TW201010802A - Dust removing device - Google Patents

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TW201010802A
TW201010802A TW097142039A TW97142039A TW201010802A TW 201010802 A TW201010802 A TW 201010802A TW 097142039 A TW097142039 A TW 097142039A TW 97142039 A TW97142039 A TW 97142039A TW 201010802 A TW201010802 A TW 201010802A
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Moritoshi Kanno
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Hugle Electronics Inc
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Description

201010802 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種除塵裝置,其對除塵對象喷射空 氣或稀有氣體等之單純的清潔氣體、含有以超音波頻率振 動之超音波的氣體、含有正、負離子的氣體、或超音波和 離子都含有的氣體(以下將這些氣體總稱為清潔氣體),並 進行除塵。
【先前技術】 利用除塵裝置,對在TFT(薄膜電晶體)液晶面板、 (電漿顯示面板)以及LCD (液晶顯示器)等所使用之玻 璃基板、太陽能電池面板、或長的紙、薄膜等的薄片等除 塵對象(以下僅稱為除塵對象)進行除塵。 作為關於這種除塵裝置的習知技術,已知例如專利文 獻1(特開2004— 41851號公報,發明名稱「除塵頭」)所 w己載的發明。 在專利文獻1所記載之習知技術,係有關於—種除塵 、/、有中央的噴射室、及該喷射室之兩侧的吸入室。 專利文獻丨]特開2004—41851號公報(段落編號 【發明内容】 【發明要解決之課題】 般的除塵裝置,大多上下地配置除塵頭。在這種 214 6-1〇]_26-Pf 201010802 从塵裝置,在對在輪送帶上所搬運的複數片玻璃基板連續 、行除塵的情況,即使以清潔氣體噴射相鄰的玻璃基板 除塵對象之間的間隙,亦向上下的除塵頭喷射清潔氣 而^潔氣體吹到除塵頭以外的位置,可能捲起灰塵的 可能性極少。 °疋如專利文獻1的第5(b)圖所示,亦有下侧無除 、一、隋況這種除塵裝置,在向相鄰的玻璃基板等除塵 鲁、象之間的間隙喷射清潔氣體時,清潔氣體到達下方(在 極,的情況到達裝置放置地板)。雖然除塵裝置設置於無 . 至但是捲起—些灰塵,而可能使除塵環境變差。 又,雖然亦想到在相鄰之玻璃基板等除塵對象的間隙 和喷射孔相對向之間停止噴射清潔氣體,但是在此情況, 需要將切換閥設置於清潔氣體的流路。在切換閥切換時, ,*、封用的墊圈所脫離之微小的異物等可能混入清潔氣 體,而可能使除塵性能降低。 % 因此,本發明係為了解決上述之課題而開發者,其目 的在於提供一種除塵裝置,在僅除塵對象之單侧進行除塵 :除塵裝置’追加和除塵頭相對向之簡易的構造之承受 部,錢變通過相鄰之除塵對象間的間隙之來自喷射室的 清潔氣體之流動方向後以吸入室吸入而降低不要 的飛散。 【解決課題之手段】 本發明之申請專利範圍第丨項的除塵裝置,其特徵在 於包括: . 214 6-10126-PF 6 201010802 除塵頭係具有各自至少各一個之具有吸入口的吸入 室及具有噴射口的嘴射室; 搬運部係、向除塵頭内依序搬運複數個除塵對象;以 及 承又邛,係配置成和除塵頭相對向,並承受從喷射室 的喷射口所噴射之清潔氣體,使方向轉換; 從喷射至的噴射口向除塵對象喷射清潔氣體時的吸 入室’係:其吸入口吸入從除塵對象反彈的清潔氣體, 又彳文喷射至的喷射口向相鄰之2個除塵對象間的間 隙喷射清潔氣體時的吸入室,係從其吸入口吸入在承受部 使方向轉換的清潔氣體。 又本發明之申請專利範圍第2項的除塵裝置,係在 申請專利範圍第1項所記裁的除塵裝置, 〇承又邛包含有.清潔氣體通過的通過孔;及承受空 間係由平面和曲面所隔開並和通過孔連通的截面弓形空 間,而曲面和吸入口或喷射口相對向,而且平面位於和除 塵對象的搬運方向大致平行; 以承受空間的曲面承受從喷射室之喷射口喷射並通 過通過孔的清潔氣體後1承受空間的平面使方向轉換, 而從吸入室的吸入口吸入。 又,本發明之申請專利範圍第3項的除塵裝置,係在 申請專利範圍第!項所記載的除塵裝置,&括:
相對向板,係具有和除塵對象之搬運方向大致平行的 表面; 2146-10126-PF 7 201010802 通:孔,係、形成於相對向板’並面向喷射口和吸入口 固定於相對向板的半圓筒體;以及 承受空間,係由相對向板的平面和半圓筒體的曲面隔 開,而半圓筒體之曲面和吸入口或喷射口相對向,而且相 對向板的平面位於和除塵對象之搬運方向大致平行的截 面弓形空間,並和通過孔連通; 以承受空間的曲面承受從喷射室之喷射口喷射並通
❹ 過通過孔的㈣氣體後,以承受m的平面使方向轉換, 而從吸入室的吸入口吸入。 又,本發明之申請專利範圍第4項的除塵裝置,係在 申請專利範圍第1項所記載的除塵裝置, 該承受部包括圓弧體,其具有噴射口和吸入口所面向 之曲面形的承受面,從吸入室的吸入口吸入以圓弧體之承 受面使方向轉換的清潔氣體。 又,本發明之申請專利範圍第5項的除塵裝置,係在 申請專利範圍第1項所記載的除塵裝置, 該承受部包括箱體,其具有喷射口和吸入口所面向之 平面形的承受面,從吸入室的吸入口吸入以箱體之承受面 使方向轉換的清潔氣體。 又’本發明之申請專利範圍第6項的除塵裝置,係在 申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置, 該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置噴 射室和隔著喷射室之上游、下游的吸入室。 又,本發明之申請專利範圍第7項的除塵裝置,其特 2146-10126-PF 8 201010802 徵在於: 該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置吸 入至和隔者吸入室之上游、下游的喷射室。 又’本發明之申請專利範圍第8項的除塵裝置,係在 申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置, 該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上 游噴射室和下游吸入室。 又,本發明之申請專利範圍第9項的除塵裝置,係在 申續專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置,
該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上 游吸入室和下游喷射室D 又’本發明之申請專利範圍第丨〇項的除塵裝置,係 在申請專利範圍第1至9項中任一項的除塵裝置, 包括離子化器’其配置於噴射室内,並在被施加高電 壓的發射體附近產生離子,且從噴射室的喷射口喷射含有 離子的清潔氣體。 0 又’本發明之申請專利範圍第U項的除塵裝置,係 在申請專利範圍第1至10項中任一項的除塵裝置, 包括移動部’其使該承受部接近或遠離除塵頭。 又’本發明之申請專利範圍第項的除塵裝置,係 在申請專利範圍第11項所記載的除塵裝置, 將該承受部及該移動部作為一組,並設置複數個喷射 部及組數相同之該承受部與該移動部。 【發明效果】 2146*10126-PF 9 201010802 若依據如以上所示之本發明,可提供一種除塵裝置, 在僅除塵對象之單侧進行除塵的除塵裝置,追加和除塵頭
相對向之簡易的構造之杀兵A 承又〇卩,在改變通過相鄰之除塵對 象間的間隙之來自噴射室的清 * 月深氣體之流動方向後以吸 入室吸入,而降低不要之灰塵的飛散。 【實施方式】 /著’根據圖說明用以實施本發明之最佳形態。第丄 圖係本形態之除塵裝置的側視圖,第2圖係本形態之除塵 裝置的剖面圖,f 3圖係本形態之除塵裝置的立體外觀 圖。此外,在第3圖拿掉侧壁部後圖示。除塵裝置ι包括 除塵頭100、承受部200、搬運部300以及移動部4〇〇。除 塵裝置1對除塵對象10進行除塵。 除塵頭100之細節係將離子化_ 120配置於如第2 圖-第3圖所不之除塵頭本體u。的内部,還將如第丄圖 ,所不之側壁部13〇固定於除塵頭本體i i 〇的兩侧面。 面參圖一面說明除塵頭1〇〇。第4圓係表示除塵 頭之内外構造圖,第4(a)圖係A箭視圖,第4(b)圖係β :B線剖面圖,第4(c)圖係c—c線剖面圖。帛5圖係C —C線剖面的立體圖。帛6圖係表示除塵頭之内部構造 圖’第6U)圖係D—D線剖面圖,第6(b)圖係e—E線剖 面圖。第7圖係承受部之構造圖。 ° 、除塵頭本體U0如第4(a)圖所示,包括嘴射室⑴、 上游侧吸入室112、下游側吸入室· 11 3、頂板114、侧壁
2146-10126-PF 10 201010802 115a、115b、内壁116a、116b、喷射室底部Ulc以及吸 入室底部112c、113c。 喷射室111如第2圖〜第6圖所示,係利用頂板114、 内壁116a、116b以及噴射室底部lllc所隔開的空間,間 隔壁116c跨在内壁116a、116b,而以機械式補強。此喷 射室111如第4(c)圖所示,利用流入口 lllb、通過孔U6e 以及喷射口 11 la使空間在内外連通。此外,於離子化器 120的突出部121和槽部116d之間形成如第6(a)圖所示 # 的通過孔124’在組裝離子化器120時,經由該通過孔124 亦將空間連通。 喷射口 111a由第5圖亦得知,係長的開縫。因為除 塵對象10從對第5圖所示之喷射口 111&的長度方向大致 垂直方向進入,所以可對除塵對象1〇的全區域喷射清潔 氣體。 、 間隔壁116c如第4(c)圖所示,設置於喷射口 1Ua 和流入口 lllb之間,配置成接近喷射口 111a較佳。這係 由於隨著間隔壁l16c的配置接近喷射口 1Ua側而難發 生清潔氣體通過喷射口 111&所伴隨之喷射口 nia的擴 開。 、 通過孔116e如第4(c)圖、第6(b)圖所示’於間隔壁 116c設置複數個,使從流入口 i丨丨b所流入的清潔氣體導 通至喷射口 llla。 槽部11 6d如第4(a)圖的a部放大圖所示,設置於噴 . 射室HI ,使離子化器120的突出部121 —面滑動一面插 2146-10126-PF 11 201010802 入該槽部116d’而安裝於喷射室ill内。 和離子化器120的配置同時形成通過孔124。如第6(a) 圖所示,缺口部123設置於離子化器120的突出部121, 如第4(a)圖的a部放大圖所示,一面使突出部121向槽部 116d滑動一面插入離子化器120,而安裝於喷射室Hi内 的情況,如第6(a)圖所示,缺口部123被槽部116d覆蓋 而成為通過孔124。 流入口 111b如第3圖、第4(c)圖以及第5圖所示, • 設置於除塵頭100之上面的頂板114。 離子化器120如第4(b)、(c)圖所示,配置於係喷射 室111内並比間隔壁116C更上游側,具有向清潔氣體釋 出正離子、負離子之功能。 發射體122安裝於此離子化器12(),發射體122被施 加直流電流或交流電流,而利用電暈放電釋出正離子、負 離子。 上游側吸入室112如第 3圖〜第6圖所示,係由頂板
吸入口 112a而將空間連通。
2146-10126-PF 12 201010802 下游侧吸入室113,如第3圖〜第6圖所示’係由頂板 114、侧壁π 5b、内壁11 6b以及吸入室底部113c所隔開 的空間。此下游侧吸入室113如第4(c)圖所示,利用排氣 口 113b、吸入口 i13a而將空間連通。 吸入口 113a如第5圖、第6圖所示’係長的開縫, 和周邊空氣一起吸入因從喷射口 Ilia所喷射之清潔氣體 而發散的灰塵。 排氣口 113b如第3圖、第4(c)圖以及第5圖所示, 係用以排出從吸入口 u 3a所吸入之氣體的開口。 除塵頭100之構造係這種構造。 在此,說明除塵頭本體11〇的製造方法。 本除塵頭本體11〇係利用擠壓成形而製造。例如將鋁 等金屬材料壓入模具,而形成喷射室1U、上游側吸入室 112、下游側吸入室113、侧壁115a、115b、内壁116a、 116b、間隔壁i16c、喷射室底部Ulc、吸入室底部112c、 113c以及頂板114成為一體的除塵頭本體u〇,再進行端 部等的末端處理而完成。此外,在擠壓成形剛結束後尚 未形成流入口 111b、排氣口 U2b、113b(參照第3圖、第 4(c)圖以及第5圖)、間隔壁U6c的通過孔116e(參照第 4(c)圖、第6(a)圖)、噴射口 llla以及吸入口 112a、U3a。 使錢頭對如此擠壓成形的除塵頭100從箭號F(參照 第3圖)方向進入,並同時進行流入口 liib、通過孔 的鑽孔机入口 mb、通過孔1166成為相同的直徑。在 其他的位置進行這種鐵孔多二欠,而如帛3圖、第6(b)圖所
2146-10126-PF 13 201010802 示’形成多個流入口 mb、通過孔116e。 一樣地’使鑽頭對除塵頭100從箭號F方向進入,並 進行排氣口 112b、113b的鑽孔。在其他的位置進行這種 鑽孔多次,而如第3圖所示,形成多個排氣口 U2b、ii3b。 然後’將係長的開缝之喷射口 111 a、吸入口 1J 2a、 113a以銑床等進行切削加工,而完成第3圖〜第6圖所示 的除塵頭本體Π 0,再從喷射室111的侧部開口插入離子 化器120,並以側壁部13〇塞住兩侧,而完成除塵頭。 籲在此除塵頭1〇〇,以一體構造形成喷射室lu、上游側吸 入室112以及下游側吸入室113。 這種除塵頭1〇〇如第8圖所示,朝向除塵對象之搬運 方向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向),排列 成上游側吸入室112(π)、喷射室ιπ(ρ)、下游側吸入室 113(V2)而構成,並配置於搬運部3〇〇的上側。喷射室 111 (Ρ)和未圖示的送風泵連接,又,上游側吸入室 n2(V1)、下游侧吸入室113CV2)和未圖示的吸氣泵連接。 從喷射室111的噴射口 llla所喷射之清潔氣體或被吹起 的灰塵和周圍之空氣一起經由吸入口 112a、U3a而被吸 往上游侧吸入室112、下游側吸入室丨丨3。此含有灰塵的 空氣經由除塵頭1〇〇的排氣口 n2b、i13b(參照第3圖)、 排氣流路以及排氣配管而向外部被排出。除塵頭丄〇〇係這 種構造。 接著’承受部200如第2圖、第7圖所示,包括半圓 琦體210、相對向板220、承受空間23〇、通過孔240、.支
2146-10126-PF 201010802 持部250以及側壁260。承受部2〇〇配置成如第ι圖第3 圖所示。 半圓筒體21 0如第7圖所示,係將兩側被側壁⑽塞 住的圓筒體朝向轴向切割成一半之形狀。内側具有半圓形 的曲面。 相對向板220係一般的板體’於其中央形成通過孔 240。此相對向板220具有和除塵對象1〇的搬運方向大致 平行之平面形的表面、背面。 # 承受空間230由相對向板220之背面和半圓筒體21〇 的曲面隔開,半圓筒體21〇的曲面經由通過孔編和喷射 a及吸入口 112a、U3a相對向,而且相對向板22〇 2背面、表面都是位於和除塵對象1G之搬運方向大致平 订的位置之截面弓形空間。此承受空間23〇和通過孔謂 連通。 通過孔240設置於相對向板220的中央,縱橫之長度 ❿至少比除塵頭_的喷射口 1113及吸入口 112a、U3a更 因而’從喷射π 1118所嘴射之全部的清潔氣體不會 被吹到相對向板220而通過通過孔24〇。 支持部250固定於半圓筒體210的下側。 側壁260固定於半圓筒體210的兩側面。 承受部200係這種構造。 搬運部300例如係支持、搬運除塵對象1〇之長的輕。 運部、_以賦予搬運除塵對象1〇之驅動力的方式構 5、、自由轉動成和利用其他的驅動源所搬運之除塵對
2l46'l〇l26-PF 15 201010802 象10從動的方式構成。 向箭號a 塵頭1 00 預先利用 而設定並 移動部400如第1圖所示,支持部250係朝 方向(上下方向),係使承受部2〇〇接近或遠離除 之方式移動的裝置,例如如昇降工作台的裝置。 移動部400調整上下位置’使承受部2〇〇移動, 固疋於將清潔氣體確實地缓衝的位置。
這種除塵裝置1的除塵對象10例如係用於TFT(薄膜 電晶體)液晶面板、PDP(電漿顯示面板)以及Lcd(液a 器)等之玻璃基板、太陽能電池面板、或長的紙、薄曰膜; 的薄片等。除塵裝置1係這種構造。 、 接著’-面參照圖一面說明除塵裝的除塵動作。 第8圖係本形態之除塵裝置除塵時的動作說明圖, 係本形態之除塵裝置的除塵對㈣之切時的動作說明 使清潔氣體從流入口 1Ub流入時,通過離子化 ❹的通過孔124。從離子化器㈣所釋出之正離子、負 混入此清潔氣體。又,這 化種凊潔氣體通過間隔壁U6c !過孔1166,而到達嘴射口⑴a,再從嘴射口⑴a喷勒 清潔氣體。在此情況,雖秋 ^ 如第4⑹圖所- 雖…、噴射至111内變成高壓’但是 如第4(c)圖所不,因為間隔壁服在喷射室⑴内 地:跨而補強,所以抑制喷射口⑴a之擴開的發生。又, 因:將間隔壁116c配置於接近嘴射口⑴⑽的位置 以更加抑制喷射口 1113之擴開的發生。 所 複數個除塵對象】Π rr- _ 于象隔者既定的間隔在搬運部300上
2136-10126-PF 16 201010802 依序被搬運,而逐次進行除塵。在此情況,除塵頭100總 是進行藉噴射室1 U (P)之清潔氣體的噴射、及藉上游側吸 入室112、下游側吸入室113之灰塵的吸入。
首先,如第8圖所示,被除塵的除塵對象1〇在除塵 頭100之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況,除塵對象 10的上面成為除塵對象面。在除塵頭100,從噴射室lli(p) 向除塵對象10的除塵對象面噴射清潔氣體,藉由飛散的 灰塵在上游側吸入室112(V1)、下游側吸人室113⑽被 吸入而進行除塵對象10之除塵對象面的除塵。 然後,依然繼續搬入,如第9圖所示,相鄰之2個除 塵對象10之間的間隙到達除塵頭1〇〇的正下時,來自除 塵頭100之噴射室111(P)的清潔氣體通過通過孔24〇,而 由承受部之承受空間23〇的曲面(半圓筒體⑽的内 側之半圓形的曲面)承受。這種清潔氣體沿著曲面移動, 或到達㈣向板22〇之背面,使方向轉換,而向通過孔24〇 移動。因為沿著此相對向板220之背面移動的清潔氣體係 和搬運方向平行’所以係在承受空間230内㈣,難越過 通過孔240而到達上侧。於是,在上游側吸入室ιΐ2(νι)、 下游側吸入室113(V2)由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入 量比喷射量更多,而可降低向除塵對象方向漏吹的可能 性。因而,通過相鄰之2個除塵對象1〇之間的間隙之清 潔氣體不會使不要的灰塵飛散,#良好地保持除塵環境。 又’使可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵,亦實現簡 化設備或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝 2146-10126-PF 17 201010802 置〗係這種構造。 接著根據圓說明本發明之其他的形態 其二的形態之除塵裝置的侧視圏,第u圓係其圖係 之除塵裝置的剖面圖,第i2圖係 ; 圖係其他的形態之除塵裝置的動作:二的說 第10圖係拿掉侧壁部後圖示。除塵裝 除塵頭1〇〇、圣兵划cnn 孩 又邛5〇〇、搬運部300以及移動部4〇〇。 塵裝置2對除塵對象造 ’、 豕iU進仃除塵。和前面使用第1圖〜笛 9圖所說明的除靡裝署] ’、麈裝置1相比,本形態的除塵裝置 夂部50。之構造相異以外,其他的構造係相同,對相同的 :造物附加相同的符號’而且賓略重複的說明 受部500。 巧承 承受部500如第1〇圖、笫n 、支㈣_。 ’匕圓弧體 圓弧體5H)係圓弧形的構件,具有曲面形的承受面。 此外’雖未圖示’亦可作成將側壁部安裝於兩侧面(在第 1〇圖位於正面的面和背側的面),而在兩側部清潔氣體不 會流動。圓弧體51G在圖面之垂直方向形成長,特別 使比喷射口 llla、吸入口 ^ 113a更長,以確實地承 又>月潔氣體。圓弧體510如第12圖所示,將圓筒體進行3 分割而形成。 支持部520如第10圖所示,固定於圓弧體51〇的下 側,利用移動部400使圓弧體51〇朝向箭號&方向( 或遠離除塵頭本體110的方向)移動。承受部5〇〇係這種 2146-l〇i26-pF c 18 201010802 構造。 接著’說明除塵裝置2的除塵動作。 器 的 明 從除塵頭本體110向除塵對象1〇噴射含有從離子化 所釋出之正離子、負離子的清潔氣體。除塵對象10 除塵係和使用第8圖所說明的一樣之處理,省略重複說 然後’如第13圖所示,相鄰之2個除塵對象1〇之門 的間隙到達除塵頭100的正下時,以承受部5〇〇之圓弧體 搴510的承受面(圓弧體51〇之内側的弧形曲面)承受來自除 塵頭⑽之喷射室m⑺的清潔氣體。這種清潔氣體沿著 曲面形的承受面而移動,在上游側吸入室112(νι)、下游 側吸入室113(V2)由上侧吸入清潔氣體。藉由使吸入量比 喷射量更多’而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因 而,通過相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體 不會使不要的灰塵飛散’而良好地保持除塵環境。又,使 ,可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵,亦實現簡化設備 或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置 這種構造。 按者’根據圖說 ,、p…v〜。弗14圖 其他的形態之除塵裝置的側視圖,第15圖係其他的形 之除塵裝置的動作說明圖。除塵裝置3包括除塵頭_ 承受部_、搬運部3〇〇以及移動部綱。除塵裳置3 除塵對象1G進行除塵。和前面使用帛i圖〜第9圖所說 的除塵裝置1相比’本形態的除塵.裝置3僅承受部⑽ 2146^10126-PF 19 201010802 構造相異以外,其他的構造係相@,對相同的構造物附加 相同的符號’而且省 <重複的說日月,僅說明承受部6〇〇。 承受部600如第14圖、第15圖所示,包括箱體㈣、 支持部6 2 0。
箱體610係箱形的構件,具有平面形的承受面。箱體 〇叹置侧壁4 ’並作成清潔氣體不會從橫侧流動。箱體 610在圖面之垂直方向形成長,特別考慮使比嗔射口 吸入口 112a、113a更長,以確實地承受清潔氣體。 支持部620固定於箱體61〇的下側,利用移動部4〇〇 使箱體610朝向箭號a方向(接近或遠離除塵頭本體ιι〇 的方向)移動。承受部600係這種構造。 接著,說明除塵裝置3的除塵動作。 從除塵頭本體no向除塵對㈣喷射含有從離子化 器120所釋出之正離子、負離子的清潔氣懸。除塵對象 的除塵係和使用第8圖所說明的-樣之處理,省略重複說 明。 然後’如第15圖所示,相鄰之2個除塵對象1〇之間 的間隙到達除塵頭100的正下時,以承受部_之箱鍾61〇 的承受面承受來自除塵帛⑽之喷射室⑴(p)的清潔氣 體&種/月潔氣體沿著承受面而移動,最後沿著侧壁向上 側移動’在上游側吸入室下游側吸入室113(V2) 由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比嗔射量更多,而可 降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因而,通過相鄰之2 個除塵對象1 〇之間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵
2146-10126-PF 20 201010802 飛散,而良好地保持除塵環境。又,使可 之狀態進行連續除塵,亦實現簡化設備或降青潔氣體 處入的可能性。本形態的除塵裝置3係這種心之異物 接著’根據圖說明本發明之其他的形態二 其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明:係 其他的形態之除塵裝置的除塵 17圖係 明阁L L 除塵對象間之喷射時的動作說 月圖。此外,在第16圖、第17圖以剖面圖圖:: •=:示。除塵裝置4包括除塵頭“°、承受部㈣、 搬運邛300以及移動部4〇〇。 ^ ^ Λ 际歷展置4對除塵對象J 〇 延行除塵。和前面使用笛1 ^ f\ m J便用第1圖〜第9圖所說明的除塵裝置i 目比盆本形態的除塵裝置4僅除塵頭⑽之構造相異以 ’其他的構造係相同’對相同的構造物附加相同的符 號,而且省略重複的說明,僅說明除塵頭140。 .除塵頭140如S 16圖所示’朝向除塵對象之搬 運方向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向),排 •=成上游側喷射室142(P1)、吸入室141CV)、下游侧噴射 室143(P2)而構成,並配置於搬運部3〇〇的上側。吸入室 141 (V)和未圖示的吸氣泵連接,又,上游側喷射室 142(P1)、下游侧噴射室143(p2)和未圖示的送風泵連接。 從上游側喷射室142及下游侧喷射室143的喷射口 142a、 143a所噴射之清潔氣體或被吹起的灰塵和周圍之空氣一 起、”至由吸入口 141a而往吸入室141被吸入。此含有灰塵 的二氣經由除塵頭14〇的排氣口、排氣流路以及排氣配管 而向外部被排出。除塵頭14〇係這種構造^ , 2146-10126-PF 21 201010802 接著,說明除塵裝置4的除塵動作。 從離二t::!射室142使清潔氣體從流入°流入,並將 mm 射。一樣地,在下游側喷射室143使 /月潔乳體從流入口流入, 離子、負離子加入清潔氣體St化器12°所釋出之正 、 β漂乳體,再從喷射口 143a噴射。 麼對象10隔著既定的間隔在搬運部3〇〇上
依序被搬運,而逐次進扞哈鹿仏法 B 仃除塵。在此情況,除塵頭140總 疋進行藉上游側喷射室職”及下游側喷…細) 之清潔氣體的喷射、及藉吸人室141⑺之灰塵的吸入。 首先’如第16圖所示,被除塵的除塵對象1〇在除塵 頭140之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況’除塵對象 的上面成為除塵對象面。在除塵頭14〇,從上游側喷射 室142(P1)及下游侧嘴射室143(p2)向除塵對象1〇的除塵 對象面喷射清潔氣體,藉由飛散的灰塵在吸入室14l(V) 被吸入,而進行除塵對象1〇之除塵對象面的除塵。 然後,依然繼續搬入,如第丨7圖所示,相鄰之2個 除塵對象1 G之間的間隙到達除塵頭}4()的正下時,來自 除塵頭140之上游侧噴射室142(ρι)及下游側喷射室 143(P2)的清潔氣體通過通過孔24〇,而由承受部2〇〇之承 文空間230的曲面(半圓筒體21〇的内側之半圓形的曲面) 承觉。這種清潔氣體沿著曲面移動,或到達相對向板22〇 之背面’使方向轉換,而向通過孔24〇移動。可是,由於 來自’上游側噴射室142(P1)及下游侧喷射室143(P2)的噴 2146-10126-PF 22 201010802 射流,流路在一度下降後取從中央上昇的路徑,在 — 14100由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比噴室 多’而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因 囚而,通過 相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體不 要的灰塵飛散,而良好地保持除塵環境…使可在嘴出 清潔氣體之狀態進行連續除塵,亦實現簡化設備或降低不 要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置4係這種構造。 接著,根據圖說明本發明之其他的形態。第Μ圖係 其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明圖,第Η圖係 其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說 明圖。此外’在第18圖、第19圖以剖面圖圖示並省略 側壁部的圖示。除塵裝置5包括除塵頭i5Q、承受部細、 搬運部_以及移動部400。除塵裝置5對除塵對象1〇 進行除塵。和前面使用fl圖〜第9圖所說明的除塵裝置ι 相比’本形態的除塵裝置5僅除塵頭15。之構造相異以 :’其他的構造係相同’對相同的構造物附加相同的符 號,而且省略重複的說日月,僅說明除塵頭15〇。 這種除塵頭15〇如第18圖所示,朝向除塵對象之搬 :向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向),排 、上游侧噴射t 151(p)、下游側吸入冑⑸⑺而構成, 並配置於搬運部300的上侧。上游側噴射室i5i(p)和未圖 送風泵連接’又’下游側吸入室152⑺和未圖示的吸 2連接。從噴射叫…所切之清潔氣體或被吹起的 Λ塵和周圍m起經由吸入〇仙而往下游侧吸♦入
2146-1〇i26.PF 23 201010802 室:52被吸入。此含有灰塵的空氣經由除塵頭15。的排氣 ^路以及排氣配管而向外部被排出。除塵頭15 0 係這種構造。 接著,說明除塵裝置5的除塵動作。 在上游側噴射室151使清潔氣體從流入口流入’並將 從離子化器+ 〇所釋出之正離子、負離子加入清潔氣體, 再從噴射口 15la噴射。
複數個除塵對象10隔著既定的間隔在搬運部300上 依序被搬運,而逐次進行除塵。在此情況,除塵頭15〇總 是進行藉上游侧噴射室151(p)之清潔氣體的喷射、及藉下 游侧吸入室152(V)之灰塵的吸入。 首先,如第18圖所示,被除塵的除塵對象1〇在除塵 頭150之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況,除塵對象 ίο的上面成為除塵對象面。在除塵頭15〇,從上游側噴射 室15UP)向除塵對象10的除塵對象面喷射清潔氣體,藉 由飛散的灰塵在下游側吸入室152(v)被吸入,而進行除塵 對象10之除塵對象面的除塵。 然後,依然繼續搬入,如第i 9圖所示,相鄰之2個 除塵對象10之間的間隙到達除塵頭丨5〇的正下時,來自 除塵頭150之上游侧喷射室151(p)的清潔氣體通過通過 孔240,而由承受部200之承受空間230的曲面(半圓筒體 21 0的内側之半圓形的曲面)承受.這種清潔氣體沿著曲面 移動’或到達相對向板220之背面,使方向轉換,而向通 過孔240移動•,在下游侧吸入室152(v)由上側吸入清潔氣 2146-10126-PF 24 201010802 由使吸入量比喷射量更多,而可降低向除塵 ==性。通過相鄰之2個除塵對象1〇之間的間 氣心會衫要的灰塵《,而良好地保持除塵 二二又二使可在嘴出清潔氣體之狀態進行連續除塵,亦
實現簡化設備或降低不要之屋族λ A -要之異物混入的可能性。本形態的 除塵裝置5係這種構造。 接著,根據圖說明太兹明#甘π & _ & 其他形態的除塵裝置之除塵時的形態。帛2〇圖係 置之除塵時的動作說明圖,第21圖係 明:的形態之除塵裝置的除塵對象間之喷射時的動作說 。此外’在第20圖、第21圖以剖面圖圖示,並省略 側壁部的圖㈣塵裝置6包括除塵頭16〇、承受部·、 搬運部300以及移動部綱。除塵裝置6對除塵對象10 進行除塵。和前面使用第1圖〜第9圖所說明的除塵裝置i 相比’本形態的除塵裝1 6僅除塵頭⑽之構造相異以 外,其他的構造係相同,對相同的構造物附加相同的符 號,而且省略重複的說明,僅說明除塵頭16〇。 、這種除塵頭160如第20圖所示,朝向除塵對象之搬 運方向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向),排 列成上游側吸入室161(v)、下游側喷射室i62(p)而構成, 並配置於搬運部300的上側。上游側吸入室161(v)和未圖 不的吸氣泵連接,又,下游侧噴射室162(p)和未圖示的送 風果連接。從喷射σ仙所噴射之清潔氣體或被吹起的 :塵和周圍之空氣一起經由吸入。16以而往上游側吸入 室161被吸入。此含有灰塵的空.氣經由除塵頭16〇的排氣 2136-10126-ρρ 25 201010802 y排氣流路以及排氣配管而向外部被排出。除塵頭j 6 〇 係這種構造。 接著’說明除塵裝置6的除塵動作。 …在下游側噴射室162使清潔氣體從流入口流入,並將 仗離子化器12〇所釋出之正離子、負離子加入清潔氣體, 再從噴射口 162a喷射。 複數個除塵對象1〇隔著既定的間隔在搬運部300上 % ,序被搬運,而逐次進行除塵。在此情況,除塵碩160總 是進行藉下游側喷射室162(p)之清潔氣體的喷射、及藉上 游側吸入室161(V)之灰塵的吸入。 首先,如第20圖所示,被除塵的除塵對象1〇在除塵 頭160之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況,除塵對象 =的上面成為除塵對象面。在除塵頭1 60,從下游側喷射 至162(P)向除塵對象1〇的除塵對象面喷射清潔氣體藉 由飛散的灰塵在上游側吸入室161(V)被吸入,而進行除塵 φ 對象10之除塵對象面的除塵。 、 然後,依然繼續搬入,如第21圖所示,相鄰之2個 除塵對象1G之間的間隙到達除塵頭16G的正下時,來自 除塵頭160之下游側喷射室162(p)的清潔氣體通過通過 孔240’而由承党部2〇〇之承受空間23〇的曲面(半圓筒體 210的内側之半圓形的曲面)承受。這種清潔氣體沿著曲面 移動’或到達相對向板22〇之背面,使方向轉換,而向通 過孔240移動’在上游側吸入室161(v)由上側吸入清潔氣 體。藉由使吸入量比噴射量更多,而可降低向除塵對象方
2146-10126-PF 26 201010802 向漏吹的可能性。因而,通過相鄰之2個除塵對象1〇之 間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵飛散,@良好地保 持除塵環境。X,使可在嘴出清潔氣體之狀態進行連續除 塵’亦實現簡化設備或降低不要之異物混入的可能性。本 形態的除塵裝置6係這種構造。 ❿ 鲁 又’另外之變形形態係可#,例#亦可採用一種除塵 裝置,其使使用第10圖、第U圖所說明的承受部5〇〇和 在第16圖、第17圖所說明的除塵頭14〇、在第Μ圖、第 19圖所說明的除塵頭15〇以及在第2〇圖第2ι圖所說明 的除塵頭m相對向。例如,一面參照圖一面說明使使用 第1〇圖、第11圖所說明的承受部_和在第16圖、第 π圖所說明之除塵頭14G_向的除塵裝置。第22圖係 其他的形態之除塵裝置的說明圖。從嘴射口 u2a、i43a 向這種圓孤體510喷射清潔氣體’亦可承受清潔氣體,並 從吸入口 ula吸人’而作為本發㈣除塵裝置7發揮功 能。 又’即使在使使用第10圖、第Π圖所說明的承受部 500和在第18圖、第19圖餅邙aa + 〃人Λ 圖所說明之除塵頭150相對向的 除塵裝置,或使使用第1G圖、第π圖所說明的承受部5〇〇 和在第20圖、第21圖所說明之除塵頭16。相對向 裝置,亦—樣地發揮功能。亦可㈣這種除塵裝置/、 又,另外之變形形態係可能,例如亦可採用-種除塵 裝置’其使藉2個圓弧體的承受部和在第16圖、 所說明之具有2個噴射口 142a、U3a的除塵頭⑷相對 2146-10126-PF 2Ί 201010802 向。第23圖係其他的形態之除塵裝置 支持部530、第】圓弧部54〇所構成之二^圖。由第1 動部41〇可朝向箭號b方向移動 二'利用第1移 配置於喷射口 142a的下側。一樣地,由第第/±圓弧部540 第2圓弧部560所構成之承受部利用第 持部550、 向箭號c方向移動而構成,第 =420可朝 敗的下側。從喷射一43a向這 • ==560喷射清潔氣趙,亦可承受清潔氣體,並從 141a吸入,而作為本發明的除 亦可採用這種除塵裝置8。 裝置8發揮功能。 以上所說明之本形態的除塵裝置㈠, 二的下側連通,經由吸入軟管以排氣栗將流入承受空間 1潔氣體而向其他的位置排氣,或將吸入軟管的另 配置於對除塵無影響的位置,一直釋出排氣。 此外,拿掉除塵頭1〇〇、14〇、15〇、 120的形態,替代除塵頭⑽* •⑽之 而裝載超音波振盈器的形態,對除塵頭1〇0、14。、15〇 16〇之離子化器120又加上超音波㈣器的 為這種形態,亦可實施本發明。 万了作 【圖式簡單說明】 第1圖係用以實施本發明之最佳形態 裸圖。 史衣置之側 2146-10126-pp 28 201010802 第2圖係用以實施本發明之最佳形態的除塵裝置之剖 面圖。 第3圖係用以實施本發明之最佳形態的除塵裝置之立 體外觀圖。
第4圖係表示除塵頭之内外構造圖,第4(a)圖係A 箭視圖,第4(b)圖係B線剖面圖,第4(c)圖係c_ c 線剖面圖。 第5圖係C — C線剖面的立體圖。 第6圖係表不除塵頭之内部構造圖,第6(a)圖係D — D線剖面圖,第6(b)圖係E_E線剖面圖。 第7(a)〜(d)圖係承受部之構造圖。 第8圖係用以實施本發明的最佳形態之除塵時的動作 說明圖。 第9圖係用以實施本發明的最佳形態之除塵裝置的除 塵對象間之噴射時的動作說明圖。 第10圖係其他的形態之除塵裝置的側視圖。 第11圖係其他的形態之除塵裝置的剖面圖。 第12圖係說明圓弧體之製造的說明圖。 第13圖係其他的形態之除塵裝置的動作說明圖。 第14圖係其他的形態之除塵裝置的側視圖。 第15圖係其他形態的除塵裝置之動作說明圖。 第16圖係其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明 圖。 第1 7圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之喷
2146-10126-PF 29 201010802 射時的動作說明圖。 態的除塵裝置之除塵時的動作說明 第18圖係其他形 圖。 的除塵對象間之喷 9圖係其他的形態之除塵裝置 射時的動作說明圖。
第20圖係其他形態 的除塵裝置之除塵時的動作說明 第21圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之喷 響射時的動作說明圖。 第22圖係其他的形態之除塵裝置的說明圖。 第23圖係其他的形態之除塵裝置的說明圖。
主要元件符號說明】 1、2、3、4、5、6、7、 除塵對象 110除塵頭本體 11 la喷射口 111c噴射室底部 112a吸入口 112c吸入室底部 113a吸入口 113c吸入室底部 115a、115b 側壁 116c間隔壁 8除塵裝置 100除塵頭 111喷射室 111 b流入口 112上游侧吸入室 112b排氣口 113下游侧吸入室 113b排氣口 114頂板 116a' 116b 内壁 ,116d槽部* 2146-10126-PF 30 201010802
11 6 e通過孔 120 離子化器 121 突出部 122 發射體 123 缺口部 124 通過孔 130 側壁部 140 除塵頭 141 吸入室 141a 吸入口 142 上游側喷射室 142a噴射口 143 下游側喷射室 143a喷射口 150 除塵頭 151 上游側噴射室 1 51a喷射口 152 下游側吸入室 1 52a吸入口 160 除塵頭 161 上游側吸入室 161a吸入口 162 下游側喷射室 162a 喷射口 200 承受部 210 半圓筒體 220 相對向板 230 承受空間 240 通過孔 250 支持部 260 側壁部 300 搬運部 400 移動部 410 第1移動部 420 第2移動部 500 承受部 510 圓弧體 520 支持部 530 第1支持部 540 第1圓弧部 550 第2支持部 560 第2圓弧部 600 承受部 610 箱體 620 支持部 2146-10126-PF 31

Claims (1)

  1. 201010802 十、申請專利範面: 1. 一種除塵裝置,其特徵在於包括: —除塵頭,係具有各自至少各_個之具有吸入口 至及具有噴射口的喷射室; 、吸入 搬運部,係向除塵頭内依序搬運複數個除塵對象;、 糸%部,係配置成和 ,小您π々日對句,並
    的喷射口所喷射之清潔氣體,使方向轉換; 從喷射室时射口向除塵對象喷射清潔氣體時的吸 入至,係從其吸入口吸入從除塵對象反彈的清潔氣體, 又,從喷射室的喷射口向相鄰之2個除塵對象 隙喷射清潔氣體時的吸人室,係從其吸人σ吸人在承受: 使方向轉換的清潔氣體。 又。 ,如申請專利制帛1項之除塵裝置,其中該承受部 包含有:清潔氣體通過的通過孔;及承受空間,係由平面 和曲面所隔開並和通過孔連通的截面弓形空間,而曲面和 吸入口或噴射σ相對向,而且平面位於和除塵對象的搬運 方向大致平行; 以承受空間的曲面承受從噴射室之噴射口噴射並通 過通過孔的清潔氣體後,以承受空間的平面使方向轉換, 而從吸入室的吸入口吸入。 3.如申請專利範圍第1項之除塵裝置,其中包括: 相對向板’係具有和除塵對象之搬運方向大致平行的 表面; 2146-10126-PF 32 201010802 通軌’係形成於相對向板,並面向喷射口和吸入口; 固疋於相對向板的半圓筒體;以及 承受空間’係由相對向板的平而&出面 极扪十面和半圓筒體的曲面隔 開,而半圓筒體之曲面和吸入口哎 $货射口相對向,而且相 對向板的平面位於和除塵對象之搬運方向大致平行的截 面弓形空間,並和通過孔連通; 以承受空間的曲面承受從噴射室之噴射口喷射並通 ❹ 過通過孔的清潔氣體後,以承受空間的平面使方向轉換, 而從吸入室的吸入口吸入。 4. 如申請專利範圍第1項之除塵裝置,其中該承受部 包括®弧體’其具㈣射口和吸入口所面向之曲面形的承 受面,從吸入室的吸入口吸入以圓弧雜之承受面使方向轉 換的清潔氣體》 5. 如申請專利範圍第1項之除塵裝置,其中該承受部 包括箱體’其具有喷射口和吸入口所面向之平面形的承受 面’從吸入室的吸入口吸入以箱體之承受面使方向轉換的 清潔氣體。 6. 如申請專利範圍第1 15項中任一項的除塵裝置, 其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置噴 射室和隔著噴射室之上游、下游的吸入室。 7. 如申請專利範圍第丨至5項中任一項的除塵裝置, 其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置吸 入室和隔著吸入室之上游、下游的喷射室。 .8.如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置, 2146-10126-PF 33 201010802 其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上 游喷射室和下游吸入室。 9.如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置, 其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上 游吸入室和下游喷射室。 10.如申凊專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝 置,其中包括離子化器,其配置於喷射室内,並在被施加
    高電壓的發射體附近產生離子,且從喷射室的喷射口喷射 含有離子的清潔氣體。 丄1.如甲請專利範圍第 〜叫不1 任一項的除塵π 置,其中包括移動部,其使該承受部接近或遠離除塵頭: 12.如申請專利範圍帛u項之除塵裝置,其 受部及該移動部作為並設置複數個喷射部及組^ 同之該承受部與該移動部。 默相 2146-10126-PF 34
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