JPH0844047A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】支持体上に感光層、シリコーンゴム層をこの順
に積層してなる水なし平版印刷版において、該感光層
が、フェノ−ル性水酸基を有する化合物とキノンジアジ
ド化合物との反応物、非フェノ−ル性水酸基を有する化
合物とキノンジアジド化合物との反応物をそれぞれ少な
くとも一つずつ含有しており、かつ該感光層の引張特性
が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【効果】本発明の水なし平版印刷版原版は画像再現性お
よび耐刷性に優れているので、高耐刷力の要求される商
業オフ輪印刷および新聞オフ輪印刷においても好適に用
いることが出来、経済的にも有利である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版原版お
よびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像して
なる水なし平版印刷版に関するものであり、さらに詳し
くは耐刷性の著しく向上した水なし平版印刷版原版およ
びこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してな
る水なし平版印刷版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、シリコーンゴムやフッ素樹脂
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版が種々提案されている。

【０００３】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭５４−２６９２３号公報、特公昭５６−２３
１５０号公報などに基板上に光重合性接着層とインキ反
発層であるシリコーンゴム層とが積層された水なし平版
印刷版、また特公平３−５６６２２号公報、特開昭６１
−１５３６５５号公報などに基板上に光二量化型感光層
とインキ反発層であるシリコーンゴム層とが積層された
水なし平版印刷版が提案されている。

【０００４】また、ネガ型感光性平版印刷版としては、
特公昭６１−６１６号公報、特公昭６１−５４２１８号
公報などに支持体上にキノンジアジド化合物を含む感光
層とその上に接着層を介してインキ反発層であるシリコ
ーンゴム層を設けた水なし平版印刷版、特公昭６１−５
４２２２号公報などに光剥離性感光層上にインキ反発層
であるシリコーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提
案されており、実用上優れた性能を有するものとして知
られている。これらの中でも特に特公昭６１−５４２２
２号公報には、支持体上に、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノ−ルノボ
ラック樹脂の部分エステル化物を多官能イソシアネ−ト
で架橋した光剥離性感光層、およびその上にインキ反発
層としてのシリコーンゴム層を設けたネガ型水なし平版
印刷版が開示されている。

【０００５】また、フッ素樹脂をインキ反発層に用いる
感光性平版印刷版としては、特開平２−２５４４４９号
公報、特開平２−８５８５５号公報などに１Ｈ，１Ｈ，
２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレ−トや
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメ
タクリレ−トを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする
水なし平版印刷版が開示されている。

【０００６】しかしながら、これらの感光性平版印刷版
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のインキ反発層下の感光層に損傷
が起こり、これがインキ反発層にまで拡大し画像の再現
性が低下するなどの問題が生じる。この結果は印刷版の
耐刷力不足という問題として現れる。

【０００７】これまで上記耐刷力を改良することを目的
として、様々な検討がなされてきた。特開平５−５３３
０６号公報、特開平５−５３３０７号公報などでは基板
と感光層の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あ
るいはポリウレタンとシランカップリング剤を含有する
柔軟なプライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案され
ているが、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られ
ないだけでなく、感光層の物性をカバ−するだけの十分
なプライマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキ
ュア不足に起因するインキ反発層剥がれや感光層剥が
れ、さらにひどい場合にはプライマ層自体が基板から剥
がれるといった問題があった。

【０００８】インキ反発層を厚くするという手法も試み
られてきたが、それに伴う現像性の低下、さらにはイン
キマイレ−ジの低下が問題となる。

【０００９】特開平１−１５４１５８号公報、特開平１
−１５４１５９号公報などはインキ反発層であるシリコ
ーンゴム層を厚膜化し、それに伴うインキマイレ−ジの
低下をインキ着肉性物質の埋め込みなどによるセル深度
の調整でカバ−しようとするものであるが、現像性の低
下は依然として存在し、またインキ着肉性物質の埋め込
みなどという新たな行程が加わったことにより実用上扱
いにくいという問題を有する。 特開平１−１６１２４
２号公報では、インキ着肉層（感光層）を最上層に有す
る版を画像露光し現像した後、インキ反発層（シリコー
ンゴム層）を塗布し、その後さらに現像することで得ら
れる厚膜のシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版
が提案されている。しかしながら、この手法で得られた
版は画線部のインキ着肉性が悪いという問題を有してい
るばかりでなく、感光層現像後のシリコーンゴム層塗
布、一枚の版につき２回の現像と作業行程が多くなり実
用的でない。

【００１０】インキ反発層であるシリコーンゴム層の物
性を向上させる検討もなされている。フィラ−の添加や
ポリジメチルシロキサンの高分子量化、また、特開平２
−３２３４９号公報ではインキ反発性物質の硬化物をふ
くむ微多孔質層を有する水なし平版印刷版、特開平２−
８８４７号公報ではポリオルガノシロキサンを枝にもつ
グラフトポリマをシリコーンゴム層に含有する水なし平
版印刷版が提案されている。しかしながら、これらはい
ずれも耐傷性の向上こそなされてはいるが、耐刷性の向
上は不十分であった。そればかりか、シリコーンゴム層
が本来備えていなければならないインキ反発性を低下さ
せるという問題を有していた。

【００１１】特開昭６３−２１３８４８号公報には感光
層にアクリル酸誘導体共重合体を含有させたものが記載
されているが、アクリル酸誘導体共重合体を感光層中に
５０ｗｔ％以上含有させると画像再現性やインキ反発層
であるシリコーンゴム層との接着性を損なうという問題
があり、また５０ｗｔ％以下では耐刷力が不十分となる
という問題を有していた。

【００１２】また、特開平３−２０７４１号公報には感
光層にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分
子化合物を含有させたもの、特開平３−６８９４６号公
報には感光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘
導体共重合体を含有させたものが記載され、水系現像液
で現像可能で耐刷力の優れた版が得られるとされてい
る。しかしながら、これらの版はプレ−トクリ−ナ−等
の版洗浄溶剤やＵＶインキ等に対する感光層の耐溶剤性
が不十分であるため、画線部が印刷中に破壊されるだけ
でなく、非画線部の感光層が溶剤に侵されることによる
耐刷性の低下という問題を有していた。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、感光層
に特定の構造を有する化合物を含有し、感光層あるいは
プライマ層、もしくはその両方合わせた層の引張特性を
初期弾性率、１０％応力、破壊伸度で規定し柔軟化する
ことによって、版の現像性、画像再現性、印刷特性、耐
溶剤性などを低下させることなく、大幅に耐刷力の改善
された水なし平版印刷版原版を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
以下の水なし平版によって達成される。すなわち、 （１）支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
つ該感光層の引張特性が 、初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。

【００１５】

【化１３】

【化１４】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （２）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
つ該プライマ層の引張特性が、 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。

【００１６】

【化１５】

【化１６】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （３）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
つ該プライマ層と感光層とを合わせた層の引張特性が、 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。

【００１７】

【化１７】

【化１８】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （４）支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を二つ以上有す
る化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を二つ以上有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
つ該感光層の引張特性が 、初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする（１）記載の水なし平
版印刷版原版。

【００１８】

【化１９】

【化２０】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （５）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を二つ以上有す
る化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を二つ以上有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
つ該プライマ層の引張特性が、 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする（２）記載の水なし平
版印刷版原版。

【００１９】

【化２１】

【化２２】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （６）支持体上にプライマ層、感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を二つ以上有す
る化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を二つ以上有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
つ該プライマ層と感光層とを合わせた層の引張特性が、 初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする（３）記載の水なし平
版印刷版原版。

【００２０】

【化２３】

【化２４】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） （７）該感光層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする（１）または（４）記
載の水なし平版印刷版原版。

【００２１】（８）プライマ層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする（２）または（５）記
載の水なし平版印刷版原版。

【００２２】（９）該プライマ層と感光層とを合わせた
層の引張特性が １０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする（３）または（６）記
載の水なし平版印刷版原版。

【００２３】（１０）該感光層の引張特性が 破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする（１）、（４）または
（７）記載の水なし平版印刷版原版。

【００２４】（１１）プライマ層の引張特性が 破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする（２）、（５）または
（８）記載の水なし平版印刷版原版。

【００２５】（１２）該プライマ層と感光層とを合わせ
た層の引張特性が、 破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする（３）、（６）または
（９）記載の水なし平版印刷版原版。

【００２６】（１３）感光層がバインダポリマを有する
ことを特徴とする（１）〜（１２）のいずれかに記載の
水なし平版印刷版原版。

【００２７】（１４）バインダポリマの感光層中にしめ
る割合が１０〜９０wt％であることを特徴とする（１
３）記載の水なし平版印刷版原版。

【００２８】（１５）バインダポリマのガラス転移点
（Ｔｇ）が２０℃以下であることを特徴とする（１３）
または（１４）記載の水なし平版印刷版原版。

【００２９】（１６）感光層が架橋構造を有することを
特徴とする（１）〜（１５）のいずれかに記載の水なし
平版印刷版原版。

【００３０】（１７）感光層が光剥離性感光層であるこ
とを特徴とする（１）〜（１６）のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版。

【００３１】（１８）インキ反発層が、シリコーンゴム
層であることを特徴とする（１）〜（１７）のいずれか
に記載の水なし平版印刷版原版。

【００３２】（１９）インキ反発層の表面に保護層を設
けることを特徴とする（１）〜（１８）のいずれかに記
載の水なし平版印刷版原版。

【００３３】（２０）保護層が表面にプレーンまたは凹
凸処理した保護フィルムであることを特徴とする（１
９）記載の水なし平版印刷版原版。

【００３４】（２１）支持体が表面をプレーンまたは粗
面化した金属板であることを特徴とする（１）〜（２
０）のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。

【００３５】（２２）（１）〜（２１）のいずれかに記
載の水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる
水なし平版印刷版。

【００３６】以下に、本発明の構成について、さらに具
体的に説明する。

【００３７】本発明の特徴とするところは、前記感光層
あるいはプライマ層、もしくはこの両方の層を合わせた
層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² （３）破断伸度 ：１０％以上 といった物性を有する点にある。

【００３８】本発明では、感光層あるいはプライマ層、
もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の初期弾
性率が５ｋｇｆ／ｍｍ² 以上５０ｋｇｆ／ｍｍ² 以下、
好ましくは７ｋｇｆ／ｍｍ² 以上４５ｋｇｆ／ｍｍ² 以
下、さらに好ましくは１０ｋｇｆ／ｍｍ² 以上４０ｋｇ
ｆ／ｍｍ² 以下にすることが重要である。

【００３９】また、１０％応力値は、０．０５ｋｇｆ／
ｍｍ² 以上３．０ｋｇｆ／ｍｍ² 以下、好ましくは０．
１ｋｇｆ／ｍｍ² 以上２．０ｋｇｆ／ｍｍ² 以下、さら
に好ましくは０．１ｋｇｆ／ｍｍ² 以上１．５ｋｇｆ／
ｍｍ² 以下にすることが重要である。

【００４０】上記の初期弾性率が５ｋｇｆ／ｍｍ² 未
満、１０％応力値が０．０５ｋｇｆ／ｍｍ² 未満の場合
は感光層がベタつき印刷時にヒッキ−の原因になる。

【００４１】１０％応力値が３．０ｋｇｆ／ｍｍ² をこ
える場合には、オフセット印刷時に生じる繰り返し応力
により、感光層とシリコーンゴム層の接着界面で破壊が
起こるため、高耐刷力が得られない。

【００４２】さらに、露光後の感光層、あるいはプライ
マ層、もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の
破断伸度１０％以上、好ましくは１５％以上に設計する
ことが重要である。破断伸度が１０％以下の場合はこれ
らの層が脆くなり、オフセット印刷を行った場合にこれ
らの層が破壊され、高耐刷力が得られない。

【００４３】初期弾性率が５０ｋｇｆ／ｍｍ² 以上、破
断伸度１０％以下の場合は、例えば特公昭６１−５４２
２２号の実施例１に記載の感光層の引張り初期弾性率は
５６ｋｇｆ／ｍｍ² 、破断伸度５．０％で硬い感光層で
あるため、オフセット印刷を行った場合に感光層とイン
キ反発層との間で繰り返し応力がかかり、感光層自体の
破壊およびそれに引き続くインキ反発層との接着界面で
の破壊が起こり高耐刷力が得られない。

【００４４】感光層の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３０１
にしたがって測定することができる。ガラス板上に感光
液を塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱硬化させる。こ
の後、ガラス板よりシートを剥がすことで約１００ミク
ロンの厚さのシートを得る。このシートから５ｍｍ×４
０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テンシロン ＲＴ
Ｍ−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速
度 ２０cm／分で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を
測定する。

【００４５】本発明に用いられる感光層としては、下記
一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有する化
合物とキノンジアジド化合物との反応物と、下記一般式
（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物
とキノンジアジド化合物との反応物の両方をそれぞれ少
なくとも一つずつ含有している。

【００４６】

【化２５】

【化２６】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。） 一般式（Ｉ）中のＲ１の置換基の具体例としては、水素
原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、メ
ルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニトロソ基、
炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキル基、
アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイ
ル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００
の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキ
シ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換のアリ−
ル基、アリ−ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一
種が挙げられるが、これらに限定されない。また、一般
式（ＩＩ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の具体例として
は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミ
ノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニト
ロソ基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアル
キル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、ア
ルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２
〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換
のアリ−ル基、アリ−ルオキシ基の群から選ばれる少な
くとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、またこれらに限定されず、これ以外のものでもよ
い。

【００４７】一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物としては例えば次のような化合物が挙
げられるが、これらに限定されない。

【００４８】炭素数１〜１０００万の置換もしくは非置
換の脂肪族アルコ−ル、例えばメタノ−ル、エタノ−
ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、ヘキサノ−ル、ヘプタ
ノ−ル、オクタノ−ル、デカノ−ル、シクロヘキサノ−
ル、アリルアルコ−ル、クロチルアルコ−ル、３−ブテ
ン−１−オル、３−ブテン−２−オル、１−ヘキセン−
１−オル、２−ヘキセン−１−オル、３−ヘキセン−１
−オル、４−ヘキセン−１−オル、５−ヘキセン−１−
オル、１−オクテン−３−オル、ベンジルアルコ−ル、
ナフタレンメタノ−ル、ナフタレンエタノ−ル、３−ヒ
ドロキシテトラヒドロフラン、エタノ−ルアミン、２−
メルカプトエタノ−ル、１−メルカプト−２−プロパノ
−ル、３−メルカプト−２−ブタノ−ル、ヒドロキシエ
チルアクリレ−ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−トな
どの一価の飽和あるいは不飽和アルコ−ル、エチレング
リコ−ル、プロピレングリコ−ル、１，３−ブタンジオ
−ル、１，４−ブタンジオ−ル、１，６−ヘキサンジオ
−ル、１，８−オクタンジオ−ル、１，１０−デカンジ
オ−ル、ジエチレングリコ−ル、トリエチレングリコ−
ル、テトラエチレングリコ−ル、ポリエチレングリコ−
ル、プロピレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−
ル、２−ブテン−１，４−ジオ−ル、５−ヘキセン−
１，２−ジオ−ル、７−オクテン−１，２−ジオ−ル、
３−メルカプト−１，２−プロパンジオ−ルなどの二価
の飽和あるいは不飽和アルコ−ル、グリセリン、トリメ
チロ−ルプロパン、１，２，４−ブタントリオ−ル、ペ
ンタエリスリト−ル、ポリビニルアルコ−ル、セルロ−
スおよびその誘導体、ヒドロキシエチルアクリレ−トの
重合体および共重合体、ヒドロキシエチルメタクリレ−
トの重合体および共重合体などの多価の飽和あるいは不
飽和アルコ−ルなど。

【００４９】これらの中では多価の飽和あるいは不飽和
アルコ−ルが好ましい。とりわけエチレングリコ−ル、
１，３−ブタンジオ−ル、１，４−ブタンジオ−ル、ジ
エチレングリコ−ル、トリエチレングリコ−ル、テトラ
エチレングリコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、プロピ
レングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、グリセリ
ン、トリメチロ−ルプロパン、ポリビニルアルコ−ル、
ヒドロキシエチルアクリレ−トの重合体および共重合
体、ヒドロキシエチルメタクリレ−トの重合体および共
重合体などが好ましい。

【００５０】これらの化合物あるいはこれ以外の一般式
（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物を
単独、あるいは二種以上キノンジアジド化合物と反応さ
せることにより、目的とする反応物を得ることができ
る。

【００５１】また、一般式（ＩＩ）で示される構造を少
なくとも一つ有する化合物としては、例えば次のような
化合物が挙げられるが、これらに限定されない。

【００５２】芳香環に直接水酸基が結合している化合
物、例えばフェノ−ル、ナフト−ル、アントラノ−ル、
ジヒドロキシアントラキノン、ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキ
シベンゾフェノン、ビスフェノ−ルＡ、アントラロビ
ン、フェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂（フェ
ノ−ル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ−ル、ｐ−オクチ
ルフェノ−ル、ｐ−ノニルフェノ−ル、カルダノ−ル、
クレゾ−ル、キシレノ−ル、カテコ−ルおよびピロガロ
−ルなどのフェノ−ル類とホルムアルデヒド類とを酸性
触媒存在下に縮合させて得られる樹脂）、レゾ−ル樹脂
（例えば、上記フェノ−ル類とホルムアルデヒド類とを
アルカリ触媒存在下に縮合させて得られる樹脂）、レゾ
ルシンベンズアルデヒド縮合樹脂、ピロガロ−ルアセト
ン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共重合体な
ど。

【００５３】これらの中では、ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキ
シベンゾフェノン、ビスフェノ−ルＡ、フェノ−ルホル
ムアルデヒドノボラック樹脂、レゾ−ル樹脂などが好ま
しく、特にフェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂
が好ましい。

【００５４】これらの化合物あるいはこれ以外の一般式
（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物
を単独、あるいは二種以上キノンジアジド化合物と反応
させることにより、目的とする反応物を得ることができ
る。

【００５５】また本発明におけるキノンジアジド化合物
としては、ベンゾキノンジアジドスルホン酸およびその
誘導体、ナフトキノンジアジドスルホン酸およびその誘
導体などが挙げられるが、これらに限定されない。具体
的には１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スル
ホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸ブロミド、１，２−ベンゾキノン−２
−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ベ
ンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−６−スルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−６−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−６−スルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スルホ
ン酸などが挙げられるが、これらに限定されず、これ以
外のものでもよい。これらの中では１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、とりわ
け１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン
酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム塩が
有効である。これらのキノンジアジド化合物を用いて一
般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合
物との反応物、および一般式（ＩＩ）で示される構造を
少なくとも一つ有する化合物との反応物は、通常エステ
ル化反応し、従って目的とする反応物はスルホン酸エス
テルの構造を有するものとなる。例えば、エチレングリ
コ−ルに１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホン酸クロリドを反応させた場合、エチレングリコ−
ルの有する水酸基部分とスルホン酸クロリドの部分が反
応し、塩酸を脱離しながらスルホン酸エステルとなる。
また、フェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂に
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸
クロリドを反応させた場合、フェノ−ルホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂の有するフェノ−ル性水酸基部分とス
ルホン酸クロリドの部分が反応し、塩酸を脱離しながら
スルホン酸エステルとなる。

【００５６】一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割
合、および一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合
は特に限定されないが、好ましくは一般式（Ｉ）で示さ
れる構造あるいは一般式（ＩＩ）で示される構造を少な
くとも一つ有する化合物１００重量部に対してキノンジ
アジド化合物を０．０１〜１００万重量部、より好まし
くは一般式（Ｉ）で示される構造あるいは一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物１０
０重量部に対してキノンジアジド化合物を０．１〜１０
万重量部反応させることにより得られるのがよい。

【００５７】本発明の感光層は、通常は光剥離性感光層
である。光剥離性感光層とは、現像により、露光部感光
層が実質的に除去されることなく、その上のインキ反発
層が除去されるものを言う。公知の多官能化合物で架橋
せしめるか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性基
を単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液に
難溶もしくは不溶とすることにより得られたものであ
る。逆にこれらの架橋や変性を行わない場合、感光層の
露光部は現像時にインキ反発層と共に除去される。

【００５８】架橋構造を導入せしめるために用いられる
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
−ト類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来るがこれらに限定されない。

【００５９】多官能イソシアネ−ト類としては、パラフ
ェニレンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−ト
リレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４´−ジフェ
ニルメタンジイソシアネ−ト（ＭＤＩ）、トリジンジイ
ソシアネ−ト（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネ−
ト（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネ−ト、シ
クロヘキサンジイソシアネ−ト、メタキシリレンジイソ
シアネ−ト（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネ
−ト（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネ−トメチル
カプロエ−ト）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネ−
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネ−ト）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナ−ト
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネ−
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエ−テルイソシアネ−ト、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ−ト（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマ−酸ジイ
ソシアネ−ト（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネ−ト、トリス（イソシアネ−トフェニル）チオフ
ォスフェ−ト、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−
ト、リジンエステルトリイソシアネ−ト、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネ−ト、１，８−ジイソシア
ネ−ト−４−イソシアネ−トメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネ−ト、ビシクロヘプ
タントリイソシアネ−ト等やポリイソシアネ−ト類の多
価アルコ−ルアダクト体、あるいはポリイソシアネ−ト
類の重合体等が挙げられるがこれらに限定されない。多
官能エポキシ化合物としては、ポリエチレングリコ−ル
ジグリシジルエ−テル類、ポリプロピレングリコ−ルジ
グリシジルエ−テル類、ビスフェノ−ルＡジグリシジル
エ−テル、トリメチロ−ルプロパントリグリシジルエ−
テルなどが挙げられるが、これらに限定されない。これ
らの中で好ましいものは、多官能イソシアネ−ト化合物
である。また、これら多官能化合物の使用量は、感光性
化合物１００重量部に対して１〜１５０重量部が好まし
く、より好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましく
は１０〜８０重量部である。

【００６０】これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常１５０℃以下で行うことが好まし
く、このために公知の触媒を併用することが好ましい。

【００６１】またキノンジアジド化合物に単官能化合物
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該感光性化合物の活性な基を例え
ばエステル化、アミド化、ウレタン化することなどが挙
げられる。感光性化合物の活性な基と反応させる化合物
としては、低分子であっても比較的高分子であってもよ
いし、感光性化合物にモノマをグラフト重合させてもよ
い。

【００６２】本発明における感光層には、通常形態保持
の機能を果たすバインダポリマが添加される。そのよう
なバインダポリマとしては、有機溶媒可能でかつフィル
ム形成能のあるものであればいずれも使用可能である
が、好ましくはそのガラス転移温度（Ｔg ）が２０℃以
下のポリマおよびコポリマ、さらに好ましくはガラス転
移温度（Ｔg ）が０℃以下のポリマおよびコポリマを挙
げることが出来る。

【００６３】ガラス転移温度Ｔg （glass transition t
emperature）とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に（またはその逆に）変化する転移点
（温度）のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積（比
容）−温度曲線、熱分析（ＤＳＣ，ＤＴＡ等）による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的（動的粘弾性等）および誘
電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ（dilatometer ）を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積（比容）−温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。

【００６４】以下にバインダポリマとなり得る代表的な
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。

【００６５】（１）ビニルポリマ類 以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。

【００６６】例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリ
ル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−２−ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸−２−ヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
−ルモノ（メタ）アクリレ−ト、ポリプロピレングリコ
−ルモノ（メタ）アクリレ−ト、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレ−ト、２−（メタ）アクリロキシエチル水
素フタレ−ト、２−（メタ）アクリロキシエチル水素サ
クシネ−ト、アクリルアミド、Ｎ−メチロ−ルアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレ−ト、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３−メチル−１−ブテン、ブチルビニ
ルエ−テル、Ｎ−ビニルカルバゾ−ル、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、α−シアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコ−ルジ（メ
タ）アクリレ−ト、トリメチロ−ルエタントリ（メタ）
アクリレ−ト、ネオペンチルグリコ−ルジ（メタ）アク
リレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリ（メタ）アクリレ
−ト、ペンタエリスリト−ルテトラ（メタ）アクリレ−
ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサ（メタ）アクリレ−
ト、ヘキサンジオ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、トリメ
チロ−ルプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）
エ−テル、グリセリンやトリメチロ−ルエタン、トリメ
チロ−ルプロパン等の多官能アルコ−ルにエチレンオキ
シドやプロピレンオキシドを付加させた後（メタ）アク
リレ−ト化したもの、およびこれらの誘導体を重合、共
重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダポリマ
として使用できる。

【００６７】ガラス転移温度が２０℃以下のビニル系ポ
リマの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが
挙げられるが、これらに限定されない。

【００６８】（ａ）ポリオレフィン類 例えばポリ（１−ブテン）、ポリ（５−シクロヘキシル
−１−ペンテン）、ポリ（１−デセン）、ポリ（１，１
−ジクロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブテ
ン）、ポリ（１，１−ジメチルプロペン）、ポリ（１−
ドデセン）、ポリエチレン、ポリ（１−ヘプテン）、ポ
リ（１−ヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６−メチル
−１−ヘプテン）、ポリ（５−メチル−１−ヘキセ
ン）、ポリ（２−メチルプロペン）、ポリ（１−ノネ
ン）、ポリ（１−オクテン）、ポリ（１−ペンテン）、
ポリ（５−フェニル−１−ペンテン）、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ（１−ブテン）等。

【００６９】また、ポリ（ビニルブチルエ−テル）、ポ
リ（ビニルエチルエ−テル）、ポリ（ビニルイソブチル
エ−テル）、ポリ（ビニルメチルエ−テル）等。

【００７０】（ｂ）ポリスチレン類 ガラス転移温度２０℃以下のポリスチレン誘導体として
は、例えばポリ（４−［（２−ブトキシエトキシ）メチ
ル］スチレン）、ポリ（４−デシルスチレン）、ポリ
（４−ドデシルスチレン）、ポリ［４−（２−エトキシ
エトキシメチル）スチレン］、ポリ［４−（１−エチル
ヘキシロキシメチル）スチレン］、ポリ［４−（ヘキシ
ロキシメチル）スチレン］、ポリ（４−ヘキシルスチレ
ン）、ポリ（４−ノニルスチレン）、ポリ［４−（オク
チロキシメチル）スチレン］、ポリ（４−オクチルスチ
レン）、ポリ（４−テトラデシルスチレン）等が挙げら
れる。

【００７１】（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマ ガラス転移温度２０℃以下のポリアクリレ−ト類として
は、例えばポリ（ブチルアクリレ−ト）、ポリ（sec −
ブチルアクリレ−ト）、ポリ（tert−ブチルアクリレ−
ト）、ポリ［２−（２−シアノエチルチオ）エチルアク
リレ−ト］、ポリ［３−（２−シアノエチルチオ）プロ
ピルアクリレ−ト］、ポリ［２−（シアノメチルチオ）
エチルアクリレ−ト］、ポリ［６−（シアノメチルチ
オ）ヘキシルアクリレ−ト］、ポリ［２−（３−シアノ
プロピルチオ）エチルアクリレ−ト］、ポリ（２−エト
キシエチルアクリレ−ト）、ポリ（３−エトキシプロピ
ルアクリレ−ト）、ポリ（エチルアクリレ−ト）、ポリ
（２−エチルブチルアクリレ−ト）、ポリ（２−エチル
ヘキシルアクリレ−ト）、ポリ（５−エチル−２−ノニ
ルアクリレ−ト）、ポリ（２−エチルチオエチルアクリ
レ−ト）、ポリ（３−エチルチオプロピルアクリレ−
ト）、ポリ（ヘプチルアクリレ−ト）、ポリ（２−ヘプ
チルアクリレ−ト）、ポリ（ヘキシルアクリレ−ト）、
ポリ（イソブチルアクリレ−ト）、ポリ（イソプロピル
アクリレ−ト）、ポリ（２−メトキシエチルアクリレ−
ト）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリレ−ト）、ポ
リ（２−メチルブチルアクリレ−ト）、ポリ（３−メチ
ルブチルアクリレ−ト）、ポリ（２−メチル−７−エチ
ル−４−ウンデシルアクリレ−ト）、ポリ（２−メチル
ペンチルアクリレ−ト）、ポリ（４−メチル−２−ペン
チルアクリレ−ト）、ポリ（４−メチルチオブチルアク
リレ−ト）、ポリ（２−メチルチオエチルアクリレ−
ト）、ポリ（３−メチルチオプロピルアクリレ−ト）、
ポリ（ノニルアクリレ−ト）、ポリ（オクチルアクリレ
−ト）、ポリ（２−オクチルアクリレ−ト）、ポリ（３
−ペンチルアクリレ−ト）、ポリ（プロピルアクリレ−
ト）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレ−ト）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレ−ト）等が代表例として
挙げられる。

【００７２】ガラス転移温度２０℃以下のポリメタクリ
レ−ト類としては、例えばポリ（デシルメタクリレ−
ト）、ポリ（ドデシルメタクリレ−ト）、ポリ（２−エ
チルヘキシルメタクリレ−ト）、ポリ（オクタデシルメ
タクリレ−ト）、ポリ（オクチルメタクリレ−ト）、ポ
リ（テトラデシルメタクリレ−ト）、ポリ（ｎ−ヘキシ
ルメタクリレ−ト）、ポリ（ラウリルメタクリレ−ト）
等が挙げられる。

【００７３】（２）未加硫ゴム 天然ゴム（ＮＲ）やブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン（ＢＲ）、スチレン−ブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変成性スチレン
−ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリ
イソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプ
レン、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、メタ
クリル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エ
ステル−アクリルニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブ
チレン−イソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性
アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニト
リル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−イソ
プレン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体などが挙げ
られる。これらの未加硫ゴムは一般的にはガラス転移温
度２０℃以下である。

【００７４】これらの他に、ガラス転移温度２０℃以下
のゴム類の具体例としては、例えばポリ（１，３−ブタ
ジエン）、ポリ（２−クロロ−１，３−ブタジエン）、
ポリ（２−デシル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２，
３−ジメチル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−エチ
ル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−ヘプチル−１，
３−ブタジエン）、ポリ（２−イソプロピル−１，３−
ブタジエン）、ポリ（２−メチル−１，３−ブタジエ
ン）、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されない。

【００７５】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。

【００７６】（３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類） トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２−
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエ−テル、フェニルグリシジル
エ−テル、ｎ−ブチルグリシジルエ−テル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
−ルなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。

【００７７】ガラス転移温度２０℃以下のポリオキシド
類の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポ
リ（ブタジエンオキシド）、ポリ（１−ブテンオキシ
ド）、ポリ（ドデセンオキシド）、ポリ（エチレンオキ
シド）、ポリ（イソブテンオキシド）、ポリホルムアル
デヒド、ポリ（プロピレンオキシド）、ポリ（テトラメ
チレンオキシド）、ポリ（トリメチレンオキシド）等が
挙げられる。

【００７８】（４）ポリエステル類 以下に示すような多価アルコ−ルと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコ−ルと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコ−ル、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もバインダポリマとして使用可能で
ある。

【００７９】多価アルコ−ルとしては、エチレングリコ
−ル、プロピレングリコ−ル、１，３−プロパンジオ−
ル、１，４−ブタンジオ−ル、１，３−ブチレングリコ
−ル、１，５−ペンタンジオ−ル、１，６−ヘキサンジ
オ−ル、ジエチレングリコ−ル、ジプロピレングリコ−
ル、ネオペンチルグリコ−ル、トリエチレングリコ−
ル、ｐ−キシリレングリコ−ル、水素化ビスフェノ−ル
Ａ、ビスフェノ−ルジヒドロキシプロピルエ−テル、グ
リセリン、トリメチロ−ルエタン、トリメチロ−ルプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リスリト−ル、ジペンタエリスリト−ル、ソルビト−ル
等。

【００８０】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。

【００８１】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等。

【００８２】ガラス転移温度２０℃のポリエステルの具
体例としては、例えばポリ［１，４−（２−ブテン）セ
バケ−ト］、ポリ［１，４−（２−ブテン）セバケ−
ト］、ポリ（デカメチレンアジペイト）、ポリ（エチレ
ンアジペイト）、ポリ（オキシジエチレンアジペイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンアゼラエイト）、ポリ
（オキシジエチレンドデカンジエイト）、オイル（オキ
シジエチレングルタレイト）、ポリ（オキシジエチレン
ヘプチルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレンマロネ
イト）、ポリ（オキシジエチレンメチルマロネイト）、
ポリ（オキシジエチレンノニルマロネイト）、ポリ（オ
キシジエチレンオクタデカンジエイト）、ポリ（オキシ
ジエチレンオキザレイト）、ポリ（オキシジエチレンペ
ンチルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレンピメレイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンプロピルマロネイト）、
ポリ（オキシジエチレンセバケ−ト）、ポリ（オキシジ
エチレンスベレイト）、ポリ（オキシジエチレンスクシ
ネイト）、ポリ（ペンタメチレンアジペイト）、ポリ
（テトラメチレンアジペイト）、ポリ（テトラメチレン
セバケ−ト）、ポリ（トリメチレンアジペイト）等が挙
げられるが、これらに限定されない。

【００８３】（５）ポリウレタン類 以下に示すポリイソシアネ−ト類と多価アルコ−ルより
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコ−ルとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコ−ル類および下記の多価アルコ−ル
類、これら多価アルコ−ルとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオ−ル、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオ−ル、ポリカ−ボ
ネ−トジオ−ル、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
−テルポリオ−ル、あるいは水酸基を有するアクリル
（あるいはメタクリル）単量体とアクリル（あるいはメ
タクリル）酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オ−ル、ポリブタジエンポリオ−ルなどが使用可能であ
る。

【００８４】イソシアネ−ト類としては、パラフェニレ
ンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−トルイレ
ンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネ−ト（ＭＤＩ）、トリジンジイソシア
ネ−ト（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネ−ト（Ｘ
ＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネ−ト、シクロヘ
キサンジイソシアネ−ト、メタキシリレンジイソシアネ
−ト（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト
（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネ−ト
（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネ−トメチルカプ
ロエ−ト）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネ−
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネ−ト）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナ−ト
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネ−
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエ−テルイソシアネ−ト、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ−ト（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−ト、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマ−酸ジイ
ソシアネ−ト（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネ−ト、トリス（イソシアネ−トフェニル）チオフ
ォスフェ−ト、テトラメチルキシリレンジイソシアネ−
ト、リジンエステルトリイソシアネ−ト、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネ−ト、１，８−ジイソシア
ネ−ト−４−イソシアネ−トメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネ−ト、ビシクロヘプ
タントリイソシアネ−ト等やポリイソシアネ−ト類の多
価アルコ−ルアダクト体、あるいはポリイソシアネ−ト
類の重合体等が挙げられる。

【００８５】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコ−ル類としては、ポリプロピレング
リコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、ポリテトラメチレ
ングリコ−ル、エチレンオキシド−プロピレンオキシド
共重合体、テトラヒドロフラン−エチレンオキシド共重
合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキシド共重合
体等を、また、ポリエステルジオ−ルとしてはポリエチ
レンアジペ−ト、ポリプロピレンアジペ−ト、ポリヘキ
サメチレンアジペ−ト、ポリネオペンチルアジペ−ト、
ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペ−ト、ポリエチ
レンヘキサメチレンアジペ−ト等を、また、ポリ−ε−
カプロラクトンジオ−ル、ポリヘキサメチレンカ−ボネ
−トジオ−ル、ポリテトラメチレンアジペ−ト、ソルビ
ト−ル、メチルグルコジット、シュクロ−ズ等を挙げる
ことが出来る。

【００８６】また、種々の含燐ポリオ−ル、ハロゲン含
有ポリオ−ルなどもポリオ−ルとして使用できる。

【００８７】さらに、分岐したポリウレタン樹脂や水酸
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。

【００８８】これらの他、ポリ（テトラメチレンヘキサ
メチレン−ウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブテン）
ヘキサメチレン−ウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブ
チン）ヘキサメチレン−ウレタン）等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。

【００８９】これらのポリウレタンは一般的にはガラス
転移温度２０℃以下である。

【００９０】（６）ポリアミド類 従来提案されているポリアミド類もまたバインダポリマ
として使用できる。基本的な組成としては、次に示すモ
ノマ類のコポリマ−である。

【００９１】ε−カプロラクタム、ω−カプロラクタ
ム、ω−アミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジアミ
ン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタン、
２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソ
ホロンジアミン、ジグリコ−ル類、イソフタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。

【００９２】さらに詳しく説明すると、ポリアミドは一
般に水溶性ポリアミドとアルコ−ル可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
４８−７２２５０号公報に示されるような３，５−ジカ
ルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合す
ることによって得られるスルホン酸基またはスルホネ−
ト基を含有するポリアミド、特開昭４９−４３４６５号
公報に示されているような分子中にエ−テル結合を持つ
ジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちい
ずれか１種類を共重合して得られるところのエ−テル結
合を有するポリアミド、特開昭５０−７６０５号公報に
示されているようなＮ，Ｎ’−ジ（γ−アミノプロピ
ル）ピペラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含
有するポリアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル
酸等で四級化したポリアミド、特開昭５５−７４５３７
号公報で提案されている分子量１５０〜１５００のポリ
エ−テルセグメントを含有する共重合ポリアミド、およ
びα−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）−ε−カプロラ
クタムの開環重合またはα−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルア
ミノ）−ε−カプロラクタムとε−カプロラクタムの開
環共重合で得られるところのポリアミド等が挙げられ
る。

【００９３】またアルコ−ル可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン３、４、５、６、８、１１、１
２、１３、６６、６１０、６／１０、１３／１３、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カプロラク
タム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／４，４’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
ε−カプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのＮ−メチロ−ル、Ｎ−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。

【００９４】以上のようなポリアミドを単独または混合
してバインダポリマとして用いることが出来る。

【００９５】ガラス転移温度２０℃以下のポリアミドと
しては、分子量１５０〜１５００のポリエ−テルセグメ
ントを含有する共重合ポリアミド、より具体的には末端
にアミノ基を有しポリエ−テルセグメント部分の分子量
が１５０〜１５００であるポリオキシエチレンと脂肪族
ジカルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を３０
〜７０重量％含有するところの共重合ポリアミドが挙げ
られるが、これらに限定されない。

【００９６】これらバインダポリマと成りうるポリマは
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。

【００９７】これらバインダポリマの中ではポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。

【００９８】また、バインダポリマの使用量は感光層が
画像再現性を有する範囲でればどのような割合でもよい
が、本発明における感光層の引張特性を十分に引き出す
ためには感光層成分に対して１０〜９０wt％使用するの
が適しており、さらに好ましい使用量は１５〜６５wt
％、最も好ましいのは２０〜５５wt％である。

【００９９】また、感光層成分に対し１０〜９０wt％の
バインダポリマと、一般式（Ｉ）で示される構造を一つ
有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物（例え
ば全体のエステル化率が１０〜９０％であるような、ジ
エチレングリコ−ルと１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４−スルホン酸クロリドによるスルホン酸エステ
ル反応物）、一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくと
も一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物
（例えば全体のエステル化率が１０〜９０％であるよう
な、フェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂と１，
２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロ
リドによるスルホン酸エステル反応物）の組み合わせは
最も好ましい組成となる。

【０１００】キノンジアジドスルホン酸エステルを用い
る場合、エステル化率が１０％未満である場合は、感光
性基の数が少ないため画像再現性、現像性の低下という
問題が生じる。一方、エステル化率が９０％より高い場
合は残存水酸基、すなわち架橋点の減少を意味するた
め、感光層の耐溶剤性、インキ反発層と感光層との間の
接着力に問題を引き起こす場合がある。

【０１０１】バインダポリマが１０wt％未満である場合
には、満足な感光層物性を発現させることが困難であ
り、一方、９０wt％より多い場合は結果的に感光性化合
物の減量を意味するため、画像再現性、現像性、インキ
反発層と感光層との間の接着力などに問題を生じさせ
る。

【０１０２】上記の諸成分に加え、必要に応じて光増感
剤、酸、塩基、染料、顔料、光発色剤、界面活性剤、触
媒などの添加剤を加えることは任意である。特に、露光
現像された印刷版の検版性を向上させる意味から、適当
な染料、顔料、光発色剤などを単独あるいは二種以上組
み合わせて用いることにより、可視画像再現性に優れた
印刷版原版となりうる。

【０１０３】感光層の厚さは０．１〜１００μｍ、好ま
しくは約０．５〜１０μｍが適当である。薄すぎると感
光層中にピンホ−ルを生じやすくなり、一方厚すぎると
経済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。

【０１０４】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。

【０１０５】例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼など
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄などがメッキあるいは蒸着された金属
板、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタ
レ−ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
などのようなプラスチックフィルムないしはシ−ト、ク
ロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性を有する支持
体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持体、もしくは
紙、樹脂コ−ト紙、アルミニウムなどの金属箔が張られ
た紙などが挙げられる。これらの支持体上にはハレ−シ
ョン防止その他の目的でさらに他の物質をコ−ティング
して支持体として用いることも可能である。

【０１０６】これらの内、好ましいのは金属板であり、
とりわけアルミニウムを用いた金属板が好ましい。この
ような金属板はそのまま用いるか、アルカリ水溶液等に
よる脱脂処理等によりプレーン化して使用する。もしく
は機械的方法、電解エッチング法等により砂目形状を形
成させて粗面化しもよい。この際砂目形状を形成させる
前に脱脂処理を行うことは任意である。機械的方法とし
ては、例えばポ−ル研磨法、ブラシ研磨法、液体ホ−ニ
ングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げられる。機械的
研磨方法において用いられる研磨材としては、アルミ
ナ、シリコーンカ−バイド、ボロンカ−バイド、ダイヤ
モンド、砂けい石、花こう岩、石灰石、人造エメリ−、
鋼球、鉄片、アランダム、バミストン、酸化マグネシウ
ム等が挙げられ、所望の粒径のものが用いられる。電解
エッチング法としては、リン酸、硫酸、過塩素酸、塩
酸、硝酸、ピロリン酸、フッ酸等を含む溶液を用いてエ
ッチングする方法が挙げられる。粗面化された金属板の
製造にあたっては、金属板の組成等に応じて上記の各種
方法を適宜選択して使用することができる。上記の各種
方法は、単独あるいは二種以上組み合わせて用いること
ができる。

【０１０７】電解エッチング法は、上記の酸を単独ある
いは二種以上混合した浴で行われる。これらの中で好ま
しいのは、硫酸、リン酸、塩酸、硝酸を単独あるいは二
種以上混合した浴である。これにアルコ−ル、無水酢
酸、不飽和カルボン酸等の有機物や重クロム酸カリウ
ム、過酸化水素等の無機物、ゼラチンやデンプン等のコ
ロイド質類、更にクリセリン、その他の粘性物質、及び
界面活性剤等を添加剤として浴に加えることも任意であ
る。これらの添加剤は単独または二種以上組み合わせて
使用してもよい。電解エッチング浴は水に上記の酸類及
び必要に応じて上記添加剤を加えて調製する。

【０１０８】電解エッチングの際、浴温度は５〜８０℃
の範囲で行うことが好ましく、１０〜５０℃の範囲で行
うことがより好ましい。電流密度は５〜３００Ａ／ｄｍ
² の範囲が好ましく、１０〜２００Ａ／ｄｍ² の範囲が
より好ましい。

【０１０９】更に、上記の脱脂処理、砂目形状形成等を
行った後、１〜１０％メタケイ酸ナトリウム水溶液に温
度６０〜９０℃で２０〜９０秒間浸し、更にｐＨ７．５
〜９．５で温度１０〜９０℃の水に１０〜９０秒浸し、
水洗、乾燥して支持体として用いることもできる。

【０１１０】本発明の水なし平版印刷版において、支持
体と感光層との接着は、画像再現性、耐刷力などの基本
的な版性能にとって非常に重要であるので、好ましくは
支持体に感光層を塗布する前に、感光層と支持体との十
分な接着性を得るために支持体にプライマ層を設けるの
がよい。

【０１１１】本発明におけるプライマ層を構成する成分
としては、プライマ層単独あるいは感光層と合わせた層
の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有していることが好ましい。

【０１１２】プライマ層の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３
０１にしたがって測定する。ガラス板上にプライマ液を
塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱硬化させる。この
後、ガラス板よりシ−トを剥がすことで約１００ミクロ
ンの厚さのシ−トを得る。このシ−トから５ｍｍ×５０
ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テンシロン ＲＴＭ
−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速度
２０ｃｍ／分で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を測
定する。

【０１１３】このような物性を有するためには、プライ
マ層が、感光層で述べた以下のようなバインダポリマを
成分として含んでいることが好ましい。

【０１１４】（１）ビニルポリマ類 （ａ）ポリオレフィン類 （ｂ）ポリスチレン類 （ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エ
ステルポリマ類 （２）未加流ゴム （３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類） （４）ポリエステル類 （５）ポリウレタン類 （６）ポリアミド類 更に、これ以外に、次のようなバインダポリマを用いる
ことも可能であるが、これらに限定されず、これ以外の
ものでもプライマ層単独あるいは感光層と合わせた層が
本発明の引張特性を有するものであれば何でもよい。

【０１１５】尿素樹脂、フェノ−ル樹脂類、ベンゾグア
ナミン樹脂類、フェノキシ樹脂類、ジアゾ樹脂類、セル
ロ−スおよびその誘導体、セルロ−スおよびその誘導
体、キチン、キトサン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大
豆タンパク質、アルブミンなど。 これらのバインダポ
リマは単独で、あるいは二種以上混合して、さらには感
光層で述べたような架橋剤などと共に用いることができ
る。

【０１１６】これらの中では、アクリル酸エステルポリ
マおよびメタクリル酸エステルポリマ類、未加流ゴム、
ポリウレタン樹脂、ポリオキシド類、尿素樹脂、ジアゾ
樹脂類、ミルクカゲイン、ゼラチン等を単独、または他
のバインダポリマと混合して用いるのが好ましい。特
に、アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エス
テルポリマ類、未加流ゴム、ポリウレタン樹脂、ポリオ
キシド類、尿素樹脂等を単独、または他のバインダポリ
マと混合して用いるのが好ましい。

【０１１７】また、バインダポリマの使用量は支持体と
感光層とを接着させうる範囲であればどのような割合で
もよいが、本発明におけるプライマ層の引張特性を十分
に引き出すためには、プライマ層成分中に５〜１００wt
％使用するのが好ましく、より好ましくは１０〜９９wt
％、最も好ましいのは２０〜９５wt％である。

【０１１８】また上記プライマ層を構成するアンカ−剤
としては、例えばシランカップリング剤を用いる事が出
来、また有機チタネ−ト等も有効である。

【０１１９】基板からのハレ−ションを防止するためや
検版性の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、
酸化亜鉛のような白色顔料や黄色顔料を添加することも
できる。

【０１２０】さらに、塗工性を改良する目的で、界面活
性剤等を添加することも任意である。 上記のプライマ
層を形成するための組成物は、ジメチルホルムアミド、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジオキ
サン等の適当な有機溶媒に溶解させることによって組成
物溶液として調製される。かかる組成物溶液を基板上に
均一に塗布し必要な温度で必要な時間加熱することによ
りプライマ層が形成される。

【０１２１】プライマ層の厚さは０．１〜１００μｍ、
好ましくは０．３〜５０μｍ、より好ましくは０．５〜
３０μｍが選ばれる。薄すぎると基板表面の形態欠陥お
よび化学的悪影響の遮断効果が劣り、一方厚すぎると経
済的に不利になるので上記の範囲が好ましい。

【０１２２】プライマ層中の各成分の配合割合について
は特に限定されないが、好ましくは上記のバインダ−ポ
リマの一種もしくは二種以上を１００重量部、必要に応
じて架橋剤を０〜１００重量部、染料あるいは顔料など
の添加剤を０〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重
量部加えることにより設けるのがよい。

【０１２３】本発明の水なし平版印刷版原版において、
感光層とインキ反発層との接着は、画像再現性、耐刷力
などの基本的な版性能にとって非常に重要であるので、
必要に応じて層間の接着剤層を設けたり、各層に接着性
改良成分を添加したりすることが可能である。感光層と
インキ反発層間の接着のために、層間に公知のシリコー
ンプライマやシランカップリング剤を設けたり、インキ
反発層あるいは感光層にシリコーンプライマやシランカ
ップリング剤を添加すると効果的である。

【０１２４】本発明に用いられるインキ反発層として
は、例えばシリコーンゴムを用いたもの、フッ素樹脂を
用いたものが挙げられるが、これらに限定されず、水な
し平版印刷版に使用可能とされている公知のインキ反発
層であれば何でもよい。

【０１２５】インキ反発層としてシリコーンゴムを用い
る場合、シリコーンゴム層は、通常下記一般式（ＩＩ
Ｉ）のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。

【０１２６】

【化２７】 （式中、ｎは２以上の整数、Ｒ６、Ｒ７は炭素数１〜５
０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜５０
の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜５０
の置換あるいは非置換のアリ−ル基の群から選ばれる少
なくとも一種であい、それぞれ同一でも異なっていても
よい。Ｒ１０、Ｒ１１の全体の４０％以下がビニル、フ
ェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであ
り、全体の６０％以上がメチル基であるものが好まし
い。） このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添
加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコ
ーンゴムとすることもできる。

【０１２７】この線状有機ポリシロキサンには、通常以
下の一般式（ＩＶ）に示すような架橋剤を添加すること
により架橋させる。

【０１２８】 Ｒ８_m ＳｉＸ_4-m （ＩＶ） （式中、ｍは０〜２の整数であり、Ｒ８はアルキル基、
アルケニル基、アリ−ル基、またはこれらの組み合わさ
れた基を示し、それらはハロゲン原子、アミン基、ヒド
ロキシ基、アルコキシ基、アリ−ロキシ基、（メタ）ア
クリロキシ基、チオ−ル基等の官能基を置換基として有
していてもよい。Ｘは水素原子、水酸基アルコキシ基、
アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、アミノオ
キシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基などの官能基を
示している。） 架橋剤としては、上記のようないわゆる室温（低温）硬
化型のシリコーンゴムに使われている多官能シラン化合
物をあげることが出来る。例えば、トリメトキシシリル
基、アミノ基、グリシジル基、メタクリル基、アリル
基、ビニル基等を有するアセトキシシラン、ケトオキシ
ムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシ
ランなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【０１２９】これらは通常線状有機ポリシロキサンとし
て末端が水酸基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱ア
ミド型などのシリコーンゴムとなる。

【０１３０】このような縮合型の架橋を行うシリコーン
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ（ＩＩ）オクトエ−ト、ナフテン酸塩、あるいは塩化
白金酸のような触媒、あるいはこれ以外に知られている
公知の触媒を添加してもよい。

【０１３１】また、ラジカル開始剤により、線状有機ポ
リシロキサンを硬化させてシリコーンゴムとすることも
可能である。この際、公知のラジカル開始剤を適当量加
えることは任意である。

【０１３２】また、ＳｉＨ基と−ＣＨ＝ＣＨ−基との付
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、１分子に２
個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分： （１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオル
ガノポリシロキサン （２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合２個有するオル
ガノポリシロキサン （３）付加触媒 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分（１）
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の基としては、置換もしくは非
置換のアルキル基、アリ−ル基などが挙げられるがこれ
らに限定されない。成分（１）には水酸基を微量含有さ
せてもよい。成分（２）は成分（１）と反応してシリコ
ーンゴム層を形成するが、感光層に対する接着性の付与
の役割も果たす。成分（２）の水酸基は分子鎖末端、中
間のいずれにあっても良い。水素以外の有機基としては
成分（１）と同様のものから選ばれる。成分（１）と成
分（２）の有機基はインキ反発性向上の点で、総じて基
数の６０％以上がメチル基であることが好ましい。成分
（１）および成分（２）の分子構造は直鎖状、環状、分
岐状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量
が１，０００を越えることがゴム物性の面で好ましく、
更に成分（１）の分子量が１，０００を越えることが好
ましい。

【０１３３】成分（１）としては、α，ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の（メチルシロ
キサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが例示さ
れ、成分（２）としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の（メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示されるがこれらに限定されず、他のものでもよい。

【０１３４】成分（３）の付加触媒は公知のものの中か
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ（メチルビニル）シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結合のアル
コ−ル、アセトン、メチルエチルケトン、メタノ−ル、
エタノ−ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル
などの架橋抑制剤を適当量添加することも可能である。

【０１３５】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキ
サン）を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。

【０１３６】このようなシリコーンゴム層の引張特性と
しては、初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／ｍｍ² 以上
０．０９ｋｇｆ／ｍｍ² 未満、好ましくは０．０１２ｋ
ｇｆ／ｍｍ² 以上０．０７ｋｇｆ／ｍｍ² 未満、また、
５０％応力値は、０．００５ｋｇｆ／ｍｍ² 以上０．０
４ｋｇｆ／ｍｍ² 未満、好ましくは０．００７ｋｇｆ／
ｍｍ² 以上０．０２５ｋｇｆ／ｍｍ² 未満にすることが
重要である。

【０１３７】上記の初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／ｍ
ｍ² 未満、５０％応力値が０．００５ｋｇｆ／ｍｍ² 未
満の場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が０．
０９ｋｇｆ／ｍｍ² 以上、５０％応力値が０．０４ｋｇ
ｆ／ｍｍ² 以上の場合は、たとえば特公昭５６−２３１
５０号公報の実施例１に記載のシリコーンゴム層の引張
り初期弾性率は０．１５ｋｇｆ／ｍｍ² 、５０％応力値
が０．０６ｋｇｆ／ｍｍ² で、シリコーンゴム層として
は硬いためにインキ反撥性および耐スクラッチ性が低下
する。

【０１３８】さらにシリコーンゴム層の引張特性の伸度
は、１００％以上、好ましくは１５０％以上１２００％
未満にすることが重要である。伸度が１００％以下の場
合は耐刷性が悪くなる。

【０１３９】シリコーンゴム層の引張特性は、ＪＩＳ
Ｋ６３０１にしたがって測定することができる。テフロ
ン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した後、テフロ
ン板よりシートを剥がし、得られた約３００ミクロンの
厚さのシートから４号ダンベルでテストピースを作製
し、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）
製）を用い、引張速度２０cm／分で、初期弾性率、５０
％応力値、破断伸度を測定する。

【０１４０】シリコーンゴム層の厚さは約０．５〜１０
０μｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。

【０１４１】シリコーンゴム層中の各成分の配合割合に
ついては特に限定されないが、縮合型の架橋を行うシリ
コーンゴム層の場合には、線状有機ポリシロキサンを１
００重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物を０．１〜１００重量部、必要に応
じて公知の触媒を０〜５０重量部加えた組成で設けるの
がよい。付加型シリコーンゴム層の場合には、１分子中
にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくは
ビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキ
サンを１００重量部、１分子中に少なくともＳｉＨ結合
２個有するオルガノポリシロキサンを０．１〜１００重
量部、必要に応じて付加触媒を０〜５０重量部加えた組
成で設けるのがよい。

【０１４２】インキ反発層としてフッ素樹脂を用いる場
合、フッ素樹脂としては例えば以下のようなものが挙げ
られるが、これらに限定されない。

【０１４３】（１）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トとヒドロキシ基を有するアクリルモノマ、例えば２−
ヒドロキシエチルメタクリレ−トとの共重合樹脂。

【０１４４】（２）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トとグリシジルメタクリレ−トとの共重合樹脂。

【０１４５】（３）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トとメタクリル酸との共重合樹脂。

【０１４６】（４）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トと無水マレイン酸との共重合樹脂。 このようなフッ素樹脂が、活性水素官能基と活性水素と
反応しうる官能基の両方を有する場合、あるいは活性水
素官能基を有するフッ素樹脂と活性水素と反応しうる官
能基を有するフッ素樹脂を混合して用いる場合には、架
橋剤を使用してもよい。

【０１４７】フッ素樹脂層の厚さは約０．５〜１００μ
ｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、薄す
ぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を生じ
ることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利である
ばかりでなく、現像時フッ素樹脂層を除去しにくくな
り、画像再現性の低下をもたらす。

【０１４８】フッ素樹脂層中の各成分の配合割合につい
ては特に限定されないが、上記のフッ素樹脂が全体の６
０〜１００重量％になるようにするのが好ましく、より
好ましくは全体の８０〜９８重量％になるようにするの
がよい。

【０１４９】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフイルムの真空密着性を改善す
るために、インキ反発層の表面にプレーンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラス
チックシ−ト状物を塗布または転写して保護層とするこ
ともできる。保護フイルム、保護層は露光工程において
有用であるが、現像工程においては、剥離または溶解に
よって除去され、印刷工程においては不必要なものであ
る。

【０１５０】有用な保護フィルムは紫外線透過性を有
し、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレ−ト、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコ−テイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。

【０１５１】本発明で用いられる水なし平版印刷版は、
例えば次のようにして製造される。まず必要に応じて各
種粗面化処理をした支持体の上に、リバ−スロ−ルコ−
タ、エアナイフコ−タ、メ−ヤバ−コ−タなどの通常の
コ−タ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用い感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要に応
じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述したよう
に支持体と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設け
た後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着層
を塗布、乾燥後、インキ反発層を形成しうる溶液を感光
層上または接着層上に同様の方法で塗布し、通常６０〜
１３０℃の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せし
めてインキ反発層を形成する。必要ならば、保護層をさ
らに塗布するか保護フィルムを該インキ反発層上にラミ
ネ−タなどを用いてカバ−する。

【０１５２】このようにして製造された水なし平版印刷
版は、例えば、光透過性保護フィルムの場合はそのま
ま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合は
剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活性光
線で露光される。この露光工程で用いられる光源は、紫
外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カ−ボンア
−ク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タン
グステンランプ、蛍光灯等を使うことができる。

【０１５３】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のインキ反発層、あるいは場合によってはその下の感光
層が除去され、感光層あるいはプライマ層表面が露出し
インキ受容部となる。

【０１５４】本発明において用いられる現像液として
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパ−”Ｅ，Ｇ，Ｈ（エッソ化学（株）製）ある
いはガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエ
ン、キシレンなど）あるいはハロゲン化炭化水素類（ト
リクレンなど）に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好ましいがこれ
らに限定されない。

【０１５５】アルコ−ル類（メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノ−ル、ベンジルアルコ−ル、エチレングリコ−
ルモノフェニルエ−テル、２−メトキシエタノ−ル、カ
ルビト−ルモノエチルエ−テル、カルビト−ルモノメチ
ルエ−テル、トリエチレングリコ−ルモノエチルエ−テ
ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、プロピ
レングリコ−ルモノエチルエ−テル、ジプロピレングリ
コ−ルモノメチルエ−テル、ポリエチレングリコ−ルモ
ノメチルエ−テル、プロピレングリコ−ル、ポリプロピ
レングリコ−ル、トリエチレングリコ−ル、テトラエチ
レングリコ−ル等） エ−テル類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、メチルカルビト−ル、エチルカルビト
−ル、ブチルカルビト−ル、ジオキサン等） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、４−メチル
−１，３−ジオキソラン−２−オン等） エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテ−ト、メチル
セロソルブアセテ−ト、カルビト−ルアセテ−ト、プロ
ピレングリコ−ルモノメチルエ−テルアセテ−ト、ジメ
チルフタレ−ト、ジエチルフタレ−ト等） その他（トリエチルフォスフェ−ト等）

【０１５６】上記現像液にアニオン界面活性剤、ノニオ
ン界面活性剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活
性剤等種々の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加し
たものも使用する事が出来る。アルカリ剤としては、例
えば炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、あるいはモノ、ジ、またはトリエタノ−ルアミ
ン、モノ、ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、ま
たはトリエチルアミン、モノ、またはジイソプロピルア
ミン、ｎ−ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプ
ロパノ−ルアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン
等の有機アミン化合物等が挙げられる。また、クリスタ
ルバイオレット、アストラゾンレッドなどの染料や発色
剤等を現像液に加えて現像と同時に画線部の染色あるい
は発色を行うことも出来る。あるいは現像後の版を染色
液に浸漬することにより後処理として染色する事もでき
る。

【０１５７】現像方法としては、手による現像でも公知
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、及び後処理部がこの順に設けられている現像
装置を用いるのが良い。現像装置の具体例としては、東
レ（株）製のＴＷＬ−１１６０、ＴＷＬ−６５０などの
現像装置、あるいは特開平４−２２６５号や特開平５−
２２７２号、特開平５−６０００号などに開示されてい
る現像装置を挙げることができる。また、これらの現像
装置を適当に組み合わせて使用することもできる。

【０１５８】

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１５９】なお、引張特性の試験方法は次の通りであ
る。

【０１６０】［感光層、プライマ層、これらを合わせた
層］感光層およびプライマ層の引張特性はＪＩＳ Ｋ６
３０１にしたがって測定する。ガラス板上にプライマ液
もしくは感光液を塗布し、溶媒を揮散させた後、加熱硬
化させる。この後、ガラス板よりシ−トを剥がすことで
約１００ミクロンの厚さのシ−トを得る。このシ−トか
ら５ｍｍ×４０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テン
ンシロン ＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）製）
を用い、引張速度 ２０cm／分で初期弾性率、１０％応
力、破断伸度を測定する。なお、プライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を調べる場合には、上記の方法で
プライマ層の上に感光層を作製し、同様の方法でシ−ト
を得た。

【０１６１】［シリコーンゴム層］シリコーンゴム層の
引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３０１にしたがって測定す
る。テフロン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した
後、テフロン板よりシートを剥がし、得られた約３００
ミクロンの厚さのシートから４号ダンベルでテストピー
スを作製し、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテッ
ク（株）製）を用い、引張速度２０cm／分で、初期弾性
率、５０％応力値、破断伸度を測定する。

【０１６２】合成例１ 一般式（Ｉ）で示される構造を一つ有する化合物である
２−ヒドロキシプロピルアクリレ−ト２５ｇと１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ブロミド
２５ｇとをテトラヒドロフラン２００ｇに溶解させた。
次に、炭酸ナトリウム１０ｇを水９０ｇに溶解させ、こ
の炭酸ナトリウム１０重量％溶液を前述のジオキサン溶
液中に１０分間かけて滴下した。（この際、ジオキサン
溶液は攪拌を行い、４０℃に液温を保っていた。）滴下
終了後、４０℃で６時間、攪拌しながら反応させた。反
応後、水１８００ｇの入ったビ−カ−中に反応溶液を注
ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−カ−中の上澄液を
除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。

【０１６３】合成例２ 合成例１で得られた化合物１５ｇと２−ヒドロキシエチ
ルアクリレ−ト１３ｇとをジオキサン１７２ｇに溶解さ
せ、アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加え、窒素
雰囲気の下で６５℃で８時間重合反応を行った。反応
後、メタノ−ル１８００ｇの入ったビ−カ−中に反応溶
液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−カ−中の上
澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得
た。

【０１６４】合成例３ 一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物であるグリ
セリン２０ｇと１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−
４−スルホン酸クロリド１５ｇとをテトラヒドロフラン
１６５ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０ｇを
水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％溶
液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下し
た。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に
液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で６時間、攪
拌しながら反応させた。反応後、水１８００ｇの入った
ビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させ
た。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目
的とする化合物を得た。

【０１６５】合成例４ 一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物であるペン
タエリスリト−ル２５ｇと１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−４−スルホン酸クロリド２５ｇとをジオキサ
ン１５０ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０ｇ
を水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％
溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下し
た。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に
液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で６時間、攪
拌しながら反応させた。反応後、水１８００ｇの入った
ビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させ
た。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目
的とする化合物を得た。

【０１６６】合成例５ 一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物である１，
３−プロパンジオ−ル２５ｇと１，２−ナフトキノン−
２−ジアジド−５−スルホン酸ブロミド１５ｇとをジオ
キサン１６０ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１
０ｇを水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重
量％溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴
下した。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０
℃に液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時
間、攪拌しながら反応させた。反応後、水１８００ｇの
入ったビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈
降させた。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行
い、目的とする化合物を得た。合成例６ 一般式（ＩＩ）で示される構造を一つ有する化合物であ
る４−ヒドロキシスチレン３０ｇと１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジド−５−スルホン酸ブロミド１５ｇとを
ジオキサン１５５ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウ
ム１０ｇを水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１
０重量％溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけ
て滴下した。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、
４０℃に液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４
時間、攪拌しながら反応させた。反応後、水１８００ｇ
の入ったビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、
沈降させた。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を
行い、目的とする化合物を得た。

【０１６７】合成例７ 合成例６で得られた化合物１５ｇと４−ヒドロキシスチ
レン１０ｇ、スチレン５ｇとをジオキサン１７０ｇに溶
解させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加え、
窒素雰囲気の下で６５℃で８時間共重合反応を行った。
反応後、メタノ−ル１８００ｇの入ったビ−カ−中に反
応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−カ−中
の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、一般式（ＩＩ）で
示される構造を有する化合物を得た。

【０１６８】合成例８ 合成例６で得られた化合物１５ｇとメチルメタクリレ−
ト１５ｇとをジオキサン２００ｇに溶解させ、アゾビス
イソブチロニトリル０．１ｇを加え、窒素雰囲気の下で
６５℃４時間共重合反応を行った。反応後、メタノ−ル
１０００ｇの入ったビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成
物を析出、沈降させた。ビ−カ−中の上澄液を除去し、
減圧乾燥を行い、一般式（ＩＩ）で示される構造を有す
る化合物を得た。

【０１６９】合成例９ 一般式（ＩＩ）で示される構造を有する化合物であるフ
ェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂（平均分子量
８００）２０ｇと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホン酸クロリド２０ｇとをジオキサン１６０
ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０ｇを水９０
ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％溶液を前
述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下した。（こ
の際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に液温を保
っていた。）滴下終了後、４０℃で５時間、攪拌しなが
ら反応させた。反応後、水１８００ｇの入ったビ−カ−
中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−
カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする
化合物を得た。

【０１７０】合成例１０ 一般式（ＩＩ）で示される構造を有する化合物であるフ
ェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂（平均分子量
６００）２０ｇと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸クロリド１０ｇとをジオキサン１００
ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０ｇを水９０
ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％溶液を前
述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下した。（こ
の際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に液温を保
っていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、攪拌しなが
ら反応させた。反応後、水１０００ｇの入ったビ−カ−
中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビ−
カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする
化合物を得た。

【０１７１】合成例１１ （プライマ層用ジアゾ樹脂の合成）ｐ−ジアゾジフェニ
ルアミン硫酸塩１４．５ｇを氷冷下で４０．９ｇの濃硫
酸に溶解し、この液に１．０ｇのパラホルムアルデヒド
を反応溶液が１０℃を越えないようにゆっくり滴下し
た。その後、２時間氷冷下にて攪拌を続けた。この反応
混合物を氷冷下、５００ｍｌのエタノ−ルに滴下し、生
じた沈殿を濾過した。エタノ−ルで洗浄した沈殿物は、
１００ｍｌの水に溶解し、この液に６．８ｇの塩化亜鉛
を含む冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した
後、エタノ−ルで洗浄し、これを１５０ｍｌの水に溶解
した。この液に８ｇのヘキサフルオロリン酸アンモニウ
ムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過
により集め、水洗した後、３０℃で一昼夜乾燥してジア
ゾ樹脂を得た。

【０１７２】実施例１ 厚さ０．３ｍｍのアルミ板（住友金属（株）製）に下記
のプライマ組成物をバ−コ−タ−を用いて塗布し、２０
０℃、２分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。

【０１７３】 （ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃） １００重量部 （ｂ）ブロックイソシアネ−ト“タケネ−トＢ８３０” （武田薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノ−ル・尿素樹脂“ＳＪ９３７２” （関西ペイント（株）製） ８重量部 （ｄ）酸化チタン １０重量部 （ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．５重量部 （ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッド ホスフェ−ト １重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド ７２５重量部 続いてこのプライマ層上に下記の感光層組成物をバ−コ
−タを用いて塗布し、１１０℃の熱風中で１分間乾燥し
て厚さ１．５μｍの感光層を設けた。

【０１７４】 （ａ−１）合成例１で得られた化合物 ５０重量部 （ａ−２）合成例６で得られた化合物 ２０重量部 （ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト ２１重量部 （ｃ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ （日本ミラクトラン（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） ３０重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．２重量部 （ｅ）４−トルエンスルホン酸 ０．８重量部 （ｆ）テトラヒドロフラン ８００重量部 次いでこの感光層の上に下記の組成を有するシリコーン
ゴム組成物を回転塗布後、１１５℃、露点３０℃、３．
５分間湿熱硬化させて２μｍのインキ反発層（シリコー
ンゴム層）を設けた。

【０１７５】 （ａ）ポリジメチルシロキサン （分子量約２５，０００、末端水酸基） １００重量部 （ｂ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン １０重量部 （ｃ）“アイソパ−Ｅ”（エクソン化学（株）製） １４００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ１０μｍのポ
リプロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）
をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層と
し、水なし平版印刷版原版を得た。

【０１７６】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。

【０１７７】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。

【０１７８】次いで上記の露光済版の“トレファン”を
剥離し、室温３２℃、湿度８０％の条件で、“アイソパ
−Ｈ”／ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル／エチ
ルセロソルブ／Ｎ−メチルジエタノ−ルアミン＝８７／
７／３／３（重量比）からなる処理液をブラシを用いて
版面に塗布した。１分間処理後、ゴムスキ−ジで版面に
付着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現
像液（水／ブチルカルビト−ル／２−エチル酪酸／クリ
スタルバイオレット＝７０／３０／２／０．２（重量
比）を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこすると、画像露
光された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表
面が露出した。一方、全面露光のみがなされた非画像部
分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィ
ルムを忠実に再現した画像が得られた。

【０１７９】得られた印刷版を、オフセット印刷機（小
森スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工
業（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。
１６万枚印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印
刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であ
った。

【０１８０】この実施例に用いたプライマ層の引張特性
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ５ｋ
ｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力 ０．３０ｋｇｆ／ｍｍ² 、
破断伸度 ６５５％であった。

【０１８１】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ３１ｋｇ
ｆ／ｍｍ² 、１０％応力 １．１６ｋｇｆ／ｍｍ² 、破
断伸度 ３５％であった。

【０１８２】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 ２５ｋｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力
０．９２ｋｇｆ／ｍｍ² 、破断伸度 ６０％であった。

【０１８３】実施例２ 厚さ０．２４ｍｍの表面に砂目形状を設けたアルミ板に
下記のプライマ組成物をホワラを用いて５０℃で塗布
し、さらに８０℃で４分乾燥させてプライマ層を設け
た。

【０１８４】 （ａ）合成例１１で合成したジアゾ樹脂 ８重量部 （ｂ）２−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、メタクリル酸ドデシルのモル比４ ０／６０の共重合樹脂（Ｍｗ＝４．０×１０⁴ ） （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） ９０重量部 （ｃ）γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （東芝シリコーン製） ５重量部 （ｄ）酸化亜鉛（堺化学（株）製微細亜鉛華） ５５重量部 （ｅ）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ ４０２” （大日本インキ化学（株）製黄色顔料） １２重量部 （ｆ）“ノニポ−ル”（三洋化成（株）製非イオン系界面活性剤） ５重量部 （ｇ）乳酸メチル ７００重量部 （ｈ）シクロヘキサノン １００重量部 塗布、乾燥後メタルハライドランプで４００ｍＪ／ｃｍ
² 露光し１１５℃で５分間乾燥を行うことにより乾燥膜
厚４．５μｍのプライマ層を設けた。

【０１８５】続いてこの上に下記の感光層組成物をバ−
コ−タを用いて塗布し、１２０℃の熱風中で１分間乾燥
して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。

【０１８６】 （ａ−１）合成例２で合成した化合物 ３５重量部 （ａ−２）合成例７で合成した化合物 ２０重量部 （ｂ）トリメチロ−ルプロパントリグリシジルエ−テル ３０重量部 （ｃ）ポリウレタン“サンプレン”Ｃ−８００Ｂ−４０ （三洋化成（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−３５℃） ２０重量部 （ｄ）リン酸 ０．８重量部 （ｅ）４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン ３重量部 （ｆ）テトラヒドロフラン ８００重量部 次いでこの感光層の上に次ぎの組成を有するシリコーン
ゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布した後、１１５
℃、露点３０℃という条件で３．５分間湿熱硬化させて
２．３μｍのインキ反発層（シリコーンゴム層）を設け
た。

【０１８７】 （ａ）ポリジメチルシロキサン （分子量約３５，０００、末端水酸基） １００重量部 （ｂ）エチルトリアセトキシシラン １２重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．１重量部 （ｄ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製） １２００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍの片面
マット化ポリエステルフィルム“ルミラ−”（東レ
（株）製）をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トし
て保護層とし、水なし平版印刷版原版を得た。

【０１８８】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。

【０１８９】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。

【０１９０】次いで上記の露光済版の“ルミラ−”を剥
離し、室温２５℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ１１６
０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用い
て現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成
を有する液を用いた。

【０１９１】 （ａ）ジエチレングリコ−ル ８０重量部 （ｂ）ジグリコ−ルアミン １４重量部 （ｃ）水 ６重量部 また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。

【０１９２】 （ａ）エチルカルビト−ル １８重量部 （ｂ）水 ７９．９重量部 （ｃ）クリスタルバイオレット ０．１重量部 （ｄ）２−エチルヘキサン酸 ２重量部 現像装置を出てきた印刷版を観察したところ、画像露光
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画像
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。

【０１９３】得られた印刷版を、オフセット印刷機（小
森スプリント４色機）に取り付け、実施例１と同様に耐
刷テストを行った。１５万枚印刷を行ったところ、良好
な印刷物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷
版の損傷は軽微であった。

【０１９４】この実施例に用いたプライマ層の引張特性
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １９
ｋｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力 ０．６８ｋｇｆ／ｍ
ｍ² 、破断伸度 ９５％であった。

【０１９５】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ３６ｋｇ
ｆ／ｍｍ² 、１０％応力 １．２１ｋｇｆ／ｍｍ² 、破
断伸度 ２９％であった。

【０１９６】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 ３２ｋｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力
１．１５ｋｇｆ／ｍｍ² 、破断伸度 ５０％であった。

【０１９７】実施例３ 厚さ０．２４ｍｍのアルミ板を３％水酸化ナトリウム水
溶液に浸して脱脂し、水洗した後、３２％硫酸水溶液中
において温度３０℃で５Ａ／ｄｍ² の条件で１０秒間、
陽極酸化を行い、水洗し、２％メタケイ酸ナトリウム水
溶液に温度８５℃３７秒間浸し、更に温度９０℃の水
（ｐＨ８．５）に２５秒間浸し、水洗、乾燥して、支持
体を得た。

【０１９８】こうして得た支持体に下記のプライマ組成
物をスリットダイコ−タを用いて塗布し、２２０℃の熱
風中で３分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。

【０１９９】 （ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃） １００重量部 （ｂ）ブロックイソシアネ−ト“タケネ−トＢ８３０” （武田薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノ−ル・尿素樹脂“ＳＪ９３７２” （関西ペイント（株）製） ８重量部 （ｄ）酸化チタン １０重量部 （ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．５重量部 （ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）酸ホスフェ−ト １重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド ７００重量部 （ｈ）テトラヒドロフラン ５０重量部 次いで、上記プライマ層上に下記の組成物よりなる感光
液（Ａ）と感光液（Ｂ）を塗布の直前に混合し、スリッ
トダイコ−タを用いて塗布し、１１５℃の熱風中で１分
間乾燥して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。

【０２００】 感光液（Ａ） （ａ−１）合成例３で合成した化合物 ５５重量部 （ａ−２）合成例８で合成した化合物 ２５重量部 （ｂ）ポリウレタン“サンプレン”Ｃ−８００Ｂ−４０ （三洋化成（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−３５℃） ２０重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．２重量部 （ｄ）ベンゼンスルホン酸 ０．８重量部 （ｅ）テトラヒドロフラン ７００重量部 感光液（Ｂ） （ａ）イソホロンジイソシアネ−ト ２０重量部 （ｂ）テトラヒドロフラン １００重量部 次いで、この感光層の上に次の組成を有するシリコーン
ゴム液をスリットダイコ−タを用いて塗布した後、１２
０℃で４分間加熱硬化させて１．８μｍのインキ反発層
（シリコーンゴム層）を設けた。

【０２０１】 （ａ）両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン（重合度〜７００） １００重量部 （ｂ）( CH₃ ) ₃ Si-O-(Si( CH₃ ) ₂ -O) ₃₀-(SiH(CH₃ )-O)₁₀-Si(CH₃ ) ₃ １０重量部 （ｃ）塩化白金酸／メチルビニルサイクリックス錯体 ０．１重量部 （ｄ）アセチルアセトンアルコ−ル ０．１重量部 （ｅ）ポリジメチルシロキサン（重合度〜８０００） １０重量部 （ｆ）“アイソパ−Ｅ”（エクソン化学（株）製） １０００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラ−”（東レ（株）製）をカレ
ンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層とし、水
なし平版印刷版原版を得た。

【０２０２】かかる印刷版原版に実施例２と同様の処理
を施した後、１５０線／インチの網点画像を持つネガフ
ィルムを用いて画像露光を行い、実施例２と同様に現像
を行った。

【０２０３】得られた印刷版について、実施例１、２と
同様に耐刷テストを行ったところ、１６万枚の耐刷力を
示した。

【０２０４】この実施例に用いたプライマ層の引張特性
を、先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ５ｋ
ｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力 ０．３０ｋｇｆ／ｍｍ² 、
破断伸度 ６５５％であった。

【０２０５】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ２７ｋｇ
ｆ／ｍｍ² 、１０％応力 １．１４ｋｇｆ／ｍｍ² 、破
断伸度 ３８％であった。

【０２０６】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 ２２ｋｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力
０．９２ｋｇｆ／ｍｍ² 、破断伸度 ６２％であった。

【０２０７】実施例４ 実施例１において感光層成分である合成例１で合成した
化合物を合成例４で合成した化合物に変更し、合成例６
で合成した化合物を合成例９で合成した化合物に変更す
る以外は全て実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版
原版を得た。

【０２０８】得られた水なし平版印刷版原版を実施例１
と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例１と
同様に耐刷テストを行ったところ、１８万枚の耐刷力を
示した。 この実施例に用いた感光層の引張特性を、先
に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ２８ｋｇｆ
／ｍｍ² 、１０％応力 １．１７ｋｇｆ／ｍｍ² 、破断
伸度 ４０％であった。

【０２０９】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 ２２ｋｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力
０．８８ｋｇｆ／ｍｍ² 、破断伸度 ６７％であった。

【０２１０】実施例５ 実施例２において感光層成分である合成例２で合成した
化合物を合成例５で合成した化合物に変更し、合成例７
で合成した化合物を合成例１０で合成した化合物に変更
する以外は全て実施例２と同様の方法で水なし平版印刷
版原版を得た。得られた水なし平版印刷版原版を実施例
２と同様の方法で露光、現像を行った。さらに実施例２
と同様に耐刷テストを行ったところ、１７万枚の耐刷力
を示した。 この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 ３３ｋｇ
ｆ／ｍｍ² 、１０％応力 １．１５ｋｇｆ／ｍｍ² 、破
断伸度 ３２％であった。

【０２１１】この実施例に用いたプライマ層と感光層を
合わせた層の引張特性を、先に示した方法で測定した結
果、初期弾性率 ２９ｋｇｆ／ｍｍ² 、１０％応力
１．０９ｋｇｆ／ｍｍ² 、破断伸度 ５５％であった。

【０２１２】比較例１〜３ 実施例１における感光層成分（ａ−１）（ａ−２）
（ｂ）（ｃ）の種類、配合量を表−１に示すように変更
させた以外は、実施例１と同様にして、種々の感光層組
成を有するネガ型の水なし平版印刷版原版を作製した。
かかる印刷版原版に実施例２と同様の処理を施した後、
１５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを用い
て画像露光を行い、実施例２と同様に現像および耐刷テ
ストを行った。感光層の引張特性および画像再現性、耐
刷力を表−２に示す。

【０２１３】比較例１においては、感光層中に占めるバ
インダポリマの量が８．２ｗｔ％と少ないため、満足な
引張特性を発現させることが出来ず、非常に堅くて脆い
感光層となった。オフセット印刷を行ったところ、６万
枚印刷した時点で非画線部に汚れが生じた。印刷機から
版を取り外し、汚れが生じた部分を顕微鏡で観察したと
ころ、感光層自体の破壊とその部分におけるシリコーン
ゴム層の破壊の様子、およびシリコーンゴム層の剥離の
様子が観察できた。

【０２１４】比較例２においては、感光層中に占めるバ
インダポリマの量が８６．５ｗｔ％と多すぎるために、
感光層の物性は柔軟すぎるものとなった。同時に、感光
成分が少ないため満足な画像再現性、現像性を得ること
が出来ず、画像露光、現像によっても画像を再現できな
い版、すなわち現像不能の版しか得られなかった。その
ため、この版については耐刷テストを行うことが出来な
かった。

【０２１５】比較例３は感光成分における感光性基の量
を多くすること、すなわち１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノ−ルホルム
アルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物のエステ
ル化度を７０％と高くすることによって、この問題を解
決しようとした結果である。比較例２に比べ画像再現性
は若干改善されたが、感光層中におけるバインダポリマ
の量が多すぎるため、依然として満足な感光層物性を発
現することは出来ず、さらに、感光成分自体が少ないた
めにインキ反発層と感光層の間の接着力に問題を有して
おり、結果として８万枚という低い耐刷力しか得られな
かった。

【０２１６】実施例６〜９ 実施例１における感光層成分（ａ−１）（ａ−２）
（ｃ）の種類、配合量を表−３に示すように変更させた
以外は、実施例１と同様にして、種々の感光層組成、引
張特性を有するネガ型の水なし平版印刷版原版を作製し
た。かかる印刷版原版に実施例２と同様の処理を施した
後、１５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを
用いて画像露光を行い、実施例２と同様に現像を行うこ
とで印刷版を得た。

【０２１７】得られた印刷版をオフセット印刷機（小森
スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工業
（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを用
いて、上質紙に印刷をおこない耐刷力テストを行った。
表−２に感光層の引張特性と印刷版の画像再現性および
耐刷力を示す。

【０２１８】実施例１０〜１８ 実施例１における感光層成分（ａ−１）（ａ−３）
（ｃ）の種類、配合量を表−４に示すように変更させた
以外は、実施例１と同様にして、種々のバインダポリマ
を有するネガ型の水なし平版印刷版原版を作製した。か
かる印刷版原版に実施例２と同様の処理を施した後、同
様に画像露光を行い、同様に現像を行うことで印刷版を
得た。得られた印刷版についても同様に耐刷力テストを
行った。表−５に感光層の引張特性と印刷版の画像再現
性および耐刷力を示す。

【０２１９】

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【０２２０】

【発明の効果】本発明は、上記のごとく構成したので、
画像再現性に優れかつ耐刷力に優れた水なし平版印刷版
を提供することが出来る。したがって、高耐刷力の要求
される新聞オフ輪印刷分野や商業オフ輪印刷分野におい
ても好適に用いられる。印刷版の寿命が長いため、経済
的にも有利である。

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に感光層およびインキ反発層をこ
   の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
   感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
   つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
   一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
   つ該感光層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
   版。 【化１】 【化２】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
   子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
   換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
   る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
   同一でも異なっていてもよい。）
2. 【請求項２】支持体上にプライマ層、感光層およびイン
   キ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
   において、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
   つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
   一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
   つ該プライマ層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
   版。 【化３】 【化４】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
   子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
   換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
   る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
   同一でも異なっていてもよい。）
3. 【請求項３】支持体上にプライマ層、感光層およびイン
   キ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
   において、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
   つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
   一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
   つ該プライマ層と感光層とを合わせた層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
   版。 【化５】 【化６】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
   子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
   換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
   る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
   同一でも異なっていてもよい。）
4. 【請求項４】支持体上に感光層およびインキ反発層をこ
   の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
   感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を二つ以上有す
   る化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を二つ以上有
   する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
   つ該感光層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする請求項１記載の水なし
   平版印刷版原版。 【化７】 【化８】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
   子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
   換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
   る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
   同一でも異なっていてもよい。）
5. 【請求項５】支持体上にプライマ層、感光層およびイン
   キ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
   において、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を二つ以上有す
   る化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を二つ以上有
   する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
   つ該プライマ層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする請求項２記載の水なし
   平版印刷版原版。 【化９】 【化１０】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
   子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
   換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
   る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
   同一でも異なっていてもよい。）
6. 【請求項６】支持体上にプライマ層、感光層およびイン
   キ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版
   において、該感光層が、 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を二つ以上有す
   る化合物とキノンジアジド化合物との反応物 （Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を二つ以上有
   する化合物とキノンジアジド化合物との反応物 の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、か
   つ該プライマ層と感光層とを合わせた層の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする請求項３記載の水なし
   平版印刷版原版。 【化１１】 【化１２】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
   子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
   換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
   る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
   同一でも異なっていてもよい。）
7. 【請求項７】該感光層の引張特性が （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする請求項１または４記載
   の水なし平版印刷版原版。
8. 【請求項８】該プライマ層の引張特性が （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする請求項２または５記載
   の水なし平版印刷版原版。
9. 【請求項９】該プライマ層と感光層とを合わせた層の引
   張特性が （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ² の物性を有することを特徴とする請求項３または６記載
   の水なし平版印刷版原版。
10. 【請求項１０】該感光層の引張特性が （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする請求項１、４または７
    記載の水なし平版印刷版原版。
11. 【請求項１１】該プライマ層の引張特性が （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする請求項２、５または８
    記載の水なし平版印刷版原版。
12. 【請求項１２】該プライマ層と感光層とを合わせた層の
    引張特性が （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする請求項３、６または９
    記載の水なし平版印刷版原版。
13. 【請求項１３】感光層がバインダポリマを有することを
    特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の水なし平
    版印刷版原版。
14. 【請求項１４】バインダポリマの感光層中にしめる割合
    が１０〜９０wt％であることを特徴とする請求項１３記
    載の水なし平版印刷版原版。
15. 【請求項１５】バインダポリマのガラス転移点（Ｔg ）
    が２０℃以下であることを特徴とする請求項１３または
    １４記載の水なし平版印刷版原版。
16. 【請求項１６】感光層が架橋構造を有することを特徴と
    する請求項１〜１５のいずれかに記載の水なし平版印刷
    版原版。
17. 【請求項１７】感光層が光剥離性感光層であることを特
    徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の水なし平版
    印刷版原版。
18. 【請求項１８】インキ反発層が、シリコーンゴム層であ
    ることを特徴とする請求項１〜１７のいずれかに記載の
    水なし平版印刷版原版。
19. 【請求項１９】インキ反発層の表面に保護層を設けるこ
    とを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の水な
    し平版印刷版原版。
20. 【請求項２０】保護層が表面にプレーンまたは凹凸処理
    した保護フィルムであることを特徴とする請求項１９記
    載の水なし平版印刷版原版。
21. 【請求項２１】支持体が表面をプレーンまたは粗面化し
    た金属板であることを特徴とする請求項１〜２０記載の
    水なし平版印刷版原版。
22. 【請求項２２】請求項１〜２１のいずれかに記載の水な
    し平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる水なし平
    版印刷版。