JP4544370B2 - 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜及びマイクロレンズ、並びにそれらの製造方法 - Google Patents
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[A]アルカリ可溶性樹脂、
[B]1,2−キノンジアジド化合物、及び
[C]分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有し、かつトリメチロールプロパン若しくはペンタエリスリトールに由来する骨格、又はイソシアヌレート骨格を有する化合物を含み、
[A]成分のアルカリ可溶性樹脂が、(a1)不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、並びに(a2)エポキシ基含有不飽和化合物を含む不飽和化合物の共重合体であり、
(a2)エポキシ基含有不飽和化合物が、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル又は3,4−エポキシシクロヘキシルメタクリレートである感放射線性樹脂組成物によって達成される。
(1)この感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
(2)工程(1)で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)工程(2)で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)工程(3)で現像された塗膜を加熱する工程。
本発明における[A]アルカリ可溶性樹脂としては、当該成分を含む感放射線性樹脂組成物の現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を有するものであれば、特に限定されるものではない。このようなアルカリ可溶性樹脂としては、(a1)不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、及びこれと共重合可能な他の不飽和化合物の共重合体が好ましく、(a1)不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、並びに(a2)エポキシ基含有不飽和化合物を含む不飽和化合物の共重合体がさらに好ましい(以下、化合物(a1)及び化合物(a2)を含む不飽和化合物の共重合体を「共重合体[A]」と称する)。共重合体[A]は、溶媒中で重合開始剤の存在下、化合物(a1)及び化合物(a2)を含む不飽和化合物をラジカル重合することによって製造することができる。また、共重合体[A]の製造においては、化合物(a1)及び化合物(a2)と共に、化合物(a3)として上記(a1)及び(a2)以外の不飽和化合物をラジカル重合してもよい。共重合体[A]は、化合物(a1)から誘導される構成単位を、化合物(a1)及び(a2)(及び任意の化合物(a3))から誘導される構成単位の合計に基づいて、好ましくは5〜40質量%、特に好ましくは5〜25質量%含有している。共重合体[A]における化合物(a1)から誘導される構成単位を5質量%以上とすることによって、現像工程時にアルカリ水溶液に対する十分な溶解性が得られる。一方、共重合体[A]におけるこの構成単位を40質量%以下とすることによって、アルカリ水溶液に対する溶解性が過剰に大きくなるのを抑制することができる。
本発明で用いられる[B]成分は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する1,2−キノンジアジド化合物である。1,2−キノンジアジド化合物として、フェノール性化合物又はアルコール性化合物(以下、「母核」という。)と、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドの縮合物を用いることができる。
本発明で用いられる[C]成分は、分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有し、かつトリメチロールプロパン若しくはペンタエリスリトールに由来する骨格、又はイソシアヌレート骨格を有する化合物である。このような骨格を有するエチレン性不飽和結合含有化合物を用いることによって、そのような骨格を有しないエチレン性不飽和結合含有化合物を用いる場合と比較して、感放射線性樹脂組成物の感光特性を格段に向上させることができる。
本発明による感放射線性樹脂組成物は、上記[A]、[B]及び[C]成分を含有するが、必要に応じて、[D]分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有し、かつ、トリメチロールプロパン若しくはペンタエリスリトール以外の化合物に由来すると共にイソシアヌレート骨格以外である骨格を有する(すなわち[C]成分として規定された骨格以外の骨格を有する)化合物;[E]感熱性酸生成化合物;[F]上記[A]成分以外のエポキシ樹脂;[G]界面活性剤;あるいは[H]接着助剤を含有することができる。
本発明による感放射線性樹脂組成物は、上記[A]、[B]及び[C]成分と、所望により任意成分である[D]〜[H]成分とを均一に混合することによって調製される。感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解され、溶液状態で用いられる。感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、[A]、[B]、[C]成分、及び任意成分である[D]〜[H]成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、[A]成分のアルカリ可溶性樹脂を製造するために使用できる溶媒の例示として上で列挙したものと同様のものを挙げることができる。
次に、本発明による感放射線性樹脂組成物を用いて、層間絶縁膜、マイクロレンズを形成する方法について述べる。本発明の層間絶縁膜又はマイクロレンズの形成方法は、以下の工程を以下の記載順で含む:
(1)本発明の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
(2)工程(1)で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)工程(2)で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)工程(3)で現像された塗膜を加熱する工程。
本工程においては、本発明の感放射線性樹脂組成物から形成された溶液を基板表面に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶剤を除去して、感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。使用できる基板の種類としては、例えばガラス基板、シリコンウエハー及びこれらの表面に各種金属が形成された基板を挙げることができる。
本工程においては、所定のパターンを有するマスクを介して、工程(1)で形成された塗膜に放射線を照射する。このとき用いられる放射線の例としては、紫外線、遠紫外線、X線、荷電粒子線等が挙げられる。紫外線の例としてはg線(波長436nm)、i線(波長365nm)等が挙げられる。遠紫外線の例としてはKrFエキシマレーザー等が挙げられる。X線の例としてはシンクロトロン放射線等が挙げられる。荷電粒子線の例としては電子線等を挙げることができる。これらの放射線の中でも、紫外線が好ましく、g線及び/又はi線を含む放射線が特に好ましい。露光量は、層間絶縁膜を形成する場合にあっては50〜1,500J/m2、マイクロレンズを形成する場合にあっては50〜2,000J/m2とすることが好ましい。
本工程においては、工程(2)で放射線を照射された塗膜に対し、現像液を用いて現像処理して放射線の照射部分を除去することによりパターニングを行う。現像処理に用いられる現像液の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、n−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−n−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕−5−ノナン等のアルカリ(塩基性化合物)の水溶液を挙げることができる。また、このようなアルカリの水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液、又は、本発明による組成物を溶解する各種有機溶媒を現像液として使用することもできる。さらに、現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の方法を適宜行うことができる。現像時間は、用いる組成物の組成によって異なるが、例えば30〜120秒間とすることができる。
本工程においては、工程(3)で現像された塗膜を加熱し乾燥させる。すなわち、(3)の現像工程後に、パターニングされた薄膜に対して、好ましくは流水洗浄などによるリンス処理を行い、さらに、好ましくは高圧水銀灯などによる放射線の全面照射(後露光工程)を行うことにより、当該薄膜中に残存する1,2−キノンジアジド化合物を分解処理する。その後、この薄膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱処理(ポストベーク処理)することにより、当該薄膜の硬化処理を行う。上記の後露光工程における露光量は、好ましくは2,000〜5,000J/m2程度である。また、この硬化処理における加熱温度は、例えば120〜250℃である。加熱時間は、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレート上で加熱処理を行う場合には5〜30分間、オーブン中で加熱処理を行う場合には30〜90分間とすることができる。この際に、2回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)7質量部とジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部とを仕込んだ。引き続き、メタクリル酸16質量部、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルメタクリレート16質量部、2−メチルシクロヘキシルアクリレート20質量部、メタクリル酸グリシジル40質量部、スチレン10質量部及びα−メチルスチレンダイマー3質量部を仕込んで窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度を4時間保持することによって共重合体[A−1]を含む重合体溶液を得た。共重合体[A−1]のポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は8,000、分子量分布(Mw/Mn)は2.3であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は34.4質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)8質量部とジエチレングリコールエチルメチルエーテル220質量部とを仕込んだ。引き続き、メタクリル酸11質量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート12質量部、メタクリル酸グリシジル40質量部、N−シクロヘキシルマレイミド15質量部、ラウリルメタクリレート10質量部、α−メチル−p−ヒドロキシスチレン10質量部、及びα−メチルスチレンダイマー3質量部を仕込んで窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持することによって共重合体[A−2]を含む重合体溶液を得た。共重合体[A−2]のポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は8,000、分子量分布(Mw/Mn)は2.3であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は31.9質量%であった。
[感放射線性樹脂組成物の調製]
[A]成分として上記合成例1で合成した共重合体[A−1]を含有する溶液を、共重合体[A−1]100質量部(固形分)に相当する量、[B]成分として4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール(1.0モル)と1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド(2.0モル)の縮合物[B−1]30質量部、及び[C]成分として[C−1]5質量部(固形分)を混合し、固形分濃度が30質量%となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、口径0.2μmのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性樹脂組成物の溶液(S−1)を調製した。
[感放射線性樹脂組成物の調製]
[A]〜[C]成分、並びに、任意成分としての[D]、[H]成分として、表1に記載のとおりの種類、量を使用した他は、実施例1と同様にして感放射線性樹脂組成物の溶液(S−2)〜(S−4)、(S−6)〜(S−21)及び(s−1)〜(s−8)を調製した。なお、実施例2、13では、カルボキシル基を有する[C]の化合物とカルボキシル基を有しない[C]の化合物を併用した。また、実施例3、4、14、15では、[C]の化合物に加えて、[D]の化合物を用いた。
[感放射線性樹脂組成物の調製]
実施例1において、固形分濃度が20質量%になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテル/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート=6/4に溶解したことと、[G]成分としてシリコーン系界面活性剤を添加したこと以外は実施例1と同様にして感放射線性樹脂組成物の溶液(S−5)を調製した。実施例1〜21及び比較例1〜8において配合した各成分及びそれらの割合を表1に示す。
[C−1]:コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート
[C−2]:トリメチロールプロパントリアクリレート
[C−3]:ペンタエリスリトールトリアクリレート
[C−4]:ペンタエリスリトールジアクリレート
[C−5]:トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
[D−1]:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
[D−2]:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
[D−3]:ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート
[G]:シリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製の「SH−28PA」)
[H]:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ(株)製の「S−510」)
<層間絶縁膜の物性評価>
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のように層間絶縁膜としての各種の物性を評価した。
実施例22〜25、27〜42及び比較例9〜16については、表2に記載された各々の組成物の溶液を、スピンナーを用いてシリコン基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。実施例26については、スリットダイコーターにより、シリコン基板上に組成物の溶液(S−5)の塗布を行い、0.5Torrにて真空乾燥を行った後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、露光時間を変化させて、所定のパターンを有するパターンマスクを介して塗膜に露光を行った。次いで、表2に記載された濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(現像液)を用い、液盛り法によって25℃で現像処理を行った。現像処理の時間は、0.4質量%の濃度の現像液を用いた場合は80秒、2.38質量%の濃度の現像液を用いた場合は50秒間、0.28質量%の濃度の現像液を用いた場合は50秒とした。現像処理後、超純水で1分間、塗膜の流水洗浄を行い、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。このような露光及び現像処理において、3.0μmのライン・アンド・スペース(10対1)のスペース・パターンが完全に溶解するために必要な露光量を測定した。各組成物におけるこの値を感度〔J/m2〕として表2に示した。この値が620J/m2以下の場合に感度が良好であると判断される。
実施例22〜25、27〜42及び比較例9〜16については、表2に記載された各々の組成物の溶液を、スピンナーを用いてシリコン基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。実施例26については、スリットダイコーターにより、シリコン基板上に組成物の溶液(S−5)の塗布を行い、0.5Torrにて真空乾燥を行った後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、3.0μmのライン・アンド・スペース(10対1)のパターンを有するマスクを介して、上記[感度の評価]にて測定した感度の値に相当する露光量で、塗膜に対して露光を行った。次に、表2に記載された濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(現像液)を用い、液盛り法によって25℃で塗膜の現像処理を行った。現像処理後、超純水で1分間、塗膜の流水洗浄を行い、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。ここで、ライン線幅が3.0μmとなるのに必要な現像時間を最適現像時間〔秒〕として、表2に示した。また、最適現像時間からさらに現像を続けた際に3.0μmのライン・パターンが剥がれるまでの時間を測定し、現像マージン〔秒〕として表2に示した。この値が35秒以上のとき、現像マージンは良好であると判断される。
実施例22〜25、27〜42及び比較例9〜16については、表2に記載された各々の組成物の溶液を、スピンナーを用いてシリコン基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。実施例26については、スリットダイコーターにより、シリコン基板上に組成物の溶液(S−5)の塗布を行い、0.5Torrにて真空乾燥を行った後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、積算照射量が3,000J/m2となるように塗膜に対して露光を行い、このシリコン基板をクリーンオーブン内にて220℃で1時間加熱して硬化膜を得た。ここで、得られた硬化膜の膜厚(T1)を測定した。次いで、この硬化膜が形成されたシリコン基板を、70℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に20分間浸漬させた後、硬化膜の膜厚(t1)を測定し、浸漬による膜厚変化率{|t1−T1|/T1}×100〔%〕を算出した。膜厚変化率の算出結果を表2に示す。この値が5%以下のとき、耐溶剤性は良好と判断される。なお、耐溶剤性の評価においては、形成する膜のパターニングは不要のため、現像工程は省略し、放射線照射工程、塗膜形成工程、及び加熱工程のみを行い評価に供した。
上記の耐溶剤性評価の場合と同様にして硬化膜を形成し、得られた硬化膜の膜厚(T2)を測定した。次いで、このシリコン基板をクリーンオーブン内にて240℃で1時間追加ベークした後、当該硬化膜の膜厚(t2)を測定し、追加ベークによる膜厚変化率{|t2−T2|/T2}×100〔%〕を算出した。膜厚変化率の算出結果を表2に示す。この値が5%以下のとき、耐熱性は良好といえる。
上記の耐溶剤性評価において、シリコン基板の代わりにガラス基板「コーニング7059」(コーニング社製)を用いた以外は同様にして、ガラス基板上に硬化膜を形成した。分光光度計「150−20型ダブルビーム」((株)日立製作所製)を用いて、この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率〔%〕を、400〜800nmの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を表2に示す。この最低光線透過率の値が95%以上のとき、透明性は良好と判断される。
上記透明性の評価と同様にガラス基板上に硬化膜を形成し、上記耐熱性の評価と同様にクリーンオーブン内にて240℃で1時間追加ベークを行った。次いで、この基板の透過率を、透明性の評価の場合と同条件で評価した。さらに、透明性の変化率を以下の式で求めた。結果を表2に示す。この変化率が5%以下の時、耐熱透明性は良好といえる。
透明性の変化率(%)=(透明性の評価時の透過率−上記追加ベーク後の透過率)/透明性の評価時の透過率×100
実施例22〜25、27〜42及び比較例9〜16については、スピンナーを用いて、表2に記載された各々の組成物の溶液を、研磨したSUS304製基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。実施例26については、スリットダイコーターにより、シリコン基板上に組成物の溶液(S−5)の塗布を行い、0.5Torrにて真空乾燥を行った後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、積算照射量が3,000J/m2となるように塗膜に対して露光を行い、このシリコン基板をクリーンオーブン内にて220℃で1時間加熱して、膜厚3.0μmの硬化膜を得た。蒸着法により、この硬化膜についてのPt/Pd電極パターンを作成し、比誘電率測定用サンプルとした。横河・ヒューレットパッカード(株)製HP16451B電極及びHP4284AプレシジョンLCRメーターを用いて、周波数10kHzの周波数で、CV法により基板の比誘電率を測定した。比誘電率の測定結果を表2に示した。この値が3.9以下のとき、低誘電性は良好と判断される。なお、比誘電率の評価においては、形成する膜のパターニングは不要のため、現像工程は省略し、放射線照射工程、塗膜形成工程及び加熱工程のみを行い評価に供した。
<マイクロレンズの物性評価>
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のようにマイクロレンズとしての各種の物性を評価した。なお、これらの実施例及び比較例の耐溶剤性、耐熱性及び透明性の評価は、対応する感放射線性樹脂組成物を用いた上述の層間絶縁膜の物性評価における結果と同様である。
実施例43〜62及び比較例17〜24について、表3に記載された各々の組成物の溶液を、スピンナーを用いてシリコン基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚2.0μmの塗膜を形成した。ニコン(株)製NSR1755i7A縮小投影露光機(NA=0.50、λ=365nm)を用い、露光時間を変化させて、所定のパターンを有するパターンマスクを介して塗膜に露光を行った。次いで、表3に記載された濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(現像液)を用い、液盛り法によって25℃、1分間現像処理を行った。現像処理後、塗膜を水でリンスし、乾燥させてウェハー上にパターンを形成した。このような露光及び現像処理において、0.8μmライン・アンド・スペースパターン(1対1)のスペース線幅が0.8μmとなるのに必要な露光時間を測定した。各組成物におけるこの値を感度〔J/m2〕として、表3に示した。この値が1,200J/m2以下の場合に感度が良好であると判断される。
実施例43〜62及び比較例17〜24について、表3に記載された各々の組成物の溶液を、スピンナーを用いてシリコン基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚2.0μmの塗膜を形成した。ニコン(株)製NSR1755i7A縮小投影露光機(NA=0.50、λ=365nm)を用い、所定のパターンを有するパターンマスクを介して、上記[感度の評価]にて測定した感度の値に相当する露光量で、塗膜に対して露光を行った。次に、表3に記載された濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(現像液)を用い、液盛り法によって25℃で1分間塗膜の現像処理を行った。現像処理後、塗膜を水でリンスし、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。ここで、0.8μmライン・アンド・スペースパターン(1対1)のスペース線幅が0.8μmとなるのに必要な現像時間を、最適現像時間として表3に示した。また、最適現像時間からさらに現像を続けた際に幅0.8μmのパターンが剥がれるまでの時間〔秒〕を測定し、現像マージンとして表3に示した。この値が30秒以上のとき、現像マージンは良好であると判断される。
実施例43〜62及び比較例17〜24について、表3に記載された各々の組成物の溶液を、スピンナーを用いてシリコン基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚2.0μmの塗膜を形成した。ニコン(株)製NSR1755i7A縮小投影露光機(NA=0.50、λ=365nm)を用い、4.0μmドット・2.0μmスペースパターンを有するパターンマスクを介して、上記[感度の評価]にて測定した感度の値に相当する露光量で、塗膜に対して露光を行った。次に、表3に記載された濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(現像液)を用い、液盛り法によって25℃で1分間塗膜の現像処理を行った。現像処理の後、塗膜を水でリンスし、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。表3の感度評価における現像液濃度として記載した濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、25℃、1分間液盛り法で現像処理を行った。現像処理後、塗膜を水でリンスし、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。その後、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、積算照射量が3,000J/m2となるように塗膜に対して露光を行った。次いで、ホットプレートを用いて、160℃で10分間、塗膜を加熱し、さらに230℃で10分間加熱してパターンをメルトフローさせマイクロレンズを形成した。形成されたマイクロレンズの底部(基板に接する面)の寸法(直径)及び断面形状を表3に示す。断面形状は、図1に示されるように、半凸レンズ形状である場合を(a)、略台形状である場合を(b)とする。マイクロレンズ底部の寸法が4.0μmを超え4.6μm未満であるとき、その底部寸法は良好であると判断される。マイクロレンズ底部の寸法が5.0μm以上となると、隣接するレンズ同士が接触する状態であり、好ましくない。また、断面形状は、(a)のような半凸レンズ形状であるときに良好であり、(b)のような略台形状の場合は不良であると判断される。
Claims (8)
- [A]アルカリ可溶性樹脂、
[B]1,2−キノンジアジド化合物、及び
[C]分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有し、かつトリメチロールプロパン若しくはペンタエリスリトールに由来する骨格、又はイソシアヌレート骨格を有する化合物を含み、
[A]成分のアルカリ可溶性樹脂が、(a1)不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、並びに(a2)エポキシ基含有不飽和化合物を含む不飽和化合物の共重合体であり、
(a2)エポキシ基含有不飽和化合物が、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル又は3,4−エポキシシクロヘキシルメタクリレートである感放射線性樹脂組成物。 - [C]成分の化合物が有するエチレン性不飽和結合が、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルのエチレン性不飽和結合である請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 層間絶縁膜形成用である請求項1又は請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- (1)請求項3に記載の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
(2)工程(1)で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)工程(2)で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)工程(3)で現像された塗膜を加熱する工程
を含む層間絶縁膜を形成する方法。 - 請求項4に記載の方法によって形成された層間絶縁膜。
- マイクロレンズ形成用である請求項1又は請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- (1)請求項6に記載の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
(2)工程(1)で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)工程(2)で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)工程(3)で現像された塗膜を加熱する工程
を含むマイクロレンズを形成する方法。 - 請求項7に記載の方法によって形成されたマイクロレンズ。
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