TW200422308A - Photosensitive resin composition for optical waveguide formation and optical waveguide - Google Patents

Photosensitive resin composition for optical waveguide formation and optical waveguide Download PDF

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Description

200422308 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關，製作光通信領域、光信息處理領域所 用光回路之形成光波導用感光性樹脂組成物、及使用該組 成物製作之光波導者。 【先前技術】 迎接多媒體時代的來臨，順應光通信系統、電腦之信 息處理的大容量化及高速化的要求，以光爲傳輸媒體之傳 輸系統，正繼續使用於大眾通信網、地方區域性網路（ LAN)、工廠自動裝置（FA)、電腦之間的內部聯絡、家 庭內之配線等等；構成此傳輸系統之要素中，光波導係， 例如，爲實現電影、動畫等大容量之信息傳達、光電腦等 之光設備、光電集成電路（OEIC )、光集成電路（光1C )等之基本構成要素。 而且，光波導除因大量之需求而加以深入探討以外， 特別是爲尋求高性能低成本之製品。 光波導，知悉先前已有石英系光波導、聚合物系光波 導。 其中，石英系光波導具有傳輸損耗低之優點，相反的 ’製造步驟中之加工溫度高、及難以製作大面積者，是其 在製程上之問題。 又，聚合物系光波導有加工容易、材料設計寬廣等之 優點，因而使用聚甲基丙烯酸酯、聚碳酸酯等聚合物材料 -5- (2) 200422308 也被提出檢討；但是，一般而言，聚合物系光波導都有耐 熱性不良之問題；因此，最近耐熱性及傳輸損耗均優越之 氟化聚醯亞胺的硏究討論非常盛行。 可是，使用聚合物材料時，製作光波導中的核心部之 際，必須施行與石英系光波導相同之乾蝕刻處理，存在著 製造所需時間太長的問題。
在此狀況下，近年來有授與照相平版印刷性之環氧系 紫外線硬化樹脂等光硬化材料，及使用該材料之光波導的 提案（例如，參照特開平6-273 63 1號公報之申請項1 ) 如上所述，已往之聚合物系光波導材料，使用於光通 信等波長650〜1600 nm之區域，有波導損耗較大、或耐熱 性低等問題，不能完全滿足光波導所要求之各項特性。 爲解決此等問題，雖進行聚合物之氟化、重氫化取代 等化學上處理的檢討，但施行如此之化學上處理時，會使 與基板之黏著性降低，產生長期信賴性之問題；或使用爲 核心部材料時，有折射率不能達到所定之高程度的問題。 【發明內容】 〔發明之揭示〕 本發明以提供解決上述諸問題，波導損耗、折射率、 耐熱性等物性均甚優越之光波導用樹脂組成物，及該組成 物之硬化體所成光波導爲目的。 本發明之工作同仁，爲解決上述課題，經深入探討之 -6 - 200422308 結果’發現包含含有兩種不问之（甲基）丙燒酸醋、與光 自由基聚合引發劑等構成成份之感光性樹脂組成物，極適 合於做爲形成光波導用之樹脂，完成本發明。 即是說，本發明提供包含（A )具有如下述一般式（ 1)所示構造之二（甲基）丙烯酸酯：
{式中，R1 爲-(〇CH2CH2)m-、-〔 OCH(CH3)CH2〕m-、或-OCH2CH(OH)CH2- ; X 爲-C(CH3)2-、-CH2·、-Ο-、 或- S02-; Y爲氫原子或鹵原子；m爲0〜4之整數。} 與（Β)具有如下述一般式（2)所示構造之單（甲基 )丙烯酸酯：
{式中，R2 爲-(〇CH2CH2)p-、-〔 OCH(CH3)CH2〕p-、或-OCH2CH(OH)CH2- ;Y爲氫原子、鹵原子、Ph-C(CH3)2-、Ph-、或碳原子數1〜20之烷基；p爲ο〜4之整 數；Ph爲苯基。} 及（C )光自由基聚合引發劑等構成成份之形成光波 導用感光性樹脂組成物。 -7- (4) (4)200422308 如此構成之形成光波導用感光性組成物，硬化時之圖 型形成性優越；而且形成光波導時，具有高折射率、高耐 熱性、優異傳輸特性（低波導損耗）等物性，適用爲形成 光波導之核心層等的材料。 本發明之樹脂組成物，例如，對上述成份（B )，上 述成份（A)之重量比（A/B)，可爲0.3〜5.0而構成。 該重量比保持在此範圍內，可使耐熱性等物性更進一 層的提高。 本發明之樹脂組成物中，上述成份（A )及上述成份 (B )之合計量的重量比率，可以3 0重量％以上而構成； 該重量比率維持於此範圍內，可使折射率、波導損耗 等物性更上一層的提升。 本發明之樹脂組成物，可以含有在分子中具有三個以 上（甲基）丙烯醯基之（甲基）丙烯酸酯。 含有上述化合物，可使耐熱性等更上一層的提高。 本發明之樹脂組成物，係可得在25 t及824nm下之 折射率爲1.54以上的具硬化體形態者。 本發明之樹脂組成物，係可得玻璃轉移溫度（Tg )在 8(TC以上之具硬化體形態者。 又，本發明提供，由核心層、與層合於該核心層上形 成之覆蓋層所成光波導；上述核心層及/或上述覆蓋層爲 ，由上述樹脂組成物之硬化物所成光波導。 如此構成之光波導，具有高折射率、高耐熱性、優越 圖型形成性、及低傳輸損耗等物性。 -8- (5) (5)200422308 進而，本發明提供，包含有在上述樹脂組成物上使用 遮光罩經輻射線照射，使該樹脂組成物硬化之步驟的光波 導製造方法。 〔用以實施發明之最佳形態〕 就本發明做詳細說明如下。 本發明之樹脂組成物，係包含以下述說明之成份（A )〜（C )做爲構成成份者。 還有，在本說明書中，本發明之樹脂組成物爲具有包 括含成份（A )〜（C )硬化前之液狀形態、及含成份（A )〜（C )液狀之組成物經硬化後形態之雙方的槪念者。 構成本發明之樹脂組成物的成份（A )爲，具有下述 式（1)所示構造之二（甲基）丙烯酸酯。
{式中，R1 爲-(OCH2CH2)m·、-〔 OCH(CH3)CH2〕m-、或-OCH2CH(OH)CH2-; X 爲-C(CH3)2-、-CH2-、-0-、 或- S02-; Y爲氫原子或鹵原子；m爲0〜4之整數。} 還有，上述式（1)中，Υ表示之鹵原子有氯、溴、 碘、氟，其中以溴爲適合。 成份（A )之具體例有，例如，環氧乙烷加成雙酚A (甲基）丙烯酸酯、環氧乙烷加成四溴雙酚A (甲基）丙 -9 - (6) (6)200422308 烯酸酯、環氧丙烷加成雙酚A (甲基）丙烯酸酯、環氧丙 垸加成四溴雙酚A (甲基）丙烯酸酯、雙酚a二縮水甘油 酸酯與（甲基）丙烯酸之環氧開環反應所得雙酚A環氧 (甲基）丙嫌酸酯、四溴雙酣A二縮水甘油酸酯與（甲 基）丙烯酸之環氧開環反應所得四溴雙酚A環氧（甲基 )丙烯酸酯、雙酚F二縮水甘油酸酯與（甲基）丙烯酸之 環氧開環反應所得雙酚F環氧（甲基）丙烯酸酯、四溴雙 酉分F二縮水甘油酸酯與（甲基）丙烯酯之環氧開環反應所 得四溴雙酚F環氧（甲基）丙烯酸酯等等。 其中以環氧乙烷加成雙酚A (甲基）丙烯酸酯、環氧 乙烷加成四溴雙酚A (甲基）丙烯酸酯、雙酚a二縮水甘 油酸酯與（甲基）丙烯酸之環氧開環反應所得雙酚A環 氧（甲基）丙烯酸酯、四溴雙酚A環氧（甲基）丙烯酸酯 等，特別適合使用。 成份（A )之市售品有，例如，唯斯可得# 7 0 0、# 5 4 0 (以上爲大阪有機化學工業股份有限公司製），阿羅尼克 斯M-208、M-210(以上爲東亞合成股份有限公司製）， NK 耶是德爾 BPE-100、BPE-200、BPE-500、A-BPE-4 ( 以上爲新中村化學股份有限公司製），拉依德耶是德爾 BP-4EA、BP-4PA、環氧耶是德爾 3002M、3002A、3 000M 、3000A (以上爲共榮社化學股份有限公司製），卡雅拉 德R-551、R-712(以上爲日本化藥股份有限公司製）， BPE-4、BPE-10、BR-42M (以上爲第一工業製藥股份有限 公司製），利波起洗 VR-77、VR-60、VR-90、SP- 1 506、 -10- 200422308 SP-1507、SP-1509、SP-1563 (以上爲昭和高分子股份有 限公司製），內我波爾V779、V779MA (日本優比卡股份 有限公司製）等等。 構成本發明之樹脂組成物的成份（B )爲，具有下述 式（2)所示構造之（甲基）丙烯酸酯。
{式中，R2 爲-(OCH2CH2)p-、-〔 OCH(CH3)CH2〕p-、或-OCH2CH(OH)CH2- ;Y爲氫原子、鹵原子、Ph-C(CH3)2-、Ph-、或碳原子數1〜20之烷基；p爲ο〜4之整 數；Ph爲苯基。} 還有，上述式（2)中，Y表示之鹵原子有氯、溴、 碘、氟，其中以溴爲適合。 成份（B )之具體例有，例如，苯氧基乙基（甲基） 丙烯酸酯、苯氧基-2-甲基乙基（甲基）丙烯酸酯、苯氧 基乙氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、3-苯氧基-2-羥基丙基 (甲基）丙烯酸酯、2 -苯基苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯 、4-苯基苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、2_羥基苯氧基 丙基（甲基）丙烯酸酯、對-異丙苯基酚環氧乙烷改性（ 甲基）丙嫌酸酯、2 -溴苯氧基乙基（甲基）丙燒酸酯、4-溴苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、2，4 -二溴苯氧基乙基 (甲基）丙烯酸酯、2，6-二溴苯氧基乙基（甲基）丙烯 -11 - (8) (8)200422308 酸酯、2，4，6-三溴苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯等等。 其中以苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、苯氧基乙氧基 乙基（甲基）丙烯酸酯、以環氧乙烷反應對-異丙苯基酚 之（甲基）丙烯酸酯、2，4，6-三溴苯氧基乙基（甲基） 丙烯酸酯等，特別適合使用。 成份（B )之市售品有，例如，阿羅尼古斯Μ 1 1 3、 Μ110、Μ101、Μ102、Μ5700、ΤΟ-1317(以上爲東亞合 成股份有限公司製），唯斯可得#192、#193、#220、3ΒΜ (以上爲大阪有機化學工業股份有限公司製），ΝΚ耶是 德爾 AMP-10G、AMP-20G(以上爲新中村化學工業股份 有限公司製），拉依德丙烯酸酯PO-A、P-200A、環氧耶 是德爾M-600A (以上爲共榮社化學股份有限公司製）’ PHE、CEA、PHE-2、BR-30、BR-31、B R-3 1 Μ、B R-3 2 ( 以上爲第一工業製藥股份有限公司製）等等。 本發明之樹脂組成物中，成份（A )及成份（Β )之 合計量的重量比率，以3 0重量％以上爲宜，4 0重量％以 上較佳，以5 0重量％以上特別適用；該重量比率在3 0重 量％以上時，本發明之樹脂組成物使用爲光波導的核心部 份之情況，可以獲得較高之折射率及較低之波導損耗。 本發明之樹脂組成物中，對成份（B )，成份（A ) 之重量比（A/B)，以0.3〜5.0爲宜，以0.4〜4.0爲較適 合；該重量比在〇·3以上時，硬化物之玻璃轉移溫度（Tg )較爲升高，同時提升耐熱性，目標之核心層的形狀，可 以更確實的依所期待者形成；又，該重量比在5.0以下時 -12- (9) (9)200422308 ’可以改善圖型形成性。 使用本發明之樹脂組成物，製作光波導之核心層時， 從圖型形成性之觀點而言，成份（A )及成份（B )，以 丙烯酸酯較（甲基）丙烯酸酯更爲合適。 構成本發明之樹脂組成物的成份（C )，爲光自由基 聚合引發劑；成份（C )之具體例有，例如，苯乙酮、苯 乙酮苯甲基酮縮醇、1-羥基環己基苯基酮、2-苯甲基-2-二 甲基氨基-1- ( 4-嗎啉基苯基）-丁醇-1、2，2·二甲.氧基-2-苯基苯乙酮、咕噸酮、芴酮、苯甲醛、芴、蒽醌、三苯基 胺、咔唑、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4，4’-二甲氧 基二苯甲酮、4，4’ -二氨基二苯甲酮、米希勒酮、苯偶因 丙基醚、苯偶因乙基醚、苯甲基二甲基酮縮醇、1-(4-異 丙基苯基）-2·羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2 -羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、噻噸酮、二乙基噻噸酮、2 -異丙基噻噸 酮、2 -氯噻噸酮、2 -甲基-1-〔4-(甲硫基）苯基〕-2_嗎 啉基-丙烷-1-酮、2，4，6 -三甲基苯甲基二苯基膦氧化物 、雙- (2，6·二甲氧基苯甲基）-2，4，4-三甲基戊基膦氧 化物等。 成份（C )之市售品有，例如，伊格求爾1 8 4、3 6 9、 651、500、819、907、784、2959、CGI1 700、CGI 1 750、 CGI 1 1 850、CG24-61、大羅求爾116、1173(以上爲吉巴特 殊化學品股份有限公司製），盧西林LR8 728 ( BASF公司 製），優倍克利爾P36 ( UCB公司製）等。 成份（C )可一種單獨使用，爲改善圖型形成性等， -13- (10) (10)200422308 兩種以上倂用亦可。 本發明之樹脂組成物中，（c )成份之重量比率，通 常爲0.01〜10重量％，以0.1〜7重量％爲適合；該重量比率 在1 〇重量％以下時，可以獲得良好之硬化特性、傳輸特 性、圖型形成性、處理操作性等；又，該重量比率在〇. 〇 1 重量％以上時，圖型形成性、硬化物之力學特性等優良， 又，可以防止硬化速度之下降。 於本發明，加入成份（A )及成份（B )中之任意成份 ，可使用含有（甲基）丙烯醯基或乙烯基之化合物〔以下 稱爲「不飽和單體」，但與成份（A )及成份（B )相同之 化合物除外〕；其中以具有三個以上（甲基）丙烯醯基之 (甲基）丙烯酸酯，最適合使用。 具有三個以上（甲基）丙烯醯基之（甲基）丙烯酸酯 ，爲三價以上多價醇之（甲基）丙烯酸酯；該（甲基）丙 烯酸酯之具體例有，例如，三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯 酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三乙 氧基（甲基）丙烯酸酯、三（2-丙烯醯基乙氧基）三聚異 氰酸酯、季戊四醇聚丙烯酸酯等等；此等可以單獨或兩種 以上組合使用。 具有三個以上（甲基）丙烯醯基之（甲基）丙烯酸酯 的市售品有，例如，阿羅尼克斯M3 05、M3 09、M3 10、 M315、M320、M3 5 0、M3 60、M408 (以上爲東亞合成股 份有限公司製），唯斯可得#295、#300、#360、GPT、 3PA、#400 (以上爲大阪有機化學工業股份有限公司製） -14- (11) (11)200422308 ，NK 耶是德爾 TMPT、A-TMPT、A-TMM-3、A-TMM-3 L 、A-TMMT (以上爲新中村化學股份有限公司製），拉依 德丙烯酸酯 TMP-A、TMP-6EO-3A、PE-3A、PE-4A、 DPE-όΑ (以上爲共榮社化學股份有限公司製），卡雅拉 德 PET-30、GPO- 3 03、TMPTA、TPA-3 20、DPHA、D-3 1 0 、DPCA-20、DPCA-60(以上爲日本化藥股份有限公司製 )等等。 其他不飽和單體之具體例有，例如，N-乙烯基吡咯烷 酮、N -乙烯基己內醯胺、乙烯基咪唑、乙烯基吡啶等乙烯 基單體·，異冰片基（甲基）丙烯酸酯、冰片基（甲基）丙 烯酸酯、三環癸基（甲基）丙烯酸酯、二環戊基（甲基） 丙烯酸酯、二環戊烯基（甲基）丙烯酸酯、環己基（甲基 )丙烯酸酯、苯甲基（甲基）丙烯酸酯、4-丁基環己基（ 甲基）丙烯酸酯、丙烯醯基嗎啉、2 -羥基乙基（甲基）丙 烯酸酯、2-羥基丙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥基丁基（甲 基）丙烯酸酯、甲基（甲基）丙烯酸酯、乙基（甲基）丙 烯酸酯、丙基（甲基）丙烯酸酯、異丙基（甲基）丙烯酸 酯、丁基（甲基）丙烯酸酯、戊基（甲基）丙烯酸酯、異 丁基（甲基）丙烯酸酯、第三級丁基（甲基）丙烯酸酯、 戊基（甲基）丙烯酸酯、異戊基（甲基）丙烯酸酯、己基 (甲基）丙烯酸酯、庚基（甲基）丙烯酸酯、辛基（甲基 )丙烯酸酯、異辛基（甲基）丙烯酸酯、2-乙基己基（甲 基）丙烯酸酯、壬基（甲基）丙烯酸酯、癸基（甲基）丙 嫌酸酯、異癸基（甲基）丙烯酸酯、十一（烷）基（甲基 -15- (12) 200422308 )丙烯酸酯、十二（烷）基（甲基）丙烯酸酯、月桂基（ 甲基）丙烯酸酯、十八（烷）基（甲基）丙烯酸酯、異十 八（烷）基（甲基）丙烯酸酯、四氫化糠基（甲基）丙烯 酸酯、丁氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、乙氧基二乙二醇（ 甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇單（甲基）丙烯酸酯、聚丙二 醇單（甲基）丙烯酸酯、甲氧基乙二醇（甲基）丙烯酸酯 、乙氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇（甲基 )丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇（甲基）丙烯酸酯、二丙酮 (甲基）丙烯醯胺、異丁氧基甲基（甲基）丙烯醯胺、N ，N-二甲基（甲基）丙烯醯胺、第三級辛基（甲基）丙烯 醯胺、二甲基氨基乙基（甲基）丙烯酸酯、二乙基氨基乙 基（甲基）丙烯酸酯、7-氨基-3，7-二甲基辛基（甲基） 丙烯酸酯、N，N-二乙基（甲基）丙烯醯胺、N，N-二甲 基氨基丙基（甲基）丙烯醯胺、羥基丁基乙烯基醚、月桂 基乙烯基醚、十六（烷）基乙烯基醚、2 -乙基己基乙烯基 醚、以及下述式（3)、式（4)所示之單官能單體等。
R3 0 〇 (式中，R3爲氫原子或甲基；R4爲碳原子數2〜8之 烯基；s爲1〜8之整數。） (13) (13)200422308
(式中，R5及R7分別爲獨立之氫原子或甲基；R6爲碳 原子數2〜8之烯基；t爲1〜8之整數。） 又，分子中具有二個（甲基）丙烯醯基或乙烯基之不飽 和單體的具體例有，例如，1，4-丁烷二醇二丙烯酸酯、1， 6_己烷二醇二丙烯酸酯、1，9-壬烷二醇二丙烯酸酯等烷基 二醇二丙烯酸酯；乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、四乙二醇 二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯等聚烯基二醇二丙烯酸 酯；季戊二醇二（甲基）丙烯酸酯，三環癸烷甲醇二丙烯 酸酯等等。 此等化合物之市售品的具體例有，例如，阿羅尼克斯 M_120、M-150、M-156、M-215、M-220、M-225、M-240 、M_245、M_270 (以上爲東亞合成股份有限公司製）， AIB、TBA、LA、LTA、STA、唯斯可得 # 1 5 5、IB X A、唯 斯可得 #158、#190、#150、#320、HEA、ΗΡΑ、唯斯可得 #2000、#2100、DMA、唯斯可得 #195、#23 0、#260、#215 、#335HP、 #310HP、 #310HG、 #312(以下爲大阪有機化 學工業股份有限公司製），拉依德丙烯酸酯IAA、L-A、 S-A、BO-A、EC-A、MTG-A、DMP-A、THF-A、IB-XA、 HOA、HOP-A、HOA-MPL、HOA-MPE、拉依德丙烯酸酯 3EG-A、4EG-A、9EG-A、NP-A、1，6HX-A、DCP-A (以 上爲共榮社化學股份有限公司製），卡雅拉德TC-1 10S、 -17- (14) (14)200422308 HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX-220 、HX-620 (以上爲日本化藥股份有限公司製），FA-511A 、5 12A、513A (以上爲日立化成股份有限公司製），VP (BASF 公司製），ACMO、DMAA、DMAPAA (以上爲興 人股份有限公司製）等等。 本發明之樹脂組成物中，更配合聚氨酯（甲基）丙烯 酸酯、聚酯（甲基）丙烯酸酯、聚環氧（甲基）丙烯酸酯 等之低聚物或聚合物亦可。 本發明之樹脂組成物中，可以再配合光敏劑。 光敏劑之具體例有，例如，三乙基胺、二乙基胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基氨基苯甲酸、4-二甲基 氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨 基苯甲酸異戊酯等等；光敏劑之市售品的具體例有，例如 ，優倍克利爾P-102、103、104、105(以上爲UCB公司 製）等等。 本發明中，除上述之成份以外，因應需求可以配合各 種添加劑，例如，氧化防止劑、紫外線吸收劑、光安定劑 、矽烷偶合劑、塗面改良劑、熱聚合抑制劑、平坦劑、界 面活性劑、著色劑、保存安定劑、可塑劑、滑劑、溶媒、 塡充料、老化防止劑、濕潤性改良劑、脫模劑等等。 氧化防止劑之市售品有，例如，伊格諾克斯1 〇 1 0、 1 0 3 5、1 076、1 222 (以上爲吉巴特殊化學品股份有限公司 製），安帝簡P、3C、FR、GA-80(住友化學工業股份有 限公司製）等等。 -18- (15) (15)200422308 紫外線吸收劑之市售品有，例如，吉奴賓P、2 3 4、 320、326、3 27、3 2 8、329、213(以上爲吉巴特殊化學品 股份有限公司製），西縮102、103、110、501、202、 7 12、704 (以上爲西普洛化成股份有限公司製）等等。 光安定劑之市售品有，例如，吉奴賓 292、144、 62 2LD (以上爲吉巴特殊化學品股份有限公司製），薩諾 爾 LS770(三共股份有限公司製），史密縮TM-061 (住 友化學工業股份有限公司製）等等。 矽烷偶合劑有，例如，r -氨基丙基三乙氧基矽烷、 r-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、7-甲基丙烯醯氧基丙基三 甲氧基矽烷等；市售品有，SH6062、6030 (以上爲東麗· 陶康寧•矽利光股份有限公司製），KBE903、603、403 (以上爲信越化學工業股份有限公司製）等。 塗覆改良劑有，例如，二甲基矽氧烷聚醚等矽氧添加 劑等等；市售品有，DC-57、DC190(以上爲陶康寧公司 製），SH-28PA、SH-29PA、SH-30PA、SH-190 (以上爲 東麗•陶康寧•矽利光股份有限公司製），KF351、 KF3 52、KF3 53、KF3 54 (以上爲信越化學工業股份有限公 司製），L-700、L-7002、L-7500、FK-024-90 C 以上爲曰本 尤尼卡股份有限公司製）等等。 脫模劑之市售品有，普來薩夫A208F (第一工業製藥股 份有限公司製）等。 本發明之樹脂組成物，可依常法將上述各成份混合製造 ;如此調製而成之本發明樹脂組成物的黏度，通常爲 -19 - (16) (16)200422308 100 〜20,000 cp/ 25°c，以 3 0 0 〜1 0，0 0 0 cp / 2 5 °C 較佳，以 400〜5,000 cp/25°C更爲適合；該粘度過高時，在基板上 塗佈樹脂組成物之際，會發生塗佈深淺不勻、表面波紋等 現象；或在形成核心層時，圖型形成性劣化，不能得到目 標之形狀；相反的，粘度過低時，除難以獲得目標之膜厚 外，圖型形成性也惡化。 藉由輻射線硬化而得之本發明的樹脂組成物之硬化物 ，爲具有下述適合之物性者。 本發明樹脂組成物之硬化物，使用爲光波導之核心層 時，於25 °C及波長82 4nm下之折射率，以在1.54以上爲 適合，在1.55以上更佳；該折射率小於1.54時，使用本 發明之樹脂組成物在核心層形成光波導之際，不能獲得良 好之傳輸損耗。 本發明樹脂組成物之硬化物，其玻璃轉移溫度以在8 0 °C以上爲宜，在90°C以上更爲適合；該溫度低於80°C時 ，不能確保光波導充分之耐熱性；「玻璃轉移溫度」之定 義爲，在共振型動態粘彈性測定裝置中，於振動週波數 10Hz下，顯示損失正接最大値之溫度。 【實施方式】 〔實施例〕 依實施例就本發明做具體的說明如下；但’本發明對 此等實施例沒有任何限制，可以改變申請專利範圍上記載 之範圍內的種種實施型態。 -20- (17) (17)200422308 〔實施例1〜7、比較例1〜3〕 依表1所示，加入各成份，液溫控制在50〜60°C同時 攪拌1小時，即得液狀之硬化性組成物；還有，表1中各 成份之添加量單位爲重量份。 <評估法> (1 )折射率之評估 以下述之方法測定於824nm之折射率；首先，使用旋 轉塗佈機，同時調整轉速及時間，在4英吋之矽晶圓基板 上’塗佈液狀硬化性組成物至可達7 // m厚之程度；形成 樹脂組成物層後，於氮氣大氣中，以1.0 J/平方公分之紫 外線，經掩膜校準器照射樹脂組成物層，即得硬化膜；其 次，使用日本美多利光公司製之稜鏡耦合器，測定此硬化 膜之折射率（824nm及25°C下）。 (2 )玻璃轉移溫度之評估 使用薄層塗佈器，在玻璃基板上塗佈樹脂組成物至可 達60 // m厚之程度；形成樹脂組成物層後，於氮氣大氣中 ’使用輸送機式紫外線照射裝置，以1·〇 平方公分之 紫外線照射樹脂組成物層，即得硬化膜；其次，使用共振 型動態粘彈性測定裝置，付與振動週波數1 0Hz之振動， 同時測定此硬化膜之損失正接的溫度依賴性；所得顯示損 失正接之最大値的溫度，即爲玻璃轉移溫度。 (3 )圖型形成性之評估 使用旋轉塗佈機，同時調整轉速及時間’在4吋之矽晶 -21 - (18) (18)200422308 圓基板上，塗佈樹脂組成物至可達50 // m厚之程度；形成 樹脂組成物層後，在空氣大氣中，以1.0 J/平方公分之紫 外線，經具有50 // m寬、無分岔之直線形狀的照相遮蔽罩 ，由掩膜校準器照射樹脂組成物層；其次，使用丙酮，將 樹脂組成物層經3分鐘顯像處理後，在設定爲70 °C之烘箱 中，使基板加溫1 〇分鐘。 所得圖型以光學顯微鏡觀察，可得目標之核心形狀（ 5〇vm ±l//m)者以「◎」表示，得到 50//m ±2//m 之範圍內的形狀者以「〇」表示，得到50 ± 2 // m之範 圍外的形狀，而且形狀變形者以「X」表示。 (4 )傳輸損耗之評估 使用旋轉塗佈機，同時調整轉速及時間，在4吋之矽晶 圓基板上，先塗佈可達50/zm厚之透明ELC2500 (依雷庫 多羅-來特公司製，η〇25 = 1·515)後；該塗佈層在空氣大氣中 ，以1 · 〇 J/平方公分之紫外線，由掩膜校準器照射；其次 ，使用旋轉塗佈機，在基板上塗佈樹脂組成物至可達50 // m 厚度之程度後，於空氣大氣中，以1·〇 平方公分之紫外 線，經具有5 0 // m寬、無分岔之直線形狀的照相遮蔽罩， 照射樹脂組成物層；使用丙酮，將照射後之樹脂組成物層經 3分鐘之顯像處理後，在設定爲7 0 °C之烘箱中，使基板加溫 1〇分鐘；更於基板上再塗佈可達50//m厚之透明ELC2500 ，以紫外線照射基板，即得通道波導。 將波導之端面該開的部份切開後，經多模式纖維（50 // m直徑）使8 5 Onm之光插入，依消減法測定波導損耗； -22- (19) (19)200422308 消減法爲，波導長自5公分至1公分等級之四點進行測定 ;將所得光強度與相關波導長標繪成圖，由其傾斜度算出 損耗値；所得損耗値在〇. 5 dB /公分以下時以「〇」表示 ，高於此値時以「X」表示評估之。 所得結果如表1所示；表1中之成份，說明如下。 V779 :內我迫爾V779 (曰本優比卡股份有限公司製） ，化合物名稱：四溴雙酚A環氧丙烯酸酯。 V779MA:內我迫爾V779MA (日本優比卡股份有限公 司製），化合物名稱：四溴雙酚A環氧（甲基）丙烯酸酯 〇 PEA :紐夫龍帝亞PHE (第一工業製藥股份有限公司製 )，化合物名稱：苯氧基乙基丙烯酸酯。 ΡΕΜΑ:拉依德耶是德爾PO (共榮社化學股份有限公 司製），化合物名稱：苯氧基乙基（甲基）丙烯酸酯。 BR-31 :紐夫龍帝亞BR-31 (第一工業製藥股份有限公 司製），化合物名稱：三溴苯氧基乙基丙烯酸酯。 IR G 1 8 4 :伊格求爾1 8 4 (吉巴特殊化學品公司製）， 化合物名稱：卜羥基-環己基-苯基酮。 IRG65 1 :伊格求爾65 1 (吉巴特殊化學品公司製）， 化合物名稱：2，2 -二甲氧基-1，2 -二苯基乙烷-1-酮。 IRG3 69:伊格求爾3 69 (吉巴特殊化學品公司製）’ 化合物名稱·· 2 -苯甲基-2 -二甲基氨基-1 - ( 4 -嗎啉基苯基 )-丁酮-1。 IRG907:伊格求爾907 (吉巴特殊化學品公司製）’ -23- (20) (20)200422308 化合物名稱：2-甲基-1-〔 4-(硫甲基）苯基〕-2-嗎啉基丙 烷-1 -酮。 M3 15 :阿羅尼克斯M315 (東亞合成股份有限公司製） ’化合物名稱：三（2-丙烯醯基乙氧基）三聚異氰酸酯。 DPHA :(日本化藥股份有限公司製），化合物名稱 :二季戊四醇六丙烯酸酯。 IBXA :(大阪有機化學股份有限公司製），化合物 名稱：異冰片基丙烯酸酯。 IBXMA :(大阪有機化學股份有限公司製），化合物 名稱：異冰片基（甲基）丙烯酸酯。 ACMO :(興人股份有限公司製），化合物名稱：丙烯 醯基嗎啉。 SA 1 002 :(三菱化學股份有限公司製），化合物名稱 :三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯。 -24- (21)200422308
比較例 m o o o o r-H 1/"^ s O 1 2000 H m τ—H X X (N oo … m s r-H 1 7000 1.56 r-H X 〇 τ-Η o oo 寸 s r-H vo 1 ο m 1.56 m vo ◎ 〇 實施例 卜 OO r-H Ο <Ν ▼-Η ΓΠ i—i ^ ! 101.5 0.43 ο oo 1.56 (N r-H ◎ 〇 00 Ο (Μ I ΓΠ 101.5 0.43 ο 00 Ό «ΤΊ r-H <N r-H ◎ 〇 Ο Ο <Ν m S t-H On [1.00 1 4000 1.59 ◎ 〇 寸 00 Ο <Ν r-H cn 2 s t-H 00 1 0.43 ] 900 1.56 〇 〇 〇 m 00 Ο (Ν τ-η rn m S r-H oo 0.43 800 1.56 VO CN r-H ◎ 〇 (N 沄 ο τ-Η m 〇 o o i—H r-H S G\ m | 3.00 1 誦 1.55 S r-H ◎ 〇 m (N Ο ^―' (Ν ^ s 1 - < in 1 0.66 1 1000 1.56 g r-H ◎ 〇 市售商品名 < s ^ Os 卜卜 卜卜 > > ΡΕΑ ΡΕΜΑ BR-31 IRG184 IRG651 IRG369 IRG907 M315 DPHA IBXA IBXMA ACMO SA1002 M ilmil w s ge S讲 < ^LJ w ΛΛ 鬆_ (A)/(B)之重量比 π s ^ 〔硬化物物性〕 折射率824 nm 玻璃轉移溫度Tg (°c) 圖型形成性 1 傳輸特性 成份 < m U W( 愛 m lilm M -25- (22) 200422308 由表1可知，本發明之樹脂組成物（ 形成硬化物之際，其圖型形成性優越，而 ，具有優異之折射率、耐熱性、傳輸特性 另一方面，在比較例1中不含成份（ 不良；在比較例2中，不含成份（B )， 在比較例3中，不含成份（A )及成份（ 形成性及傳輸特性均極爲不佳。 實施例1〜7 )，於 且，形成光波導時 (低波導損耗）。 A)，因而耐熱性 故圖型形成性差； B )，以致於圖型 -26-

Claims (1)

  1. 200422308 Π) 拾、申請專利範圍 1 · 一種形成光波導用感光性樹脂組成物，其特徵爲含 有（A)具有下述一般式（1)所示之構造的二（甲基）丙 烯酸酯：
    {式中，R1 爲-(OCHsCHOm-、-〔 〇CH(CH3)CH2〕m-、或-〇CH2CH(OH)CH2- ; X 爲-C(CH3)2-、-CH2-、_0-、 或- S02-; Y爲氫原子或鹵原子；m爲0〜4之整數} (B)具有下述一般式（2)所示之構造的單（甲基） 丙烯酸酯： —R2——0
    -Y (2) {式中，R2 爲-(〇CH2CH2)p-、-〔 och(ch3)ch2〕p-、或-OCH2CH(OH)CH2· ; Y爲氫原子、鹵原子、Ph-C(CH3)2-、Ph-、或碳原子數1〜20之烷基；P爲0〜4之整 數；但是，Ph爲苯基} 及（C)光自由基聚合引發劑之構成成份。 2.如申請專利範圍第1項之形成光波導用感光性樹脂 -27- (2) (2)200422308 組成物，其中該成份（A )對該成份（B )之重量比（A/ B )爲 0.3 〜5·0〇 3 ·如申請專利範圍第1或2項之形成光波導用感光性 樹脂組成物，其中該樹脂組成物中之該成份（A )與該成 份（B )之合計量的重量比例爲3 0重量％以上。 4 ·如申請專利範圍第1〜3項中任一項之形成光波導用 感光性樹脂組成物，其中含有一分子中具有三個以上之（ 甲基）丙烯醯基之（甲基）丙烯酸酯。 5 ·如申請專利範圍第1〜4項中任一項之形成光波導用 感光性樹脂組成物，其中該樹脂組成物之硬化物在2 5 °C及 824nm之折射率爲1.54以上。 6. 如申請專利範圍第1〜5項中任一項之形成光波導用 感光性樹脂組成物，其中該樹脂組成物之硬化物的玻璃轉 移溫度（Tg)爲8(TC以上。 7. —種光波導，其特徵爲由核心層，及在該核心層上 層合形成之覆蓋層所構成的光波導；該核心層及/或該覆 蓋層爲由申請專利範圍第1〜6項中任一項之形成光波導用 感光性樹脂組成物的硬化物所構成。 8. —種光波導之製造方法，其特徵爲具有在申請專利 範圍第1〜6項中任一項之形成光波導用感光性樹脂組成物 上，經由光罩以輻射線照射，使該樹脂組成物硬化之步驟 -28- 200422308 柒、（一） (二） 、本案指定代表圖為：無 、本代表圖之元件代表符號簡單說明：無 捌、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：無
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004175866A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Nippon Kayaku Co Ltd 光ディスク用接着剤組成物、硬化物および物品
KR100725023B1 (ko) * 2006-10-16 2007-06-07 제일모직주식회사 카도계 수지를 함유한 수지 조성물 및 그에 의한 패턴의 제조방법, 이를 이용한 컬러필터
EP2080773B1 (en) * 2006-11-10 2011-05-18 Toray Industries, Inc. Paste composition for light guide and light guide utilizing the same
JP5115057B2 (ja) * 2007-06-29 2013-01-09 Ｊｓｒ株式会社 フィルム状光導波路及びフィルム状光導波路用感光性樹脂組成物
GB2459505A (en) * 2008-04-25 2009-10-28 Dublin Inst Of Technology Optical component fabrication by depositing a polymerisation activator pattern
JP4544370B2 (ja) * 2008-10-28 2010-09-15 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜及びマイクロレンズ、並びにそれらの製造方法
CN102436142B (zh) 2010-09-29 2013-11-06 第一毛织株式会社 黑色光敏树脂组合物以及使用其的光阻层
KR101367253B1 (ko) 2010-10-13 2014-03-13 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR101486560B1 (ko) 2010-12-10 2015-01-27 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR101453769B1 (ko) 2010-12-24 2014-10-22 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터
KR101344786B1 (ko) 2011-12-02 2013-12-26 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한　컬러필터
KR20140076320A (ko) 2012-12-12 2014-06-20 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서
JP6274498B2 (ja) * 2013-11-08 2018-02-07 日東電工株式会社 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板
EP3373051B1 (en) * 2015-10-21 2020-03-11 Nissan Chemical Corporation Composition for forming optical waveguide

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5119203A (en) * 1974-08-09 1976-02-16 Hitachi Ltd Konatsutaabinno seigyosochi
JPS60202110A (ja) * 1984-03-26 1985-10-12 Showa Denko Kk 高屈折率樹脂用組成物
GB2195643B (en) * 1986-07-21 1990-08-15 Yokohama Rubber Co Ltd Uv-curable resin compositions
JPH0643467B2 (ja) * 1987-12-08 1994-06-08 呉羽化学工業株式会社 光学材料の製造方法
JPH01161038A (ja) 1987-12-18 1989-06-23 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物
JPH01299807A (ja) * 1988-05-26 1989-12-04 Matsushita Electric Works Ltd 硬化性樹脂組成物およびそれをコア材として用いる光導波路
JPH0331309A (ja) * 1989-06-27 1991-02-12 Matsushita Electric Works Ltd 高屈折率樹脂作製用組成物
DE4010784C2 (de) * 1990-04-04 1994-11-03 Bayer Ag Duroplastische Terpolymerisate und ihre Verwendung zur Herstellung von optischen Formteilen
US5263111A (en) * 1991-04-15 1993-11-16 Raychem Corporation Optical waveguide structures and formation methods
JPH05119203A (ja) * 1991-10-24 1993-05-18 Fujitsu Ltd 微小光学レンズおよび光導波路の製造方法
JP3211108B2 (ja) 1992-06-25 2001-09-25 チッソ株式会社 感光性樹脂組成物
US5616630A (en) * 1993-02-05 1997-04-01 Lord Corporation Ester/urethane acrylate hybrid oligomers
JPH06273631A (ja) 1993-03-18 1994-09-30 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光導波路
US6005137A (en) * 1997-06-10 1999-12-21 3M Innovative Properties Company Halogenated acrylates and polymers derived therefrom
JP3867409B2 (ja) * 1998-08-25 2007-01-10 Ｊｓｒ株式会社 光導波路の製造方法
US6166156A (en) * 1998-11-12 2000-12-26 Wu; Chengjiu Method for making photocurable halofluorinated acrylates
JP3985129B2 (ja) * 2001-04-25 2007-10-03 信越化学工業株式会社 電子線硬化型光ファイバ用被覆材及びその硬化方法

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Publication number Publication date
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