極３を備え、該透明基材２の他面にＹ電極４を備え、該Ｙ電極４側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサー１であって、Ｘ電極３及びＹ電極４は、それぞれ１組２本の導電性細線３１、４１からなる導電性平行細線３２、４２を複数組組み合わせて構成されており、Ｘ電極３側から当該タッチパネルセンサー１を見たときのＸ電極３とＹ電極４の視認性の差を減じるように、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１と、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１との形状及び又は性状を異ならせることで解決される。

Description

本発明は、タッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法に関し、より詳しくは、Ｘ電極及びＹ電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法に関する。

静電容量式タッチパネルは、透明基材の一面に複数並列されたＸ電極を備え、透明基材の他面に複数並列されたＹ電極を備えており、これらの電極と人間の指との間での静電気結合に基づく静電容量の変化に伴って発生する誘導電流を利用して、タッチパネル上の位置座標を検知する。

このようなＸ電極及びＹ電極としては、スパッタリング法で製膜されたインジウム−スズの複合酸化物（ＩＴＯ）からなる透明導電膜が用いられてきた。

一方、ＩＴＯ透明導電膜に代えて、導線の集合体からなる透明導電膜によってＸ電極及びＹ電極を構成することも試みられている（特許文献１）。

導線の集合体からなる透明導電膜は、ＩＴＯ透明導電膜よりも低抵抗を実現することができる。これにより大面積タッチパネルや、ペン入力タッチパネル等を好適に製造できるようになる。

しかしながら、導線の材料として特に抵抗の低い金属等を用いる場合には、材料自体が遮光するため、導線を細線化しても透過率の向上に限界がある。配置される導線の間隔を広げたり、導線の線幅を細くする等の対応によって、ある程度の透過率の改善は可能であるが、その分、抵抗値が高くなったり、欠線が生じ易くなったりする。

そのため、導線の集合体からなる透明導電膜を完全に透明にすることは困難であり、これを視認されにくくするための技術が求められる。

特開２０１２−１０３７６１号公報

特許文献１は、パターン形成及びＸ電極及びＹ電極を重ね合わせが正確であることが望ましいが、両電極を重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差により、Ｘ電極及びＹ電極を構成する細線との配置関係が乱れる可能性があるため、線太りや干渉縞が生じやすい。このため、線太りや干渉縞を起こさないようにするためには、重ね合わせには高精度が要求され、コストアップにつながる問題があった旨開示する。したがって、これを解決するために、Ｘ電極及びＹ電極を構成する導線を特定のパターンで交差させることによって、両電極を重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差があっても、格子形状に違和感を感じない効果が得られるとしている。

しかし、使用時においてユーザー側に設けられるＸ電極に対して、Ｙ電極は透明基材を介して配置されるため、例えば光路長の差などに起因してＸ電極の視認性がＹ電極の視認性よりも高くなる。その結果、ユーザーにおいて、Ｘ電極とＹ電極の境界が視認されてしまうという課題が見出された。

そこで本発明の課題は、Ｘ電極及びＹ電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法を提供することにある。

また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。

上記課題は、以下の各発明によって解決される。

１．
透明基材の一面にＸ電極を備え、該透明基材の他面にＹ電極を備え、該Ｙ電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーであって、
前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極は、それぞれ１組２本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて構成されており、
前記Ｘ電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記Ｘ電極と前記Ｙ電極の視認性の差を減じるように、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせたタッチパネルセンサー。
２．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状が線幅であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせた前記１記載のタッチパネルセンサー。
３．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さい前記２記載のタッチパネルセンサー。
４．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせた前記１記載のタッチパネルセンサー。
５．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さい前記４記載のタッチパネルセンサー。
６．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせた前記１記載のタッチパネルセンサー。
７．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さい前記６記載のタッチパネルセンサー。
８．
前記Ｘ電極が形成された支持体と、前記Ｙ電極が形成された支持体とを貼り合わせてなる前記１〜７の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
９．
同一支持体の両面に前記Ｘ電極と前記Ｙ電極が各々形成されている前記１〜８の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
１０．
前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極を構成する導電性平行細線は、前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて形成されたものである前記１〜９の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
１１．
前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線は、メッキにより形成された金属膜を備える前記１〜１０の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
１２．
透明基材の一面にＸ電極を備え、該透明基材の他面にＹ電極を備え、該Ｙ電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーの製造方法であって、
前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極を、それぞれ１組２本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて形成すると共に、
前記Ｘ電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記Ｘ電極と前記Ｙ電極の視認性の差を減じるように、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせるタッチパネルセンサーの製造方法。
１３．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状とが線幅であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせる前記１２記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
１４．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さくなるように、該Ｘ電極及び該Ｙ電極を設ける前記１３記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
１５．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせる前記１２記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
１６．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さくなるように、該Ｘ電極及び該Ｙ電極を設ける前記１５記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
１７．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせる前記１２記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
１８．
前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さくなるように、該Ｘ電極及び該Ｙ電極を設ける前記１７記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
１９．
前記Ｘ電極が形成された支持体と、前記Ｙ電極が形成された支持体とを貼り合わせる前記１２〜１８の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
２０．
同一支持体の両面に前記Ｘ電極と前記Ｙ電極を各々形成する前記１２〜１９の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
２１．
前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極を構成する導電性平行細線を形成する前記１２〜２０の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
２２．
前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線に、メッキにより金属膜を形成する前記１２〜２１の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。

本発明によれば、Ｘ電極及びＹ電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及び該タッチパネルセンサーの製造方法を提供することができる。

タッチパネルセンサーの一例を説明する図 図１に示したタッチパネルセンサーの要部拡大図 図２におけるＸ電極を説明する図 図２におけるＹ電極を説明する図 タッチパネルセンサーの他の例を説明する図 タッチパネルセンサーの更なる他の例を説明する図 コーヒーステイン現象を説明する図 透明基材上に形成された平行線の一例を説明する図 透明基材が単層構造である場合の一例を説明する図 透明基材が積層構造である場合の一例を説明する図

以下に、本発明を実施するための形態について詳しく説明する。

図１は、本発明のタッチパネルセンサーの一例を説明する図である。

タッチパネルセンサー１は、シート状の透明基材２の表面に帯状のＸ電極３を所定間隔でＸ軸方向に複数本並設すると共に、裏面に帯状のＹ電極４を所定間隔でＹ軸方向に複数本並設してなる。ここで、透明基材２の表面というのは、タッチパネルセンサー１の使用時においてユーザー側に配置される面である。透明基材２の裏面側にはディスプレイを配置して用いることができる。

Ｘ軸方向とＹ軸方向は互いに交差する関係にある。Ｘ電極とＹ電極とは、交差部５において透明基材２の厚みに対応する間隔を隔てて互いに交差している。Ｘ電極３及びＹ電極４は透明基材２により互いに絶縁されている。

タッチパネルセンサー１は、これらＸ電極３及びＹ電極４を各々制御回路に接続して、例えば静電容量方式等のタッチパネルのセンサーとして好適に用いることができる。静電容量方式のタッチパネルであれば、操作時において、これらＸ電極３及びＹ電極４にユーザーの指や導体等が接近、接触した際に生じる静電容量変化に基づく誘導電流を利用して、指や導体等の位置座標を検知することができる。

各々１本のＸ電極３は、導電性細線の集合体により構成されている。各々１本のＹ電極４もまた、導電性細線の集合体により構成されている。これについて、図２〜図４を参照して説明する。図２は、図１に示したタッチパネルセンサー１の要部拡大図であり、交差部５の一部（図１中、Ａで示した正方形部分）を拡大して示している。また、図３は図２におけるＸ電極３のみを、図４は図２におけるＹ電極４のみをそれぞれ示している。

まず、図３に示すように、Ｘ電極３は導電性細線３１の集合体により構成されている。具体的には、Ｘ電極３は互いに平行な２本１組の導電性細線３１、３１からなる導電性平行線（以下、単に平行線という場合がある）３２を複数組み合わせて構成されている。図示の例では、３組の平行線３２を所定間隔で並設してなる第１細線セット３３ａと、３組の平行線３２を所定間隔で並設してなる第２細線セット３３ｂを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置してＸ電極３を構成している。

また、図４に示すように、Ｙ電極４も導電性細線４１の集合体により構成されている。具体的には、Ｙ電極４は互いに平行な２本１組の導電性細線４１、４１からなる平行線４２を複数組み合わせて構成されている。図示の例では、３組の平行線４２を所定間隔で並設してなる第１細線セット４３ａと、３組の平行線４２を所定間隔で並設してなる第２細線セット４３ｂを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置してＹ電極４を構成している。

図２に示すように、透明基材２を透視した際に、Ｘ電極３を構成する第１細線セット３３ａと、Ｙ電極４を構成する第１細線セット４３ａとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置されている。同様に、透明基材２を透視した際に、Ｘ電極３を構成する第２細線セット３３ｂと、Ｙ電極４を構成する第２細線セット４３ｂとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置されている。各細線セット３３ａ、３３ｂ、４３ａ、４３ｂを構成する複数組の平行線３２、４２は、これらに含まれる導電性細線３１、４１が等間隔で配置されるように並設されている。

Ｘ電極３及びＹ電極４をそれぞれ導電性細線３１、４１の集合体によって構成する際に、Ｘ電極３側からタッチパネルセンサー１を見たときのＸ電極３とＹ電極４の視認性の差を減じるように、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１と、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の形状及び又は性状を異ならせる。これにより、Ｘ電極３及びＹ電極４の境界を視認困難化できる。導電性細線３１、４１の形状及び又は性状は、該導電性細線３１、４１により構成されるＸ電極３及びＹ電極４の視認性に影響を与え得る。形状として、例えば導電性細線３１、４１の断面形状、より具体的には線幅、膜厚等を好ましく挙げることができる。性状として、例えば導電性細線３１、４１の表面性状、より具体的には反射率等を好ましく挙げることができる。

導電性細線３１、４１の線幅を異ならせる場合は、線幅を大きくすることにより視認性が高くなり、線幅を小さくすることにより視認性が低くなる。使用時においてユーザー側に配置されるＸ電極３はＹ電極４に対して視認性が高くなるため、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の線幅は、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の線幅よりも小さいことが好ましい。これにより、Ｘ電極３とＹ電極４の境界を好適に視認困難化できる。Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の線幅は、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の線幅の１．１倍以上１．５倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Ｙ電極４の光透過性が得られやすく、Ｙ電極４が見え過ぎることも好適に防止できる。Ｘ電極３及びＹ電極４を構成する導電性細線３１、４１の各線幅は格別限定されないが、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下の範囲、更に好ましくは２μｍ以上１５μｍ以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した線幅の差を付与することが好ましい。

導電性細線３１、４１の反射率を異ならせる場合は、反射率を大きくすることにより視認性が大きくなり、反射率を小さくすることにより視認性が小さくなる。使用時においてユーザー側に配置されるＸ電極３はＹ電極４に対して視認性が高くなるため、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の反射率は、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の反射率よりも小さいことが好ましい。これにより、Ｘ電極３とＹ電極４の境界を好適に視認困難化できる。反射率は、分光光度計を用いて測定対象となる導電性細線が形成された面について測定された分光反射率から求めることができる。具体的には分光光度計としてＵ−４０００型（日立製作所製）を用い、測定対象となる導電性細線が形成された面の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射率の測定を行うことができる。Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の反射率は、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の反射率の１．１倍以上１．６倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Ｙ電極４が見え過ぎることも好適に防止できる。Ｘ電極３及びＹ電極４を構成する導電性細線３１、４１の各反射率は格別限定されないが、好ましくは１％以上２０％以下の範囲、更に好ましくは５％以上１５％以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した反射率の差を付与することが好ましい。

導電性細線３１、４１の膜厚を異ならせる場合は、膜厚を大きくすることにより視認性が高くなり、膜厚を小さくすることにより視認性が低くなる。使用時においてユーザー側に配置されるＸ電極３はＹ電極４に対して視認性が高くなるため、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の膜厚は、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の膜厚よりも小さいことが好ましい。これにより、Ｘ電極３とＹ電極４の境界を好適に視認困難化できる。Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の膜厚は、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の膜厚の１．１倍以上２．０倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Ｙ電極４の光透過性が得られやすく、Ｙ電極４が見え過ぎることも好適に防止できる。Ｘ電極３及びＹ電極４を構成する導電性細線３１、４１の各膜厚は格別限定されないが、好ましくは５０ｎｍ以上１０μｍ以下の範囲、更に好ましくは１μｍ以上５μｍ以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した膜厚の差を付与することが好ましい。

形状及び又は性状を設定する際には、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の全てについて形状及び又は性状を同様の条件に設定してもよいし、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定してもよい。以下に、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定する例について、図５を参照して説明する。

図５において、Ｘ電極３は細線セット３３ａ、３３ｂを組み合わせて形成されている。細線セット３３ａ、３３ｂにおいて、両外側に配置された平行線３２を構成する導電性細線３１は、中央側に配置された平行線３２を構成する導電性細線３１よりも線幅が小さく設けられている。両外側に配置された平行線３２を構成する導電性細線３１は、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１に隣接するものである。かかる導電性細線３１の線幅を小さくして視認性を低下させることにより、比較的視認性が低い導電性細線４１に対する視認性の差を減じることができる。その結果、Ｘ電極３からＹ電極４にかけて、導電性細線３１、４１の視認性が段階的に緩やかに変化し、Ｘ電極３とＹ電極４の境界を視認困難化できる。

図５の説明では、導電性細線３１、４１の線幅を異ならせる場合について示したが、これに限定されず、形状及び又は性状を異ならせるものであればよく、例えば反射率、膜厚等を異ならせることができる。

また、図５の説明では、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定する例について示したが、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定することも好ましい。

以上に説明した例では、Ｘ電極３の細線セット３３ａ、３３ｂを３組の平行線３２により構成し、Ｙ電極４の細線セット４３ａ、４３ｂを３組の平行線４２により構成する場合について示したが、これに限定されない。Ｘ電極３の細線セット３３ａ、３３ｂを構成する平行線３２の組数と、Ｙ電極４の細線セット４３ａ、４３ｂを構成する平行線４２の組数は、それぞれ個別に設定することができ、例えば２〜１０組の範囲で設定することが好ましい。Ｘ電極３の細線セット３３ａ、３３ｂを構成する平行線３２の組数と、Ｙ電極４の細線セット４３ａ、４３ｂを構成する平行線４２の組数とで、同じ値を設定してもよいが、異なる値を設定することも好ましいことである。

例えば、形状として線幅や膜厚等のような断面形状等を変化させると、当該導電性細線の抵抗値も変化する。かかる抵抗値の変化に伴って、電極としてのシート抵抗が変化することを抑制するために、細線セットを構成する平行線の組数を、Ｘ電極とＹ電極で異ならせることも好ましいことである。これについて、図６を参照して説明する。

図６の例では、Ｘ電極３の細線セット３３ａ、３３ｂを構成する平行線３２の組数（図示の例では４組）を、Ｙ電極４の細線セット４３ａ、４３ｂを構成する平行線４２の組数（図示の例では３組）より多くしている。このようにして、例えば、Ｘ電極３を構成する導電性細線３１の線幅や膜厚が、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１よりも小さい場合であっても、Ｘ電極３のシート抵抗とＹ電極４のシート抵抗に差が生じることを抑制できる。

以上の説明では、Ｘ電極３、Ｙ電極４の形成方向に対して導電性細線３１、４１を傾斜する方向に配置しているが、これに限定されるものではない。例えば、Ｘ電極３、Ｙ電極４の形成方向に対して導電性細線３１、４１を平行又は直交する方向に配置してもよい。

導電性細線３１、４１を形成する方法は格別限定されないが、導電性細線３１、４１の形状及び又は性状を好適に調整する観点で、コーヒーステイン現象を利用して形成する方法を好ましく用いることができる。これについて、図７を参照して説明する。なお、以下の説明では主にＸ電極３を構成する導電性細線３１を形成する場合について説明するが、Ｙ電極４を構成する導電性細線４１合も同様に形成することができる。

まず、透明基材２の表面に、導電性材料を含む液体６をライン状に付与する（図７（ａ））。ライン状液体６の付与には、例えばインクジェット法などの液滴吐出法を好ましく用いることができる。次いで、このライン状液体６を蒸発させ、乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、ライン状液体６の両縁に導電性材料を選択的に堆積させる。その結果、透明基材２上に、導電性材料を含む互いに平行な２本１組の導電性細線３１、３１からなる平行線３２が形成される（図７（ｂ））。

更に、上記により形成された平行線３２と交差するように更なるライン状液体６を付与し（図７（ｃ））、次いで、該ライン状液体６を蒸発させ、乾燥させる際に、上記と同様にコーヒーステイン現象を利用することで、先に形成された平行線３２と交差するように平行線３２を形成することができる（図７（ｄ））。

複数組の平行線３２を組み合わせることによって、例えば図２に示したようなＸ電極３を形成することができる。Ｙ電極４も同様にして形成できる。

コーヒーステイン現象を促進させるように、ライン状液体６を乾燥させる際の条件設定を行うことは好ましいことである。即ち、透明基材２上に配置されたライン状液体６の乾燥は中央部と比べ縁において速く、ライン状液体６の縁に導電性材料の局所的な堆積が起こる。この堆積した導電性材料によりライン状液体６の縁が固定化された状態となり、それ以降の乾燥に伴うライン状液体６の幅方向の収縮が抑制される。ライン状液体６の液体は、縁で蒸発により失った分の液体を補うように中央部から縁に向かう流動を形成する。この流動によって更なる導電性材料が縁に運ばれて堆積する。この流動は、乾燥に伴うライン状液体６の接触線の固定化とライン状液体６中央部と縁の蒸発量の差に起因する。そのため、この流動を促進させるように、導電性材料濃度、ライン状液体６と透明基材２の接触角、ライン状液体６の量、透明基材２の加熱温度、ライン状液体６の配置密度、又は温度、湿度、気圧の環境因子等の条件を設定することが好ましい。

例えばインクジェット法などの液滴吐出法を用いることによりライン状液体を細く形成することが可能であるが、コーヒーステイン現象によって該ライン状液体から形成される導電性細線は、該ライン状液体よりも更に細いものになる。コーヒーステイン現象を利用することで、単独では視認困難な程度に導電性細線を細くすることができる。しかし、導電性細線の集合体によってＸ電極及びＹ電極を形成したときには、そのままではＸ電極とＹ電極の境界が視認されてしまう。上述したように導電性細線の形状及び又は性状をＸ電極とＹ電極で異ならせることによって、かかる境界を視認困難化することができる。

コーヒーステイン現象を利用して導電性細線を形成する場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を調整することにより、導電性細線の線幅を好適に調整することができる。具体的には、導電性細線の線幅を大きくする場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を高くすればよく、導電性細線の線幅を小さくする場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を低くすればよい。Ｘ電極を構成する導電性細線に用いるライン状液体における導電性材料の濃度を、Ｙ電極を構成する導電性細線に用いるライン状液体における導電性材料の濃度よりも低くすることは好ましいことである。

また、コーヒーステイン現象を利用して導電性細線を形成する場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料として導電性微粒子を用い、且つ該導電性微粒子の体積平均粒子径を調整することにより、導電性細線の反射率を好適に調整することができる。Ｘ電極を構成する導電性細線に用いる導電性微粒子として、Ｙ電極を構成する導電性細線に用いる導電性微粒子よりも、体積平均粒子径が小さいものを用いることは好ましいことである。

ライン状液体に含有される導電性材料としては、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー等を好ましく例示できる。

導電性微粒子としては、格別限定されないが、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、かつ腐食に強い導電性細線を形成することができるので、より好ましい。コスト及び安定性の観点から、Ａｇを含む金属微粒子、特に銀ナノ粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の体積平均粒子径は、好ましくは１〜１００ｎｍの範囲、より好ましくは３〜５０ｎｍの範囲とされる。粒径測定はマルバーン社製ゼータサイザ１０００ＨＳにより行った。

また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。

導電性材料として導電性微粒子を用いる場合は、上述したように送電製細線の反射率を調整するために、該導電性微粒子の体積平均粒子径を調整して用いることができる。

導電性ポリマーとしては、格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。

π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。

導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。

ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものである。

このポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。

ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。

ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。

また、化合物内にＦ（フッ素原子）を有するポリアニオンであってもよい。具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン（旭硝子社製）等を挙げることができる。

これらのうち、スルホン酸を有する化合物であると、インクジェット印刷方式を用いた際にインク射出安定性が特に良好であり、かつ高い導電性が得られることから、より好ましい。

さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、導電性に優れるという効果を奏する。

ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０〜１０００００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１００００個の範囲がより好ましい。

導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）が、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社からＣＬＥＶＩＯＳシリーズとして、Ａｌｄｒｉｃｈ社からＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ４８３０９５、５６０５９８として、Ｎａｇａｓｅ Ｃｈｅｍｔｅｘ社からＤｅｎａｔｒｏｎシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からＯＲＭＥＣＯＮシリーズとして市販されている。

ライン状液体における導電性材料の濃度は、上述したように導電性細線の線幅を調整するために調整されることが好ましい。例えば、０．０１［ｗｔ％］以上０．５［ｗｔ％］以下の濃度範囲内で調整することが好ましい。

ライン状液体を形成する際に用いる、導電性材料を含有させる液体としては、水や、有機溶剤等の１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、１，２−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。

また、導電性材料を含有させる液体には、界面活性剤など種々の添加剤を含有させてもよい。

界面活性剤を用いることで、例えば、インクジェット法などの液滴吐出法を用いてライン状液体を形成するような場合などに、表面張力等を調整して吐出の安定化を図ること等が可能になる。界面活性剤としては、格別限定されないが、シリコン系界面活性剤等を用いることができる。シリコン系界面活性剤とはジメチルポリシロキサンの側鎖または末端をポリエーテル変性したものであり、例えば、信越化学工業製のＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−６４２やビッグケミー製のＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８などが市販されている。界面活性剤の添加量は、ライン状液体を形成する液体の全量に対して、１重量％以下であることが好ましい。

また、導電性細線の形状及び又は性状を調整する観点で、導電性細線にメッキ処理を施すことも好ましいことである。即ち、Ｘ電極を構成する導電性細線、及び、Ｙ電極を構成する導電性細線の一方又は両方に、メッキにより金属膜を形成することが好ましい。

導電性細線にメッキ処理を施す場合は、メッキ条件を調整することにより、導電性細線の膜厚を調整することができる。特に膜厚の調整を好適に行う観点で、電解メッキを好ましく用いることができる。

メッキ条件としては、例えばメッキ処理の処理時間、メッキ液中のメッキ金属イオン濃度、電流等を挙げることができるが、これらに限定されない。

メッキ金属は格別限定されないが、例えば銀、銅、ニッケル等を好ましく例示できる。

導電性細線に対して、メッキ金属が異なる複数のメッキ処理を施すことも好ましい。例えば、銀からなる導電性細線に対して、先ず電解銅メッキを施し、次いで電解ニッケルメッキを施すことにより、導電性細線の膜厚の調整とともに導電性細線に高い導電性と耐久性を付与できる。

次に、透明基材上に形成された平行線の例を図８に基づいて説明する。なお、以下の説明では主にＸ電極３を構成する平行線３２について説明するが、この説明はＹ電極４を構成する平行線４２にも援用することができる。

図８は、基材上に形成された平行線の一例を示す一部切り欠き斜視図であり、断面は、平行線の形成方向に対して直交する方向で切断した縦断面に対応する。

平行線３２を構成する１組２本の導電性細線３１、３１は、必ずしも互いに完全に独立した島状である必要はない。図示するように、２本の導電性細線３１、３１は、該導電性細線３１、３１間に亘って、該導電性細線３１、３１の高さよりも低い高さで形成された薄膜部３０によって接続された連続体として形成されることも好ましいことである。

平行線３２を構成する導電性細線３１、３１の線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々１０μｍ以下であることが好ましい。１０μｍ以下であれば、通常、１本の細線として視認できないレベルとなるので、透明性を向上する観点からより好ましい。導電性細線３１、３１の安定性も考慮すると、線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々２μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。ここで、上述したＹ電極を構成する導電性細線については、Ｘ電極側から見た際の視認性が低下することを考慮して、１０μｍを超える線幅であってもよい。

導電性細線３１、３１の幅Ｗ１、Ｗ２とは、該導電性細線３１、３１間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さをＺとし、更に該Ｚからの導電性細線３１、３１の突出高さをＹ１、Ｙ２としたときに、Ｙ１、Ｙ２の半分の高さにおける導電性細線３１、３１の幅とすることができる。例えば、平行線３２が上述した薄膜部３０を有する場合は、該薄膜部３０における最薄部分の高さをＺとすることができる。なお、導電性細線３１、３１間における導電性材料の最薄部分の高さが０であるときは、導電性細線３１、３１の線幅Ｗ１、Ｗ２は、透明基材２表面からの導電性細線３１、３１の高さＨ１、Ｈ２の半分の高さにおける導電性細線３１、３１の幅とすることができる。

平行線３２を構成する導電性細線３１、３１の線幅Ｗ１、Ｗ２は、上述した通り極めて細いものとすることができるため、断面積を確保して低抵抗化を図る観点で、透明基材２表面からの導電性細線３１、３１の高さ（膜厚ともいう）Ｈ１、Ｈ２は高い方が望ましい。具体的には、導電性細線３１、３１の高さＨ１、Ｈ２は、５０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲であることが好ましい。

平行線３２の安定性を向上する観点から、Ｈ１／Ｗ１比、Ｈ２／Ｗ２比は、各々０．０１以上１以下の範囲であることが好ましい。

平行線３２の細線化を更に向上する観点から、導電性細線３１、３１間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さＺ、具体的には薄膜部３０の最薄部分の高さＺが１０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。最も好ましいのは、透明性と安定性のバランスの両立を図るために、０＜Ｚ≦１０ｎｍの範囲で、薄膜部３０を備えることである。

平行線３２の更なる細線化向上のために、Ｈ１／Ｚ比、Ｈ２／Ｚ比は、各々５以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、２０以上であることが特に好ましい。

導電性細線３１、３１の配置間隔Ｉの範囲は格別限定されず、ライン状液体の形成幅の設定により適宜設定することができる。配置間隔Ｉを、例えば５０μｍ以上、１００μｍ以上、２００μｍ以上、３００μｍ以上、４００μｍ以上、更には５００μｍ以上という大きい値に設定することも好ましい。透明導電膜等を形成する場合などにおいては、配置間隔Ｉは、例えば１００μｍ以上〜１０００μｍ以下の範囲とすることが好ましく、１００μｍ以上〜５００μｍ以下の範囲とすることが更に好ましい。なお、導電性細線３１、３１の配置間隔Ｉとは、導電性細線３１、３１の各最大突出部間の距離とすることができる。

１本のライン状液体から生成される平行線３２を構成する導電性細線３１、３１に同様の形状（同程度の断面積）を付与することが好ましく、具体的には、導電性細線３１、３１の高さＨ１とＨ２とを実質的に等しい値とすることが好ましい。これと同様に、導電性細線３１、３１の線幅Ｗ１とＷ２とについても実質的に等しい値とすることが好ましい。導電性細線の形状の調整のために、Ｘ電極とＹ電極で、導電性細線の高さ（膜厚）及び線幅を異なる値に設定することは好ましいことである。

導電性細線３１、３１は、必ずしも完全な平行である必要性はなく、少なくとも線分方向のある長さＪに亘って、導電性細線３１、３１が結合していなければ良い。好ましくは、少なくとも線分方向のある長さＪに亘って、導電性細線３１、３１が実質的に平行であることである。導電性細線３１、３１の線分方向の長さＪは、導電性細線３１、３１の配置間隔Ｉの５倍以上であることが好ましく、１０倍以上であることがより好ましい。

長さＪ及び配置間隔Ｉは、ライン状液体の形成長さ及び形成幅に対応して設定することができる。

導電性細線３１、３１は、線幅Ｗ１、Ｗ２が２本線間距離（配置間隔Ｉ）に比して、十分に細いものであることが好ましい。

１本のライン状液体から生成される平行線３２を構成する導電性細線３１、３１は、同時に形成されたものであることが好ましい。

平行線３２を構成する導電性細線３１、３１は、下記（ア）〜（ウ）の条件を全て満たすことが特に好ましい。これにより、パターンが視認されにくくなり、透明性を向上できると共に、線分が安定化され、パターンの抵抗値を低下できる効果に優れる。

（ア）各導電性細線３１、３１の高さをＨ１、Ｈ２とし、該導電性細線３１、３１間における最薄部分の高さをＺとしたときに、５≦Ｈ１／Ｚ、且つ５≦Ｈ２／Ｚであること。
（イ）各導電性細線３１、３１の幅をＷ１、Ｗ２としたときに、Ｗ１≦１０μｍ、且つＷ２≦１０μｍであること。
（ウ）各導電性細線３１、３１の高さをＨ１、Ｈ２としたときに、５０ｎｍ＜Ｈ１＜５μｍ、且つ５０ｎｍ＜Ｈ２＜５μｍであること。

透明基材は格別限定されないが、例えばガラス、プラスチックなどを挙げることができ、中でもプラスチックが好ましい。プラスチックとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート等が好適である。透明基材は単層構造であっても積層構造であってもよい。

図９は透明基材２が単層構造である場合の一例を示している。この場合、当該透明基材２の一面にＸ電極３を形成し、次いで他の面にＹ電極４を形成するか、あるいは、当該透明基材２の一面にＹ電極４を形成し、次いで他の面にＸ電極３を形成することにより、タッチパネルセンサー１とすることができる。即ち、同一支持体（透明基材）の両面にＸ電極３とＹ電極４が各々形成されたタッチパネルセンサー１とすることができる。

図１０は透明基材２が積層構造である場合の一例を示している。かかる積層構造は、２枚の支持体２１、２１と、該支持体２１、２１間に配された接着フィルム２２から構成されている。かかる積層構造を形成する際には、Ｘ電極３を透明な第１支持体２１上に形成し、Ｙ電極を透明な第２支持体２１上に形成した後、これら支持体２１、２１を、透明な接着フィルム２２を介して貼り合わせることによりタッチパネルセンサー１とすることができる。

積層構造を用いる場合は、同一基材の両面に電極形成する必要が生じる単層構造の場合と比較して、比較的容易に製造できる利点がある。単層構造を用いる場合も、積層構造を用いる場合も、上述したように導電性細線の形状及び又は性状を調整することで、Ｘ電極とＹ電極の境界を視認困難化できる。

以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。

（実施例１）
実施例１では、導電性細線の線幅を調整した。

＜Ｘ電極の形成＞
ロール状巻回体から繰り出されるＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（厚さ５０μｍ）の搬送方向の上流側と下流側にそれぞれ設けられたラインヘッドを用いて、該ＰＥＴフィルム上に複数の平行線を組み合わせたＸ電極を形成した。ラインヘッドは、インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製、ピエゾヘッド（標準液適量４２ｐｌ））を前記搬送方向と直交する方向に複数組み合わせて構成されている。

具体的には、まず、上流側ラインヘッドを用いて、水性銀ナノインク（体積平均粒子径２０ｎｍ、固形分濃度０．８ｗｔ％、表面張力２７ｍＮ／ｍ）を透明基材上に付与して、３本セットのライン状液体を複数形成した。各ライン状液体を乾燥させる際に、乾燥条件を制御して、銀ナノ粒子を両縁に選択的に堆積させて、１組２本の平行線を形成した。導電性細線の配置間隔Ｉは２５０μｍとした。３組の平行線からなる第１細線セット（６本の導電性細線により構成されている）を所定の間隔をおいて複数並設した。

次いで、下流側ラインヘッドを用いて、第１細線セットと同様にして、該第１細線セットと交差する第２細線セットを形成し、図３に示したものと同様のＸ電極を形成した。このとき、Ｘ電極形成時のインクの銀ナノ粒子の濃度を変更し、導電性細線の線幅が表１に示す値になるようにして、試料１−１〜１−５とした。

＜Ｙ電極の形成＞
Ｘ電極と同様の方法で、ＰＥＴフィルム上に、図４に示したものと同様のＹ電極を形成した。このとき、Ｙ電極形成時のインクの銀ナノ粒子の濃度を変更し、導電性細線の線幅が表１に示す値になるようにして、試料１−１〜１−５とした。

＜貼り合わせ＞
Ｘ電極が形成されたＰＥＴフィルムと、Ｙ電極が形成されたＰＥＴフィルムとを、接着フィルムを介して貼り合わせて、図１０に示すような、透明基材が積層構造を有するタッチパネルセンサーを得た。このタッチパネルセンサーは、貼り合わせ時の位置調整により、図２に示したように、透明基材を透視した際に、Ｘ電極を構成する第１細線セットと、Ｙ電極を構成する第１細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。同様に、透明基材を透視した際に、Ｘ電極を構成する第２細線セットと、Ｙ電極を構成する第２細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。

＜評価方法＞
得られたタッチパネルセンサー（試料１−１〜１−５）を、３０ｃｍの距離を置いてＸ電極側から観察し、Ｘ電極とＹ電極の境界の視認困難性を下記の評価基準で評価した。結果を表１に示す。

［評価基準］
下記５段階評価とした。
５：境界がほとんど見えない
４：境界がごく僅かに見える
３：境界が僅かに見える
２：境界が見える
１：境界がくっきり見える

なお、上記評価基準において３〜５が実用上好ましい。

＜評価＞
表１より、Ｘ電極を構成する導電性細線の線幅を、Ｙ電極を構成する導電性細線の線幅よりも小さくすることにより、Ｘ電極とＹ電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。

（実施例２）
実施例２では、透明基材としてＰＥＴフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例１と同様に、導電性細線の線幅を調整した。

具体的には、ＰＥＴフィルムの一面にＸ電極を形成した後、該ＰＥＴフィルムの他面にＹ電極を形成して、図９に示したようなタッチパネルセンサーを得た。

実施例１と同様に視認困難性を評価した結果、透明基材として単層構造のものを用いる場合においても、Ｘ電極を構成する導電性細線の線幅を、Ｙ電極を構成する導電性細線の線幅よりも小さくすることにより、Ｘ電極とＹ電極の境界を好適に視認困難化できることが確認された。

（実施例３）
実施例３では、導電性細線の反射率を調整した。

実施例１において、導電性細線の線幅を一定（６μｍ）とし、銀ナノ粒子の体積平均粒子径を変更し、反射率が表２に示す値となるようにして、試料３−１〜３−５のタッチパネルセンサーを得た。

実施例１と同様に視認困難性を評価した結果を表２に示す。

＜評価＞
表２より、Ｘ電極を構成する導電性細線の反射率を、Ｙ電極を構成する導電性細線の反射率よりも小さくすることにより、Ｘ電極とＹ電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。表２に示した反射率は、分光光度計を用いて測定対象となる導電性細線が形成された面について測定された分光反射率から求めた値である。

（実施例４）
実施例４では、導電性細線の膜厚を調整した。

実施例１で得られた試料１−１のタッチパネルセンサーのＸ電極及び又はＹ電極を構成する導電性細線に電解銅メッキ処理を施した。メッキ条件を変えて、メッキされる銅膜厚を変更し、導電性細線の膜厚が表３に示す値となるようにして、試料４−１〜４−５のタッチパネルセンサーを得た。

実施例１と同様に視認困難性を評価した結果を表３に示す。

＜評価＞
表２より、Ｘ電極を構成する導電性細線の膜厚を、Ｙ電極を構成する導電性細線の膜厚よりも小さくすることにより、Ｘ電極とＹ電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。

（実施例５）
実施例５では、透明基材としてＰＥＴフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例４と同様に、導電性細線の膜厚を調整した。

具体的には、ＰＥＴフィルムの一面にＸ電極を形成した後、該ＰＥＴフィルムの他面にＹ電極を形成して、図９に示したようなタッチパネルセンサーを得た。

実施例１と同様に視認困難性を評価した結果、透明基材として単層構造のものを用いる場合においても、Ｘ電極を構成する導電性細線の膜厚を、Ｙ電極を構成する導電性細線の膜厚よりも小さくすることにより、Ｘ電極とＹ電極の境界を好適に視認困難化できることが確認された。

１：タッチパネルセンサー
２：透明基材
２１：支持体
２２：接着フィルム
３：Ｘ電極
３１：導電性細線
３２：導電性平行細線（平行線）
３３ａ、３３ｂ：細線セット
４：Ｙ電極
４１：導電性細線
４２：導電性平行細線（平行線）
４３ａ、４３ｂ：細線セット
５：交差部
６：ライン状液体

Claims (22)

1. 透明基材の一面にＸ電極を備え、該透明基材の他面にＹ電極を備え、該Ｙ電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーであって、
   前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極は、それぞれ１組２本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて構成されており、
   前記Ｘ電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記Ｘ電極と前記Ｙ電極の視認性の差を減じるように、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせたタッチパネルセンサー。
2. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状が線幅であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせた請求項１記載のタッチパネルセンサー。
3. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さい請求項２記載のタッチパネルセンサー。
4. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせた請求項１記載のタッチパネルセンサー。
5. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さい請求項４記載のタッチパネルセンサー。
6. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせた請求項１記載のタッチパネルセンサー。
7. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さい請求項６記載のタッチパネルセンサー。
8. 前記Ｘ電極が形成された支持体と、前記Ｙ電極が形成された支持体とを貼り合わせてなる請求項１〜７の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
9. 同一支持体の両面に前記Ｘ電極と前記Ｙ電極が各々形成されている請求項１〜８の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
10. 前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極を構成する導電性平行細線は、前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて形成されたものである請求項１〜９の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
11. 前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線は、メッキにより形成された金属膜を備える請求項１〜１０の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
12. 透明基材の一面にＸ電極を備え、該透明基材の他面にＹ電極を備え、該Ｙ電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーの製造方法であって、
    前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極を、それぞれ１組２本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて形成すると共に、
    前記Ｘ電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記Ｘ電極と前記Ｙ電極の視認性の差を減じるように、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせるタッチパネルセンサーの製造方法。
13. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状とが線幅であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせる請求項１２記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
14. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さくなるように、該Ｘ電極及び該Ｙ電極を設ける請求項１３記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
15. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせる請求項１２記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
16. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さくなるように、該Ｘ電極及び該Ｙ電極を設ける請求項１５記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
17. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせる請求項１２記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
18. 前記Ｘ電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Ｙ電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さくなるように、該Ｘ電極及び該Ｙ電極を設ける請求項１７記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
19. 前記Ｘ電極が形成された支持体と、前記Ｙ電極が形成された支持体とを貼り合わせる請求項１２〜１８の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
20. 同一支持体の両面に前記Ｘ電極と前記Ｙ電極を各々形成する請求項１２〜１９の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
21. 前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極を構成する導電性平行細線を形成する請求項１２〜２０の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
22. 前記Ｘ電極及び前記Ｙ電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線に、メッキにより金属膜を形成する請求項１２〜２１の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
    

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