JPH0844046A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents
水なし平版印刷版原版Info
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- JPH0844046A JPH0844046A JP18375794A JP18375794A JPH0844046A JP H0844046 A JPH0844046 A JP H0844046A JP 18375794 A JP18375794 A JP 18375794A JP 18375794 A JP18375794 A JP 18375794A JP H0844046 A JPH0844046 A JP H0844046A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】支持体上に感光層、シリコーンゴム層をこの順
に積層してなる水なし平版印刷版において、該感光層
が、フェノール性水酸基と非フェノール性水酸基とをそ
れぞれ少なくとも一つずつ有する化合物とキノンジアジ
ド化合物との反応物を含有しており、かつ該感光層の引
張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【効果】本発明の水なし平版印刷版原版は画像再現性お
よび耐刷性に優れているので、高耐刷力の要求される商
業オフ輪印刷および新聞オフ輪印刷においても好適に用
いることが出来、経済的にも有利である。
に積層してなる水なし平版印刷版において、該感光層
が、フェノール性水酸基と非フェノール性水酸基とをそ
れぞれ少なくとも一つずつ有する化合物とキノンジアジ
ド化合物との反応物を含有しており、かつ該感光層の引
張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【効果】本発明の水なし平版印刷版原版は画像再現性お
よび耐刷性に優れているので、高耐刷力の要求される商
業オフ輪印刷および新聞オフ輪印刷においても好適に用
いることが出来、経済的にも有利である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版原版お
よびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像して
なる水なし平版印刷版に関するものであり、さらに詳し
くは耐刷性の著しく向上した水なし平版印刷版原版およ
びこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してな
る水なし平版印刷版に関するものである。
よびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像して
なる水なし平版印刷版に関するものであり、さらに詳し
くは耐刷性の著しく向上した水なし平版印刷版原版およ
びこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してな
る水なし平版印刷版に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、シリコーンゴムやフッ素樹脂
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版が種々提案されている。
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版が種々提案されている。
【０００３】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭５４−２６９２３号公報、特公昭５６−２３
１５０号公報などに基板上に光重合性接着層とインキ反
発層であるシリコーンゴム層とが積層された水なし平版
印刷版、また特公平３−５６６２２号公報、特開昭６１
−１５３６５５号公報などに基板上に光二量化型感光層
とインキ反発層であるシリコーンゴム層とが積層された
水なし平版印刷版が提案されている。
は、特公昭５４−２６９２３号公報、特公昭５６−２３
１５０号公報などに基板上に光重合性接着層とインキ反
発層であるシリコーンゴム層とが積層された水なし平版
印刷版、また特公平３−５６６２２号公報、特開昭６１
−１５３６５５号公報などに基板上に光二量化型感光層
とインキ反発層であるシリコーンゴム層とが積層された
水なし平版印刷版が提案されている。
【０００４】また、ネガ型感光性平版印刷版としては、
特公昭６１−６１６号公報、特公昭６１−５４２１８号
公報などに支持体上にキノンジアジド化合物を含む感光
層とその上に接着層を介してインキ反発層であるシリコ
ーンゴム層を設けた水なし平版印刷版、特公昭６１−５
４２２２号公報などに光剥離性感光層上にインキ反発層
であるシリコーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提
案されており、実用上優れた性能を有するものとして知
られている。これらの中でも特に特公昭６１−５４２２
２号公報には、支持体上に、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノールノボ
ラック樹脂の部分エステル化物を多官能イソシアネート
で架橋した光剥離性感光層、およびその上にインキ反発
層としてのシリコーンゴム層を設けたネガ型水なし平版
印刷版が開示されている。
特公昭６１−６１６号公報、特公昭６１−５４２１８号
公報などに支持体上にキノンジアジド化合物を含む感光
層とその上に接着層を介してインキ反発層であるシリコ
ーンゴム層を設けた水なし平版印刷版、特公昭６１−５
４２２２号公報などに光剥離性感光層上にインキ反発層
であるシリコーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提
案されており、実用上優れた性能を有するものとして知
られている。これらの中でも特に特公昭６１−５４２２
２号公報には、支持体上に、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノールノボ
ラック樹脂の部分エステル化物を多官能イソシアネート
で架橋した光剥離性感光層、およびその上にインキ反発
層としてのシリコーンゴム層を設けたネガ型水なし平版
印刷版が開示されている。
【０００５】また、フッ素樹脂をインキ反発層に用いる
感光性平版印刷版としては、特開平２−２５４４４９号
公報、特開平２−８５８５５号公報などに１Ｈ，１Ｈ，
２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレートや
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメ
タクリレートを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする
水なし平版印刷版が開示されている。
感光性平版印刷版としては、特開平２−２５４４４９号
公報、特開平２−８５８５５号公報などに１Ｈ，１Ｈ，
２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレートや
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメ
タクリレートを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする
水なし平版印刷版が開示されている。
【０００６】しかしながら、これらの感光性平版印刷版
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のインキ反発層下の感光層に損傷
が起こり、これがインキ反発層にまで拡大し画像の再現
性が低下するなどの問題が生じる。この結果は印刷版の
耐刷力不足という問題として現れる。
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のインキ反発層下の感光層に損傷
が起こり、これがインキ反発層にまで拡大し画像の再現
性が低下するなどの問題が生じる。この結果は印刷版の
耐刷力不足という問題として現れる。
【０００７】これまで上記耐刷力を改良することを目的
として、様々な検討がなされてきた。特開平５−５３３
０６号公報、特開平５−５３３０７号公報などでは基板
と感光層の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あ
るいはポリウレタンとシランカップリング剤を含有する
柔軟なプライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案され
ているが、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られ
ないだけでなく、感光層の物性をカバーするだけの十分
なプライマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキ
ュア不足に起因するインキ反発層剥がれや感光層剥が
れ、さらにひどい場合にはプライマ層自体が基板から剥
がれるといった問題があった。
として、様々な検討がなされてきた。特開平５−５３３
０６号公報、特開平５−５３３０７号公報などでは基板
と感光層の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あ
るいはポリウレタンとシランカップリング剤を含有する
柔軟なプライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案され
ているが、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られ
ないだけでなく、感光層の物性をカバーするだけの十分
なプライマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキ
ュア不足に起因するインキ反発層剥がれや感光層剥が
れ、さらにひどい場合にはプライマ層自体が基板から剥
がれるといった問題があった。
【０００８】インキ反発層を厚くするという手法も試み
られてきたが、それに伴う現像性の低下、さらにはイン
キマイレージの低下が問題となる。
られてきたが、それに伴う現像性の低下、さらにはイン
キマイレージの低下が問題となる。
【０００９】特開平１−１５４１５８号公報、特開平１
−１５４１５９号公報などはインキ反発層であるシリコ
ーンゴム層を厚膜化し、それに伴うインキマイレージの
低下をインキ着肉性物質の埋め込みなどによるセル深度
の調整でカバーしようとするものであるが、現像性の低
下は依然として存在し、またインキ着肉性物質の埋め込
みなどという新たな行程が加わったことにより実用上扱
いにくいという問題を有する。
−１５４１５９号公報などはインキ反発層であるシリコ
ーンゴム層を厚膜化し、それに伴うインキマイレージの
低下をインキ着肉性物質の埋め込みなどによるセル深度
の調整でカバーしようとするものであるが、現像性の低
下は依然として存在し、またインキ着肉性物質の埋め込
みなどという新たな行程が加わったことにより実用上扱
いにくいという問題を有する。
【００１０】特開平１−１６１２４２号公報では、イン
キ着肉層（感光層）を最上層に有する版を画像露光し現
像した後、インキ反発層（シリコーンゴム層）を塗布
し、その後さらに現像することで得られる厚膜のシリコ
ーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、この手法で得られた版は画線部のイ
ンキ着肉性が悪いという問題を有しているばかりでな
く、感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版に
つき２回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。
キ着肉層（感光層）を最上層に有する版を画像露光し現
像した後、インキ反発層（シリコーンゴム層）を塗布
し、その後さらに現像することで得られる厚膜のシリコ
ーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、この手法で得られた版は画線部のイ
ンキ着肉性が悪いという問題を有しているばかりでな
く、感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版に
つき２回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。
【００１１】インキ反発層であるシリコーンゴム層の物
性を向上させる検討もなされている。フィラーの添加や
ポリジメチルシロキサンの高分子量化、また、特開平２
ー３２３４９号公報ではインキ反発性物質の硬化物をふ
くむ微多孔質層を有する水なし平版印刷版、特開平２ー
８８４７号公報ではポリオルガノシロキサンを枝にもつ
グラフトポリマをシリコーンゴム層に含有する水なし平
版印刷版が提案されている。しかしながら、これらはい
ずれも耐傷性の向上こそなされてはいるが、耐刷性の向
上は不十分であった。そればかりか、シリコーンゴム層
が本来備えていなければならないインキ反発性を低下さ
せるという問題を有していた。
性を向上させる検討もなされている。フィラーの添加や
ポリジメチルシロキサンの高分子量化、また、特開平２
ー３２３４９号公報ではインキ反発性物質の硬化物をふ
くむ微多孔質層を有する水なし平版印刷版、特開平２ー
８８４７号公報ではポリオルガノシロキサンを枝にもつ
グラフトポリマをシリコーンゴム層に含有する水なし平
版印刷版が提案されている。しかしながら、これらはい
ずれも耐傷性の向上こそなされてはいるが、耐刷性の向
上は不十分であった。そればかりか、シリコーンゴム層
が本来備えていなければならないインキ反発性を低下さ
せるという問題を有していた。
【００１２】特開昭６３−２１３８４８号公報には感光
層にアクリル酸誘導体共重合体を含有させたものが記載
されているが、アクリル酸誘導体共重合体を感光層中に
５０ｗｔ％以上含有させると画像再現性やインキ反発層
であるシリコーンゴム層との接着性を損なうという問題
があり、また５０ｗｔ％以下では耐刷力が不十分となる
という問題を有していた。
層にアクリル酸誘導体共重合体を含有させたものが記載
されているが、アクリル酸誘導体共重合体を感光層中に
５０ｗｔ％以上含有させると画像再現性やインキ反発層
であるシリコーンゴム層との接着性を損なうという問題
があり、また５０ｗｔ％以下では耐刷力が不十分となる
という問題を有していた。
【００１３】また、特開平３−２０７４１号公報には感
光層にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分
子化合物を含有させたもの、特開平３−６８９４６号公
報には感光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘
導体共重合体を含有させたものが記載され、水系現像液
で現像可能で耐刷力の優れた版が得られるとされてい
る。しかしながら、これらの版はプレートクリーナー等
の版洗浄溶剤やＵＶインキ等に対する感光層の耐溶剤性
が不十分であるため、画線部が印刷中に破壊されるだけ
でなく、非画線部の感光層が溶剤に侵されることによる
耐刷性の低下という問題を有していた。
光層にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分
子化合物を含有させたもの、特開平３−６８９４６号公
報には感光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘
導体共重合体を含有させたものが記載され、水系現像液
で現像可能で耐刷力の優れた版が得られるとされてい
る。しかしながら、これらの版はプレートクリーナー等
の版洗浄溶剤やＵＶインキ等に対する感光層の耐溶剤性
が不十分であるため、画線部が印刷中に破壊されるだけ
でなく、非画線部の感光層が溶剤に侵されることによる
耐刷性の低下という問題を有していた。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、感光層
に特定の構造を有する化合物を含有し、感光層あるいは
プライマ層、もしくはその両方合わせた層の引張特性を
初期弾性率、１０％応力、破壊伸度で規定し柔軟化する
ことによって、版の現像性、画像再現性、印刷特性、耐
溶剤性などを低下させることなく、大幅に耐刷力の改善
された水なし平版印刷版原版を提供することにある。
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、感光層
に特定の構造を有する化合物を含有し、感光層あるいは
プライマ層、もしくはその両方合わせた層の引張特性を
初期弾性率、１０％応力、破壊伸度で規定し柔軟化する
ことによって、版の現像性、画像再現性、印刷特性、耐
溶剤性などを低下させることなく、大幅に耐刷力の改善
された水なし平版印刷版原版を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
以下の水なし平版によって達成される。すなわち、 （１）支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が下記一般式（Ｉ）で示される構造と下記一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物を含有し
ており、かつ該感光層の引張特性が 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
以下の水なし平版によって達成される。すなわち、 （１）支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が下記一般式（Ｉ）で示される構造と下記一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物を含有し
ており、かつ該感光層の引張特性が 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【００１６】
【化７】
【化８】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （２）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が下記一般式（Ｉ）で示される構造と下記
一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも
一つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応
物を含有しており、かつ該プライマ層の引張特性が 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （２）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が下記一般式（Ｉ）で示される構造と下記
一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも
一つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応
物を含有しており、かつ該プライマ層の引張特性が 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【００１７】
【化９】
【化１０】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （３）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が下記一般式（Ｉ）で示される構造と下記
一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも
一つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応
物を含有しており、かつ該プライマ層と感光層とを合わ
せた層の引張特性が 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （３）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が下記一般式（Ｉ）で示される構造と下記
一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも
一つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応
物を含有しており、かつ該プライマ層と感光層とを合わ
せた層の引張特性が 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【００１８】
【化１１】
【化１２】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （４）該感光層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする（１）記載の水なし平
版印刷版原版。
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （４）該感光層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする（１）記載の水なし平
版印刷版原版。
【００１９】（５）該プライマ層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする（２）記載の水なし平
版印刷版原版。
版印刷版原版。
【００２０】（６）該プライマ層と感光層とを合わせた
層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする（３）記載の水なし平
版印刷版原版。
層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする（３）記載の水なし平
版印刷版原版。
【００２１】（７）該感光層の引張特性が 破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする（１）または（４）記
載の水なし平版印刷版原版。
載の水なし平版印刷版原版。
【００２２】（８）該プライマ層の引張特性が 破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする（２）または（５）記
載の水なし平版印刷版原版。
載の水なし平版印刷版原版。
【００２３】（９）該プライマ層と感光層とを合わせた
層の引張特性が 破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする（３）または（６）記
載の水なし平版印刷版原版。
層の引張特性が 破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする（３）または（６）記
載の水なし平版印刷版原版。
【００２４】（１０）感光層がバインダポリマを有する
ことを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版。
ことを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版。
【００２５】（１１）バインダポリマの感光層中にしめ
る割合が１０〜９０wt％であることを特徴とする（１
０）記載の水なし平版印刷版原版。
る割合が１０〜９０wt％であることを特徴とする（１
０）記載の水なし平版印刷版原版。
【００２６】（１２）バインダポリマのガラス転移点
（Ｔｇ）が２０℃以下であることを特徴とする（１０）
または（１１）記載の水なし平版印刷版原版。
（Ｔｇ）が２０℃以下であることを特徴とする（１０）
または（１１）記載の水なし平版印刷版原版。
【００２７】（１３）感光層が架橋構造を有することを
特徴とする（１）〜（１２）のいずれかに記載の水なし
平版印刷版原版。
特徴とする（１）〜（１２）のいずれかに記載の水なし
平版印刷版原版。
【００２８】（１４）感光層が光剥離性感光層であるこ
とを特徴とする（１）〜（１３）のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版。
とを特徴とする（１）〜（１３）のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版。
【００２９】（１５）インキ反発層が、シリコーンゴム
層であることを特徴とする（１）〜（１４）のいずれか
に記載の水なし平版印刷版原版。
層であることを特徴とする（１）〜（１４）のいずれか
に記載の水なし平版印刷版原版。
【００３０】（１６）インキ反発層の表面に保護層を設
けることを特徴とする（１）〜（１５）のいずれかに記
載の水なし平版印刷版原版。
けることを特徴とする（１）〜（１５）のいずれかに記
載の水なし平版印刷版原版。
【００３１】（１７）保護層が表面にプレーンまたは凹
凸処理した保護フィルムであることを特徴とする（１
６）記載の水なし平版印刷版原版。
凸処理した保護フィルムであることを特徴とする（１
６）記載の水なし平版印刷版原版。
【００３２】（１８）支持体が表面をプレーンまたは粗
面化した金属板であることを特徴とする（１）〜（１
７）のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
面化した金属板であることを特徴とする（１）〜（１
７）のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
【００３３】（１９）（１）〜（１８）のいずれかに記
載の水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる
水なし平版印刷版。
載の水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる
水なし平版印刷版。
【００３４】以下に、本発明の構成について、さらに具
体的に説明する。
体的に説明する。
【００３５】本発明の特徴とするところは、前記感光層
あるいはプライマ層、もしくはこの両方の層を合わせた
層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 、好まし
くは （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 （３）破断伸度 ：１０％以上 といった物性を有する点にある。
あるいはプライマ層、もしくはこの両方の層を合わせた
層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 、好まし
くは （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 （３）破断伸度 ：１０％以上 といった物性を有する点にある。
【００３６】本発明では、感光層あるいはプライマ層、
もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の初期弾
性率が５ｋｇｆ／ｍｍ2 以上５０ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、
好ましくは７ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４５ｋｇｆ／ｍｍ2 以
下、さらに好ましくは１０ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４０ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 以下にすることが重要である。
もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の初期弾
性率が５ｋｇｆ／ｍｍ2 以上５０ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、
好ましくは７ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４５ｋｇｆ／ｍｍ2 以
下、さらに好ましくは１０ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４０ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 以下にすることが重要である。
【００３７】また、１０％応力値は、０．０５ｋｇｆ／
ｍｍ2 以上３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、好ましくは０．
１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上２．０ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、さら
に好ましくは０．１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上１．５ｋｇｆ／
ｍｍ2 以下にすることが重要である。
ｍｍ2 以上３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、好ましくは０．
１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上２．０ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、さら
に好ましくは０．１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上１．５ｋｇｆ／
ｍｍ2 以下にすることが重要である。
【００３８】上記の初期弾性率が５ｋｇｆ／ｍｍ2 未
満、１０％応力値が０．０５ｋｇｆ／ｍｍ2 未満の場合
は感光層がベタつき印刷時にヒッキーの原因になる。
満、１０％応力値が０．０５ｋｇｆ／ｍｍ2 未満の場合
は感光層がベタつき印刷時にヒッキーの原因になる。
【００３９】１０％応力値が３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 をこ
える場合には、オフセット印刷時に生じる繰り返し応力
により、感光層とシリコーンゴム層の接着界面で破壊が
起こるため、高耐刷力が得られない。
える場合には、オフセット印刷時に生じる繰り返し応力
により、感光層とシリコーンゴム層の接着界面で破壊が
起こるため、高耐刷力が得られない。
【００４０】さらに、露光後の感光層、あるいはプライ
マ層、もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の
破断伸度１０％以上、好ましくは１５％以上に設計する
ことが好ましい。破断伸度が１０％未満の場合はこれら
の層が脆くなり、オフセット印刷を行った場合にこれら
の層が破壊され、高耐刷力が得られない。
マ層、もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の
破断伸度１０％以上、好ましくは１５％以上に設計する
ことが好ましい。破断伸度が１０％未満の場合はこれら
の層が脆くなり、オフセット印刷を行った場合にこれら
の層が破壊され、高耐刷力が得られない。
【００４１】初期弾性率が５０ｋｇｆ／ｍｍ2 以上、破
断伸度１０％未満の場合は、例えば特公昭６１−５４２
２２号公報の実施例１に記載の感光層の引張り初期弾性
率は５６ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度５．０％で硬い感光
層であるため、オフセット印刷を行った場合に感光層と
インキ反発層との間で繰り返し応力がかかり、感光層自
体の破壊およびそれに引き続くインキ反発層との接着界
面での破壊が起こり高耐刷力が得られない。
断伸度１０％未満の場合は、例えば特公昭６１−５４２
２２号公報の実施例１に記載の感光層の引張り初期弾性
率は５６ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度５．０％で硬い感光
層であるため、オフセット印刷を行った場合に感光層と
インキ反発層との間で繰り返し応力がかかり、感光層自
体の破壊およびそれに引き続くインキ反発層との接着界
面での破壊が起こり高耐刷力が得られない。
【００４２】感光層の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３０１
にしたがって測定することができる。ガラス板上に感光
液を塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱硬化させる。こ
の後、ガラス板よりシートを剥がすことで約１００ミク
ロンの厚さのシートを得る。このシートから５ｍｍ×４
０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テンンシロンＲＴ
Ｍ−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速
度 ２０cm／分で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を
測定する。
にしたがって測定することができる。ガラス板上に感光
液を塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱硬化させる。こ
の後、ガラス板よりシートを剥がすことで約１００ミク
ロンの厚さのシートを得る。このシートから５ｍｍ×４
０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テンンシロンＲＴ
Ｍ−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速
度 ２０cm／分で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を
測定する。
【００４３】本発明に用いられる感光層としては、下記
一般式（Ｉ）で示される構造と下記一般式（ＩＩ）で示
される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合
物とキノンジアジド化合物との反応物を含有している。
一般式（Ｉ）で示される構造と下記一般式（ＩＩ）で示
される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合
物とキノンジアジド化合物との反応物を含有している。
【００４４】
【化１３】
【化１４】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） 一般式（Ｉ）中のＲ１の置換基の具体例としては、水素
原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、メ
ルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニトロソ基、
炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキル基、
アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイ
ル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００
の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキ
シ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換のアリー
ル基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一
種が挙げられるが、これらに限定されない。また、一般
式（ＩＩ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の具体例として
は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミ
ノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニト
ロソ基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアル
キル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、ア
ルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２
〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換
のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少な
くとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、またこれらに限定されず、これ以外のものでもよ
い。
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） 一般式（Ｉ）中のＲ１の置換基の具体例としては、水素
原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、メ
ルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニトロソ基、
炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキル基、
アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイ
ル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００
の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキ
シ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換のアリー
ル基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一
種が挙げられるが、これらに限定されない。また、一般
式（ＩＩ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の具体例として
は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミ
ノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニト
ロソ基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアル
キル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、ア
ルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２
〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換
のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少な
くとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、またこれらに限定されず、これ以外のものでもよ
い。
【００４５】一般式（Ｉ）で示される構造と一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物としては、例えば次の〜のような化合物
が挙げられるが、これらに限定されない。
Ｉ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物としては、例えば次の〜のような化合物
が挙げられるが、これらに限定されない。
【００４６】下記一般式（ＩＩＩ）で示されるよう
な、エポキシ化合物とフェノール安息香酸との反応によ
り得られる骨格を有する化合物。例えば、１，２−エポ
キシプロパンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応物や
１，２−エポキシプロパンと３−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物、１，２−エポキシプロパンと４−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタンと２−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタン
と３−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキ
シブタンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、２，３
−エポキシブタンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、２，３−エポキシブタンと３−ヒドロキシ安息香酸
との反応物、２，３−エポキシブタンと４−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘキサンと２−
ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘキ
サンと３−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エ
ポキシヘキサンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、
１，２，３，４−ジエポキシブタンと２−ヒドロキシ安
息香酸との反応物、１，２，３，４−ジエポキシブタン
と３−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２，３，４
−ジエポキシブタンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、グリシジルアクリレートと２−ヒドロキシ安息香酸
との反応物およびその単独重合体や共重合体、グリシジ
ルアクリレートと３−ヒドロキシ安息香酸との反応物お
よびその単独重合体や共重合体、グリシジルアクリレー
トと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその単独
重合体や共重合体、グリシジルメタクリレートと２−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物およびその単独重合体や共
重合体、グリシジルメタクリレートと３−ヒドロキシ安
息香酸との反応物およびその単独重合体や共重合体、グ
リシジルメタクリレートと４−ヒドロキシ安息香酸との
反応物およびその単独重合体や共重合体などが挙げられ
るが、これらに限定されず、エポキシ基を有する化合物
とフェノール安息香酸との反応物であればどのようなも
のでもよい。エポキシ基を有する化合物の分子量は特に
限定されないが、分子量６０〜１０００万のものが好ま
しく、分子量８０〜１００万のものがより好ましい。
な、エポキシ化合物とフェノール安息香酸との反応によ
り得られる骨格を有する化合物。例えば、１，２−エポ
キシプロパンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応物や
１，２−エポキシプロパンと３−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物、１，２−エポキシプロパンと４−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタンと２−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタン
と３−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキ
シブタンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、２，３
−エポキシブタンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、２，３−エポキシブタンと３−ヒドロキシ安息香酸
との反応物、２，３−エポキシブタンと４−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘキサンと２−
ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘキ
サンと３−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エ
ポキシヘキサンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、
１，２，３，４−ジエポキシブタンと２−ヒドロキシ安
息香酸との反応物、１，２，３，４−ジエポキシブタン
と３−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２，３，４
−ジエポキシブタンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、グリシジルアクリレートと２−ヒドロキシ安息香酸
との反応物およびその単独重合体や共重合体、グリシジ
ルアクリレートと３−ヒドロキシ安息香酸との反応物お
よびその単独重合体や共重合体、グリシジルアクリレー
トと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその単独
重合体や共重合体、グリシジルメタクリレートと２−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物およびその単独重合体や共
重合体、グリシジルメタクリレートと３−ヒドロキシ安
息香酸との反応物およびその単独重合体や共重合体、グ
リシジルメタクリレートと４−ヒドロキシ安息香酸との
反応物およびその単独重合体や共重合体などが挙げられ
るが、これらに限定されず、エポキシ基を有する化合物
とフェノール安息香酸との反応物であればどのようなも
のでもよい。エポキシ基を有する化合物の分子量は特に
限定されないが、分子量６０〜１０００万のものが好ま
しく、分子量８０〜１００万のものがより好ましい。
【００４７】
【化１５】 （式中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は一般式（ＩＩ）のＲ
２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。） 下記一般式（ＩＶ）で示されるような、トリオールあ
るいはポリオールとヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応により得られる骨格を有する化合物。例えば、１，
２，４−ブタントリオールと２−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応物、１，２，４−ブタントリオールと３
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、１，２，４
−ブタントリオールと４−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物、グリセリンと２−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応物、グリセリンと３−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、グリセリンと４−ヒドロキシベン
ズアルデヒドとの反応物、トリメチロールプロパンと２
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、トリメチロ
ールプロパンと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応物、トリメチロールプロパンと４−ヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコールと２−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポリビニルアル
コールと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、
ポリビニルアルコールと４−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドとの反応物などが挙げられるが、これらに限定され
ず、トリオールあるいはポリオールとヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物であればどのようなものでもよ
い。トリオールあるいはポリオールの分子量は特に限定
されないが、分子量９０〜１０００万のものが好まし
く、分子量９０〜１００万のものがより好ましい。
２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。） 下記一般式（ＩＶ）で示されるような、トリオールあ
るいはポリオールとヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応により得られる骨格を有する化合物。例えば、１，
２，４−ブタントリオールと２−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応物、１，２，４−ブタントリオールと３
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、１，２，４
−ブタントリオールと４−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物、グリセリンと２−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応物、グリセリンと３−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、グリセリンと４−ヒドロキシベン
ズアルデヒドとの反応物、トリメチロールプロパンと２
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、トリメチロ
ールプロパンと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応物、トリメチロールプロパンと４−ヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコールと２−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポリビニルアル
コールと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、
ポリビニルアルコールと４−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドとの反応物などが挙げられるが、これらに限定され
ず、トリオールあるいはポリオールとヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物であればどのようなものでもよ
い。トリオールあるいはポリオールの分子量は特に限定
されないが、分子量９０〜１０００万のものが好まし
く、分子量９０〜１００万のものがより好ましい。
【００４８】
【化１６】 （式中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は一般式（ＩＩ）のＲ
２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ６は、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換もしくは非置
換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキ
シ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、
炭素数２〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル
基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もし
くは非置換のアリール基、アリールオキシ基などが挙げ
られるが、これらに限定されない。） 下記一般式（Ｖ）で示されるような骨格を有する化合
物。例えば、２−（２−ヒドロキシエチル）フェノー
ル、３−（２−ヒドロキシエチル）フェノール、４−
（２−ヒドロキシエチル）フェノール、２−（１−ヒド
ロキシエチル）フェノール、３−（１−ヒドロキシエチ
ル）フェノール、４−（１−ヒドロキシエチル）フェノ
ール、２−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール、３
−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール、４−（３−
ヒドロキシプロピル）フェノール、２−（２−ヒドロキ
シプロピル）フェノール、３−（２−ヒドロキシプロピ
ル）フェノール、４−（２−ヒドロキシプロピル）フェ
ノール、２−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノール、
３−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノール、４−（６
−ヒドロキシヘキシル）フェノールなどが挙げられる
が、これらに限定されない。このような化合物の分子量
は特に限定されないが、分子量１２０〜１０００万のも
のが好ましく、分子量１２０〜１００万のものがより好
ましい。
２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ６は、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換もしくは非置
換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキ
シ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、
炭素数２〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル
基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もし
くは非置換のアリール基、アリールオキシ基などが挙げ
られるが、これらに限定されない。） 下記一般式（Ｖ）で示されるような骨格を有する化合
物。例えば、２−（２−ヒドロキシエチル）フェノー
ル、３−（２−ヒドロキシエチル）フェノール、４−
（２−ヒドロキシエチル）フェノール、２−（１−ヒド
ロキシエチル）フェノール、３−（１−ヒドロキシエチ
ル）フェノール、４−（１−ヒドロキシエチル）フェノ
ール、２−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール、３
−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール、４−（３−
ヒドロキシプロピル）フェノール、２−（２−ヒドロキ
シプロピル）フェノール、３−（２−ヒドロキシプロピ
ル）フェノール、４−（２−ヒドロキシプロピル）フェ
ノール、２−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノール、
３−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノール、４−（６
−ヒドロキシヘキシル）フェノールなどが挙げられる
が、これらに限定されない。このような化合物の分子量
は特に限定されないが、分子量１２０〜１０００万のも
のが好ましく、分子量１２０〜１００万のものがより好
ましい。
【００４９】
【化１７】 （式中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、一般式（ＩＩ）の
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ７は、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換もしくは非置
換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキ
シ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、
炭素数２〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル
基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もし
くは非置換のアリール基、アリールオキシ基などが挙げ
られるが、これらに限定されない。） 下記一般式（ＶＩ）で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、ヒドロキシエチルアクリレートとヒドロ
キシスチレンとの共重合体、酢酸ビニルとヒドロキシエ
チルメタクリレート、ヒドロキシスチレンとの共重合体
などが挙げられるがこれらに限定されない。このような
化合物の分子量は特に限定されないが、分子量３００〜
１０００万のものが好ましく、分子量１０００〜１００
万のものがより好ましい。
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ７は、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換もしくは非置
換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキ
シ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、
炭素数２〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル
基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もし
くは非置換のアリール基、アリールオキシ基などが挙げ
られるが、これらに限定されない。） 下記一般式（ＶＩ）で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、ヒドロキシエチルアクリレートとヒドロ
キシスチレンとの共重合体、酢酸ビニルとヒドロキシエ
チルメタクリレート、ヒドロキシスチレンとの共重合体
などが挙げられるがこれらに限定されない。このような
化合物の分子量は特に限定されないが、分子量３００〜
１０００万のものが好ましく、分子量１０００〜１００
万のものがより好ましい。
【００５０】
【化１８】 （式中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、一般式（ＩＩ）の
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ８およびＲ９
は高分子の主鎖を示しており、硫黄原子、置換あるいは
非置換の窒素原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、
炭素数１〜１０００万の置換もしくは非置換のアルキル
基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１
０００万の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニルオキシ基、炭素数４〜１０００万の置換もしくは非
置換のアリール基、アリールオキシ基などが挙げられる
が、、これらに限定されない。） これらの〜のような化合物、あるいはそれ以上の一
般式（Ｉ）で示される構造と一般式（ＩＩ）で示される
構造とを少なくとも一つずつ有する化合物を単独、ある
いは二種以上をキノンジアジド化合物と反応させること
により、目的とする反応物を得ることができる。
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ８およびＲ９
は高分子の主鎖を示しており、硫黄原子、置換あるいは
非置換の窒素原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、
炭素数１〜１０００万の置換もしくは非置換のアルキル
基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１
０００万の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニルオキシ基、炭素数４〜１０００万の置換もしくは非
置換のアリール基、アリールオキシ基などが挙げられる
が、、これらに限定されない。） これらの〜のような化合物、あるいはそれ以上の一
般式（Ｉ）で示される構造と一般式（ＩＩ）で示される
構造とを少なくとも一つずつ有する化合物を単独、ある
いは二種以上をキノンジアジド化合物と反応させること
により、目的とする反応物を得ることができる。
【００５１】また本発明におけるキノンジアジド化合物
としては、ベンゾキノンジアジドスルホン酸およびその
誘導体、ナフトキノンジアジドスルホン酸およびその誘
導体などが挙げられるが、これらに限定されない。具体
的には１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スル
ホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸ブロミド、１，２−ベンゾキノン−２
−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ベ
ンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−６−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−６−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−６−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スルホ
ン酸などが挙げられるが、これらに限定されず、これ以
外のものでもよい。これらの中では１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、とりわ
け１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン
酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム塩が
有効である。これらのキノンジアジド化合物を用いて一
般式（Ｉ）で示される構造と一般式（ＩＩ）で示される
構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物との
反応物は、通常エステル化反応し、従って目的とする反
応物はスルホン酸エステルの構造を有するものとなる。
例えば、ヒドロキシエチルアクリレ−トとヒドロキシス
チレンとの共重合体に１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４−スルホン酸クロリドを反応させた場合、共重
合体の有する水酸基部分とスルホン酸クロリドの部分が
反応し、塩酸を脱離しながらスルホン酸エステルとな
る。
としては、ベンゾキノンジアジドスルホン酸およびその
誘導体、ナフトキノンジアジドスルホン酸およびその誘
導体などが挙げられるが、これらに限定されない。具体
的には１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スル
ホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸ブロミド、１，２−ベンゾキノン−２
−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ベ
ンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−６−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−６−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−６−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スルホ
ン酸などが挙げられるが、これらに限定されず、これ以
外のものでもよい。これらの中では１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、とりわ
け１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン
酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム塩が
有効である。これらのキノンジアジド化合物を用いて一
般式（Ｉ）で示される構造と一般式（ＩＩ）で示される
構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物との
反応物は、通常エステル化反応し、従って目的とする反
応物はスルホン酸エステルの構造を有するものとなる。
例えば、ヒドロキシエチルアクリレ−トとヒドロキシス
チレンとの共重合体に１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４−スルホン酸クロリドを反応させた場合、共重
合体の有する水酸基部分とスルホン酸クロリドの部分が
反応し、塩酸を脱離しながらスルホン酸エステルとな
る。
【００５２】一般式（Ｉ）で示される構造と一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は特に
限定されないが、好ましくは一般式（Ｉ）で示される構
造と一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なく
とも一つずつ有する化合物１００重量部に対してキノン
ジアジド化合物を０．０１〜１００万重量部、より好ま
しくは一般式（Ｉ）で示される構造と一般式（ＩＩ）で
示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化
合物１００重量部に対してキノンジアジド化合物を０．
１〜１０万重量部反応させることにより得られるのがよ
い。
Ｉ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は特に
限定されないが、好ましくは一般式（Ｉ）で示される構
造と一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なく
とも一つずつ有する化合物１００重量部に対してキノン
ジアジド化合物を０．０１〜１００万重量部、より好ま
しくは一般式（Ｉ）で示される構造と一般式（ＩＩ）で
示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化
合物１００重量部に対してキノンジアジド化合物を０．
１〜１０万重量部反応させることにより得られるのがよ
い。
【００５３】本発明の感光層は、通常は光剥離性感光層
である。光剥離性感光層とは、現像により、露光部感光
層が実質的に除去されることなく、その上のインキ反発
層が除去されるものを言う。公知の多官能化合物で架橋
せしめるか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性基
を単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液に
難溶もしくは不溶とすることにより得られたものであ
る。逆にこれらの架橋や変性を行わない場合、感光層の
露光部は現像時にインキ反発層と共に除去される。
である。光剥離性感光層とは、現像により、露光部感光
層が実質的に除去されることなく、その上のインキ反発
層が除去されるものを言う。公知の多官能化合物で架橋
せしめるか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性基
を単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液に
難溶もしくは不溶とすることにより得られたものであ
る。逆にこれらの架橋や変性を行わない場合、感光層の
露光部は現像時にインキ反発層と共に除去される。
【００５４】架橋構造を導入せしめるために用いられる
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
ート類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来るがこれらに限定されない。
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
ート類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来るがこれらに限定されない。
【００５５】多官能イソシアネート類としては、パラフ
ェニレンジイソシアネート、２，４−または２，６−ト
リレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４´−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイ
ソシアネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネー
ト（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネ
ート（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチル
カプロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられるがこれらに限定されない。多
官能エポキシ化合物としては、ポリエチレングリコール
ジグリシジルエーテル類、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル類、ビスフェノールＡジグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルなどが挙げられるが、これらに限定されない。これ
らの中で好ましいものは、多官能イソシアネート化合物
である。また、これら多官能化合物の使用量は、感光性
化合物１００重量部に対して１〜１５０重量部が好まし
く、より好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましく
は１０〜８０重量部である。
ェニレンジイソシアネート、２，４−または２，６−ト
リレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４´−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイ
ソシアネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネー
ト（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネ
ート（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチル
カプロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられるがこれらに限定されない。多
官能エポキシ化合物としては、ポリエチレングリコール
ジグリシジルエーテル類、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル類、ビスフェノールＡジグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルなどが挙げられるが、これらに限定されない。これ
らの中で好ましいものは、多官能イソシアネート化合物
である。また、これら多官能化合物の使用量は、感光性
化合物１００重量部に対して１〜１５０重量部が好まし
く、より好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましく
は１０〜８０重量部である。
【００５６】これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常１５０℃以下で行うことが好まし
く、このために公知の触媒を併用することが好ましい。
わせない範囲、通常１５０℃以下で行うことが好まし
く、このために公知の触媒を併用することが好ましい。
【００５７】またキノンジアジド化合物に単官能化合物
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該感光性化合物の活性な基を例え
ばエステル化、アミド化、ウレタン化することなどが挙
げられる。感光性化合物の活性な基と反応させる化合物
としては、低分子であっても比較的高分子であってもよ
いし、感光性化合物にモノマをグラフト重合させてもよ
い。
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該感光性化合物の活性な基を例え
ばエステル化、アミド化、ウレタン化することなどが挙
げられる。感光性化合物の活性な基と反応させる化合物
としては、低分子であっても比較的高分子であってもよ
いし、感光性化合物にモノマをグラフト重合させてもよ
い。
【００５８】本発明における感光層には、通常形態保持
の機能を果たすバインダポリマが添加される。そのよう
なバインダポリマとしては、有機溶媒可能でかつフィル
ム形成能のあるものであればいずれも使用可能である
が、好ましくはそのガラス転移温度（Ｔg ）が２０℃以
下のポリマおよびコポリマ、さらに好ましくはガラス転
移温度（Ｔg ）が０℃以下のポリマおよびコポリマを挙
げることが出来る。
の機能を果たすバインダポリマが添加される。そのよう
なバインダポリマとしては、有機溶媒可能でかつフィル
ム形成能のあるものであればいずれも使用可能である
が、好ましくはそのガラス転移温度（Ｔg ）が２０℃以
下のポリマおよびコポリマ、さらに好ましくはガラス転
移温度（Ｔg ）が０℃以下のポリマおよびコポリマを挙
げることが出来る。
【００５９】ガラス転移温度Ｔg （glass transition t
emperature）とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に（またはその逆に）変化する転移点
（温度）のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積（比
容）ー温度曲線、熱分析（ＤＳＣ，ＤＴＡ等）による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的（動的粘弾性等）および誘
電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ（dilatometer ）を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積（比容）ー温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。
emperature）とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に（またはその逆に）変化する転移点
（温度）のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積（比
容）ー温度曲線、熱分析（ＤＳＣ，ＤＴＡ等）による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的（動的粘弾性等）および誘
電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ（dilatometer ）を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積（比容）ー温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。
【００６０】以下にバインダポリマとなり得る代表的な
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。
【００６１】（１）ビニルポリマ類 以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。
れるポリマ、およびコポリマ。
【００６２】例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリ
ル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸ｎーブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−２−ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸−２−ヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水
素フタレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３−メチル−１−ブテン、ブチルビニ
ルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、α−シアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
シドやプロピレンオキシドを付加させた後（メタ）アク
リレート化したもの、およびこれらの誘導体を重合、共
重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダポリマ
として使用できる。
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリ
ル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸ｎーブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−２−ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸−２−ヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水
素フタレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３−メチル−１−ブテン、ブチルビニ
ルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、α−シアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
シドやプロピレンオキシドを付加させた後（メタ）アク
リレート化したもの、およびこれらの誘導体を重合、共
重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダポリマ
として使用できる。
【００６３】ガラス転移温度が２０℃以下のビニル系ポ
リマの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが
挙げられるが、これらに限定されない。
リマの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが
挙げられるが、これらに限定されない。
【００６４】（ａ）ポリオレフィン類 例えばポリ（１−ブテン）、ポリ（５ーシクロヘキシル
−１−ペンテン）、ポリ（１−デセン）、ポリ（１，１
−ジクロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブテ
ン）、ポリ（１，１−ジメチルプロペン）、ポリ（１−
ドデセン）、ポリエチレン、ポリ（１−ヘプテン）、ポ
リ（１−ヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６ーメチル
−１−ヘプテン）、ポリ（５ーメチル−１−ヘキセ
ン）、ポリ（２ーメチルプロペン）、ポリ（１−ノネ
ン）、ポリ（１−オクテン）、ポリ（１−ペンテン）、
ポリ（５ーフェニル−１−ペンテン）、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ（１−ブテン）等。
−１−ペンテン）、ポリ（１−デセン）、ポリ（１，１
−ジクロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブテ
ン）、ポリ（１，１−ジメチルプロペン）、ポリ（１−
ドデセン）、ポリエチレン、ポリ（１−ヘプテン）、ポ
リ（１−ヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６ーメチル
−１−ヘプテン）、ポリ（５ーメチル−１−ヘキセ
ン）、ポリ（２ーメチルプロペン）、ポリ（１−ノネ
ン）、ポリ（１−オクテン）、ポリ（１−ペンテン）、
ポリ（５ーフェニル−１−ペンテン）、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ（１−ブテン）等。
【００６５】また、ポリ（ビニルブチルエーテル）、ポ
リ（ビニルエチルエーテル）、ポリ（ビニルイソブチル
エーテル）、ポリ（ビニルメチルエーテル）等。
リ（ビニルエチルエーテル）、ポリ（ビニルイソブチル
エーテル）、ポリ（ビニルメチルエーテル）等。
【００６６】（ｂ）ポリスチレン類 ガラス転移温度２０℃以下のポリスチレン誘導体として
は、例えばポリ（４−［（２ーブトキシエトキシ）メチ
ル］スチレン）、ポリ（４−デシルスチレン）、ポリ
（４−ドデシルスチレン）、ポリ［４−（２ーエトキシ
エトキシメチル）スチレン］、ポリ［４−（１−エチル
ヘキシロキシメチル）スチレン］、ポリ［４−（ヘキシ
ロキシメチル）スチレン］、ポリ（４−ヘキシルスチレ
ン）、ポリ（４−ノニルスチレン）、ポリ［４−（オク
チロキシメチル）スチレン］、ポリ（４−オクチルスチ
レン）、ポリ（４−テトラデシルスチレン）等が挙げら
れる。
は、例えばポリ（４−［（２ーブトキシエトキシ）メチ
ル］スチレン）、ポリ（４−デシルスチレン）、ポリ
（４−ドデシルスチレン）、ポリ［４−（２ーエトキシ
エトキシメチル）スチレン］、ポリ［４−（１−エチル
ヘキシロキシメチル）スチレン］、ポリ［４−（ヘキシ
ロキシメチル）スチレン］、ポリ（４−ヘキシルスチレ
ン）、ポリ（４−ノニルスチレン）、ポリ［４−（オク
チロキシメチル）スチレン］、ポリ（４−オクチルスチ
レン）、ポリ（４−テトラデシルスチレン）等が挙げら
れる。
【００６７】（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマ ガラス転移温度２０℃以下のポリアクリレート類として
は、例えばポリ（ブチルアクリレート）、ポリ（sec −
ブチルアクリレート）、ポリ（tert−ブチルアクリレー
ト）、ポリ［２−（２−シアノエチルチオ）エチルアク
リレート］、ポリ［３−（２−シアノエチルチオ）プロ
ピルアクリレート］、ポリ［２−（シアノメチルチオ）
エチルアクリレート］、ポリ［６−（シアノメチルチ
オ）ヘキシルアクリレート］、ポリ［２−（３−シアノ
プロピルチオ）エチルアクリレート］、ポリ（２−エト
キシエチルアクリレート）、ポリ（３−エトキシプロピ
ルアクリレート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ
（２−エチルブチルアクリレート）、ポリ（２−エチル
ヘキシルアクリレート）、ポリ（５−エチルー２−ノニ
ルアクリレート）、ポリ（２−エチルチオエチルアクリ
レート）、ポリ（３−エチルチオプロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヘプチルアクリレート）、ポリ（２−ヘプ
チルアクリレート）、ポリ（ヘキシルアクリレート）、
ポリ（イソブチルアクリレート）、ポリ（イソプロピル
アクリレート）、ポリ（２−メトキシエチルアクリレー
ト）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリレート）、ポ
リ（２−メチルブチルアクリレート）、ポリ（３−メチ
ルブチルアクリレート）、ポリ（２−メチル−７−エチ
ル−４−ウンデシルアクリレート）、ポリ（２−メチル
ペンチルアクリレート）、ポリ（４−メチル−２−ペン
チルアクリレート）、ポリ（４−メチルチオブチルアク
リレート）、ポリ（２−メチルチオエチルアクリレー
ト）、ポリ（３−メチルチオプロピルアクリレート）、
ポリ（ノニルアクリレート）、ポリ（オクチルアクリレ
ート）、ポリ（２−オクチルアクリレート）、ポリ（３
−ペンチルアクリレート）、ポリ（プロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレート）等が代表例として
挙げられる。
タクリル酸エステルポリマ ガラス転移温度２０℃以下のポリアクリレート類として
は、例えばポリ（ブチルアクリレート）、ポリ（sec −
ブチルアクリレート）、ポリ（tert−ブチルアクリレー
ト）、ポリ［２−（２−シアノエチルチオ）エチルアク
リレート］、ポリ［３−（２−シアノエチルチオ）プロ
ピルアクリレート］、ポリ［２−（シアノメチルチオ）
エチルアクリレート］、ポリ［６−（シアノメチルチ
オ）ヘキシルアクリレート］、ポリ［２−（３−シアノ
プロピルチオ）エチルアクリレート］、ポリ（２−エト
キシエチルアクリレート）、ポリ（３−エトキシプロピ
ルアクリレート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ
（２−エチルブチルアクリレート）、ポリ（２−エチル
ヘキシルアクリレート）、ポリ（５−エチルー２−ノニ
ルアクリレート）、ポリ（２−エチルチオエチルアクリ
レート）、ポリ（３−エチルチオプロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヘプチルアクリレート）、ポリ（２−ヘプ
チルアクリレート）、ポリ（ヘキシルアクリレート）、
ポリ（イソブチルアクリレート）、ポリ（イソプロピル
アクリレート）、ポリ（２−メトキシエチルアクリレー
ト）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリレート）、ポ
リ（２−メチルブチルアクリレート）、ポリ（３−メチ
ルブチルアクリレート）、ポリ（２−メチル−７−エチ
ル−４−ウンデシルアクリレート）、ポリ（２−メチル
ペンチルアクリレート）、ポリ（４−メチル−２−ペン
チルアクリレート）、ポリ（４−メチルチオブチルアク
リレート）、ポリ（２−メチルチオエチルアクリレー
ト）、ポリ（３−メチルチオプロピルアクリレート）、
ポリ（ノニルアクリレート）、ポリ（オクチルアクリレ
ート）、ポリ（２−オクチルアクリレート）、ポリ（３
−ペンチルアクリレート）、ポリ（プロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレート）等が代表例として
挙げられる。
【００６８】ガラス転移温度２０℃以下のポリメタクリ
レート類としては、例えばポリ（デシルメタクリレー
ト）、ポリ（ドデシルメタクリレート）、ポリ（２−エ
チルヘキシルメタクリレート）、ポリ（オクタデシルメ
タクリレート）、ポリ（オクチルメタクリレート）、ポ
リ（テトラデシルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ヘキシ
ルメタクリレート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）
等が挙げられる。
レート類としては、例えばポリ（デシルメタクリレー
ト）、ポリ（ドデシルメタクリレート）、ポリ（２−エ
チルヘキシルメタクリレート）、ポリ（オクタデシルメ
タクリレート）、ポリ（オクチルメタクリレート）、ポ
リ（テトラデシルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ヘキシ
ルメタクリレート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）
等が挙げられる。
【００６９】（２）未加硫ゴム 天然ゴム（ＮＲ）やブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン（ＢＲ）、スチレンーブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレンー
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステルーブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステルーブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テルーアクリルニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レンーイソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ルーブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリルーブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ルークロロプレン共重合体、アクリロニトリルーイソプ
レン共重合体、エチレンープロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジンースチレンーブタジエ
ン共重合体、スチレンーイソプレン共重合体などが挙げ
られる。これらの未加硫ゴムは一般的にはガラス転移温
度２０℃以下である。
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン（ＢＲ）、スチレンーブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレンー
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステルーブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステルーブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テルーアクリルニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レンーイソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ルーブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリルーブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ルークロロプレン共重合体、アクリロニトリルーイソプ
レン共重合体、エチレンープロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジンースチレンーブタジエ
ン共重合体、スチレンーイソプレン共重合体などが挙げ
られる。これらの未加硫ゴムは一般的にはガラス転移温
度２０℃以下である。
【００７０】これらの他に、ガラス転移温度２０℃以下
のゴム類の具体例としては、例えばポリ（１，３−ブタ
ジエン）、ポリ（２−クロロ−１，３−ブタジエン）、
ポリ（２−デシル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２，
３−ジメチル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−エチ
ル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−ヘプチル−１，
３−ブタジエン）、ポリ（２−イソプロピル−１，３−
ブタジエン）、ポリ（２−メチル−１，３−ブタジエ
ン）、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されない。
のゴム類の具体例としては、例えばポリ（１，３−ブタ
ジエン）、ポリ（２−クロロ−１，３−ブタジエン）、
ポリ（２−デシル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２，
３−ジメチル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−エチ
ル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−ヘプチル−１，
３−ブタジエン）、ポリ（２−イソプロピル−１，３−
ブタジエン）、ポリ（２−メチル−１，３−ブタジエ
ン）、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されない。
【００７１】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。
【００７２】（３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類） トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２−
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２−
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。
【００７３】ガラス転移温度２０℃以下のポリオキシド
類の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポ
リ（ブタジエンオキシド）、ポリ（１−ブテンオキシ
ド）、ポリ（ドデセンオキシド）、ポリ（エチレンオキ
シド）、ポリ（イソブテンオキシド）、ポリホルムアル
デヒド、ポリ（プロピレンオキシド）、ポリ（テトラメ
チレンオキシド）、ポリ（トリメチレンオキシド）等が
挙げられる。
類の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポ
リ（ブタジエンオキシド）、ポリ（１−ブテンオキシ
ド）、ポリ（ドデセンオキシド）、ポリ（エチレンオキ
シド）、ポリ（イソブテンオキシド）、ポリホルムアル
デヒド、ポリ（プロピレンオキシド）、ポリ（テトラメ
チレンオキシド）、ポリ（トリメチレンオキシド）等が
挙げられる。
【００７４】（４）ポリエステル類 以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もバインダポリマとして使用可能で
ある。
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もバインダポリマとして使用可能で
ある。
【００７５】多価アルコールとしては、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、ｐ−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール
等。
ール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、ｐ−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール
等。
【００７６】多価カルボン酸よび多価カルボン酸無水物
としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。
としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。
【００７７】ラクトンとしては、βープロピオラクト
ン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、εーカ
プロラクトン等。
ン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、εーカ
プロラクトン等。
【００７８】ガラス転移温度２０℃のポリエステルの具
体例としては、例えばポリ［１，４−（２−ブテン）セ
バケ−ト］、ポリ［１，４−（２−ブテン）セバケ−
ト］、ポリ（デカメチレンアジペイト）、ポリ（エチレ
ンアジペイト）、ポリ（オキシジエチレンアジペイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンアゼラエイト）、ポリ
（オキシジエチレンドデカンジエイト）、オイル（オキ
シジエチレングルタレイト）、ポリ（オキシジエチレン
ヘプチルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレンマロネ
イト）、ポリ（オキシジエチレンメチルマロネイト）、
ポリ（オキシジエチレンノニルマロネイト）、ポリ（オ
キシジエチレンオクタデカンジエイト）、ポリ（オキシ
ジエチレンオキザレイト）、ポリ（オキシジエチレンペ
ンチルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレンピメレイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンプロピルマロネイト）、
ポリ（オキシジエチレンセバケ−ト）、ポリ（オキシジ
エチレンスベレイト）、ポリ（オキシジエチレンスクシ
ネイト）、ポリ（ペンタメチレンアジペイト）、ポリ
（テトラメチレンアジペイト）、ポリ（テトラメチレン
セバケ−ト）、ポリ（トリメチレンアジペイト）等が挙
げられるが、これらに限定されない。
体例としては、例えばポリ［１，４−（２−ブテン）セ
バケ−ト］、ポリ［１，４−（２−ブテン）セバケ−
ト］、ポリ（デカメチレンアジペイト）、ポリ（エチレ
ンアジペイト）、ポリ（オキシジエチレンアジペイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンアゼラエイト）、ポリ
（オキシジエチレンドデカンジエイト）、オイル（オキ
シジエチレングルタレイト）、ポリ（オキシジエチレン
ヘプチルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレンマロネ
イト）、ポリ（オキシジエチレンメチルマロネイト）、
ポリ（オキシジエチレンノニルマロネイト）、ポリ（オ
キシジエチレンオクタデカンジエイト）、ポリ（オキシ
ジエチレンオキザレイト）、ポリ（オキシジエチレンペ
ンチルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレンピメレイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンプロピルマロネイト）、
ポリ（オキシジエチレンセバケ−ト）、ポリ（オキシジ
エチレンスベレイト）、ポリ（オキシジエチレンスクシ
ネイト）、ポリ（ペンタメチレンアジペイト）、ポリ
（テトラメチレンアジペイト）、ポリ（テトラメチレン
セバケ−ト）、ポリ（トリメチレンアジペイト）等が挙
げられるが、これらに限定されない。
【００７９】（５）ポリウレタン類 以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
（あるいはメタクリル）単量体とアクリル（あるいはメ
タクリル）酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
（あるいはメタクリル）単量体とアクリル（あるいはメ
タクリル）酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。
【００８０】イソシアネート類としては、パラフェニレ
ンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−トルイレ
ンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシア
ネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（Ｘ
ＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート
（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネート
（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
ンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−トルイレ
ンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシア
ネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（Ｘ
ＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート
（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネート
（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
【００８１】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキシドープロピレンオキシド
共重合体、テトラヒドロフランーエチレンオキシド共重
合体、テトラヒドロフランープロピレンオキシド共重合
体等を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチ
レンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキ
サメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、
ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチ
レンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεー
カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネ
ートジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビ
トール、メチルグルコジット、シュクローズ等を挙げる
ことが出来る。
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキシドープロピレンオキシド
共重合体、テトラヒドロフランーエチレンオキシド共重
合体、テトラヒドロフランープロピレンオキシド共重合
体等を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチ
レンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキ
サメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、
ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチ
レンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεー
カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネ
ートジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビ
トール、メチルグルコジット、シュクローズ等を挙げる
ことが出来る。
【００８２】また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
【００８３】さらに、分岐したポリウレタン樹脂や水酸
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。
【００８４】これらの他、ポリ（テトラメチレンヘキサ
メチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブテン）
ヘキサメチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブ
チン）ヘキサメチレンーウレタン）等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
メチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブテン）
ヘキサメチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブ
チン）ヘキサメチレンーウレタン）等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
【００８５】これらのポリウレタンは一般的にはガラス
転移温度２０℃以下である。
転移温度２０℃以下である。
【００８６】（６）ポリアミド類 従来提案されているポリアミド類もまたバインダポリマ
として使用できる。基本的な組成としては、次に示すモ
ノマ類のコポリマ−である。
として使用できる。基本的な組成としては、次に示すモ
ノマ類のコポリマ−である。
【００８７】εーカプロラクタム、ωーカプロラクタ
ム、ωーアミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジアミ
ン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタン、
２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソ
ホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。
ム、ωーアミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジアミ
ン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタン、
２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソ
ホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。
【００８８】さらに詳しく説明すると、ポリアミドは一
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
４８−７２２５０号公報に示されるような３，５−ジカ
ルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合す
ることによって得られるスルホン酸基またはスルホネー
ト基を含有するポリアミド、特開昭４９−４３４６５号
公報に示されているような分子中にエーテル結合を持つ
ジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちい
ずれか１種類を共重合して得られるところのエーテル結
合を有するポリアミド、特開昭５０−７６０５号公報に
示されているようなＮ，Ｎ’−ジ（γ−アミノプロピ
ル）ピペラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含
有するポリアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル
酸等で四級化したポリアミド、特開昭５５−７４５３７
号公報で提案されている分子量１５０〜１５００のポリ
エーテルセグメントを含有する共重合ポリアミド、およ
びα−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）−ε−カプロラ
クタムの開環重合またはα−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルア
ミノ）−ε−カプロラクタムとε−カプロラクタムの開
環共重合で得られるところのポリアミド等が挙げられ
る。
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
４８−７２２５０号公報に示されるような３，５−ジカ
ルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合す
ることによって得られるスルホン酸基またはスルホネー
ト基を含有するポリアミド、特開昭４９−４３４６５号
公報に示されているような分子中にエーテル結合を持つ
ジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちい
ずれか１種類を共重合して得られるところのエーテル結
合を有するポリアミド、特開昭５０−７６０５号公報に
示されているようなＮ，Ｎ’−ジ（γ−アミノプロピ
ル）ピペラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含
有するポリアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル
酸等で四級化したポリアミド、特開昭５５−７４５３７
号公報で提案されている分子量１５０〜１５００のポリ
エーテルセグメントを含有する共重合ポリアミド、およ
びα−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）−ε−カプロラ
クタムの開環重合またはα−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルア
ミノ）−ε−カプロラクタムとε−カプロラクタムの開
環共重合で得られるところのポリアミド等が挙げられ
る。
【００８９】またアルコール可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン３、４、５、６、８、１１、１
２、１３、６６、６１０、６／１０、１３／１３、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カプロラク
タム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／４，４’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
ε−カプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのＮ−メチロール、Ｎ−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン３、４、５、６、８、１１、１
２、１３、６６、６１０、６／１０、１３／１３、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カプロラク
タム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／４，４’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
ε−カプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのＮ−メチロール、Ｎ−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。
【００９０】以上のようなポリアミドを単独または混合
してバインダポリマとして用いることが出来る。
してバインダポリマとして用いることが出来る。
【００９１】ガラス転移温度２０℃以下のポリアミドと
しては、分子量１５０〜１５００のポリエーテルセグメ
ントを含有する共重合ポリアミド、より具体的には末端
にアミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分子量
が１５０〜１５００であるポリオキシエチレンと脂肪族
ジカルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を３０
〜７０重量％含有するところの共重合ポリアミドが挙げ
られるが、これらに限定されない。
しては、分子量１５０〜１５００のポリエーテルセグメ
ントを含有する共重合ポリアミド、より具体的には末端
にアミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分子量
が１５０〜１５００であるポリオキシエチレンと脂肪族
ジカルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を３０
〜７０重量％含有するところの共重合ポリアミドが挙げ
られるが、これらに限定されない。
【００９２】これらバインダポリマと成りうるポリマは
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。
【００９３】これらバインダポリマの中ではポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
【００９４】また、バインダポリマの使用量は感光層が
画像再現性を有する範囲でればどのような割合でもよい
が、本発明における感光層の引張特性を十分に引き出す
ためには感光層成分に対して１０〜９０wt％使用するの
が適しており、さらに好ましい使用量は１５〜６５wt
％、最も好ましいのは２０〜５５wt％である。
画像再現性を有する範囲でればどのような割合でもよい
が、本発明における感光層の引張特性を十分に引き出す
ためには感光層成分に対して１０〜９０wt％使用するの
が適しており、さらに好ましい使用量は１５〜６５wt
％、最も好ましいのは２０〜５５wt％である。
【００９５】また、感光層成分に対し１０〜９０wt％の
バインダポリマと、一般式（Ｉ）で示される構造と一般
式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つ
ずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物
（例えば全体のエステル化率が１０〜９０％であるよう
な、グリセリンと４−ヒドロキシベンズアルデヒドとの
反応物と１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルホン酸クロリドによるスルホン酸エステル反応物）の
組み合わせは最も好ましい組成となる。
バインダポリマと、一般式（Ｉ）で示される構造と一般
式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つ
ずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物
（例えば全体のエステル化率が１０〜９０％であるよう
な、グリセリンと４−ヒドロキシベンズアルデヒドとの
反応物と１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルホン酸クロリドによるスルホン酸エステル反応物）の
組み合わせは最も好ましい組成となる。
【００９６】キノンジアジドスルホン酸エステルを用い
る場合、エステル化率が１０％未満である場合は、感光
性基の数が少ないため画像再現性、現像性の低下という
問題が生じる。一方、エステル化率が９０％より高い場
合は残存水酸基、すなわち架橋点の減少を意味するた
め、感光層の耐溶剤性、インキ反発層と感光層との間の
接着力に問題を引き起こす場合がある。
る場合、エステル化率が１０％未満である場合は、感光
性基の数が少ないため画像再現性、現像性の低下という
問題が生じる。一方、エステル化率が９０％より高い場
合は残存水酸基、すなわち架橋点の減少を意味するた
め、感光層の耐溶剤性、インキ反発層と感光層との間の
接着力に問題を引き起こす場合がある。
【００９７】バインダポリマが１０wt％未満である場合
には、満足な感光層物性を発現させることが困難であ
り、一方、９０wt％より多い場合は結果的に感光性化合
物の減量を意味するため、画像再現性、現像性、インキ
反発層と感光層との間の接着力などに問題を生じさせ
る。
には、満足な感光層物性を発現させることが困難であ
り、一方、９０wt％より多い場合は結果的に感光性化合
物の減量を意味するため、画像再現性、現像性、インキ
反発層と感光層との間の接着力などに問題を生じさせ
る。
【００９８】上記の諸成分に加え、必要に応じて光増感
剤、酸、塩基、染料、顔料、光発色剤、界面活性剤、触
媒などの添加剤を加えることは任意である。特に、露光
現像された印刷版の検版性を向上させる意味から、適当
な染料、顔料、光発色剤などを単独あるいは二種以上組
み合わせて用いることにより、可視画像再現性に優れた
印刷版原版となりうる。
剤、酸、塩基、染料、顔料、光発色剤、界面活性剤、触
媒などの添加剤を加えることは任意である。特に、露光
現像された印刷版の検版性を向上させる意味から、適当
な染料、顔料、光発色剤などを単独あるいは二種以上組
み合わせて用いることにより、可視画像再現性に優れた
印刷版原版となりうる。
【００９９】感光層の厚さは０．１〜１００μｍ、好ま
しくは約０．５〜１０μｍが適当である。薄すぎると感
光層中にピンホールを生じやすくなり、一方厚すぎると
経済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。
しくは約０．５〜１０μｍが適当である。薄すぎると感
光層中にピンホールを生じやすくなり、一方厚すぎると
経済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。
【０１００】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。
【０１０１】例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼など
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄などがメッキあるいは蒸着された金属
板、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
などのようなプラスチックフィルムないしはシート、ク
ロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性を有する支持
体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持体、もしくは
紙、樹脂コート紙、アルミニウムなどの金属箔が張られ
た紙などが挙げられる。これらの支持体上にはハレーシ
ョン防止その他の目的でさらに他の物質をコーティング
して支持体として用いることも可能である。
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄などがメッキあるいは蒸着された金属
板、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
などのようなプラスチックフィルムないしはシート、ク
ロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性を有する支持
体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持体、もしくは
紙、樹脂コート紙、アルミニウムなどの金属箔が張られ
た紙などが挙げられる。これらの支持体上にはハレーシ
ョン防止その他の目的でさらに他の物質をコーティング
して支持体として用いることも可能である。
【０１０２】これらの内、好ましいのは金属板であり、
とりわけアルミニウムを用いた金属板が好ましい。この
ような金属板はそのまま用いるか、アルカリ水溶液等に
よる脱脂処理等によりプレーン化して使用する。もしく
は機械的方法、電解エッチング法等により砂目形状を形
成させて粗面化しもよい。この際砂目形状を形成させる
前に脱脂処理を行うことは任意である。機械的方法とし
ては、例えばポール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニ
ングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げられる。機械的
研磨方法において用いられる研磨材としては、アルミ
ナ、シリコーンカーバイド、ボロンカーバイド、ダイヤ
モンド、砂けい石、花こう岩、石灰石、人造エメリー、
鋼球、鉄片、アランダム、バミストン、酸化マグネシウ
ム等が挙げられ、所望の粒径のものが用いられる。電解
エッチング法としては、リン酸、硫酸、過塩素酸、塩
酸、硝酸、ピロリン酸、フッ酸等を含む溶液を用いてエ
ッチングする方法が挙げられる。粗面化された金属板の
製造にあたっては、金属板の組成等に応じて上記の各種
方法を適宜選択して使用することができる。上記の各種
方法は、単独あるいは二種以上組み合わせて用いること
ができる。
とりわけアルミニウムを用いた金属板が好ましい。この
ような金属板はそのまま用いるか、アルカリ水溶液等に
よる脱脂処理等によりプレーン化して使用する。もしく
は機械的方法、電解エッチング法等により砂目形状を形
成させて粗面化しもよい。この際砂目形状を形成させる
前に脱脂処理を行うことは任意である。機械的方法とし
ては、例えばポール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニ
ングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げられる。機械的
研磨方法において用いられる研磨材としては、アルミ
ナ、シリコーンカーバイド、ボロンカーバイド、ダイヤ
モンド、砂けい石、花こう岩、石灰石、人造エメリー、
鋼球、鉄片、アランダム、バミストン、酸化マグネシウ
ム等が挙げられ、所望の粒径のものが用いられる。電解
エッチング法としては、リン酸、硫酸、過塩素酸、塩
酸、硝酸、ピロリン酸、フッ酸等を含む溶液を用いてエ
ッチングする方法が挙げられる。粗面化された金属板の
製造にあたっては、金属板の組成等に応じて上記の各種
方法を適宜選択して使用することができる。上記の各種
方法は、単独あるいは二種以上組み合わせて用いること
ができる。
【０１０３】電解エッチング法は、上記の酸を単独ある
いは二種以上混合した浴で行われる。これらの中で好ま
しいのは、硫酸、リン酸、塩酸、硝酸を単独あるいは二
種以上混合した浴である。これにアルコール、無水酢
酸、不飽和カルボン酸等の有機物や重クロム酸カリウ
ム、過酸化水素等の無機物、ゼラチンやデンプン等のコ
ロイド質類、更にクリセリン、その他の粘性物質、及び
界面活性剤等を添加剤として浴に加えることも任意であ
る。これらの添加剤は単独または二種以上組み合わせて
使用してもよい。電解エッチング浴は水に上記の酸類及
び必要に応じて上記添加剤を加えて調製する。
いは二種以上混合した浴で行われる。これらの中で好ま
しいのは、硫酸、リン酸、塩酸、硝酸を単独あるいは二
種以上混合した浴である。これにアルコール、無水酢
酸、不飽和カルボン酸等の有機物や重クロム酸カリウ
ム、過酸化水素等の無機物、ゼラチンやデンプン等のコ
ロイド質類、更にクリセリン、その他の粘性物質、及び
界面活性剤等を添加剤として浴に加えることも任意であ
る。これらの添加剤は単独または二種以上組み合わせて
使用してもよい。電解エッチング浴は水に上記の酸類及
び必要に応じて上記添加剤を加えて調製する。
【０１０４】電解エッチングの際、浴温度は５〜８０℃
の範囲で行うことが好ましく、１０〜５０℃の範囲で行
うことがより好ましい。電流密度は５〜３００Ａ／ｄｍ
2 の範囲が好ましく、１０〜２００Ａ／ｄｍ2 の範囲が
より好ましい。
の範囲で行うことが好ましく、１０〜５０℃の範囲で行
うことがより好ましい。電流密度は５〜３００Ａ／ｄｍ
2 の範囲が好ましく、１０〜２００Ａ／ｄｍ2 の範囲が
より好ましい。
【０１０５】更に、上記の脱脂処理、砂目形状形成等を
行った後、１〜１０％メタケイ酸ナトリウム水溶液に温
度６０〜９０℃で２０〜９０秒間浸し、更にｐＨ７．５
〜９．５で温度１０〜９０℃の水に１０〜９０秒浸し、
水洗、乾燥して支持体として用いることもできる。
行った後、１〜１０％メタケイ酸ナトリウム水溶液に温
度６０〜９０℃で２０〜９０秒間浸し、更にｐＨ７．５
〜９．５で温度１０〜９０℃の水に１０〜９０秒浸し、
水洗、乾燥して支持体として用いることもできる。
【０１０６】本発明の水なし平版印刷版において、支持
体と感光層との接着は、画像再現性、耐刷力などの基本
的な版性能にとって非常に重要であるので、好ましくは
支持体に感光層を塗布する前に、感光層と支持体との十
分な接着性を得るために支持体にプライマ層を設けるの
がよい。
体と感光層との接着は、画像再現性、耐刷力などの基本
的な版性能にとって非常に重要であるので、好ましくは
支持体に感光層を塗布する前に、感光層と支持体との十
分な接着性を得るために支持体にプライマ層を設けるの
がよい。
【０１０７】本発明におけるプライマ層を構成する成分
としては、プライマ層単独あるいは感光層と合わせた層
の引張特性が、感光層と同様、 （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有していることが好ましい。
としては、プライマ層単独あるいは感光層と合わせた層
の引張特性が、感光層と同様、 （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有していることが好ましい。
【０１０８】プライマ層の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３
０１にしたがって測定する。ガラス板上にプライマ液を
塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱硬化させる。この
後、ガラス板よりシ−トを剥がすことで約１００ミクロ
ンの厚さのシ−トを得る。このシ−トから５ｍｍ×５０
ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テンシロン ＲＴＭ
−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速度
２０ｃｍ／分で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を測
定する。
０１にしたがって測定する。ガラス板上にプライマ液を
塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱硬化させる。この
後、ガラス板よりシ−トを剥がすことで約１００ミクロ
ンの厚さのシ−トを得る。このシ−トから５ｍｍ×５０
ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テンシロン ＲＴＭ
−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速度
２０ｃｍ／分で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を測
定する。
【０１０９】このような物性を有するためには、プライ
マ層が、感光層で述べた以下のようなバインダポリマを
成分として含んでいることが好ましい。
マ層が、感光層で述べた以下のようなバインダポリマを
成分として含んでいることが好ましい。
【０１１０】（１）ビニルポリマ類 （ａ）ポリオレフィン類 （ｂ）ポリスチレン類 （ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エ
ステルポリマ類 （２）未加流ゴム （３）ポリオキシド類（ポリエーテル類） （４）ポリエステル類 （５）ポリウレタン類 （６）ポリアミド類 更に、これ以外に、次のようなバインダポリマを用いる
ことも可能であるが、これらに限定されず、これ以外の
ものでもプライマ層単独あるいは感光層と合わせた層が
本発明の引張特性を有するものであれば何でもよい。
ステルポリマ類 （２）未加流ゴム （３）ポリオキシド類（ポリエーテル類） （４）ポリエステル類 （５）ポリウレタン類 （６）ポリアミド類 更に、これ以外に、次のようなバインダポリマを用いる
ことも可能であるが、これらに限定されず、これ以外の
ものでもプライマ層単独あるいは感光層と合わせた層が
本発明の引張特性を有するものであれば何でもよい。
【０１１１】尿素樹脂、フェノール樹脂類、ベンゾグア
ナミン樹脂類、フェノキシ樹脂類、ジアゾ樹脂類、セル
ロースおよびその誘導体、セルロースおよびその誘導
体、キチン、キトサン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大
豆タンパク質、アルブミンなど。
ナミン樹脂類、フェノキシ樹脂類、ジアゾ樹脂類、セル
ロースおよびその誘導体、セルロースおよびその誘導
体、キチン、キトサン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大
豆タンパク質、アルブミンなど。
【０１１２】これらのバインダポリマは単独で、あるい
は二種以上混合して、さらには感光層で述べたような架
橋剤などと共に用いることができる。
は二種以上混合して、さらには感光層で述べたような架
橋剤などと共に用いることができる。
【０１１３】これらの中では、アクリル酸エステルポリ
マおよびメタクリル酸エステルポリマ類、未加流ゴム、
ポリウレタン樹脂、ポリオキシド類、尿素樹脂、ジアゾ
樹脂類、ミルクカゲイン、ゼラチン等を単独、または他
のバインダポリマと混合して用いるのが好ましい。特
に、アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エス
テルポリマ類、未加流ゴム、ポリウレタン樹脂、ポリオ
キシド類、尿素樹脂等を単独、または他のバインダポリ
マと混合して用いるのが好ましい。
マおよびメタクリル酸エステルポリマ類、未加流ゴム、
ポリウレタン樹脂、ポリオキシド類、尿素樹脂、ジアゾ
樹脂類、ミルクカゲイン、ゼラチン等を単独、または他
のバインダポリマと混合して用いるのが好ましい。特
に、アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エス
テルポリマ類、未加流ゴム、ポリウレタン樹脂、ポリオ
キシド類、尿素樹脂等を単独、または他のバインダポリ
マと混合して用いるのが好ましい。
【０１１４】また、バインダポリマの使用量は支持体と
感光層とを接着させうる範囲であればどのような割合で
もよいが、本発明におけるプライマ層の引張特性を十分
に引き出すためには、プライマ層成分中に５〜１００wt
％使用するのが好ましく、より好ましくは１０〜９９wt
％、最も好ましいのは２０〜９５wt％である。
感光層とを接着させうる範囲であればどのような割合で
もよいが、本発明におけるプライマ層の引張特性を十分
に引き出すためには、プライマ層成分中に５〜１００wt
％使用するのが好ましく、より好ましくは１０〜９９wt
％、最も好ましいのは２０〜９５wt％である。
【０１１５】また上記プライマ層を構成するアンカー剤
としては、例えばシランカップリング剤を用いる事が出
来、また有機チタネート等も有効である。
としては、例えばシランカップリング剤を用いる事が出
来、また有機チタネート等も有効である。
【０１１６】基板からのハレ−ションを防止するためや
検版性の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、
酸化亜鉛のような白色顔料や黄色顔料を添加することも
できる。
検版性の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、
酸化亜鉛のような白色顔料や黄色顔料を添加することも
できる。
【０１１７】さらに、塗工性を改良する目的で、界面活
性剤等を添加することも任意である。
性剤等を添加することも任意である。
【０１１８】上記のプライマ層を形成するための組成物
は、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な有機溶媒に
溶解させることによって組成物溶液として調製される。
かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必要な温度で
必要な時間加熱することによりプライマ層が形成され
る。
は、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な有機溶媒に
溶解させることによって組成物溶液として調製される。
かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必要な温度で
必要な時間加熱することによりプライマ層が形成され
る。
【０１１９】プライマ層の厚さは０．１〜１００μｍ、
好ましくは０．３〜５０μｍ、より好ましくは０．５〜
３０μｍが選ばれる。薄すぎると基板表面の形態欠陥お
よび化学的悪影響の遮断効果が劣り、一方厚すぎると経
済的に不利になるので上記の範囲が好ましい。
好ましくは０．３〜５０μｍ、より好ましくは０．５〜
３０μｍが選ばれる。薄すぎると基板表面の形態欠陥お
よび化学的悪影響の遮断効果が劣り、一方厚すぎると経
済的に不利になるので上記の範囲が好ましい。
【０１２０】プライマ層中の各成分の配合割合について
は特に限定されないが、好ましくは上記のバインダ−ポ
リマの一種もしくは二種以上を１００重量部、必要に応
じて架橋剤を０〜１００重量部、染料あるいは顔料など
の添加剤を０〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重
量部加えることにより設けるのがよい。
は特に限定されないが、好ましくは上記のバインダ−ポ
リマの一種もしくは二種以上を１００重量部、必要に応
じて架橋剤を０〜１００重量部、染料あるいは顔料など
の添加剤を０〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重
量部加えることにより設けるのがよい。
【０１２１】本発明の水なし平版印刷版原版において、
感光層とインキ反発層との接着は、画像再現性、耐刷力
などの基本的な版性能にとって非常に重要であるので、
必要に応じて層間の接着剤層を設けたり、各層に接着性
改良成分を添加したりすることが可能である。感光層と
インキ反発層間の接着のために、層間に公知のシリコー
ンプライマやシランカップリング剤を設けたり、インキ
反発層あるいは感光層にシリコーンプライマやシランカ
ップリング剤を添加すると効果的である。
感光層とインキ反発層との接着は、画像再現性、耐刷力
などの基本的な版性能にとって非常に重要であるので、
必要に応じて層間の接着剤層を設けたり、各層に接着性
改良成分を添加したりすることが可能である。感光層と
インキ反発層間の接着のために、層間に公知のシリコー
ンプライマやシランカップリング剤を設けたり、インキ
反発層あるいは感光層にシリコーンプライマやシランカ
ップリング剤を添加すると効果的である。
【０１２２】本発明に用いられるインキ反発層として
は、例えばシリコーンゴムを用いたもの、フッ素樹脂を
用いたものが挙げられるが、これらに限定されず、水な
し平版印刷版に使用可能とされている公知のインキ反発
層であれば何でもよい。
は、例えばシリコーンゴムを用いたもの、フッ素樹脂を
用いたものが挙げられるが、これらに限定されず、水な
し平版印刷版に使用可能とされている公知のインキ反発
層であれば何でもよい。
【０１２３】インキ反発層としてシリコーンゴムを用い
る場合、シリコーンゴム層は、通常下記一般式（ＶＩ
Ｉ）のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
る場合、シリコーンゴム層は、通常下記一般式（ＶＩ
Ｉ）のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
【０１２４】
【化１９】 （式中、ｎは２以上の整数、Ｒ１０、Ｒ１１は炭素数１
〜５０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜
５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜
５０の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれ
る少なくとも一種であい、それぞれ同一でも異なってい
てもよい。Ｒ１０、Ｒ１１の全体の４０％以下がビニ
ル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニル
であり、全体の６０％以上がメチル基であるものが好ま
しい。） このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添
加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコ
ーンゴムとすることもできる。
〜５０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜
５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜
５０の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれ
る少なくとも一種であい、それぞれ同一でも異なってい
てもよい。Ｒ１０、Ｒ１１の全体の４０％以下がビニ
ル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニル
であり、全体の６０％以上がメチル基であるものが好ま
しい。） このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添
加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコ
ーンゴムとすることもできる。
【０１２５】この線状有機ポリシロキサンには、通常以
下の一般式（ＶＩＩＩ）に示すような架橋剤を添加する
ことにより架橋させる。
下の一般式（ＶＩＩＩ）に示すような架橋剤を添加する
ことにより架橋させる。
【０１２６】 Ｒ１２m ＳｉＸ4-m （ＶＩＩＩ） （式中、ｍは０〜２の整数であり、Ｒ１２はアルキル
基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合
わされた基を示し、それらはハロゲン原子、アミン基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、（メ
タ）アクリロキシ基、チオール基等の官能基を置換基と
して有していてもよい。Ｘは水素原子、水酸基アルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基などの官
能基を示している。） 架橋剤としては、上記のようないわゆる室温（低温）硬
化型のシリコーンゴムに使われている多官能シラン化合
物をあげることが出来る。例えば、トリメトキシシリル
基、アミノ基、グリシジル基、メタクリル基、アリル
基、ビニル基等を有するアセトキシシラン、ケトオキシ
ムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシ
ランなどが挙げられるが、これらに限定されない。
基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合
わされた基を示し、それらはハロゲン原子、アミン基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、（メ
タ）アクリロキシ基、チオール基等の官能基を置換基と
して有していてもよい。Ｘは水素原子、水酸基アルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基などの官
能基を示している。） 架橋剤としては、上記のようないわゆる室温（低温）硬
化型のシリコーンゴムに使われている多官能シラン化合
物をあげることが出来る。例えば、トリメトキシシリル
基、アミノ基、グリシジル基、メタクリル基、アリル
基、ビニル基等を有するアセトキシシラン、ケトオキシ
ムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシ
ランなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【０１２７】これらは通常線状有機ポリシロキサンとし
て末端が水酸基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱ア
ミド型などのシリコーンゴムとなる。
て末端が水酸基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱ア
ミド型などのシリコーンゴムとなる。
【０１２８】このような縮合型の架橋を行うシリコーン
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ（ＩＩ）オクトエ−ト、ナフテン酸塩、あるいは塩化
白金酸のような触媒、あるいはこれ以外に知られている
公知の触媒を添加してもよい。
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ（ＩＩ）オクトエ−ト、ナフテン酸塩、あるいは塩化
白金酸のような触媒、あるいはこれ以外に知られている
公知の触媒を添加してもよい。
【０１２９】また、ラジカル開始剤により、線状有機ポ
リシロキサンを硬化させてシリコーンゴムとすることも
可能である。この際、公知のラジカル開始剤を適当量加
えることは任意である。
リシロキサンを硬化させてシリコーンゴムとすることも
可能である。この際、公知のラジカル開始剤を適当量加
えることは任意である。
【０１３０】また、ＳｉＨ基と−ＣＨ＝ＣＨ−基との付
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、１分子に２
個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分： （１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオル
ガノポリシロキサン （２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合２個有するオル
ガノポリシロキサン （３）付加触媒 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分（１）
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の基としては、置換もしくは非
置換のアルキル基、アリール基などが挙げられるがこれ
らに限定されない。成分（１）には水酸基を微量含有さ
せてもよい。成分（２）は成分（１）と反応してシリコ
ーンゴム層を形成するが、感光層に対する接着性の付与
の役割も果たす。成分（２）の水酸基は分子鎖末端、中
間のいずれにあっても良い。水素以外の有機基としては
成分（１）と同様のものから選ばれる。成分（１）と成
分（２）の有機基はインキ反発性向上の点で、総じて基
数の６０％以上がメチル基であることが好ましい。成分
（１）および成分（２）の分子構造は直鎖状、環状、分
岐状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量
が１，０００を越えることがゴム物性の面で好ましく、
更に成分（１）の分子量が１，０００を越えることが好
ましい。
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、１分子に２
個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分： （１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオル
ガノポリシロキサン （２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合２個有するオル
ガノポリシロキサン （３）付加触媒 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分（１）
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の基としては、置換もしくは非
置換のアルキル基、アリール基などが挙げられるがこれ
らに限定されない。成分（１）には水酸基を微量含有さ
せてもよい。成分（２）は成分（１）と反応してシリコ
ーンゴム層を形成するが、感光層に対する接着性の付与
の役割も果たす。成分（２）の水酸基は分子鎖末端、中
間のいずれにあっても良い。水素以外の有機基としては
成分（１）と同様のものから選ばれる。成分（１）と成
分（２）の有機基はインキ反発性向上の点で、総じて基
数の６０％以上がメチル基であることが好ましい。成分
（１）および成分（２）の分子構造は直鎖状、環状、分
岐状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量
が１，０００を越えることがゴム物性の面で好ましく、
更に成分（１）の分子量が１，０００を越えることが好
ましい。
【０１３１】成分（１）としては、α，ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の（メチルシロ
キサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが例示さ
れ、成分（２）としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の（メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示されるがこれらに限定されず、他のものでもよい。
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の（メチルシロ
キサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが例示さ
れ、成分（２）としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の（メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示されるがこれらに限定されず、他のものでもよい。
【０１３２】成分（３）の付加触媒は公知のものの中か
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ（メチルビニル）シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素ー炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などの架橋抑制剤を適当量添加することも可能である。
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ（メチルビニル）シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素ー炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などの架橋抑制剤を適当量添加することも可能である。
【０１３３】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキ
サン）を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキ
サン）を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
【０１３４】このようなシリコーンゴム層の引張特性と
しては、初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／ｍｍ2 以上
０．０９ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、好ましくは０．０１２ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 以上０．０７ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、また、
５０％応力値は、０．００５ｋｇｆ／ｍｍ2 以上０．０
４ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、好ましくは０．００７ｋｇｆ／
ｍｍ2 以上０．０２５ｋｇｆ／ｍｍ2 以下にすることが
重要である。
しては、初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／ｍｍ2 以上
０．０９ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、好ましくは０．０１２ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 以上０．０７ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、また、
５０％応力値は、０．００５ｋｇｆ／ｍｍ2 以上０．０
４ｋｇｆ／ｍｍ2 以下、好ましくは０．００７ｋｇｆ／
ｍｍ2 以上０．０２５ｋｇｆ／ｍｍ2 以下にすることが
重要である。
【０１３５】上記の初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 未満、５０％応力値が０．００５ｋｇｆ／ｍｍ2 未
満の場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が０．
０９ｋｇｆ／ｍｍ2 以上、５０％応力値が０．０４ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 以上の場合は、たとえば特公昭５６−２３１
５０号公報の実施例１に記載のシリコーンゴム層の引張
り初期弾性率は０．１５ｋｇｆ／ｍｍ2 、５０％応力値
が０．０６ｋｇｆ／ｍｍ2 で、シリコーンゴム層として
は硬いためにインキ反撥性および耐スクラッチ性が低下
する。
ｍ2 未満、５０％応力値が０．００５ｋｇｆ／ｍｍ2 未
満の場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が０．
０９ｋｇｆ／ｍｍ2 以上、５０％応力値が０．０４ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 以上の場合は、たとえば特公昭５６−２３１
５０号公報の実施例１に記載のシリコーンゴム層の引張
り初期弾性率は０．１５ｋｇｆ／ｍｍ2 、５０％応力値
が０．０６ｋｇｆ／ｍｍ2 で、シリコーンゴム層として
は硬いためにインキ反撥性および耐スクラッチ性が低下
する。
【０１３６】さらにシリコーンゴム層の引張特性の伸度
は、１００％以上、好ましくは１５０％以上１２００％
未満にすることが重要である。伸度が１００％以下の場
合は耐刷性が悪くなる。
は、１００％以上、好ましくは１５０％以上１２００％
未満にすることが重要である。伸度が１００％以下の場
合は耐刷性が悪くなる。
【０１３７】シリコーンゴム層の引張特性は、ＪＩＳ
Ｋ６３０１にしたがって測定することができる。テフロ
ン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した後、テフロ
ン板よりシートを剥がし、得られた約３００ミクロンの
厚さのシートから４号ダンベルでテストピースを作製
し、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）
製）を用い、引張速度２０cm／分で、初期弾性率、５０
％応力値、破断伸度を測定する。
Ｋ６３０１にしたがって測定することができる。テフロ
ン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した後、テフロ
ン板よりシートを剥がし、得られた約３００ミクロンの
厚さのシートから４号ダンベルでテストピースを作製
し、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）
製）を用い、引張速度２０cm／分で、初期弾性率、５０
％応力値、破断伸度を測定する。
【０１３８】シリコーンゴム層の厚さは約０．５〜１０
０μｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。
０μｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。
【０１３９】シリコーンゴム層中の各成分の配合割合に
ついては特に限定されないが、縮合型の架橋を行うシリ
コーンゴム層の場合には、線状有機ポリシロキサンを１
００重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物を０．１〜１００重量部、必要に応
じて公知の触媒を０〜５０重量部加えた組成で設けるの
がよい。付加型シリコーンゴム層の場合には、１分子中
にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくは
ビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキ
サンを１００重量部、１分子中に少なくともＳｉＨ結合
２個有するオルガノポリシロキサンを０．１〜１００重
量部、必要に応じて付加触媒を０〜５０重量部加えた組
成で設けるのがよい。
ついては特に限定されないが、縮合型の架橋を行うシリ
コーンゴム層の場合には、線状有機ポリシロキサンを１
００重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物を０．１〜１００重量部、必要に応
じて公知の触媒を０〜５０重量部加えた組成で設けるの
がよい。付加型シリコーンゴム層の場合には、１分子中
にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくは
ビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキ
サンを１００重量部、１分子中に少なくともＳｉＨ結合
２個有するオルガノポリシロキサンを０．１〜１００重
量部、必要に応じて付加触媒を０〜５０重量部加えた組
成で設けるのがよい。
【０１４０】インキ反発層としてフッ素樹脂を用いる場
合、フッ素樹脂としては例えば以下のようなものが挙げ
られるが、これらに限定されない。
合、フッ素樹脂としては例えば以下のようなものが挙げ
られるが、これらに限定されない。
【０１４１】（１）パーフルオロアルキルメタクリレ−
トとヒドロキシ基を有するアクリルモノマ、例えば２−
ヒドロキシエチルメタクリレ−トとの共重合樹脂。
トとヒドロキシ基を有するアクリルモノマ、例えば２−
ヒドロキシエチルメタクリレ−トとの共重合樹脂。
【０１４２】（２）パーフルオロアルキルメタクリレ−
トとグリシジルメタクリレ−トとの共重合樹脂。
トとグリシジルメタクリレ−トとの共重合樹脂。
【０１４３】（３）パーフルオロアルキルメタクリレ−
トとメタクリル酸との共重合樹脂。
トとメタクリル酸との共重合樹脂。
【０１４４】（４）パーフルオロアルキルメタクリレ−
トと無水マレイン酸との共重合樹脂。 このようなフッ素樹脂が、活性水素官能基と活性水素と
反応しうる官能基の両方を有する場合、あるいは活性水
素官能基を有するフッ素樹脂と活性水素と反応しうる官
能基を有するフッ素樹脂を混合して用いる場合には、架
橋剤を使用してもよい。
トと無水マレイン酸との共重合樹脂。 このようなフッ素樹脂が、活性水素官能基と活性水素と
反応しうる官能基の両方を有する場合、あるいは活性水
素官能基を有するフッ素樹脂と活性水素と反応しうる官
能基を有するフッ素樹脂を混合して用いる場合には、架
橋剤を使用してもよい。
【０１４５】フッ素樹脂層の厚さは約０．５〜１００μ
ｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、薄す
ぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を生じ
ることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利である
ばかりでなく、現像時フッ素樹脂層を除去しにくくな
り、画像再現性の低下をもたらす。
ｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、薄す
ぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を生じ
ることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利である
ばかりでなく、現像時フッ素樹脂層を除去しにくくな
り、画像再現性の低下をもたらす。
【０１４６】フッ素樹脂層中の各成分の配合割合につい
ては特に限定されないが、上記のフッ素樹脂が全体の６
０〜１００重量％になるようにするのが好ましく、より
好ましくは全体の８０〜９８重量％になるようにするの
がよい。
ては特に限定されないが、上記のフッ素樹脂が全体の６
０〜１００重量％になるようにするのが好ましく、より
好ましくは全体の８０〜９８重量％になるようにするの
がよい。
【０１４７】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフイルムの真空密着性を改善す
るために、インキ反発層の表面にプレーンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラス
チックシ−ト状物を塗布または転写して保護層とするこ
ともできる。保護フイルム、保護層は露光工程において
有用であるが、現像工程においては、剥離または溶解に
よって除去され、印刷工程においては不必要なものであ
る。
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフイルムの真空密着性を改善す
るために、インキ反発層の表面にプレーンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラス
チックシ−ト状物を塗布または転写して保護層とするこ
ともできる。保護フイルム、保護層は露光工程において
有用であるが、現像工程においては、剥離または溶解に
よって除去され、印刷工程においては不必要なものであ
る。
【０１４８】有用な保護フィルムは紫外線透過性を有
し、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコーテイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。
し、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコーテイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。
【０１４９】本発明で用いられる水なし平版印刷版は、
例えば次のようにして製造される。まず必要に応じて各
種粗面化処理をした支持体の上に、リバ−スロールコ−
タ、エアナイフコ−タ、メ−ヤバ−コ−タなどの通常の
コ−タ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用い感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要に応
じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述したよう
に支持体と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設け
た後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着層
を塗布、乾燥後、インキ反発層を形成しうる溶液を感光
層上または接着層上に同様の方法で塗布し、通常６０〜
１３０℃の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せし
めてインキ反発層を形成する。必要ならば、保護層をさ
らに塗布するか保護フィルムを該インキ反発層上にラミ
ネ−タなどを用いてカバ−する。
例えば次のようにして製造される。まず必要に応じて各
種粗面化処理をした支持体の上に、リバ−スロールコ−
タ、エアナイフコ−タ、メ−ヤバ−コ−タなどの通常の
コ−タ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用い感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要に応
じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述したよう
に支持体と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設け
た後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着層
を塗布、乾燥後、インキ反発層を形成しうる溶液を感光
層上または接着層上に同様の方法で塗布し、通常６０〜
１３０℃の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せし
めてインキ反発層を形成する。必要ならば、保護層をさ
らに塗布するか保護フィルムを該インキ反発層上にラミ
ネ−タなどを用いてカバ−する。
【０１５０】このようにして製造された水なし平版印刷
版原版は、例えば、光透過性保護フィルムの場合はその
まま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合
は剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活性
光線で露光される。この露光工程で用いられる光源は、
紫外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カ−ボン
ア−ク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タ
ングステンランプ、蛍光灯等を使うことができる。
版原版は、例えば、光透過性保護フィルムの場合はその
まま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合
は剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活性
光線で露光される。この露光工程で用いられる光源は、
紫外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カ−ボン
ア−ク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タ
ングステンランプ、蛍光灯等を使うことができる。
【０１５１】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のインキ反発層、あるいは場合によってはその下の感光
層が除去され、感光層あるいはプライマ層表面が露出し
インキ受容部となり、水なし平版印刷版が得られる。
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のインキ反発層、あるいは場合によってはその下の感光
層が除去され、感光層あるいはプライマ層表面が露出し
インキ受容部となり、水なし平版印刷版が得られる。
【０１５２】本発明において用いられる現像液として
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパー”Ｅ，Ｇ，Ｈ（エッソ化学（株）製）ある
いはガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエ
ン、キシレンなど）あるいはハロゲン化炭化水素類（ト
リクレンなど）に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好ましいがこれ
らに限定されない。
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパー”Ｅ，Ｇ，Ｈ（エッソ化学（株）製）ある
いはガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエ
ン、キシレンなど）あるいはハロゲン化炭化水素類（ト
リクレンなど）に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好ましいがこれ
らに限定されない。
【０１５３】アルコール類（メタノール、エタノール、
プロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、２−メトキシエタノール、カ
ルビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール等） エ−テル類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビト
ール、ブチルカルビトール、ジオキサン等） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、４−メチル
−１，３−ジオキソランー２−オン等） エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテ−ト、メチル
セロソルブアセテート、カルビトールアセテ−ト、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート等） その他（トリエチルフォスフェート等）
プロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、２−メトキシエタノール、カ
ルビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール等） エ−テル類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビト
ール、ブチルカルビトール、ジオキサン等） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、４−メチル
−１，３−ジオキソランー２−オン等） エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテ−ト、メチル
セロソルブアセテート、カルビトールアセテ−ト、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート等） その他（トリエチルフォスフェート等）
【０１５４】上記現像液にアニオン界面活性剤、ノニオ
ン界面活性剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活
性剤等種々の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加し
たものも使用する事が出来る。アルカリ剤としては、例
えば炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、あるいはモノ、ジ、またはトリエタノールアミ
ン、モノ、ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、ま
たはトリエチルアミン、モノ、またはジイソプロピルア
ミン、ｎ−ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプ
ロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン
等の有機アミン化合物等が挙げられる。また、クリスタ
ルバイオレット、アストラゾンレッドなどの染料や発色
剤等を現像液に加えて現像と同時に画線部の染色あるい
は発色を行うことも出来る。あるいは現像後の版を染色
液に浸漬することにより後処理として染色する事もでき
る。
ン界面活性剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活
性剤等種々の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加し
たものも使用する事が出来る。アルカリ剤としては、例
えば炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、あるいはモノ、ジ、またはトリエタノールアミ
ン、モノ、ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、ま
たはトリエチルアミン、モノ、またはジイソプロピルア
ミン、ｎ−ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプ
ロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン
等の有機アミン化合物等が挙げられる。また、クリスタ
ルバイオレット、アストラゾンレッドなどの染料や発色
剤等を現像液に加えて現像と同時に画線部の染色あるい
は発色を行うことも出来る。あるいは現像後の版を染色
液に浸漬することにより後処理として染色する事もでき
る。
【０１５５】現像方法としては、手による現像でも公知
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、及び後処理部がこの順に設けられている現像
装置を用いるのが良い。現像装置の具体例としては、東
レ（株）製のＴＷＬ−１１６０、ＴＷＬ−６５０などの
現像装置、あるいは特開平４−２２６５号公報や特開平
５−２２７２号公報、特開平５−６０００号公報などに
開示されている現像装置を挙げることができる。また、
これらの現像装置を適当に組み合わせて使用することも
できる。
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、及び後処理部がこの順に設けられている現像
装置を用いるのが良い。現像装置の具体例としては、東
レ（株）製のＴＷＬ−１１６０、ＴＷＬ−６５０などの
現像装置、あるいは特開平４−２２６５号公報や特開平
５−２２７２号公報、特開平５−６０００号公報などに
開示されている現像装置を挙げることができる。また、
これらの現像装置を適当に組み合わせて使用することも
できる。
【０１５６】
【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５７】なお、引張特性の試験方法は次の通りであ
る。
る。
【０１５８】［感光層，プライマ層，これらを合わせた
層］感光層およびプライマ層の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ
６３０１にしたがって測定する。ガラス板上にプライマ
液もしくは感光液を塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱
硬化させる。この後、ガラス板よりシートを剥がすこと
で約１００ミクロンの厚さのシートを得る。このシート
から５ｍｍ×４０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テ
ンンシロン ＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）
製）を用い、引張速度 ２０cm／分で初期弾性率、１０
％応力、破断伸度を測定する。なお、プライマ層と感光
層を合わせた層の引張特性を調べる場合には、上記の方
法でプライマ層の上に感光層を作製し、同様の方法でシ
ートを得た。
層］感光層およびプライマ層の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ
６３０１にしたがって測定する。ガラス板上にプライマ
液もしくは感光液を塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱
硬化させる。この後、ガラス板よりシートを剥がすこと
で約１００ミクロンの厚さのシートを得る。このシート
から５ｍｍ×４０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テ
ンンシロン ＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）
製）を用い、引張速度 ２０cm／分で初期弾性率、１０
％応力、破断伸度を測定する。なお、プライマ層と感光
層を合わせた層の引張特性を調べる場合には、上記の方
法でプライマ層の上に感光層を作製し、同様の方法でシ
ートを得た。
【０１５９】［シリコーンゴム層］シリコーンゴム層の
引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３０１にしたがって測定す
る。テフロン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した
後、テフロン板よりシートを剥がし、得られた約３００
ミクロンの厚さのシートから４号ダンベルでテストピー
スを作製し、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテッ
ク（株）製）を用い、引張速度２０cm／分で、初期弾性
率、５０％応力値、破断伸度を測定する。
引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３０１にしたがって測定す
る。テフロン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した
後、テフロン板よりシートを剥がし、得られた約３００
ミクロンの厚さのシートから４号ダンベルでテストピー
スを作製し、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテッ
ク（株）製）を用い、引張速度２０cm／分で、初期弾性
率、５０％応力値、破断伸度を測定する。
【０１６０】合成例１ グリシジルアクリレ−ト４７ｇと２−ヒドロキシ安息香
酸５５ｇとをジオキサン２００ｇに溶解させた。次に、
テトラエチルアンモニウムブロミド２．７ｇとヒドロキ
ノン１．４ｇとを加え、７０℃で４時間、攪拌しながら
反応させた。反応後、水５００ｇとジエチルエ−テル５
００ｇの入ったビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、このビ−
カ−の中の溶液全体を分液ロ−ト中に移した。分液ロ−
トにより水層と有機層を分離し、有機層の溶媒を減圧乾
燥により除去し、一般式（Ｉ）で示される構造と一般式
（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ一つずつ有する化
合物を得た。
酸５５ｇとをジオキサン２００ｇに溶解させた。次に、
テトラエチルアンモニウムブロミド２．７ｇとヒドロキ
ノン１．４ｇとを加え、７０℃で４時間、攪拌しながら
反応させた。反応後、水５００ｇとジエチルエ−テル５
００ｇの入ったビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、このビ−
カ−の中の溶液全体を分液ロ−ト中に移した。分液ロ−
トにより水層と有機層を分離し、有機層の溶媒を減圧乾
燥により除去し、一般式（Ｉ）で示される構造と一般式
（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ一つずつ有する化
合物を得た。
【０１６１】この化合物２０ｇと１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリドとをジオキサ
ン１００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０Ｇ
を水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％
溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下し
た。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に
液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、攪
拌しながら反応させた。反応後、水１０００ｇの入った
ビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させ
た。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目
的とする化合物を得た。
−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリドとをジオキサ
ン１００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０Ｇ
を水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％
溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下し
た。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に
液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、攪
拌しながら反応させた。反応後、水１０００ｇの入った
ビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させ
た。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目
的とする化合物を得た。
【０１６２】合成例２ 合成例１で得られた化合物２０ｇをジオキサン１８０ｇ
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加
え、窒素雰囲気の下で６５℃で６時間重合反応を行っ
た。反応後、メタノール１８００ｇの入ったビ−カ−中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−カ
−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加
え、窒素雰囲気の下で６５℃で６時間重合反応を行っ
た。反応後、メタノール１８００ｇの入ったビ−カ−中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−カ
−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。
【０１６３】合成例３ 合成例１で得られた化合物５０ｇとメタクリル酸メチル
５ｇ，メタクリル酸ヘキシル１０ｇとをジオキサン２５
０ｇに溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１２
ｇを加え、窒素雰囲気の下で６５℃４時間重合反応を行
った。反応後、メタノール１０００ｇの入ったビ−カ−
中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−
カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする
化合物を得た。
５ｇ，メタクリル酸ヘキシル１０ｇとをジオキサン２５
０ｇに溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１２
ｇを加え、窒素雰囲気の下で６５℃４時間重合反応を行
った。反応後、メタノール１０００ｇの入ったビ−カ−
中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−
カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする
化合物を得た。
【０１６４】合成例４ グリセリン５０ｇと２−ヒドロキシベンズアルデヒド５
０ｇ、トルエン３００ｇ、４−ベンゼンスルホン酸１ｇ
とを混合し、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を用いて攪拌し
ながら５時間加熱還流させ、水とトルエンと共沸させて
除去しながら反応させた。反応後室温に戻すと、生成物
と上澄液（溶媒）が分離した。溶媒をデカンテ−ション
により除去し、減圧乾燥を行い、一般式（Ｉ）で示され
る構造と一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ一
つずつ有する化合物を得た。
０ｇ、トルエン３００ｇ、４−ベンゼンスルホン酸１ｇ
とを混合し、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を用いて攪拌し
ながら５時間加熱還流させ、水とトルエンと共沸させて
除去しながら反応させた。反応後室温に戻すと、生成物
と上澄液（溶媒）が分離した。溶媒をデカンテ−ション
により除去し、減圧乾燥を行い、一般式（Ｉ）で示され
る構造と一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ一
つずつ有する化合物を得た。
【０１６５】この化合物を用い、合成例１と同様の方法
で１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン
酸クロリドとの反応を行い、目的とする化合物を得た。
で１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン
酸クロリドとの反応を行い、目的とする化合物を得た。
【０１６６】合成例５ 合成例４において、１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−４−スルホン酸クロリドを１，２−ナフトキノン−
２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドに変更する以外
は全て合成例４と同様の反応を行い、目的とする化合物
を得た。
ド−４−スルホン酸クロリドを１，２−ナフトキノン−
２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドに変更する以外
は全て合成例４と同様の反応を行い、目的とする化合物
を得た。
【０１６７】合成例６ 合成例５において、グリセリン５０ｇをトリメチロール
プロパン４５ｇに変更する以外は全て合成例５と同様の
反応を行い、目的とする化合物を得た。
プロパン４５ｇに変更する以外は全て合成例５と同様の
反応を行い、目的とする化合物を得た。
【０１６８】合成例７ （プライマ層用ジアゾ樹脂の合成）ｐ−ジアゾジフェニ
ルアミン硫酸塩１４．５ｇを氷冷下で４０．９ｇの濃硫
酸に溶解し、この液に１．０ｇのパラホルムアルデヒド
を反応溶液が１０℃を越えないようにゆっくり滴下し
た。その後、２時間氷冷下にて攪拌を続けた。この反応
混合物を氷冷下、５００ｍｌのエタノールに滴下し、生
じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄した沈殿物は、
１００ｍｌの水に溶解し、この液に６．８ｇの塩化亜鉛
を含む冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した
後、エタノールで洗浄し、これを１５０ｍｌの水に溶解
した。この液に８ｇのヘキサフルオロリン酸アンモニウ
ムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過
により集め、水洗した後、３０℃で一昼夜乾燥してジア
ゾ樹脂を得た。
ルアミン硫酸塩１４．５ｇを氷冷下で４０．９ｇの濃硫
酸に溶解し、この液に１．０ｇのパラホルムアルデヒド
を反応溶液が１０℃を越えないようにゆっくり滴下し
た。その後、２時間氷冷下にて攪拌を続けた。この反応
混合物を氷冷下、５００ｍｌのエタノールに滴下し、生
じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄した沈殿物は、
１００ｍｌの水に溶解し、この液に６．８ｇの塩化亜鉛
を含む冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した
後、エタノールで洗浄し、これを１５０ｍｌの水に溶解
した。この液に８ｇのヘキサフルオロリン酸アンモニウ
ムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過
により集め、水洗した後、３０℃で一昼夜乾燥してジア
ゾ樹脂を得た。
【０１６９】実施例１ 厚さ０．３ｍｍのアルミ板（住友金属（株）製）に下記
のプライマ組成物をバ−コ−タ−を用いて塗布し、２０
０℃、２分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
のプライマ組成物をバ−コ−タ−を用いて塗布し、２０
０℃、２分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
【０１７０】 （ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃） １００重量部 （ｂ）ブロックイソシアネ−ト“タケネ−トＢ８３０” （武田薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７２” （関西ペイント（株）製） ８重量部 （ｄ）酸化チタン １０重量部 （ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．５重量部 （ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）酸ホスフェート １重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド ７２５重量部 続いてこのプライマ層上に下記の感光層組成物をバ−コ
−タを用いて塗布し、１１０℃の熱風中で１分間乾燥し
て厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
−タを用いて塗布し、１１０℃の熱風中で１分間乾燥し
て厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
【０１７１】 （ａ）合成例１で得られた化合物 ７０重量部 （ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト ２１重量部 （ｃ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ （日本ミラクトラン（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） ３０重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．２重量部 （ｅ）４−トルエンスルホン酸 ０．８重量部 （ｆ）テトラヒドロフラ ８００重量部 次いでこの感光層の上に下記の組成を有するシリコーン
ゴム組成物を回転塗布後、１１５℃、露点３０℃、３．
５分間湿熱硬化させて２μｍのインキ反発層（シリコー
ンゴム層）を設けた。
ゴム組成物を回転塗布後、１１５℃、露点３０℃、３．
５分間湿熱硬化させて２μｍのインキ反発層（シリコー
ンゴム層）を設けた。
【０１７２】 （ａ）ポリジメチルシロキサン （分子量約２５，０００、末端水酸基） １００重量部 （ｂ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン １０重量部 （ｃ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製） １４００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ１０μｍのポ
リプロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）
をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層と
し、水なし平版印刷版原版を得た。
リプロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）
をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層と
し、水なし平版印刷版原版を得た。
【０１７３】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
【０１７４】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
【０１７５】次いで上記の露光済版の“トレファン”を
剥離し、室温３２℃、湿度８０％の条件で、“アイソパ
ーＨ”／ジエチレングリコールジメチルエ−テル／エチ
ルセロソルブ／Ｎ−メチルジエタノールアミン＝８７／
７／３／３（重量比）からなる処理液をブラシを用いて
版面に塗布した。１分間処理後、ゴムスキ−ジで版面に
付着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現
像液（水／ブチルカルビトール／２−エチル酪酸／クリ
スタルバイオレット＝７０／３０／２／０．２（重量
比）を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこすると、画像露
光された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表
面が露出した。一方、全面露光のみがなされた非画像部
分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィ
ルムを忠実に再現した画像が得られた。
剥離し、室温３２℃、湿度８０％の条件で、“アイソパ
ーＨ”／ジエチレングリコールジメチルエ−テル／エチ
ルセロソルブ／Ｎ−メチルジエタノールアミン＝８７／
７／３／３（重量比）からなる処理液をブラシを用いて
版面に塗布した。１分間処理後、ゴムスキ−ジで版面に
付着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現
像液（水／ブチルカルビトール／２−エチル酪酸／クリ
スタルバイオレット＝７０／３０／２／０．２（重量
比）を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこすると、画像露
光された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表
面が露出した。一方、全面露光のみがなされた非画像部
分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィ
ルムを忠実に再現した画像が得られた。
【０１７６】得られた印刷版を、オフセット印刷機（小
森スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工
業（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。
１６万枚印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印
刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であ
った。
森スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工
業（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。
１６万枚印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印
刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であ
った。
【０１７７】この実施例に用いたプライマ層の引張特性
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ５ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．３０ｋｇｆ／ｍｍ2 、
破断伸度 ６５５％であった。
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ５ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．３０ｋｇｆ／ｍｍ2 、
破断伸度 ６５５％であった。
【０１７８】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １７ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７０％であった。
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １７ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７０％であった。
【０１７９】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １０ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７８％であった。
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １０ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７８％であった。
【０１８０】実施例２ 厚さ０．２４ｍｍの表面に砂目形状を設けたアルミ板に
下記のプライマ組成物をホワラを用いて５０℃で塗布
し、さらに８０℃で４分乾燥させてプライマ層を設け
た。
下記のプライマ組成物をホワラを用いて５０℃で塗布
し、さらに８０℃で４分乾燥させてプライマ層を設け
た。
【０１８１】 （ａ）合成例７で合成したジアゾ樹脂 ８重量部 （ｂ）２−ヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリル酸ドデシルのモル比４ ０／６０の共重合樹脂（Ｍｗ＝４．０×１０4 ） （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） ９０重量部 （ｃ）γーメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （東芝シリコーン製） ５重量部 （ｄ）酸化亜鉛（堺化学（株）製微細亜鉛華） ５５重量部 （ｅ）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ ４０２” （大日本インキ化学（株）製黄色顔料） １２重量部 （ｆ）“ノニポール”（三洋化成（株）製非イオン系界面活性剤） ５重量部 （ｇ）乳酸メチル ７００重量部 （ｈ）シクロヘキサノン １００重量部 塗布、乾燥後メタルハライドランプで４００ｍＪ／ｃｍ
2 露光し１１５℃で５分間乾燥を行うことにより乾燥膜
厚４．５μｍのプライマ層を設けた。
2 露光し１１５℃で５分間乾燥を行うことにより乾燥膜
厚４．５μｍのプライマ層を設けた。
【０１８２】続いてこの上に下記の感光層組成物をバ−
コ−タを用いて塗布し、１２０℃の熱風中で１分間乾燥
して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
コ−タを用いて塗布し、１２０℃の熱風中で１分間乾燥
して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
【０１８３】 （ａ）合成例２で合成した化合物 ５５重量部 （ｂ）トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル ３０重量部 （ｃ）ポリウレタン“サンプレン”Ｃ−８００Ｂ−４０ （三洋化成（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−３５℃） ２０重量部 （ｄ）リン酸 ０．８重量部 （ｅ）４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン ３重量部 （ｆ）テトラヒドロフラン ８００重量部 次いでこの感光層の上に次ぎの組成を有するシリコーン
ゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布した後、１１５
℃、露点３０℃という条件で３．５分間湿熱硬化させて
２．３μｍのインキ反発層（シリコーンゴム層）を設け
た。
ゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布した後、１１５
℃、露点３０℃という条件で３．５分間湿熱硬化させて
２．３μｍのインキ反発層（シリコーンゴム層）を設け
た。
【０１８４】 （ａ）ポリジメチルシロキサン （分子量約３５，０００、末端水酸基） １００重量部 （ｂ）エチルトリアセトキシシラン １２重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．１重量部 （ｄ）“アイソパーＧ”（エクソン化学（株）製） １２００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍの片面
マット化ポリエステルフィルム“ルミラー”（東レ
（株）製）をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トし
て保護層とし、水なし平版印刷版原版を得た。
マット化ポリエステルフィルム“ルミラー”（東レ
（株）製）をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トし
て保護層とし、水なし平版印刷版原版を得た。
【０１８５】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
【０１８６】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
【０１８７】次いで上記の露光済版の“ルミラ−”を剥
離し、室温２５℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ１１６
０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用い
て現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成
を有する液を用いた。
離し、室温２５℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ１１６
０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用い
て現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成
を有する液を用いた。
【０１８８】 （ａ）ジエチレングリコール ８０重量部 （ｂ）ジグリコールアミン １４重量部 （ｃ）水 ６重量部 また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。
下の組成を有する液を用いた。
【０１８９】 （ａ）エチルカルビトール １８重量部 （ｂ）水 ７９．９重量部 （ｃ）クリスタルバイオレット ０．１重量部 （ｄ）２−エチルヘキサン酸 ２重量部 現像装置を出てきた印刷版を観察したところ、画像露光
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画像
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画像
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
【０１９０】得られた印刷版を、オフセット印刷機（小
森スプリント４色機）に取り付け、実施例１と同様に耐
刷テストを行った。１６万枚印刷を行ったところ、良好
な印刷物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷
版の損傷は軽微であった。
森スプリント４色機）に取り付け、実施例１と同様に耐
刷テストを行った。１６万枚印刷を行ったところ、良好
な印刷物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷
版の損傷は軽微であった。
【０１９１】この実施例に用いたプライマ層の引張特性
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １９
ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．６８ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 、破断伸度 ９５％であった。
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １９
ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．６８ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 、破断伸度 ９５％であった。
【０１９２】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７５％であった。
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７５％であった。
【０１９３】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １８ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．６９ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７３％であった。
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １８ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．６９ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７３％であった。
【０１９４】実施例３ 厚さ０．２４ｍｍのアルミ板を３％水酸化ナトリウム水
溶液に浸して脱脂し、水洗した後、３２％硫酸水溶液中
において温度３０℃で５Ａ／ｄｍ2 の条件で１０秒間、
陽極酸化を行い、水洗し、２％メタケイ酸ナトリウム水
溶液に温度８５℃３７秒間浸し、更に温度９０℃の水
（ｐＨ８．５）に２５秒間浸し、水洗、乾燥して、支持
体を得た。
溶液に浸して脱脂し、水洗した後、３２％硫酸水溶液中
において温度３０℃で５Ａ／ｄｍ2 の条件で１０秒間、
陽極酸化を行い、水洗し、２％メタケイ酸ナトリウム水
溶液に温度８５℃３７秒間浸し、更に温度９０℃の水
（ｐＨ８．５）に２５秒間浸し、水洗、乾燥して、支持
体を得た。
【０１９５】こうして得た支持体に下記のプライマ組成
物をスリットダイコータを用いて塗布し、２２０℃の熱
風中で３分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
物をスリットダイコータを用いて塗布し、２２０℃の熱
風中で３分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
【０１９６】 （ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃） １００重量部 （ｂ）ブロックイソシアネ−ト“タケネ−トＢ８３０” （武田薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７２” （関西ペイント（株）製） ８重量部 （ｄ）酸化チタン １０重量部 （ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．５重量部 （ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）酸ホスフェ−ト １重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド ７００重量部 （ｈ）テトラヒドロフラン ５０重量部 次いで、上記プライマ層上に下記の組成物よりなる感光
液（Ａ）と感光液（Ｂ）を塗布の直前に混合し、スリッ
トダイコータを用いて塗布し、１１５℃の熱風中で１分
間乾燥して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
液（Ａ）と感光液（Ｂ）を塗布の直前に混合し、スリッ
トダイコータを用いて塗布し、１１５℃の熱風中で１分
間乾燥して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
【０１９７】 感光液（Ａ） （ａ）合成例３で合成した化合物 ８０重量部 （ｂ）ポリウレタン“サンプレン”Ｃ−８００Ｂ−４０ （三洋化成（株）製） （ガラス転移点：−３５℃） ２０重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．２重量部 （ｄ）ベンゼンスルホン酸 ０．８重量部 （ｅ）テトラヒドロフラン ７００重量部 感光液（Ｂ） （ａ）イソホロンジイソシアネート ２０重量部 （ｂ）テトラヒドロフラン １００重量部 次いで、この感光層の上に次の組成を有するシリコーン
ゴム液をスリットダイコータを用いて塗布した後、１２
０℃で４分間加熱硬化させて１．８μｍのインキ反発層
（シリコーンゴム層）を設けた。
ゴム液をスリットダイコータを用いて塗布した後、１２
０℃で４分間加熱硬化させて１．８μｍのインキ反発層
（シリコーンゴム層）を設けた。
【０１９８】 （ａ）両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン（重合度〜７００） １００重量部 （ｂ）(CH 3 ) 3 Si-O-(Si(CH 3 ) 2 -O) 30ー(SiH(CH3 )-O)10ーSi(CH3 ) 3 １０重量部 （ｃ）塩化白金酸／メチルビニルサイクリックス錯体 ０．１重量部 （ｄ）アセチルアセトンアルコール ０．１重量部 （ｅ）ポリジメチルシロキサン（重合度〜８０００） １０重量部 （ｆ）“アイソパーＥ”（エクソン化学（株）製） １０００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層とし、水
なし平版印刷版原版を得た。
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層とし、水
なし平版印刷版原版を得た。
【０１９９】かかる印刷版原版に実施例２と同様の処理
を施した後、１５０線／インチの網点画像を持つネガフ
ィルムを用いて画像露光を行い、実施例２と同様に現像
を行った。
を施した後、１５０線／インチの網点画像を持つネガフ
ィルムを用いて画像露光を行い、実施例２と同様に現像
を行った。
【０２００】得られた印刷版について、実施例１、２と
同様に耐刷テストを行ったところ、１６万枚の耐刷力を
示した。
同様に耐刷テストを行ったところ、１６万枚の耐刷力を
示した。
【０２０１】この実施例に用いたプライマ層の引張特性
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ５ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．３０ｋｇｆ／ｍｍ2 、
破断伸度 ６５５％であった。
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ５ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．３０ｋｇｆ／ｍｍ2 、
破断伸度 ６５５％であった。
【０２０２】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７４ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７６％であった。
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７４ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７６％であった。
【０２０３】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １１ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７８％であった。
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １１ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７８％であった。
【０２０４】実施例４ 実施例１において感光層成分である合成例１で合成した
化合物を合成例４で合成した化合物に変更する以外は全
て実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原版を得
た。
化合物を合成例４で合成した化合物に変更する以外は全
て実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原版を得
た。
【０２０５】得られた水なし平版印刷版原版を実施例１
と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例１と
同様に耐刷テストを行ったところ、２０万枚の耐刷力を
示した。
と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例１と
同様に耐刷テストを行ったところ、２０万枚の耐刷力を
示した。
【０２０６】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １８ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．６９ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７５％であった。
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １８ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．６９ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７５％であった。
【０２０７】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １０ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７７％であった。
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １０ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７７％であった。
【０２０８】実施例５ 実施例２において感光層成分である合成例２で合成した
化合物を合成例５で合成した化合物に変更する以外は全
て実施例２と同様の方法で水なし平版印刷版原版を得
た。
化合物を合成例５で合成した化合物に変更する以外は全
て実施例２と同様の方法で水なし平版印刷版原版を得
た。
【０２０９】得られた水なし平版印刷版原版を実施例２
と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例２と
同様に耐刷テストを行ったところ、２０万枚の耐刷力を
示した。 この実施例に用いた感光層の引張特性を、先
に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １８ｋｇｆ
／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７０ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断
伸度 ７５％であった。
と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例２と
同様に耐刷テストを行ったところ、２０万枚の耐刷力を
示した。 この実施例に用いた感光層の引張特性を、先
に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １８ｋｇｆ
／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７０ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断
伸度 ７５％であった。
【０２１０】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １７ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７１ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７１％であった。
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １７ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７１ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７１％であった。
【０２１１】実施例６ 実施例３において感光層成分である合成例３で合成した
化合物を合成例６で合成した化合物に変更する以外は全
て実施例３と同様の方法で水なし平版印刷版原版を得
た。
化合物を合成例６で合成した化合物に変更する以外は全
て実施例３と同様の方法で水なし平版印刷版原版を得
た。
【０２１２】得られた水なし平版印刷版原版を実施例３
と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例３と
同様に耐刷テストを行ったところ、１９万枚の耐刷力を
示した。 この実施例に用いた感光層の引張特性を、先
に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １９ｋｇｆ
／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断
伸度 ７２％であった。
と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例３と
同様に耐刷テストを行ったところ、１９万枚の耐刷力を
示した。 この実施例に用いた感光層の引張特性を、先
に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １９ｋｇｆ
／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７３ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断
伸度 ７２％であった。
【０２１３】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １２ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７２％であった。
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 １２ｋｇｆ／ｍｍ2 、１０％応力
０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度 ７２％であった。
【０２１４】比較例１〜３ 実施例１における感光層成分（ａ）（ｂ）（ｃ）の種
類、配合量を表−１に示すように変更させた以外は、実
施例１と同様にして、種々の感光層組成を有するネガ型
の水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版
に実施例２と同様の処理を施した後、１５０線／インチ
の網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行
い、実施例２と同様に現像および耐刷テストを行った。
感光層の引張特性および画像再現性、耐刷力を表ー２に
示す。
類、配合量を表−１に示すように変更させた以外は、実
施例１と同様にして、種々の感光層組成を有するネガ型
の水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版
に実施例２と同様の処理を施した後、１５０線／インチ
の網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行
い、実施例２と同様に現像および耐刷テストを行った。
感光層の引張特性および画像再現性、耐刷力を表ー２に
示す。
【０２１５】比較例１においては、感光層中に占めるバ
インダポリマの量が８．２ｗｔ％と少ないため、満足な
引張特性を発現させることが出来ず、非常に堅くて脆い
感光層となった。オフセット印刷を行ったところ、６万
枚印刷した時点で非画線部に汚れが生じた。印刷機から
版を取り外し、汚れが生じた部分を顕微鏡で観察したと
ころ、感光層自体の破壊とその部分におけるシリコーン
ゴム層の破壊の様子、およびシリコーンゴム層の剥離の
様子が観察できた。
インダポリマの量が８．２ｗｔ％と少ないため、満足な
引張特性を発現させることが出来ず、非常に堅くて脆い
感光層となった。オフセット印刷を行ったところ、６万
枚印刷した時点で非画線部に汚れが生じた。印刷機から
版を取り外し、汚れが生じた部分を顕微鏡で観察したと
ころ、感光層自体の破壊とその部分におけるシリコーン
ゴム層の破壊の様子、およびシリコーンゴム層の剥離の
様子が観察できた。
【０２１６】比較例２においては、感光層中に占めるバ
インダポリマの量が８６．５ｗｔ％と多すぎるために、
感光層の物性は柔軟すぎるものとなった。同時に、感光
成分が少ないため満足な画像再現性、現像性を得ること
が出来ず、画像露光、現像によっても画像を再現できな
い版、すなわち現像不能の版しか得られなかった。その
ため、この版については耐刷テストを行うことが出来な
かった。
インダポリマの量が８６．５ｗｔ％と多すぎるために、
感光層の物性は柔軟すぎるものとなった。同時に、感光
成分が少ないため満足な画像再現性、現像性を得ること
が出来ず、画像露光、現像によっても画像を再現できな
い版、すなわち現像不能の版しか得られなかった。その
ため、この版については耐刷テストを行うことが出来な
かった。
【０２１７】比較例３は感光成分における感光性基の量
を多くすること、すなわち１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノールホルム
アルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物のエステ
ル化度を７０％と高くすることによって、この問題を解
決しようとした結果である。比較例２に比べ画像再現性
は若干改善されたが、感光層中におけるバインダポリマ
の量が多すぎるため、依然として満足な感光層物性を発
現することは出来ず、さらに、感光成分自体が少ないた
めにインキ反発層と感光層の間の接着力に問題を有して
おり、結果として８万枚という低い耐刷力しか得られな
かった。
を多くすること、すなわち１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノールホルム
アルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物のエステ
ル化度を７０％と高くすることによって、この問題を解
決しようとした結果である。比較例２に比べ画像再現性
は若干改善されたが、感光層中におけるバインダポリマ
の量が多すぎるため、依然として満足な感光層物性を発
現することは出来ず、さらに、感光成分自体が少ないた
めにインキ反発層と感光層の間の接着力に問題を有して
おり、結果として８万枚という低い耐刷力しか得られな
かった。
【０２１８】実施例７〜１０ 実施例１における感光層成分（ａ）（ｃ）の種類、配合
量を表ー３に示すように変更させた以外は、実施例１と
同様にして、種々の感光層組成、引張特性を有するネガ
型の水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原
版に実施例２と同様の処理を施した後、１５０線／イン
チの網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行
い、実施例２と同様に現像を行うことで印刷版を得た。
量を表ー３に示すように変更させた以外は、実施例１と
同様にして、種々の感光層組成、引張特性を有するネガ
型の水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原
版に実施例２と同様の処理を施した後、１５０線／イン
チの網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行
い、実施例２と同様に現像を行うことで印刷版を得た。
【０２１９】得られた印刷版をオフセット印刷機（小森
スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工業
（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを用
いて、上質紙に印刷をおこない耐刷力テストを行った。
表−２に感光層の引張特性と印刷版の画像再現性および
耐刷力を示す。
スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工業
（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを用
いて、上質紙に印刷をおこない耐刷力テストを行った。
表−２に感光層の引張特性と印刷版の画像再現性および
耐刷力を示す。
【０２２０】実施例１１〜１９ 実施例１における感光層成分（ａ）（ｃ）の種類、配合
量を表ー４に示すように変更させた以外は、実施例１と
同様にして、種々のバインダポリマを有するネガ型の水
なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に実
施例２と同様の処理を施した後、同様に画像露光を行
い、同様に現像を行うことで印刷版を得た。得られた印
刷版についても同様に耐刷力テストを行った。表−５に
感光層の引張特性と印刷版の画像再現性および耐刷力を
示す。
量を表ー４に示すように変更させた以外は、実施例１と
同様にして、種々のバインダポリマを有するネガ型の水
なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に実
施例２と同様の処理を施した後、同様に画像露光を行
い、同様に現像を行うことで印刷版を得た。得られた印
刷版についても同様に耐刷力テストを行った。表−５に
感光層の引張特性と印刷版の画像再現性および耐刷力を
示す。
【０２２１】
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【０２２２】
【発明の効果】本発明は、上記のごとく構成したので、
画像再現性に優れかつ耐刷力に優れた水なし平版印刷版
を提供することが出来る。したがって、高耐刷力の要求
される新聞オフ輪印刷分野や商業オフ輪印刷分野におい
ても好適に用いられる。印刷版の寿命が長いため、経済
的にも有利である。
画像再現性に優れかつ耐刷力に優れた水なし平版印刷版
を提供することが出来る。したがって、高耐刷力の要求
される新聞オフ輪印刷分野や商業オフ輪印刷分野におい
ても好適に用いられる。印刷版の寿命が長いため、経済
的にも有利である。
Claims (19)
- 【請求項１】支持体上に感光層およびインキ反発層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
感光層が下記一般式（Ｉ）で示される構造と下記一般式
（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物を含
有しており、かつ該感光層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【化１】 【化２】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） - 【請求項２】支持体上にプライマ層、感光層およびイン
キ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
において、該感光層が下記一般式（Ｉ）で示される構造
と下記一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少な
くとも一つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物と
の反応物を含有しており、かつ該プライマ層の引張特性
が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【化３】 【化４】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） - 【請求項３】支持体上にプライマ層、感光層およびイン
キ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
において、該感光層が下記一般式（Ｉ）で示される構造
と下記一般式（ＩＩ）で示される構造とをそれぞれ少な
くとも一つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物と
の反応物を含有しており、該プライマ層と感光層とを合
わせた層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【化５】 【化６】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） - 【請求項４】該感光層の引張特性が （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする請求項１記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項５】該プライマ層の引張特性が （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする請求項２記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項６】該プライマ層と感光層とを合わせた層の引
張特性が （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする請求項３記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項７】該感光層の引張特性が （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする請求項１または４記載
の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項８】該プライマ層の引張特性が （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする請求項２または５記載
の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項９】該プライマ層と感光層とを合わせた層の引
張特性が （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする請求項３または６記載
の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１０】感光層がバインダポリマを有することを
特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の水なし平版
印刷版原版。 - 【請求項１１】バインダポリマの感光層中にしめる割合
が１０〜９０wt％であることを特徴とする請求項１０記
載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１２】バインダポリマのガラス転移点（Ｔg ）
が２０℃以下であることを特徴とする請求項１０または
１１記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１３】感光層が架橋構造を有することを特徴と
する請求項１〜１２のいずれかに記載の水なし平版印刷
版原版。 - 【請求項１４】感光層が光剥離性感光層であることを特
徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の水なし平版
印刷版原版。 - 【請求項１５】インキ反発層が、シリコーンゴム層であ
ることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の
水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１６】インキ反発層の表面に保護層を設けるこ
とを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の水な
し平版印刷版原版。 - 【請求項１７】保護層が表面にプレーンまたは凹凸処理
した保護フィルムであることを特徴とする請求項１６記
載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１８】支持体が表面をプレーンまたは粗面化し
た金属板であることを特徴とする請求項１〜１７記載の
水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１９】請求項１〜１８のいずれかに記載の水な
し平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる水なし平
版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18375794A JPH0844046A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 水なし平版印刷版原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18375794A JPH0844046A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 水なし平版印刷版原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0844046A true JPH0844046A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16141451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18375794A Pending JPH0844046A (ja) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | 水なし平版印刷版原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0844046A (ja) |
-
1994
- 1994-08-04 JP JP18375794A patent/JPH0844046A/ja active Pending
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