DE60314897T2

DE60314897T2 - Lichtempfindliche harzzusammensetzung für die lichtwellenleiterherstellung und lichtwellenleiter

Info

Publication number: DE60314897T2
Application number: DE60314897T
Authority: DE
Inventors: Hideaki c/o JSR CORPORATION Chuo-ku TAKASE; Yuuichi c/o JSR CORPORATION Chuo-ku ERIYAMA
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2002-10-07
Filing date: 2003-09-30
Publication date: 2008-03-13
Anticipated expiration: 2023-10-01
Also published as: TW200422308A; EP1553114A1; EP1553114A4; EP1553114B1; CA2498188A1; JP2004334152A; DE60314897D1; KR20050062595A; JP4222120B2; CN1646586A; US7376328B2; AU2003266706A1; US20060008222A1; WO2004031251A1; CN1300199C

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine fotoempfindliche Harzzusammensetzung zur Bildung eines optischen Wellenleiters, der zur Herstellung optischer Schaltungen verwendet wird, die in den Gebieten der optischen Kommunikation und optischen Informationsverarbeitung verwendet werden, und bezieht sich ebenfalls auf einen durch Verwendung der vorher genannten Zusammensetzung hergestellten optischen Wellenleiter.
Da das Multimedia-Zeitalter eine Nachfrage für ein erhöhtes Volumen und eine erhöhte Geschwindigkeit von Informationsverarbeitung in optischen Kommunikationssystemen und Computern erzeugt hat, haben Licht als Übertragungsmedium verwendende Übertragungssysteme in öffentlichen Kommunikationsnetzwerken, LAN (local area networks), FA (factory automation), Zwischenverbindungen zwischen Computern, interne Haushaltsverdrahtung und ähnlichem Anwendungen gefunden. Unter den die Übertragungssysteme aufbauenden Elementen sind optische Wellenleiter die grundlegenden Strukturelemente, z.B. in optischen Einrichtungen zur Realisierung von hochvolumiger Informationsübertragung von Filmen und dynamischen Bildern, optischen Computern, optoelektronisch integrierten Schaltungen (OEIC), und optisch integrierten Schaltungen (optische IC). Optische Wellenleiter sind aktiv untersucht worden, weil eine große Nachfrage nach ihnen besteht. Insbesondere werden Produkte mit hoher Leistung und niedrigen Kosten besonders benötigt. Optische Wellenleiter aus Quarz und optische Wellenleiter aus Polymer sind bekannt als optische Wellenleiter.
Von diesen weisen optische Wellenleiter aus Quarz einen Vorteil eines niedrigen Übertragungsverlusts auf. Allerdings haben optische Wellenleiter aus Quarz Nachteile, dass sie verfahrensbedingte Probleme verursachen, welche eine hohe Temperatur, die in der Verarbeitung des Herstellungsschritts benötigt ist, beinhalten, und Schwierigkeiten, die bei der Produktion von optischen Wellenleitern mit großen Oberflächenbereichen auftreten.
Des Weiteren beinhalten die Vorteile von optischen Wellenleitern aus Polymer eine einfache Verarbeitung und einen hohen Grad an Freiheit im Materialdesign. Aus diesem Grund wurde die Verwendung von Polymermaterialien wie etwa Poly(methylmethacrylat), Polycarbonat und ähnliches erforscht. Allerdings haben optische Wellenleiter aus Polymer üblicherweise eine geringe Wärmeresistenz. Aus diesem Grund wurden in den letzten Jahren fluorierte Polyimide, die eine sehr gute Wärmebeständigkeit und Übertragungsverlust aufweisen, weithin erforscht.
Weil Trockenätzen zur Bildung von Kernabschnitten der optischen Wellenleiter aus Polymer benötigt wird, ähnlich wie es bei der Herstellung von optischen Wellenleitern aus Quarz benötigt wird, braucht es allerdings viel Zeit optische Wellenleiter aus Polymer herzustellen, wenn jedoch Polymermaterialien verwendet werden.
Unter diesen Umständen sind fotohärtende Materialien, wie etwa UV-härtbare Epoxidharze mit fotolithografischer Fähigkeit, und optische Wellenleiter, die solche fotohärtbare Materialien verwenden, jüngst vorgeschlagen worden (z.B. siehe Anspruch 1 der japanischen Patentanmeldung Offenlegungsschrift (JP-A) H6-273631 ).
Wie oben beschrieben, sind die mit den konventionellen optischen Wellenleitern aus Polymer verbundenen Probleme, dass in dem Bereich einer Wellenlänge von 650 bis 1600 nm der Wellenleiterverlust vergleichsweise hoch ist, die Wärmebeständigkeit schlecht ist und einige der für die optischen Wellenleiter benötigten Eigenschaften unbefriedigend sind.
Um diese Probleme zu lösen, sind chemische Behandlungsverfahren des Polymers, wie etwa Fluorierungs- oder Deuterierungs-Substitution erforscht worden. Wenn solche chemischen Behandlungsverfahren verwendet werden, verringert sich Adhäsion an das Substrat, und Langzeitzuverlässigkeit verschlechtert sich. Auch wenn das chemisch behandelte Polymer für den Kernabschnitt verwendet wird, kann der Brechungsindex möglicherweise nicht auf das gewünschte Niveau erhöht werden.
US-A-S 616 630 befasst sich mit einem Ester/Urethanacrylat-Hybridoligomer, welches das Reaktionsprodukt eines Acrylat/hydroxyfunktionalen Polyesters, einer Isocyanat-Verbindung und einer hydroxyfunktionalen Acrylat-Verbindung ist, wobei das Polyester-Rückgrat des Oligomers sowohl Ester- als auch Urethan-Verbindungen zu der terminalen Acrylatfunktionalität aufweist.
EP-A-0 601 203 offenbart eine fotoempfindliche Harzzusammensetzung, welche 100 Gewichtsteile eines Polyimids, 10–100 Gewichtsteile eines (meth)acrylierten Isocyanurats, 10–100 Gewichtsteile eines Polyalkylenglykoldi(meth)acrylats und 0,5–20 Gewichtsteile eines Fotopolymerisationsinitiators umfasst.
DE-A-4 010 784 beschreibt Terpolymere, welche durch Polymerisation von Mischungen von 10–60 Gew.-% 3a,4,7,7a-Tetra- oder 3a,4,5,6,7,7a-Hexahydro-4,7-methanoinden-5(6)-yl(methyl)(ether)(meth)acrylat(en), 20–60% Bisphenol(epoxid)di(meth)acrylat(en) und 5–45% Chlorphenyl(oxy(hydroxy)alkyl)(meth)acrylat hergestellt werden.
EP-A-0 346 486 offenbart eine Harzzusammensetzung, welche ein Epoxidharz und/oder ein Epoxyacrylat, erhalten durch Reaktion eines Epoxidharzes (1 Äquivalent Epoxygruppen) mit Acrylsäure (0,1 bis 1 Äquivalent); (c) ein Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymer; (d) eine andere ungesättigte Verbindung als (b); und (e) einen Fotopolymerisationsinitiator enthält.
JP-A-1 299 807 ist gerichtet auf eine härtbare Harzzusammensetzung, welche durch Addition von 0,01–10 Gewichtsteilen eines Foto- und/oder thermischen Polymerisationsinitiators zu 100 Gewichtsteilen eines ein bestimmtes (Meth)acrylat enthaltenden foto- und/oder thermisch polymerisierbaren Monomers erhalten wird.
JP-A-3 031 309 offenbart eine Zusammensetzung, die 40–60 Gew.-% (Meth)acrylat mit einem halogenierten aromatischen Ring, 5–35 Gew.-% mehrwertigen (Meth)acrylat mit einem aromatischen Ring und (C) 15–35 Gew.-% einwertigen (Meth)acrylat mit einem aromatischen Ring enthält.
JP-A-60 202 110 verweist auf eine radikalisch polymerisierbare Mischung, die 30–95 Gew.-% eines ersten polymerisierbaren Monomers, 0–70 Gew.-% eines zweiten polymerisierbaren Monomers, und 5–30 Gew.-% eines anderen polymerisierbaren Monomers enthält, wobei der Brechungsindex ≥ 1,450 ist.
JP-A-2000 066051 offenbart ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Wellenleiters bestehend aus einem Substrat, einer unteren Mantelschicht, einem Kernabschnitt und einer oberen Mantelschicht, wobei mindestens eines von der unteren Mantelschicht, des Kernabschnitts und der oberen Mantelschicht durch Anwendung einer strahlungshärtenden Zusammensetzung und Härten dieser Zusammensetzung durch Bestrahlung gebildet ist.
JP-A-5 119 203 beschreibt ein Verfahren, in dem Ti durch Verdampfen auf einer Oberfläche eines Glassubstrats abgeschieden wird, um die Maske zu bilden. Ein Fenster, das der Form der zu bildenden Mikrolinse entspricht, wird dann mit einem Muster versehen und durch Verwendung einer fotolithographischen Technik in der Maske gebildet. Ein dünner Film wird dann auf der Fotomaske durch Rotationsbeschichten (sein coating) unter Verwendung einer Mischung bestehend aus Vinylcarbazol, Polyacrylat und Sellosolve-Acetat gebildet. Das Glassubstrat wird dann von seiner Rückseite mit den UV-Strahlen bestrahlt. Diese Bestrahlung bewirkt die Polymerisation und Diffusion des Vinylcarbazols, und die Mikrolinse wird gebildet. Zuletzt wird das Polymer einem Nachbrennen unterzogen und wird dabei vollständig ausgehärtet, wodurch die optische Mikrolinse gebildet wird.
Die vorliegende Erfindung erfolgte, um die oben beschriebenen Probleme zu lösen, und eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Harzzusammensetzung für einen optischen Wellenleiter, der sehr gute physikalische Eigenschaften aufweist, wie etwa Wellenleiterverlust, Brechungsindex und Wärmebeständigkeit, und einen optischen Wellenleiter, der aus dem gehärteten Produkt einer solchen Zusammensetzung zusammengesetzt ist, bereitzustellen.
Die Erfinder haben eine umfangreiche Untersuchung durchgeführt, um die oben beschriebenen Probleme zu lösen und haben gefunden, dass eine einen fotoradikalischen Polymerisationsinitiator und zwei verschiedene (Meth)acrylate mit aromatischen Ringen enthaltende fotoempfindliche Harzzusammensetzung perfekt, als ein Harz zur Bildung eines optischen Wellenleiters, geeignet ist. Diese Entdeckung hat zu der vorliegenden Erfindung geführt.
Folglich stellt die vorliegende Erfindung eine fotoempfindliche Harzzusammensetzung für optische Wellenleiterbildung bereit, umfassend: (A) ein Di(meth)acrylat mit der durch die folgende allgemeine Formel (1) wiedergegebenen Struktur:
(wobei R¹ -(OCH₂CH₂)_m-, -(OCH(CH₃)CH₂)_m-, oder
-OCH₂CH(OH)CH₂- ist; X-C(CH₃)₂-, -CH₂-, -O-, oder -SO₂- ist; Y ein Wasserstoffatom oder ein Halogenatom ist; m eine ganze Zahl von 0 bis 4 ist); (B) ein Mono(meth)acrylat mit der durch die folgende allgemeine Formel (2) wiedergegebenen Struktur:
(wobei R² -(OCH₂CH₂)-, -(OCH(CH₃)CH₂)_p-, oder
-OCH₂CH(OH)CH₂- ist; Y ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, Ph-C(CH₃)₂-, Ph-, oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist; p eine ganze Zahl von 0 bis 4 ist; Ph eine Phenylgruppe ist); und
(C) einen fotoradikalischen Polymerisationsinitiator; und
(D) Tris(2-acryloyloxyethyl)isocyanurat.
Die fotoempfindliche Harzzusammensetzung zur Bildung optischer Wellenleiter, mit solch einer Struktur, hat sehr gute Musterfähigkeiten beim Härten, und zeigt physikalische Eigenschaften, wie etwa einen hohen Brechungsindex, hohe Wärmebeständigkeit und sehr gute Übertragungseigenschaften (d.h. geringen Wellenleiterverlust) wenn ein optischer Wellenleiter gebildet wird. Die fotoempfindliche Harzzusammensetzung kann vorzugsweise als ein Material zur Bildung einer Kernschicht, und ähnlichem, eines optischen Wellenleiters verwendet werden.
Die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung kann so zusammengesetzt sein, dass das Gewichtsverhältnis (A/B) der Komponente (A) zu der Komponente (B), zum Beispiel, 0,3 bis 5,0 ist.
Das Festlegen dieses Gewichtsverhältnisses innerhalb dieses numerischen Bereichs verbessert die physikalischen Eigenschaften, wie etwa Wärmebeständigkeit und ähnliches, zu einem noch besseren Ausmaß.
Die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung kann so zusammengesetzt sein, dass die Gesamtmenge der Komponente (A) und der Komponente (B) in der Zusammensetzung 30 Gew.-% oder höher ist.
Das Festlegen dieser Menge innerhalb dieses numerischen Bereichs verbessert die physikalischen Eigenschaften, wie etwa Brechungsindex, Wellenleiterverlust und ähnliches, zu einem noch besseren Ausmaß.
Die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung macht es möglich, ein gehärtetes Produkt mit einem Brechungsindex von 1,54 oder höher bei 25°C und 824 nm zu erhalten.
Die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung macht es möglich, ein gehärtetes Produkt mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) von 80°C oder höher zu erhalten.
Des Weiteren stellt die vorliegende Erfindung einen optischen Wellenleiter zur Verfügung, der eine Kernschicht und eine durch Laminierung auf der Kernschicht gebildete Mantelschicht umfasst, wobei die Kernschicht und/oder die Mantelschicht aus dem gehärteten Produkt der vorher genannten Harzzusammensetzung zusammengesetzt ist.
Der optische Wellenleiter mit der oben beschriebenen Struktur weist physikalische Eigenschaften auf, wie etwa einen hohen Brechungsindex, hohe Wärmebeständigkeit, sehr gute Musterungsfähigkeit und niedrigen Wellenleiterverlust.
Des Weiteren stellt die vorliegende Erfindung auch ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Wellenleiters bereit, welches einen Schritt des Bestrahlens der vorher genannten Harzzusammensetzung mit Bestrahlung über eine Fotomaske, und Härten der Harzzusammensetzung umfasst.
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend genauer beschrieben.
Die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung enthält die nachstehend beschriebenen Bestandteile (A)–(D) als die zusammensetzenden Bestandteile.
In der vorliegenden Beschreibung enthält das Konzept der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung sowohl die flüssige Form vor einem Härten, welche die Bestandteile (A)–(D) umfasst, als auch die durch Härten der flüssigen Bestandteile erhaltenen Form, welche die Bestandteile (A)–(D) umfasst.
Der die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung zusammensetzende Bestandteil (A) ist ein Di(meth)acrylat mit der durch die folgende allgemeine Formel (1) wiedergegebenen Struktur:
(wobei R¹ -(OCH₂CH₂)_m-, -(OCH(CH₃)CH₂)_m-, oder
-OCH₂CH(OH)CH₂- ist; X-C(CH₃)₂-, -CH₂-, -O-, oder -SO₂- ist; Y ein Wasserstoffatom oder ein Halogenatom ist; m eine ganze Zahl von 0 bis 4 ist).
In der Formel (1) enthalten Beispiele des durch Y wiedergegebenen Halogenatoms Chlor, Brom, Jod und Fluor. Von diesen ist Brom bevorzugt.
Beispiele des Bestandteils (A) enthalten Ethylenoxid zugegeben zu Bisphenol A (Meth)acrylsäureester, Ethylenoxid zugegeben zu Tetrabrombisphenol A (Meth)acrylsäureester, Propylenoxid zugegeben zu Bisphenol A (Meth)acrylsäureester, Propylenoxid zugegeben zu Tetrabrombisphenol A (Meth)acrylsäureester, Bisphenol A Epoxy(meth)acrylat erhalten durch die Epoxidringöffnungsreaktion von Bisphenol A Diglycidylether und (Meth)acrylsäure, Tetrabrombisphenol A Epoxy(meth)acrylat erhalten durch die Epoxidringöffnungsreaktion von Tetrabrombisphenol A Diglycidylether und (Meth)acrylsäure, Bisphenol F Epoxy(meth)acrylat erhalten durch die Epoxidringöffnungsreaktion von Bisphenol F Diglycidylether und (Meth)acrylsäure, und Tetrabrombisphenol F Epoxy(meth)acrylat erhalten durch die Epoxidringöffnungsreaktion von Tetrabrombisphenol F Diglycidylether und (Meth)acrylsäure.
Von diesen sind Ethylenoxid zugegeben zu Bisphenol A (Meth)acrylsäureester, Ethylenoxid zugegeben zu Tetrabrombisphenol A (Meth)acrylsäureester, Bisphenol A Epoxy(meth)acrylat erhalten durch die Epoxidringöffnungsreaktion von Bisphenol A Diglycidylether und (Meth)acrylisäure, und Tetrabrombisphenol A Epoxy(meth)acrylat besonders bevorzugt.
Beispiele der handelsüblichen Produkte der Komponente (A) beinhalten Biscoat #700, #540 (hergestellt von Osaka Yuki Kagaku Kogyo K. K.), Aronix M-208, M-210 (hergestellt von Toa Gosei K. K.), NK Ester BPE-100, BPE-200, BPE-500, and A-BPE-4 (hergestellt von Shin Nakamura Kagaku K. K.), Light Ester BP-4EA, BP-4PA, Epoxy Ester 3002M, 3002A, 3000M, 3000A (hergestellt von Kyoeisha Kagaku K. K.), KAYARAD R-551, R-712 (hergestellt von Nippon Kagaku K. K.), BPE-4, BPE-10, BR-42M (hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku K. K.), Ripoxy VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1506, SP-1507, SP1509, und SP-1563 (hergestellt von Showa Kobunshi K. K.), und Neopol V779, Neopol V779MA (hergestellt von Nippon Yupika K. K.).
Der die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung aufbauende Bestandteil (B) ist ein (Meth)acrylat mit der durch die folgende allgemeine Formel (2) wiedergegebenen Struktur.
(wobei R² -(OCH₂CH₂)_p-, -(OCH(CH₃)CH₂)_p-, oder
-OCH₂CH(OH)CH₂- ist; Y ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, Ph-C(CH₃)₂-, Ph-, oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist; p eine ganze Zahl von 0 bis 4 ist; Ph eine Phenylgruppe ist).
In der Formel (2) enthalten Beispiele des durch Y wiedergegebenen Halogenatoms Chlor, Brom, Jod und Fluor. Von diesen ist Brom bevorzugt.
Beispiele der Komponente (B) beinhalten Phenoxyethyl(meth)acrylat, Phenoxy-2-methylethyl(meth)acrylat, Phenoxyethoxyethyl(meth)acrylat, 3-Phenoxy-2-hydroxypropyl(meth)acrylat, 2-Phenylphenoxyethyl(meth)acrylat, 4-Phenylphenoxyethyl(meth)acrylat, 2-Hydroxy-3-phenoxypropyl(meth)acrylat, p-Cumylphenolethylenoxidmodifiziertes(Meth)acrylat, 2-Bromphenoxyethyl(meth)acrylat, 4-Bromphenoxyethyl(meth)acrylat, 2,4-Dibromphenoxyethyl(meth)acrylat, 2,6-Dibromphenoxyethyl(meth)acrylat und 2,4,6-Tribromphenoxyethyl(meth)acrylat.
Von diesen sind Phenoxyethyl(meth)acrylat, Phenoxyethoxyethyl(meth)acrylat, (Meth)acrylat von mit Ethylenoxid zur Reaktion gebrachtem p-Cumylphenol und 2,4,6-Tribromphenoxyethyl(meth)acrylat besonders bevorzugt.
Beispiele der handelsüblichen Produkte der Komponente (B) beinhalten Aronix M113, M110, M101, M102, M5700, and TO-1317 (hergestellt von Toa Gosei K. K.), Biscoat #192, #193, #220, 3BM (hergestellt von Osaka Yuki Kagaku Kogyo K. K.), NK Ester AMP-10G, AMP-20G (hergestellt von Shin- Nakamura Kagaku K. K.), Light Acrylate PO-A, P-200A, Epoxy Ester M-600A (hergestellt von Kyoeisha Kagaku K. K.) und PHE, CEA, PHE-2, BR-30, BR-31, BR-31M, BR-32 (hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku K. K.).
Die Gesamtmenge der Bestandteile (A) und (B) in der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung ist vorzugsweise 30 Gew.-% oder höher, vorzugsweise 40 Gew.-% oder höher, und besonders bevorzugt 50 Gew.-% oder höher. Falls die Menge 30 Gew.-% oder höher ist, wenn die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung für den Kernabschnitt eines optischen Wellenleiters verwendet wird, können ein höherer Brechungsindex und ein niedrigerer Wellenleiterverlust erhalten werden.
Das Gewichtsverhältnis (A/B) des Bestandteils (A) zu dem Bestandteil (B) in der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung ist vorzugsweise 0,3 bis 5,0, noch bevorzugter 0,4 bis 4. Wenn dieses Gewichtsverhältnis 0,3 oder höher ist, ist die Glasübergangstemperatur des gehärteten Produkts erhöht und Wärmebeständigkeit ist verbessert. Außerdem kann die Kernschicht zuverlässiger in die gewünschte Form gebracht werden. Des Weiteren kann die Musterungsfähigkeit verbessert werden, wenn das Gewichtsverhältnis 5,0 oder kleiner ist.
Wenn die Kernschicht eines optischen Wellenleiters durch Verwendung der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung hergestellt wird, sind aus dem Standpunkt der Musterungsfähigkeit die Bestandteile (A) und (B) vorzugsweise eher Acrylate als Methacrylate.
Die die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung aufbauende Komponente (C) ist ein fotoradikalischer Polymerisationsinitiator. Beispiele der Komponente (C) beinhalten Acetophenon, Acetophenonbenzylketal, 1-Hydroxycyclohexylphenylketon, 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanon-1, 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon, Xanthon, Fluorenon, Benzaldehyd, Fluor, Anthrachinon, Triphenylamin, Carbazol, 3-Methylacetophenon, 4-Chlorbenzophenon, 4,4'-Dimethoxybenzophenon, 4,4'-Diaminobenzophenon, Michlers Keton, Benzoinpropylether, Benzoinethylether, Benzyldimethylketal, 1-(4-Isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-on, 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-on, Thioxanthon, Diethylthioxanthon, 2-Isopropylthioxanthon, 2-Chlorthioxanthon, 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-on, 2,4,6-Trimethylbenzoyldiphenylphosphinoxid und Bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphinoxid.
Beispiele der handelsüblichen Produkte der Komponente (C) beinhalten Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI11850, CG24-61, Darocur 1116, 1173 (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Lucirin LR8728 (hergestellt von BASF Co.) und Uvecryl P36 (hergestellt von UCB Co.).
Um die Musterungsfähigkeit zu verbessern, kann die Komponente (C) alleine verwendet werden, oder kann in Kombination mit zwei oder mehr von diesen verwendet werden.
Das Gewichtsverhältnis der Komponente (C) in der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung ist üblicherweise 0,01 bis 10 Gew.-% vorzugsweise 0,1 bis 7 Gew.-% Wenn das Gewichtsverhältnis 10 Gew.-% oder weniger ist, können die Härtungseigenschaft, Übertragungseigenschaft, Musterungsfähigkeit und Handhabbarkeit verbessert werden. Wenn das Gewichtsverhältnis 0,01 Gew.-% oder mehr ist, können des Weiteren Musterungsfähigkeit und mechanische Eigenschaften des gehärteten Produkts verbessert werden, und die Verringerung der Härtungsgeschwindigkeit kann verhindert werden.
In der vorliegenden Erfindung wird Tris(2-acryloyloxyethyl)isocyanurat, wahlweise in Verwendung mit Verbindung(en) mit einer (Meth)acryloylgruppe oder Vinylgruppe (manchmal nachstehend bezeichnet als „ungesättigtes Monomer" mit der Maßgabe, dass Verbindungen identisch zu den Komponenten (A) und (B) ausgeschlossen sind), als Komponente zusätzlich zu den Komponente (A) und (B) verwendet. Für die wahlweise weitere(n) Verbindung(en) mit einer (Meth)acryloylgruppe oder Vinylgruppe wird vorzugsweise ein (Meth)acrylat mit drei oder mehr (Meth)acryloylgruppen verwendet.
Beispiele für das (Meth)acrylat mit drei oder mehr (Meth)acryloylgruppen beinhalten (Meth)acrylate von Polyhydroxyalkoholen mit drei oder mehr Hydroxylgruppen. Beispiele von solchen (Meth)acrylaten beinhalten Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Pentaerythritoltri(meth)acrylat, Trimethylolpropantrioxyethyl(meth)acrylat, und Pentaerythritolpolyacrylat.
Beispiele von handelsüblichen Produkten von (Meth)acrylaten mit drei oder mehr (Meth)acryloylgruppen beinhalten Aronix M305, M309, M310, M320, M350, M360, und M408 (hergestellt von Toa Gosei K. K.), Biscoat #295, #300, #360, GPT, 3PA, #400 (hergestellt von Osaka Yuki Kagaku Kogyo K. K.), NK Ester TMPT, A-TMPT, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMMT (hergestellt von Shin-Nakamura Kagaku K. K.), Light Acrylate TMP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE-4A, DPE- 6A (hergestellt von Kyoeisha Kagaku K. K.) und KAYARAD PET-30, GPO-303, TMPTA, TPA-320, DPHA, D-310, DPCA-20, und DPCA-60 (hergestellt von Nippon Kayaku K. K.).
Beispiele anderer ungesättigter Monomere beinhalten Vinylmonomere, wie etwa N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcaprolactam, Vinylimidazol und Vinylpyridin; Isobornyl(meth)acrylat, Bornyl(meth)acrylat, Tricyclodecanyl(meth)acrylat, Dicyclopentanyl(meth)acrylat, Dicyclopentenyl(meth)acrylat, Cyclohexyl(meth)acrylat, Benzyl(meth)acrylat, 4-Butylcyclohexyl(meth)acrylat, Acryloylmorpholin, 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat, 2-Hydroxypropyl(meth)acrylat, 2-Hydroxybutyl(meth)acrylat, Methyl(meth)acrylat, Ethyl(meth)acrylat, Propyl(meth)acrylat, Isopropyl(meth)acrylat, Butyl(meth)acrylat, Amyl(meth)acrylat, Isobutyl(meth)acrylat, t-Butyl(meth)acrylat, Pentyl(meth)acrylat, Isoamyl(meth)acrylat, Hexyl(meth)acrylat, Heptyl(meth)acrylat, Octyl(meth)acrylat, Isooctyl(meth)acrylat, 2-Ethylhexyl(meth)acrylat, Nonyl(meth)acrylat, Decyl(meth)acrylat, Isodecyl(meth)acrylat, Undecyl(meth)acrylat, Dodecyl(meth)acrylat, Lauryl(meth)acrylat, Stearyl(meth)acrylat, Isostearyl(meth)acrylat, Tetrahydrofurfuryl(meth)acrylat, Butoxyethyl(meth)acrylat, Ethoxydiethylenglykol(meth)acrylat, Polyethylenglykolmono(meth)acrylat, Polypropylenglykolmono(meth)acrylat, Methoxyethylenglykol(meth)acrylat, Ethoxyethyl(meth)acrylat, Methoxypolyethylenglykol(meth)acrylat, Methoxypolypropylenglykol(meth)acrylat, Diaceton(meth)acrylamid, Isobutoxymethyl(meth)acrylamid, N,N-Dimethyl(meth)acrylamid, t-Octyl(meth)acrylamid, Dimethylaminoethyl(meth)acrylat, Diethylaminoethyl(meth)acrylat, 7-Amino-3,7-dimethyloctyl(meth)acrylat, N,N-Diethyl(meth)acrylamid, N,N-Dimethylaminopropyl(meth)acrylamid, Hydroxybutylvinylether, Laurylvinylether, Cetylvinylether, 2-Ethylhexylvinylether und durch die folgenden Formeln (3), (4) wiedergegebenen monofunktionellen Monomere
(wobei R³ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe ist; R⁴ eine Alkylengruppe mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen ist; s eine ganze Zahl von 1 bis 8 ist).
(wobei jede von R⁵ und R⁷ unabhängig ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe sind; R⁶ eine Alkylengruppe mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen ist; t eine ganze Zahl von 1 bis 8 ist).
Beispiele eines ungesättigten Momoners mit zwei (Meth)acryloylgruppen oder Vinylgruppen beinhalten Alkyldioldiacrylate, wie etwa 1,4-Butanedioldiacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat und 1,9-Nonandioldiacrylat, Polyalkylenglykoldiacrylate, wie etwa Ethylenglykoldi(meth)acrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat und Tripropylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat und Tricyclodecanmethanoldiacrylat.
Beispiele der handelsüblichen Produkte dieser Verbindungen beinhalten Aronix M120, M-150, M-156, M-215, M-220, M-225, M-240, M-245 und M-270 (hergestellt von Toa Gosei K. K.), AIB, TBA, LA, LTA, STA, Biscoat #155, IBXA, Biscoat #158, #190, #150, #320, HEA, HPA, Biscoat #2000, #2100, DMA, Biscoat #195, #230, #260, #215, #335HP, #310HP, #310HG, #312 (hergestellt von Osaka Yuki Kagaku Kogyo K. K.), Light Acrylate IAA, L-A, S-A, BO-A, EC-A, MTG-A, DMP-A, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, HOA-MPL, HOA-MPE, Light Acrylate 3EG-A, 4EG-A, 9EG-A, NP-A, 1,6HX-A, DCP-A (hergestellt von Kyoeisha Kagaku K. K.) und KAYARAD, TC-110S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620 (hergestellt von Nippon Kagaku K. K.), FA-511A, 512A, 513A (hergestellt von Hitachi Kasei K. K.), VP (hergestellt von BASF Co.) und ACMO, DMAA, DMAPAA (hergestellt von Kohin K. K.).
Ein Oligomer oder Polymer, wie etwa Polyurethan(meth)acrylat, Polyester(meth)acrylat und Polyepoxid(meth)acrylat kann zusätzlich mit der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung vermischt werden.
Ein Fotosensibilisator kann zusätzlich zu der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung vermischt werden.
Beispiele von Fotosensibilisatoren enthalten Triethylamin, Diethylamin, N-Methyldiethanolamin, Ethanolamin, 4-Dimethylaminobenzoesäure, 4- Dimethylaminobenzoesäuremethyl, 4-Dimethylaminobenzoesäureethyl, und 4-Dimethylaminobenzoesäureisoamyl. Beispiele von handelsüblichen Produkten von Fotosensibilisatoren enthalten Ubecryl P102, 103, 104, 105 (hergestellt von UCB Co.).
Beispiele von verschiedenen Zusatzstoffen, die im Bedarfsfall zusätzlich zu den oben beschriebenen Komponenten zugegeben werden können, beinhalten Antioxidantien, UV-Absorber, Fotostabilisatoren, Silankopplungsmittel, Oberflächenmodifikationsmittel, thermische Polymerisationsinhibitoren, Egalisierungsmittel, oberflächenaktive Stoffe, Farbmittel, Konservierungsmittel, Plastifizierer, Schmierstoffe, Lösungsmittel, Füllstoffe, Alterungsschutzmittel, Benetzungsverbesserungsmittel und Trennmittel.
Beispiele von handelsüblichen Produkten von Antioxidantien beinhalten Irganox 1010, 1035, 1076, 1222 (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals), Antigen P, 3C, FR, GA-80 (hergestellt von Sumitomo Kagaku Kogyo K. K.).
Beispiele von handelsüblichen Produkten von UV-Absorbern beinhalten Tinuvin P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213 (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals), Seesorb 102, 103, 110, 501, 202, 712, 704 (hergestellt von Shipro Kasei K. K.).
Beispiele von handelsüblichen Produkten von Fotostabilisatoren beinhalten Tinuvin 292, 144, 622LD (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals), Sanol LS770 (Sankyo K. K.), Sumisorb TM-061 (Sumitomo Kagaku Kogyo K. K.).
Beispiele von Silankopplungsmitteln beinhalten γ-Aminopropyltriethoxysilan, γ-Mercaptopropyltrimethoxysilan und γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan. Beispiele von handelsüblichen Produkten beinhalten SH6062, 6030 (hergestellt von Toray Dow Corning Silicone Co.), KBE903, 603, 403 (hergestellt von Shin-Etsu Kagaku Kogyo K. K.).
Beispiele von Oberflächenmodifikationsmitteln beinhalten Silikonzusatzstoffe, wie etwa Dimethylsiloxanpolyether. Beispiele von handelsüblichen Produkten beinhalten DC-57, DC-190 (hergestellt von Dow Corning Co.), SH-28PA, SH-29PA, SH-30PA, SH190 (hergestellt von Toray Dow Corning Silicone Co.), KF351, KF352, KF353, KF354 (hergestellt von Shin-Etsu Kagaku Kogyo K. K.), L-700, L-7002, L-7500, FK-024-90 (hergestellt von Nippon Unicar K. K.).
Beispiele von handelsüblichen Produkten von Trennmitteln beinhalten PRISURF A208F (hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku K. K.).
Die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung kann durch Mischen der vorher genannten Komponenten durch das übliche Verfahren hergestellt werden. Die Viskosität der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung, die so hergestellt wurde, ist 100–20.000 cp/25°C, vorzugsweise 300–10.000 cp/25°C, noch bevorzugter 400–5.000 cp/25°C. Wenn die Viskosität zu hoch ist, tritt eine Nichteinheitlichkeit der Beschichtung oder Wellenbildung auf, wenn die Harzzusammensetzung auf einem Substrat beschichtet ist, oder die Musterungsfähigkeit wird verschlechtert und die gewünschte Form kann nicht erhalten werden, wenn eine Kernschicht gebildet wird.
Umgekehrt, wenn die Viskosität zu niedrig ist, ist es schwierig, die gewünschte Filmdicke zu erhalten. Außerdem ist die Musterungsfähigkeit manchmal verschlechtert.
Das gehärtete Produkt der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung, die vorzugsweise durch Härten mit Strahlung erhalten wird, hat die folgenden Eigenschaften.
Wenn das gehärtete Produkt der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung als eine Kernschicht eines optischen Wellenleiters gebildet ist, ist der Brechungsindex bei 25°C und einer Wellenlänge von 824 nm vorzugsweise 1,54 oder mehr, noch bevorzugter 1,55 oder mehr. Falls der Brechungsindex kleiner ist als 1,54, wenn ein Wellenleiter durch Verwendung der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung für die Kernschicht gebildet wird, kann der gewünschte Übertragungsverlust manchmal nicht erreicht werden.
Das gehärtete Produkt der Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung hat vorzugsweise eine Glasübergangstemperatur von 80°C oder höher, noch bevorzugter 90°C oder höher. Falls die Glasübergangstemperatur niedriger ist als 80°C, kann eine ausreichende Wärmebeständigkeit des optischen Wellenleiters manchmal nicht gewährleistet werden. Die hierin erwähnte Glasübergangstemperatur ist als die Temperatur definiert, bei der die Verlusttangente bei einer Oszillationsfrequenz von 10 Hz einen Maximalwert in dem Resonanzgerät zur Messung dynamischer Viskoelastizität zeigt.
[Beispiele]
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend, basierend auf experimentelle Beispiele, genauer beschrieben. Allerdings ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese experimentellen Beispiele (Beispiele) begrenzt, und kann in einer Vielzahl von Arten innerhalb des durch die Ansprüche definierten Umfangs verändert werden.
[Beispiele 1–6, Vergleichsbeispiele 1–3]
Flüssige, härtbare Zusammensetzungen wurden durch Mischen der in Tabelle 1 beschriebenen Komponenten, und Rühren für eine Stunde, während die Temperatur bei 50–60°C geregelt wurde, erhalten. In Tabelle 1 sind die Mengen der Komponenten als Gewichtsanteile beschrieben.
< Bewertungsverfahren >
1. Bewertung des Brechungsindex
Der Brechungsindex bei 824 nm wurde durch das folgende Verfahren gemessen. Zuerst wurde eine Harzzusammensetzungsschicht durch Beschichten einer flüssigen, härtbaren Zusammensetzung auf eine Dicke von 7 μm auf einem Siliciumwafersubstrat mit einer Dicke von 4 Inches unter Verwendung eines Rotationsbeschichters (sein coater) gebildet, während die Rotationsgeschwindigkeit und Zeit angepasst wurden. Anschließend wurde die Harzzusammensetzungsschicht durch einen Mask Aligner mit UV-Strahlen bei 1,0 J/cm² in einer Stickstoffatmosphäre bestrahlt, und ein gehärteter Film wurde erhalten. Anschließend wurde der Brechungsindex (824 nm, 25°C) des gehärteten Films unter Verwendung eines von Nippon Metricon Co hergestellten Prismakupplers gemessen.
2. Bewertung der Glasübergangstemperatur
Durch Beschichtung einer Harzzusammensetzung in einer Dicke von 60 μm auf einem Glassubstrat wurde unter Verwendung eines Applikators eine Harzzusammensetzungsschicht gebildet. Anschließend wurde die Harzzusammensetzungsschicht durch Verwendung eines Förderband-UV-Bestrahlungsgeräts in einer Stickstoffatmosphäre mit UV-Strahlen bei 1,0 J/cm² bestrahlt, und ein gehärteter Film wurde erhalten. Anschließend wurde die Abhängigkeit der Verlusttangente des gehärteten Films gegenüber der Temperatur gemessen, unter Verwendung eines Resonanz-Geräts zur Messung dynamischer Viskoelastizität, während Schwingungen mit einer Oszillationsfrequenz von 10 Hz eingesetzt wurden. Die Glasübergangstemperatur wurde als die Temperatur definiert, bei der der Maximalwert des Verlustziels erhalten wurde.
3. Bewertung der Musterungsfähigkeit
Eine Harzzusammensetzungsschicht wurde gebildet durch Beschichten einer flüssigen, härtbaren Zusammensetzung in einer Dicke von 50 μm auf einem Siliziumwafersubstrat mit einer Dicke von 4 Inches durch Verwendung eines Rotationsbeschichters, während die Rotationsgeschwindigkeit und Zeit angepasst wurden. Anschließend wurde die Harzzusammensetzungsschicht durch einen Mask Aligner mit UV-Strahlen bei 1,0 J/cm² in einer Luftatmosphäre bestrahlt, über einer Fotomaske mit einer verzweigungsfreien und linearen Form und mit einer Breite von 50 μm. Die Harzzusammensetzung wurde dann für drei Minuten durch Anwendung von Aceton entwickelt, und das Substrat wurde für 10 Minuten in einem Ofen mit einer festen Temperatur von 70°C erwärmt.
Das erhaltene Muster wurde unter einem optischen Mikroskop untersucht. Der Fall, in dem die angestrebte Kernform (50 μm ± 1 μm) erhalten wurde, wurde durch „⌾", der Fall in dem die Form innerhalb eines Bereichs von 50 μm ± 2 μm war, wurde mit „0" bezeichnet und der Fall, in dem die Form außerhalb des Bereichs 50 μm ± 2 μm war, wurde mit „X" bezeichnet.
4. Bewertung des Übertragungsverlusts
ELC2500 (Clear) (hergestellt von ELECTRO-LITE Corporation, N_D ²⁵ = 1,515) wurde auf ein Siliciumwaftersubstrat mit einer Dicke von 4 Inches unter Verwendung eines Rotationsbeschichters beschichtet, während die Rotationsgeschwindigkeit und Zeit angepasst wurden. Anschließend wurde die beschichtete Schicht durch einen Mask Aligner mit UV-Strahlen bei 1,0 J/cm² in einer Luftatmosphäre bestrahlt. Die Harzzusammensetzung wurde dann in einer Dicke von 50 μm auf das Substrat unter Verwendung eines Rotationsbeschichters beschichtet, und die beschichtete Schicht wurde mit UV-Strahlen bei 1,0 J/cm² in einer Luftatmosphäre bestrahlt, über eine Fotomaske mit einer verzweigungsfreien und linearen Form und mit einer Breite von 50 μm. Die bestrahlte, beschichtete Schicht wurde für drei Minuten unter Anwendung von Aceton entwickelt, und das Substrat wurde für 10 Minuten in einem Ofen mit einer festen Temperatur von 70°C erhitzt. Anschließend wurde das ELC2500 (Clear) wieder auf das Substrat in einer Dicke von 50 μm beschichtet, und das Substrat wurde mit UV-Strahlen bestrahlt, um einen Kanalwellenleiter zu erhalten.
Die Endoberfläche des Wellenleiters wurde gespalten und geschnitten, Licht mit einer Wellenlänge von 850 nm wurde über eine multimodale Faser (Durchmesser: 50 μm) eingeführt, und der Wellenleiterverlust wurde durch ein Abbauverfahren gemessen. Das Messverfahren wurde durch Ausführen von Vierpunktmessungen in einem Intervall von 1 cm, in einem 5 cm langen Abschnitt des Wellenleiters, durchgeführt. Die erhaltene Lichtintensität wurde gegen die Länge des Wellenleiters aufgetragen und der Verlustwert wurde aus der Steigung davon errechnet. Der Fall, in dem der erhaltene Verlustwert 0,5 dB/cm war, oder weniger, wurde durch „0" bezeichnet, und der Fall, in welchem er höher als 0,5 dB/cm war, wurde durch „X" bezeichnet.
Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Die in Tabelle 1 vorgestellten Komponenten sind wie folgt.

V779: Neopol V779 (hergestellt von Nippon Yupika K. K.) (Verbindungsname: Tetrabromobisphenol A Epoxyacrylat)
V779MA: Neopol V779MA (hergestellt von Nippon Yupika K. K.) (Verbindungsname: Tetrabromobisphenol A Epoxydimethacrylat)
PEA: New Frontier PHE (hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku K. K.) (Verbindungsname: Phenoxyethylacrylat)
PEMA: Light Ester PO (hergestellt von Kyoeisha Kagaku K. K.) (Verbindungsname: Phenoxyethylmethacrylat)
BR-31: New Frontier BR-31 (hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku K. K.) (Verbindungsname: Tribromophenoxyethylacrylat)
IRG184: Irgacure 184 (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) (Verbindungsname: 1-Hydroxy-cyclohexylphenylketon)
IRG651: Irgacure 651 (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) (Verbindungsname: 2,2-Dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-on)
IRG369: Irgacure 369 (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) (Verbindungsname: 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanon-1)
IRG907: Irgacure 907 (hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) (Verbindungsname: 2-Methyl-1[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-on)
M315: Aronix M315 (hergestellt von Toa Gosei K. K.) (Verbindungsname: Tris(2-acryloyloxyethyl)isocyanurat)
DPHA: (hergestellt von Nippon Kayaku K. K.) (Verbindungsname: Dipentaerythritolhexaacrylat)
IBXA: (hergestellt von Osaka Yuki Kagaku K. K.) (Verbindungsname: Isobornylacrylat)
IBXMA: (hergestellt von Osaka Yuki Kagaku K. K.) (Verbindungsname: Isobornylmethacrylat)
ACMO: (Kohjin K. K.) (Verbindungsname: Acryloylmorpholin)
SA1002: Mitsubishi Kagaku K. K. (Verbindungsname: Tricyclodecandimethanoldiacrylat).

Aus Tabelle 1 ist es klar, dass die Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung (Beispiele 1 bis 6) eine sehr gute Musterungseigenschaft aufweist, wenn ein gehärtetes Produkt gebildet wird, und dass ein sehr guten Brechungsindex, Wärmebeständigkeit und Übertragungseigenschaft (niedriger Wellenleiterverlust) gezeigt wird, wenn ein optischer Wellenleiter gebildet wird.
Andererseits, da in Vergleichsbeispiel 1 die Komponente (A) nicht vorhanden ist, ist die Wärmebeständigkeit schlecht. Da in Vergleichsbeispiel 2 die Komponente (B) nicht vorhanden ist, ist die Musterungsfähigkeit schlecht. Da in Vergleichsbeispiel 3 die Komponenten (A) und (B) nicht vorhanden sind, sind die Musterungseigenschaft und Übertragungseigenschaft schlecht.

Claims

Photoempfindliche Harzzusammensetzung zur Bildung optischer Wellenleiter, enthaltend: (A) ein Di(meth)acrylat mit der durch die folgende allgemeine Formel (1) wiedergegebenen Struktur:
(wobei R¹ -(OCH₂CH₂)_m-, -(OCH(CH₃)CH₂)_m-, oder -OCH₂CH(OH)CH₂- ist; X-C(CH₃)₂-, -CH₂-, -O- oder -SO₂- ist; Y ein Wasserstoffatom oder ein Halogenatom ist; m eine ganze Zahl von 0 bis 4 ist); (B) ein Mono(meth)acrylat mit der durch die folgende allgemeine Formel (2) wiedergegebenen Struktur:
(wobei R² -(OCH₂CH₂)_p-, -(OCH(CH₃)CH₂)-, oder -OCH₂CH(OH)CH₂- ist; Y ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, Ph-C(CH₃)₂-, Ph-, oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist; p eine ganze Zahl von 0 bis 4 ist; Ph eine Phenylgruppe ist); (C) einen photoradikalischen Polymerisationsstarter; und (D) Tris(2-acryloyloxyethyl)isocyanurat.
Photoempfindliche Harzzusammensetzung zur Bildung optischer Wellenleiter nach Anspruch 1, wobei das Gewichtsverhältnis (A/B) der Komponente (A) zu der Komponente (B) 0,3 bis 5,0 ist.
Photoempfindliche Harzzusammensetzung zur Bildung optischer Wellenleiter nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Gesamtmenge der Komponente (A) und der Komponente (B) in der Harzzusammensetzung 30 Gew.% oder höher ist.
Photoempfindliche Harzzusammensetzung zur Bildung optischer Wellenleiter nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Brechungsindex des gehärteten Produkts der Harzzusammensetzung bei 25°C und 824 nm 1,54 oder höher ist.
Photoempfindliche Harzzusammensetzung zur Bildung optischer Wellenleiter nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Glasübergangstemperatur (Tg) des gehärteten Produkts der Harzzusammensetzung 80°C oder höher ist.
Optischer Wellenleiter, enthaltend eine Kernschicht und eine durch Laminierung auf der Kernschicht gebildete Mantelschicht, wobei die Kernschicht und/oder die Mantelschicht aus dem gehärteten Produkt der Harzzusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5 zusammengesetzt ist.
Verfahren zur Herstellung eines optischen Wellenleiters, enthaltend einen Schritt der Bestrahlung der Harzzusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5 mit Strahlung mittels einer Photomaske und Härten der Harzzusammensetzung.