JP3414047B2 - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents
水なし平版印刷版原版Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版原版お
よびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像して
なる水なし平版印刷版に関するものであり、さらに詳し
くは耐刷性および画像再現性の保存安定性が向上した水
なし平版印刷版原版およびこの水なし平版印刷版原版を
選択的に露光現像してなる水なし平版印刷版に関するも
のである。
よびこの水なし平版印刷版原版を選択的に露光現像して
なる水なし平版印刷版に関するものであり、さらに詳し
くは耐刷性および画像再現性の保存安定性が向上した水
なし平版印刷版原版およびこの水なし平版印刷版原版を
選択的に露光現像してなる水なし平版印刷版に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、シリコーンゴムやフッ素樹脂
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版が種々提案されている。
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版が種々提案されている。
【０００３】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭５４ー２６９２３号、特公昭５６ー２３１５
０号などに基板上に光重合性接着層とインキ反発層であ
るシリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、
また特公平３−５６６２２号、特開昭６１−１５３６５
５号などに基板上に光二量化型感光層とインキ反発層で
あるシリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版
が提案されている。
は、特公昭５４ー２６９２３号、特公昭５６ー２３１５
０号などに基板上に光重合性接着層とインキ反発層であ
るシリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、
また特公平３−５６６２２号、特開昭６１−１５３６５
５号などに基板上に光二量化型感光層とインキ反発層で
あるシリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版
が提案されている。
【０００４】また、ネガ型感光性平版印刷版としては、
特公昭６１ー６１６号、特公昭６１−５４２１８号など
に支持体上にキノンジアジド化合物を含む感光層とその
上に接着層を介してインキ反発層であるシリコ−ンゴム
層を設けた水なし平版印刷版、特公昭６１−５４２２２
号などに光剥離性感光層上にインキ反発層であるシリコ
−ンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提案されてお
り、実用上優れた性能を有するものとして知られてい
る。これらの中でも特に特公昭６１−５４２２２号に
は、支持体上に、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホン酸クロリドとフェノ−ルノボラック樹脂
の部分エステル化物を多官能イソシアネ−トで架橋した
光剥離性感光層、およびその上にインキ反発層としての
シリコ−ンゴム層を設けたネガ型水なし平版印刷版が開
示されている。
特公昭６１ー６１６号、特公昭６１−５４２１８号など
に支持体上にキノンジアジド化合物を含む感光層とその
上に接着層を介してインキ反発層であるシリコ−ンゴム
層を設けた水なし平版印刷版、特公昭６１−５４２２２
号などに光剥離性感光層上にインキ反発層であるシリコ
−ンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提案されてお
り、実用上優れた性能を有するものとして知られてい
る。これらの中でも特に特公昭６１−５４２２２号に
は、支持体上に、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホン酸クロリドとフェノ−ルノボラック樹脂
の部分エステル化物を多官能イソシアネ−トで架橋した
光剥離性感光層、およびその上にインキ反発層としての
シリコ−ンゴム層を設けたネガ型水なし平版印刷版が開
示されている。
【０００５】また、フッ素樹脂をインキ反発層に用いる
感光性平版印刷版としては、特開平２−２５４４４９
号、特開平２−８５８５５号などに１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，
２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレ−トや１Ｈ，
１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリ
レ−トを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする水なし
平版印刷版が開示されている。
感光性平版印刷版としては、特開平２−２５４４４９
号、特開平２−８５８５５号などに１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，
２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレ−トや１Ｈ，
１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリ
レ−トを用いたフッ素樹脂をインキ反発層とする水なし
平版印刷版が開示されている。
【０００６】しかしながら、これらの感光性平版印刷版
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のインキ反発層下の感光層に損傷
が起こり、これがインキ反発層にまで拡大し画像の再現
性が低下するなどの問題が生じる。この結果は印刷版の
耐刷力不足という問題として現れる。
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のインキ反発層下の感光層に損傷
が起こり、これがインキ反発層にまで拡大し画像の再現
性が低下するなどの問題が生じる。この結果は印刷版の
耐刷力不足という問題として現れる。
【０００７】これまで上記耐刷力を改良することを目的
として、様々な検討がなされてきた。特開平５ー５３３
０６号、特開平５ー５３３０７号などでは基板と感光層
の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あるいはポ
リウレタンとシランカップリング剤を含有する柔軟なプ
ライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案されている
が、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られないだ
けでなく、感光層の物性をカバーするだけの十分なプラ
イマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキュア不
足に起因するインキ反発層剥がれや感光層剥がれ、さら
にひどい場合にはプライマ層自体が基板から剥がれると
いった問題があった。
として、様々な検討がなされてきた。特開平５ー５３３
０６号、特開平５ー５３３０７号などでは基板と感光層
の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あるいはポ
リウレタンとシランカップリング剤を含有する柔軟なプ
ライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案されている
が、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られないだ
けでなく、感光層の物性をカバーするだけの十分なプラ
イマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキュア不
足に起因するインキ反発層剥がれや感光層剥がれ、さら
にひどい場合にはプライマ層自体が基板から剥がれると
いった問題があった。
【０００８】インキ反発層を厚くするという手法も試み
られてきたが、それに伴う現像性の低下、さらにはイン
キマイレージの低下が問題となる。
られてきたが、それに伴う現像性の低下、さらにはイン
キマイレージの低下が問題となる。
【０００９】特開平１ー１５４１５８号、特開平１ー１
５４１５９号などはインキ反発層であるシリコーンゴム
層を厚膜化し、それに伴うインキマイレージの低下をイ
ンキ着肉性物質の埋め込みなどによるセル深度の調整で
カバーしようとするものであるが、現像性の低下は依然
として存在し、またインキ着肉性物質の埋め込みなどと
いう新たな行程が加わったことにより実用上扱いにくい
という問題を有する。特開平１ー１６１２４２号では、
インキ着肉層（感光層）を最上層に有する版を画像露光
し現像した後、インキ反発層（シリコーンゴム層）を塗
布し、その後さらに現像することで得られる厚膜のシリ
コーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、この手法で得られた版は画線部のイ
ンキ着肉性が悪いという問題を有しているばかりでな
く、感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版に
つき２回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。
５４１５９号などはインキ反発層であるシリコーンゴム
層を厚膜化し、それに伴うインキマイレージの低下をイ
ンキ着肉性物質の埋め込みなどによるセル深度の調整で
カバーしようとするものであるが、現像性の低下は依然
として存在し、またインキ着肉性物質の埋め込みなどと
いう新たな行程が加わったことにより実用上扱いにくい
という問題を有する。特開平１ー１６１２４２号では、
インキ着肉層（感光層）を最上層に有する版を画像露光
し現像した後、インキ反発層（シリコーンゴム層）を塗
布し、その後さらに現像することで得られる厚膜のシリ
コーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、この手法で得られた版は画線部のイ
ンキ着肉性が悪いという問題を有しているばかりでな
く、感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版に
つき２回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。
【００１０】インキ反発層であるシリコーンゴム層の物
性を向上させる検討もなされている。フィラーの添加や
ポリジメチルシロキサンの高分子量化、また、特開平２
ー３２３４９号ではインキ反発性物質の硬化物をふくむ
微多孔質層を有する水なし平版印刷版、特開平２ー８８
４７号ではポリオルガノシロキサンを枝にもつグラフト
ポリマをシリコーンゴム層に含有する水なし平版印刷版
が提案されている。しかしながら、これらはいずれも耐
傷性の向上こそなされてはいるが、耐刷性の向上は不十
分であった。そればかりか、シリコーンゴム層が本来備
えていなければならないインキ反発性を低下させるとい
う問題を有していた。
性を向上させる検討もなされている。フィラーの添加や
ポリジメチルシロキサンの高分子量化、また、特開平２
ー３２３４９号ではインキ反発性物質の硬化物をふくむ
微多孔質層を有する水なし平版印刷版、特開平２ー８８
４７号ではポリオルガノシロキサンを枝にもつグラフト
ポリマをシリコーンゴム層に含有する水なし平版印刷版
が提案されている。しかしながら、これらはいずれも耐
傷性の向上こそなされてはいるが、耐刷性の向上は不十
分であった。そればかりか、シリコーンゴム層が本来備
えていなければならないインキ反発性を低下させるとい
う問題を有していた。
【００１１】特開昭６３ー２１３８４８号には感光層に
アクリル酸誘導体共重合体を含有させたものが記載され
ているが、アクリル酸誘導体共重合体を感光層中に５０
ｗｔ％以上含有させると画像再現性やインキ反発層であ
るシリコーンゴム層との接着性を損なうという問題があ
り、また５０ｗｔ％以下では耐刷力が不十分となるとい
う問題を有していた。
アクリル酸誘導体共重合体を含有させたものが記載され
ているが、アクリル酸誘導体共重合体を感光層中に５０
ｗｔ％以上含有させると画像再現性やインキ反発層であ
るシリコーンゴム層との接着性を損なうという問題があ
り、また５０ｗｔ％以下では耐刷力が不十分となるとい
う問題を有していた。
【００１２】また、特開平３ー２０７４１号には感光層
にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分子化
合物を含有させたもの、特開平３ー６８９４６号には感
光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘導体共重
合体を含有させたものが記載され、水系現像液で現像可
能で耐刷力の優れた版が得られるとされている。しかし
ながら、これらの版はプレートクリーナー等の版洗浄溶
剤やＵＶインキ等に対する感光層の耐溶剤性が不十分で
あるため、画線部が印刷中に破壊されるだけでなく、非
画線部の感光層が溶剤に侵されることによる耐刷性の低
下という問題を有していた。
にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分子化
合物を含有させたもの、特開平３ー６８９４６号には感
光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘導体共重
合体を含有させたものが記載され、水系現像液で現像可
能で耐刷力の優れた版が得られるとされている。しかし
ながら、これらの版はプレートクリーナー等の版洗浄溶
剤やＵＶインキ等に対する感光層の耐溶剤性が不十分で
あるため、画線部が印刷中に破壊されるだけでなく、非
画線部の感光層が溶剤に侵されることによる耐刷性の低
下という問題を有していた。
【００１３】特願平６−１５６２０６、特願平６−１８
３７５７、特願平６−１８３７５８のように、感光層中
のバインダポリマを増量したり、あるいは柔軟な感光剤
を用いることで感光層を柔軟化し、現像性、画像再現性
を維持したまま、耐刷性を飛躍的に向上させることもな
されているが、版性能の保存安定性という問題が残って
いた。
３７５７、特願平６−１８３７５８のように、感光層中
のバインダポリマを増量したり、あるいは柔軟な感光剤
を用いることで感光層を柔軟化し、現像性、画像再現性
を維持したまま、耐刷性を飛躍的に向上させることもな
されているが、版性能の保存安定性という問題が残って
いた。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、感光層
に特定の構造を有する化合物を含有させることによっ
て、版の耐刷力、画像再現性等を低下させることなく、
版の保存安定性、耐スクラッチ性の改善された水なし平
版印刷版原版を提供することにある。
術の諸欠点を改良するために創案されたもので、感光層
に特定の構造を有する化合物を含有させることによっ
て、版の耐刷力、画像再現性等を低下させることなく、
版の保存安定性、耐スクラッチ性の改善された水なし平
版印刷版原版を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
以下の水なし平版によって達成される。すなわち、 （１）支持体上に少なくとも感光層およびシリコーンゴ
ム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版にお
いて、該感光層が、下記一般式（Ｉ）で示される構造を
少なくとも一つ、下記一般式（II）で示される構造を少
なくとも一つ、および下記一般式（III ）で示される構
造を少なくとも一つ有するキノンジアジド化合物を少な
くとも一つ含有していることを特徴とする水なし平版印
刷版原版。
以下の水なし平版によって達成される。すなわち、 （１）支持体上に少なくとも感光層およびシリコーンゴ
ム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版にお
いて、該感光層が、下記一般式（Ｉ）で示される構造を
少なくとも一つ、下記一般式（II）で示される構造を少
なくとも一つ、および下記一般式（III ）で示される構
造を少なくとも一つ有するキノンジアジド化合物を少な
くとも一つ含有していることを特徴とする水なし平版印
刷版原版。
【００１６】
−ＳｉＲn Ｘ3-n （Ｉ）
（式中、ｎは０〜３の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。） −Ｒ１−ＯＨ （II） −Ｐｈ（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）（ＯＨ） （III ） （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｐｈは芳香環、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基で
あり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。） 以下に、本発明の構成について、さらに具体的に説明す
る。
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。） −Ｒ１−ＯＨ （II） −Ｐｈ（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）（ＯＨ） （III ） （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｐｈは芳香環、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基で
あり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。） 以下に、本発明の構成について、さらに具体的に説明す
る。
【００１７】本発明の特徴とするところは、支持体上に
少なくとも感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積
層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が、下下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つと下記一般式（II）で示される構造を少なくとも一
つ、および下記一般式（III ）で示される構造を少なく
とも一つ有するキノンジアジド化合物を少なくとも一つ
含有することにある。
少なくとも感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積
層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層
が、下下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つと下記一般式（II）で示される構造を少なくとも一
つ、および下記一般式（III ）で示される構造を少なく
とも一つ有するキノンジアジド化合物を少なくとも一つ
含有することにある。
【００１８】
−ＳｉＲn Ｘ3-n （Ｉ）
（式中、ｎは０〜３の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。Ｘの官能基としては、水素原
子、水酸基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトオキ
シム基、アミド基、アミノオキシ基、アミノ基、アルケ
ニルオキシ基などの官能基を示している。） −Ｒ１−ＯＨ （II） −Ｐｈ（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）（ＯＨ） （III ） （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｐｈは芳香環、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基で
あり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。） 特願平６−１８３７５７のように柔軟な感光剤を用いる
ことで感光層を柔軟化し、現像性、画像再現性を維持し
たまま耐刷性を飛躍的に向上させることができるが、適
正なシリコーンゴム層と感光層の接着力（ＳＫ接着力）
を発現させるためにはシリコーンゴム層中に過剰な架橋
剤（シランカップリング剤）を投入しておくことが必要
であった。この結果、版作製後も架橋剤が残存し、それ
が経時的に反応することにより、版性能の保存安定性に
問題を生じた。さらに、過剰な架橋剤はシリコーンゴム
層自体の物性、すなわち耐スクラッチ性（耐傷性）にも
悪影響を与えた。
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。Ｘの官能基としては、水素原
子、水酸基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトオキ
シム基、アミド基、アミノオキシ基、アミノ基、アルケ
ニルオキシ基などの官能基を示している。） −Ｒ１−ＯＨ （II） −Ｐｈ（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）（ＯＨ） （III ） （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｐｈは芳香環、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基で
あり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。） 特願平６−１８３７５７のように柔軟な感光剤を用いる
ことで感光層を柔軟化し、現像性、画像再現性を維持し
たまま耐刷性を飛躍的に向上させることができるが、適
正なシリコーンゴム層と感光層の接着力（ＳＫ接着力）
を発現させるためにはシリコーンゴム層中に過剰な架橋
剤（シランカップリング剤）を投入しておくことが必要
であった。この結果、版作製後も架橋剤が残存し、それ
が経時的に反応することにより、版性能の保存安定性に
問題を生じた。さらに、過剰な架橋剤はシリコーンゴム
層自体の物性、すなわち耐スクラッチ性（耐傷性）にも
悪影響を与えた。
【００１９】本発明においては、一般式（Ｉ）で示され
る構造を少なくとも一つ、一般式（II）で示される構造
を少なくとも一つ、および一般式（III ）で示される構
造を少なくとも一つ有する新規なキノンジアジド化合物
（シリル基含有キノンジアジド化合物）を少なくとも一
つ含有することにより、シリコーンゴム層中の架橋剤を
増量する必要もなくＳＫ接着力を効果的に、しかも安定
的に発現させることができるため、保存安定性などの問
題は生じない。
る構造を少なくとも一つ、一般式（II）で示される構造
を少なくとも一つ、および一般式（III ）で示される構
造を少なくとも一つ有する新規なキノンジアジド化合物
（シリル基含有キノンジアジド化合物）を少なくとも一
つ含有することにより、シリコーンゴム層中の架橋剤を
増量する必要もなくＳＫ接着力を効果的に、しかも安定
的に発現させることができるため、保存安定性などの問
題は生じない。
【００２０】一方、特開平５−３３３５３５号公報のよ
うに、一般式（Ｉ）で示される構造のみを有する化合物
を感光層中に含有するだけでは感光層中のキノンジアジ
ド化合物の剛直な構造のために、感光層は非常に脆いも
のとなる。そのため、印刷時にシリコーンゴム層と感光
層の界面に加わる応力によりシリコーンゴム層が感光層
から剥離するということ以外に、感光層自体にクラック
が発生し、そのクラックに由来するシリコーンゴム層の
欠落という問題、ひどい場合には感光層とシリコーンゴ
ム層がプライマ層から欠落するという問題が発生する。
本発明における新規なキノンジアジド化合物（シリル基
含有キノンジアジド化合物）は、上述のように一般式
（Ｉ）で示される構造を一つ有するだけでなく、一般式
（II）で示される構造を少なくとも一つと、一般式（II
I ）で示される構造を少なくとも一つ有し柔軟な構造を
しているため、感光層自体が柔軟なものとなり、この問
題も解決できる。
うに、一般式（Ｉ）で示される構造のみを有する化合物
を感光層中に含有するだけでは感光層中のキノンジアジ
ド化合物の剛直な構造のために、感光層は非常に脆いも
のとなる。そのため、印刷時にシリコーンゴム層と感光
層の界面に加わる応力によりシリコーンゴム層が感光層
から剥離するということ以外に、感光層自体にクラック
が発生し、そのクラックに由来するシリコーンゴム層の
欠落という問題、ひどい場合には感光層とシリコーンゴ
ム層がプライマ層から欠落するという問題が発生する。
本発明における新規なキノンジアジド化合物（シリル基
含有キノンジアジド化合物）は、上述のように一般式
（Ｉ）で示される構造を一つ有するだけでなく、一般式
（II）で示される構造を少なくとも一つと、一般式（II
I ）で示される構造を少なくとも一つ有し柔軟な構造を
しているため、感光層自体が柔軟なものとなり、この問
題も解決できる。
【００２１】該化合物の調製方法としては、公知のシリ
ル基含有化合物を一般式（II）および（III ）の構造を
少なくとも一つずつ有するキノンジアジド化合物と反応
させる方法が好ましい。
ル基含有化合物を一般式（II）および（III ）の構造を
少なくとも一つずつ有するキノンジアジド化合物と反応
させる方法が好ましい。
【００２２】一般式（Ｉ）で示される構造の具体例とし
ては、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキ
シムシリル基、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロ
キシ基、トリフェニルシロキシ基等がある。これらの中
ではアルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシ
ムシリル基が好ましい。
ては、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキ
シムシリル基、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロ
キシ基、トリフェニルシロキシ基等がある。これらの中
ではアルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシ
ムシリル基が好ましい。
【００２３】アルコキシシリル基の具体例としては、ト
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
メトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニル
ジメトキシシリル基、ビニルジエトキシシリル基、アリ
ルジメトキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、3
ー メタクリロキシプロピルジメトキシシリル基、3 ーメ
タクリロキシプロピルジエトキシシリル基、ジメチルメ
トキシシリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニル
メトキシシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジアリ
ルメトキシシリル基、ジアリルエトキシシリル基、3 ー
メタクリロキシプロピルメチルメトキシシリル基、3 ー
メタクリロキシプロピルメチルエトキシシリル基など。
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
メトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニル
ジメトキシシリル基、ビニルジエトキシシリル基、アリ
ルジメトキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、3
ー メタクリロキシプロピルジメトキシシリル基、3 ーメ
タクリロキシプロピルジエトキシシリル基、ジメチルメ
トキシシリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニル
メトキシシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジアリ
ルメトキシシリル基、ジアリルエトキシシリル基、3 ー
メタクリロキシプロピルメチルメトキシシリル基、3 ー
メタクリロキシプロピルメチルエトキシシリル基など。
【００２４】アセトキシシリル基の具体例としては、ト
リアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリル基、
エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセトキシシ
リル基、ジエチルアセトキシシリル基など。
リアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリル基、
エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセトキシシ
リル基、ジエチルアセトキシシリル基など。
【００２５】オキシムシリル基の具体例としては、トリ
ケトオキシムシリル基、メチルジケトオキシムシリル
基、エチルケトオキシムシリル基などが挙げられる。
ケトオキシムシリル基、メチルジケトオキシムシリル
基、エチルケトオキシムシリル基などが挙げられる。
【００２６】上記一般式（Ｉ）で示される構造をキノン
ジアジド化合物に導入するためのシリル基含有化合物と
しては、公知のアルコキシシラン、アセトキシシラン、
オキシムシラン、アミノシラン、アミドシラン等が挙げ
られる。
ジアジド化合物に導入するためのシリル基含有化合物と
しては、公知のアルコキシシラン、アセトキシシラン、
オキシムシラン、アミノシラン、アミドシラン等が挙げ
られる。
【００２７】これらシリル基含有化合物の中では反応性
基含有シリル化合物が好ましい。反応性アルキル基含有
シリル化合物としては、クロロアルキルシリル化合物、
エポキシアルキルシリル化合物、アミノアルキルシリル
化合物、メルカプトアルキルシリル化合物、イソシアネ
ートアルキルシリル化合物等が挙げられ、重合反応性基
含有シリル化合物としては、メタアクリロキシアルキル
シリル化合物、アクリロキシアルキルシリル化合物、ス
チリルシリル化合物、ビニルエステルシリル化合物、ア
ルケニルシリル化合物等が挙げられる。
基含有シリル化合物が好ましい。反応性アルキル基含有
シリル化合物としては、クロロアルキルシリル化合物、
エポキシアルキルシリル化合物、アミノアルキルシリル
化合物、メルカプトアルキルシリル化合物、イソシアネ
ートアルキルシリル化合物等が挙げられ、重合反応性基
含有シリル化合物としては、メタアクリロキシアルキル
シリル化合物、アクリロキシアルキルシリル化合物、ス
チリルシリル化合物、ビニルエステルシリル化合物、ア
ルケニルシリル化合物等が挙げられる。
【００２８】クロロアルキルシリル化合物の具体例とし
ては、ビス（クロロメチル）ジメチルシラン、ブロモメ
チルトリメチルシラン、３−ブロモプロピルトリメトキ
シシラン、４−ブロモトリメチルシロキシベンゼン、２
−クロロエチルトリエトキシシラン、クロロメチルジメ
チルエトキシシラン、クロロメチルジメチルフェニルシ
ラン、クロロメチルメチルジエトキシシラン、ｐ−（ク
ロロメチル）フェニルトリメトキシシラン、クロロメチ
ルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリトリエトキ
シシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、１−トリメトキシシリ
ル−２−（ｐ，ｍ−クロロメチル）フェニルエタン等が
挙げられる。
ては、ビス（クロロメチル）ジメチルシラン、ブロモメ
チルトリメチルシラン、３−ブロモプロピルトリメトキ
シシラン、４−ブロモトリメチルシロキシベンゼン、２
−クロロエチルトリエトキシシラン、クロロメチルジメ
チルエトキシシラン、クロロメチルジメチルフェニルシ
ラン、クロロメチルメチルジエトキシシラン、ｐ−（ク
ロロメチル）フェニルトリメトキシシラン、クロロメチ
ルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリトリエトキ
シシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、１−トリメトキシシリ
ル−２−（ｐ，ｍ−クロロメチル）フェニルエタン等が
挙げられる。
【００２９】エポキシアルキルシリル化合物の具体例と
しては、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−（Ｎ−アリル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−グリシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−
（メチルジメトキシシリル）プロピル］アミン、Ｎ−グ
リシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−（トリメトキシシリル）
プロピル］アミンなどが挙げられる。
しては、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−（Ｎ−アリル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−グリシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−
（メチルジメトキシシリル）プロピル］アミン、Ｎ−グ
リシジル−Ｎ，Ｎ−ビス［３−（トリメトキシシリル）
プロピル］アミンなどが挙げられる。
【００３０】アミノアルキルシリル化合物の具体例とし
ては、４−アミノブチルジメチルメトキシシラン、４−
アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルト
リメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェ
ネチルトリメトキシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルメチルメチルジメトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルトリス（２−エチルヘキソキシ）シラン、６−
（アミノヘキシルアミノプロピル）トリメトキシシラ
ン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−（１
−アミノプロポキシ）３，３−ジメチル−１−プロペニ
ルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メ
トキシエトキシエトキシ）シラン、３−アミノプロピル
メチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエト
キシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−アミノプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラ
ン、１−トリメトキシシリル−２−（ｐ−ｍ−アミノメ
チル）フェニルエタン、トリメトキシシリルプロピルジ
エチレントリアミンなどが挙げられる。
ては、４−アミノブチルジメチルメトキシシラン、４−
アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルト
リメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェ
ネチルトリメトキシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルメチルメチルジメトキシシラン、Ｎ
−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルトリス（２−エチルヘキソキシ）シラン、６−
（アミノヘキシルアミノプロピル）トリメトキシシラ
ン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−（１
−アミノプロポキシ）３，３−ジメチル−１−プロペニ
ルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メ
トキシエトキシエトキシ）シラン、３−アミノプロピル
メチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエト
キシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−アミノプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラ
ン、１−トリメトキシシリル−２−（ｐ−ｍ−アミノメ
チル）フェニルエタン、トリメトキシシリルプロピルジ
エチレントリアミンなどが挙げられる。
【００３１】メルカプトアルキルシリル化合物の具体例
としては、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３
−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられ
る。
としては、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３
−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられ
る。
【００３２】イソシアネートアルキルシリル化合物の具
体例としては、３−イソシアネートプロピルトリエトキ
シシラン、３−イソシナネートプロピルジメチルクロロ
シラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラ
ンなどが挙げられる。
体例としては、３−イソシアネートプロピルトリエトキ
シシラン、３−イソシナネートプロピルジメチルクロロ
シラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラ
ンなどが挙げられる。
【００３３】重合反応性基含有シリル化合物の代表的な
ものとしては、ビニルトリメトキシシラン、ヘキセニル
トリメトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラ
ン、７−オクテニルトリメトキシシラン、フェニルビニ
ルジメトキシシラン、ｍ，ｐ−スチリルエチルトリメト
キシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノビニルジエトキシシラ
ン、ジフェニルビニルエトキシシランなどが挙げられ
る。
ものとしては、ビニルトリメトキシシラン、ヘキセニル
トリメトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メ
タクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラ
ン、７−オクテニルトリメトキシシラン、フェニルビニ
ルジメトキシシラン、ｍ，ｐ−スチリルエチルトリメト
キシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノビニルジエトキシシラ
ン、ジフェニルビニルエトキシシランなどが挙げられ
る。
【００３４】その他の反応性基含有シリル化合物として
は、２−シアノエチルトリエトキシシラン、（シアノメ
チルフェネチル）トリエトキシシラン、３−シアノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−（トリエトキシシリルプ
ロピル）ダンシルアミド、Ｎ−［３−（トリエトキシシ
リル）プロピル］−２，４−ジニトロフェニルアミド、
トリエトキシシリルプロピルエチルカーバメート、Ｎ−
［３−（トリエトキシシリル）プロピル］フタルアミド
酸、トリエトキシシリルプロピル−ｐ−ニトロベンズア
ミド、Ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）尿素、２−
（トリメトキシシリル）エチルフェニルスルホニルアジ
ド、β−トリメトキシシリルエチル−２−ピリジン、Ｎ
−（トリメトキシシリルプロピル）イミダゾールなどが
挙げられる。
は、２−シアノエチルトリエトキシシラン、（シアノメ
チルフェネチル）トリエトキシシラン、３−シアノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−（トリエトキシシリルプ
ロピル）ダンシルアミド、Ｎ−［３−（トリエトキシシ
リル）プロピル］−２，４−ジニトロフェニルアミド、
トリエトキシシリルプロピルエチルカーバメート、Ｎ−
［３−（トリエトキシシリル）プロピル］フタルアミド
酸、トリエトキシシリルプロピル−ｐ−ニトロベンズア
ミド、Ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）尿素、２−
（トリメトキシシリル）エチルフェニルスルホニルアジ
ド、β−トリメトキシシリルエチル−２−ピリジン、Ｎ
−（トリメトキシシリルプロピル）イミダゾールなどが
挙げられる。
【００３５】また、下記一般式（IV）で表されるような
シリル基含有化合物も用いることが出来る。
シリル基含有化合物も用いることが出来る。
【００３６】
【化１】
（Ｒ６：炭素、酸素、窒素などからなる２価の結合基
で、例えば−Ｃ3 Ｈ6 −、−Ｃ3 Ｈ6 −ＮＨ−Ｃ3 Ｈ6
−等である。） Ｒ７：炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基 Ｘ ：一般式（Ｉ）と同様 ａ＝１〜２、ｎ＝１〜３） 一般式（II）および（III ）の構造をそれぞれ少なくと
も一つずつ有するキノンジアジド化合物は、特願平６−
１８３７５７に記載の方法に従い、一般式（II）および
（III ）で示される構造をそれぞれ少なくとも一つずつ
有する化合物とキノンジアジド化合物との反応により得
られる。
で、例えば−Ｃ3 Ｈ6 −、−Ｃ3 Ｈ6 −ＮＨ−Ｃ3 Ｈ6
−等である。） Ｒ７：炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基 Ｘ ：一般式（Ｉ）と同様 ａ＝１〜２、ｎ＝１〜３） 一般式（II）および（III ）の構造をそれぞれ少なくと
も一つずつ有するキノンジアジド化合物は、特願平６−
１８３７５７に記載の方法に従い、一般式（II）および
（III ）で示される構造をそれぞれ少なくとも一つずつ
有する化合物とキノンジアジド化合物との反応により得
られる。
【００３７】一般式（II）中のＲ１の具体例としては、
水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニトロ
ソ基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキ
ル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アル
カノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜
１００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニ
ルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換の
アリ−ル基、アリ−ルオキシ基の群から選ばれる少なく
とも一種が挙げられるが、これらに限定されない。
水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニトロ
ソ基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキ
ル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アル
カノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜
１００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニ
ルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換の
アリ−ル基、アリ−ルオキシ基の群から選ばれる少なく
とも一種が挙げられるが、これらに限定されない。
【００３８】また、一般式（III ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ
４、Ｒ５の具体例としては、水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、ニトロ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ
基、スルフォニル基、ニトロソ基、炭素数１〜１００の
置換もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミ
ド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、
カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換もしくは非置
換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１
００の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキ
シ基の群から選ばれる少なくとも一種であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよく、またこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。
４、Ｒ５の具体例としては、水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、ニトロ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ
基、スルフォニル基、ニトロソ基、炭素数１〜１００の
置換もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミ
ド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、
カルボキシル基、炭素数２〜１００の置換もしくは非置
換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１
００の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキ
シ基の群から選ばれる少なくとも一種であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよく、またこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。
【００３９】一般式（II）で示される構造と一般式（II
I ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物としては、例えば次の〜のような化合物
が挙げられるが、これらに限定されない。
I ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物としては、例えば次の〜のような化合物
が挙げられるが、これらに限定されない。
【００４０】下記一般式（Ｖ）で示されるような、エ
ポキシ化合物とフェノ−ル安息香酸との反応により得ら
れる骨格を有する化合物。例えば、１，２−エポキシプ
ロパンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応物や１，２−
エポキシプロパンと３−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、１，２−エポキシプロパンと４−ヒドロキシ安息香
酸との反応物、１，２−エポキシブタンと２−ヒドロキ
シ安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタンと３−
ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタ
ンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、２，３−エポ
キシブタンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応物、２，
３−エポキシブタンと３−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、２，３−エポキシブタンと４−ヒドロキシ安息香酸
との反応物、１，２−エポキシヘキサンと２−ヒドロキ
シ安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘキサンと３
−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘ
キサンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２，
３，４−ジエポキシブタンと２−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物、１，２，３，４−ジエポキシブタンと３−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物、１，２，３，４−ジエポ
キシブタンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、グリ
シジルアクリレ−トと２−ヒドロキシ安息香酸との反応
物およびその単独重合体や共重合体、グリシジルアクリ
レ−トと３−ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその
単独重合体や共重合体、グリシジルアクリレ−トと４−
ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその単独重合体や
共重合体、グリシジルメタクリレ−トと２−ヒドロキシ
安息香酸との反応物およびその単独重合体や共重合体、
グリシジルメタクリレ−トと３−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物およびその単独重合体や共重合体、グリシジル
メタクリレ−トと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物お
よびその単独重合体や共重合体などが挙げられるが、こ
れらに限定されず、エポキシ基を有する化合物とフェノ
−ル安息香酸との反応物であればどのようなものでもよ
い。エポキシ基を有する化合物の分子量は特に限定され
ないが、分子量６０〜１０００万のものが好ましく、分
子量８０〜１００万のものがより好ましい。
ポキシ化合物とフェノ−ル安息香酸との反応により得ら
れる骨格を有する化合物。例えば、１，２−エポキシプ
ロパンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応物や１，２−
エポキシプロパンと３−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、１，２−エポキシプロパンと４−ヒドロキシ安息香
酸との反応物、１，２−エポキシブタンと２−ヒドロキ
シ安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタンと３−
ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシブタ
ンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、２，３−エポ
キシブタンと２−ヒドロキシ安息香酸との反応物、２，
３−エポキシブタンと３−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、２，３−エポキシブタンと４−ヒドロキシ安息香酸
との反応物、１，２−エポキシヘキサンと２−ヒドロキ
シ安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘキサンと３
−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２−エポキシヘ
キサンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、１，２，
３，４−ジエポキシブタンと２−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物、１，２，３，４−ジエポキシブタンと３−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物、１，２，３，４−ジエポ
キシブタンと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物、グリ
シジルアクリレ−トと２−ヒドロキシ安息香酸との反応
物およびその単独重合体や共重合体、グリシジルアクリ
レ−トと３−ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその
単独重合体や共重合体、グリシジルアクリレ−トと４−
ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその単独重合体や
共重合体、グリシジルメタクリレ−トと２−ヒドロキシ
安息香酸との反応物およびその単独重合体や共重合体、
グリシジルメタクリレ−トと３−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物およびその単独重合体や共重合体、グリシジル
メタクリレ−トと４−ヒドロキシ安息香酸との反応物お
よびその単独重合体や共重合体などが挙げられるが、こ
れらに限定されず、エポキシ基を有する化合物とフェノ
−ル安息香酸との反応物であればどのようなものでもよ
い。エポキシ基を有する化合物の分子量は特に限定され
ないが、分子量６０〜１０００万のものが好ましく、分
子量８０〜１００万のものがより好ましい。
【００４１】
【化２】
（式中のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は一般式（III
）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。） 下記一般式（Ｖ）で示されるような、トリオ−ルある
いはポリオ−ルとヒドロキシベンズアルデヒドとの反応
により得られる骨格を有する化合物。例えば、１，２，
４−ブタントリオ−ルと２−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドとの反応物、１，２，４−ブタントリオ−ルと３−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、１，２，４−ブ
タントリオ−ルと４−ヒドロキシベンズアルデヒドとの
反応物、グリセリンと２−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物、グリセリンと３−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応物、グリセリンと４−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、トリメチロ−ルプロパンと２−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、トリメチロ−ル
プロパンと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応
物、トリメチロ−ルプロパンと４−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコ−ルと２−ヒド
ロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコ
−ルと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポ
リビニルアルコ−ルと４−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物などが挙げられるが、これらに限定されず、
トリオ−ルあるいはポリオ−ルとヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応物であればどのようなものでもよい。ト
リオ−ルあるいはポリオ−ルの分子量は特に限定されな
いが、分子量９０〜１０００万のものが好ましく、分子
量９０〜１００万のものがより好ましい。
）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。） 下記一般式（Ｖ）で示されるような、トリオ−ルある
いはポリオ−ルとヒドロキシベンズアルデヒドとの反応
により得られる骨格を有する化合物。例えば、１，２，
４−ブタントリオ−ルと２−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドとの反応物、１，２，４−ブタントリオ−ルと３−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、１，２，４−ブ
タントリオ−ルと４−ヒドロキシベンズアルデヒドとの
反応物、グリセリンと２−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物、グリセリンと３−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応物、グリセリンと４−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、トリメチロ−ルプロパンと２−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、トリメチロ−ル
プロパンと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応
物、トリメチロ−ルプロパンと４−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコ−ルと２−ヒド
ロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコ
−ルと３−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポ
リビニルアルコ−ルと４−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物などが挙げられるが、これらに限定されず、
トリオ−ルあるいはポリオ−ルとヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応物であればどのようなものでもよい。ト
リオ−ルあるいはポリオ−ルの分子量は特に限定されな
いが、分子量９０〜１０００万のものが好ましく、分子
量９０〜１００万のものがより好ましい。
【００４２】
【化３】
（式中のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は一般式（III
）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ
８は、硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換
あるいは非置換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換
もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換もしくは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基などが挙げられるが、これらに限定されない。） 下記一般式（VII ）で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、２−（２−ヒドロキシエチル）フェノ−
ル、３−（２−ヒドロキシエチル）フェノ−ル、４−
（２−ヒドロキシエチル）フェノ−ル、２−（１−ヒド
ロキシエチル）フェノ−ル、３−（１−ヒドロキシエチ
ル）フェノ−ル、４−（１−ヒドロキシエチル）フェノ
−ル、２−（３−ヒドロキシプロピル）フェノ−ル、３
−（３−ヒドロキシプロピル）フェノ−ル、４−（３−
ヒドロキシプロピル）フェノ−ル、２− （２−ヒドロ
キシプロピル）フェノ−ル、３−（２−ヒドロキシプロ
ピル）フェノ−ル、４−（２−ヒドロキシプロピル）フ
ェノ−ル、２−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノ−
ル、３−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノ−ル、４−
（６−ヒドロキシヘキシル）フェノ−ルなどが挙げられ
るが、これらに限定されない。このような化合物の分子
量は特に限定されないが、分子量１２０〜１０００万の
ものが好ましく、分子量１２０〜１００万のものがより
好ましい。
）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ
８は、硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換
あるいは非置換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換
もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換もしくは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基などが挙げられるが、これらに限定されない。） 下記一般式（VII ）で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、２−（２−ヒドロキシエチル）フェノ−
ル、３−（２−ヒドロキシエチル）フェノ−ル、４−
（２−ヒドロキシエチル）フェノ−ル、２−（１−ヒド
ロキシエチル）フェノ−ル、３−（１−ヒドロキシエチ
ル）フェノ−ル、４−（１−ヒドロキシエチル）フェノ
−ル、２−（３−ヒドロキシプロピル）フェノ−ル、３
−（３−ヒドロキシプロピル）フェノ−ル、４−（３−
ヒドロキシプロピル）フェノ−ル、２− （２−ヒドロ
キシプロピル）フェノ−ル、３−（２−ヒドロキシプロ
ピル）フェノ−ル、４−（２−ヒドロキシプロピル）フ
ェノ−ル、２−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノ−
ル、３−（６−ヒドロキシヘキシル）フェノ−ル、４−
（６−ヒドロキシヘキシル）フェノ−ルなどが挙げられ
るが、これらに限定されない。このような化合物の分子
量は特に限定されないが、分子量１２０〜１０００万の
ものが好ましく、分子量１２０〜１００万のものがより
好ましい。
【００４３】
ＨＯ−Ｒ９−Ｐｈ（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）（ＯＨ） （VII ）
（式中のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、一般式（II
I ）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ
９は、硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換
あるいは非置換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換
もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換もしくは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基などが挙げられるが、これらに限定されない。） 下記一般式（VIII）で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、ヒドロキシエチルアクリレ−トとヒドロ
キシスチレンとの共重合体、酢酸ビニルとヒドロキシエ
チルメタクリレ−ト、ヒドロキシスチレンとの共重合体
などが挙げられるがこれらに限定されない。このような
化合物の分子量は特に限定されないが、分子量３００〜
１０００万のものが好ましく、分子量１０００〜１００
万のものがより好ましい。
I ）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ
９は、硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換
あるいは非置換のケイ素原子、炭素数１〜１００の置換
もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド
基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カ
ルボキシル基、炭素数２〜１００の置換もしくは非置換
のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０
０の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ
基などが挙げられるが、これらに限定されない。） 下記一般式（VIII）で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、ヒドロキシエチルアクリレ−トとヒドロ
キシスチレンとの共重合体、酢酸ビニルとヒドロキシエ
チルメタクリレ−ト、ヒドロキシスチレンとの共重合体
などが挙げられるがこれらに限定されない。このような
化合物の分子量は特に限定されないが、分子量３００〜
１０００万のものが好ましく、分子量１０００〜１００
万のものがより好ましい。
【００４４】
【化４】
（式中のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、一般式（II
I ）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ
１０およびＲ１１は高分子の主鎖を示しており、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数１〜１０００万の置換もしくは
非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシル
オキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル
基、炭素数２〜１０００万の置換もしくは非置換のアル
ケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０００万
の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ基
などが挙げられるが、、これらに限定されない。） これらの〜のような化合物、あるいはそれ以外の一
般式（II）で示される構造と一般式（III ）で示される
構造とを少なくとも一つずつ有する化合物を単独、ある
いは二種以上をキノンジアジド化合物と反応させること
により、一般式（II）で表される構造および一般式（II
I ）で表される構造をそれぞれ少なくとも一つずつ有す
る化合物を得ることができる。
I ）のＰｈ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５と同一である。Ｒ
１０およびＲ１１は高分子の主鎖を示しており、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数１〜１０００万の置換もしくは
非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシル
オキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル
基、炭素数２〜１０００万の置換もしくは非置換のアル
ケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１０００万
の置換もしくは非置換のアリ−ル基、アリ−ルオキシ基
などが挙げられるが、、これらに限定されない。） これらの〜のような化合物、あるいはそれ以外の一
般式（II）で示される構造と一般式（III ）で示される
構造とを少なくとも一つずつ有する化合物を単独、ある
いは二種以上をキノンジアジド化合物と反応させること
により、一般式（II）で表される構造および一般式（II
I ）で表される構造をそれぞれ少なくとも一つずつ有す
る化合物を得ることができる。
【００４５】これにさらに先に述べたシリル基含有化合
物を反応させることで、目的とする化合物のもう一つを
得ることが出来る。
物を反応させることで、目的とする化合物のもう一つを
得ることが出来る。
【００４６】また本発明におけるキノンジアジド化合物
としては、ベンゾキノンジアジドスルホン酸およびその
誘導体、ナフトキノンジアジドスルホン酸およびその誘
導体などが挙げられるが、これらに限定されない。具体
的には１，２−ベンゾキノン−２−ジアジドー４ースル
ホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド
ー４ースルホン酸ブロミド、１，２−ベンゾキノン−２
−ジアジドー４ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ベ
ンゾキノン−２−ジアジドー４ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジドー４ースルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー４ースル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
ー４ースルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジドー４ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジドー４ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー４ースルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー５ースル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
ー５ースルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジドー５ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジドー５ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー５ースルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー６ースル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
ー６ースルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジドー６ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジドー６ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー６ースルホ
ン酸などが挙げられるが、これらに限定されず、これ以
外のものでもよい。これらの中では１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、とりわ
け１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー４ースルホン
酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー５
ースルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジドー４ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジドー５ースルホン酸ナトリウム塩が
有効である。
としては、ベンゾキノンジアジドスルホン酸およびその
誘導体、ナフトキノンジアジドスルホン酸およびその誘
導体などが挙げられるが、これらに限定されない。具体
的には１，２−ベンゾキノン−２−ジアジドー４ースル
ホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド
ー４ースルホン酸ブロミド、１，２−ベンゾキノン−２
−ジアジドー４ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ベ
ンゾキノン−２−ジアジドー４ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジドー４ースルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー４ースル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
ー４ースルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジドー４ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジドー４ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー４ースルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー５ースル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
ー５ースルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジドー５ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジドー５ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー５ースルホ
ン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー６ースル
ホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
ー６ースルホン酸ブロミド、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジドー６ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジドー６ースルホン酸カリウム
塩、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー６ースルホ
ン酸などが挙げられるが、これらに限定されず、これ以
外のものでもよい。これらの中では１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、とりわ
け１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー４ースルホン
酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジドー５
ースルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジドー４ースルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジドー５ースルホン酸ナトリウム塩が
有効である。
【００４７】これらのキノンジアジド化合物と、一般式
（II）で示される構造と一般式（III ）で示される構造
とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物との反応
は、通常エステル化反応であることが好ましい。従って
目的とする反応物はスルホン酸エステルの構造を有する
ものとなる。例えば、ヒドロキシエチルアクリレ−トと
ヒドロキシスチレンとの共重合体に１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジドー４ースルホン酸クロリドを反応させ
た場合、共重合体の有する水酸基部分とスルホン酸クロ
リドの部分が反応し、塩酸を脱離しながらスルホン酸エ
ステルとなる。
（II）で示される構造と一般式（III ）で示される構造
とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物との反応
は、通常エステル化反応であることが好ましい。従って
目的とする反応物はスルホン酸エステルの構造を有する
ものとなる。例えば、ヒドロキシエチルアクリレ−トと
ヒドロキシスチレンとの共重合体に１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジドー４ースルホン酸クロリドを反応させ
た場合、共重合体の有する水酸基部分とスルホン酸クロ
リドの部分が反応し、塩酸を脱離しながらスルホン酸エ
ステルとなる。
【００４８】一般式（II）で示される構造と一般式（II
I ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は特に
限定されないが、好ましくは一般式（II）で示される構
造と一般式（III ）で示される構造とをそれぞれ少なく
とも一つずつ有する化合物１００重量部に対してキノン
ジアジド化合物を０．０１〜１００万重量部、より好ま
しくは一般式（II）で示される構造と一般式（III ）で
示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化
合物１００重量部に対してキノンジアジド化合物を０．
１〜１０万重量部反応させることにより得られるのがよ
い。
I ）で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は特に
限定されないが、好ましくは一般式（II）で示される構
造と一般式（III ）で示される構造とをそれぞれ少なく
とも一つずつ有する化合物１００重量部に対してキノン
ジアジド化合物を０．０１〜１００万重量部、より好ま
しくは一般式（II）で示される構造と一般式（III ）で
示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化
合物１００重量部に対してキノンジアジド化合物を０．
１〜１０万重量部反応させることにより得られるのがよ
い。
【００４９】さらにこれら化合物に先に述べたシリル基
含有化合物を反応させることで、目的とする化合物を得
ることが出来るのであるが、その反応割合に関しては、
一般式（II）および（III ）で示される構造を有するキ
ノンジアジド化合物１００重量部に対して、シリル基含
有化合物１〜１０００重量部、好ましくは５〜５００重
量部であるのがよい。
含有化合物を反応させることで、目的とする化合物を得
ることが出来るのであるが、その反応割合に関しては、
一般式（II）および（III ）で示される構造を有するキ
ノンジアジド化合物１００重量部に対して、シリル基含
有化合物１〜１０００重量部、好ましくは５〜５００重
量部であるのがよい。
【００５０】本発明においては、上記のようにして得ら
れたシリル基含有キノンジアジド化合物を必須成分とす
るが、版の画像再現性を損なわない範囲、あるいは向上
させる目的で公知のキノンジアジド化合物を別途添加し
てもよい。その場合、シリル基を含有するキノンジアジ
ド化合物とシリル基を含有しないキノンジアジド化合物
のキノンジアジド化合物を構成する骨格は異なっていて
もよいし、また同じものであってもよい。さらに、キノ
ンジアジド化合物を構成する骨格が同じ場合でも、その
化合物中に占めるキノンジアジド基の量が異なっていて
もよい。
れたシリル基含有キノンジアジド化合物を必須成分とす
るが、版の画像再現性を損なわない範囲、あるいは向上
させる目的で公知のキノンジアジド化合物を別途添加し
てもよい。その場合、シリル基を含有するキノンジアジ
ド化合物とシリル基を含有しないキノンジアジド化合物
のキノンジアジド化合物を構成する骨格は異なっていて
もよいし、また同じものであってもよい。さらに、キノ
ンジアジド化合物を構成する骨格が同じ場合でも、その
化合物中に占めるキノンジアジド基の量が異なっていて
もよい。
【００５１】また、前記感光層の露光後の引張特性が
（１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2
（２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2
（３）破断伸度 ：１０％以上
といった物性を有する事が好ましい。
【００５２】本発明では、感光層の引張特性の初期弾性
率が５ｋｇｆ／ｍｍ2 以上５０ｋｇｆ／ｍｍ2 未満、好
ましくは７ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４５ｋｇｆ／ｍｍ2 未
満、さらに好ましくは１０ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４０ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 未満にすることが重要である。
率が５ｋｇｆ／ｍｍ2 以上５０ｋｇｆ／ｍｍ2 未満、好
ましくは７ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４５ｋｇｆ／ｍｍ2 未
満、さらに好ましくは１０ｋｇｆ／ｍｍ2 以上４０ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 未満にすることが重要である。
【００５３】また、１０％応力値は、０．０５ｋｇｆ／
ｍｍ2 以上３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 未満、好ましくは０．
１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上２．０ｋｇｆ／ｍｍ2 未満、さら
に好ましくは０．１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上１．５ｋｇｆ／
ｍｍ2 未満にすることが重要である。
ｍｍ2 以上３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 未満、好ましくは０．
１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上２．０ｋｇｆ／ｍｍ2 未満、さら
に好ましくは０．１ｋｇｆ／ｍｍ2 以上１．５ｋｇｆ／
ｍｍ2 未満にすることが重要である。
【００５４】上記の初期弾性率が５ｋｇｆ／ｍｍ2 未
満、１０％応力値が０．０５ｋｇｆ／ｍｍ2 未満の場合
は感光層がベタつき印刷時にヒッキ−の原因になる。
満、１０％応力値が０．０５ｋｇｆ／ｍｍ2 未満の場合
は感光層がベタつき印刷時にヒッキ−の原因になる。
【００５５】さらに、露光後の感光層、あるいはプライ
マ層、もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の
破断伸度１０％以上、好ましくは１５％以上に設計する
ことが重要である。破断伸度が１０％以下の場合はこれ
らの層が脆くなり、オフセット印刷を行った場合にこれ
らの層が破壊され、高耐刷力が得られない。
マ層、もしくはこの両方の層を合わせた層の引張特性の
破断伸度１０％以上、好ましくは１５％以上に設計する
ことが重要である。破断伸度が１０％以下の場合はこれ
らの層が脆くなり、オフセット印刷を行った場合にこれ
らの層が破壊され、高耐刷力が得られない。
【００５６】初期弾性率が５０ｋｇｆ／ｍｍ2 以上、破
断伸度１０％以下の場合は、例えば特公昭６１−５４２
２２号の実施例１に記載の感光層の引張り初期弾性率は
５６ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度５．０％で硬い感光層で
あるため、オフセット印刷を行った場合に感光層とイン
キ反発層との間で繰り返し応力がかかり、感光層自体の
破壊およびそれに引き続くインキ反発層との接着界面で
の破壊が起こり高耐刷力が得られない。
断伸度１０％以下の場合は、例えば特公昭６１−５４２
２２号の実施例１に記載の感光層の引張り初期弾性率は
５６ｋｇｆ／ｍｍ2 、破断伸度５．０％で硬い感光層で
あるため、オフセット印刷を行った場合に感光層とイン
キ反発層との間で繰り返し応力がかかり、感光層自体の
破壊およびそれに引き続くインキ反発層との接着界面で
の破壊が起こり高耐刷力が得られない。
【００５７】感光層の露光後の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ
６３０１に従って測定することが出来る。その測定方法
の一例を以下に示す。ガラス板上に感光液を塗布し、溶
媒を揮散させた後、１１５℃で加熱硬化させる。その
後、３ｋＷの超高圧水銀灯（オーク製作所製）を用い、
ＵＶメーター（オーク製作所製ライトメジャータイプＵ
Ｖ３６５）で１２ｍＷ／ｃｍ2 の照度で１０分間露光す
る。この後、ガラス板よりシートを剥がすことで約１０
０ミクロンの厚さの感光層シートを得る。このシートか
ら５ｍｍ×４０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テン
シロンＲＴＭ−１００（オリエンテック （株）製）を
用い、引張速度２０ｃｍ／分で初期弾性率、１０％応力
値、破断伸度を測定する。
６３０１に従って測定することが出来る。その測定方法
の一例を以下に示す。ガラス板上に感光液を塗布し、溶
媒を揮散させた後、１１５℃で加熱硬化させる。その
後、３ｋＷの超高圧水銀灯（オーク製作所製）を用い、
ＵＶメーター（オーク製作所製ライトメジャータイプＵ
Ｖ３６５）で１２ｍＷ／ｃｍ2 の照度で１０分間露光す
る。この後、ガラス板よりシートを剥がすことで約１０
０ミクロンの厚さの感光層シートを得る。このシートか
ら５ｍｍ×４０ｍｍの短冊状サンプルを切り取り、テン
シロンＲＴＭ−１００（オリエンテック （株）製）を
用い、引張速度２０ｃｍ／分で初期弾性率、１０％応力
値、破断伸度を測定する。
【００５８】露光後の引張特性を水なし平版印刷版原版
から測定する場合には、メタルハライドランプ（岩崎電
気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、ＵＶメー
ター（オーク製作所製ライトメジャータイプＵＶ−４０
２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で１０分間露光する。
露光後、カバーフィルムがある場合にはこれを剥離し、
室温３２℃、湿度８０％の条件で、“アイソパーＨ”／
ジエチレングリコールジメチルエーテル／エチルセロソ
ルブ／Ｎ−メチルジエタノールアミン＝８７／７／３／
３（重量比）からなる処理液をブラシを用いて版面に塗
布する。１分間処理後、ゴムスキージで版面に付着した
処理液を除去し、ついで版面と現像パッドに現像液（水
／ブチルカルビトール／２−エチル酢酸＝７０／３０／
２）（重量比）を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこす
り、シリコーンゴム層を除去し、感光層表面を露出させ
る。このような処理を施した版の裏側の支持体を適当な
方法により除去して感光層のシートを得ることができ
る。支持体が金属板の場合には、金属用の研磨機により
該金属板を削り取り、プラスチックフィルムないしはシ
ートの場合にはプラスチック用の研磨機によりプラスチ
ック支持体を削り取る方法が一つの例として挙げられる
が、場合によっては適当な溶剤を用いて支持体から感光
層シートを除去してもよい。ゴム弾性を有する支持体や
紙などの場合には適当な溶剤を用いるか、あるいは上記
と同様に物理的な方法により支持体を除去する。このよ
うにして、露光済み感光層シートを得ることができる。
このようにして得たシートを用いて上述の方法により初
期弾性率、破断伸度、１０％応力値を測定する。
から測定する場合には、メタルハライドランプ（岩崎電
気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、ＵＶメー
ター（オーク製作所製ライトメジャータイプＵＶ−４０
２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で１０分間露光する。
露光後、カバーフィルムがある場合にはこれを剥離し、
室温３２℃、湿度８０％の条件で、“アイソパーＨ”／
ジエチレングリコールジメチルエーテル／エチルセロソ
ルブ／Ｎ−メチルジエタノールアミン＝８７／７／３／
３（重量比）からなる処理液をブラシを用いて版面に塗
布する。１分間処理後、ゴムスキージで版面に付着した
処理液を除去し、ついで版面と現像パッドに現像液（水
／ブチルカルビトール／２−エチル酢酸＝７０／３０／
２）（重量比）を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこす
り、シリコーンゴム層を除去し、感光層表面を露出させ
る。このような処理を施した版の裏側の支持体を適当な
方法により除去して感光層のシートを得ることができ
る。支持体が金属板の場合には、金属用の研磨機により
該金属板を削り取り、プラスチックフィルムないしはシ
ートの場合にはプラスチック用の研磨機によりプラスチ
ック支持体を削り取る方法が一つの例として挙げられる
が、場合によっては適当な溶剤を用いて支持体から感光
層シートを除去してもよい。ゴム弾性を有する支持体や
紙などの場合には適当な溶剤を用いるか、あるいは上記
と同様に物理的な方法により支持体を除去する。このよ
うにして、露光済み感光層シートを得ることができる。
このようにして得たシートを用いて上述の方法により初
期弾性率、破断伸度、１０％応力値を測定する。
【００５９】本発明の感光層は通常は光剥離性感光層で
ある。光剥離性感光層とは、現像により、露光部感光層
が実質的に除去されることなく、その上のインキ反発層
が除去されるものを言う。公知の多官能化合物で架橋せ
しめるか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性基を
単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液に難
溶もしくは不溶とすることにより得られたものである。
逆にこれらの架橋や変性を行わない場合、感光層の露光
部は現像時にインキ反発層と共に除去される。
ある。光剥離性感光層とは、現像により、露光部感光層
が実質的に除去されることなく、その上のインキ反発層
が除去されるものを言う。公知の多官能化合物で架橋せ
しめるか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性基を
単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液に難
溶もしくは不溶とすることにより得られたものである。
逆にこれらの架橋や変性を行わない場合、感光層の露光
部は現像時にインキ反発層と共に除去される。
【００６０】架橋構造を導入せしめるために用いられる
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
−ト類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来るがこれらに限定されない。
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
−ト類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来るがこれらに限定されない。
【００６１】多官能イソシアネート類としては、パラフ
ェニレンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−ト
リレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４´−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイ
ソシアネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネー
ト（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネ
ート（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチル
カプロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネートー４ーイソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられるがこれらに限定されない。多
官能エポキシ化合物としては、ポリエチレングリコ−ル
ジグリシジルエ−テル類、ポリプロピレングリコ−ルジ
グリシジルエ−テル類、ビスフェノ−ルＡジグリシジル
エ−テル、トリメチロ−ルプロパントリグリシジルエ−
テルなどが挙げられるが、これらに限定されない。これ
らの中で好ましいものは、多官能イソシアネ−ト化合物
である。また、これら多官能化合物の使用量は、感光性
化合物１００重量部に対して１〜１５０重量部が好まし
く、より好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましく
は１０〜８０重量部である。
ェニレンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−ト
リレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４´−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイ
ソシアネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネー
ト（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネ
ート（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチル
カプロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネートー４ーイソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられるがこれらに限定されない。多
官能エポキシ化合物としては、ポリエチレングリコ−ル
ジグリシジルエ−テル類、ポリプロピレングリコ−ルジ
グリシジルエ−テル類、ビスフェノ−ルＡジグリシジル
エ−テル、トリメチロ−ルプロパントリグリシジルエ−
テルなどが挙げられるが、これらに限定されない。これ
らの中で好ましいものは、多官能イソシアネ−ト化合物
である。また、これら多官能化合物の使用量は、感光性
化合物１００重量部に対して１〜１５０重量部が好まし
く、より好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましく
は１０〜８０重量部である。
【００６２】これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常１５０℃以下で行うことが好まし
く、このために公知の触媒を併用することが好ましい。
わせない範囲、通常１５０℃以下で行うことが好まし
く、このために公知の触媒を併用することが好ましい。
【００６３】またキノンジアジド化合物に単官能化合物
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該感光性化合物の活性な基を例え
ばエステル化、アミド化、ウレタン化することなどが挙
げられる。感光性化合物の活性な基と反応させる化合物
としては、低分子であっても比較的高分子であってもよ
いし、感光性化合物にモノマをグラフト重合させてもよ
い。
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該感光性化合物の活性な基を例え
ばエステル化、アミド化、ウレタン化することなどが挙
げられる。感光性化合物の活性な基と反応させる化合物
としては、低分子であっても比較的高分子であってもよ
いし、感光性化合物にモノマをグラフト重合させてもよ
い。
【００６４】本発明における感光層の形態保持の機能を
果たすバインダポリマとしては、有機溶媒可能でかつフ
ィルム形成能のあるものであればいずれも使用可能であ
るが、好ましくはそのガラス転移温度（Ｔg ）が２０℃
以下のポリマおよびコポリマ、さらに好ましくはガラス
転移温度（Ｔg ）が０℃以下のポリマおよびコポリマを
挙げることが出来る。
果たすバインダポリマとしては、有機溶媒可能でかつフ
ィルム形成能のあるものであればいずれも使用可能であ
るが、好ましくはそのガラス転移温度（Ｔg ）が２０℃
以下のポリマおよびコポリマ、さらに好ましくはガラス
転移温度（Ｔg ）が０℃以下のポリマおよびコポリマを
挙げることが出来る。
【００６５】ガラス転移温度Ｔg （glass transition t
emperature）とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に（またはその逆に）変化する転移点
（温度）のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積（比
容）ー温度曲線、熱分析（ＤＳＣ，ＤＴＡ等）による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的（動的粘弾性等）および誘
電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ（dilatometer ）を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積（比容）ー温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。
emperature）とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に（またはその逆に）変化する転移点
（温度）のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積（比
容）ー温度曲線、熱分析（ＤＳＣ，ＤＴＡ等）による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的（動的粘弾性等）および誘
電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ（dilatometer ）を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積（比容）ー温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。
【００６６】以下にバインダポリマとなり得る代表的な
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定され
ず、これ以外のものでもよい。
【００６７】（１）ビニルポリマ類
以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。
れるポリマ、およびコポリマ。
【００６８】例えば、エチレン、プロピレン、１ーブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリ
ル酸ー２ーエチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸ｎーブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
ー２ーヒドロキシエチル、メタクリル酸ー２ーヒドロキ
シプロピル、アクリル酸ー２ーヒドロキシエチル、アク
リル酸ー２ーヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水
素フタレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３ーメチルー１ーブテン、ブチルビニ
ルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、αーシアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
シドやプロピレンオキシドを付加させた後（メタ）アク
リレート化したもの、およびこれらの誘導体を重合、共
重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダポリマ
として使用できる。
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリ
ル酸ー２ーエチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸ｎーブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
ー２ーヒドロキシエチル、メタクリル酸ー２ーヒドロキ
シプロピル、アクリル酸ー２ーヒドロキシエチル、アク
リル酸ー２ーヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水
素フタレート、２ー（メタ）アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３ーメチルー１ーブテン、ブチルビニ
ルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、αーシアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
シドやプロピレンオキシドを付加させた後（メタ）アク
リレート化したもの、およびこれらの誘導体を重合、共
重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダポリマ
として使用できる。
【００６９】ガラス転移温度が２０℃以下のビニル系ポ
リマの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが
挙げられるが、これらに限定されない。
リマの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが
挙げられるが、これらに限定されない。
【００７０】（ａ）ポリオレフィン類
例えばポリ（１ーブテン）、ポリ（５ーシクロヘキシル
ー１ーペンテン）、ポリ（１ーデセン）、ポリ（１，１
−ジクロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブテ
ン）、ポリ（１，１−ジメチルプロペン）、ポリ（１ー
ドデセン）、ポリエチレン、ポリ（１ーヘプテン）、ポ
リ（１ーヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６ーメチル
ー１ーヘプテン）、ポリ（５ーメチルー１ーヘキセ
ン）、ポリ（２ーメチルプロペン）、ポリ（１ーノネ
ン）、ポリ（１ーオクテン）、ポリ（１ーペンテン）、
ポリ（５ーフェニルー１ーペンテン）、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ（１ーブテン）等。
ー１ーペンテン）、ポリ（１ーデセン）、ポリ（１，１
−ジクロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブテ
ン）、ポリ（１，１−ジメチルプロペン）、ポリ（１ー
ドデセン）、ポリエチレン、ポリ（１ーヘプテン）、ポ
リ（１ーヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６ーメチル
ー１ーヘプテン）、ポリ（５ーメチルー１ーヘキセ
ン）、ポリ（２ーメチルプロペン）、ポリ（１ーノネ
ン）、ポリ（１ーオクテン）、ポリ（１ーペンテン）、
ポリ（５ーフェニルー１ーペンテン）、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ（１ーブテン）等。
【００７１】また、ポリ（ビニルブチルエーテル）、ポ
リ（ビニルエチルエーテル）、ポリ（ビニルイソブチル
エーテル）、ポリ（ビニルメチルエーテル）等。
リ（ビニルエチルエーテル）、ポリ（ビニルイソブチル
エーテル）、ポリ（ビニルメチルエーテル）等。
【００７２】（ｂ）ポリスチレン類
ガラス転移温度２０℃以下のポリスチレン誘導体として
は、例えばポリ（４ー［（２ーブトキシエトキシ）メチ
ル］スチレン）、ポリ（４ーデシルスチレン）、ポリ
（４ードデシルスチレン）、ポリ［４ー（２ーエトキシ
エトキシメチル）スチレン］、ポリ［４ー（１ーエチル
ヘキシロキシメチル）スチレン］、ポリ［４ー（ヘキシ
ロキシメチル）スチレン］、ポリ（４ーヘキシルスチレ
ン）、ポリ（４ーノニルスチレン）、ポリ［４ー（オク
チロキシメチル）スチレン］、ポリ（４ーオクチルスチ
レン）、ポリ（４ーテトラデシルスチレン）等が挙げら
れる。（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメタクリ
ル酸エステルポリマ ガラス転移温度２０℃以下のポリアクリレート類として
は、例えばポリ（ブチルアクリレート）、ポリ（sec ー
ブチルアクリレート）、ポリ（tertーブチルアクリレー
ト）、ポリ［２ー（２ーシアノエチルチオ）エチルアク
リレート］、ポリ［３ー（２ーシアノエチルチオ）プロ
ピルアクリレート］、ポリ［２ー（シアノメチルチオ）
エチルアクリレート］、ポリ［６ー（シアノメチルチ
オ）ヘキシルアクリレート］、ポリ［２ー（３ーシアノ
プロピルチオ）エチルアクリレート］、ポリ（２ーエト
キシエチルアクリレート）、ポリ（３ーエトキシプロピ
ルアクリレート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ
（２ーエチルブチルアクリレート）、ポリ（２ーエチル
ヘキシルアクリレート）、ポリ（５ーエチルー２ーノニ
ルアクリレート）、ポリ（２ーエチルチオエチルアクリ
レート）、ポリ（３ーエチルチオプロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヘプチルアクリレート）、ポリ（２ーヘプ
チルアクリレート）、ポリ（ヘキシルアクリレート）、
ポリ（イソブチルアクリレート）、ポリ（イソプロピル
アクリレート）、ポリ（２ーメトキシエチルアクリレー
ト）、ポリ（３ーメトキシプロピルアクリレート）、ポ
リ（２ーメチルブチルアクリレート）、ポリ（３ーメチ
ルブチルアクリレート）、ポリ（２ーメチルー７ーエチ
ルー４ーウンデシルアクリレート）、ポリ（２ーメチル
ペンチルアクリレート）、ポリ（４ーメチルー２ーペン
チルアクリレート）、ポリ（４ーメチルチオブチルアク
リレート）、ポリ（２ーメチルチオエチルアクリレー
ト）、ポリ（３ーメチルチオプロピルアクリレート）、
ポリ（ノニルアクリレート）、ポリ（オクチルアクリレ
ート）、ポリ（２ーオクチルアクリレート）、ポリ（３
ーペンチルアクリレート）、ポリ（プロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレート）等が代表例として
挙げられる。
は、例えばポリ（４ー［（２ーブトキシエトキシ）メチ
ル］スチレン）、ポリ（４ーデシルスチレン）、ポリ
（４ードデシルスチレン）、ポリ［４ー（２ーエトキシ
エトキシメチル）スチレン］、ポリ［４ー（１ーエチル
ヘキシロキシメチル）スチレン］、ポリ［４ー（ヘキシ
ロキシメチル）スチレン］、ポリ（４ーヘキシルスチレ
ン）、ポリ（４ーノニルスチレン）、ポリ［４ー（オク
チロキシメチル）スチレン］、ポリ（４ーオクチルスチ
レン）、ポリ（４ーテトラデシルスチレン）等が挙げら
れる。（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメタクリ
ル酸エステルポリマ ガラス転移温度２０℃以下のポリアクリレート類として
は、例えばポリ（ブチルアクリレート）、ポリ（sec ー
ブチルアクリレート）、ポリ（tertーブチルアクリレー
ト）、ポリ［２ー（２ーシアノエチルチオ）エチルアク
リレート］、ポリ［３ー（２ーシアノエチルチオ）プロ
ピルアクリレート］、ポリ［２ー（シアノメチルチオ）
エチルアクリレート］、ポリ［６ー（シアノメチルチ
オ）ヘキシルアクリレート］、ポリ［２ー（３ーシアノ
プロピルチオ）エチルアクリレート］、ポリ（２ーエト
キシエチルアクリレート）、ポリ（３ーエトキシプロピ
ルアクリレート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ
（２ーエチルブチルアクリレート）、ポリ（２ーエチル
ヘキシルアクリレート）、ポリ（５ーエチルー２ーノニ
ルアクリレート）、ポリ（２ーエチルチオエチルアクリ
レート）、ポリ（３ーエチルチオプロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヘプチルアクリレート）、ポリ（２ーヘプ
チルアクリレート）、ポリ（ヘキシルアクリレート）、
ポリ（イソブチルアクリレート）、ポリ（イソプロピル
アクリレート）、ポリ（２ーメトキシエチルアクリレー
ト）、ポリ（３ーメトキシプロピルアクリレート）、ポ
リ（２ーメチルブチルアクリレート）、ポリ（３ーメチ
ルブチルアクリレート）、ポリ（２ーメチルー７ーエチ
ルー４ーウンデシルアクリレート）、ポリ（２ーメチル
ペンチルアクリレート）、ポリ（４ーメチルー２ーペン
チルアクリレート）、ポリ（４ーメチルチオブチルアク
リレート）、ポリ（２ーメチルチオエチルアクリレー
ト）、ポリ（３ーメチルチオプロピルアクリレート）、
ポリ（ノニルアクリレート）、ポリ（オクチルアクリレ
ート）、ポリ（２ーオクチルアクリレート）、ポリ（３
ーペンチルアクリレート）、ポリ（プロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレート）等が代表例として
挙げられる。
【００７３】ガラス転移温度２０℃以下のポリメタクリ
レート類としては、例えばポリ（デシルメタクリレー
ト）、ポリ（ドデシルメタクリレート）、ポリ（２ーエ
チルヘキシルメタクリレート）、ポリ（オクタデシルメ
タクリレート）、ポリ（オクチルメタクリレート）、ポ
リ（テトラデシルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ヘキシ
ルメタクリレート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）
等が挙げられる。
レート類としては、例えばポリ（デシルメタクリレー
ト）、ポリ（ドデシルメタクリレート）、ポリ（２ーエ
チルヘキシルメタクリレート）、ポリ（オクタデシルメ
タクリレート）、ポリ（オクチルメタクリレート）、ポ
リ（テトラデシルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ヘキシ
ルメタクリレート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）
等が挙げられる。
【００７４】（２）未加硫ゴム
天然ゴム（ＮＲ）やブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン（ＢＲ）、スチレンーブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレンー
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステルーブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステルーブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テルーアクリルニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レンーイソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ルーブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリルーブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ルークロロプレン共重合体、アクリロニトリルーイソプ
レン共重合体、エチレンープロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジンースチレンーブタジエ
ン共重合体、スチレンーイソプレン共重合体などが挙げ
られる。
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン（ＢＲ）、スチレンーブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレンー
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステルーブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステルーブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テルーアクリルニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レンーイソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ルーブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリルーブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ルークロロプレン共重合体、アクリロニトリルーイソプ
レン共重合体、エチレンープロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジンースチレンーブタジエ
ン共重合体、スチレンーイソプレン共重合体などが挙げ
られる。
【００７５】これらの他に、ガラス転移温度２０℃以下
のゴム類の具体例としては、例えばポリ（１，３ーブタ
ジエン）、ポリ（２ークロロー１，３−ブタジエン）、
ポリ（２ーデシルー１，３ーブタジエン）、ポリ（２，
３−ジメチルー１，３−ブタジエン）、ポリ（２ーエチ
ルー１，３−ブタジエン）、ポリ（２ーヘプチルー１，
３−ブタジエン）、ポリ（２ーイソプロピル−１，３−
ブタジエン）、ポリ（２ーメチルー１，３−ブタジエ
ン）、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されない。
のゴム類の具体例としては、例えばポリ（１，３ーブタ
ジエン）、ポリ（２ークロロー１，３−ブタジエン）、
ポリ（２ーデシルー１，３ーブタジエン）、ポリ（２，
３−ジメチルー１，３−ブタジエン）、ポリ（２ーエチ
ルー１，３−ブタジエン）、ポリ（２ーヘプチルー１，
３−ブタジエン）、ポリ（２ーイソプロピル−１，３−
ブタジエン）、ポリ（２ーメチルー１，３−ブタジエ
ン）、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されない。
【００７６】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。
【００７７】（３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類）
トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２ー
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２ー
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。
【００７８】ガラス転移温度２０℃以下のポリオキシド
類の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポ
リ（ブタジエンオキシド）、ポリ（１ーブテンオキシ
ド）、ポリ（ドデセンオキシド）、ポリ（エチレンオキ
シド）、ポリ（イソブテンオキシド）、ポリホルムアル
デヒド、ポリ（プロピレンオキシド）、ポリ（テトラメ
チレンオキシド）、ポリ（トリメチレンオキシド）等が
挙げられる。
類の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポ
リ（ブタジエンオキシド）、ポリ（１ーブテンオキシ
ド）、ポリ（ドデセンオキシド）、ポリ（エチレンオキ
シド）、ポリ（イソブテンオキシド）、ポリホルムアル
デヒド、ポリ（プロピレンオキシド）、ポリ（テトラメ
チレンオキシド）、ポリ（トリメチレンオキシド）等が
挙げられる。
【００７９】（４）ポリエステル類
以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もバインダポリマとして使用可能で
ある。
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もバインダポリマとして使用可能で
ある。
【００８０】多価アルコールとしては、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、ｐ−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リスリト−ル、ジペンタエリスリト−ル、ソルビトール
等。
ール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、ｐ−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リスリト−ル、ジペンタエリスリト−ル、ソルビトール
等。
【００８１】多価カルボン酸よび多価カルボン酸無水物
としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。
としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。
【００８２】ラクトンとしては、βープロピオラクト
ン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、εーカ
プロラクトン等。
ン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、εーカ
プロラクトン等。
【００８３】ポリ（オキシジエチレンピメレイト）、ポ
リ（オキシジエチレンプロピルマロネイト）、ポリ（オ
キシジエチレンセバケート）、ポリ（オキシジエチレン
スベレイト）、ポリ（オキシジエチレンスクシネイ
ト）、ポリ（ペンタメチレンアジペイト）、ポリ（テト
ラメチレンアジペイト）、ポリ（テトラメチレンセバケ
ート）、ポリ（トリメチレンアジペイト）等が挙げられ
が、これらに限定されない。
リ（オキシジエチレンプロピルマロネイト）、ポリ（オ
キシジエチレンセバケート）、ポリ（オキシジエチレン
スベレイト）、ポリ（オキシジエチレンスクシネイ
ト）、ポリ（ペンタメチレンアジペイト）、ポリ（テト
ラメチレンアジペイト）、ポリ（テトラメチレンセバケ
ート）、ポリ（トリメチレンアジペイト）等が挙げられ
が、これらに限定されない。
【００８４】（５）ポリウレタン類
以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
（あるいはメタクリル）単量体とアクリル（あるいはメ
タクリル）酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
（あるいはメタクリル）単量体とアクリル（あるいはメ
タクリル）酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。
【００８５】イソシアネート類としては、パラフェニレ
ンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−トルイレ
ンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシア
ネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（Ｘ
ＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート
（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネート
（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネートー４ーイソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
ンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−トルイレ
ンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシア
ネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（Ｘ
ＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート
（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネート
（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネートー４ーイソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
【００８６】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキシドープロピレンオキシド
共重合体、テトラヒドロフランーエチレンオキシド共重
合体、テトラヒドロフランープロピレンオキシド共重合
体等を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチ
レンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキ
サメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、
ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチ
レンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεー
カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネ
ートジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビ
トール、メチルグルコジット、シュクローズ等を挙げる
ことが出来る。
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキシドープロピレンオキシド
共重合体、テトラヒドロフランーエチレンオキシド共重
合体、テトラヒドロフランープロピレンオキシド共重合
体等を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチ
レンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキ
サメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、
ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチ
レンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεー
カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネ
ートジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビ
トール、メチルグルコジット、シュクローズ等を挙げる
ことが出来る。
【００８７】また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
【００８８】さらに、分岐したポリウレタン樹脂や水酸
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。
【００８９】これらの他、ポリ（テトラメチレンヘキサ
メチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２ーブテン）
ヘキサメチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２ーブ
チン）ヘキサメチレンーウレタン）等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
メチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２ーブテン）
ヘキサメチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２ーブ
チン）ヘキサメチレンーウレタン）等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
【００９０】（６）ポリアミド類
従来提案されているポリアミド類もまたバインダポリマ
として使用できる。基本的な組成としては、次に示すモ
ノマ類のコポリマ−である。
として使用できる。基本的な組成としては、次に示すモ
ノマ類のコポリマ−である。
【００９１】εーカプロラクタム、ωーカプロラクタ
ム、ωーアミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジアミ
ン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタン、
２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソ
ホロンジアミン、ジグリコ−ル類、イソフタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。
ム、ωーアミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジアミ
ン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタン、
２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、イソ
ホロンジアミン、ジグリコ−ル類、イソフタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。
【００９２】さらに詳しく説明すると、ポリアミドは一
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
４８−７２２５０号公報に示されるような３，５−ジカ
ルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合す
ることによって得られるスルホン酸基またはスルホネー
ト基を含有するポリアミド、特開昭４９−４３４６５号
公報に示されているような分子中にエーテル結合を持つ
ジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちい
ずれか１種類を共重合して得られるところのエーテル結
合を有するポリアミド、特開昭５０−７６０５号公報に
示されているようなＮ，Ｎ’−ジ（γーアミノプロピ
ル）ピペラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含
有するポリアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル
酸等で四級化したポリアミド、特開昭５５−７４５３７
号公報で提案されている分子量１５０〜１５００のポリ
エーテルセグメントを含有する共重合ポリアミド、およ
びαー（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）ーεーカプロラ
クタムの開環重合またはαー（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルア
ミノ）ーεーカプロラクタムとεーカプロラクタムの開
環共重合で得られるところのポリアミド等が挙げられ
る。
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
４８−７２２５０号公報に示されるような３，５−ジカ
ルボキシベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合す
ることによって得られるスルホン酸基またはスルホネー
ト基を含有するポリアミド、特開昭４９−４３４６５号
公報に示されているような分子中にエーテル結合を持つ
ジカルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちい
ずれか１種類を共重合して得られるところのエーテル結
合を有するポリアミド、特開昭５０−７６０５号公報に
示されているようなＮ，Ｎ’−ジ（γーアミノプロピ
ル）ピペラジン等を共重合して得られる塩基性窒素を含
有するポリアミドおよびこれらのポリアミドをアクリル
酸等で四級化したポリアミド、特開昭５５−７４５３７
号公報で提案されている分子量１５０〜１５００のポリ
エーテルセグメントを含有する共重合ポリアミド、およ
びαー（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）ーεーカプロラ
クタムの開環重合またはαー（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルア
ミノ）ーεーカプロラクタムとεーカプロラクタムの開
環共重合で得られるところのポリアミド等が挙げられ
る。
【００９３】分子量１５０〜１５００のポリエーテルセ
グメントを含有する共重合ポリアミドとしては、末端に
アミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分子量が
１５０〜１５００であるポリオキシエチレンと脂肪族ジ
カルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を３０〜
７０重量％含有するところの共重合ポリアミドが挙げら
れる。
グメントを含有する共重合ポリアミドとしては、末端に
アミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分子量が
１５０〜１５００であるポリオキシエチレンと脂肪族ジ
カルボン酸またはジアミンとから成る構成単位を３０〜
７０重量％含有するところの共重合ポリアミドが挙げら
れる。
【００９４】またアルコール可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ωーアミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン３、４、５、６、８、１１、１
２、１３、６６、６１０、６／１０、１３／１３、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、εーカプロラク
タム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／４，４’
ージアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
εーカプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、εーカプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのＮ−メチロール、Ｎ−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ωーアミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン３、４、５、６、８、１１、１
２、１３、６６、６１０、６／１０、１３／１３、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、εーカプロラク
タム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／４，４’
ージアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
εーカプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、εーカプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのＮ−メチロール、Ｎ−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。
【００９５】以上のようなポリアミドを単独または混合
してバインダポリマとして用いることが出来る。
してバインダポリマとして用いることが出来る。
【００９６】これらバインダポリマと成りうるポリマは
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。
【００９７】これらバインダポリマの中ではポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
【００９８】また、バインダポリマの使用量は感光層が
画像再現性を有する範囲でればどのような割合でもよい
が、本発明における感光層の引張特性を十分に引き出す
ためには感光層成分に対して１０〜９０wt％使用するの
が適しており、さらに好ましい使用量は１５〜６５wt
％、最も好ましいのは２０〜５５wt％である。
画像再現性を有する範囲でればどのような割合でもよい
が、本発明における感光層の引張特性を十分に引き出す
ためには感光層成分に対して１０〜９０wt％使用するの
が適しており、さらに好ましい使用量は１５〜６５wt
％、最も好ましいのは２０〜５５wt％である。
【００９９】キノンジアジドスルホン酸エステルを用い
る場合、エステル化率が１０％未満である場合は、感光
性基の数が少ないため画像再現性、現像性の低下という
問題が生じる。一方、エステル化率が９０％より高い場
合は残存水酸基、すなわち架橋点の減少を意味するた
め、感光層の耐溶剤性、インキ反発層と感光層との間の
接着力に問題を引き起こす場合がある。
る場合、エステル化率が１０％未満である場合は、感光
性基の数が少ないため画像再現性、現像性の低下という
問題が生じる。一方、エステル化率が９０％より高い場
合は残存水酸基、すなわち架橋点の減少を意味するた
め、感光層の耐溶剤性、インキ反発層と感光層との間の
接着力に問題を引き起こす場合がある。
【０１００】バインダポリマが１０wt％未満である場合
には、満足な感光層物性を発現させることが困難であ
り、一方、９０wt％より多い場合は結果的に感光性化合
物の減量を意味するため、画像再現性、現像性、インキ
反発層と感光層との間の接着力などに問題を生じさせ
る。
には、満足な感光層物性を発現させることが困難であ
り、一方、９０wt％より多い場合は結果的に感光性化合
物の減量を意味するため、画像再現性、現像性、インキ
反発層と感光層との間の接着力などに問題を生じさせ
る。
【０１０１】上記の諸成分に加え、必要に応じて光増感
剤、酸、塩基、染料、顔料、光発色剤、界面活性剤、触
媒などの添加剤を加えることは任意である。特に、露光
現像された印刷版の検版性を向上させる意味から、適当
な染料、顔料、光発色剤などを単独あるいは二種以上組
み合わせて用いることにより、可視画像再現性に優れた
印刷版原版となりうる。
剤、酸、塩基、染料、顔料、光発色剤、界面活性剤、触
媒などの添加剤を加えることは任意である。特に、露光
現像された印刷版の検版性を向上させる意味から、適当
な染料、顔料、光発色剤などを単独あるいは二種以上組
み合わせて用いることにより、可視画像再現性に優れた
印刷版原版となりうる。
【０１０２】感光層の厚さは０．１〜１００μｍ、好ま
しくは約０．５〜１０μｍが適当である。薄すぎると感
光層中にピンホ−ルを生じやすくなり、一方厚すぎると
経済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。
しくは約０．５〜１０μｍが適当である。薄すぎると感
光層中にピンホ−ルを生じやすくなり、一方厚すぎると
経済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。
【０１０３】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。
【０１０４】例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼など
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄などがメッキあるいは蒸着された金属
板、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタ
レ−ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
などのようなプラスチックフィルムないしはシ−ト、ク
ロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性を有する支持
体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持体、もしくは
紙、樹脂コ−ト紙、アルミニウムなどの金属箔が張られ
た紙などが挙げられる。これらの支持体上にはハレ−シ
ョン防止その他の目的でさらに他の物質をコ−ティング
して支持体として用いることも可能である。
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄などがメッキあるいは蒸着された金属
板、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタ
レ−ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
などのようなプラスチックフィルムないしはシ−ト、ク
ロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性を有する支持
体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持体、もしくは
紙、樹脂コ−ト紙、アルミニウムなどの金属箔が張られ
た紙などが挙げられる。これらの支持体上にはハレ−シ
ョン防止その他の目的でさらに他の物質をコ−ティング
して支持体として用いることも可能である。
【０１０５】これらの内、好ましいのは金属板であり、
とりわけアルミニウムを用いた金属板が好ましい。この
ような金属板はそのまま用いるか、アルカリ水溶液等に
よる脱脂処理等によりプレ−ン化して使用する。もしく
は機械的方法、電解エッチング法等により砂目形状を形
成させてもよい。この際砂目形状を形成させる前に脱脂
処理を行うことは任意である。
とりわけアルミニウムを用いた金属板が好ましい。この
ような金属板はそのまま用いるか、アルカリ水溶液等に
よる脱脂処理等によりプレ−ン化して使用する。もしく
は機械的方法、電解エッチング法等により砂目形状を形
成させてもよい。この際砂目形状を形成させる前に脱脂
処理を行うことは任意である。
【０１０６】本発明の水なし平版印刷版において、支持
体と感光層との接着は、画像再現性、耐刷力などの基本
的な版性能にとって非常に重要であるので、好ましくは
支持体に感光層を塗布する前に、感光層と支持体との十
分な接着性を得るために支持体にプライマ層を設けるの
がよい。
体と感光層との接着は、画像再現性、耐刷力などの基本
的な版性能にとって非常に重要であるので、好ましくは
支持体に感光層を塗布する前に、感光層と支持体との十
分な接着性を得るために支持体にプライマ層を設けるの
がよい。
【０１０７】プライマ層が、感光層で述べた以下のよう
なバインダポリマを成分として含んでいることが好まし
い。
なバインダポリマを成分として含んでいることが好まし
い。
【０１０８】（１）ビニルポリマ類
（ａ）ポリオレフィン類
（ｂ）ポリスチレン類
（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エ
ステルポリマ類 （２）未加流ゴム （３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類） （４）ポリエステル類 （５）ポリウレタン類 （６）ポリアミド類 更に、これ以外に、次のようなバインダポリマを用いる
ことも可能であるが、これらに限定されず、これ以外の
ものでもよい。
ステルポリマ類 （２）未加流ゴム （３）ポリオキシド類（ポリエ−テル類） （４）ポリエステル類 （５）ポリウレタン類 （６）ポリアミド類 更に、これ以外に、次のようなバインダポリマを用いる
ことも可能であるが、これらに限定されず、これ以外の
ものでもよい。
【０１０９】尿素樹脂、フェノ−ル樹脂類、ベンゾグア
ナミン樹脂類、フェノキシ樹脂類、ジアゾ樹脂類、セル
ロースおよびその誘導体、セルロースおよびその誘導
体、キチン、キトサン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大
豆タンパク質、アルブミンなど。
ナミン樹脂類、フェノキシ樹脂類、ジアゾ樹脂類、セル
ロースおよびその誘導体、セルロースおよびその誘導
体、キチン、キトサン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大
豆タンパク質、アルブミンなど。
【０１１０】これらのバインダポリマは単独で、あるい
は二種以上混合して、さらには感光層で述べたような架
橋剤などと共に用いることができる。
は二種以上混合して、さらには感光層で述べたような架
橋剤などと共に用いることができる。
【０１１１】これらの中では、アクリル酸エステルポリ
マおよびメタクリル酸エステルポリマ類、未加流ゴム、
ポリウレタン樹脂、ポリオキシド類、尿素樹脂、ジアゾ
樹脂類、ミルクカゲイン、ゼラチン等を単独、または他
のバインダポリマと混合して用いるのが好ましい。特
に、アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エス
テルポリマ類、未加流ゴム、ポリウレタン樹脂、ポリオ
キシド類、尿素樹脂等を単独、または他のバインダポリ
マと混合して用いるのが好ましい。
マおよびメタクリル酸エステルポリマ類、未加流ゴム、
ポリウレタン樹脂、ポリオキシド類、尿素樹脂、ジアゾ
樹脂類、ミルクカゲイン、ゼラチン等を単独、または他
のバインダポリマと混合して用いるのが好ましい。特
に、アクリル酸エステルポリマおよびメタクリル酸エス
テルポリマ類、未加流ゴム、ポリウレタン樹脂、ポリオ
キシド類、尿素樹脂等を単独、または他のバインダポリ
マと混合して用いるのが好ましい。
【０１１２】また、バインダポリマの使用量は支持体と
感光層とを接着させうる範囲であればどのような割合で
もよいが、本発明におけるプライマ層成分中に５〜１０
０wt％使用するのが好ましく、より好ましくは１０〜９
９wt％、最も好ましいのは２０〜９５wt％である。
感光層とを接着させうる範囲であればどのような割合で
もよいが、本発明におけるプライマ層成分中に５〜１０
０wt％使用するのが好ましく、より好ましくは１０〜９
９wt％、最も好ましいのは２０〜９５wt％である。
【０１１３】また上記プライマ層を構成するアンカー剤
としては、例えばシランカップリング剤を用いる事が出
来、また有機チタネート等も有効である。
としては、例えばシランカップリング剤を用いる事が出
来、また有機チタネート等も有効である。
【０１１４】基板からのハレ−ションを防止するためや
検版性の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、
酸化亜鉛のような白色顔料や黄色顔料を添加することも
できる。
検版性の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、
酸化亜鉛のような白色顔料や黄色顔料を添加することも
できる。
【０１１５】さらに、塗工性を改良する目的で、界面活
性剤等を添加することも任意である。
性剤等を添加することも任意である。
【０１１６】上記のプライマ層を形成するための組成物
は、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な有機溶媒に
溶解させることによって組成物溶液として調製される。
かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必要な温度で
必要な時間加熱することによりプライマ層が形成され
る。
は、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な有機溶媒に
溶解させることによって組成物溶液として調製される。
かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必要な温度で
必要な時間加熱することによりプライマ層が形成され
る。
【０１１７】プライマ層の厚さは０．１〜１００μｍ、
好ましくは０．３〜５０μｍ、より好ましくは０．５〜
３０μｍが選ばれる。薄すぎると基板表面の形態欠陥お
よび化学的悪影響の遮断効果が劣り、一方厚すぎると経
済的に不利になるので上記の範囲が好ましい。
好ましくは０．３〜５０μｍ、より好ましくは０．５〜
３０μｍが選ばれる。薄すぎると基板表面の形態欠陥お
よび化学的悪影響の遮断効果が劣り、一方厚すぎると経
済的に不利になるので上記の範囲が好ましい。
【０１１８】プライマ層中の各成分の配合割合について
は特に限定されないが、好ましくは上記のバインダ−ポ
リマの一種もしくは二種以上を１００重量部、必要に応
じて架橋剤を０〜１００重量部、染料あるいは顔料など
の添加剤を０〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重
量部加えることにより設けるのがよい。
は特に限定されないが、好ましくは上記のバインダ−ポ
リマの一種もしくは二種以上を１００重量部、必要に応
じて架橋剤を０〜１００重量部、染料あるいは顔料など
の添加剤を０〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重
量部加えることにより設けるのがよい。
【０１１９】本発明の水なし平版印刷版において、感光
層とインキ反発層との接着は、画像再現性、耐刷力など
の基本的な版性能にとって非常に重要であるので、必要
に応じて層間の接着剤層を設けたり、各層に接着性改良
成分を添加したりすることが可能である。感光層とイン
キ反発層間の接着のために、層間に公知のシリコ−ンプ
ライマやシランカップリング剤を設けたり、インキ反発
層あるいは感光層にシリコ−ンプライマやシランカップ
リング剤を添加すると効果的である。
層とインキ反発層との接着は、画像再現性、耐刷力など
の基本的な版性能にとって非常に重要であるので、必要
に応じて層間の接着剤層を設けたり、各層に接着性改良
成分を添加したりすることが可能である。感光層とイン
キ反発層間の接着のために、層間に公知のシリコ−ンプ
ライマやシランカップリング剤を設けたり、インキ反発
層あるいは感光層にシリコ−ンプライマやシランカップ
リング剤を添加すると効果的である。
【０１２０】本発明に用いられるインキ反発層として
は、例えばシリコ−ンゴムを用いたもの、フッ素樹脂を
用いたものが挙げられるが、これらに限定されず、水な
し平版印刷版に使用可能とされている公知のインキ反発
層であれば何でもよい。
は、例えばシリコ−ンゴムを用いたもの、フッ素樹脂を
用いたものが挙げられるが、これらに限定されず、水な
し平版印刷版に使用可能とされている公知のインキ反発
層であれば何でもよい。
【０１２１】インキ反発層としてシリコ−ンゴムを用い
る場合、シリコ−ンゴム層は、通常下記一般式（IX）の
ような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状
有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
る場合、シリコ−ンゴム層は、通常下記一般式（IX）の
ような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状
有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
【０１２２】
【化５】
（式中、ｎは２以上の整数、Ｒ１２、Ｒ１３は炭素数１
〜５０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜
５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜
５０の置換あるいは非置換のアリ−ル基の群から選ばれ
る少なくとも一種であい、それぞれ同一でも異なってい
てもよい。Ｒ１２、Ｒ１３の全体の４０％以下がビニ
ル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニル
であり、全体の６０％以上がメチル基であるものが好ま
しい。） このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添
加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコ
−ンゴムとすることもできる。
〜５０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜
５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜
５０の置換あるいは非置換のアリ−ル基の群から選ばれ
る少なくとも一種であい、それぞれ同一でも異なってい
てもよい。Ｒ１２、Ｒ１３の全体の４０％以下がビニ
ル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニル
であり、全体の６０％以上がメチル基であるものが好ま
しい。） このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添
加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコ
−ンゴムとすることもできる。
【０１２３】この線状有機ポリシロキサンには、通常以
下の一般式（Ｘ）に示すような架橋剤を添加することに
より架橋させる。
下の一般式（Ｘ）に示すような架橋剤を添加することに
より架橋させる。
【０１２４】
Ｒ１４m ＳｉＸ4-m （Ｘ）
（式中、ｍは０〜２の整数であり、Ｒ１４はアルキル
基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合
わされた基を示し、それらはハロゲン原子、アミン基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、（メ
タ）アクリロキシ基、チオール基等の官能基を置換基と
して有していてもよい。Ｘは水素原子、水酸基アルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基などの官
能基を示している。） 架橋剤としては、上記のようないわゆる室温（低温）硬
化型のシリコ−ンゴムに使われている多官能シラン化合
物をあげることが出来る。例えば、トリメトキシシリル
基、アミノ基、グリシジル基、メタクリル基、アリル
基、ビニル基等を有するアセトキシシラン、ケトオキシ
ムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシ
ランなどが挙げられるが、これらに限定されない。
基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合
わされた基を示し、それらはハロゲン原子、アミン基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、（メ
タ）アクリロキシ基、チオール基等の官能基を置換基と
して有していてもよい。Ｘは水素原子、水酸基アルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基などの官
能基を示している。） 架橋剤としては、上記のようないわゆる室温（低温）硬
化型のシリコ−ンゴムに使われている多官能シラン化合
物をあげることが出来る。例えば、トリメトキシシリル
基、アミノ基、グリシジル基、メタクリル基、アリル
基、ビニル基等を有するアセトキシシラン、ケトオキシ
ムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシ
ランなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【０１２５】これらは通常線状有機ポリシロキサンとし
て末端が水酸基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱ア
ミド型などのシリコ−ンゴムとなる。
て末端が水酸基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱ア
ミド型などのシリコ−ンゴムとなる。
【０１２６】このような縮合型の架橋を行うシリコ−ン
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ（II）オクトエ−ト、ナフテン酸塩、あるいは塩化白
金酸のような触媒、あるいはこれ以外に知られている公
知の触媒を添加してもよい。
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ（II）オクトエ−ト、ナフテン酸塩、あるいは塩化白
金酸のような触媒、あるいはこれ以外に知られている公
知の触媒を添加してもよい。
【０１２７】また、ラジカル開始剤により、線状有機ポ
リシロキサンを硬化させてシリコ−ンゴムとすることも
可能である。この際、公知のラジカル開始剤を適当量加
えることは任意である。
リシロキサンを硬化させてシリコ−ンゴムとすることも
可能である。この際、公知のラジカル開始剤を適当量加
えることは任意である。
【０１２８】また、ＳｉＨ基と−ＣＨ＝ＣＨ−基との付
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、１分子に２
個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分： （１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオル
ガノポリシロキサン （２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合２個有するオル
ガノポリシロキサン （３）付加触媒 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分（１）
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の基としては、置換もしくは非
置換のアルキル基、アリール基などが挙げられるがこれ
らに限定されない。成分（１）には水酸基を微量含有さ
せてもよい。成分（２）は成分（１）と反応してシリコ
ーンゴム層を形成するが、感光層に対する接着性の付与
の役割も果たす。成分（２）の水酸基は分子鎖末端、中
間のいずれにあっても良い。水素以外の有機基としては
成分（１）と同様のものから選ばれる。成分（１）と成
分（２）の有機基はインキ反発性向上の点で、総じて基
数の６０％以上がメチル基であることが好ましい。成分
（１）および成分（２）の分子構造は直鎖状、環状、分
岐状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量
が１，０００を越えることがゴム物性の面で好ましく、
更に成分（１）の分子量が１，０００を越えることが好
ましい。
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、１分子に２
個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分： （１）１分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基（望ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオル
ガノポリシロキサン （２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合２個有するオル
ガノポリシロキサン （３）付加触媒 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分（１）
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の基としては、置換もしくは非
置換のアルキル基、アリール基などが挙げられるがこれ
らに限定されない。成分（１）には水酸基を微量含有さ
せてもよい。成分（２）は成分（１）と反応してシリコ
ーンゴム層を形成するが、感光層に対する接着性の付与
の役割も果たす。成分（２）の水酸基は分子鎖末端、中
間のいずれにあっても良い。水素以外の有機基としては
成分（１）と同様のものから選ばれる。成分（１）と成
分（２）の有機基はインキ反発性向上の点で、総じて基
数の６０％以上がメチル基であることが好ましい。成分
（１）および成分（２）の分子構造は直鎖状、環状、分
岐状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量
が１，０００を越えることがゴム物性の面で好ましく、
更に成分（１）の分子量が１，０００を越えることが好
ましい。
【０１２９】成分（１）としては、α，ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の（メチルシロ
キサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが例示さ
れ、成分（２）としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の（メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示されるがこれらに限定されず、他のものでもよい。
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の（メチルシロ
キサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが例示さ
れ、成分（２）としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の（メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示されるがこれらに限定されず、他のものでもよい。
【０１３０】成分（３）の付加触媒は公知のものの中か
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ（メチルビニル）シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素ー炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などの架橋抑制剤を適当量添加することも可能である。
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ（メチルビニル）シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素ー炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などの架橋抑制剤を適当量添加することも可能である。
【０１３１】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキ
サン）を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン（もしくはシロキ
サン）を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
【０１３２】このようなシリコ−ンゴム層の引張特性と
しては、初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／mm2 以上０．
０９ｋｇｆ／mm2 未満、好ましくは０．０１２ｋｇｆ／
mm2以上０．０７ｋｇｆ／mm2 未満、また、５０％応力
値は、０．００５ｋｇｆ／mm2 以上０．０４ｋｇｆ／mm
2 未満、好ましくは０．００７ｋｇｆ／mm2 以上０．０
２５ｋｇｆ／mm2 未満にすることが重要である。
しては、初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／mm2 以上０．
０９ｋｇｆ／mm2 未満、好ましくは０．０１２ｋｇｆ／
mm2以上０．０７ｋｇｆ／mm2 未満、また、５０％応力
値は、０．００５ｋｇｆ／mm2 以上０．０４ｋｇｆ／mm
2 未満、好ましくは０．００７ｋｇｆ／mm2 以上０．０
２５ｋｇｆ／mm2 未満にすることが重要である。
【０１３３】上記の初期弾性率が０．００８ｋｇｆ／mm
2 未満、５０％応力値が０．００５ｋｇｆ／mm2 未満の
場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が０．０９
ｋｇｆ／mm2 以上、５０％応力値が０．０４ｋｇｆ／mm
2 以上の場合は、たとえば特公昭５６−２３１５０号の
実施例１に記載のシリコ−ンゴム層の引張り初期弾性率
は０．１５ｋｇｆ／mm2 、５０％応力値が０．０６ｋｇ
ｆ／mm2 で、シリコ−ンゴム層としては硬いためにイン
キ反撥性および耐スクラッチ性が低下する。
2 未満、５０％応力値が０．００５ｋｇｆ／mm2 未満の
場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が０．０９
ｋｇｆ／mm2 以上、５０％応力値が０．０４ｋｇｆ／mm
2 以上の場合は、たとえば特公昭５６−２３１５０号の
実施例１に記載のシリコ−ンゴム層の引張り初期弾性率
は０．１５ｋｇｆ／mm2 、５０％応力値が０．０６ｋｇ
ｆ／mm2 で、シリコ−ンゴム層としては硬いためにイン
キ反撥性および耐スクラッチ性が低下する。
【０１３４】さらにシリコ−ンゴム層の引張特性の伸度
は、１００％以上、好ましくは１５０％以上１２００％
未満にすることが重要である。伸度が１００％以下の場
合は耐刷性が悪くなる。
は、１００％以上、好ましくは１５０％以上１２００％
未満にすることが重要である。伸度が１００％以下の場
合は耐刷性が悪くなる。
【０１３５】シリコ−ンゴム層の厚さは約０．５〜１０
０μｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコ−ンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。
０μｍ、好ましくは約０．５〜１０μｍが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコ−ンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。
【０１３６】シリコ−ンゴム層中の各成分の配合割合に
ついては特に限定されないが、縮合型の架橋を行うシリ
コ−ンゴム層の場合には、線状有機ポリシロキサンを１
００重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物を０．１〜１００重量部、必要に応
じて公知の触媒を０〜５０重量部加えた組成で設けるの
がよい。付加型シリコーンゴム層の場合には、１分子中
にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくは
ビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキ
サンを１００重量部、１分子中に少なくともＳｉＨ結合
２個有するオルガノポリシロキサンを０．１〜１００重
量部、必要に応じて付加触媒を０〜５０重量部加えた組
成で設けるのがよい。
ついては特に限定されないが、縮合型の架橋を行うシリ
コ−ンゴム層の場合には、線状有機ポリシロキサンを１
００重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物を０．１〜１００重量部、必要に応
じて公知の触媒を０〜５０重量部加えた組成で設けるの
がよい。付加型シリコーンゴム層の場合には、１分子中
にケイ素原子に直接結合したアルケニル基（望ましくは
ビニル基）を少なくとも２個有するオルガノポリシロキ
サンを１００重量部、１分子中に少なくともＳｉＨ結合
２個有するオルガノポリシロキサンを０．１〜１００重
量部、必要に応じて付加触媒を０〜５０重量部加えた組
成で設けるのがよい。
【０１３７】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフイルムの真空密着性を改善す
るために、インキ反発層の表面にプレ−ンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラス
チックシ−ト状物を塗布または転写して保護層とするこ
ともできる。保護フイルム、保護層は露光工程において
有用であるが、現像工程においては、剥離または溶解に
よって除去され、印刷工程においては不必要なものであ
る。
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフイルムの真空密着性を改善す
るために、インキ反発層の表面にプレ−ンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネ−トまたは薄いプラス
チックシ−ト状物を塗布または転写して保護層とするこ
ともできる。保護フイルム、保護層は露光工程において
有用であるが、現像工程においては、剥離または溶解に
よって除去され、印刷工程においては不必要なものであ
る。
【０１３８】有用な保護フィルムは紫外線透過性を有
し、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコーテイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。
し、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコーテイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。
【０１３９】本発明で用いられる水なし平版印刷版は、
例えば次のようにして製造される。まず必要に応じて各
種粗面化処理をした支持体の上に、リバ−スロ−ルコ−
タ、エアナイフコ−タ、メ−ヤバ−コ−タなどの通常の
コ−タ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用い感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要に応
じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述したよう
に支持体と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設け
た後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着層
を塗布、乾燥後、インキ反発層を形成しうる溶液を感光
層上または接着層上に同様の方法で塗布し、通常６０〜
１３０℃の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せし
めてインキ反発層を形成する。必要ならば、保護層をさ
らに塗布するか保護フィルムを該インキ反発層上にラミ
ネ−タなどを用いてカバ−する。このようにして製造さ
れた水なし平版印刷版は、例えば、光透過性保護フィル
ムの場合はそのまま、あるいは剥いで、光透過性の劣る
フィルムの場合は剥いでから真空密着されたネガフィル
ムを通して活性光線で露光される。この露光工程で用い
られる光源は、紫外線を豊富に発生するものであり、水
銀灯、カ−ボンア−ク灯、キセノンランプ、メタルハラ
イドランプ、タングステンランプ、蛍光灯等を使うこと
ができる。
例えば次のようにして製造される。まず必要に応じて各
種粗面化処理をした支持体の上に、リバ−スロ−ルコ−
タ、エアナイフコ−タ、メ−ヤバ−コ−タなどの通常の
コ−タ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用い感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要に応
じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述したよう
に支持体と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設け
た後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着層
を塗布、乾燥後、インキ反発層を形成しうる溶液を感光
層上または接着層上に同様の方法で塗布し、通常６０〜
１３０℃の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せし
めてインキ反発層を形成する。必要ならば、保護層をさ
らに塗布するか保護フィルムを該インキ反発層上にラミ
ネ−タなどを用いてカバ−する。このようにして製造さ
れた水なし平版印刷版は、例えば、光透過性保護フィル
ムの場合はそのまま、あるいは剥いで、光透過性の劣る
フィルムの場合は剥いでから真空密着されたネガフィル
ムを通して活性光線で露光される。この露光工程で用い
られる光源は、紫外線を豊富に発生するものであり、水
銀灯、カ−ボンア−ク灯、キセノンランプ、メタルハラ
イドランプ、タングステンランプ、蛍光灯等を使うこと
ができる。
【０１４０】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のインキ反発層、あるいは場合によってはその下の感光
層が除去され、感光層あるいはプライマ層表面が露出し
インキ受容部となる。
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のインキ反発層、あるいは場合によってはその下の感光
層が除去され、感光層あるいはプライマ層表面が露出し
インキ受容部となる。
【０１４１】本発明において用いられる現像液として
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパー”Ｅ，Ｇ，Ｈ（エッソ化学（株）製）ある
いはガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエ
ン、キシレンなど）あるいはハロゲン化炭化水素類（ト
リクレンなど）に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好ましいがこれ
らに限定されない。
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパー”Ｅ，Ｇ，Ｈ（エッソ化学（株）製）ある
いはガソリン、灯油など）、芳香族炭化水素類（トルエ
ン、キシレンなど）あるいはハロゲン化炭化水素類（ト
リクレンなど）に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好ましいがこれ
らに限定されない。
【０１４２】アルコ−ル類（メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、２ーメトキシエタノール、カ
ルビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール等） エ−テル類（メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビト
ール、エチルカルビト−ル、ブチルカルビト−ル、ジオ
キサン等） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、４ーメチル
ー１，３−ジオキソランー２ーオン等） エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテ−ト、メチル
セロソルブアセテート、カルビト−ルアセテ−ト、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート等） その他（トリエチルフォスフェート等） 上記現像液にアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活性剤等種々
の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加したものも使
用する事が出来る。アルカリ剤としては、例えば炭酸ナ
トリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アルカリ剤、あ
るいはモノ、ジ、またはトリエタノールアミン、モノ、
ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、またはトリエ
チルアミン、モノ、またはジイソプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプロパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の有機ア
ミン化合物等が挙げられる。また、クリスタルバイオレ
ット、アストラゾンレッドなどの染料や発色剤等を現像
液に加えて現像と同時に画線部の染色あるいは発色を行
うことも出来る。あるいは現像後の版を染色液に浸漬す
ることにより後処理として染色する事もできる。 現像
方法としては、手による現像でも公知の現像装置による
現像でもよいが、好ましくは前処理部と現像部、及び後
処理部がこの順に設けられている現像装置を用いるのが
良い。現像装置の具体例としては、東レ（株）製のＴＷ
Ｌ−１１６０、ＴＷＬ−６５０などの現像装置、あるい
は特開平４−２２６５号や特開平５−２２７２号、特開
平５−６０００号などに開示されている現像装置を挙げ
ることができる。また、これらの現像装置を適当に組み
合わせて使用することもできる。
プロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、２ーメトキシエタノール、カ
ルビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール等） エ−テル類（メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビト
ール、エチルカルビト−ル、ブチルカルビト−ル、ジオ
キサン等） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、４ーメチル
ー１，３−ジオキソランー２ーオン等） エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテ−ト、メチル
セロソルブアセテート、カルビト−ルアセテ−ト、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート等） その他（トリエチルフォスフェート等） 上記現像液にアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活性剤等種々
の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加したものも使
用する事が出来る。アルカリ剤としては、例えば炭酸ナ
トリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アルカリ剤、あ
るいはモノ、ジ、またはトリエタノールアミン、モノ、
ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、またはトリエ
チルアミン、モノ、またはジイソプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプロパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の有機ア
ミン化合物等が挙げられる。また、クリスタルバイオレ
ット、アストラゾンレッドなどの染料や発色剤等を現像
液に加えて現像と同時に画線部の染色あるいは発色を行
うことも出来る。あるいは現像後の版を染色液に浸漬す
ることにより後処理として染色する事もできる。 現像
方法としては、手による現像でも公知の現像装置による
現像でもよいが、好ましくは前処理部と現像部、及び後
処理部がこの順に設けられている現像装置を用いるのが
良い。現像装置の具体例としては、東レ（株）製のＴＷ
Ｌ−１１６０、ＴＷＬ−６５０などの現像装置、あるい
は特開平４−２２６５号や特開平５−２２７２号、特開
平５−６０００号などに開示されている現像装置を挙げ
ることができる。また、これらの現像装置を適当に組み
合わせて使用することもできる。
【０１４３】
【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４４】なお、引張特性の試験方法は次の通りであ
る。感光層の引張特性はＪＩＳ Ｋ６３０１に従って測
定する。ガラス板上に感光液を塗布し、溶媒を揮散させ
た後、１１５℃で加熱硬化させた。この後、ガラス板よ
りシートを剥がすことで約１００ミクロンの厚さのシー
トを得た。このシ−トから５ｍｍ×４０ｍｍの短冊状サ
ンプルを切り取り、テンンシロン ＲＴＭ−１００（オ
リエンテック（株）製）を用い、引張速度 ２０cm／分
で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を測定した。
る。感光層の引張特性はＪＩＳ Ｋ６３０１に従って測
定する。ガラス板上に感光液を塗布し、溶媒を揮散させ
た後、１１５℃で加熱硬化させた。この後、ガラス板よ
りシートを剥がすことで約１００ミクロンの厚さのシー
トを得た。このシ−トから５ｍｍ×４０ｍｍの短冊状サ
ンプルを切り取り、テンンシロン ＲＴＭ−１００（オ
リエンテック（株）製）を用い、引張速度 ２０cm／分
で初期弾性率、１０％応力、破断伸度を測定した。
【０１４５】シリコーンゴム層の引張特性は、ＪＩＳ
Ｋ６３０１に従って測定する。テフロン板にシリコーン
ゴム液を塗布し、乾燥した後、テフロン板よりシートを
剥がし、得られた約３００ミクロンの厚さのシートから
４号ダンベルでテストピースを作製し、テンシロンＲＴ
Ｍ−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速
度２０ｃｍ／分で、初期弾性率、５０％応力、破断伸度
を測定した。
Ｋ６３０１に従って測定する。テフロン板にシリコーン
ゴム液を塗布し、乾燥した後、テフロン板よりシートを
剥がし、得られた約３００ミクロンの厚さのシートから
４号ダンベルでテストピースを作製し、テンシロンＲＴ
Ｍ−１００（オリエンテック（株）製）を用い、引張速
度２０ｃｍ／分で、初期弾性率、５０％応力、破断伸度
を測定した。
【０１４６】合成例１
（キノンジアジド化合物の合成）グリシジルアクリレ−
ト４７ｇと２−ヒドロキシ安息香酸５５ｇとをジオキサ
ン２００ｇに溶解させた。次に、テトラエチルアンモニ
ウムブロミド２．７ｇとヒドロキノン１．４ｇとを加
え、７０℃で４時間、攪拌しながら反応させた。反応
後、水５００ｇとジエチルエ−テル５００ｇの入ったビ
−カ−中に反応溶液を注ぎ、このビ−カ−の中の溶液全
体を分液ロ−ト中に移した。分液ロ−トにより水層と有
機層を分離し、有機層の溶媒を減圧乾燥により除去し、
一般式（II）で示される構造と一般式（III ）で示され
る構造とをそれぞれ一つずつ有する化合物を得た。
ト４７ｇと２−ヒドロキシ安息香酸５５ｇとをジオキサ
ン２００ｇに溶解させた。次に、テトラエチルアンモニ
ウムブロミド２．７ｇとヒドロキノン１．４ｇとを加
え、７０℃で４時間、攪拌しながら反応させた。反応
後、水５００ｇとジエチルエ−テル５００ｇの入ったビ
−カ−中に反応溶液を注ぎ、このビ−カ−の中の溶液全
体を分液ロ−ト中に移した。分液ロ−トにより水層と有
機層を分離し、有機層の溶媒を減圧乾燥により除去し、
一般式（II）で示される構造と一般式（III ）で示され
る構造とをそれぞれ一つずつ有する化合物を得た。
【０１４７】この化合物２０ｇと１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリドとをジオキサ
ン１００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０Ｇ
を水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％
溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下し
た。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に
液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、攪
拌しながら反応させた。反応後、水１０００ｇの入った
ビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させ
た。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、キ
ノンジアジド化合物−１を得た。
−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリドとをジオキサ
ン１００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０Ｇ
を水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％
溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下し
た。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に
液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、攪
拌しながら反応させた。反応後、水１０００ｇの入った
ビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させ
た。ビ−カ−中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、キ
ノンジアジド化合物−１を得た。
【０１４８】合成例２
（キノンジアジド化合物の合成）合成例１で得られた化
合物５０ｇとメタクリル酸メチル５ｇ，メタクリル酸ヘ
キシル１０ｇとをジオキサン２５０ｇに溶解させ、アゾ
ビスイソブチロニトリル０．１２ｇを加え、窒素雰囲気
の下で６５℃４時間重合反応を行った。反応後、メタノ
−ル１０００ｇの入ったビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、
生成物を析出、沈降させた。ビ−カ−中の上澄液を除去
し、減圧乾燥を行い、キノンジアジド化合物−２を得
た。
合物５０ｇとメタクリル酸メチル５ｇ，メタクリル酸ヘ
キシル１０ｇとをジオキサン２５０ｇに溶解させ、アゾ
ビスイソブチロニトリル０．１２ｇを加え、窒素雰囲気
の下で６５℃４時間重合反応を行った。反応後、メタノ
−ル１０００ｇの入ったビ−カ−中に反応溶液を注ぎ、
生成物を析出、沈降させた。ビ−カ−中の上澄液を除去
し、減圧乾燥を行い、キノンジアジド化合物−２を得
た。
【０１４９】合成例３
（キノンジアジド化合物の合成）グリセリン５０ｇと２
−ヒドロキシベンズアルデヒド５０ｇ、トルエン３００
ｇ、４−ベンゼンスルホン酸１ｇとを混合し、Ｄｅａｎ
−Ｓｔａｒｋ装置を用いて攪拌しながら５時間加熱還流
させ、水とトルエンと共沸させて除去しながら反応させ
た。反応後室温に戻すと、生成物と上澄液（溶媒）が分
離した。溶媒をデカンテ−ションにより除去し、減圧乾
燥を行い、一般式（II）で示される構造と一般式（III
）で示される構造とをそれぞれ一つずつ有する化合物
を得た。
−ヒドロキシベンズアルデヒド５０ｇ、トルエン３００
ｇ、４−ベンゼンスルホン酸１ｇとを混合し、Ｄｅａｎ
−Ｓｔａｒｋ装置を用いて攪拌しながら５時間加熱還流
させ、水とトルエンと共沸させて除去しながら反応させ
た。反応後室温に戻すと、生成物と上澄液（溶媒）が分
離した。溶媒をデカンテ−ションにより除去し、減圧乾
燥を行い、一般式（II）で示される構造と一般式（III
）で示される構造とをそれぞれ一つずつ有する化合物
を得た。
【０１５０】この化合物を用い、合成例１と同様の方法
で１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン
酸クロリドとの反応を行い、キノンジアジド化合物−３
を得た。
で１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン
酸クロリドとの反応を行い、キノンジアジド化合物−３
を得た。
【０１５１】合成例４
（キノンジアジド化合物の合成）合成例３において、グ
リセリン５０ｇをトリメチロ−ルプロパン４５ｇに変更
する以外は全て合成例３と同様の反応を行い、キノンジ
アジド化合物−４を得た。合成例５ （シリル基含有キノンジアジド化合物の合成）上記合成
例１で得られたキノンジアジド化合物−１をジオキサン
に溶解し、２０重量％溶液を調製した。この溶液に、上
記キノンジアジド化合物１００重量部に対し、１５重量
部の３−アミノプロピルトリエトキシシランを３０℃冷
却下、滴下ロートを用いて滴下し、その後、６時間反応
させることにより、シリル基含有キノンジアジド化合物
−１を得た。
リセリン５０ｇをトリメチロ−ルプロパン４５ｇに変更
する以外は全て合成例３と同様の反応を行い、キノンジ
アジド化合物−４を得た。合成例５ （シリル基含有キノンジアジド化合物の合成）上記合成
例１で得られたキノンジアジド化合物−１をジオキサン
に溶解し、２０重量％溶液を調製した。この溶液に、上
記キノンジアジド化合物１００重量部に対し、１５重量
部の３−アミノプロピルトリエトキシシランを３０℃冷
却下、滴下ロートを用いて滴下し、その後、６時間反応
させることにより、シリル基含有キノンジアジド化合物
−１を得た。
【０１５２】合成例６
（シリル基含有キノンジアジド化合物の合成）上記合成
例２で得られたキノンジアジド化合物−２を乾燥テトラ
ヒドロフランに溶解し、１０重量％溶液を調製した。こ
の溶液に、上記キノンジアジド化合物１００重量部に対
し、３０重量部の３−イソシアネートプロピルトリエト
キシシランを６０℃で環流冷却下、滴下ロートを用いて
滴下した。その後、さらに８時間反応させることによ
り、目的とするシリル基含有キノンジアジド化合物−２
を得た。
例２で得られたキノンジアジド化合物−２を乾燥テトラ
ヒドロフランに溶解し、１０重量％溶液を調製した。こ
の溶液に、上記キノンジアジド化合物１００重量部に対
し、３０重量部の３−イソシアネートプロピルトリエト
キシシランを６０℃で環流冷却下、滴下ロートを用いて
滴下した。その後、さらに８時間反応させることによ
り、目的とするシリル基含有キノンジアジド化合物−２
を得た。
【０１５３】合成例７
（シリル基含有キノンジアジド化合物の合成）上記合成
例３で得られたキノンジアジド化合物−３を乾燥エチレ
ングリコールジメチルエーテルに溶解し、２０重量％溶
液を調製した。この溶液に、上記キノンジアジド化合物
１００重量部に対し、２０重量部の３−イソシアネート
プロピルトリエトキシシランを６０℃で環流冷却下、滴
下ロートを用いて滴下した。その後、さらに６時間反応
させることにより、目的とするシリル基含有キノンジア
ジド化合物−３を得た。
例３で得られたキノンジアジド化合物−３を乾燥エチレ
ングリコールジメチルエーテルに溶解し、２０重量％溶
液を調製した。この溶液に、上記キノンジアジド化合物
１００重量部に対し、２０重量部の３−イソシアネート
プロピルトリエトキシシランを６０℃で環流冷却下、滴
下ロートを用いて滴下した。その後、さらに６時間反応
させることにより、目的とするシリル基含有キノンジア
ジド化合物−３を得た。
【０１５４】合成例８
（シリル基含有キノンジアジド化合物の合成）上記合成
例４で得られたキノンジアジド化合物−４をテトラヒド
ロフランに溶解し、２０重量％溶液を調製した。この溶
液に、上記キノンジアジド化合物１００重量部に対し、
０．５重量部のジブチル錫ジアセテートを加えた後、上
記キノンジアジド化合物１００重量部に対し、３０重量
部のビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シランを
４０℃で、滴下ロートを用いて滴下した。その後、さら
に８時間反応させることにより、目的とするシリル基含
有キノンジアジド化合物−４を得た。
例４で得られたキノンジアジド化合物−４をテトラヒド
ロフランに溶解し、２０重量％溶液を調製した。この溶
液に、上記キノンジアジド化合物１００重量部に対し、
０．５重量部のジブチル錫ジアセテートを加えた後、上
記キノンジアジド化合物１００重量部に対し、３０重量
部のビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シランを
４０℃で、滴下ロートを用いて滴下した。その後、さら
に８時間反応させることにより、目的とするシリル基含
有キノンジアジド化合物−４を得た。
【０１５５】合成例９
（プライマ層用ジアゾ樹脂の合成）ｐ−ジアゾジフェニ
ルアミン硫酸塩１４．５ｇを氷冷下で４０．９ｇの濃硫
酸に溶解し、この液に１．０ｇのパラホルムアルデヒド
を反応溶液が１０℃を越えないようにゆっくり滴下し
た。その後、２時間氷冷下にて攪拌を続けた。この反応
混合物を氷冷下、５００ｍｌのエタノ−ルに滴下し、生
じた沈殿を濾過した。エタノ−ルで洗浄した沈殿物は、
１００ｍｌの水に溶解し、この液に６．８ｇの塩化亜鉛
を含む冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した
後、エタノ−ルで洗浄し、これを１５０ｍｌの水に溶解
した。この液に８ｇのヘキサフルオロリン酸アンモニウ
ムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過
により集め、水洗した後、３０℃で一昼夜乾燥してジア
ゾ樹脂を得た。
ルアミン硫酸塩１４．５ｇを氷冷下で４０．９ｇの濃硫
酸に溶解し、この液に１．０ｇのパラホルムアルデヒド
を反応溶液が１０℃を越えないようにゆっくり滴下し
た。その後、２時間氷冷下にて攪拌を続けた。この反応
混合物を氷冷下、５００ｍｌのエタノ−ルに滴下し、生
じた沈殿を濾過した。エタノ−ルで洗浄した沈殿物は、
１００ｍｌの水に溶解し、この液に６．８ｇの塩化亜鉛
を含む冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した
後、エタノ−ルで洗浄し、これを１５０ｍｌの水に溶解
した。この液に８ｇのヘキサフルオロリン酸アンモニウ
ムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過
により集め、水洗した後、３０℃で一昼夜乾燥してジア
ゾ樹脂を得た。
【０１５６】実施例１
厚さ０．３ｍｍのアルミ板（住友金属（株）製）に下記
のプライマ組成物をバ−コ−タ−を用いて塗布し、２０
０℃、２分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
のプライマ組成物をバ−コ−タ−を用いて塗布し、２０
０℃、２分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
【０１５７】
（ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１”
（三洋化成工業（株）製） １００重量部
（ｂ）ブロックイソシアネ−ト“タケネ−トＢ８３０”
（武田薬品工業（株）製） ２０重量部
（ｃ）エポキシ・フェノ−ル・尿素樹脂“ＳＪ９３７２”
（関西ペイント（株）製） ８重量部
（ｄ）酸化チタン １０重量部
（ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．５重量部
（ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッド
ホスフェート １重量部
（ｇ）ジメチルホルムアミド ７２５重量部
続いてこのプライマ層上に下記の感光層組成物をバ−コ
−タを用いて塗布し、１１０℃の熱風中で１分間乾燥し
て厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
−タを用いて塗布し、１１０℃の熱風中で１分間乾燥し
て厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
【０１５８】
（ａ）合成例５で得られたシリル基含有キノンジアジド化合物−１ ７０重量部
（ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト ２１重量部
（ｃ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ
（日本ミラクトラン（株）製）
（ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） ３０重量部
（ｄ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．２重量部
（ｅ）４−トルエンスルホン酸 ０．８重量部
（ｆ）テトラヒドロフラン ８００重量部
次いでこの感光層の上に下記の組成を有するシリコ−ン
ゴム組成物を回転塗布後、１１５℃、露点３０℃、３．
５分間湿熱硬化させて２μｍのシリコ−ンゴム層を設け
た。
ゴム組成物を回転塗布後、１１５℃、露点３０℃、３．
５分間湿熱硬化させて２μｍのシリコ−ンゴム層を設け
た。
【０１５９】
（ａ）ポリジメチルシロキサン
（分子量約２５，０００、末端水酸基） １００重量部
（ｂ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン １０重量部
（ｃ）“アイソパ−Ｅ”（エクソン化学（株）製） １４００重量部
上記のようにして得られた積層板に、厚さ１０μｍのポ
リプロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）
をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層と
し、水なし平版印刷版原版を得た。
リプロピレンフィルム“トレファン”（東レ（株）製）
をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層と
し、水なし平版印刷版原版を得た。
【０１６０】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
【０１６１】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
【０１６２】次いで上記の露光済版の“トレファン”を
剥離し、室温３２℃、湿度８０％の条件で、“アイソパ
−Ｈ”／ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル／エチ
ルセロソルブ／Ｎ−メチルジエタノ−ルアミン＝８７／
７／３／３（重量比）からなる処理液をブラシを用いて
版面に塗布した。１分間処理後、ゴムスキ−ジで版面に
付着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現
像液（水／ブチルカルビト−ル／２−エチル酪酸／クリ
スタルバイオレット＝７０／３０／２／０．２（重量
比）を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこすると、画像露
光された部分のシリコ−ンゴム層が除去され、感光層表
面が露出した。一方、全面露光のみがなされた非画像部
分はシリコ−ンゴム層が強固に残存しており、ネガフィ
ルムを忠実に再現した画像が得られた。
剥離し、室温３２℃、湿度８０％の条件で、“アイソパ
−Ｈ”／ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル／エチ
ルセロソルブ／Ｎ−メチルジエタノ−ルアミン＝８７／
７／３／３（重量比）からなる処理液をブラシを用いて
版面に塗布した。１分間処理後、ゴムスキ−ジで版面に
付着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現
像液（水／ブチルカルビト−ル／２−エチル酪酸／クリ
スタルバイオレット＝７０／３０／２／０．２（重量
比）を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこすると、画像露
光された部分のシリコ−ンゴム層が除去され、感光層表
面が露出した。一方、全面露光のみがなされた非画像部
分はシリコ−ンゴム層が強固に残存しており、ネガフィ
ルムを忠実に再現した画像が得られた。
【０１６３】得られた印刷版を、オフセット印刷機（小
森スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工
業（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。
１６万枚印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印
刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であ
った。
森スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工
業（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。
１６万枚印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印
刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であ
った。
【０１６４】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １７ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７０％であった。
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １７ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７０％であった。
【０１６５】また、印刷版原版を作製した後、６０℃、
相対湿度８０％の雰囲気下で２週間保存したものを、経
時後の平版印刷版原版とし、同様に画像再現性の評価を
行った。
相対湿度８０％の雰囲気下で２週間保存したものを、経
時後の平版印刷版原版とし、同様に画像再現性の評価を
行った。
【０１６６】実施例２
厚さ０．２４ｍｍの表面に砂目形状を設けたアルミ板に
下記のプライマ組成物をホワラを用いて５０℃で塗布
し、さらに８０℃で４分乾燥させてプライマ層を設け
た。
下記のプライマ組成物をホワラを用いて５０℃で塗布
し、さらに８０℃で４分乾燥させてプライマ層を設け
た。
【０１６７】
（ａ）合成例９で合成したジアゾ樹脂 ８重量部
（ｂ）２ーヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリル酸メチル
のモル比４０／６０の共重合樹脂（Ｍｗ＝４．０×１０4 ）
（ガラス転移点Ｔｇ：−４０℃） ９０重量部
（ｃ）γーメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（東芝シリコーン製） ５重量部
（ｄ）酸化亜鉛（堺化学（株）製微細亜鉛華） ５５重量部
（ｅ）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ ４０２”
（大日本インキ化学（株）製黄色顔料） １２重量部
（ｆ）“ノニポール”（三洋化成工業（株）製非イオン系界面活性剤）
５重量部
（ｇ）乳酸メチル ７００重量部
（ｈ）シクロヘキサノン １００重量部
塗布、乾燥後メタルハライドランプで４００ｍＪ／ｃｍ
2 露光し１１５℃で５分間乾燥を行うことにより乾燥膜
厚４．５μｍのプライマ層を設けた。
2 露光し１１５℃で５分間乾燥を行うことにより乾燥膜
厚４．５μｍのプライマ層を設けた。
【０１６８】続いてこの上に下記の感光層組成物をバ−
コ−タを用いて塗布し、１２０℃の熱風中で１分間乾燥
して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
コ−タを用いて塗布し、１２０℃の熱風中で１分間乾燥
して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
【０１６９】
（ａ）合成例６で得られたシリル基含有キノンジアジド化合物−２ ５５重量部
（ｂ）トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル ３０重量部
（ｃ）ポリウレタン“サンプレン”Ｃ−８００Ｂ−４０
（三洋化成（株）製）
（ガラス転移点Ｔｇ：−３５℃） ２０重量部
（ｄ）リン酸 ０．８重量部
（ｅ）４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン ３重量部
（ｆ）テトラヒドロフラン ８００重量部
次いでこの感光層の上に次ぎの組成を有するシリコ−ン
ゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布した後、１１５
℃、露点３０℃という条件で３．５分間湿熱硬化させて
２．３μｍのインキ反発層（シリコ−ンゴム層）を設け
た。
ゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布した後、１１５
℃、露点３０℃という条件で３．５分間湿熱硬化させて
２．３μｍのインキ反発層（シリコ−ンゴム層）を設け
た。
【０１７０】
（ａ）ポリジメチルシロキサン
（分子量約３５，０００、末端水酸基） １００重量部
（ｂ）エチルトリアセトキシシラン １２重量部
（ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．１重量部
（ｄ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製） １２００重量部
上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍの片面
マット化ポリエステルフィルム“ルミラー”（東レ
（株）製）をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トし
て保護層とし、水なし平版印刷版原版を得た。
マット化ポリエステルフィルム“ルミラー”（東レ
（株）製）をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トし
て保護層とし、水なし平版印刷版原版を得た。
【０１７１】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、
ＵＶメ−タ−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプ
ＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ2 の照度で６秒間全
面露光を施した。
【０１７２】上記のようにして得られた印刷用原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。
【０１７３】次いで上記の露光済版の“ルミラ−”を剥
離し、室温２５℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ１１６
０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用い
て現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成
を有する液を用いた。
離し、室温２５℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ１１６
０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用い
て現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成
を有する液を用いた。
【０１７４】
（ａ）ジエチレングリコ−ル ８０重量部
（ｂ）ジグリコ−ルアミン １４重量部
（ｃ）水 ６重量部
また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。
下の組成を有する液を用いた。
【０１７５】
（ａ）エチルカルビト−ル １８重量部
（ｂ）水 ７９．９重量部
（ｃ）クリスタルバイオレット ０．１重量部
（ｄ）２−エチルヘキサン酸 ２重量部
現像装置を出てきた印刷版を観察したところ、画像露光
された部分のシリコ−ンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画像
部分はシリコ−ンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
された部分のシリコ−ンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画像
部分はシリコ−ンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
【０１７６】得られた印刷版を、オフセット印刷機（小
森スプリント４色機）に取り付け、実施例１と同様に耐
刷テストを行った。１６万枚印刷を行ったところ、良好
な印刷物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷
版の損傷は軽微であった。
森スプリント４色機）に取り付け、実施例１と同様に耐
刷テストを行った。１６万枚印刷を行ったところ、良好
な印刷物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷
版の損傷は軽微であった。
【０１７７】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７５％であった。
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７２ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７５％であった。
【０１７８】実施例３
厚さ０．２４ｍｍのアルミ板を３％水酸化ナトリウム水
溶液に浸して脱脂し、水洗した後、３２％硫酸水溶液中
において温度３０℃で５Ａ／ｄｍ2 の条件で１０秒間、
陽極酸化を行い、水洗し、２％メタケイ酸ナトリウム水
溶液に温度８５℃３７秒間浸し、更に温度９０℃の水
（ｐＨ８．５）に２５秒間浸し、水洗、乾燥して、支持
体を得た。
溶液に浸して脱脂し、水洗した後、３２％硫酸水溶液中
において温度３０℃で５Ａ／ｄｍ2 の条件で１０秒間、
陽極酸化を行い、水洗し、２％メタケイ酸ナトリウム水
溶液に温度８５℃３７秒間浸し、更に温度９０℃の水
（ｐＨ８．５）に２５秒間浸し、水洗、乾燥して、支持
体を得た。
【０１７９】こうして得た支持体に下記のプライマ組成
物をスリットダイコータを用いて塗布し、２２０℃の熱
風中で３分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
物をスリットダイコータを用いて塗布し、２２０℃の熱
風中で３分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。
【０１８０】
（ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１”
（三洋化成工業（株）製）
（ガラス転移点Ｔｇ：−３７℃） １００重量部
（ｂ）ブロックイソシアネ−ト“タケネ−トＢ８３０”
（武田薬品（株）製） ２０重量部
（ｃ）エポキシ・フェノ−ル・尿素樹脂“ＳＪ９３７２”
（関西ペイント（株）製） ８重量部
（ｄ）酸化チタン １０重量部
（ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．５重量部
（ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）酸ホスフェ−ト １重量部
（ｇ）ジメチルホルムアミド ７００重量部
（ｈ）テトラヒドロフラン ５０重量部
次いで、上記プライマ層上に下記の組成物よりなる感光
液（Ａ）と感光液（Ｂ）を塗布の直前に混合し、スリッ
トダイコータを用いて塗布し、１１５℃の熱風中で１分
間乾燥して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
液（Ａ）と感光液（Ｂ）を塗布の直前に混合し、スリッ
トダイコータを用いて塗布し、１１５℃の熱風中で１分
間乾燥して厚さ１．５μｍの感光層を設けた。
【０１８１】
感光液（Ａ）
（ａ）合成例６で得られたシリル基含有キノンジアジド化合物−２ ８０重量部
（ｂ）ポリウレタン“サンプレン”Ｃ−８００Ｂ−４０
（三洋化成工業（株）製）
（ガラス転移点Ｔｇ：−３５℃） ２０重量部
（ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．２重量部
（ｄ）ベンゼンスルホン酸 ０．８重量部
（ｅ）テトラヒドロフラン ７００重量部
感光液（Ｂ）
（ａ）イソホロンジイソシアネート ２０重量部
（ｂ）テトラヒドロフラン １００重量部
次いで、この感光層の上に次の組成を有するシリコ−ン
ゴム液をスリットダイコータを用いて塗布した後、１２
０℃で４分間加熱硬化させて１．８μｍのインキ反発層
（シリコ−ンゴム層）を設けた。
ゴム液をスリットダイコータを用いて塗布した後、１２
０℃で４分間加熱硬化させて１．８μｍのインキ反発層
（シリコ−ンゴム層）を設けた。
【０１８２】
（ａ）両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン（重合度〜７００）
１００重量部
（ｂ）( CH3 ) 3 Si-O-(Si( CH3 ) 2 -O) 30ー(SiH(CH3 )-O)10ーSi(CH3 ) 3
１０重量部
（ｃ）塩化白金酸／メチルビニルサイクリックス錯体 ０．１重量部
（ｄ）アセチルアセトンアルコール ０．１重量部
（ｅ）ポリジメチルシロキサン（重合度〜８０００） １０重量部
（ｆ）“アイソパ−Ｅ”（エクソン化学（株）製） １０００重量部
上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層とし、水
なし平版印刷版原版を得た。
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トして保護層とし、水
なし平版印刷版原版を得た。
【０１８３】かかる印刷版原版に実施例２と同様の処理
を施した後、１５０線／インチの網点画像を持つネガフ
ィルムを用いて画像露光を行い、実施例２と同様に現像
を行った。
を施した後、１５０線／インチの網点画像を持つネガフ
ィルムを用いて画像露光を行い、実施例２と同様に現像
を行った。
【０１８４】得られた印刷版について、実施例１、２と
同様に耐刷テストを行ったところ、１６万枚の耐刷力を
示した。
同様に耐刷テストを行ったところ、１６万枚の耐刷力を
示した。
【０１８５】この実施例に用いた感光層の引張特性を、
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７４ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７６％であった。
先に示した方法で測定した結果、初期弾性率 １６ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 、１０％応力 ０．７４ｋｇｆ／ｍｍ2 、破
断伸度 ７６％であった。
【０１８６】実施例４
実施例１における感光層成分（ａ）シリル基含有キノン
ジアジド化合物−１を（ａ）合成例７で得られたシリル
基含有キノンジアジド化合物−３に置き換えた以外は実
施例１と同様にして水なし平版印刷版原版を作製した。
得られた水なし平版印刷版原版を実施例２と同様の方法
で露光、現像、印刷を行った。版性能の評価結果を表２
に示す。
ジアジド化合物−１を（ａ）合成例７で得られたシリル
基含有キノンジアジド化合物−３に置き換えた以外は実
施例１と同様にして水なし平版印刷版原版を作製した。
得られた水なし平版印刷版原版を実施例２と同様の方法
で露光、現像、印刷を行った。版性能の評価結果を表２
に示す。
【０１８７】実施例５
実施例３における感光層成分（ａ）シリル基含有キノン
ジアジド化合物−２を（ａ）合成例８で得られたシリル
基含有キノンジアジド化合物−４に置き換えた以外は実
施例３と同様にして水なし平版印刷版原版を作製した。
得られた水なし平版印刷版原版を実施例３と同様の方法
で露光、現像、印刷を行った。版性能の評価結果を表２
に示す。
ジアジド化合物−２を（ａ）合成例８で得られたシリル
基含有キノンジアジド化合物−４に置き換えた以外は実
施例３と同様にして水なし平版印刷版原版を作製した。
得られた水なし平版印刷版原版を実施例３と同様の方法
で露光、現像、印刷を行った。版性能の評価結果を表２
に示す。
【０１８８】比較例１〜４
実施例１における感光層成分（ａ）シリル基含有キノン
ジアジド化合物−１、実施例３における感光層成分
（ａ）シリル基含有キノンジアジド化合物−２、実施例
４における感光層成分（ａ）シリル基含有キノンジアジ
ド化合物−３、および実施例５における感光層成分
（ａ）シリル基含有キノンジアジド化合物−４、をそれ
ぞれ（ａ）合成例１で得られたキノンジアジド化合物−
１、（ａ）合成例２で得られたキノンジアジド化合物−
２、（ａ）合成例３で得られたキノンジアジド化合物−
３、（ａ）合成例４で得られたキノンジアジド化合物−
４に置き換えた以外はそれぞれの実施例と同様にして水
なし平版印刷版原版を作製した。得られた水なし平版印
刷版原版を実施例３と同様の方法で露光、現像、印刷を
行ない、版性能を評価した。結果を表２に示す。
ジアジド化合物−１、実施例３における感光層成分
（ａ）シリル基含有キノンジアジド化合物−２、実施例
４における感光層成分（ａ）シリル基含有キノンジアジ
ド化合物−３、および実施例５における感光層成分
（ａ）シリル基含有キノンジアジド化合物−４、をそれ
ぞれ（ａ）合成例１で得られたキノンジアジド化合物−
１、（ａ）合成例２で得られたキノンジアジド化合物−
２、（ａ）合成例３で得られたキノンジアジド化合物−
３、（ａ）合成例４で得られたキノンジアジド化合物−
４に置き換えた以外はそれぞれの実施例と同様にして水
なし平版印刷版原版を作製した。得られた水なし平版印
刷版原版を実施例３と同様の方法で露光、現像、印刷を
行ない、版性能を評価した。結果を表２に示す。
【０１８９】実施例６〜８
実施例４の感光層成分（ａ）を表１に示すように変更し
た以外は実施例４と同様にして版を作製した。実施例４
と同様に版性能を評価した。結果を表２に示す。実施例
９〜１７ 実施例１における感光層成分（ａ）（ｃ）の種類、配合
量を表３に示すように変更させた以外は、実施例１と同
様にして、種々のバインダポリマを有するネガ型の水な
し平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に実施
例２と同様の処理を施した後、同様に画像露光を行い、
同様に現像を行うことで印刷版を得た。得られた印刷版
についても同様に耐刷力テストを行った。表４に感光層
の引張特性と印刷版の画像再現性および耐刷力を示す。
た以外は実施例４と同様にして版を作製した。実施例４
と同様に版性能を評価した。結果を表２に示す。実施例
９〜１７ 実施例１における感光層成分（ａ）（ｃ）の種類、配合
量を表３に示すように変更させた以外は、実施例１と同
様にして、種々のバインダポリマを有するネガ型の水な
し平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に実施
例２と同様の処理を施した後、同様に画像露光を行い、
同様に現像を行うことで印刷版を得た。得られた印刷版
についても同様に耐刷力テストを行った。表４に感光層
の引張特性と印刷版の画像再現性および耐刷力を示す。
【０１９０】
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【表６】
【０１９１】
【発明の効果】本発明は、上記のごとく構成したので、
画像再現性、耐刷力かつ保存安定性に優れた水なし平版
印刷版を提供することが出来る。
画像再現性、耐刷力かつ保存安定性に優れた水なし平版
印刷版を提供することが出来る。
【０１９２】したがって、高耐刷力の要求される新聞オ
フ輪印刷分野や商業オフ輪印刷分野においても好適に用
いられる。
フ輪印刷分野や商業オフ輪印刷分野においても好適に用
いられる。
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(56)参考文献 特開 平５−333535（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−332162（ＪＰ，Ａ)
国際公開95／010071（ＷＯ，Ａ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 7/00 - 7/42
Claims (10)
- 【請求項１】支持体上に少なくとも感光層およびシリコ
ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
版において、該感光層が、下記一般式（Ｉ）で示される
構造を少なくとも一つ、下記一般式（II）で示される構
造を少なくとも一つ、および下記一般式（III ）で示さ
れる構造を少なくとも一つ有するキノンジアジド化合物
を少なくとも一つ含有していることを特徴とする水なし
平版印刷版原版。 −ＳｉＲn Ｘ3-n （Ｉ） （式中、ｎは０〜３の整数であり、Ｒはアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされ
た基を示し、それらはハロゲン原子、イソシアネート
基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、（メタ）アクリロキシ基、メルカ
プト基等の官能基を置換基として有していてもよい。Ｘ
は官能基を示している。） −Ｒ１−ＯＨ （II） −Ｐｈ（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）（ＯＨ） （III ） （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｐｈは芳香環、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基で
あり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。） - 【請求項２】該感光層の露光後の引張特性が （１）初期弾性率 ：５〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする請求項１記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項３】該感光層の露光後の引張特性が （２）１０％応力 ：０．０５〜３．０ｋｇｆ／ｍｍ2 の物性を有することを特徴とする請求項１記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項４】該感光層の露光後の引張特性が （３）破断伸度 ：１０％以上 の物性を有することを特徴とする請求項１記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項５】該感光層がバインダポリマを有することを
特徴とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項６】バインダポリマの感光層中にしめる割合が
１０〜９０wt％であることを特徴とする請求項５記載の
水なし平版印刷版原版。 - 【請求項７】バインダポリマのガラス転移点（Ｔｇ）が
２０℃以下であることを特徴とする請求項５および請求
項５記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項８】感光層が架橋構造を有することを特徴とす
る請求項１記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項９】感光層が光剥離性感光層であることを特徴
とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項１０】請求項１〜９のいずれかに記載の水なし
平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる水なし平版
印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10656695A JP3414047B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 水なし平版印刷版原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10656695A JP3414047B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 水なし平版印刷版原版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08305009A JPH08305009A (ja) | 1996-11-22 |
| JP3414047B2 true JP3414047B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=14436835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10656695A Expired - Fee Related JP3414047B2 (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 水なし平版印刷版原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3414047B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4660182B2 (ja) * | 2004-12-20 | 2011-03-30 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物及びそれを用いたネガ型パターン形成方法 |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP10656695A patent/JP3414047B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08305009A (ja) | 1996-11-22 |
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