JPH10104823A

JPH10104823A - 水なし平版印刷版原版

Info

Publication number: JPH10104823A
Application number: JP26305596A
Authority: JP
Inventors: Kazuoki Goto; 一起後藤; Mitsuru Suezawa; 満末沢; Norimasa Ikeda; 憲正池田
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1996-10-03
Filing date: 1996-10-03
Publication date: 1998-04-24

Abstract

(57)【要約】【課題】画像再現性、耐刷性および保存安定性に優れ、
高耐刷力の水なし平版印刷版を得る。【解決手段】基板上に少なくとも感光層、シリコーンゴ
ム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版におい
て、該感光層が一般式（Ｉ）で示される構造を少なくと
も一つ有するキノンジアジド化合物と分子量４００以下
のキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする水
なし平版印刷版原版。 −ＳｉＲ_nＸ_3-n （Ｉ）（式中、ｎは０〜３の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版およびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像
してなる水なし平版印刷版に関するものであり、さらに
詳しくは保存安定性に優れ、高感度化された水なし平版
印刷版原版およびこの水なし平版印刷版原版を選択的に
露光現像してなる水なし平版印刷版に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から、シリコーンゴムやフッ素樹脂
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版が種々提案されている。

【０００３】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭５４ー２６９２３号、特公昭５６−２３１５
０号などに基板上に光重合性接着層とインキ反発層であ
るシリコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、
また特公平３−５６６２２号、特開昭６１−１５３６５
５号などに基板上に光二量化型感光層とインキ反発層で
あるシリコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版
が提案されている。

【０００４】また、ネガ型感光性平版印刷版としては、
特公昭６１−６１６号、特公昭６１−５４２１８号など
に支持体上にキノンジアジド化合物を含む感光層とその
上に接着層を介してインキ反発層であるシリコーンゴム
層を設けた水なし平版印刷版、特公昭６１−５４２２２
号などに光剥離性感光層上にインキ反発層であるシリコ
ーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提案されてお
り、実用上優れた性能を有するものとして知られてい
る。これらの中でも特に特公昭６１−５４２２２号に
は、支持体上に、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホン酸クロリドとフェノールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂の部分エステル化物を多官能イソシア
ネートで架橋した光剥離性感光層、およびその上にイン
キ反発層としてのシリコーンゴム層を設けたネガ型水な
し平版印刷版が開示されている。

【０００５】また、フッ素樹脂をインキ反発層に用いる
感光性平版印刷版としては、特開平２−２５４４４９
号、特開平２−８５８５５号などに１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，
２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレートや１Ｈ，
１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリ
レートを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする水なし
平版印刷版が開示されている。

【０００６】しかしながら、これらの感光性平版印刷版
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のインキ反発層下の感光層に損傷
が起こり、これがインキ反発層にまで拡大し画像の再現
性が低下するなどの問題が生じる。この結果は印刷版の
耐刷力不足という問題としてあらわれる。

【０００７】これまで上記耐刷力を改良することを目的
として、様々な検討がなされてきた。特開平５−５３３
０６号、特開平５−５３３０７号などでは基板と感光層
の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あるいはポ
リウレタンとシランカップリング剤を含有する柔軟なプ
ライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案されている
が、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られないだ
けでなく、感光層の物性をカバーするだけの十分なプラ
イマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキュア不
足に起因するインキ反発層剥がれや感光層剥がれ、さら
にひどい場合にはプライマ層自体が基板から剥がれると
いった問題があった。

【０００８】インキ反発層を厚くするという手法も試み
られてきたが、それに伴う現像性の低下、さらにはイン
キマイレージの低下が問題となる。

【０００９】特開平１−１５４１５８号、特開平１−１
５４１５９号などはインキ反発層であるシリコーンゴム
層を厚膜化し、それに伴うインキマイレージの低下をイ
ンキ着肉性物質の埋め込みなどによるセル深度の調整で
カバーしようとするものであるが、現像性の低下は依然
として存在し、またインキ着肉性物質の埋め込みなどと
いう新たな行程が加わったことにより実用上扱いにくい
という問題を有する。特開平１−１６１２４２号では、
インキ着肉層（感光層）を最上層に有する版を画像露光
し現像した後、インキ反発層（シリコーンゴム層）を塗
布し、その後さらに現像することで得られる厚膜のシリ
コーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、この手法で得られた版は画線部のイ
ンキ着肉性が悪いという問題を有しているばかりでな
く、感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版に
つき２回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。

【００１０】インキ反発層であるシリコーンゴム層の物
性を向上させる検討もなされている。フィラーの添加や
ポリジメチルシロキサンの高分子量化、また、特開平２
−３２３４９号ではインキ反発性物質の硬化物をふくむ
微多孔質層を有する水なし平版印刷版、特開平２−８８
４７号ではポリオルガノシロキサンを枝にもつグラフト
ポリマをシリコーンゴム層に含有する水なし平版印刷版
が提案されている。しかしながら、これらはいずれも耐
傷性の向上こそなされてはいるが、耐刷性の向上は不十
分であった。そればかりか、シリコーンゴム層が本来備
えていなければならないインキ反発性を低下させるとい
う問題を有していた。

【００１１】特開昭６３−２１３８４８号、特開昭６３
−２１３８４９には感光層にアクリル酸誘導体共重合体
を含有させたものが記載されているが、アクリル酸誘導
体共重合体を感光層中に５０ｗｔ％以上含有させると画
像再現性やインキ反発層であるシリコーンゴム層との接
着性を損なうという問題があり、また５０ｗｔ％以下で
は耐刷力が不十分となるという問題を有していた。

【００１２】また、特開平３−２０７４１号には感光層
にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分子化
合物を含有させたもの、特開平３−６８９４６号には感
光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘導体共重
合体を含有させたものが記載され、水系現像液で現像可
能で耐刷力の優れた版が得られるとされている。しかし
ながら、これらの版はプレートクリーナー等の版洗浄溶
剤やＵＶインキ等に対する感光層の耐溶剤性が不十分で
あるため、画線部が印刷中に破壊されるだけでなく、非
画線部の感光層が溶剤に侵されることによる耐刷性の低
下という問題を有していた。

【００１３】特願平６−１５６２０６のように感光層中
のバインダポリマを増量する事によって、あるいは特願
平６−１８３７５７号、特願平６−１８３７５８号のよ
うに感光層中の感光剤自体を柔軟化することによって、
感光層を柔軟化する事により、現像性、画像再現性を維
持したまま、耐刷性を飛躍的に向上させることもなされ
ている。しかしながら、版性能が経時変化しやすく保存
安定性が悪いという問題が残っていた。

【００１４】この問題に対しては、特願平７−９２８２
３号、特願平７−１０６５６５号、特願平７−１０６５
６６で明らかにされているように、分子中にシリル基を
有するキノンジアジド化合物を含有させることで改良が
はかられたが、性能的には未だ不十分であり、また感度
が低いという問題も残っていた。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、感光層
に特定の構造を有するキノンジアジド化合物と、低分子
量のキノンジアジド化合物を含有させることによって、
耐刷性などの性能を低下させることなく、保存安定性の
改良された高感度の水なし平版印刷版原版を提供するこ
とにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
以下の水なし平版によって達成される。すなわち、支持
体上に少なくとも感光層およびシリコーンゴム層をこの
順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感
光層が少なくともａ．下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ
有するキノンジアジド化合物ｂ．分子量４００以下のキノンジアジド化合物とを含有することを特徴とする水なし平版印刷版原版。

【００１７】 −ＳｉＲ_nＸ_3-n （Ｉ）（式中、ｎは０〜３の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。）

【００１８】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の構成について、
さらに具体的に説明する。

【００１９】本発明の特徴とするところは、支持体上に
少なくとも感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積
層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層が
少なくとも下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくと
も一つ有するキノンジアジド化合物（シリル基含有キノ
ンジアジド化合物）、と分子量４００以下のキノンジア
ジド化合物（低分子キノンジアジド化合物）とを含有す
ることにある。

【００２０】 −ＳｉＲ_nＸ_3-n （Ｉ）（式中、ｎは０〜３の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。官能基としては、水素原子、水
酸基アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトオキシム
基、アミド基、アミノオキシ基、アミノ基、アルケニル
オキシ基などが挙げられる。）特願平６−１５６２０６のように、感光層中のバインダ
ポリマを増量し柔軟化する事によって、現像性、画像再
現性を維持したまま、耐刷性を飛躍的に向上させること
が出来るが、バインダポリマを増量したために、その分
キノンジアジド化合物が減少し、したがって水酸基が減
少したことにより、感光層とシリコーンゴム層の間の接
着力（ＳＫ接着力）が減少してしまう。シリコーンゴム
層中の架橋剤を増量することによって、ＳＫ接着力の問
題は解消するが、残存する架橋剤のために保存安定性に
問題が生じる。特願平６−１８３７５７号、特願平６−
１８３７５８号では、感光層中の感光剤であるキノンジ
アジド化合物自体を柔軟化することによって感光層を柔
軟化し、耐刷性を飛躍的に向上させたが、ＳＫ接着力の
発現が不安定である。安定なＳＫ接着力を得るために
は、シリコーンゴム層中架橋剤の増量が必要であるが、
残存する架橋剤のために保存安定性に問題が生じる。

【００２１】特願平７−９２８２３号、特願平７−１０
６５６５号、特願平７−１０６５６６では、分子中にシ
リル基を有するキノンジアジド化合物（シリル基含有キ
ノンジアジド化合物）を含有させることで、安定にＳＫ
接着力を発現、向上させることが出来るようになった。
その結果、シリコーンゴム層中の架橋剤を増量する必要
もなくなり保存安定性の問題も改善された。しかしなが
ら、基本的にＳＫ接着力が高くなるため、逆に感度が低
くなるという問題が生じる。

【００２２】本発明により、分子量４００以下の低分子
のキノンジアジド化合物（低分子キノンジアジド化合
物）を感光層中に含有することにより、露光部の感光層
表面の溶解性、耐溶剤性の変化を大きくすることが出来
るため感度が高くなる。

【００２３】本発明の特徴は、感光層中にシリル基含有
キノンジアジド化合物を含有すると同時に、分子量４０
０以下のキノンジアジド化合物を含有することである。
特開平５−３３３５３５号公報のように、シリル基を有
する化合物を感光層中に含有するだけでは、感光層中の
大部分を占めるキノンジアジド化合物の剛直な構造のた
めに感光層は非常に脆いものとなる。そのため、印刷時
にシリコーンゴム層と感光層の界面に加わる応力により
シリコーンゴム層が感光層から剥離すること以外に、感
光層自体にクラックが発生し、それに由来するシリコー
ンゴム層の欠落という問題、ひどい場合には感光層とシ
リコーンゴム層が欠落するという問題が発生する。本発
明においては、分子量４００以下の低分子キノンジアジ
ド化合物が感光層中で可塑剤的な働きをし、感光層自体
を可塑化するため、上記のような問題も解決できる。

【００２４】分子量が４００より大きい場合は、露光部
の感光層表面の溶解性、耐溶剤性の変化を大きくする能
力が不十分であり、また感光層中における可塑剤的な働
きも小さくなるため、上述のような効果が得られない。

【００２５】分子量４００以下のキノンジアジド化合物
としては、ベンゾキノンジアジド、ベンゾキノンジアジ
ドスルホン酸およびその誘導体で分子量４００以下のも
の、ナフトキノンジアジド、ナフトキノンジアジドスル
ホン酸およびその誘導体で分子量４００以下のもの、ナ
フトキノンジアジドジスルホン酸誘導体で分子量４００
以下のものなどが挙げられる。

【００２６】具体的には、１，２−ベンゾキノン−２−
ジアジドー４−スルホン酸およびその誘導体で分子量４
００以下のもの、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸およびその誘導体で分子量４００以下
のもの、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルホン酸およびその誘導体で分子量４００以下のもの、
１，２−ナフトキノン−２−ジアジドジスルホン酸誘導
体で分子量４００以下のものなどが挙げられる。

【００２７】さらに具体的には、１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド、
およびフェノール、カテコール、グアヤコール、クレゾ
ール、キシレノール、ナフトールなどの低分子フェノー
ル類の１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−およ
び／または−５−スルホン酸エステル、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、
ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキ
サノール、アリルアルコール等の低分子アルコール類の
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−および／ま
たは−５−スルホン酸エステル、メチルエチルケトオキ
シムなどの低分子オキシム化合物の１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジド−４−および／または−５−オキシム
スルホネート、アニリンやアミン等の１，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−４−および／または−５−スルホ
ン酸アミド等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。

【００２８】上記化合物の中では、感光層の溶解性、耐
溶剤性の変化および可塑剤的な働きの観点から、分子量
は３５０以下のものがより好ましい。

【００２９】具体的には１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−および／または−５−スルホン酸クロリ
ド、フェノールの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−および／または−５−スルホン酸エステルが好ま
しい化合物と言える。

【００３０】これら低分子キノンジアジド化合物は感光
層中に１種もしくは２種以上、用いても良い。

【００３１】また、これら化合物の感光層中に占める割
合としては、０．１重量％以上３０重量％以下が好まし
く、より好ましくは０．３重量％以上１０重量％以下、
さらに好ましくは０．５重量％以上５重量％以下であ
る。感光層中に占める割合が少なすぎると露光部の感光
層表面の溶解性、耐溶剤性の変化を大きくする能力や感
光層中における可塑剤的な効果が現れなくなり、逆に多
すぎると感光層自体の耐溶剤性や物性に問題が生じるよ
うになる。

【００３２】シリル基含有キノンジアジド化合物の調製
方法としては（１）公知のシリル基含有化合物を公知のキノンジアジ
ド化合物と反応させる方法（２）上記のようにして得られたシリル基含有キノンジ
アジド化合物とフェノール性水酸基を含有する化合物、
例えばノボラック樹脂等を反応させる方法（３）公知のシリル基含有化合物を水酸基等を有する化
合物と反応させた後、公知のキノンジアジド化合物をさ
らに反応させる方法（４）上記いずれかの方法で得られたシリル基含有キノ
ンジアジド化合物を変性させる方法等が挙げられる。

【００３３】上記方法のなかでは公知のシリル基含有化
合物を公知のキノンジアジド化合物と反応させる方法が
好ましい。

【００３４】一般式（Ｉ）で示される構造の具体例とし
ては、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキ
シムシリル基、トリアルキルシロキシ基、トリフェニル
シロキシ基等がある。これらの中ではアルコキシシリル
基、アセトキシシリル基、オキシムシリル基が好まし
い。

【００３５】アルコキシシリル基の具体例としては、ト
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
エトキシシリル基、ビニルジメトキシシリル基、アリル
ジメトキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、3 ー
メタクリロキシプロピルジメトキシシリル基、3 ーメタ
クリロキシプロピルジエトキシシリル基、ジメチルエト
キシシリル基、ジビニルメトキシシリル基、ジビニルエ
トキシシリル基、ジアリルメトキシシリル基、ジアリル
エトキシシリル基、3 ーメタクリロキシプロピルメチル
メトキシシリル基、3 ーメタクリロキシプロピルメチル
エトキシシリル基など。

【００３６】アセトキシシリル基の具体例としては、ト
リアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリル基、
エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセトキシシ
リル基、ジエチルアセトキシシリル基など。

【００３７】オキシムシリル基の具体例としては、トリ
ケトオキシムシリル基、メチルジケトオキシムシリル
基、エチルケトオキシムシリル基などが挙げられる。

【００３８】上記一般式（Ｉ）で示される構造をキノン
ジアジド化合物に導入するためのシリル基含有化合物と
しては、公知のアルコキシシラン、アセトキシシラン、
オキシムシラン、アミノシラン、アミドシラン等が挙げ
られる。

【００３９】これらシリル基含有化合物の中では反応性
基含有シリル化合物が好ましい。反応性アルキル基含有
シリル化合物としては、クロロアルキルシリル化合物、
エポキシアルキルシリル化合物、アミノアルキルシリル
化合物、メルカプトアルキルシリル化合物、イソシアネ
ートアルキルシリル化合物、メタアクリロキシアルキル
シリル化合物、アクリロキシアルキルシリル化合物、ビ
ニルエステルシリル化合物、アルケニルシリル化合物等
が挙げられる。

【００４０】これらの中では、エポキシアルキルシリル
化合物とイソシアネートアルキルシリル化合物が好まし
く、さらにはイソシアネートアルキルシリル化合物がよ
り好ましい。

【００４１】イソシアネートアルキルシリル化合物の具
体例としては、３−イソシアネートプロピルトリエトキ
シシラン、３−イソシナネートプロピルジメチルクロロ
シラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラ
ンなどが挙げられる。

【００４２】これらシリル基含有化合物をキノンジアジ
ド化合物と反応させることによって、シリル基含有キノ
ンジアジド化合物を得ることが出来る。

【００４３】シリル基含有化合物を反応させるキノンジ
アジド化合物としては、ベンゾキノンジアジドスルホン
酸およびその誘導体、ナフトキノンジアジドスルホン酸
およびその誘導体、ナフトキノンジアジドジスルホン酸
誘導体等が挙げられるがこれらに限定されるものではな
く、またこれらの中ではナフトキノンジアジドスルホン
酸誘導体が好ましい。

【００４４】具体的には、フェノールホルムアルデヒド
ノボラック樹脂（フェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノ
ール、カルダノール、クレゾール、キシレノール、カテ
コールおよびピロガロールなどのフェノール類とホルム
アルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮合させて得られる
樹脂）、レゾール樹脂（例えば、上記フェノール類とホ
ルムアルデヒド類とをアルカリ触媒存在下に縮合させて
得られる樹脂）、レゾルシンベンズアルデヒド縮合樹
脂、ピロガロールアセトン樹脂、ヒドロキシスチレンの
重合体および共重合体などの１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−４−および／または−５−スルホン酸エス
テルを挙げることが出来る。

【００４５】これらの中では、フェノールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂、レゾール樹脂などが好ましく、特
にフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂が好まし
い。

【００４６】このフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂の１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルホン酸エステルに、シリル基含有化合物として好まし
くは反応性アルキル基含有シリル化合物、より好ましく
はイソシアネートアルキルシリル化合物を反応させて得
られる化合物は好ましいシリル基含有キノンジアジド化
合物となる。

【００４７】また、シリル基としては、脱オキシム型、
脱アルコキシ型、脱アセトキシ型が好ましく、より好ま
しくは脱アルコキシ型であるため、先のフェノールホル
ムアルデヒドノボラック樹脂の１，２−ナフトキノン−
２−ジアジド−５−スルホン酸エステルに、シリル基含
有化合物としてイソシアネートアルキルアルコキシシリ
ル化合物を反応させて得られる化合物はより好ましいシ
リル基含有キノンジアジド化合物となる。

【００４８】以上述べたようなシリル基を有するキノン
ジアジド化合物は単独で用いても良いし、シリル基を有
する他のキノンジアジド化合物と混合して用いても良
い。

【００４９】さらに、これらシリル基含有キノンジアジ
ド化合物の感光層中に占める割合としては、１重量％以
上５０重量％以下が好ましく、より好ましくは５重量％
以上４５重量％以下、さらに好ましくは１０重量％以上
３０重量％以下である。感光層中に占める割合が少なす
ぎるとＳＫ接着力を安定に発現させる能力が不十分にな
り、逆に多すぎるとＳＫ接着力が高くなり過ぎ、感度が
低くなりすぎたり、保存安定性が悪くなるという問題が
生じる。

【００５０】本発明においては、上述のような分子量４
００以下の低分子キノンジアジド化合物とシリル基含有
キノンジアジド化合物を必須成分とするが、版の画像再
現性を損なわない範囲、あるいは向上させる目的で、公
知のキノンジアジド化合物を別途添加してもよい。

【００５１】すなわち、分子量が４００より大きく、か
つシリル基を有しない公知のキノンジアジド化合物とし
ては、上述のようなフェノールホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂、レゾール樹脂、レゾルシンベンズアルデヒド
縮合樹脂、ピロガロールアセトン樹脂、ヒドロキシスチ
レンの重合体および共重合体などの１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジド−４−および／または−５−スルホン
酸エステルを挙げることが出来る。

【００５２】これらの中では、フェノールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂、レゾール樹脂の１，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステルなどが好
ましく、特にフェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂の１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホ
ン酸エステルが好ましい。

【００５３】さらに、水酸基の１５〜６０％がエステル
化されたフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸
エステルはより好ましい。

【００５４】該感光層の露光後の引張特性については、
初期弾性率が５ｋｇｆ／ｍｍ²以上７５ｋｇｆ／ｍｍ²
未満、好ましくは５ｋｇｆ／ｍｍ²以上５０ｋｇｆ／ｍ
ｍ²未満、さらに好ましくは５ｋｇｆ／ｍｍ²以上４０
ｋｇｆ／ｍｍ²未満にすることが重要である。上記弾性
率が５ｋｇｆ／ｍｍ²未満の場合は感光層がベタつき、
印刷時にヒッキーの原因になる。逆に、７５ｋｇｆ／ｍ
ｍ²以上の場合は良好な耐刷力が得られない。

【００５５】また、１０％応力値は、０．０５ｋｇｆ／
ｍｍ²以上３．０ｋｇｆ／ｍｍ²未満、好ましくは０．
１ｋｇｆ／ｍｍ²以上２．０ｋｇｆ／ｍｍ²未満、さら
に好ましくは０．１ｋｇｆ／ｍｍ²以上１．５ｋｇｆ／
ｍｍ²未満にすることが重要である。１０％応力値が
０．０５ｋｇｆ／ｍｍ²未満の場合は感光層がベタつき
印刷時にヒッキーの原因になる。逆に、１０％応力値が
３．０ｋｇｆ／ｍｍ²をこえる場合には、オフセット印
刷時に生じる繰り返し応力によって、感光層とシリコー
ンゴム層の接着界面で破壊が起こるため、高耐刷力が得
られない。

【００５６】また、破断伸度は５％以上が好ましく、よ
り好ましくは１０％以上、さらに好ましくは１５％以上
にすることが重要である。破断伸度が５％未満の場合は
感光層が脆くなり、オフセット印刷を行った場合に感光
層が破壊され高耐刷力が得られない。

【００５７】初期弾性率が７５ｋｇｆ／ｍｍ²をこえ、
破断伸度５％未満の場合は、例えば特開平５−３３３５
３５号公報の実施例２０に記載の感光層の露光後の引張
り初期弾性率は８２ｋｇｆ／ｍｍ²、破断伸度４．７％
で硬い感光層であるため、オフセット印刷を行った場合
に感光層とシリコーンゴム層との間で繰り返し応力がか
かり、感光層自体の破壊およびそれに引き続くシリコー
ンゴム層との接着界面での破壊が起こり高耐刷力が得ら
れないためである。

【００５８】感光層の露光後の引張特性は、ＪＩＳＫ
６３０１に従って、特願平７−９２８２３に述べられた
方法で測定することが出来る。

【００５９】本発明における感光層の形態保持の機能を
果たすバインダポリマとしては、有機溶媒可溶でかつフ
ィルム形成能のあるものであればいずれも使用可能であ
るが、好ましくはそのガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以
下のポリマおよびコポリマである。

【００６０】以下にバインダポリマとなり得る代表的な
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定される
ものではない。

【００６１】（１）ビニルポリマ類以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。

【００６２】例えば、エチレン、プロピレン、スチレ
ン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、アクリル酸もしくはメタクリル酸と各種アルコール
類のエステル、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、グリシジルメタクリレート、アクリルニトリ
ル、イソブテン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロール
エタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ（メタ）アクリレート、グリセリンやトリメチロー
ルエタン、トリメチロールプロパン等の多官能アルコー
ルにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加
させた後（メタ）アクリレート化したもの。

【００６３】（２）未加硫ゴム天然ゴム（ＮＲ）や公知の不飽和二重結合含有化合物よ
り選ばれた単独重合体又は共重合体であり、例えば、ポ
リブタジエン（ＢＲ）、スチレンーブタジエン共重合体
（ＳＢＲ）、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリクロロプレ
ン（ＣＲ）、ポリネオプレン、メタクリル酸エステルー
ブタジエン共重合体、アクリル酸エステル−アクリルニ
トリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチレン−イソプレン
共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共
重合体、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰＭ、ＥＰ
ＤＭ）などが挙げられる。

【００６４】（３）ポリオキシド類（ポリエーテル類）トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、スチレンオキシド、テ
トラメチルエチレンオキシド、エピクロルヒドリン、ア
リルグルシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル
などの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバインダ
ポリマとして使用可能である。

【００６５】（４）ポリエステル類以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もまたバインダポリマとして使用可
能である。

【００６６】多価アルコールとしては、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、トリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリ
ット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等。

【００６７】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、フ
マル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメ
リット酸等。

【００６８】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等。

【００６９】（５）ポリウレタン類以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類、これら多価アルコールとポ
リエステルの項で述べた多価カルボン酸の重縮合で得ら
れる両端が水酸基であるような縮合系ポリエステルポリ
オール、上記ラクトン類より得られる重合ポリエステル
ポリオール、ポリカーボネートジオール、プロピレンオ
キシドやテトラヒドロフランの開環重合やエポキシ樹脂
の変性で得られるポリエーテルポリオール、あるいは水
酸基を有するアクリル（あるいはメタクリル）単量体と
アクリル（あるいはメタクリル）酸エステルとの共重合
体であるアクリルポリオール、ポリブタジエンポリオー
ルなどが使用可能である。

【００７０】イソシアネート類としては、パラフェニレ
ンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート（ＴＤ
Ｉ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサ
メチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、リジンジイソ
シアネート（ＬＤＩ）、イソホロンジイソシアネート
（ＩＰＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ
ート（ＴＭＤＩ）等やポリイソシアネート類の多価アル
コールアダクト体、あるいはポリイソシアネート類の重
合体等が挙げられる。

【００７１】（６）ポリアミド類従来提案されているポリアミド類もまたバインダポリマ
として使用できる。

【００７２】基本的な組成としては、次に示すモノマ類
のコポリマーである。ε−カプロラクタム、ω−ラウロ
ラクタム、ω−アミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジ
アミン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタ
ン、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、
イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル酸、
アジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。

【００７３】これらバインダポリマと成りうるポリマは
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。

【００７４】これらバインダポリマの中ではポリウレタ
ン、ビニル系化合物の共重合体、ポリアミドが好まし
い。

【００７５】バインダポリマの好ましい使用量は感光層
が画像再現性を有する範囲であればどのような割合でも
よいが、感光層成分に対して１０〜８５重量％であり、
さらに好ましい使用量は１０〜６５重量％、最も好まし
いのは１５〜５５重量％である。バインダポリマが１０
重量％未満である場合には、満足な感光層物性を発現さ
せることが困難であり、一方、８５重量％より多い場合
は結果的にキノンジアジド化合物の減量を意味するた
め、画像再現性、現像性、ＳＫ接着力などに問題を生じ
させる。

【００７６】本発明においては、光溶解型感光層、光剥
離型感光層いずれも使用できる。

【００７７】光溶解型感光層とは、露光により感光層の
耐溶剤性が変化し、その後の現像により露光部の感光層
のほとんどもしくは全部とインキ反発層としてのシリコ
ーンゴム層が共に除去され、画像部を形成する感光層の
ことを言う。

【００７８】一方、光剥離性感光層とは、現像により露
光部感光層が実質的に除去されることなく、その上のイ
ンキ反発層が除去されるものを言い、本発明において
は、この光剥離型感光層が好ましく用いられる。

【００７９】感光層を現像液に難溶もしくは不溶とする
ために、公知の多官能化合物で架橋せしめるか、あるい
はキノンジアジド化合物中の活性基を単官能化合物と結
合させるなどして変性するという手法も用いることが出
来る。

【００８０】架橋構造を導入せしめるために用いられる
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
ート類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来るがこれらに限定されるものではない。

【００８１】多官能イソシアネート類としては、上記ポ
リウレタンの調製に関して述べたようなものを使用する
ことが出来る。

【００８２】多官能エポキシ化合物としては、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテル類、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフェノール
Ａジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリ
グリシジルエーテルなどが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。

【００８３】これらの中で好ましいものは、多官能イソ
シアネート化合物である。また、これら多官能化合物の
使用量は、感光性化合物１００重量部に対して１〜１５
０重量部が好ましく、より好ましくは５〜１００重量
部、さらに好ましくは１０〜５０重量部である。

【００８４】上記の諸成分に加え、必要に応じて光増感
剤、酸、塩基、染料、顔料、光発色剤、界面活性剤、触
媒などの添加剤を加えることは任意である。

【００８５】感光層の厚さは０．１〜１００μｍ、好ま
しくは０．３〜１０μｍが適当である。薄すぎると感光
層中にピンホールを生じやすくなり、一方厚すぎると経
済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。

【００８６】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。通常、金属板やプ
ラスチックシート、ゴムシート、各種コート紙などが用
いられるが、金属板、とりわけアルミニウムを用いた金
属板が好ましく用いられる。

【００８７】感光層と支持体との十分な接着性を得るた
めに支持体にプライマ層を設けてもよい。該プライマ層
としては、従来より種々のものが提案されており、いず
れのプライマ層も使用可能である。

【００８８】すなわち、組成的には、天然高分子化合物
を含有するプライマ層、柔軟なポリウレタンを用いたプ
ライマ層、また、エポキシ樹脂を成分として含むプライ
マ層などが知られている。

【００８９】また、硬化方法においては、熱硬化型プラ
イマ層や光硬化型のプライマ層が知られている。光硬化
型のものとしては光二量化型のものやジアゾ樹脂を含有
する光架橋型のもの、エチレン性不飽和化合物を含有す
る光重合型のものも本発明に用いることができる。

【００９０】プライマ層の厚さは０．１〜１００μｍ、
好ましくは０．３〜５０μｍ、より好ましくは０．５〜
３０μｍが選ばれる。薄すぎると基板表面の形態欠陥お
よび化学的悪影響の遮断効果が劣り、一方厚すぎると経
済的に不利になるので上記の範囲が好ましい。

【００９１】本発明に用いられるインキ反発層として
は、シリコーンゴムを用いたものが好ましく用いられ、
縮合型のもの、付加型のものいずれも使用可能である。

【００９２】縮合型のシリコーンゴム層は下記一般式
（ＩＩ）で示される分子量数千〜数十万の有機ポリシロ
キサンと一般式（ＩＩＩ）で示される架橋剤を主成分と
する混合物により調製される。

【００９３】

【化１】（式中、ｎは２以上の整数、Ｒ１、Ｒ２は炭素数１〜５
０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜５０
の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜５０
の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれる少
なくとも一種であい、それぞれ同一でも異なっていても
よい。Ｒ１、Ｒ２の全体の４０％以下がビニル、フェニ
ル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、全
体の６０％以上がメチル基であるものが好ましい。）ＲｎＳｉＸ_4-n （ＩＩＩ）（式中、ｎは０〜２の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、アミン基、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、（メタ）アク
リロキシ基、チオール基等の官能基を置換基として有し
ていてもよい。Ｘは水素原子、水酸基アルコキシ基、
アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、アミノオ
キシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基などの官能基を
示している。）線状有機ポリシロキサンとしては、通常線状のもの、末
端が水酸基であるものが好ましく用いられる。

【００９４】架橋剤としては、具体的にはいわゆる室温
（低温）硬化型のシリコーンゴムに使われている多官能
シラン化合物、例えば、トリメトキシシリル基、アミノ
基、グリシジル基、メタクリル基、アリル基、ビニル基
等を有するアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランなどが挙
げられるが、これらに限定されるものではない。

【００９５】これら架橋剤を、前述の線状有機ポリシロ
キサンとこれらを組み合わせることで、各々脱酢酸型、
脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミド
型などのシリコーンゴムとなる。

【００９６】また、縮合型の架橋を行うシリコーンゴム
には金属カルボン酸塩などの公知の触媒を添加してもよ
い。

【００９７】ラジカル開始剤により、線状有機ポリシロ
キサンを硬化させてシリコーンゴムとすることも可能で
ある。

【００９８】インキ反発層には、ＳｉＨ基と−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−基との付加反応によって架橋させた付加型シリコー
ンゴム層も有用である。ここで用いる付加型シリコーン
ゴム層は多価ハイドロジェンオルガノポリシロキサン
と、１分子に２個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−結合を有するポ
リシロキサン化合物との反応によって得られるもので、
望ましくは以下の成分：（１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有す
るオルガノポリシロキサン（２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合２個有するオル
ガノポリシロキサン（３）付加触媒からなる組成物を架橋硬化したものである。

【００９９】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキ
サン）を添加してもよい。

【０１００】シリコーンゴム層の厚さは約０．５〜１０
０μｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。

【０１０１】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフイルムの真空密着性を改善す
るために保護フィルムをラミネートまたは薄いプラスチ
ックシート状物を塗布または転写して保護層とすること
もできる。

【０１０２】

【発明の実施の形態】

【０１０３】

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１０４】なお、引張特性の試験方法は次の通りであ
る。ガラス板上に感光液を塗布し、溶媒を揮散させた
後、１１５℃で加熱硬化させた。この後、ガラス板より
シートを剥がすことで約１００ミクロンの厚さの感光層
シートを得た。このシートから５ｍｍ×４０ｍｍの短冊
状サンプルを切り取り、テンンシロンＲＴＭ−１００
（オリエンテック（株）製）を用い、引張速度２０ｃ
ｍ／分で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を測定し
た。

【０１０５】合成例１（低分子キノンジアジド化合物−１の合成）１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジ−５−スルホン酸クロライド
０．１２モルとフェノール０．１モルを２４０ｇの乾燥
ジオキサンに溶解させ、この溶液を４０℃に保ちなが
ら、炭酸ナトリウム０．０５６モルを含む１５ｗｔ％水
溶液を約１時間かけ滴下し、さらにその後６時間、４０
℃で撹拌下、反応を行った。

【０１０６】反応終了後、この反応混合液を約８００ｍ
ｌの冷水中に注ぎ沈殿物を撹拌、洗浄した後、濾別し、
さらに同量の水で撹拌、洗浄した。その後、沈殿物を濾
別した後、メタノールと水の１：１混合溶媒で撹拌、洗
浄した。最後に、沈殿物を濾別し、真空乾燥することに
より目的とするフェノールの１，２−ナフトキノン−２
−ジアジ−５−スルホン酸エステル（分子量：３２６．
０７）（低分子キノンジアジド化合物−１）を得た。

【０１０７】合成例２（低分子キノンジアジド化合物−２の合成）１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジ−５−スルホン酸クロライド
０．１２モルとメタノール０．２モルを２４０ｇの乾燥
ジオキサンに溶解させ、この溶液を４０℃に保ちなが
ら、炭酸ナトリウム０．０５６モルを含む１５ｗｔ％水
溶液を約１時間かけ滴下し、さらにその後６時間、４０
℃で撹拌下、反応を行った。

【０１０８】反応終了後、この反応混合液を約８００ｍ
ｌの冷水中に注ぎ沈殿物を撹拌、洗浄した後、濾別し、
さらに同量の水で撹拌、洗浄した。その後、沈殿物を濾
別した後、真空乾燥することにより目的とするメタノー
ルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジ−５−スルホン
酸エステル（分子量：２６４．０７）（低分子キノンジ
アジド化合物−２）を得た。

【０１０９】合成例３（シリル基含有キノンジアジド化合物−１，２，３の合
成）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホ
ン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジンＰＲ５０
６２２”）の部分エステル化物（元素分析法によるエス
テル化度はそれぞれ３６，２５，１８％）を乾燥エチレ
ングリコールジメチルエーテルに溶解し、２０重量％溶
液を調製した。この溶液に、上記キノンジアジド化合物
１００重量部に対し、３０重量部の３−イソシアネート
プロピルトリエトキシシランを６０℃で環流冷却下、滴
下ロートを用いて滴下した。その後、さらに６時間反応
させることにより、シリル基含有キノンジアジド化合物
−１，２，３をそれぞれ得た。

【０１１０】合成例４（シリル基含有キノンジアジド化合物−４の合成）１，
２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロ
ライドとトリヒドロキシベンゾフェノンの部分エステル
化物（元素分析法によるエステル化度はそれぞれ３３
％）を乾燥テトラヒドロフランに溶解し、２０重量％溶
液を調製した。この溶液に、上記キノンジアジド化合物
１００重量部に対し、０．５重量部のジブチル錫ジアセ
テートをくわえた後、ビノルトリ（メチルエチルケトオ
キシム）シランを４０℃で、滴下ロートを用いて滴下し
た。その後、さらに８時間反応させることにより、シリ
ル基含有キノンジアジド化合物−４をそれぞれ得た。

【０１１１】実施例１厚さ０．３ｍｍのアルミ板（住友金属（株）製）に下記
のプライマ組成物をバーコーターを用いて塗布し、２０
０℃、２分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。

【０１１２】（ａ）ポリウレタン樹脂“ミラクトランＰ２２Ｓ” （日本ミラクトラン（株）製）１００重量部（ｂ）ブロックイソシアネート“タケネートＢ８３０” （武田薬品工業（株）製）２０重量部（ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７２” （関西ペイント（株）製）８重量部（ｄ）酸化チタン１０重量部（ｅ）ジブチル錫ジアセテート０．５重量部（ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート１重量部（ｇ）ジメチルホルムアミド７２５重量部続いてこのプライマ層上に下記の感光層組成物をバーコ
ータを用いて塗布し、１１０℃の熱風中で１分間乾燥し
て厚さ１．５μｍの感光層を設けた。

【０１１３】（ａ）１，２−ナフトキノンー２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）７０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）シリル基含有キノンジアジド化合物−１１０重量部（ｃ）低分子キノンジアジド化合物−１５重量部（分子量：３２６．０７）（ｄ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｅ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｆ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｇ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｈ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に下記の組成を有するシリコーン
ゴム組成物を回転塗布後、１１５℃、露点３０℃、３．
５分間湿熱硬化させて２μｍのシリコーンゴム層を設け
た。

【０１１４】（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン１０重量部（ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）１４００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ１０μｍのポ
リプロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）
をカレンダーローラーを用いてラミネートし、水なし平
版印刷版原版を得た。

【０１１５】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメーター（オーク製作所製、ライトメジャータイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ²の照度で６秒間全
面露光を施した。

【０１１６】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムと光学濃
度差０．１５のグレースケールを真空密着し、上記のメ
タルハライドランプを用い、１ｍの距離から６０秒間露
光した。

【０１１７】次いで上記の露光済版のカバーフィルムを
剥離し、室温２５℃、湿度６０％の条件で、ＴＷＬ１１
６０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用
いて現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組
成を有する液を用いた。

【０１１８】（ａ）ジエチレングリコール８０重量部（ｂ）ジグリコールアミン１４重量部（ｃ）水６重量部また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。

【０１１９】（ａ）エチルカルビトール１８重量部（ｂ）水７９．９重量部（ｃ）クリスタルバイオレット０．１重量部（ｄ）２−エチルヘキサン酸２重量部現像装置を出てきた印刷版を観察したところ、画像露光
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画像
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。

【０１２０】また、光学濃度差０．１５のグレースケー
ルを置いて、露光した部分に関しては、１段目から７段
目までのシリコーンゴム層が完全に除去されていた。

【０１２１】得られた印刷版を、オフセット印刷機（小
森スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工
業（株）製“ドライオカラー”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。

【０１２２】２０万枚印刷を行ったところ、良好な印刷
物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損
傷は軽微であった。

【０１２３】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率４０ｋｇｆ
／ｍｍ²、１０％応力１．５５ｋｇｆ／ｍｍ²、破断伸
度１２％であった。

【０１２４】印刷版原版を作製した後、６０℃、相対湿
度８０％の雰囲気下で２週間保存したものを、経時後の
水なし平版印刷版原版とし、同様に画像再現性の評価を
行ったが、同様にグレースケール７段目のシリコーンゴ
ム層が完全に除去されていた。

【０１２５】また、この実施例に用いたシリコーンゴム
層の引張特性を、先に示した方法で測定した結果、初期
弾性率０．０４ｋｇｆ／ｍｍ²、５０％応力０．０
１４ｋｇｆ／ｍｍ²、破断伸度４２１％であった。

【０１２６】比較例１実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、特願平
７−９２８２３の実施例４記載の下記の組成を有する感
光層を塗布し、実施例１と同様に厚さ１．５μｍの感光
層を塗設した。

【０１２７】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）７０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）シリル基含有キノンジアジド化合物−１１０重量部（ｃ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｄ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｅ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｆ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｇ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１２８】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期のグレースケール感度４、経時後のグレースケ
ール感度３であった。

【０１２９】また、耐刷力は実施例１と同じ２０万枚で
あった。

【０１３０】感光層の物性は初期弾性率４２ｋｇｆ／ｍ
ｍ²、１０％応力１．６１ｋｇｆ／ｍｍ²、破断伸度１
３％であった。

【０１３１】比較例１においては、耐刷性に関しては実
施例１と同等の性能を有するものの、低分子量のキノン
ジアジド化合物を含有しないため、初期および保存後の
感度が低く、また保存安定性も悪いものとなっている。

【０１３２】比較例２実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、下記の
組成を有する感光層を塗布し、実施例１と同様に厚さ
１．５μｍの感光層を塗設した。

【０１３３】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）７０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）低分子キノンジアジド化合物−１５重量部（分子量：３２６．０７）（ｃ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｄ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｅ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｆ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｇ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１３４】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期のグレースケール感度５、経時後のグレースケ
ール感度２であった。

【０１３５】また、耐刷力は実施例１と同じ２０万枚で
あった。

【０１３６】感光層の物性は初期弾性率４１ｋｇｆ／ｍ
ｍ²、１０％応力１．５６ｋｇｆ／ｍｍ²、破断伸度１
５％であった。

【０１３７】比較例２においては、低分子のキノンジア
ジド化合物を含んでいるが、シリル基を含有するキノン
ジアジド化合物を含まないため、初期の感度において実
施例１より２段低く、また、保存後の感度が極めて低く
なり、保存安定性の悪いものになっている。

【０１３８】比較例３実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す特開平５−３３３５３５号公報の実施例２０の感光
液を塗布し、実施例１と同様に厚さ１．５μｍの感光層
を塗設した。

【０１３９】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度２５％）１００重量部（ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート４０重量部（ｃ）４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン５重量部（ｄ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｅ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｆ）フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂１０重量部（“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランおよび１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドの部分反応物（ノボラック水酸基のイソシアネートシランとの反応率：２０％）（スルホン酸クロライドとの反応率：２５％）（シリル基含有キノンジアジド化合物−２）（ｇ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１４０】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期のグレースケール感度４．５、経時後のグレー
スケール感度３．５であった。

【０１４１】耐刷性に関しては、１３万枚印刷した時点
で印刷物に汚れが観察された。印刷後の版を顕微鏡で観
察したところ、感光層に微小なクラックが発生してお
り、そのクラックに基ずくシリコーンゴム層の欠落が観
察できた。

【０１４２】感光層の物性は初期弾性率８２ｋｇｆ／ｍ
ｍ²、破断伸度４．７％であった。

【０１４３】この比較例１は、実施例１に比べ、感光層
が剛直であるため耐刷性が低い。

【０１４４】さらに、シリル基を含有するキノンジアジ
ド化合物を含有しているにもかかわらず、低分子量のキ
ノンジアジド化合物を含有しないため、初期および保存
後の感度が低く、保存安定性も悪いものとなっている。

【０１４５】比較例４実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す特願平７−１３５１２６号の実施例１の感光液を塗
布し、実施例１と同様に厚さ１．５μｍの感光層を塗設
した。

【０１４６】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）７０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｃ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｄ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｅ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｆ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１４７】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期のグレースケール感度５、経時後のグレースケ
ール感度１．５であった。

【０１４８】また、耐刷力は１６万枚、感光層の物性は
初期弾性率４３ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力１．５９ｋ
ｇｆ／ｍｍ²、破断伸度１３％であった。

【０１４９】比較例４においては、初期の感度において
は実施例１より２段低くなっている。また、シリル基を
含有するキノンジアジド化合物も、さらに低分子のキノ
ンジアジド化合物も含まないため、保存後の感度が極め
て低くなり、保存安定性も極めて悪いものになってい
る。

【０１５０】比較例５実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す特願平６−１８３７５７号の実施例４の感光液を塗
布し、実施例１と同様に厚さ１．５μｍの感光層を塗設
した。

【０１５１】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）２０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）ペンタエリスリトール２５ｇと１，２−ナフトキノン５０重量部 −２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドと２５ｇの反応混合物（特願平６−１８３７５７の合成例４に従って調製）（ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｃ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ（日本ミラクトラン（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃）３０重量部（ｄ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｅ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｆ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１５２】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期のグレースケール感度は５であったが、経時後
は露光部のシリコーンゴム層が全く剥がれない現像不能
状態であった。

【０１５３】また、耐刷力は２０万枚、感光層の物性は
初期弾性率２８ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力１．１７ｋ
ｇｆ／ｍｍ²、破断伸度４０％であった。

【０１５４】比較例５においては、感光層が柔軟である
ため、耐刷力は非常に高い値を示している。しかしなが
ら、低分子量のキノンジアジド化合物を含有しているに
もかかわらず、シリル基を含有するキノンジアジド化合
物を含有しないため、初期の感度において実施例１より
２段低くなっており、さらに保存安定性も極めて悪いも
のになっている。

【０１５５】比較例６実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す組成の感光液を塗布し、実施例１と同様に厚さ１．
５μｍの感光層を塗設した。

【０１５６】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）７０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）シリル基含有キノンジアジド化合物−１１０重量部（ｃ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸５重量部クロライドとジヒドロキシベンゾフェノンの部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度５０％）（分子量：４３０．０７）（ｄ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｅ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｆ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｇ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｈ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１５７】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期のグレースケール感度は５であったが、経時後
のグレースケール感度は４であった。。

【０１５８】また、耐刷力は２０万枚、感光層の物性は
初期弾性率４５ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力１．５８ｋ
ｇｆ／ｍｍ²、破断伸度１３％であった。

【０１５９】比較例５においては、シリル基を含有する
キノンジアジド化合物を含有し、さらに比較的低分子量
のキノンジアジド化合物を含有しているにもかかわら
ず、初期の感度において実施例１より２段低く、さらに
経時後には４段となってしまい、保存安定性も悪いもの
になっている。

【０１６０】実施例２実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す組成の感光液を塗布し、実施例１と同様に厚さ１．
５μｍの感光層を塗設した。

【０１６１】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度１８％）５０重量部（分子量：８１２．２３）（ｂ）シリル基含有キノンジアジド化合物−３２０重量部（ｃ）１，２−ナフトキノンー２−ジアジド−４−スルホン酸３重量部クロライド（分子量：２６８．５２）（ｄ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｅ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｆ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｇ）酢酸１０重量部（ｈ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１６２】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期のグレースケール感度は７．５であり、経時後
のグレースケール感度も７．５であった。。

【０１６３】また、耐刷力は２２万枚、感光層の物性は
初期弾性率３５ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力１．５０ｋ
ｇｆ／ｍｍ²、破断伸度１３％であった。

【０１６４】実施例３実施例１で用いたのと同じアルミ板に下記のプライマ組
成物をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２分間乾
燥した後、３ｋＷ超高圧水銀灯を用いて８００ｍＪ／ｃ
ｍ²の全面露光を行った。プライマ層の乾燥膜厚は５μ
ｍとした。

【０１６５】（ａ）“ビームセット１１５” １５重量部（荒川化学工業（株）製ロジン変性アクリレート）（ｂ）“ＵＡ−３０６Ｉ” ４５重量部（共栄社油脂化学工業（株）製ウレタンアクリレート）（ｃ）“デナコールアクリレートＤＡ−９１１” ２０重量部（長瀬産業（株）製エポキシアクリレート）（ｄ）“ＤＥＴＸ”（日本化薬社製）３重量部（ｅ）“ＥＰＡ”（日本化薬社製）３重量部（ｆ）酸化チタン８重量部（ｇ）ジメチルホルムアミド１００重量部（ｈ）メチルエチルケトン６００重量部続いてこのプライマ層の上に実施例１と同じ感光層を塗
設し、次いで以下の組成のシリコーンゴム組成物を乾燥
窒素気流下、回転塗布した後、１１５℃、露点３０℃と
いう条件で３．５分間湿熱硬化させて２．０μｍのシリ
コーンゴム層を設けた。

【０１６６】（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，０００、末端水酸基）１００重量部（ｂ）エチルトリアセトキシシラン１２重量部（ｃ）ジブチル錫ジアセテート０．１重量部（ｄ）“アイソパーＧ”（エクソン化学（株）製）１２００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、実施例１と同様
に全面露光し、水なし平版印刷版原版を得た。

【０１６７】実施例１と同様に評価を行ったところ、初
期、経時後ともにグレースケール感度は７、また、耐刷
力は１９万枚であった。

【０１６８】実施例４実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、下記の
組成物よりなる感光液（Ａ）と感光液（Ｂ）を塗布の直
前に混合し、スリットダイコータを用いて塗布し、１１
５℃の熱風中で１分間乾燥して厚さ１．５μｍの感光層
を設けた。

【０１６９】感光液（Ａ）（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとトリヒドロキシベンゾフェノンの部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３３％）６０重量部（ｂ）シリル基含有キノンジアジド化合物−１１０重量部（ｃ）低分子キノンジアジド化合物−２５重量部（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５− スルホン酸クロライドとメタノールのスルホン酸エステル）（分子量：２６４．０７）（ｄ）ポリウレタン“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）４０重量部（ｅ）トリメチロールプロパントリアクリレート３重量部（ｆ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｇ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｈ）テトラヒドロフラン７００重量部感光液（Ｂ）（ａ）イソホロンジイソシアネート２０重量部（ｂ）テトラヒドロフラン１００重量部次いでこの感光層の上に次ぎの組成を有するシリコーン
ゴム液を、スリットダイコータを用いて塗布した後、１
２０℃で４分間加熱硬化させて１．８μｍのシリコーン
ゴム層を設けた。

【０１７０】（ａ）両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン（重合度〜７００）１００重量部（ｂ）(CH ₃) ₃Si-O-(Si(CH ₃) ₂-O) ₃₀ー(SiH(CH₃)-O)₁₀ーSi(CH₃) ₃ １０重量部（ｃ）塩化白金酸／メチルビニルサイクリックス錯体０．１重量部（ｄ）アセチルアセトンアルコール０．１重量部（ｅ）ポリジメチルシロキサン（重合度〜８０００）１０重量部（ｆ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製）１０００重量部上記のようにして得られた積層板に、実施例２と同様厚
さ８μｍのポリエステルフィルム“ルミラー”（東レ
（株）製）をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷版原版を得た。

【０１７１】実施例１と同様に評価を行ったところ、初
期、経時後ともにグレースケール感度は７、耐刷力は２
０万枚であった。

【０１７２】感光層の物性は初期弾性率３５ｋｇｆ／ｍ
ｍ²、１０％応力１．２０ｋｇｆ／ｍｍ²、破断伸度２
０％であった。

【０１７３】また、この実施例に用いたシリコーンゴム
層の引張特性を、先に示した方法で測定した結果、初期
弾性率０．０５ｋｇｆ／ｍｍ²、５０％応力０．０
１６ｋｇｆ／ｍｍ²、破断伸度３８０％であった。

【０１７４】実施例５〜８実施例２における感光層成分（ｃ）低分子キノンジアジ
ド化合物を表１に示すような化合物に変更した以外は、
実施例２と同様にして種々の感光層を有する水なし平版
印刷版原版を得、実施例２と同様に評価を行った。

【０１７５】

【表１】実施例９実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す組成の感光液を塗布し、実施例１と同様に厚さ１．
５μｍの感光層を塗設した。

【０１７６】（ａ）シリル基含有キノンジアジド化合物−１５０重量部（ｂ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸１０重量部クロライドとナフトールのスルホン酸エステル（分子量：３７６．０７）（ｃ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｄ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｅ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｆ）マレイン酸０．５重量部（ｇ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１７７】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期、経時後共にグレースケール感度は６であり、
耐刷力は２４万枚、また感光層の物性は初期弾性率１５
ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力０．８０ｋｇｆ／ｍｍ²、
破断伸度３５％であった。

【０１７８】実施例１０実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す組成の感光液を塗布し、実施例１と同様に厚さ１．
５μｍの感光層を塗設した。

【０１７９】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）７０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）シリル基含有キノンジアジド化合物−４１０重量部（ｃ）低分子キノンジアジド化合物−１５重量部（分子量：３２６．０７）（ｄ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート２１重量部（ｅ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｆ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｇ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｈ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１８０】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ初期、経時後共にグレースケール感度は６であり、
耐刷力は１９万枚、また感光層の物性は初期弾性率４０
ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力１．５３ｋｇｆ／ｍｍ²、
破断伸度１１％であった。

【０１８１】実施例１１〜１５実施例１における感光層成分（ｅ）バインダポリマを表
２に示すような化合物に変更した以外は、実施例１と同
様にして種々の感光層を有する水なし平版印刷版原版を
得、実施例１と同様に評価を行った。

【０１８２】

【表２】実施例１６実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、以下に
示す組成の感光液を塗布し、厚さ０．５μｍの感光層を
塗設した。

【０１８３】（ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエステル化度３６％）７０重量部（分子量：１０４３）（ｂ）シリル基含有キノンジアジド化合物−１１０重量部（ｃ）低分子キノンジアジド化合物−１５重量部（分子量：３２６．０７）（ｄ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製）（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃）３０重量部（ｅ）ジブチル錫ジアセテート０．２重量部（ｆ）Ｐ−トルエンスルホン酸０．８重量部（ｇ）テトラヒドロフラン８００重量部次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組成を有するシ
リコーンゴム層を設け、実施例１と同様に水なし平版印
刷版原版を得た。

【０１８４】実施例１と同様に、露光、現像を行ったと
ころ、初期、経時後共にグレースケール感度は７．５で
あり、耐刷力は２１万枚、また感光層の物性は初期弾性
率３０ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力１．０４ｋｇｆ／ｍ
ｍ²、破断伸度２５％であった。

【０１８５】実施例１７実施例１で作製したのと同じプライマ層の上に、実施例
２と同じ感光液を塗布し、同様に厚さ１．５μｍの感光
層を塗設した。

【０１８６】次いでこの感光層の上に実施例１と同じ組
成を有するシリコーンゴム層を設け、さらに実施例２と
同様厚さ８μｍのポリエステルフィルム“ルミラー”
（東レ（株）製）をカレンダーローラーを用いてラミネ
ートし、全面露光を施していない水なし平版印刷版原版
を得た。

【０１８７】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つポジフィルムと光学濃
度差０．１５のグレースケールを真空密着し、メタルハ
ライドランプを用い、ＵＶメーターで１１ｍＷ／ｃｍ²
の照度で５秒間画像露光した。

【０１８８】上記の露光済版を実施例１と同様に現像し
たところ、露光部のシリコーンゴム層が残存し、未露光
部のシリコーンゴム層が剥離した、ポジフィルムを再現
した画像が得られた。

【０１８９】また、光学濃度差０．１５のグレースケー
ルを置いて、露光した部分に関しては、１段目から４段
目までのシリコーンゴム層が残存していた。

【０１９０】さらに、実施例１と同様に評価したとこ
ろ、耐刷力は１９万枚、感光層の引張特性は、初期弾性
率３９ｋｇｆ／ｍｍ²、１０％応力１．５３ｋｇｆ／ｍ
ｍ²、破断伸度１２％、経時後のグレースケール感度は
５段であった。

【０１９１】これまでの結果をまとめて、表３に示す。

【０１９２】

【表３】いずれも、耐刷力、保存安定性に優れ、高感度な版材が
得られることが判る。

【０１９３】

【発明の効果】本発明の水なし平版印刷版により、耐刷
力、保存安定性に優れ、高感度の水なし平版印刷版を提
供することが出来る。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に少なくとも感光層およびシリコ
ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
版において、該感光層が少なくともａ．下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ
有するキノンジアジド化合物ｂ．分子量４００以下のキノンジアジド化合物とを含有することを特徴とする水なし平版印刷版原版。 −ＳｉＲ_nＸ_3-n （Ｉ）（式中、ｎは０〜３の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。）
【請求項２】該感光層の露光後の引張特性が（１）初期弾性率：５〜７５ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする請求項１記載の水なし
平版印刷版原版。
【請求項３】化合物ｂがナフトキノンジアジドまたはナ
フトキノンジアジドスルホン酸誘導体であることを特徴
とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。
【請求項４】化合物ａが一般式（Ｉ）で示される構造を
少なくとも一つ有するナフトキノンジアジドスルホン酸
エステルであることを特徴とする請求項１記載の水なし
平版印刷版原版。
【請求項５】化合物ａが一般式（Ｉ）で示される構造を
少なくとも一つ有するフェノールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂のナフトキノンジアジドスルホン酸エステル
であることを特徴とする請求項１記載の水なし平版印刷
版原版。
【請求項６】感光層がバインダポリマを有することを特
徴とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。
【請求項７】感光層が光剥離性感光層であることを特徴
とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。
【請求項８】感光層が架橋構造を有することを特徴とす
る請求項１記載の水なし平版印刷版原版。
【請求項９】請求項１〜８いずれかに記載の水なし平版
印刷版原版を選択的に露光現像してなる水なし平版印刷
版。