JPH08184961A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】上層のインキ反発層との接着、および下層の支
持体あるいはプライマ層との接着が良好であり、保存安
定性も良好で、画像再現性と耐刷性の両方に優れた水な
し平版印刷版原版を得る。 【解決手段】支持体上に感光層、インキ反発層をこの順
に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光
層中の主となるモノマ成分が非アミン系の水酸基を有す
る化合物からなり、光重効率を向上させるために補助的
にアミノ基含有モノマを含んでいる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版およびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像
してなる水なし平版印刷版に関するものであり、さらに
詳しくは現像性と耐刷性の両方が著しく向上した水なし
平版印刷版原版およびこの水なし平版印刷版原版を選択
的に露光現像してなる水なし平版印刷版に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来から、シリコ−ンゴムやフッ素樹脂
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版原版が種々提案されている。

【０００３】このような水なし平版印刷とは、画線部と
非画線部とを基本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部
をインキ受容性、非画線部をインキ反発層としてインキ
の付着性の差異を利用して、画線部のみにインキを着肉
させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷を
する平版印刷方法において、非画線部がシリコ−ンゴ
ム、含フッ素化合物などのインキ反発性を有する物質か
らなり、湿し水を用いずに印刷可能であるような印刷方
法を意味する。

【０００４】例えば、ポジ型水なし平版印刷版原版とし
ては、特公昭５４−２６９２３号公報、特公昭５６−２
３１５０号公報などに支持体上に光重合性感光層とイン
キ反発層であるシリコ−ンゴム層とが積層された水なし
平版印刷版原版、また特公平３−５６６２２号公報、特
開昭６１−１５３６５５号公報などに支持体上に光二量
化型感光層とインキ反発層であるシリコ−ンゴム層とが
積層された水なし平版印刷版原版が提案されている。ネ
ガ型水なし平版印刷版原版としては、特公昭６１−５４
２２２号公報などに、支持体上に１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノ−ル
ホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物を
多官能イソシアネ−トで架橋した光剥離性感光層、およ
びその上にインキ反発層としてのシリコ−ンゴム層を積
層した水なし平版印刷版原版が提案されている。

【０００５】これらの水なし平版印刷版は、通常ポジフ
ィルムもしくはネガフィルムを通して、活性光線により
露光される。そして、その後、現像処理されることによ
り、画線部に対応したシリコ−ンゴム層のみが剥ぎ取ら
れて感光層が露出し、インキ着肉性の画線部となる。

【０００６】フッ素樹脂をインキ反発層に用いる感光性
平版印刷版原版としては、特開平２−２５４４４９号公
報、特開平２−８５８５５号公報などには、１Ｈ，１
Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレ
−トを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする水なし平
版印刷版原版が開示されている。

【０００７】ところで、上記で説明した水なし平版印刷
版の内、ポジ型水なし平版印刷版原版の感光層に用いら
れる光反応性化合物としては、多くの提案がなされてい
る。特公昭５４−２６９２３号公報、特開平５−２８１
７１４号公報などには、特定のアミノ基含有モノマを用
いることにより高感度な水なし平版印刷版が得られる方
法が開示されているが、塩基性のアミノ基による悪影響
を受けやすく、長期に保存した場合に画像再現性が低下
するという問題点を有しており、これを改善するために
は適当な酸を添加してｐＨ調節を行う必要があった。感
光層への酸添加は、元来重合反応の制御などの点で実施
されているが、アミノ基含有モノマが存在すると、酸−
塩基反応により酸が消費されてしまい、長期保存した場
合に重合反応の制御が十分に行われない欠点も有してい
た。そのため、必要量以上に酸成分を加えなければなら
ず、また最適な酸添加量がはっきりしなかった。

【０００８】これらとは別に、特公平３−５６６２２号
公報、特開昭６１−１５３６５５号公報などに示される
光二量化型感光層を用いた場合、感光層とインキ反発層
との接着力が不十分であり、インキ反発層の脱落が起こ
り、結果として十分な画像再現性を示さなかった。

【０００９】また、特開平４−１７４４３７号公報、特
開平５−３４９０１号公報などには、アミノ基を含有し
ない特定のモノマを用いた水なし平版印刷版原版が開示
されているが、これらのモノマだけでは上層のインキ反
発層や下層の支持体あるいはプライマ層との接着が不十
分となるため、水酸基を含有したアミノ基含有モノマと
組み合わせて用いられているため、やはり長期に保存し
た場合に画像再現性が低下するという問題点を有してお
り、これを改善するためには依然として適当な酸を添加
してｐＨ調節を行う必要があった。

【００１０】更に、特開平１−２３７６６３号公報、特
開平２−２３７６６３号公報などには、側鎖にエチレン
性不飽和基を有する重合体を用いる方法が開示されてい
るが、高分子内のエチレン性不飽和基の重合効率はモノ
マに比べて著しく劣っており、結果として十分な画像再
現性を示さず、上層のインキ反発層との接着性も悪かっ
た。これを改善するために、アミノ基を含まない水酸基
含有モノマとの併用なども示されているが、重合体の側
鎖についたエチレン性不飽和基とモノマの反応速度が異
なるために効果が少なく、むしろそれぞれの重合反応を
阻害して画像再現性を低下させていた。上層のインキ反
発層との接着も、重合体とモノマの両方が接着反応に関
与するため、かえって接着力が弱くなっていた。モノマ
添加量も少なすぎるため、十分な画像再現性の効果はな
く、またインキ反発層との接着性を改善するにも至らな
かった。

【００１１】また、従来の水なし平版印刷版に提案され
ている感光層は、露光後の初期弾性率が高く、長時間の
印刷、とりわけオフセット印刷を行った場合、接着界面
で破壊が起こってしまう問題があった。特に、商業オフ
輪印刷を行う場合、水なし平版印刷版とブランケットと
の間でインキの転移が行われる時に版に繰り返し応力が
加わり、感光層とインキ反発層との接着界面での破壊が
起こりやすく、高耐刷力が得られなかった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、水酸基
を有する非アミン性重合性化合物を主として用いて上層
のインキ反発層や下層の支持体あるいはプライマ層と良
好に接着し、重合効率を高めかつ保存安定性に悪影響を
及ぼさない程度にアミノ基含有モノマを補助的に加え、
版の画像再現性、保存安定性に優れ、さらに印刷特性、
耐溶剤性なども良好であり、耐刷性にも優れた水なし平
版印刷版原版およびこの水なし平版印刷版原版を選択的
に露光現像してなる水なし平版印刷版を提供することに
ある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
以下の水なし平版印刷版原版およびこの水なし平版印刷
版原版を選択的に露光現像してなる水なし平版印刷版に
よって達成される。すなわち、 （１）支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が以下の（Ａ）および（Ｂ）成分を必須成分として含有
し、該感光層の露光後の初期弾性率が５〜７５ｋｇｆ／
ｍｍ2 であることを特徴とする水なし平版印刷版原版。

【００１４】（Ａ） 下記一般式（Ｉ）で示される構造
を少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有しない重合
可能な化合物

【化５】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
−ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
しており、０または１であり、同一でも異なっていても
よい。） （Ｂ）アミノ基含有モノマ （２）感光層の露光後の破断伸度が１００％以上である
ことを特徴とする（１）記載の水なし平版印刷版原版。

【００１５】（３）感光層の露光後の５０％応力が０．
８〜３．８ｋｇｆ／ｍｍ2 であることを特徴とする
（１）または（２）記載の水なし平版印刷版原版。

【００１６】（４）支持体上に感光層およびインキ反発
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が以下の（Ａ）および（Ｂ）成分を必須成
分として含有し、（Ａ）成分が感光層中の重合可能成分
の内の６０重量％を越えていることを特徴とする水なし
平版印刷版原版。

【００１７】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を
少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可
能な化合物 （Ｂ）アミノ基含有モノマ

【化６】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
−ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
しており、０または１であり、同一でも異なっていても
よい。） （５）支持体上に感光層およびインキ反発層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が以下の（Ａ）および（Ｂ）成分を必須成分として含有
し、（Ａ）成分が感光層全体の内の３０重量％を越えて
いることを特徴とする水なし平版印刷版原版。

【００１８】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を
少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可
能な化合物 （Ｂ）アミノ基含有モノマ

【化７】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
−ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
しており、０または１であり、同一でも異なっていても
よい。） （６）該重合可能な化合物が、感光層全体の内の３０重
量％を越えていることを特徴とする（４）記載の水なし
平版印刷版原版。

【００１９】（７）該重合可能な化合物が、下記一般式
（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有しかつアミ
ノ基構造を有しない重合可能な化合物であることを特徴
とする（１）〜（６）のいずれかに記載の水なし平版印
刷版原版。

【００２０】

【化８】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｌ２およびｂは一般式（Ｉ）と同
じである。Ｌ３は連結基であり、エステル結合、アミド
結合、ウレタン結合、ウレア結合、カ−ボネ−ト結合、
エ−テル結合、チオエ−テル結合、置換あるいは非置換
のホウ素原子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あ
るいは非置換のリン原子、置換あるいは非置換のケイ素
原子の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ４は連
結基である。ｃは連結基の有無を示しており、０または
１である。） （８）一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも二つ有
しかつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物を感光
層中に含んでいることを特徴とする（１）〜（６）のい
ずれかに記載の水なし平版印刷版原版。

【００２１】（９）一般式（ＩＩ）で示される構造を少
なくとも二つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可能
な化合物を感光層中に含んでいることを特徴とする
（７）記載の水なし平版印刷版原版。

【００２２】（１０）感光層中の一般式（Ｉ）で示され
る構造を少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有しな
い重合可能な化合物が、反応性シリル基を含有している
ことを特徴とする（１）〜（６）または（８）記載の水
なし平版印刷版原版。

【００２３】（１１）感光層中の一般式（ＩＩ）で示さ
れる構造を少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物が、反応性シリル基を含有してい
ることを特徴とする（７）または（９）記載の水なし平
版印刷版原版。

【００２４】（１２）感光層中のアミノ基含有モノマ
が、反応性シリル基を含有していることを特徴とする
（１）〜（１１）のいずれかに記載の水なし平版印刷版
原版。

【００２５】（１３）感光層が反応性シリル基含有の重
合可能な化合物を含んでいることを特徴とする（１）〜
（１２）のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。

【００２６】（１４）感光層がバインダーポリマを含ん
でいることを特徴とする（１）〜（１３）のいずれかに
記載の水なし平版印刷版原版。

【００２７】（１５）感光層が光重合性感光層であるこ
とを特徴とする（１）〜（１４）のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版。

【００２８】（１６）（Ｂ）成分が水酸基を含有しない
アミノ基含有モノマであることを特徴とする（１）〜
（１５）のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。

【００２９】（１７）支持体と感光層の間にプライマ層
を設けることを特徴とする（１）〜（１６）のいずれか
に記載の水なし平版印刷版原版。

【００３０】（１８）プライマ層が、一般式（Ｉ）で示
される構造を少なくとも一つ有し、かつアミノ基構造を
有しないモノマを重合してなるポリマを含有しているこ
とを特徴とする（１）〜（１７）のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版。

【００３１】（１９）プライマ層が、アミノ基含有モノ
マを重合してなるポリマを含有していることを特徴とす
る（１）〜（１８）のいずれかに記載の水なし平版印刷
版原版。

【００３２】（２０）インキ反発層がシリコ−ンゴム層
であることを特徴とする（１）〜（１９）のいずれかに
記載の水なし平版印刷版原版。

【００３３】（２１）シリコ−ンゴム層が縮合型の架橋
を行うシリコ−ンゴムで形成されていることを特徴とす
る（２０）記載の水なし平版印刷版原版。

【００３４】（２２）インキ反発層の表面に保護層を設
けることを特徴とする（１）〜（２１）のいずれかに記
載の水なし平版印刷版原版。

【００３５】（２３）保護層が表面をプレ−ンまたは凹
凸処理した保護フィルムであることを特徴とする（２
２）記載の水なし平版印刷版原版。

【００３６】（２４）支持体が表面をプレ−ンまたは粗
面化した金属板であることを特徴とする（１）〜（２
３）のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。

【００３７】（２５）（１）〜（２４）のいずれかに記
載の水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる
水なし平版印刷版。

【００３８】

【発明の実施の形態】以上のような構成の水なし平版印
刷版原版およびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露
光現像してなる水なし平版印刷版を用いることにより、
長期保存をした場合にも上層のインキ反発層や下層の支
持体あるいはプライマ層との接着が強固であり、長期に
わたって良好な画像再現性を有し、耐刷性も優れた版が
得られる。

【００３９】以下に、本発明の構成について、さらに具
体的に説明する。

【００４０】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。

【００４１】例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼など
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄などがメッキあるいは蒸着された金属
板、ポリエチレンテレフタレ−トやポリエチレンナフタ
レ−トなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレンなどのようなプラスチックフィルム
ないしはシ−ト、クロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴ
ム弾性を有する支持体、あるいはかかるゴム弾性を有す
る支持体、もしくは紙、樹脂コ−ト紙、アルミニウムな
どの金属箔が張られた紙などが挙げられる。これらの支
持体上にはハレ−ション防止その他の目的でさらに他の
物質をコ−ティングして支持体として用いることも可能
である。

【００４２】これらの内、好ましいのは金属板あるいは
プラスチックフィルムであり、とりわけアルミニウムを
主として用いた金属板が好ましい。このような金属板は
そのまま用いるか、アルカリ水溶液等による脱脂処理等
によりプレ−ン化して使用する。もしくは機械的方法、
電解エッチング法等により砂目形状を形成させてもよ
い。この際砂目形状を形成させる前に脱脂処理を行うこ
とは任意である。機械的方法としては、例えばポ−ル研
磨法、ブラシ研磨法、液体ホ−ニングによる研磨法、バ
フ研磨法等が挙げられる。機械的研磨方法において用い
られる研磨材としては、アルミナ、シリコ−ンカ−バイ
ド、ボロンカ−バイド、ダイヤモンド、砂けい石、花こ
う岩、石灰石、人造エメリ−、鋼球、鉄片、アランダ
ム、バミストン、酸化マグネシウム等が挙げられ、所望
の粒径のものが用いられる。電解エッチング法として
は、リン酸、硫酸、過塩素酸、塩酸、硝酸、ピロリン
酸、フッ酸等を含む溶液を用いてエッチングする方法が
挙げられる。粗面化された金属板の製造にあったては、
金属板の組成等に応じて上記の各種方法を適宜選択して
使用することができる。上記の各種方法は、単独あるい
は二種以上組み合わせて用いることができる。

【００４３】電解エッチング法は、上記の酸を単独ある
いは二種以上混合した浴で行われる。これらの中で好ま
しいのは、硫酸、リン酸、塩酸、硝酸を単独あるいは二
種以上混合した浴である。これにアルコ−ル、無水酢
酸、不飽和カルボン酸等の有機物や重クロム酸カリウ
ム、過酸化水素等の無機物、ゼラチンやデンプン等のコ
ロイド質類、更にグリセリン、その他の粘性物質、及び
界面活性剤等を添加剤として浴に加えることも任意であ
る。これらの添加剤は単独または二種以上組み合わせて
使用してもよい。電解エッチング浴は水に上記の酸類及
び必要に応じて上記添加剤を加えて調製する。

【００４４】電解エッチングの際、浴温度は５〜８０℃
の範囲で行うことが好ましく、１０〜５０℃の範囲で行
うことがより好ましい。電流密度は５〜３００Ａ／ｄｍ
2 の範囲が好ましく、１０〜２００Ａ／ｄｍ2 の範囲が
より好ましい。

【００４５】更に、上記の脱脂処理、砂目形状形成等を
行った後、１〜１０％メタケイ酸ナトリウム水溶液に温
度６０〜９０℃で２０〜９０秒間浸し、更にｐＨ７．５
〜９．５で温度１０〜９０℃の水に１０〜９０秒浸し、
水洗、乾燥して支持体として用いることもできる。

【００４６】本発明の水なし平版印刷版において、支持
体と感光層との接着は、画像再現性、耐刷力などの基本
的な版性能にとって非常に重要であるので、好ましくは
支持体に感光層を塗布する前に、感光層と支持体との十
分な接着性を得るために支持体にプライマ層を設けるの
がよい。また、ハレ−ション防止や染色性の点からも、
プライマ層を設けることが好ましい。

【００４７】プライマ層としては、例えば、特開昭６０
−２２９０３号公報に提案されている種々の感光性ポリ
マを露光して硬化せしめたもの、特開平４−３２２１８
１号公報に提案されているメタクリル系含リンモノマを
露光して硬化せしめたもの、特開平２−７０４９号公報
に提案されているメタクリル系エポキシ化合物を露光し
て硬化せしめたもの、特開昭６２−５０７６０号公報に
提案されているエポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特
開昭６３−１３３１５１号公報に提案されているゼラチ
ンを硬膜せしめたもの、特開平１−２８２２７０号公報
や特開平２−２１０７２号公報に提案されているウレタ
ン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。この他
にも、尿素樹脂類、フェノ−ル樹脂類、ベンゾグアナミ
ン樹脂類、フェノキシ樹脂類、ジアゾ樹脂類、セルロ−
スおよびその誘導体類、キチン、キトサン、ミルクカゼ
イン、大豆タンパク質、アルブミンなどを硬膜させたも
のも有効である。

【００４８】更に、プライマ層を柔軟化させる目的で、
前記プライマ層にガラス転移温度（Ｔｇ）が室温以下で
あるポリマおよびコポリマを添加することも可能であ
る。ガラス転移温度Ｔｇ（ｇｌａｓｓ ｔｒａｎｓｉｔ
ｉｏｎ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）とは、無定型高分子
材料の物性がガラス状態からゴム状態に（またはその逆
に）変化する転移点（温度）のことをいう。転移点を中
心とする比較的狭い温度領域においては、弾性率、膨脹
率、熱含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も
大きく変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体
積（比容）−温度曲線、熱分析（ＤＳＣ，ＤＴＡなど）
による熱含量測定、屈折率、こわさのような物質全体と
しての性質を測定するものと、力学的（動的粘弾性な
ど）および誘電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような
分子運動を反映する量を測定するものとがある。慣習的
にはデイラトメ−タ（ｄｉｌａｔｏｍｅｔｅｒ）を用い
て、試料の体積を温度を上げながら測定し、体積（比
容）−温度曲線の勾配が急に変化する点として決定され
る。

【００４９】このようなガラス転移温度（Ｔｇ）が室温
以下であるポリマおよびコポリマとしては、後述の感光
層で述べる次のようなものが挙げられるが、これらに限
定あれない。

【００５０】（１）ビニルポリマ類 （ａ）ポリオレフィン類 （ｂ）ポリスチレン類 （ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エ
ステルポリマ （２）未加硫ゴム （３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類） （４）ポリエステル類 （５）ポリウレタン類 （６）ポリアミド類 これらのガラス転移温度（Ｔｇ）が室温以下であるポリ
マおよびコポリマの添加割合は任意であり、フィルム層
を形成できる範囲であれば、添加剤だけでプライマ層を
形成してもよい。また、これらのプライマ層には、ポリ
マのフィルム形成能を向上させるために適当な架橋剤を
適当量加えてもよい。更に必要に応じ、染料、ｐＨ指示
薬、露光焼き出し剤、フォトクロ化合物、光重合開始
剤、接着助剤（例えば、重合性モノマ、シランカップリ
ング剤、チタネ−トカップリング剤、アルミニウムカッ
プリング剤、ジルコニアカップリング剤、ボロンカック
リング剤など）、酸化チタンや炭酸カルシウム、酸化亜
鉛のような白色顔料や黄色顔料、シリカ粒子、界面活性
剤などの添加剤を適当量加えることも可能である。ま
た、公知の硬化触媒を適当量加えることは任意である。

【００５１】プライマ層の厚さは乾燥後の膜厚として
０．１〜１００μｍ、好ましくは０．３〜５０μｍ、よ
り好ましくは０．５〜３０μｍが選ばれる。薄すぎると
支持体表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果が
劣り、一方厚すぎると経済的に不利になるので上記の範
囲が好ましい。

【００５２】プライマ層中の各成分の配合割合について
は特に限定されないが、好ましくは上記のポリマあるい
はコポリマ、または光重合や熱重合組成物の一種もしく
は二種以上を１００重量部、必要に応じて適当な架橋剤
を０〜１００重量部、染料や顔料、フォトクロ化合物、
接着助剤、界面活性剤などの添加剤を必要に応じてそれ
ぞれ０〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重量部加
えることにより設けるのがよい。

【００５３】次に、本発明に用いられる感光層について
説明する。

【００５４】本発明の感光層は、下記一般式（Ｉ）で示
される構造を少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物を含んでいることを最大の特徴
としている。

【００５５】

【化９】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
−ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
しており、０または１であり、同一でも異なっていても
よい。） とりわけ、下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なく
とも一つ有し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な
化合物を含んでいることが好ましい。

【００５６】

【化１０】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
−ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
しており、０または１であり、同一でも異なっていても
よい。） 一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）中の連結基Ｌ１，Ｌ
２，Ｌ３の具体例としては、置換あるいは非置換のホウ
素原子、酸素原子、ハロゲン原子、アルカリ金属、アル
カリ土類金属、置換あるいは非置換のアルミニウム原
子、置換あるいは非置換のケイ素原子、置換あるいは非
置換のリン原子、硫黄原子、遷移金属の群から選ばれる
少なくとも一種、あるいはこれらの群から選ばれる少な
くとも一種やエステル結合、ウレタン結合、ウレア結
合、アミド結合、カ−ボネ−ト結合などの各種結合を含
んでいてもよいアルキル基、アルケニル基、アリ−ル基
であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。より具
体的には、エステル結合を含んだアルキル基、、アミド
結合を含んだアルキル基、ウレタン結合を含んだアルキ
ル基、エステル結合と芳香環を含んだアルキル基、エ−
テル結合と芳香環を含んだアルキル基、アミド結合と芳
香環を含んだアルキル基、ウレタン結合と芳香環を含ん
だアルキル基などが挙げられるが、これらに限定されな
い。これらの中で、例えば、エ−テル結合を含んだアル
キル基としては、エチレンオキシド鎖やプロピレンオキ
シド鎖などが挙げられるが、これらに限定されない。ま
た、エ−テル結合と芳香環を含んだアルキル基として
は、フェニレンオキシド鎖などが挙げられるが、これら
に限定されない。基本的には、分子骨格内にアミノ基が
存在しなければどのような連結基でもよい。また、ａ、
ｂ、ｃは０または１であるので、場合によってはこれら
の連結基の一部は存在しなくてもよい。

【００５７】このような重合可能な化合物としては、以
下のようなものが挙げられるが、これらに限定されず、
他のものでもよい。

【００５８】下記一般式（ＩＩＩ）で示される構造を
少なくとも一つ有する化合物。

【００５９】

【化１１】 （Ｒ１およびＲ２は一般式（Ｉ）と同様である。Ｌ５は
連結基であり、置換あるいは非置換のホウ素原子、置換
あるいは非置換の炭素原子、酸素原子、ハロゲン原子、
アルカリ金属、アルカリ土類金属、置換あるいは非置換
のアルミニウム原子、置換あるいは非置換のケイ素原
子、置換あるいは非置換のリン原子、硫黄原子、遷移金
属の群から選ばれる少なくとも一種である。ｄは連結基
の有無を示しており、０または１である。） 例えば水酸基含有化合物にエピハロヒドリンを付加した
多官能エポキシ化合物に、アクリル酸あるいはメタクリ
ル酸を反応させたものが挙げられる。

【００６０】ここで、アルコ−ルとしては、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、ヘキサノ
−ル、ヘプタノ−ル、オクタノ−ル、デカノ−ル、シク
ロヘキサノ−ル、アリルアルコ−ル、クロチルアルコ−
ル、３−ブテン−１−オル、３−ブテン−２−オル、１
−ヘキセン−１−オル、２−ヘキセン−１−オル、３−
ヘキセン−１−オル、４−ヘキセン−１−オル、５−ヘ
キセン−１−オル、１−オクテン−３−オル、ベンジル
アルコ−ル、ナフタレンメタノ−ル、ナフタレンエタノ
−ル、３−ヒドロキシテトラヒドロフラン、２−メルカ
プトエタノ−ル、１−メルカプト−２−プロパノ−ル、
３−メルカプト−２−ブタノ−ル、ヒドロキシエチルア
クリレ−ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、フェノ
−ル、ナフト−ル、アントラノ−ル、４−ｔ−ブチルフ
ェノ−ル、４−オクチルフェノ−ル、４−ヒドロキシス
チレンなどのような一官能のもの、エチレングリコ−
ル、ジエチレングリコ−ル、トリエチレングリコ−ル、
テトラエチレングリコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、
プロピレングリコ−ル、ジプロピレングリコ−ル、ポリ
プロピレングリコ−ル、１，３−ブタンジオ−ル、１，
４−ブタンジオ−ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、１，
８−オクタンジオ−ル、１，９−ノナンジオ−ル、１，
１０−デカンジオ−ル、２−ブテン−１，４−ジオ−
ル、５−ヘキセン−１，２−ジオ−ル、７−オクテン−
１，２−ジオ−ル、３−メルカプト−１，２−プロパン
ジオ−ル、ジヒドロキシアントラキノン、ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、ビスフェノ−ルＡ、フェ
ノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾ−ル樹
脂、レゾルシンベンズアルデヒド縮合樹脂、ピロガロ−
ルアセトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合体および共
重合体、グリセリン、トリメチロ−ルプロパン、１，
２，４−ブタントリオ−ル、ペンタエリスリト−ル、ポ
リビニルアルコ−ル、セルロ−スおよびその誘導体、ヒ
ドロキシエチルアクリレ−トの重合体および共重合体、
ヒドロキシエチルメタクリレ−トの重合体および共重合
体などの多価のものなどが挙げられるが、これらに限定
されない。・また、上記の水酸基含有化合物の水酸基部
分それぞれにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを
アルコ−ル１モルに対して１〜１００モル付加したもの
も同様に用いることができる。例えば、グリセリンのそ
れぞれの水酸基にエチレンオキシドを１モルずつ付加し
たもの、２モルずつ付加したもの、３モルずつ付加した
もの、トリメチロ−ルプロパンのそれぞれの水酸基にエ
チレンオキシドを１モルずつ付加したもの、２モルずつ
付加したもの、３モルずつ付加したもの、グリセリンの
それぞれの水酸基にプロピレンオキシドを１モルずつ付
加したもの、２モルずつ付加したもの、３モルずつ付加
したもの、トリメチロ−ルプロパンのそれぞれの水酸基
にプロピレンオキシドを１モルずつ付加したもの、２モ
ルずつ付加したもの、３モルずつ付加したもの、１，６
−ヘキサンジオ−ルや１，８−オクタンジオ−ル、１，
９−ノナンジオ−ル、１，１０−デカンジオ−ルなどの
それぞれの水酸基にエチレンオキシドを１モルずつ付加
したもの、２モルずつ付加したもの、３モルずつ付加し
たもの、プロピレンオキシドを１モルずつ付加したも
の、２モルずつ付加したもの、３モルずつ付加したもの
などが挙げられるが、これらに限定されず、これ以外の
ものでもよい。

【００６１】また、エピハロヒドリンとしてはエピクロ
ロヒドリン、エピブロモヒドリン、エピヨ−ドヒドリン
などが挙げられる。

【００６２】上記のような水酸基含有化合物とエピハロ
ヒドリンとの反応において、多価の水酸基含有化合物を
用いる場合、すべての水酸基にエピハロヒドリンを反応
させる必要はなく、最低一つの水酸基に反応させればよ
い。このようにして得られたエポキシ基含有の化合物と
アクリル酸あるいはメタクリル酸を反応させることによ
り、一般式（ＩＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ
有する化合物が得られる。

【００６３】また、上記以外でも、エポキシ基を含有す
る化合物にアクリル酸あるいはメタクリル酸を反応させ
ることにより、一般式（ＩＩＩ）で示される構造を少な
くとも一つ有する化合物が得られる。

【００６４】下記一般式（ＩＶ）で示される構造を少
なくとも一つ有する化合物。

【００６５】

【化１２】 （Ｒ１およびＲ２は一般式（Ｉ）と同様である。Ｌ５お
よびｄは一般式（ＩＩＩ）と同様である。Ｌ６は連結基
であり、置換あるいは非置換のホウ素原子、酸素原子、
ハロゲン原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、置換
あるいは非置換のアルミニウム原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、置換あるいは非置換のリン原子、硫黄
原子、遷移金属の群から選ばれる少なくとも一種、ある
いはこれらの群から選ばれる少なくとも一種を含んでい
てもよいアルキル基、アルケニル基、アリ−ル基であ
る。ｅは連結基の有無を示しており、０または１であ
る。）例えばカルボン酸化合物にビニルグリシジルエ−
テル、アリルグリシジルエ−テル、グリシジル（メタ）
アクリレ−トのようなエチレン性不飽和基とエポキシ基
の両方を有する化合物を反応させたものが挙げられる。

【００６６】カルボン酸化合物としては、ギ酸、酢酸、
プロピオン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、フタ
ル酸、アジピン酸、乳酸、酪酸、（メタ）アクリル酸、
コハク酸、クエン酸、クロロ酢酸、（メタ）アクリル酸
の重合体および共重合体などが挙げられるが、これらに
限定されず、これ以外でもカルボン酸であれば何でもよ
い。

【００６７】上記のカルボン酸化合物にビニルグリシジ
ルエ−テル、アリルグリシジルエ−テル、グリシジル
（メタ）アクリレ−トのようなエチレン性不飽和基とエ
ポキシ基の両方を有する化合物を反応させることによ
り、一般式（ＩＶ）で示される構造を少なくとも一つ有
する化合物が得られる。

【００６８】下記一般式（Ｖ）で示される構造を少な
くとも一つ有する化合物。

【００６９】

【化１３】 （Ｒ１およびＲ２は一般式（Ｉ）と同様である。Ｌ６お
よびｅは一般式（ＩＶ）と同様である。Ｌ７およびＬ８
は連結基であり、置換あるいは非置換のホウ素原子、酸
素原子、ハロゲン原子、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、置換あるいは非置換のアルミニウム原子、置換ある
いは非置換のケイ素原子、置換あるいは非置換のリン原
子、硫黄原子、遷移金属の群から選ばれる少なくとも一
種、あるいはこれらの群から選ばれる少なくとも一種や
エステル結合、ウレタン結合、ウレア結合、アミド結
合、カ−ボネ−ト結合などの各種結合を含んでいてもよ
いアルキル基、アルケニル基、アリ−ル基であり、それ
ぞれ同一でも異なっていてもよい。ｆおよびｇは連結基
の有無を示しており、０または１であり、それぞれ同一
でも異なっていてもよい。） 例えば、エチレン性不飽和基と水酸基の両方を有する化
合物と、イソシアネ−ト基とエポキシ基の両方を有する
化合物とを反応させてウレタン結合を形成させ、その後
カルボン酸と反応させたものが挙げられる。

【００７０】エチレン性不飽和基と水酸基の両方を有す
る化合物としては、１−ブテン−４−オル、１−ヘクセ
ン−６−オル、１−ヘプテン−７−オルなどが挙げられ
るが、これらに限定されず、エチレン性不飽和基と水酸
基の両方を有する化合物であれば何でもよい。

【００７１】イソシアネ−ト基とエポキシ基の両方を有
する化合物としては、３−グリシジルプロピルイソシア
ネ−ト、２−グリシジルエチルイソシアネ−ト、６−グ
リシジルヘキシルイソシアネ−トなどが挙げられるが、
これらに限定されず、イソシアネ−ト基とエポキシ基の
両方を有する化合物であれば何でもよい。

【００７２】カルボン酸としては、で挙げたものと同
様のものが用いられるが、これらに限定されず、カルボ
ン酸であれば何でもよい。

【００７３】このようにして、２段階の反応により、一
般式（Ｖ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合
物が得られる。

【００７４】下記一般式（ＶＩ）で示される構造を少
なくとも一つ有する化合物。

【００７５】

【化１４】 （Ｒ１およびＲ２は一般式（Ｉ）と同様である。Ｌ６お
よびｅは一般式（ＩＶ）と同様である。Ｌ７、Ｌ８、
ｆ，ｇは一般式（Ｖ）と同様である。）例えば、エチレ
ン性不飽和基とイソシアネ−ト基の両方を含有する化合
物と多価水酸基含有化合物とを反応させたものが挙げら
れる。

【００７６】エチレン性不飽和基とイソシアネ−ト基の
両方を含有する化合物としては、２−イソシアネ−トエ
チル（メタ）アクリレ−ト、３−イソシアネ−トプロピ
ル（メタ）アクリレ−ト、１−ブテン−４−イソシアネ
−トなどが挙げられるが、これらに限定されず、エチレ
ン性不飽和基とイソシアネ−ト基の両方を含有する化合
物であれば何でもよい。

【００７７】多価水酸基含有化合物としては、で挙げ
たものと同様のものが用いられるが、これらに限定され
ず、多価水酸基含有化合物であれば何でもよい。

【００７８】これらの〜のような化合物、あるいは
それ以外の一般式（Ｉ）あるいは一般式（ＩＩ）で示さ
れる構造を少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有し
ない化合物を単独、あるいは二種以上用いることによ
り、保存安定性に優れ、上層のインキ反発層や下層の支
持体あるいはプライマ層との接着が良好であり、画像再
現性並びに耐刷性も良好な水なし平版となりうる。

【００７９】これらの重合可能な化合物は、感光層が形
態保持機能を有する範囲で多いほど上層のインキ反発層
や下層の支持体あるいはプライマ層との接着が良好とな
るので、感光層が形態保持機能を有する範囲でできるだ
け多く感光層中に含まれるのがよい。その意味で、本発
明の効果を十分に発揮するためには、これらの重合可能
化合物が感光層中の重合可能成分の内の６０重量％を越
えているか、あるいは感光層全体の内の３０重量％を越
えていることが好ましい。感光層中の重合可能成分の内
の６０重量％以下である場合には、上層のインキ反発層
や下層の支持体あるいはプライマ層との接着が不十分と
なる場合があり、これを補うためにアミノ基含有の水酸
基含有モノマを添加する必要が生じ、結果として保存安
定性に影響を及ぼす場合がある。また、感光層全体の内
の３０重量％以下である場合、光重合による硬化が十分
に行われない可能性があり、それに起因して画像再現性
が低下する恐れがある。これらの意味で、上記に示した
量以上にこれらの重合可能化合物が感光層中に含まれて
いることが重要である。

【００８０】これらの重合可能な化合物は、上層のイン
キ反発層や下層の支持体あるいはプライマ層との接着を
更に良好とするために、有機シリル基を有することも好
ましい。このような有機シリル基は、大別して加水分解
性の活性シリル基と非加水分解性のシリル基に分類でき
る。

【００８１】第一の加水分解性の活性シリル基とは、加
水分解によりシラノ−ル基などの高反応性が再生するア
ルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシムシリ
ル基などのシリル基とトリメチルシロキシ基、トリエチ
ルシロキシ基、チトリフェニルシロキシ基などのように
加水分解によってアルコ−ル性水酸基が再生するものが
挙げられる。

【００８２】アルコキシシリル基の具体例としては、ト
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
メトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニル
ジメトキシシリル基、ビニルジエトキシシリル基、アリ
ルジメトキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、３
−メタクリルオキシプロピルジメトキシシリル基、３−
メタクリルオキシプロピルエトキシシリル基、ジメチル
メトキシシリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニ
ルメトキシシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジア
リルメトキシシリル基、ジアリルエトキシシリル基、３
−メタクリルオキシプロピルメチルメトキシシリル基、
３−メタクリルオキシプロピルメチルエトキシシリル基
などが挙げられるが、これらに限定されない。

【００８３】アセトキシシリル基の具体例としては、ト
リアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリル基、
エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセトキシシ
リル基、ジエチルアセトキシシリル基などが挙げられる
が、これらに限定されない。オキシムシリル基の具体例
としては、トリス（メチルエチルケトオキシム）シリル
基、メチルジ（メチルエチルケトオキシム）シリル基、
エチルジ（メチルエチルケトオキシム）シリル基、ビニ
ルジ（メチルエチルケトオキシム）シリル基などが挙げ
られるが、これらに限定されない。

【００８４】第二の非加水分解性のシリル基としては非
反応性のシリル基を意味し、アルキルシリル基やアリル
シリル基などが挙げられる。

【００８５】また、上記の重合可能な化合物とは別に、
少量にポリジメチルシロキサン、シリコ−ンレジン、公
知の各種変性ポリジメチルシロキサン、シリコ−ン（メ
タ）アクリレ−トなどのシリコ−ン化合物を添加するこ
とも可能である。特に、シリコ−ン（メタ）アクリレ−
トの少量添加は感度調整の点から有効である。

【００８６】シリコ−ン（メタ）アクリレ−トの具体例
としては、１，３−ビス（３−メタクリルオキシプロピ
ル）１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、３−
メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、１
−（３−メタクリルオキシプロピル）−１，１，３，
３，３−ペンタメチルジシロキサン、３−メタクリルオ
キシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキ
シプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、α，
ω−メタクリルオキシプロピルポリジメチルシロキサン
などが挙げられるが、これらに限定されない。

【００８７】また本発明中には、光重合効率を向上させ
る目的から、アミノ基含有モノマを必須成分として含む
ことを特徴としている。このようなアミノ基含有モノマ
は、例えば特公昭５４−２６９２３号公報、特開平５−
２８１７１４号公報、特開平６−６７４１１号公報など
に記載されているモノマが挙げられる。具体例には、下
記一般式（ＶＩＩ）で示される構造を有するアミノ基含
有化合物１モルに、該アミノ基含有化合物に反応しうる
基及び重合性エチレン不飽和基を含有する化合物を少な
くとも１モル反応させて得られる化合物が挙げられる。

【００８８】

【化１５】 （式中、Ｒ３およびＲ４は水素原子、炭素数１〜２０の
置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜２０の置
換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜２０の置
換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれる少なく
とも一種であり、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｌ９は連結基を示す。） 上記の一般式（ＶＩＩ）で示される構造において、Ｒ３
およびＲ４の置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、
炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケ
ニル基、炭素数４〜２０のアリール基が挙げられるがこ
れらに限定されない。好ましくは、水素原子、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ヒドロキシメチル基、ヒ
ドロキシプロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル
基、フェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、４−ブロ
モフェニル基、４−トリル基、２−トリル基、ベンジル
基、４−キシリレン基、３−キシリレン基、２−キシリ
レン基などが挙げられる。連結基Ｌ９は、置換あるいは
非置換のホウ素原子、酸素原子、置換あるいは非置換の
窒素原子、アルカリ土類金属、置換あるいは非置換のア
ルミニウム原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、置
換あるいは非置換のリン原子、硫黄原子、遷移金属の群
から選ばれる少なくとも一種、あるいはこれらの群から
選ばれる少なくとも一種やエステル結合、ウレタン結
合、ウレア結合、アミド結合、カーボネート結合、スル
フォニル結合などの各種結合を含んでいてもよいアルキ
ル基、アルケニル基、アリール基である。

【００８９】該アミノ基含有化合物に反応しうる基およ
び、重合性エチレン不飽和基を含有する化合物として
は、例えば下記一般式（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）または
（Ｘ）で示される化合物が挙げられる。

【００９０】

【化１６】

【化１７】

【化１８】 （式中、Ｒ５およびＲ７は水素原子、炭素数１〜１０の
アルキル基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｌ１０およびＬ１１は連結基であり、置換あるいは
非置換のホウ素原子、酸素原子、置換あるいは非置換の
窒素原子、アルカリ土類金属、置換あるいは非置換のア
ルミニウム原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、置
換あるいは非置換のリン原子、硫黄原子、遷移金属の群
から選ばれる少なくとも一種、あるいはこれらの群から
選ばれる少なくとも一種やエステル結合、ウレタン結
合、ウレア結合、アミド結合、カーボネート結合、スル
フォニル結合などの各種結合を含んでいてもよいアルキ
ル基、アルケニル基、アリール基であり、それぞれ同一
でも異なっていてもよい。Ｒ６はカルボン酸ハライド、
スルホン酸ハライドを示している。ｈおよびｉは連結基
の有無を示しており、０または１であり、それぞれ同一
でも異なっていてもよい。）具体的には、グリシジル
（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸クロリド、
（メタ）アクリル酸無水物などが挙げられる。該アミノ
基含有化合物１モルに対して、添加するエチレン性不飽
和基含有化合物は、１モルから該アミノ基含有化合物の
全活性水素と反応しうるモル数である。この際、エチレ
ン性不飽和基含有化合物は単独でも二種以上を混合して
もよい。

【００９１】また、該アミノ基含有化合物の全活性水素
と反応しうるモル数だけエチレン性不飽和基含有化合物
を添加しない場合には、残りの部分にエチレン性不飽和
基を含有しない化合物を添加してもよい。このような化
合物としては、例えば下記一般式（ＸＩ）、（ＸＩ
Ｉ）、（ＸＩＩＩ）で示される化合物が挙げられる。

【００９２】

【化１９】

【化２０】

【化２１】 （式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は水素原子、
ハロゲン原子、置換あるいは非置換のホウ素原子、酸素
原子、置換あるいは非置換の窒素原子、アルカリ土類金
属、置換あるいは非置換のアルミニウム原子、置換ある
いは非置換のケイ素原子、置換あるいは非置換のリン原
子、硫黄原子、遷移金属の群から選ばれる少なくとも一
種、あるいはこれらの群から選ばれる少なくとも一種や
エステル結合、ウレタン結合、ウレア結合、アミド結
合、カーボネート結合、スルフォニル結合などの各種結
合を含んでいてもよい置換あるいは非置換のアルキル
基、アルケニル基、アリール基であり、それぞれ同一で
も異なっていてもよい。） 具体的にはメチルグリシジルエーテル、エチルグリシジ
ルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、酢酸クロリ
ド、プロピオン酸クロリド、安息香酸クロリド、メタン
スルホン酸クロリド、ベンゼンスルホン酸クロリド、４
−トルエンスルホン酸クロリド、無水酢酸、無水プロピ
オン酸などが挙げられる。このような化合物の添加量
は、該アミノ基含有化合物１モルに対して、１モルから
該アミノ基含有化合物の全活性水素と反応しうるモル数
である。この際、単独でも二種以上を混合してもよい。

【００９３】上記に示したようなアミノ基含有モノマお
よびこれら以外のアミノ基含有モノマの中では、水酸基
を含有していても含有していなくてもよいが、好ましく
は水酸基を含有していないアミノ基含有モノマが選ばれ
る。水酸基を含有していないアミノ基含有モノマを用い
ることにより、上層のインキ反発層や下層の支持体ある
いはプライマ層との接着には水酸基含有の非アミン系モ
ノマが主として関与し、光重合の初期の効率向上にはア
ミノ基含有モノマが関与し、役割分担が明確となり、そ
の結果より良い画像再現性を有する水なし平版印刷版が
得られる。すなわち、アミノ基含有モノマは光開始剤の
効率を補助する役割を果たすので、アミノ基含有モノマ
は重合の初期段階ではモノマとしてよりも光開始助剤と
して働き、水酸基含有の非アミン系モノマを重合させ
る。これにより、光が照射された部分は上層のインキ反
発層や下層の支持体あるいはプライマ層とより強固に接
着し、現像により欠点の生じない優れた画像再現性を示
すことになる。

【００９４】本発明に用いられる感光層中には、上記に
述べてきた特定の構造および機能を果たす重合可能化合
物の他に、感度調整などの目的から公知のモノマまたは
オリゴマ、あるいは光二量化化合物などを添加すること
ができる。

【００９５】このようなモノマまたはオリゴマの具体例
を下記に示す。

【００９６】アルコ−ル類（メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノ−ル、ヘキサノ−ル、オクタノ−ル、シクロヘ
キサノ−ル、グリセリン、トリメチロ−ルプロパン、ペ
ンタエリスリト−ル、イソアミルアルコ−ル、ラウリル
アルコ−ル、ステアリルアルコ−ル、ブトキシエチルア
ルコ−ル、エトキシエチレングリコ−ル、メトキシエチ
レングリコ−ル、メトキシプロピレングリコ−ル、フェ
ノキシエタノ−ル、フェノキシジエチレングリコ−ル、
テトラヒドロフルフリルアルコ−ルなど）の（メタ）ア
クリル酸エステル、カルボン酸類（酢酸、プロピオン
酸、安息香酸、（メタ）アクリル酸、コハク酸、マレイ
ン酸、フタル酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸など）と
（メタ）アクリル酸グリシジルとの付加反応物などを挙
げることができるが、これらに限定されない。

【００９７】また、光二量化化合物としては、シンナモ
イル構造を有する化合物、とりわけ主鎖や側鎖にシンナ
モイル構造を有するポリマ、あるいはアントラセン構造
を有する化合物、とりわけ側鎖にアントラセン構造を有
するポリマ、ノルボルネン構造を有する化合物、とりわ
け側鎖にノルボルネン構造を有するポリマなどを挙げる
ことができるが、これらに限定されない。

【００９８】上記に示した公知のモノマまたはオリゴ
マ、あるいは光二量化化合物などは、上層のインキ反発
層や下層の支持体あるいはプライマ層との接着を更に良
好とするために、有機シリル基を有することも好まし
い。このような有機シリル基は、大別して加水分解性の
活性シリル基と非加水分解性のシリル基に分類できる。

【００９９】第一の加水分解性の活性シリル基とは、加
水分解によりシラノ−ル基などの高反応性が再生するア
ルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシムシリ
ル基などのシリル基とトリメチルシロキシ基、トリエチ
ルシロキシ基、チトリフェニルシロキシ基などのように
加水分解によってアルコ−ル性水酸基が再生するものが
挙げられる。

【０１００】アルコキシシリル基の具体例としては、ト
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
メトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニル
ジメトキシシリル基、ビニルジエトキシシリル基、アリ
ルジメトキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、３
−メタクリルオキシプロピルジメトキシシリル基、３−
メタクリルオキシプロピルエトキシシリル基、ジメチル
メトキシシリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニ
ルメトキシシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジア
リルメトキシシリル基、ジアリルエトキシシリル基、３
−メタクリルオキシプロピルメチルメトキシシリル基、
３−メタクリルオキシプロピルメチルエトキシシリル基
などが挙げられるが、これらに限定されない。

【０１０１】アセトキシシリル基の具体例としては、ト
リアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリル基、
エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセトキシシ
リル基、ジエチルアセトキシシリル基などが挙げられる
が、これらに限定されない。オキシムシリル基の具体例
としては、トリス（メチルエチルケトオキシム）シリル
基、メチルジ（メチルエチルケトオキシム）シリル基、
エチルジ（メチルエチルケトオキシム）シリル基、ビニ
ルジ（メチルエチルケトオキシム）シリル基などが挙げ
られるが、これらに限定されない。

【０１０２】第二の非加水分解性のシリル基としては非
反応性のシリル基を意味し、アルキルシリル基やアリル
シリル基などが挙げられる。

【０１０３】本発明の感光層においては、形態保持機能
やモノマを光重合に適した分散状態にする役割として、
バインダポリマを添加することが好ましい。このような
バインダポリマとしては、有機溶媒可能でかつフィルム
形成能のあるものであればいずれも使用可能であるが、
好ましくはそのガラス転移温度（Ｔg ）が２０℃以下の
ポリマおよびコポリマ、さらに好ましくはガラス転移温
度（Ｔg ）が０℃以下のポリマおよびコポリマを挙げる
ことが出来る。更に好ましくは、モノマの光重合反応を
スム−ズにする点から、バインダポリマ中にはエチレン
性不飽和基が存在しない方がよい。

【０１０４】ガラス転移温度Ｔg （glass transition t
emperature）とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に（またはその逆に）変化する転移点
（温度）のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積（比
容）ー温度曲線、熱分析（ＤＳＣ，ＤＴＡ等）による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的（動的粘弾性等）および誘
電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ（dilatometer ）を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積（比容）ー温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。

【０１０５】以下にバインダポリマとなり得る代表的な
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。

【０１０６】（１）ビニルポリマ類 以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。

【０１０７】例えば、エチレン、プロピレン、１ーブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリ
ル酸ー２ーエチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸ｎーブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
ー２ーヒドロキシエチル、メタクリル酸ー２ーヒドロキ
シプロピル、アクリル酸ー２ーヒドロキシエチル、アク
リル酸ー２ーヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水
素フタレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３ーメチルー１ーブテン、ブチルビニ
ルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、αーシアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
シドやプロピレンオキシドを付加させた後（メタ）アク
リレート化したもの、およびこれらの誘導体を重合、共
重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダポリマ
として使用できる。

【０１０８】ガラス転移温度が２０℃以下のビニル系ポ
リマの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが
挙げられるが、これらに限定されない。

【０１０９】（ａ）ポリオレフィン類 例えばポリ（１ーブテン）、ポリ（５ーシクロヘキシル
ー１ーペンテン）、ポリ（１ーデセン）、ポリ（１，１
−ジクロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブテ
ン）、ポリ（１，１−ジメチルプロペン）、ポリ（１ー
ドデセン）、ポリエチレン、ポリ（１ーヘプテン）、ポ
リ（１ーヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６ーメチル
ー１ーヘプテン）、ポリ（５ーメチルー１ーヘキセ
ン）、ポリ（２ーメチルプロペン）、ポリ（１ーノネ
ン）、ポリ（１ーオクテン）、ポリ（１ーペンテン）、
ポリ（５ーフェニルー１ーペンテン）、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ（１ーブテン）等。

【０１１０】また、ポリ（ビニルブチルエーテル）、ポ
リ（ビニルエチルエーテル）、ポリ（ビニルイソブチル
エーテル）、ポリ（ビニルメチルエーテル）等。

【０１１１】（ｂ）ポリスチレン類 ガラス転移温度２０℃以下のポリスチレン誘導体として
は、例えばポリ（４ー［（２ーブトキシエトキシ）メチ
ル］スチレン）、ポリ（４ーデシルスチレン）、ポリ
（４ードデシルスチレン）、ポリ［４ー（２ーエトキシ
エトキシメチル）スチレン］、ポリ［４ー（１ーエチル
ヘキシロキシメチル）スチレン］、ポリ［４ー（ヘキシ
ロキシメチル）スチレン］、ポリ（４ーヘキシルスチレ
ン）、ポリ（４ーノニルスチレン）、ポリ［４ー（オク
チロキシメチル）スチレン］、ポリ（４ーオクチルスチ
レン）、ポリ（４ーテトラデシルスチレン）等が挙げら
れる。

【０１１２】（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマ ガラス転移温度２０℃以下のポリアクリレート類として
は、例えばポリ（ブチルアクリレート）、ポリ（sec ー
ブチルアクリレート）、ポリ（tertーブチルアクリレー
ト）、ポリ［２ー（２ーシアノエチルチオ）エチルアク
リレート］、ポリ［３ー（２ーシアノエチルチオ）プロ
ピルアクリレート］、ポリ［２ー（シアノメチルチオ）
エチルアクリレート］、ポリ［６ー（シアノメチルチ
オ）ヘキシルアクリレート］、ポリ［２ー（３ーシアノ
プロピルチオ）エチルアクリレート］、ポリ（２ーエト
キシエチルアクリレート）、ポリ（３ーエトキシプロピ
ルアクリレート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ
（２ーエチルブチルアクリレート）、ポリ（２ーエチル
ヘキシルアクリレート）、ポリ（５ーエチルー２ーノニ
ルアクリレート）、ポリ（２ーエチルチオエチルアクリ
レート）、ポリ（３ーエチルチオプロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヘプチルアクリレート）、ポリ（２ーヘプ
チルアクリレート）、ポリ（ヘキシルアクリレート）、
ポリ（イソブチルアクリレート）、ポリ（イソプロピル
アクリレート）、ポリ（２ーメトキシエチルアクリレー
ト）、ポリ（３ーメトキシプロピルアクリレート）、ポ
リ（２ーメチルブチルアクリレート）、ポリ（３ーメチ
ルブチルアクリレート）、ポリ（２ーメチルー７ーエチ
ルー４ーウンデシルアクリレート）、ポリ（２ーメチル
ペンチルアクリレート）、ポリ（４ーメチルー２ーペン
チルアクリレート）、ポリ（４ーメチルチオブチルアク
リレート）、ポリ（２ーメチルチオエチルアクリレー
ト）、ポリ（３ーメチルチオプロピルアクリレート）、
ポリ（ノニルアクリレート）、ポリ（オクチルアクリレ
ート）、ポリ（２ーオクチルアクリレート）、ポリ（３
ーペンチルアクリレート）、ポリ（プロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレート）等が代表例として
挙げられる。

【０１１３】ガラス転移温度２０℃以下のポリメタクリ
レート類としては、例えばポリ（デシルメタクリレー
ト）、ポリ（ドデシルメタクリレート）、ポリ（２ーエ
チルヘキシルメタクリレート）、ポリ（オクタデシルメ
タクリレート）、ポリ（オクチルメタクリレート）、ポ
リ（テトラデシルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ヘキシ
ルメタクリレート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）
等が挙げられる。

【０１１４】（２）未加硫ゴム 天然ゴム（ＮＲ）やブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン（ＢＲ）、スチレンーブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレンー
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステルーブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステルーブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テルーアクリルニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レンーイソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ルーブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリルーブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ルークロロプレン共重合体、アクリロニトリルーイソプ
レン共重合体、エチレンープロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジンースチレンーブタジエ
ン共重合体、スチレンーイソプレン共重合体などが挙げ
られる。

【０１１５】これらの他に、ガラス転移温度２０℃以下
のゴム類の具体例としては、例えばポリ（１，３ーブタ
ジエン）、ポリ（２ークロロー１，３−ブタジエン）、
ポリ（２ーデシルー１，３ーブタジエン）、ポリ（２，
３−ジメチルー１，３−ブタジエン）、ポリ（２ーエチ
ルー１，３−ブタジエン）、ポリ（２ーヘプチルー１，
３−ブタジエン）、ポリ（２ーイソプロピル−１，３−
ブタジエン）、ポリ（２ーメチルー１，３−ブタジエ
ン）、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されない。

【０１１６】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。

【０１１７】（３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類） トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２ー
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。

【０１１８】ガラス転移温度２０℃以下のポリオキシド
類の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポ
リ（ブタジエンオキシド）、ポリ（１ーブテンオキシ
ド）、ポリ（ドデセンオキシド）、ポリ（エチレンオキ
シド）、ポリ（イソブテンオキシド）、ポリホルムアル
デヒド、ポリ（プロピレンオキシド）、ポリ（テトラメ
チレンオキシド）、ポリ（トリメチレンオキシド）等が
挙げられる。

【０１１９】（４）ポリエステル類 以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もバインダポリマとして使用可能で
ある。

【０１２０】多価アルコールとしては、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、ｐ−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リスリト−ル、ジペンタエリスリト−ル、ソルビトール
等。

【０１２１】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。

【０１２２】ラクトンとしては、βープロピオラクト
ン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、εーカ
プロラクトン等。

【０１２３】ポリ（オキシジエチレンピメレイト）、ポ
リ（オキシジエチレンプロピルマロネイト）、ポリ（オ
キシジエチレンセバケート）、ポリ（オキシジエチレン
スベレイト）、ポリ（オキシジエチレンスクシネイ
ト）、ポリ（ペンタメチレンアジペイト）、ポリ（テト
ラメチレンアジペイト）、ポリ（テトラメチレンセバケ
ート）、ポリ（トリメチレンアジペイト）等が挙げられ
が、これらに限定されない。 （５）ポリウレタン類 以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
（あるいはメタクリル）単量体とアクリル（あるいはメ
タクリル）酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。

【０１２４】イソシアネート類としては、パラフェニレ
ンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−トルイレ
ンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシア
ネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（Ｘ
ＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート
（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネート
（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネートー４ーイソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。

【０１２５】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキシドープロピレンオキシド
共重合体、テトラヒドロフランーエチレンオキシド共重
合体、テトラヒドロフランープロピレンオキシド共重合
体等を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチ
レンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキ
サメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、
ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチ
レンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεー
カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネ
ートジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビ
トール、メチルグルコジット、シュクローズ等を挙げる
ことが出来る。

【０１２６】また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。

【０１２７】さらに、分岐したポリウレタン樹脂や水酸
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。

【０１２８】これらの他、ポリ（テトラメチレンヘキサ
メチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２ーブテン）
ヘキサメチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２ーブ
チン）ヘキサメチレンーウレタン）等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。

【０１２９】（６）ポリアミド類 従来提案されているポリアミド類もまたバインダポリマ
として使用できる。基本的な組成としては、次に示すモ
ノマ類のコポリマ−である。

【０１３０】εーカプロラクタム、ωーカプロラクタ
ム、ωーアミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジアミ
ン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタン、
２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソ
ホロンジアミン、ジグリコ−ル類、イソフタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。

【０１３１】さらに詳しく説明すると、ポリアミドは一
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
４８−７２２５０号公報に示されるような３，５−ジカ
ルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合す
ることによって得られるスルホン酸基またはスルホネー
ト基を含有するポリアミド、特開昭４９−４３４６５号
公報に示されているような分子中にエーテル結合を持つ
ジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちい
ずれか１種類を共重合して得られるところのエーテル結
合を有するポリアミド、特開昭５０−７６０５号公報に
示されているようなＮ，Ｎ’−ジ（γーアミノプロピ
ル）ピペラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含
有するポリアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル
酸等で四級化したポリアミド、特開昭５５−７４５３７
号公報で提案されている分子量１５０〜１５００のポリ
エーテルセグメントを含有する共重合ポリアミド、およ
びαー（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）ーεーカプロラ
クタムの開環重合またはαー（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルア
ミノ）ーεーカプロラクタムとεーカプロラクタムの開
環共重合で得られるところのポリアミド等が挙げられ
る。

【０１３２】分子量１５０〜１５００のポリエーテルセ
グメントを含有する共重合ポリアミドとしては、末端に
アミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分子量が
１５０〜１５００であるポリオキシエチレンと脂肪族ジ
カルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を３０〜
７０重量％含有するところの共重合ポリアミドが挙げら
れる。

【０１３３】またアルコール可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ωーアミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン３、４、５、６、８、１１、１
２、１３、６６、６１０、６／１０、１３／１３、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、εーカプロラク
タム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／４，４’
ージアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
εーカプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、εーカプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのＮ−メチロール、Ｎ−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。

【０１３４】以上のようなポリアミドを単独または混合
してバインダポリマとして用いることが出来る。

【０１３５】また、これらのバイダポリマと共用、ある
いは単独で以下のようなポリマも使用することが可能で
ある。

【０１３６】クロトン酸系化合物共重合体、マレイン酸
系化合物共重合体、ロジン変性などの部分エステル化マ
レイン系、酸性セルロ−ス誘導体、ポリビニルピロリド
ン、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラ−ル、ポリビニ
ルホルマ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコ−
ル、部分アセタ−ル化ポリビニルアルコ−ル、尿素樹脂
類、フェノ−ル樹脂類、ベンゾグアナミン樹脂類、ジア
ゾ樹脂類、セルロ−スおよびその誘導体、キチン、キト
サン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大豆タンパク質、ア
ルブミンなど。

【０１３７】これらバインダポリマと成りうるポリマは
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。

【０１３８】これらバインダポリマの中ではポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムなどが
好ましい。これらのバインダポリマの使用量は感光層が
画像再現性を有する範囲であれば基本的にはどのような
割合でもよい。

【０１３９】また、本発明の感光層には、光開始剤や光
増感剤、光増感助剤を添加することが好ましい。とりわ
け一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有する
重合性化合物あるいは一般式（ＩＩ）で示される構造を
少なくとも一つ有する非アミン系重合性化合物が感光層
中の重合可能成分の内の６０重量％を越えているか、感
光層全体の内の３０重量％を越えている場合には基本的
に光重合性感光層となるので、このような場合には光開
始剤や光増感剤、光増感助剤などの添加が必須となる。
具体的には、ベンゾインメチルエ−テル、ベンゾインイ
ソプロピルエ−テル、α，α−ジメトキシ−α−フェニ
ルアセトフェノンなどのベンゾイン誘導体、フルオレノ
ン類、キサントン類、Ｎ−メチルアクリドンやＮ−ブチ
ルアクリドンおよびこれらの誘導体のようなアクリドン
類、ベンゾフェノンや４，４´−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、４，４´−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンおよびこれらの誘導体のようなベン
ゾフェノン類、２−クロロチオキサントンや２−イソプ
ロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ンおよびこれらの誘導体のようなチオキサントン類など
が挙げられるが、これらに限定されず、これ以外のもの
でも光重合に関与できるものであればどのようなもので
もよい。

【０１４０】本発明の感光層には、必要に応じて染料や
顔料、ｐＨ指示薬、焼き出し剤、界面活性剤、重合禁止
剤、有機酸、無機酸、光酸発生剤などの各種添加剤を加
えることも可能である。これらの中で、例えば重合禁止
剤の具体例としては、ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノ−ル、ジ−ｔ−ブチルクレゾ−ル、ピロガロ−ル、ｔ
−ブチルカテコ−ル、ベンゾキノン、４，４´−チオビ
ス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、２，２
´−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ
−ル）、２−メルカプトベンゾイミダゾ−ル、フェノチ
アジン、テンポ−ルなどが挙げられるがこれらに限定さ
れず、これ以外のものでも重合禁止の効果、とりわけ暗
反応による重合禁止の効果を有するものであればどのよ
うなものでもよい。塩基性のアミノ基含有モノマが存在
しないので、有機酸、無機酸および光酸発生剤などは、
光重合反応の制御その他に必要な最小量だけ添加すれば
よい。また、後述のインキ反発層との接着に寄与するよ
うな公知の触媒、例えばジブチル錫ジアセテ−ト、ジブ
チル錫ジオクテ−ト、ジブチル錫ジラウレ−ト、テトラ
メトキシチタンなどの金属触媒やこれら以外の触媒を感
光層中に添加することも好ましい。

【０１４１】本発明においては、感光層の露光後の初期
弾性率が、５〜７５ｋｇｆ／ｍｍ2であり、好ましくは
１０〜６５ｋｇｆ／ｍｍ2 、より好ましくは１０〜６０
ｋｇｆ／ｍｍ2 、さらに好ましくは１０〜５０ｋｇｆ／
ｍｍ2 であることが重要である。露光後の初期弾性率
が、５ｋｇｆ／ｍｍ2 未満の場合は、感光層が脆くな
り、印刷時に感光層が破壊してしまう。７５ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 を越える場合は、感光層が硬くなり、オフセット印
刷を行った場合に感光層とシリコーンゴム層との間で繰
り返し応力がかかり、感光層とシリコーンゴム層間との
接着界面で破壊が起こり高耐刷性が得られない。

【０１４２】さらに、感光層の露光後の破断伸度は、１
００％以上であることが好ましい。より好ましくは、１
２０％以上、さらに好ましくは１５０％以上である。破
断伸度が１００％未満の場合には、感光層が脆くなり、
オフセット印刷を行った場合に感光層が破壊され、高耐
刷性が得られない。

【０１４３】さらに、感光層の露光後の５０％応力値
は、０．８〜３．８ｋｇｆ／ｍｍ2 であることが好まし
い。より好ましくは１．０〜３．２ｋｇｆ／ｍｍ2 、さ
らに好ましくは１．２〜２．６ｋｇｆ／ｍｍ2 である。
５０％応力値が０．８ｋｇｆ／ｍｍ2 未満の場合は、感
光層がべたつき、印刷時にヒッキーの原因となる。３．
８ｋｇｆ／ｍｍ2 を越える場合には、感光層の硬さに起
因する繰返し応力、すなわち、感光層とシリコーンゴム
層との間で繰返し応力がかかり、感光層とシリコーンゴ
ム層間との接着界面で破壊が起こり高耐刷性が得られな
い。

【０１４４】ここで、感光層の露光後の初期弾性率、破
断伸度、５０％応力値とは以下の方法により測定される
ものをいう。

【０１４５】［感光層の初期弾性率、破断伸度、５０％
応力値の測定方法］これらの感光層の引張特性は、ＪＩ
Ｓ Ｋ６３０１に従って測定することができる。すなわ
ち、未露光の水なし平版印刷版原版を可溶性溶剤に浸漬
し、シリコーンゴム層および感光層を基板から脱落溶解
させる。得られた溶液を濾過し、可溶性溶剤に不要のシ
リコーンゴム層を分離する。さらに該液を固形分３０％
に減圧濃縮し、感光液とする。該感光液をガラス板に塗
布し、乾燥した後ガラス板よりシートを剥がし、得られ
た約３００μｍの厚さのシートから４号ダンベルでテス
トピースを作製し、３ｋＷの超高圧水銀灯（オーク製作
所製）を用いＵＶメーター（オーク製作所ライトメジャ
ータイプＵＶ３６５）で１２ｍＷ／ｃｍ2 の照度で１０
分間露光し、テンシロン ＲＴＭ−１００（オリエンテ
ック（株）製）を用い引張速度２０ｃｍ／分で、ＪＩＳ
Ｋ６３０１に従って初期弾性率、破断伸度、５０％応
力値を測定する。

【０１４６】感光層中の各成分の配合割合については、
本発明の特徴であるインキ反発層との十分な接着、およ
び良好な画像再現性、高耐刷性を示すための初期弾性
率、破断伸度、５０％応力値を忠実に再現するため、バ
インダポリマを１００重量部に対して一般式（Ｉ）で示
される構造を少なくとも一つ有する重合性化合物あるい
は一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有す
る非アミン系重合性化合物を５０〜１００００重量部、
アミノ基含有モノマを５〜５０００重量部、これ以外の
モノマを０〜１００００重量部、光開始剤や光増感剤、
光増感助剤を０．２〜９０００重量部、染料や顔料、
酸、焼き出し剤などの各種添加剤をそれぞれ０〜１００
重量部加えることにより設けるのがよいが、これらに限
定されず、一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つ有する重合性化合物あるいは一般式（ＩＩ）で示され
る構造を少なくとも一つ有する非アミン系重合性化合物
が、感光層中の重合可能成分の内の６０重量％を越えて
いるか、感光層全体の内の３０重量％を越えているか、
あるいは感光層の露光後の初期弾性率が５〜７５ｋｇｆ
／ｍｍ2 、感光層の露光後の破断伸度が１００％以上、
感光層の露光後の５０％応力が０．８〜３．８ｋｇｆ／
ｍｍ2 であればどのような組成でもよい。感光層がこの
ような配合割合を有すると、上層のインキ反発層や下層
の支持体あるいはプライマ層と良好な接着性を示し、画
像再現性並びに耐刷性に優れたものとなり、保存安定性
にも優れたものとなる。

【０１４７】感光層の膜厚としては、０．１〜１００μ
ｍ、好ましくは０．２〜５０μｍ、より好ましくは０．
５〜３０μｍである。薄すぎると塗布時にピンホ−ルな
どの欠点が生じやすくなり、一方、厚すぎると経済的に
不利になる。

【０１４８】次に、本発明に用いられるインキ反発層に
ついて説明する。

【０１４９】インキ反発層としては、例えばシリコ−ン
ゴムを用いたもの、フッ素樹脂を用いたものが挙げられ
るが、これらに限定されず、水なし平版印刷版に使用可
能とされている公知のインキ反発層であれば何でもよ
い。これらの中では、材料供給の簡便さなどからシリコ
−ンゴムが好ましい。

【０１５０】インキ反発層としてシリコ−ンゴムを用い
る場合、シリコ−ンゴム層は、通常下記一般式（ＸＩ
Ｖ）のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。

【０１５１】

【化２２】 （式中、ｎは２以上の整数、Ｒ１２、Ｒ１３は炭素数１
〜５０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜
５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜
５０の置換あるいは非置換のアリ−ル基の群から選ばれ
る少なくとも一種であり、それぞれ同一でも異なってい
てもよい。Ｒ１２，Ｒ１３の全体の４０％以下がビニ
ル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニル
であり、全体の６０％以上がメチル基であるものが好ま
しい。）このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸
化物を添加して熱処理を施すことにより、さらに架橋し
たシリコ−ンゴムとすることもできる。

【０１５２】この線状有機ポリシロキサンには、通常以
下の一般式（ＸＶ）に示すような架橋剤を添加すること
により架橋させる。

【０１５３】 Ｒ１４m ＳｉＸ4-m （ＸＶ） （式中、ｍは０〜２の整数であり、Ｒ１４はアルキル
基、アルケニル基、アリ−ル基、またはこれらの組み合
わされた基を示し、それらはハロゲン原子、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリ−ルオキシ基、（メ
タ）アクリルオキシ基、チオ−ル基などの官能基を置換
基として有していてもよい。Ｘは水素原子、水酸基、ア
ルコキシ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド
基、アミノオキシ基、アミノ基、グリシジル基、メタク
リル基、アリル基、ビニル基などを有するアセトキシシ
ラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノ
シラン、アミドシランなどが挙げられるが、これらに限
定されない。） これらは通常線状有機ポリシロキサンとして末端が水酸
基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸型、脱オキシ
ム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱アミド型などの
シリコ−ンゴムとなる。

【０１５４】このような縮合型の架橋を行うシリコ−ン
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ（ＩＩ）オクトエ−ト、ナフテン酸塩、あるいは塩化
白金酸のような触媒、あるいはこれ以外に知られている
公知の触媒を添加してもよい。

【０１５５】また、ラジカル開始剤により、線状有機ポ
リシロキサンを硬化させてシリコ−ンゴムとすることも
可能である。この際、公知のラジカル開始剤を適当量加
えることは任意である。

【０１５６】また、ＳｉＨ基と−ＣＨ＝ＣＨ−基との付
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、１分子に２
個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分： （１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオル
ガノポリシロキサン （２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合２個有するオル
ガノポリシロキサン （３）付加触媒 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分（１）
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の基としては、置換もしくは非
置換のアルキル基、アリール基などが挙げられるがこれ
らに限定されない。成分（１）には水酸基を微量含有さ
せてもよい。成分（２）は成分（１）と反応してシリコ
ーンゴム層を形成するが、感光層に対する接着性の付与
の役割も果たす。成分（２）の水酸基は分子鎖末端、中
間のいずれにあっても良い。水素以外の有機基としては
成分（１）と同様のものから選ばれる。成分（１）と成
分（２）の有機基はインキ反発性向上の点で、総じて基
数の６０％以上がメチル基であることが好ましい。成分
（１）および成分（２）の分子構造は直鎖状、環状、分
岐状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量
が１，０００を越えることがゴム物性の面で好ましく、
更に成分（１）の分子量が１，０００を越えることが好
ましい。

【０１５７】成分（１）としては、α，ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の（メチルシロ
キサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが例示さ
れ、成分（２）としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の（メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示されるがこれらに限定されず、他のものでもよい。

【０１５８】成分（３）の付加触媒は公知のものの中か
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ（メチルビニル）シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素ー炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などの架橋抑制剤を適当量添加することも可能である。

【０１５９】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキ
サン）を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。

【０１６０】シリコ−ンゴム層の形成方法としては、上
記に述べた方法、あるいはそれ以外の方法が挙げられる
が、本発明の水酸基含有モノマとの接着反応を最大限有
効に生かすためには、縮合型の架橋を行うシリコ−ンゴ
ムで形成されたものが好ましい。縮合型の架橋を行うシ
リコ−ンゴムを用いると、シリコ−ンゴム中の架橋剤の
一部が水酸基含有モノマと接着反応を起こし、この接着
反応を起こしたモノマが光反応することにより、シリコ
−ンゴム層と感光層が強固に接着する。

【０１６１】シリコ−ンゴム層の厚さは約０．５〜１０
０μｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコ−ンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。

【０１６２】シリコ−ンゴム層中の各成分の配合割合に
ついては特に限定されないが、縮合型の架橋を行うシリ
コ−ンゴム層の場合には、線状有機ポリシロキサンを１
００重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物を０．１〜１００重量部、必要に応
じて公知の触媒を０〜５０重量部加えた組成で設けるの
がよい。付加型シリコーンゴム層の場合には、１分子中
にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくは
ビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキ
サンを１００重量部、１分子中に少なくともＳｉＨ結合
２個有するオルガノポリシロキサンを０．１〜１００重
量部、必要に応じて付加触媒を０〜５０重量部加えた組
成で設けるのがよい。

【０１６３】インキ反発層としてフッ素樹脂を用いる場
合、フッ素樹脂としては例えば以下のようなものが挙げ
られるが、これらに限定されない。

【０１６４】（１）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トとヒドロキシ基を有するアクリルモノマ、例えば２−
ヒドロキシエチルメタクリレ−トとの共重合樹脂。

【０１６５】（２）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トとグリシジルメタクリレ−トとの共重合樹脂。

【０１６６】（３）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トとメタクリル酸との共重合樹脂。

【０１６７】（４）パ−フルオロアルキルメタクリレ−
トと無水マレイン酸との共重合樹脂。このようなフッ素
樹脂が、活性水素官能基と活性水素と反応しうる官能基
の両方を有する場合、あるいは活性水素官能基を有する
フッ素樹脂と活性水素と反応しうる官能基を有するフッ
素樹脂を混合して用いる場合には、架橋剤を使用しても
よい。

【０１６８】フッ素樹脂層の厚さは約０．５〜１００μ
ｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、薄す
ぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を生じ
ることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利である
ばかりでなく、現像時フッ素樹脂層を除去しにくくな
り、画像再現性の低下をもたらす。

【０１６９】フッ素樹脂層中の各成分の配合割合につい
ては特に限定されないが、上記のフッ素樹脂が全体の６
０〜１００重量％になるようにするのが好ましく、より
好ましくは全体の８０〜９８重量％になるようにするの
がよい。

【０１７０】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフイルムの真空密着性を改善す
るために、インキ反発層の表面にプレ−ンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラス
チックシ−ト状物を塗布または転写して保護層とするこ
ともできる。保護フイルム、保護層は露光工程において
有用であるが、現像工程においては、剥離または溶解に
よって除去され、印刷工程においては不必要なものであ
る。

【０１７１】有用な保護フィルムは紫外線透過性を有
し、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコーテイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。

【０１７２】本発明で用いられる水なし平版印刷版は、
例えば次のようにして製造される。まず必要に応じて各
種粗面化処理をした支持体の上に、リバ−スロ−ルコ−
タ、エアナイフコ−タ、メ−ヤバ−コ−タなどの通常の
コ−タ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用い感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要に応
じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述したよう
に支持体と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設け
た後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着層
を塗布、乾燥後、インキ反発層を形成しうる溶液を感光
層上または接着層上に同様の方法で塗布し、通常６０〜
１３０℃の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せし
めてインキ反発層を形成する。必要ならば、保護層をさ
らに塗布するか保護フィルムを該インキ反発層上にラミ
ネ−タなどを用いてカバ−する。このようにして製造さ
れた水なし平版印刷版は、例えば、光透過性保護フィル
ムの場合はそのまま、あるいは剥いで、光透過性の劣る
フィルムの場合は剥いでから真空密着されたネガフィル
ムを通して活性光線で露光される。この露光工程で用い
られる光源は、紫外線を豊富に発生するものであり、水
銀灯、カ−ボンア−ク灯、キセノンランプ、メタルハラ
イドランプ、タングステンランプ、蛍光灯等を使うこと
ができる。

【０１７３】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のインキ反発層、あるいは場合によってはその下の感光
層が除去され、感光層あるいはプライマ層表面が露出し
インキ受容部となる。

【０１７４】本発明において用いられる現像液として
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパー”Ｅ，Ｇ，Ｈ（エッソ化学（株）製）ある
いはガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエ
ン、キシレンなど）あるいはハロゲン化炭化水素類（ト
リクレンなど）に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好ましいがこれ
らに限定されない。

【０１７５】アルコ−ル類（メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、２ーメトキシエタノール、カ
ルビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール等） エ−テル類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビト
−ル、ブチルカルビト−ル、ジオキサン等） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、４ーメチル
ー１，３−ジオキソランー２ーオン等） エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテ−ト、メチル
セロソルブアセテート、カルビト−ルアセテ−ト、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート等） その他（トリエチルフォスフェート等） 上記現像液にアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活性剤等種々
の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加したものも使
用する事が出来る。アルカリ剤としては、例えば炭酸ナ
トリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アルカリ剤、あ
るいはモノ、ジ、またはトリエタノールアミン、モノ、
ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、またはトリエ
チルアミン、モノ、またはジイソプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプロパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の有機ア
ミン化合物等が挙げられる。また、クリスタルバイオレ
ット、アストラゾンレッドなどの染料や発色剤等を現像
液に加えて現像と同時に画線部の染色あるいは発色を行
うことも出来る。あるいは現像後の版を染色液に浸漬す
ることにより後処理として染色する事もできる。

【０１７６】現像方法としては、手による現像でも公知
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、及び後処理部がこの順に設けられている現像
装置を用いるのが良い。現像装置の具体例としては、東
レ（株）製のＴＷＬ−１１６０、ＴＷＬ−６５０などの
現像装置、あるいは特開平４−２２６５号や特開平５−
２２７２号、特開平５−６０００号などに開示されてい
る現像装置を挙げることができる。また、これらの現像
装置を適当に組み合わせて使用することもできる。

【０１７７】

【実施例】以下に実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。

【０１７８】合成例１ グリセリン３０．０ｇ、エピクロロヒドリン９２．０
ｇ，水酸化ナトリウム４０．０ｇ、水２００．０ｇとを
混合し、メタニカルスタ−ラ−で攪拌しながら、突沸に
注意して加熱還流温度で１４時間反応させた。反応後、
減圧乾燥により水を除去すると、生成物である粘性液体
と塩化ナトリウムが析出した。減圧濾過により、塩化ナ
トリウムを除去し、多官能エポキシ化合物を得た。

【０１７９】この多官能エポキシ化合物９０．０ｇにア
クリル酸７９．５ｇ、トリエチルベンジルアンモニウム
クロリド２．３ｇ、ジオキサン２００ｍｌを混合し、メ
カニカルスタ−ラ−で攪拌しながら７０℃で６時間反応
させた。反応後、水６００ｍｌとジエチルエ−テル６０
０ｍｌとを加えて分液を行った。有機層を硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。減圧濾過にて硫酸ナトリウムを除去した
後、減圧乾燥にてジエチルエ−テルおよびジオキサンを
除去し、目的とする、一般式（Ｉ）で示される構造を有
し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物を得
た。（この化合物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を
有し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物で
もある。） 合成例２ 合成例１において、アクリル酸７９．５ｇをメタクリル
酸９４．５ｇに変更する以外は全て合成例１と同様の反
応を行い、一般式（Ｉ）で示される構造を有し、かつア
ミノ基構造を有しない重合可能な化合物を得た。（この
化合物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を有し、かつ
アミノ基構造を有しない重合可能な化合物でもある。） 合成例３ 合成例１において、グリセリン３０．０ｇをトリメチロ
−ルプロパン４６．０ｇに変更する以外は全て合成例１
と同様の反応を行い、一般式（Ｉ）で示される構造を有
し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物を得
た。（この化合物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を
有し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物で
もある。） 合成例４ 合成例２において、グリセリン３０．０ｇをトリメチロ
−ルプロパン４６．０ｇに変更する以外は全て合成例２
と同様の反応を行い、一般式（Ｉ）で示される構造を有
し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物を得
た。（この化合物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を
有し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物で
もある。） 合成例５ ヒドロキノン５１．０ｇ、エピクロロヒドリン９２．０
ｇ，水酸化ナトリウム４０．０ｇ、水２００．０ｇとを
混合し、メタニカルスタ−ラ−で攪拌しながら、突沸に
注意して加熱還流温度で１４時間反応させた。反応後、
クロロホルム６００ｍｌを加えて分液を行った。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濾過にて硫酸ナトリ
ウムを除去した後、減圧乾燥にてクロロホルムを除去
し、多官能エポキシ化合物を得た。

【０１８０】この多官能エポキシ化合物９０．０ｇにア
クリル酸７６．０ｇ、トリエチルベンジルアンモニウム
クロリド２．０ｇ、ジオキサン２００ｍｌを混合し、メ
カニカルスタ−ラ−で攪拌しながら７０℃で６時間反応
させた。反応後、水６００ｍｌとジエチルエ−テル６０
０ｍｌとを加えて分液を行った。有機層を硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。減圧濾過にて硫酸ナトリウムを除去した
後、減圧乾燥にてジエチルエ−テルおよびジオキサンを
除去し、目的とする、一般式（Ｉ）で示される構造を有
し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物を得
た。（この化合物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を
有し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物で
もある。） 合成例６ 合成例５において、アクリル酸７６．０ｇを９１．５ｇ
に変更する以外は全て合成例５と同様の反応を行い、一
般式（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を
有しない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一
般式（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造
を有しない重合可能な化合物でもある。 ）合成例７ 合成例５において、ヒドロキノン５１．０ｇをフェノ−
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製
“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）１００ｇに変更
する以外は全て合成例５と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例８ 合成例６において、ヒドロキノン５１．０ｇをフェノ−
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製
“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２）１００ｇに変更
する以外は全て合成例６と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例９ マレイン酸３５．０ｇ、ビニルグリシジルエ−テル８
５．０ｇ、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド
２．０ｇ、ジオキサン２００ｍｌを混合し、メカニカル
スタ−ラ−で攪拌しながら７０℃で６時間反応させた。
反応後、水６００ｍｌとジエチルエ−テル６００ｍｌと
を加えて分液を行った。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧濾過にて硫酸ナトリウムを除去した後、減圧
乾燥にてジエチルエ−テルおよびジオキサンを除去し、
目的とする、一般式（Ｉ）で示される構造を有し、かつ
アミノ基構造を有しない重合可能な化合物を得た。（こ
の化合物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を有し、か
つアミノ基構造を有しない重合可能な化合物でもあ
る。） 合成例１０ 合成例９において、マレイン酸３５．０ｇをアジピン酸
４４．０ｇに変更する以外は全て合成例９と同様の反応
を行い、一般式（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミ
ノ基構造を有しない重合可能な化合物を得た。（この化
合物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を有し、かつア
ミノ基構造を有しない重合可能な化合物でもある。） 合成例１１ 合成例９において、マレイン酸３５．０ｇをフタル酸５
０．０ｇに変更する以外は全て合成例９と同様の反応を
行い、一般式（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ
基構造を有しない重合可能な化合物を得た。（この化合
物は、一般式（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミ
ノ基構造を有しない重合可能な化合物でもある。） 合成例１２ 合成例９において、ビニルグリシジルエ−テル８５．０
ｇをアリルグリシジルエ−テル１１５．０ｇに変更する
以外は全て合成例９と同様の反応を行い、一般式（Ｉ）
で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有しない重
合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有しな
い重合可能な化合物でもある。） 合成例１３ 合成例１０において、ビニルグリシジルエ−テル８５．
０ｇをアリルグリシジルエ−テル１１５．０ｇに変更す
る以外は全て合成例１０と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例１４ 合成例１１において、ビニルグリシジルエ−テル８５．
０ｇをアリルグリシジルエ−テル１１５．０ｇに変更す
る以外は全て合成例１１と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例１５ 合成例９において、ビニルグリシジルエ−テル８５．０
ｇをグリシジルアクリレ−ト１２９．０ｇに変更する以
外は全て合成例９と同様の反応を行い、一般式（Ｉ）で
示される構造を有し、かつアミノ基構造を有しない重合
可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式（ＩＩ）
で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有しない重
合可能な化合物でもある。） 合成例１６ 合成例１０において、ビニルグリシジルエ−テル８５．
０ｇをグリシジルアクリレ−ト１２９．０ｇに変更する
以外は全て合成例１０と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例１７ 合成例１１において、ビニルグリシジルエ−テル８５．
０ｇをグリシジルアクリレ−ト１２９．０ｇに変更する
以外は全て合成例１１と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例１８ 合成例９において、ビニルグリシジルエ−テル８５．０
ｇをグリシジルメタクリレ−ト１４３．０ｇに変更する
以外は全て合成例９と同様の反応を行い、一般式（Ｉ）
で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有しない重
合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有しな
い重合可能な化合物でもある。） 合成例１９ 合成例１０において、ビニルグリシジルエ−テル８５．
０ｇをグリシジルメタクリレ−ト１４３．０ｇに変更す
る以外は全て合成例１０と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例２０ 合成例１１において、ビニルグリシジルエ−テル８５．
０ｇをグリシジルメタクリレ−ト１４３．０ｇに変更す
る以外は全て合成例１１と同様の反応を行い、一般式
（Ｉ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有し
ない重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない重合可能な化合物でもある。） 合成例２１ 合成例１で合成した化合物３０．０ｇと（メルカプトメ
チル）メチルジエトキシシラン１１．４ｇとを室温で８
時間反応させ、一般式（Ｉ）で示される構造を有し、か
つアミノ基構造を有しておらず、反応性シリル基を有す
る重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない化合物でもある。） 合成例２２ 合成例３で合成した化合物３０．０ｇと３−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン１０．４ｇとを室温で
８時間反応させ、一般式（Ｉ）で示される構造を有し、
かつアミノ基構造を有しておらず、反応性シリル基を有
する重合可能な化合物を得た。（この化合物は、一般式
（ＩＩ）で示される構造を有し、かつアミノ基構造を有
しない化合物でもある。） 合成例１〜２２で合成した化合物の化学式を以下に示
す。

【０１８１】

【化２３】

【化２４】

【化２５】

【化２６】

【化２７】

【化２８】

【化２９】

【化３０】

【化３１】

【化３２】

【化３３】

【化３４】

【化３５】

【化３６】

【化３７】

【化３８】

【化３９】

【化４０】

【化４１】

【化４２】

【化４３】

【化４４】 実施例１ 厚さ０．３０ｍｍのアルミ板（住友軽金属（株）製）を
３％水酸化ナトリウム水溶液に浸して脱脂し、水洗、乾
燥して支持体を得た。

【０１８２】こうして得られた支持体の上に、下記のプ
ライマ組成物を塗布し、２００℃、２分間熱処理して５
μｍのプライマ層を設けた。

【０１８３】 （ａ）ポリウレタン樹脂“ミラクトン”Ｐ２２Ｓ ７５重量部 （日本ポリウレタン（株）製） （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）ブッロクイソシアネ−ト“タケテ−ト”Ｂ８３０ １５重量部 （武田薬品工業（株）製） （ｃ）エポキシ・フェノ−ル・尿素樹脂“ＳＪ９３７２” １０重量部 （関西ペイント（株）製） （ｄ）酸化チタン １０重量部 （ｅ）ジメチルホルムアミド ７９０重量部 次いで、上記プライマ層上に下記の組成物よりなる感光
液を塗布し、１１５℃、１分間熱乾燥して２μｍの感光
層を設けた。

【０１８４】 （ａ）アジピン酸／１，６−ヘキサンジオ−ル／ネオペンチル ４０重量部 グリコ−ルよりなるポリエステルジオ−ルとイソホロン ジイソシアネ−トよりなるポリウレタン （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）合成例１で合成した化合物 ３５重量部 （ｃ）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ １５重量部 ート３モル、メチルグリシジルエーテル１モルを付加した 化合物 （ｄ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｅ）２−クロロチオキサントン １．５重量部 （ｆ）２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン ４重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨベンゼンスルホン酸塩 ０．５重量部 （ｈ）プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル ９００重量部 次いで、上記感光層上に下記の組成物よりなるシリコ−
ンゴム組成物を乾燥窒素気流下で塗布し、１１５℃、３
分間加熱硬化して２μｍのシリコ−ンゴム層を設けた。

【０１８５】 （ａ）両末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン ９０重量部 （分子量４００００） （ｂ）エチルトリアセトキシシラン ９．９重量部 （ｃ）ジブチル錫ジラウレ−ト ０．１重量部 （ｄ）“アイソパ−”Ｅ（エクソン化学（株）製） ９００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ１２μｍの片
面マット化ポリエステルフィルム“ルミラ−”（東レ
（株）製）をマット化されていない面がシリコ−ンゴム
層と接するようにしてカレンダロ−ラを用いてラミネ−
トして保護層とし、光重合型水なし平版印刷版原版を得
た。

【０１８６】画像評価は２００線／インチ１〜９９％の
網点を有するポジフィルムと光学濃度差０．１５である
グレ−スケ−ル（Ｇ／Ｓ）、およびモデルごみ（繊維
屑、フィルム屑など）、モデルフィルムエッジを張込み
用のポリエステルフィルム上に張込み、ヌア−ク社製
ＦＴ２６１Ｖ ＵＮＤＳ ＵＬＴＲＡ−ＰＬＵＳ ＦＩ
ＩＰＴＯＰ ＰＬＡＴＥＭＡＫＥＲ真空露光機を用い
て、３０秒間真空密着したのち、３０カウント露光し、
ラミネ−トフィルム剥離した。

【０１８７】その後、自動現像装置ＴＷＬ１１６０（東
レ（株）製）を用い、液温度４０℃の前処理液ＰＰ−Ｆ
（東レ（株）製）を用い、現像液には純水を用い、染色
液には以下の組成を有する液を用いて現像を行い、水な
し平版印刷版を得た。

【０１８８】 （ａ）エチルカルビト−ル １８重量部 （ｂ）水 ７９．９重量部 （ｃ）クリスタルバイオレット ０．１重量部 （ｄ）２−エチルヘキサン酸 ２重量部 現像の結果は表１に示す通りであり、良好な画像再現性
を示していた。

【０１８９】また、耐刷性を調べるため、得られた印刷
版を商業オフ輪印刷機（ＬＩＴＨＯＰＩＡ三菱重工
（株）製）に取り付け、大日本インキ化学工業（株）
製”ドライオカラー”墨、藍、紅、黄インキを用い、８
００ｒ．ｐ．ｍのスピードで上質紙に印刷を行った。結
果は表２に示す通りであり、、２８０，０００枚印刷後
も良好な印刷物が得られ、印刷終了後の印刷版を検査し
たが印刷版の損傷は軽微であった。

【０１９０】耐刷テストに用いた上記平版印刷版原版を
前記に示した方法で感光層の初期弾性率、破断伸度、５
０％応力値を測定した。結果は表２に示す通りであり、
初期弾性率は３９ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度は２００
％、５０％応力は２．６ｋｇｆ／ｍｍ2 であった。

【０１９１】実施例２ 厚さ０．２４ｍｍのアルミ板（住友軽金属（株）製）の
表面に砂目形状を設け、支持体を得た。

【０１９２】こうして得られた支持体の上に、下記のプ
ライマ組成物を塗布し、２００℃、２分間熱処理して５
μｍのプライマ層を設けた。

【０１９３】 （ａ）２−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、メタクリル酸 １００重量部 ドデシルのモル比４０／６０の共重合樹脂 （分子量４００００） （ｂ）γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン ５重量部 （東芝シリコ−ン（株）製） （ｃ）酸化亜鉛（堺化学（株）製微細亜鉛華） ５５重量部 （ｄ）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ４０２” １０重量部 （大日本インキ化学（株）製黄色顔料） （ｅ）乳酸メチル ６５０重量部 （ｆ）シクロヘキサノン ８０重量部 次いで、上記プライマ層上に下記の組成物よりなる感光
液を塗布し、１１５℃、１分間熱乾燥して２μｍの感光
層を設けた。

【０１９４】 （ａ）アジピン酸／１，６−ヘキサンジオ−ル／ネオペンチル ５０重量部 グリコ−ルよりなるポリエステルジオ−ルとイソホロン ジイソシアネ−トよりなるポリウレタン （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）合成例２で合成した化合物 ３８重量部 （ｃ）トリオキシプロピレンジアミン１モルにアクリル酸クロ １０重量部 リド２モル、酢酸クロリド１モル、グリシジルメタクリ レート１モルを付加した化合物 （ｄ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｅ）２，４−ジエチルチオキサントン ３重量部 （ｆ）Ｎ−エチルアクリドン ７重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨベンゼンスルホン酸塩 ３重量部 （ｈ）テトラヒドロフラン ６４０重量部 （ｉ）ジオキサン ２００重量部 次いで、上記感光層上に下記の組成物よりなるシリコ−
ンゴム組成物を乾燥窒素気流下で塗布し、１１５℃、３
分間加熱硬化して２μｍのシリコ−ンゴム層を設けた。

【０１９５】 （ａ）両末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン １００重量部 （分子量５００００） （ｂ） (CH3 ) 3 SiO(Si(CH 3 ) 2 O)30-(SiH(CH3 )O) 10Si(CH 3 ) 3 ９．８重量部 （ｃ）塩化白金酸／メチルビニルサイクリック錯体 ０．１重量部 （ｄ）アセチルアセトンアルコ−ル ０．１重量部 （ｅ）ポリジメチルシロキサン（分子量約１０００００） １０重量部 （ｆ）“アイソパ−”Ｅ（エクソン化学（株）製） ８８０重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍの片面
マット化ポリプロピレンフィルム“トレファン”（東レ
（株）製）をマット化されていない面がシリコ−ンゴム
層と接するようにしてカレンダロ−ラを用いてラミネ−
トして保護層とし、光重合型水なし平版印刷版を得た。

【０１９６】画像評価は実施例１と同様に行った。現像
の結果を表１に示す。また、耐刷性および初期弾性率、
破断伸度、５０％応力についても実施例１と同様に調べ
た。結果を表２に示す。

【０１９７】実施例３ 実施例１において、プライマ組成物を下記のように変更
し、感光層中の合成例１で合成した化合物を合成例３で
合成した化合物に変更する以外は全て実施例１と同様に
して水なし平版印刷版原版を得た。画像評価も実施例１
と同様に行った。現像の結果を表１に示す。また、耐刷
性および初期弾性率、破断伸度、５０％応力についても
実施例１と同様に調べた。結果を表２に示す。

【０１９８】 （ａ）サンプレンＩＢ １７００Ｄ（末端水酸基含有熱可塑性 １００重量部 ポリウレタン樹脂、メチルエチルケトン３０％溶液 （三洋化成（株）製） （ｂ）タケテ−トＤ１００Ｎ（多官能イソシアネ−ト化合物、 ５０重量部 酢酸エチル７５％溶液） （ｃ）酸化チタン １０重量部 （ｄ）ＭＣＦ３２３（フッ素系ノニオン界面活性剤、メチル ３重量部 イソブチルケトン３０％溶液） （大日本インキ化学工業（株）製） （ｅ）プロピレングリコ−ルメチルエ−テルアセテ−ト ５０重量部 （ｆ）乳酸メチル ２０重量部 実施例４ 実施例２において、感光液組成を下記のように変更する
以外は全て実施例２と同様にして水なし平版印刷版原版
を得た。画像評価も実施例２と同様に行った。現像の結
果を表１に示す。また、耐刷性および初期弾性率、破断
伸度、５０％応力についても実施例２と同様に調べた。
結果を表２に示す。

【０１９９】 （ａ）クリスボン４０１０ＨＶ（大日本インキ化学工業 １４５重量部 （株）製熱硬化性ポリウレタン樹脂：５０％溶液） （ｂ）合成例４で合成した化合物 １３５重量部 （ｃ）エチレンジアミン１モルにメタクリル酸１モル、グリ ６５重量部 シジルメタクリレート１モル、ブチルグリシジルエー テル１モル、酢酸クロリド１モルを付加した化合物 （ｄ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン １５重量部 （ｅ）２，４−ジエチルチオキサントン １５重量部 （ｆ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨのナフタレンスルホン酸塩 １重量部 （ｇ）ＭＣＦ３２３（フッ素系ノニオン界面活性剤、メチル ３重量部 イソブチルケトン３０％溶液） （大日本インキ化学工業（株）製） （ｈ）メチルエチルケトン １００重量部 （ｉ）プロピレングリコ−ルメチルエ−テル ２００重量部 実施例５ 実施例３において、感光液組成を下記のように変更する
以外は全て実施例３と同様にして水なし平版印刷版原版
を得た。画像評価も実施例３と同様に行った。現像の結
果を表１に示す。また、耐刷性および初期弾性率、破断
伸度、５０％応力についても実施例２と同様に調べた。
結果を表２に示す。

【０２００】 （ａ）サンプレン”Ｃ−８００Ｂ−４０” ９５重量部 （三洋化成（株）製ポリウレタン樹脂） （ガラス転移点Ｔｇ：−３５℃） （ｂ）合成例５で合成した化合物 ７５重量部 （ｃ）ヘキサメチレンジアミン１モルにビニルグリシジルエ ２５重量部 ーテル１モル、プロピオン酸クロリド１モル、グリシ ジルメタクリレート２モルを付加した化合物 （ｄ）４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ５重量部 （ｅ）Ｎ−ブチルアクリドン ５重量部 （ｆ）２，４−ジエチルチオキサントン １重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨのナフタレンスルホン酸塩 ３重量部 （ｈ）ＭＣＦ３２３（フッ素系ノニオン界面活性剤、メチルイソ １重量部 ブチルケトン３０％溶液） （大日本インキ化学工業（株）製） （ｉ）メチルエチルケトン ９０重量部 （ｊ）プロピレングリコールメチルエーテル ５００重量部 実施例６ 実施例１において、感光液組成を下記のように変更する
以外は全て実施例１と同様にして水なし平版印刷版原版
を得た。画像評価も実施例１と同様に行った。現像の結
果を表１に示す。また、耐刷性および初期弾性率、破断
伸度、５０％応力についても実施例２と同様に調べた。
結果を表２に示す。

【０２０１】 （ａ）未加硫ゴム”Ｎｉｐｏｌ”ＬＸ１１０ １００重量部 （日本ゼオン（株）製ＳＢＲラテックス、固形分濃度 ４０．５％） （ガラス転移点Ｔｇ：−６０℃） （ｂ）合成例６で合成した化合物 ６０重量部 （ｃ）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ １５重量部 ート４モルを付加した化合物 （ｄ）４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｅ）２，４−ジエチルチオキサントン ４重量部 （ｆ）２−クロロ−Ｎ−メチルアクリドン ４重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨトルエンスルホン酸塩 ３重量部 （ｈ）プロピレングリコールモノメチルエーテル ７４０重量部 実施例７〜１３ 実施例１において、感光層中の合成例１で合成した化合
物を表１に示す化合物に変更する以外は全て実施例１と
同様にして水なし平版印刷版原版を得た。画像評価も実
施例１と同様に行った。現像の結果を表１に示す。ま
た、耐刷性および初期弾性率、破断伸度、５０％応力に
ついても実施例１と同様に調べた。結果を表２に示す。

【０２０２】実施例１４〜２２ 実施例２において、感光層中の合成例２で合成した化合
物を表１に示す化合物に変更する以外は全て実施例２と
同様にして水なし平版印刷版原版を得た。画像評価も実
施例２と同様に行った。現像の結果を表１に示す。ま
た、耐刷性および初期弾性率、破断伸度、５０％応力に
ついても実施例２と同様に調べた。結果を表２に示す。

【０２０３】実施例２３ 実施例１において、感光液組成を下記のように変更する
以外は全て実施例１と同様にして水なし平版印刷版原版
を得た。画像評価も実施例１と同様に行った。現像の結
果を表１に示す。また、耐刷性および初期弾性率、破断
伸度、５０％応力についても実施例１と同様に調べた。
結果を表２に示す。

【０２０４】 （ａ）アジピン酸／１，６−ヘキサンジオ−ル／ネオペンチル ４０重量部 グリコ−ルよりなるポリエステルジオ−ルとイソホロン ジイソシアネ−トよりなるポリウレタン （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）合成例１で合成した化合物 ３５重量部 （ｃ）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ １２重量部 ート３モル、メチルグリシジルエーテル１モルを付加し た化合物 （ｄ）メタクリロキシプロペニルトリメトキシシラン ３重量部 （ｅ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｆ）２−クロロチオキサントン １．５重量部 （ｇ）２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン ４重量部 （ｈ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨベンゼンスルホン酸塩 ０．５重量部 （ｉ）プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル ９００重量部 実施例２４ 実施例１において、感光液組成を下記のように変更する
以外は全て実施例１と同様にして水なし平版印刷版原版
を得た。画像評価も実施例１と同様に行った。現像の結
果を表１に示す。また、耐刷性および初期弾性率、破断
伸度、５０％応力についても実施例１と同様に調べた。
結果を表２に示す。

【０２０５】 （ａ）アジピン酸／１，６−ヘキサンジオ−ル／ネオペンチル ４０重量部 グリコ−ルよりなるポリエステルジオ−ルとイソホロン ジイソシアネ−トよりなるポリウレタン （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）合成例１で合成した化合物 ３５重量部 （ｃ）１，６−ヘキサンジアミン１モルにグリシジルメタクリ １５重量部 レート３モル、メチルグリシジルエーテル１モルを付加 した化合物 （ｄ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｅ）２−クロロチオキサントン １．５重量部 （ｆ）２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン ４重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨベンゼンスルホン酸塩 ０．５重量部 （ｈ）プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル ９００重量部 実施例２５ 実施例１において、感光液組成を下記のように変更する
以外は全て実施例１と同様にして水なし平版印刷版原版
を得た。画像評価も実施例１と同様に行った。現像の結
果を表１に示す。また、耐刷性および初期弾性率、破断
伸度、５０％応力についても実施例１と同様に調べた。
結果を表２に示す。

【０２０６】 （ａ）アジピン酸／１，６−ヘキサンジオ−ル／ネオペンチル ４０重量部 グリコ−ルよりなるポリエステルジオ−ルとイソホロン ジイソシアネ−トよりなるポリウレタン （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）合成例１で合成した化合物 ３５重量部 （ｃ）テトラオキシエチレンジアミン１モルにグリシジルメタ １５重量部 クリレート３モル、メチルグリシジルエーテル１モルを 付加した化合物 （ｄ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｅ）２−クロロチオキサントン １．５重量部 （ｆ）２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン ４重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨベンゼンスルホン酸塩 ０．５重量部 （ｈ）プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル ９００重量部 比較例１ 実施例１において、感光液の組成を下記のように変更す
る以外は全て実施例１と同様にして水なし平版印刷版原
版を得た。画像評価も実施例１と同様に行った。現像の
結果は表１に示す通りであり、画像再現性は極めて悪か
った。また、耐刷性および初期弾性率、破断伸度、５０
％応力についても実施例１と同様に調べた。結果を表２
に示す。耐刷性は実施例１〜２３に比べて劣っていた。

【０２０７】 （ａ）アジピン酸／１，６−ヘキサンジオ−ル／ネオペンチル ４０重量部 グリコ−ルよりなるポリエステルジオ−ルとイソホロン ジイソシアネ−トよりなるポリウレタン （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）ヘキサメチレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ ３５重量部 ート４モルを付加したアミノ基含有の重合可能化合物 （ｃ）１，９−ノナンジオ−ルの両末端の水酸基にアクリル酸 １５重量部 を反応させたもの （ｄ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｅ）２−クロロチオキサントン １．５重量部 （ｆ）２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン ４重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨベンゼンスルホン酸塩 ０．５重量部 （ｈ）プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル ９００重量部 比較例２ 実施例２において、感光液の組成を下記のように変更す
る以外は全て実施例２と同様にして水なし平版印刷版原
版を得た。画像評価も実施例２と同様に行った。現像の
結果は表１に示す通りであり、画像再現性は極めて悪か
った。また、耐刷性および初期弾性率、破断伸度、５０
％応力についても実施例２と同様に調べた。結果を表２
に示す。耐刷性は悪く、初期弾性率、破断伸度、５０％
応力も満足な値を得られなかった。

【０２０８】 （ａ）アジピン酸／１，６−ヘキサンジオ−ル／ネオペンチル ５０重量部 グリコ−ルよりなるポリエステルジオ−ルとイソホロン ジイソシアネ−トよりなるポリウレタン （ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） （ｂ）メタキシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ ３３重量部 ート４モルを付加したアミノ基含有の重合可能化合物 （ｃ）トリメチロ−ルプロパンジアクリレ−ト １０重量部 （ｄ）４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （ｅ）２，４−ジエチルチオキサントン ３重量部 （ｆ）Ｎ−エチルアクリドン ７重量部 （ｇ）ビクトリアピュアブル−ＢＯＨベンゼンスルホン酸塩 ３重量部 （ｈ）テトラヒドロフラン ６４０重量部 （ｉ）ジオキサン ２００重量部

【表１】

【表２】

【０２０９】

【発明の効果】本発明の水なし平版印刷版原版は、感光
層中に特定の構造を有する重合可能な化合物を一定量以
上含有しており、上層のインキ反発層との接着、および
下層の支持体あるいはプライマ層との接着が良好であ
り、保存安定性も良好で、画像再現性と耐刷性の両方に
優れている。

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に感光層およびインキ反発層をこ
   の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
   感光層が以下の（Ａ）および（Ｂ）成分を必須成分とし
   て含有し、該感光層の露光後の初期弾性率が５〜７５ｋ
   ｇｆ／ｍｍ2 であることを特徴とする水なし平版印刷版
   原版。 （Ａ） 下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも
   一つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物 【化１】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
   ００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
   基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
   ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
   いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
   数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
   −ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
   Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
   換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
   基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
   ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
   のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
   ０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
   基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
   びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
   しており、０または１であり、同一でも異なっていても
   よい。）（Ｂ）アミノ基含有モノマ
2. 【請求項２】感光層の露光後の破断伸度が１００％以上
   であることを特徴とする請求項１記載の水なし平版印刷
   版原版。
3. 【請求項３】感光層の露光後の５０％応力が０．８〜
   ３．８ｋｇｆ／ｍｍ2 であることを特徴とする請求項１
   または２記載の水なし平版印刷版原版。
4. 【請求項４】支持体上に感光層およびインキ反発層をこ
   の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
   感光層が以下の（Ａ）および（Ｂ）成分を必須成分とし
   て含有し、（Ａ）成分が感光層中の重合可能成分の内の
   ６０重量％を越えていることを特徴とする水なし平版印
   刷版原版。 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
   つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物 【化２】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
   ００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
   基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
   ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
   いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
   数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
   −ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
   Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
   換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
   基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
   ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
   のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
   ０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
   基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
   びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
   しており、０または１であり、同一でも異なっていても
   よい。） （Ｂ）アミノ基含有モノマ
5. 【請求項５】支持体上に感光層およびインキ反発層をこ
   の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
   感光層が以下の（Ａ）および（Ｂ）成分を必須成分とし
   て含有し、（Ａ）成分が感光層全体の内の３０重量％を
   越えていることを特徴とする水なし平版印刷版原版。 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
   つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物 【化３】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１
   ００の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
   基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
   ミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換ある
   いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
   数４〜１００の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ
   −ルオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
   Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１００の置
   換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
   基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
   ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換あるいは非置換
   のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
   ０の置換あるいは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
   基、の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ１およ
   びＬ２は連結基である。ａおよびｂは連結基の有無を示
   しており、０または１であり、同一でも異なっていても
   よい。） （Ｂ）アミノ基含有モノマ
6. 【請求項６】該重合可能な化合物が、感光層全体の内の
   ３０重量％を越えていることを特徴とする請求項４記載
   の水なし平版印刷版原版。
7. 【請求項７】該重合可能な化合物が、下記一般式（Ｉ
   Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有しかつアミノ基
   構造を有しない重合可能な化合物であることを特徴とす
   る請求項１〜６のいずれかに記載の水なし平版印刷版原
   版。 【化４】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｌ２およびｂは一般式（Ｉ）と同
   じである。Ｌ３は連結基であり、エステル結合、アミド
   結合、ウレタン結合、ウレア結合、カ−ボネ−ト結合、
   エ−テル結合、チオエ−テル結合、置換あるいは非置換
   のホウ素原子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あ
   るいは非置換のリン原子、置換あるいは非置換のケイ素
   原子の群から選ばれる少なくとも一種である。Ｌ４は連
   結基である。ｃは連結基の有無を示しており、０または
   １である。）
8. 【請求項８】一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも
   二つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物
   を感光層中に含んでいることを特徴とする請求項１〜６
   のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
9. 【請求項９】一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくと
   も二つ有しかつアミノ基構造を有しない重合可能な化合
   物を感光層中に含んでいることを特徴とする請求項７記
   載の水なし平版印刷版原版。
10. 【請求項１０】感光層中の一般式（Ｉ）で示される構造
    を少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有しない重合
    可能な化合物が、反応性シリル基を含有していることを
    特徴とする請求項１〜６または８記載の水なし平版印刷
    版原版。
11. 【請求項１１】感光層中の一般式（ＩＩ）で示される構
    造を少なくとも一つ有しかつアミノ基構造を有しない重
    合可能な化合物が、反応性シリル基を含有していること
    を特徴とする請求項７または９記載の水なし平版印刷版
    原版。
12. 【請求項１２】感光層中のアミノ基含有モノマが、反応
    性シリル基を含有していることを特徴とする請求項１〜
    １１のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
13. 【請求項１３】感光層が反応性シリル基含有の重合可能
    な化合物を含んでいることを特徴とする請求項１〜１２
    のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
14. 【請求項１４】感光層がバインダーポリマを含んでいる
    ことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の水
    なし平版印刷版原版。
15. 【請求項１５】感光層が光重合性感光層であることを特
    徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の水なし平版
    印刷版原版。
16. 【請求項１６】（Ｂ）成分が水酸基を含有しないアミノ
    基含有モノマであることを特徴とする請求項１〜１５の
    いずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
17. 【請求項１７】支持体と感光層の間にプライマ層を設け
    ることを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の
    水なし平版印刷版原版。
18. 【請求項１８】プライマ層が、一般式（Ｉ）で示される
    構造を少なくとも一つ有し、かつアミノ基構造を有しな
    いモノマを重合してなるポリマを含有していることを特
    徴とする請求項１〜１７のいずれかに記載の水なし平版
    印刷版原版。
19. 【請求項１９】プライマ層が、アミノ基含有モノマを重
    合してなるポリマを含有していることを特徴とする請求
    項１〜１８のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
20. 【請求項２０】インキ反発層がシリコ−ンゴム層である
    ことを特徴とする請求項１〜１９のいずれかに記載の水
    なし平版印刷版原版。
21. 【請求項２１】シリコ−ンゴム層が縮合型の架橋を行う
    シリコ−ンゴムで形成されていることを特徴とする請求
    項２０記載の水なし平版印刷版原版。
22. 【請求項２２】インキ反発層の表面に保護層を設けるこ
    とを特徴とする請求項１〜２１のいずれかに記載の水な
    し平版印刷版原版。
23. 【請求項２３】保護層が表面をプレ−ンまたは凹凸処理
    した保護フィルムであることを特徴とする請求項２２記
    載の水なし平版印刷版原版。
24. 【請求項２４】支持体が表面をプレ−ンまたは粗面化し
    た金属板であることを特徴とする請求項１〜２３のいず
    れかに記載の水なし平版印刷版原版。
25. 【請求項２５】請求項１〜２４のいずれかに記載の水な
    し平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる水なし平
    版印刷版。