JPH10123706A - 水なし平版印刷版原版およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】感光液の保存安定性が良好であり、感光層の硬
化が熱伝導のバラツキの影響を受けないことにより、水
なし平版製造時における作業性および性能の安定性が良
好である水なし平版印刷版原版を得る。 【解決手段】基板上に少なくとも、感光層およびシリコ
ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
版において該感光層がキノンジアジド化合物とチオール
化合物および炭素−炭素不飽和基を有する化合物を含有
し、かつ現像工程以前に光により該炭素−炭素不飽和基
およびチオール基が架橋構造を形成していることを特徴
とする水なし平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版に関するものであり、さらに詳しくは製造時における
作業性および性能の安定性が良好であり、かつ少ない露
光量で感光層の光架橋構造を形成することが可能な水な
し平版印刷版原版および製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来からシリコーンゴムやフッ素樹脂を
インキ反撥層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷
を行なうための印刷版が種々提案されている。

【０００３】フッ素樹脂をインキ反撥層に用いる感光性
平版印刷版としては、特開平２−２５４４４９号、特開
平２−８５８５５号などがあり、フッ素樹脂としては１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアク
リレートや１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオ
ロデシルメタクリレートが用いられている。

【０００４】シリコーンゴムをインキ反撥層とするポジ
型感光性平版印刷版としては、例えば特公昭５４−２６
９２３号、特公昭５６−２３１５０号などに提案されて
いる基板上に光重合性接着層とシリコーンゴム層とが積
層された水なし平版印刷版や、特開昭６１−１５３６５
５号、特公平３−５６６２２号などに提案されている基
板上に光二量化型感光層とシリコーンゴム層とが積層さ
れた水なし平版印刷版などが挙げられる。

【０００５】また、シリコーンゴムをインキ反撥層に用
いるネガ型感光性平版印刷版としては、特公昭６１−６
１６号、特公昭６１−５４２１８号などに支持体上にキ
ノンジアジド化合物を含む感光層とその上に接着層を介
してシリコーンゴム層を設けた水なし平版印刷版が提案
されている。

【０００６】また、印刷版作製後に刷版のＵＶインキ耐
性や耐溶剤性を向上させるため方法についても種々の発
明がなされている。例えば特公昭６１−６１７号、特開
昭５７−１９２９５６号、特開昭５７−１９２９５７
号、特開昭５７−２０５７４０号、特開昭６０−１３３
４５２号、特開昭６０−１６９８５２号などが挙げられ
る。

【０００７】これらの中で、特開昭６０−１３３４５２
においてはオルトキノンジアジド化合物と光硬化性化合
物を含む感光層によるネガ型水なし平版印刷版が提案さ
れている。この版は未露光の版にまず画像を露光し薬液
により露光部の感光層を溶解させるとともに表層のシリ
コーンゴム層を除去した後に画像露光よりも多い露光量
で全面露光し残存した非画線部の感光層を光硬化させて
耐溶剤性と耐刷性を向上させるものであった。

【０００８】しかしながら後露光の工程が増え後露光に
時間がかかることとこの版では現像時の耐溶剤性につい
ては改良されない為に現像性が不安定であった。さらに
版の形状が感光層溶解型であるため印刷時に微小画線部
にインキが付着しにくいことや印刷濃度が低いときに網
点の白抜けが発生しずらいという欠点があり実用化には
至っていない。

【０００９】これらの問題点を解決する方法として例え
ば特公昭６１−５４２２２号では、支持体上に、１，２
−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリ
ドとフェノールホルムアルドヒドノボラック樹脂の部分
エステル化物を多官能イソシアネートで架橋し、現像時
に画線部の感光層が残存する光剥離性感光層を有するネ
ガ型水なし平版印刷版が提案されている。この方法によ
り現像時の耐溶剤性はもちろんのこと刷版作製後のＵＶ
インキ耐性、耐溶剤性も向上させることができた。

【００１０】従来キノンジアジド化合物を含む水なし平
版印刷版の感光層を現像液に対して不溶もじくは難溶に
する方法として、多官能あるいは単官能のイソシアネー
トまたはエポキシ化合物を感光層に含有させ、感光層の
塗布、乾燥時に反応させ、架橋もしくは変性させるとい
う方法が主たるものであった。

【００１１】しかしながら、これらイソシアネート化合
物やエポキシ化合物を使用することにより感光層溶液の
ポットライフが制限され、ゲル化を避けるために２液混
合といった方法が必要となり作業性の点で不利であっ
た。また、熱反応であるため熱伝導のバラツキにより版
の性能が影響されるといった問題点も有していた。更に
熱反応を進行させるためには一定以上の熱量が必要であ
り、生産速度を速くする場合に不利であった。

【００１２】

【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は水な
し平版印刷版原版を製造する際に問題になっていた感光
層塗液の安定性と感光層の硬化の安定性を解決するため
のものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは検討を重ね
た結果、以下の方法により上記の課題を解決することが
できることを見出した。

【００１４】すなわち、本発明の目的は （１）基板上に少なくとも、感光層およびシリコーンゴ
ム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版にお
いて、該感光層がキノンジアジド化合物とチオール化合
物および炭素−炭素不飽和基を有する化合物を含有し、
かつ該チオール化合物と炭素−炭素不飽和基を有する化
合物が付加反応し架橋構造を形成していることを特徴と
する水なし平版印刷版原版。

【００１５】（２）基板上に少なくとも、感光層および
シリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印
刷版原版において、該感光層が、分子中にチオール基お
よび／または炭素−炭素不飽和基を有するキノンジアジ
ド化合物と、分子中にチオール基および／または炭素−
炭素不飽和基を有する化合物とを含有し、かつ該チオー
ル基と該炭素−炭素不飽和基が付加反応し架橋構造を形
成していることを特徴とする水なし平版印刷版原版。

【００１６】（３）感光層が、分子中にチオール基を有
するキノンジアジド化合物と、分子中に炭素−炭素不飽
和基を有する化合物とを含有し、かつ該チオール基と該
炭素−炭素不飽和基が付加反応し架橋構造を形成してい
ることを特徴とする（２）に記載の水なし平版印刷版原
版。

【００１７】（４）感光層が、分子中に炭素−炭素不飽
和基を有するキノンジアジド化合物と、分子中にチオー
ル基を有する化合物とを含有し、かつ該チオール基と該
炭素−炭素不飽和基が付加反応し架橋構造を形成してい
ることを特徴とする（２）に記載の水なし平版印刷版原
版。

【００１８】（５）感光層中のキノンジアジド化合物が
水酸基を有することを特徴とする（１）〜（４）のいず
れかに記載の水なし平版印刷版原版。

【００１９】（６）感光層がバインダーポリマーを含有
することを特徴とする（１）〜（５）に記載の水なし平
版印刷版原版。

【００２０】（７）基板上に少なくとも、キノンジアジ
ド化合物とチオール化合物および炭素−炭素不飽和基を
有する化合物を含有する感光層を塗設した後全面に活性
光線を照射し感光層中のチオール基と炭素−炭素不飽和
基を付加反応させて架橋構造を形成させることを特徴と
する水なし平版印刷版原版の製造方法。

【００２１】（８）基板上に少なくとも、キノンジアジ
ド化合物とチオール化合物および炭素−炭素不飽和基を
有する化合物を含有する感光層、シリコーンゴム層をこ
の順に積層した後全面に活性光線を照射し感光層中のチ
オール基と炭素−炭素不飽和基を付加反応させて架橋構
造を形成させることを特徴とする水なし平版印刷版原版
の製造方法。

【００２２】により達成できる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に本発明について詳しく説明
する。まず、本発明に用いられる感光層について説明す
る。本発明に用いられる感光層はキノンジアジド化合
物、炭素−炭素不飽和基含有化合物、チオール化合物、
バインダーポリマ、光開始剤、重合禁止剤、添加剤など
により構成され、該炭素−炭素不飽和基とチオール基が
光により架橋した構造を有する。さらに、キノンジアジ
ド化合物が炭素−炭素不飽和基あるいは／およびチオー
ル基を有する上記組成物を光によって架橋した構造を有
する。特に好ましくは炭素−炭素不飽和基を有するキノ
ンジアジド化合物を含有する上記組成物を光によって架
橋したものである。

【００２４】はじめに、本発明の感光層で使用するキノ
ンジアジド化合物について説明する。キノンジアジド化
合物としては、通常ポジ型ＰＳ版、フォトレジストなど
に使用されているベンゾキノンジアジドスルホン酸およ
びその誘導体、ナフトキノンジアジドスルホン酸および
その誘導体が挙げられるが、本発明はこれらに限定され
ない。

【００２５】具体的には１，２−ベンゾキノン−２−ジ
アジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノ
ン−２−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム塩、１，
２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸、
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸
クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−
スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−４−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸クロリド、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム塩、
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン
酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スルホ
ン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
６−スルホン酸ナトリウム塩、１，２−ナフトキノン−
２−ジアジド−６−スルホン酸およびこれらの誘導体が
挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。これら
の化合物の中で、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−４−スルホン酸およびその誘導体、１，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−５−スルホン酸およびその誘導体
が特に有効である。

【００２６】１，２−ナフトキノン−２−ジアジドスル
ホン酸の誘導体としては、公知の水酸基含有化合物やア
ミノ基含有化合物とのエステル化物、アミド化合物が挙
げられる。また、シリコーンゴム層との接着性を付与す
る目的で分子中に水酸基、アミノ基を有する１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジドスルホン酸誘導体が好まし
い。

【００２７】このような化合物の具体例としては、１，
２−ナフトキノン−２−ジアジドスルホン酸のポリヒド
ロキシフェニルやピロガロールアセトン樹脂、フェノー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂などとのエステル化
物が挙げられる。

【００２８】また、これらのキノンジアジド化合物に単
官能化合物を反応させて変性し、現像液に難溶もしくは
不溶にする方法としては、キノンジアジド化合物の活性
な官能基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化す
ることが挙げられる。キノンジアジド化合物の活性な官
能基と反応させる化合物としては、低分子であっても比
較的高分子であってもよいし、キノンジアジド化合物に
モノマをグラフト重合させてもよい。

【００２９】また、感光層の耐溶剤性および製版後の耐
光性の観点から本発明で使用するキノンジアジド化合物
はその分子中に炭素−炭素不飽和基および／またはチオ
ール基を含有していることが好ましい。分子中に炭素−
炭素不飽和基を有するキノンジアジド化合物は例えば上
記の１，２−ナフトキノン−４−ジアジドスルホン酸ク
ロリドと水酸基を含有する炭素−炭素不飽和基含有化合
物を塩基性条件下で縮合させることにより得られる。ま
た、分子中にチオール基を有するキノンジアジド化合物
は例えば上記の１，２−ナフトキノン−４−ジアジドス
ルホン酸クロリドとポリチオールを塩基性条件下で縮合
させることにより得られる。

【００３０】次に本発明の感光層で使用する炭素−炭素
不飽和基含有化合物について説明する。本発明の感光層
は公知の炭素−炭素不飽和基含有化合物をすべて使用す
ることができるが、現像処理と実用印刷に耐えうる程度
の耐溶剤性を得るために炭素−炭素不飽和基は１分子中
に２個以上有することが好ましい。更に、上述のキノン
ジアジド化合物を付加させる目的から、分子中に水酸基
あるいはアミノ基を有することが好ましい。また、シリ
コーンゴム層と感光層の接着性を付与する目的でキノン
ジアジド化合物を付加させた後に水酸基が残存すること
がより好ましい。このような炭素−炭素不飽和基を１分
子中に２個以上有する化合物の具体例としては以下のも
のが挙げられるが本発明はこれらに限定されない。な
お、以下の記述で（メタ）アクリレートとあるのは、ア
クリレートまたはメタクリレートの略称である。同様
に、（メタ）□□□□とあるのは□□□□またはメタ□
□□□を略したものである。

【００３１】（１）アリルウレタン類 多価イソシアネートとアリルアルコールをアリル基が１
分子中に２個以上存在するように付加反応させた生成物
が挙げられる。

【００３２】多価イソシネートとしては以下のものを挙
げることができるが本発明はこれらに限定されない。パ
ラフェニレンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６
−トルイレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジ
フェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジン
ジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシア
ネート（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネー
ト、シクロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレン
ジイソシアネート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソ
シアネート（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソ
シアネート（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネート
メチルカプロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）
（別名４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシ
アネート））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチル
シクロヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、
水素化ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシア
ナートメチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシ
アネート（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネ
ート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（Ｔ
ＭＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、
ポリメチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸
ジイソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリ
イソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チ
オフォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシア
ネート、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，
１１−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソ
シアネートー４ーイソシアネートメチルオクタン、１，
３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロ
ヘプタントリイソシアネート等やポリイソシアネート類
の重合体等が挙げられる。

【００３３】あるいは、これらイソシアネート化合物と
ポリオールとをイソシアネート基が残存するような比率
で反応させた化合物もイソシアネート化合物として使用
できる。

【００３４】ポリオールとしては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、ｐ−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等を
挙げることが出来る。

【００３５】さらに、ポリプロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、
エチレンオキサイドープロピレンオキサイド共重合体、
テトラヒドロフランーエチレンオキサイド共重合体、テ
トラヒドロフランープロピレンオキサイド共重合体等
を、また、ポリエステルジオールとしてはポリエチレン
アジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキサメ
チレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、ポリ
ヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチレン
ヘキサメチレンアジペート等を、また、ポリーεーカプ
ロラクトンジオール、ポリヘキサメチレンカーボネート
ジオール、ポリテトラメチレンアジペート、ソルビトー
ル、メチルグルコジット、シュクローズ等も挙げること
が出来る。

【００３６】また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。

【００３７】（２）アリルエステル類 多価カルボン酸またはその酸無水物とアリルアルコール
とをアリル基が１分子中に２個以上存在するようにエス
テル化反応させた生成物が挙げられる。これら多価カル
ボン酸とアリルアルコールは公知の方法によりエステル
化させ、目的とするアリルエステル類を得ることができ
る。

【００３８】この際使用される多価カルボン酸の具体例
としては、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、ラセミ酸、
クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ール酸、イタコン酸、ダイマー酸等の２価のカルボン
酸、トリメリット酸等の３価のカルボン酸、３，９−ビ
ス（２カルボキシアルキル）２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロウンデカン等が挙げられる。

【００３９】また、未加硫ゴムのカルボキシ変性物も用
いることができる。具体的には天然ゴム、ブタジエン、
イソプレン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸
エステルより選ばれた単独重合体または共重合体のカル
ボキシ変性物であり、例えばカルボキシ変性ポリブタジ
エン、カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合体、
カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体、カルボキシ変性メチルメタクリレート−ブタジエン
共重合体等が挙げられる。

【００４０】酸無水物の具体例としては、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水マレイン酸、無水シト
ラコン酸、無水クロトン酸、無水フタル酸等が挙げられ
る。

【００４１】（３）アクリロイル類 Ａ．（メタ）アクリル酸とポリオールのエステル化物。

【００４２】ポリオールとしては前項に記載したポリオ
ールを使用することができる。これらのポリオールと
（メタ）アクリル酸は公知の方法によりエステル化反応
させ、目的とする化合物を得ることができる。また、上
述の目的から１分子中に（メタ）アクリレート基を２個
以上存在させる比率で反応させることが好ましい。

【００４３】このような（メタ）アクリル酸とポリオー
ルのエステル化物の具体例としてはトリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メ
タ）アクリレート、ヒドロキノンジ（メタ）アクリレー
ト、ピロガロールトリ（メタ）アクリレート、等が挙げ
られるが本発明はこれらに限定されない。

【００４４】Ｂ．多価エポキシ化合物と（メタ）アクリ
ル酸あるいはグリシジル（メタ）アクリレートを反応さ
せたエポキシアクリレート類。

【００４５】多価エポキシ化合物としては、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ−
ルジグリシジルエ−テル、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコ−ルジグリシジ
ルエ−テル、ビスフェノ−ルＡジグリシジルエ−テル、
ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、トリメチロ−
ルプロパンジグリシジルエ−テル、トリメチロ−ルプロ
パントリグリシジルエ−テル、ソルビトールジグリシジ
ルエーテル、ソルビトールトリグリシジルエーテル、ソ
ルビトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールペ
ンタグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジル
エーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールジグリ
シジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテ
ル、ジグリセロールテトラグリシジルエーテル、トリグ
リセロールジグリシジルエーテル、トリグリセロールト
リグリシジルエーテル、トリグリセロールテトラグリシ
ジルエーテル、トリグリセロールペンタグリシジルエー
テル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペン
タエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリス
リトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトー
ルテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポ
リグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス（２ーヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレート、レゾルシンジグリ
シジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジル
エーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエー
テルなどが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。

【００４６】これらの多価エポキシ化合物と（メタ）ア
クリル酸、あるはグリシジル（メタ）アクリレートを公
知の方法により付加させることによって目的とする化合
物を得ることができる。

【００４７】以下に、エポキシアクリレートの具体例を
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。例
えば、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、グリ
セロールポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレ
ート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリ
レート等。

【００４８】Ｃ．多価イソシアネート化合物と水酸基を
有する（メタ）アクリル酸エステル類を反応させたウレ
タンアクリレート類。

【００４９】多価イソシアネート化合物としては、前項
に記載した多価イソシアネートを使用することができ
る。また、これらイソシアネート化合物とポリオールと
をイソシアネート基が残存するような比率で反応させた
化合物もイソシアネート化合物として使用できる。この
際使用するこのできるポリオールとしては前項で記載し
たポリオールを挙げることができる。これらの多価イソ
シネート化合物と水酸基を有する（メタ）アクリル酸エ
ステル類は公知の方法により反応させて目的とするウレ
タンアクリレート類を得ることができる。この際１分子
中に（メタ）アクリレート基を２個以上有する比率で反
応させる必要がある。

【００５０】水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステ
ル類の具体例としては、２ーヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２ーヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、２ーヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポ
リプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポ
リエステルグリコールモノ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリ
ンジ（メタ）アクリレート、キシリレンジアミン１モル
のグリシジル（メタ）アクリレート４モル付加物、２ー
アクリロイルオキシエチルー２ーヒドロキシプロピルフ
タレート、２ーヒドロキシー３ーフェノキシプロピル
（メタ）アクリレート等が挙げられるが、これらに限定
されない。

【００５１】以下にウレタンアクリレートの具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。フェ
ニルグリシジルエーテル（メタ）アクリレートヘキサメ
チレンジイソシアネートウレタンプレポリマ、フェニル
グリシジルエーテル（メタ）アクリレートイソホロンジ
イソシアネートウレタンプレポリマ、フェニルグリシジ
ルエーテル（メタ）アクリレートトリレンジイソシアネ
ートウレタンプレポリマ、グリセリンジ（メタ）アクリ
レートヘキサメチレンジイシシアネートウレタンプレポ
リマ、グリセリンジ（メタ）アクリレートイソホロンジ
イシシアネートウレタンプレポリマ、グリセリンジ（メ
タ）アクリレートトリレンジイシシアネートウレタンプ
レポリマ、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリ
マ、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイ
ソホロンジジイソシアネートウレタンプレポリマ、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレートトリレンジ
イソシアネートウレタンプレポリマ等。

【００５２】Ｄ．その他のアクリロイル類として、ポリ
アミン化合物とグリシジル（メタ）アクリレートおよび
モノグリシジルエーテル化合物を付加反応させたもの。
またはポリアミン化合物に（メタ）アクリル酸クロライ
ドを反応させたもの。あるいはカルボキシル基を有する
化合物とグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた
もの。等も使用することができる。

【００５３】ここで言うポリアミン化合物としては、下
記一般式（Ｉ）で示される化合物が挙げられる。

【００５４】 Ｒ₁ ＨＮ−Ａ−ＮＨＲ₂ （Ｉ） 式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は水素原子、炭素数１〜２０の置換ま
たは無置換のアルキル基、置換または無置換のフェニル
基、置換または無置換のアラルキル基であり、それぞれ
同一であっても異なっていてもよい。置換基としては、
炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、ア
リール基などが挙げられる。好ましくは、水素原子、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、ヒドロキシメチル基、
ヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル
基、フェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ブロ
モフェニル基、ｐ−トリル基、ｏ−トリル基、ベンジル
基などが挙げられる。

【００５５】Ａは２価の連結基を示し、具体的には一般
式−（Ａ¹ ）_p −（Ａ² ）_q −で示される。式中Ａ
¹ は、炭素数１〜２０の置換または無置換の環式または
非環式のアルキレン、置換または無置換のフェニレンで
置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン
原子、水酸基、アリール基などが挙げられる。Ａ² は、
−Ｏ−Ｂ¹ −、−Ｓ−Ｂ² −、−ＮＨ−Ｂ³ −、−ＣＯ
−Ｏ−Ｂ⁴ −、−ＳＯ₂ −ＮＨ−Ｂ⁵ −で、Ｂ¹ 、
Ｂ² 、Ｂ³ 、Ｂ⁴ 、Ｂ⁵ は、上記のＡと同一のものを示
す。ｐは１以上の整数、ｑは０または１以上の整数を示
す。

【００５６】一般式（Ｉ）で示される２価以上のアミノ
化合物の具体例としてはとしてはジオキシエチレンジア
ミン、トリオキシエチレンジアミン、テトラオキシエチ
レンジアミン、ペンタオキシエチレンジアミン、ヘキサ
オキシエチレンジアミン、ペプタオキシエチレンジアミ
ン、オクタオキシエチレンジアミン、ノナオキシエチレ
ンジアミン、デカオキシエチレンジアミン、トリトリア
コンタオキシエチレンジアミン、モノオキシプロピレン
ジアミン、ジオキシプロピレンジアミン、トリオキシプ
ロピレンジアミン、テトラオキシエチレンジアミン、ペ
ンタオキシプロピレンジアミン、ヘキサオキシプロピレ
ンジアミン、ヘプタオキシプロピレンジアミン、オクタ
オキシプロピレンジアミン、ノナオキシプロピレンジア
ミン、デカオキシプロピレンジアミン、トリトリアコン
タオキシプロピレンジアミン、ポリメチレンジアミン、
ポリエーテルジアミン、ジエチレントリアミン、イミノ
ビスプロピルアミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミ
ン、ペンタエチレンヘキサミン、ジメチルアミノプロピ
ルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、置換ポリア
ミン等の脂肪族族ポリアミン化合物や、ｍ−キシリレン
ジアミン、テトラクロル−ｐ−キシリレンジアミン等の
芳香環を有する脂肪族ポリアミン化合物、メンタンジア
ミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、１，３−ジアミノ
シクロヘキサン、イソホロンジアミン等の脂環族ポリア
ミン、ｍ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエ
ーテル、４，４’−メチレンジアニリン、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ベンジジン、４，４’−ビス（ｏ−ト
ルイジン）、４，４’−チオジアニリン、ｏ−フェニレ
ンジアミン、ジアニシジン、メチレンビス（ｏ−クロロ
アニリン）、２，４−トルエンジアミン、ビス（３，４
−ジアミノフェニル）スルホン、ジアミノジトリスルホ
ン、４−クロロ−ｏ−フェニレンジアミン、４−メトキ
シ−６−メチル−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−アミノ
ベンジルアミン等の芳香族ポリアミン化合物が挙げられ
る。

【００５７】（４）ビニルエーテル類 ポリオールとアセチレンとの付加反応あるいはポリオー
ルと２−クロロエチルビニルエーテルとの縮合反応によ
りビニル基を１分子中に２個以上存在するように反応さ
せた生成物が挙げられる。この際ポリオールとしては前
項で記載したポリオールを使用することができる。これ
らポリオールは公知の方法によりアセチレンあるいは２
−クロロエチルビニルエーテルと反応させて目的とする
ビニルエーテル類を得ることができる。

【００５８】ビニルエーテル類の具体例としては、ジプ
ロピレングリコールジビニルエーテル、トリエチレング
リコールジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチ
レングリコール）ジビニルエーテル等が挙げられるが本
発明はこれらに限定されない。

【００５９】これらの炭素−炭素不飽和基含有化合物は
それぞれ単独で使用しても良いし２種類以上を混合して
使用することもできる。

【００６０】また、感光層が実用的な耐溶剤性を有する
ためには炭素−炭素不飽和基含有化合物はキノンジアジ
ド基を含有することが好ましい。炭素−炭素不飽和基含
有化合物にキノンジアジド基を付加させるためには、炭
素−炭素不飽和基含有化合物は水酸基あるいはアミノ基
を含有することが好ましい。水酸基を有する炭素−炭素
不飽和基含有化合物としては、例えば（メタ）アクリル
酸とポリオールを水酸基が残る比率でエステルした（メ
タ）アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリレート
類、アミン化合物とグリシジルメタクリレートの反応物
が挙げられる。また、アミノ基を有する炭素−炭素不飽
和基含有化合物の具体例としては、アリルウレタン類、
ウレタンアクリレート類、アミン化合物とグリシジルメ
タクリレートの反応物が挙げられる。これらの水酸基あ
るいはアミノ基を有する化合物と例えば１，２−ナフト
キノン−４−ジアジドスルホン酸クロリドを公知の方法
により反応させることにより目的とする化合物を得るこ
とができる。

【００６１】これらのなかでもエポキシ（メタ）アクリ
レート類、アミン化合物とグリシジルメタクリレートの
反応物の水酸基にキノンジアジド化合物を付加させた化
合物が光硬化性の面で好ましい。

【００６２】これら炭素−炭素不飽和基含有化合物は感
光層組成中に１０〜８０重量％、さらに好ましくは２０
〜７０重量％含有される。

【００６３】次に本発明の感光層に使用されるチオール
化合物について説明する。本発明の感光層は公知のチオ
ール化合物すべてを使用することができるが、該感光層
に現像、印刷において実用的な耐溶剤性を持たせるため
にチオール基は１分子中に２個以上有することが好まし
い。このようなチオール基を１分子中に２個以上有する
化合物の具体例としては以下のものが挙げられるが本発
明はこれらに限定されない。

【００６４】（１）脂肪族炭化水素を主鎖とするジチオ
ール類。

【００６５】メタンジチオール、エタンジチオール、プ
ロパンジチオール、ブタンジチオール、ヘプタンジチオ
ール、ヘキサンジチオール、オクタンジチオール、ノナ
ンジチオール、デカンジチオール、ウンデカンジチオー
ル、ドデカンジチオール、トリデカンジチオール、テト
ラデカンジチオール、ヘプタデカンジチオール、ヘキサ
デカンジチオール、オクタデカンジチオール、４，８−
ジチアウンデカン−１，１１−ジチオール、ビス（２−
メルカプトエチル）スルフィド、１，３−ジヒドロキシ
−２−プロピル−２´，３´−ジメルカプトプロピルエ
ーテル、２，３−ジヒドロキシプロピル−２´，３´−
ジメルカプトプロピルエーテル、２，６−ジメチルオク
タン−２，６−ジチオール、２，６−ジメチルオクタン
−３，７−ジチオール、３，３，−ジメチルブタン−
２，２−ジチオール、２，２−ジメチルプロパン−１，
３−ジチオール、３，４−ジメトキシブタン−１，２−
ジチオール、３，４−ジメルカプトブタノール、２，３
−ジメルカプト−１−プロパノール、１，３−ジメルカ
プト−２−プロパノール、１，２−ジメルカプト−１，
３−ブタンジオール、１，２−ジメルカプトプロピルメ
チルエーテル、２，３−ジメルカプトプロピルメチルエ
ーテル、２，３−ジメルカプトプロピル−２´，３´−
ジメトキシプロピルエーテル、３，５，５−トリメチル
ヘキサン−１，１−ジチオール、３，４，５−トリメト
キシペンタン−１，２−ジチオール、ネオペンタンテト
ラチオール、ビス（１１−メルカプトウンデシル）スル
フィド、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、ビ
ス（１８−メルカプトオクタデシル）スルフィド、ビス
（８−メルカプトオクチル）スルフィド、ビス（１０−
メルカプトデシル）スルフィド、ビス（１２−メルカプ
トデシル）スルフィド、ビス（９−メルカプトノニル）
スルフィド、ビス（４−メルカプトブチル）スルフィ
ド、ビス（３−メルカプトプロピル）スルフィド、ビス
（６−メルカプトヘキシル）スルフィド、ビス（７−メ
ルカプトヘプチル）スルフィド、ビス（５−メルカプト
ペンチル）スルフィド、２，２−ビス（メルカプトメチ
ル）−１，３−プロパンジチオール、 （２）芳香族、複素環を主鎖とするチオール類。

【００６６】９，１０−アントラセンジメタンチオー
ル、１，３−ジフェニルプロパン−２，２−ジチオー
ル、２，４−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオール、
４，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオール、４，
４´−ジメルカプトビフェニル、４，４´−ジメルカプ
トビベンジル、２，４−ジ（ｐ−メルカプトフェニル）
ペンタン、２，５−トルエンジチオール、３，４−トル
エンジチオール、１，４−ナフタレンジチール、１，５
−ナフタレンジチオール、２，６−ナフタレンジチオー
ル、２，７−ナフタレンジチオール、１，１，−ビス
（メルカプトメチル）シクロヘキサン、フェニルメタン
−１，１−ジチオール、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘ
キサン−１，１−ジチオール、１，２−ベンゼンジチオ
ール、１，３−ベンゼンジチオール、１，４−ベンゼン
ジチオール、１，３，５−ベンゼントリチオール （３）ポリオールとカルボキシル基を有するチオール化
合物のエステル化物。

【００６７】カルボキシル基を有するチオールとして
は、メルカプト酢酸、チオグリコール酸、α−メルカプ
トプロピオン酸、β−メルカプトプロピオン酸、４−メ
ルカプト酪酸、メルカプトウンデシル酸、ｏ−メルカプ
ト安息香酸、ｐ−メルカプト安息香酸が挙げられる。

【００６８】これらのポリオールとカルボキシル基を有
するチオール化合物は全ての組み合わせで使用すること
ができ、公知の方法によりエステル化反応させて目的と
するチオール化合物を得ることができる。

【００６９】上記のチオール化合物のなかでも光硬化
性、耐溶剤性の観点から脂肪族炭化水素を主鎖とするジ
チオールおよびポリオールとカルボキシル基を有するチ
オール化合物のエステル化物が好ましく、更にトリメチ
ロールプロパンまたはペンタエリスリトールとチオグリ
コール酸またはβ−メルカプトプロピオン酸の組み合わ
せによるエステル化物あるいはこれらの混合物が好まし
い。

【００７０】また、炭素−炭素不飽和基含有化合物と同
様に本発明の感光層に印刷版として実用に耐えうる耐溶
剤性を付与させる目的から、チオール化合物にキノンジ
アジド基を付加して使用することができる。チオール化
合物と例えば１，２−ナフトキノン−４−ジアジドスル
ホン酸クロリドを公知の方法で反応させることにより目
的とする化合物を得ることができる。

【００７１】これらチオール化合物は感光層組成中に１
０〜８０重量％、さらに好ましくは２０〜７０重量％含
有される。

【００７２】上記のチオール化合物と炭素−炭素不飽和
基含有化合物は全ての組み合わせで使用することができ
る。これらの化合物はチオール基と炭素−炭素不飽和基
が同一個数含有する組成比で使用することが光キュア時
の感光層の硬化性の面で好ましい。しかし、炭素−炭素
不飽和基として（メタ）アクリレート基を有する化合物
を使用する場合は、（メタ）アクリレート基どうしの光
重合反応が起こるためチオール基よりも過剰に含有して
も良い。

【００７３】また、チオール化合物と炭素−炭素不飽和
基含有化合物として市販のエン−チオール系１液型ＵＶ
硬化塗料を使用することもできる。このようなエン−チ
オール系１液型ＵＶ硬化塗料は単独で使用することもで
きるし、上述のチオール化合物と炭素−炭素不飽和基含
有化合物と併用することもできる。

【００７４】本発明の感光層に含有される炭素−炭素不
飽和基とチオール基の光硬化反応を効果的に発現させる
目的で光増感剤を含有させることが好ましい。

【００７５】本発明において使用できる光増感剤として
は公知のもの全てを用いることができる。具体例として
は下記のものが挙げられるが、本発明はこれらの例に特
に限定されない。

【００７６】（１）ベンゾフェノン誘導体、例えばベン
ゾフェノン、ミヒラ氏ケトン、４，４´−ビスジエチル
アミノベンゾフェノン、キサントン、アンスロン、３，
３ージメチルー４ーメトキシベンゾフェノン、アクリド
ン、２ークロロアクリドン、２ークロローＮ−ｎ−ブチ
ルアクリドなど。

【００７７】（２）ベンゾイン誘導体、例えばベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエ−テル、ベンゾインエチルエ−
テル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブ
チルエーテル、αーメチロールベンゾイン、αーメチロ
ールベンゾインイソメチルエーテル、αーメトキシベン
ゾインエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、α−ｔ
ーブチルベンゾインなど。

【００７８】（３）キノン類、例えばｐ−ベンゾキノ
ン、β−ナフトキノン、β−メチルアントラキノン、ア
ントラキノン、ベンズアントラキノン、２ーエチルアン
トラキノン、２ークロルアントラキノンなど。

【００７９】（４）チオキサントン類、例えばチオキサ
ントン、２−クロルチオキサントン、イソプロピルチオ
キサントン、２，４−ジエチルチオキサントンなど。

【００８０】（５）アセトフェノン類、例えば２，２−
ジメトキシフェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキ
シアセトフェノンなど。

【００８１】（６）イオウ化合物、例えばジベンジルジ
サルファイド、ジーｎ−ブチルジサルファイドなど。

【００８２】（７）アゾあるいはジアゾ化合物、例えば
２ーアゾービスーイソブチロニトリル、１ーアゾービス
ー１ーシクロヘキサンカルボニトリル、ｐ−ジアゾベン
ジルエチルアニリン、コンゴーレッドなど。

【００８３】（８）ハロゲン化合物、例えば四臭化炭
素、臭化銀、αークロロメチルナフタリン、トリハロメ
チルーＳ−トリアジン系化合物など。

【００８４】（９）過酸化物、例えば過酸化ベンゾイル
など。

【００８５】（１０）ウラニル塩、例えば硝酸ウラニル
など。

【００８６】これらの光開始剤の選択にあたっては、感
光層の他の成分との相溶性、露光に用いる光源のスペク
トルなどを考慮して、最も適当なものを選び、単独もし
くは混合して使用することが好ましい。

【００８７】これら光開始剤は、感光層中に０．０１〜
２０重量％含有されることが好ましく、より好ましくは
０．１〜１０重量％である。

【００８８】また、光硬化に際しては、重合開始剤の他
にジメチルアミノエタノール、ｐ−ジメチルアミノ安息
香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
エチルエステル等の光重合促進剤を併用することもでき
る。これら光重合促進剤の添加量は０．０１〜０．５重
量％が好ましい。

【００８９】更に、感光層に形態保持性を与え、上層の
シリコーンゴム層を基板面と水平な面に支持し、あるい
はシリコーンゴム層との接着性を向上させる目的で、必
要に応じてオルガノシリカ、シランカップリング剤、シ
リル化モノマーまたは有機金属化合物を感光層に混合し
ておくこともできる。

【００９０】（１）オルガノシリカの具体例としてはオ
スラル１４３２、オスカル１１３２、（触媒化成工業
（株）製、オルガノシリカ粉末）等が挙げられる。

【００９１】（２）シランカップリング剤の具体例とし
ては３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン等が挙げられる。

【００９２】（３）シリル化モノマの具体例としては
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ−（２−ヒドロキシ−３−メタクリ
ロイルオキシプロピル）−Ｎ’−モノ−（２−ヒドロキ
シ−３−トリメトキシシリルプロピルオキシプロピル）
トリオキシプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−（２−
ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）−
Ｎ，Ｎ’−ジ−（２−ヒドロキシ−３−トリメトキシシ
リルプロピルオキシプロピル）トリオキシプロピレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ−（２−ヒドロキシ−３−
メタクリロイルオキシプロピル）−Ｎ’−モノ−（２−
ヒドロキシ−メチルジメトキシシリルプロピルオキシプ
ロピル）トリオキシプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ
−（２−ヒドロキシ−３−メタアクリロイルオキシプロ
ピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−（２−ヒドロキシ−３−メチル
ジメトキシシリルプロピルオキシプロピル）トリオキシ
プロピレンジアミン等が挙げられる。

【００９３】（４）有機金属化合物の具体例としては、
ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、テ
トラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート
等が挙げられる。

【００９４】本発明の水なし平版の感光層はさらにバイ
ンダーポリマを含有することが好ましい。形態保持の機
能を果たすバインダーポリマとしては、有機溶媒により
希釈可能であり、かつフィルム形成能のあるものであれ
ばいずれも使用可能である。バインダーポリマの具体例
として下記のものが挙げられるが、本発明はこれらの例
に特に限定されない。

【００９５】（１）ビニルポリマ類 （ａ）ポリオレフィン類 具体例としてはポリ（１−ブテン）、ポリ（５−シクロ
ヘキシル−１−ペンテン）、ポリ（１−デセン）、ポリ
（１，１−ジクロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチ
ルブタン）、ポリ（１，１−ジメチルプロパン）、ポリ
（１−ドデセン）、ポリエチレン、ポリ（１−ヘプテ
ン）、ポリ（１−ヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６
−メチル−１−ヘプテン）、ポリ（５−メチル−１−ヘ
キセン）、ポリ（２−メチルプロパン）、ポリ（１−ノ
メン）、ポリ（１−オクテン）、ポリ（１−ペンテ
ン）、ポリ（５−フェニル−１−ペンテン）、ポリプロ
ピレン、ポリイソブチレン、ポリ（１−ブテン）、ポリ
（ビニルブチルエーテル）、ポリ（ビニルエチルエーテ
ル）、ポリ（ビニルイソブチルエーテル）、ポリ（ビニ
ルメチルエーテル）等が挙げられる。

【００９６】（ｂ）ポリスチレン類 具体例としてはポリ（４−［（２−ブトキシエトキシ）
メチル］スチレン）、ポリ（４−デシルスチレン）、ポ
リ（４−ドデシルスチレン）、ポリ［４−（２−エトキ
シエトキシメチル）スチレン］、ポリ［４−（ヘキソキ
シメチル）スチレン］、ポリ（４−ヘキシルスチレ
ン）、ポリ（４−ノニルスチレン）、ポリ［４−（オク
トキシメチル）スチレン］、ぽり（４−オクチルスチレ
ン）、ポリ（４−テトラデシルスチレン）等が挙げられ
る。

【００９７】（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマ 具体例としてはポリ（ブチルアクリレート）、ポリ（ｓ
ｅｃ−ブチルアクリレート）、ポリ（ｔｅｒｔ−ブチル
アクリレート）、ポリ［２−（２−シアノエチルチオ）
エチルアクリレート］、ポリ［３−（２−シアノエチル
チオ）プロピルアクリレート］、ポリ［２−（シアノメ
チルチオ）エチルアクリレート］、ポリ［６−（シアノ
メチルチオ）ヘキシルアクリレート］、ポリ［２−（３
−シアノプロピルチオ）エチルアクリレート］、ポリ
（２−エトキシエチルアクリレート）、ポリ（３−エト
キシプロピルアクリレート）、ポリ（エチルアクリレー
ト）、ポリ（２−エチルブチルアクリレート）、ポリ
（２−エチルヘキシルアクリレート）、ポリ（５−エチ
ル−２−ノニルアクリレート）、ポリ（２−エチルチオ
エチルアクリレート）、ポリ（３−エチルチオプロピル
アクリレート）、ポリ（ヘプチルアクリレート）、ポリ
（２−ヘプチルアクリレート）、ポリ（ヘキシルアクリ
レート）、ポリ（イソブチルアクリレート）、ポリ（イ
ソプロピルアクリレート）、ポリ（２−メトキシエチル
アクリレート）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリレ
ート）、ポリ（２−メチルブチルアクリレート）、ポリ
（３−メチルブチルアクリレート）、ポリ（２−メチル
−７−エチル−４−ウンデシルアクリレート）等が挙げ
られる。

【００９８】（２）未加硫ゴム 天然ゴム、（ＮＲ）や、ブタジエン、イソプレン、スチ
レン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体で
あり、例えばポリブタジエン（ＢＲ）、スチレン−ブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレン−
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レン−イソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−イソプ
レン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体などが挙げ
られる。

【００９９】（３）ポリオキシド類（ポリエーテル類） トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２−
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、等が挙げられる。

【０１００】（４）ポリエステル類 以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等が挙げられる。

【０１０１】多価アルコールの具体例としては、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレ
ングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレング
リコール、ｐ−キシレングリコール、水素化ビスフェノ
ールＡ、ビスフェノールヒドロキシプロピルエーテル、
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタ
エリトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等
が挙げられる。

【０１０２】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物の具体例としては無水フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無
水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリッ
ト酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無
水ピロメリット酸等が挙げられる。

【０１０３】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等が挙げられる。

【０１０４】（５）ポリウレタン類 ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシア
ネート、ナフタレン−１，５−ジイソシアネートなどと
１，４−ブタンジオールとのポリウレタンが挙げられ
る。

【０１０５】（６）ポリアミド類 次に示すモノマー類のコポリマーが挙げられる。ε−カ
プロラクタム、ω−ラウロラクタム、ω−アミノウンデ
カン酸、ヘキサメチレンジアミン、４，４−ビス−アミ
ノシクロヘキシルメタン、２，４，４−トリメチルヘキ
サメチレンジアミン、イソホロンジアミン、グリコール
類、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカン
ニ酸等が挙げられる。

【０１０６】本発明の感光層の好ましい組成としては、
下記に示すものが挙げられる。

【０１０７】（１）キノンジアジド化合物：５〜９０重
量部 （２）炭素−炭素不飽和基含有化合物：５〜７０重量部 （３）チオール化合物：５〜７０重量部 （４）形態保持性を有するバインダーポリマ：５〜７０
重量部 （５）光増感剤：１〜２５重量部 さらに好ましくは、 （１）キノンジアジド基を有する炭素−炭素不飽和基含
有化合物：１０〜８０重量部 （２）チオール化合物：１０〜７０重量部 （３）形態保持性を有するバインダーポリマ：５〜７０
重量部 （４）光増感剤：１〜２５重量部 また、感光層の膜厚は乾燥重量で０．５〜３ｇ／ｍ² が
好ましく、製造時の作業性の点から１．０〜５ｇ／ｍ²
がより好ましい。感光層の膜厚が０．５ｇ／ｍ² より小
さい場合はピンホール等が発生しやすくなり塗工性の点
で好ましくない。また、５ｇ／ｍ² を越えると経済的な
点で不利となり好ましくない。

【０１０８】次に本発明で用いられる水なし平版用の基
板について説明する。本発明の水なし平版印刷版は通常
の印刷機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかか
る荷重とに耐えるものでなければならない。従って、代
表的な基板としては、コート紙、アルミニウムのような
金属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチ
ックフィルム、ゴムあるいはそれらを複合させたものを
挙げることができる。これらの基板の表面にはハレーシ
ョン防止及びその他の目的で更にプライマー層などをコ
ーティングすることも可能である。

【０１０９】プライマー層については、例えば、特開昭
６０−２２９０３号公報に提案されている種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開平４−３２２１８１号公報に提案されている
メタクリル系含リンモノマを感光層を積層する前に露光
して硬化せしめたもの、特開平２−７０４９号公報に提
案されているメタクリル系エポキシ化合物を感光層を積
層する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭６２−５
０７６０号公報に提案されているエポキシ樹脂を熱硬化
せしめたもの、特開昭６３−１３３１５１号公報に提案
されているゼラチンを硬膜せしめたもの、特開平１−２
８２２７０号公報や、特開平２−２１０７２号公報に提
案されているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げるこ
とが出来る。この他にもカゼインを硬膜させたものも有
効である。

【０１１０】さらにプライマー層を柔軟化させる目的
で、前記プライマー層にガラス転移温度が室温以下であ
るポリウレタン、ポリアミド、スチレン／ブタジエンゴ
ム、カルボキシ変性スチレン／ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル／ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロ
ニトリル／ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アク
リレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、などのポリマを添加してもよい。
その添加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範
囲であれば、添加剤だけでプライマー層を形成してもよ
い。

【０１１１】また、これらのプライマー層には検版性を
向上させる目的で染料、ｐＨ指示薬、露光焼だし剤、フ
ォトクロミック化合物、光重合開始剤、接着助剤例え
ば、重合性モノマ、ジアゾ樹脂、シランカップリング
剤、チタネートカップリング剤、アルミニウムカップリ
ング剤、ジルコニアカップリング剤、ボロンカップリン
グ剤など）、白色顔料やシリカ粒子などの添加剤を含有
させることが出来る。

【０１１２】本発明に用いられるプライマー層の膜厚は
乾燥重量で０．１〜２０ｇ／ｍ² の範囲が好ましく、１
〜１０ｇ／ｍ² の範囲がさらに好ましい。

【０１１３】次に本発明で用いられるシリコーンゴム層
について説明する。本発明において使用できるシリコー
ンゴム層は０．５〜５０ｇ／ｍ² 、好ましくは０．５〜
１０ｇ／ｍ² の厚みを有しかつ紫外線が透過しうる透明
性を有するものである。

【０１１４】このようなシリコーンゴム層は、、ポリオ
ルガノシロキサンに、必要に応じて架橋剤および触媒を
添加したシリコーンゴム組成物を適当な溶媒で希釈した
ものを、該感光層上に塗布し、加熱乾燥して硬化させる
ことによって形成される。

【０１１５】本発明に好ましく用いられるシリコーンゴ
ム組成物としては、湿熱硬化型の縮合反応架橋性のシリ
コーンゴム組成物および熱硬化型の付加反応架橋性シリ
コーンゴム組成物が好ましく用いられる。

【０１１６】まず、湿熱硬化型の縮合反応架橋性のシリ
コーンゴム組成物について説明する。

【０１１７】本発明に用いられるシリコーンゴムは、線
状又は部分的に架橋したポリオルガノシロキサンであ
り、次のような繰り返し単位を有する。

【０１１８】 −Ｓｉ（Ｒ）₂ −Ｏ− （ＩＩ） ここで、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜
２０のアリール基、炭素数２〜１０のカルボキシアルキ
ル基、アルケニル基、シアノアルキル基又はこれらの組
み合わされた一価の基を表わし、それらはハロゲン原
子、アミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロ
キシ基、（メタ）アクリロキシ基、チオール基などの官
能基を有していてもよい。但しＲの６０％以上がメチル
基であるもののほうがインキ反撥性の面で好ましい。

【０１１９】上記ポリシロキサンを主たる骨格とする高
分子重合体（シリコーンゴム）の原料としては分子量数
千ないし数十万の末端に官能基を有するポリシロキサン
が使用され、これを次に示すような方法で架橋硬化して
シリコーンゴム層が得られる。即ち、具体的には両末端
にあるいは片末端のみに水酸基を有する上記ポリシロキ
サンに次のような一般式で示されるシラン系架橋剤を混
入し、必要に応じて有機金属化合物、例えば有機スズ化
合物、無機酸、アミン等の触媒を添加して、ポリシロキ
サンとシラン系架橋剤とを加熱し、又は常温で縮合硬化
せしめる。

【０１２０】 ＲｎＳｉＸ_4-n （ＩＩＩ） ここで、ｎは１〜３の整数、Ｒは先に示したＲと同様の
置換基であり、Ｘは−ＯＨ、−ＯＲ２、−ＯＡｃ、−Ｏ
−Ｎ＝ＣＲ２Ｒ３、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉなどの置換基
を表す。ここで、Ｒ２、Ｒ３は先に説明したＲと同じ意
味でありＲ２、Ｒ３は同じであっても異なっていてもよ
い。またＡｃはアセチル基を表す。

【０１２１】その他末端に水酸基を有するオルガノポリ
シロキサン、ハイドロジェンポリシロキサン架橋剤と必
要に応じて上記のシラン系架橋剤とを縮合硬化せしめ
る。

【０１２２】架橋剤の単体もしくはその縮合物の具体例
としては、次のようなものがある。

【０１２３】テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、ジメチルエトキシシラン、ジエチルエトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキ
シシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジメチルジア
セトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（βアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチル）−γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（βアミノエチル）アミノメチルフェネチルト
リメトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチル）アミノメチ
ルフェネチルトリエトキシシラン、トリス（メチルエチ
ルケトオキシム）メチルシラン、トリス（メチルエチル
ケトオキシム）エチルシラン、トリス（メチルエチルケ
トオキシム）ビニルシラン、テトラキス（メチルエチル
ケトオキシム）シランなどが挙げられる。

【０１２４】また、触媒としてはジブチル錫ジアセテー
ト、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエー
トなどの有機錫化合物が好ましく用いられる。

【０１２５】本発明に好ましく用いられる縮合反応架橋
性シリコーンゴム組成物の一般的な形態としては次のよ
うなものが挙げられる。

【０１２６】（１）一般式（ＩＩ）で表されるポリオル
ガノシロキサン：１００重量部 （２）一般式（ＩＩＩ）で表される縮合反応架橋剤：３
〜２０重量部 （３）縮合触媒：０．０１〜２０重量部 （４）溶剤：１００〜４０００重量部 また本発明の効果を有効に発現する為には架橋剤および
触媒を下記組成範囲とする縮合反応架橋性シリコーンゴ
ム組成物を用いることが特に好ましい。

【０１２７】（１）一般式（ＩＩ）で表されるポリオル
ガノシロキサン：１００重量部 （２）一般式（ＩＩＩ）で表される縮合反応架橋剤：３
〜２０重量部 （３）縮合触媒：０．０１〜０．０５重量部 （４）溶剤：１００〜４０００重量部 次に熱硬化型の付加反応架橋性のシリコーンゴム組成に
ついて説明する。

【０１２８】本発明で用いられるポリオルガノシロキサ
ンは、多価ハイドロジェンポリオルガノシロキサンおよ
び１分子中に２個以上の−ＣＨ＝ＣＨ−基を有するポリ
オルガノシロキサンを意味し、これらは適当な溶媒に溶
かして混合溶液とした後、必要に応じて触媒や硬化遅延
剤などが加えられて未硬化（未ゴム化）のシリコーンゴ
ム組成物となる。

【０１２９】本発明に好ましく用いられる付加反応架橋
性のシリコーンゴム組成の一般的な形態としては次のよ
うなものが挙げられる。

【０１３０】（１）１分子中にケイ素原子に直接結合し
たアルケニル基（より好ましくはビニル基）を少なくと
も２個以上有するオルガノポリシロキサン：１００重量
部 （２）１分子中に少なくともＳｉＨ結合を２個有するオ
ルガノハイドロジェンポリシロキサン：０．１〜１００
００重量部 （３）付加触媒：Ｏ．００００１〜１０重量部 （４）溶剤：１００〜４０００重量部 成分（１）のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれ
にあってもよく、アルケニル基以外の有機基として好ま
しいものは、置換もしくは非置換のアルキル基、アリー
ル基である。成分（１）は水酸基を微量有していてもよ
い。成分（２）は成分（１）と反応してシリコーンゴム
層を形成するが、感光層に対する接着性の付与の役割も
果たす。

【０１３１】成分（２）の水素基は分子鎖末端、中間の
いずれにあってもよく、水素以外の有機基としては成分
（１）と同様のものから選ばれる。

【０１３２】成分（１）と成分（２）の有機基はインキ
反撥性の向上の点で総じて基数の６０％以上がメチル基
であることが好ましい。成分（１）及び成分（２）の分
子構造は直鎖状、環状、分岐状のいずれでもよく、どち
らか少なくとも一方の分子量が１，０００を超えること
がゴム物性の面から好ましく、更に成分（１）の分子量
が１，０００を超えることが好ましい。

【０１３３】成分（１）としては、α，ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の（メチルビニ
ルシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが
例示され、成分（２）としては、両末端水素基のポリジ
メチルシロキサン、α，ω−ジメチルポリメチルハイド
ロジェンシロキサン、両末端メチル基の（メチルハイド
ロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合
体、環状、ポリメチルハイドロジェンシロキサン等が例
示される。

【０１３４】成分（３）の付加触媒は、公知のもののな
かから任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が好まし
く、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位
白金などが例示される。これらの組成物の硬化速度を制
御する目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロキサ
ンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素
−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、メタノール、エタノール、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルなどの架橋制御剤を添加する
ことも可能である。

【０１３５】これらの組成物は、３成分を混合した時点
において付加反応が起き、硬化が始まるが、硬化速度は
反応温度がたかくなるに従い急激に大きくなる特徴を有
する。故に組成物のゴム化までのポットライフを長く
し、かつ感光層上での硬化時間を短くする目的で、組成
物の硬化条件は、支持体、感光層の特性が変らない範囲
の温度条件で、かつ完全に硬化するまで高温に保持して
おくことが、感光層との接着力の安定性の面で好まし
い。

【０１３６】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、加水分解性官能基含有シラン
（もしくはシロキサン）を添加することも任意であり、
またゴム強度を向上させる目的で、シリカなどの公知の
充填剤を添加することも任意である。

【０１３７】ここに説明した水なし平版印刷版において
シリコーンゴム層上に更に種々のシリコーンゴム層を塗
工することも任意であり、また感光性樹脂層とシリコー
ンゴム層との間の接着力を上げる目的、もしくはシリコ
ーンゴム組成物中の触媒の被毒を防止する目的で、感光
性樹脂層とシリコーンゴム層との間に接着層を設けるこ
とも任意である。

【０１３８】このようにして構成された水なし平版印刷
版原板の表層を形成するシリコーンゴム層は、取扱い時
に傷が入りやすく、また露光工程においてネガフィルム
が真空密着しにくいという問題があるため、シリコーン
ゴム層上に、透明な保護フィルムを張り付けることが出
来る。保護フィルムは露光工程においては有用である
が、現像工程においては、剥離または溶解により除去す
る必要がある。

【０１３９】保護フィルムは紫外線透過性を有し、１０
０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下の厚みを有するも
のが好ましい。保護フィルムの具体例としてはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタ
レート、セロファン等が上げられる。これらのフィルム
には、画像露光時の焼き枠における真空密着性を改良す
るため、マットを施してよい。

【０１４０】また、保護フィルムの代わりに溶解除去可
能なポリマーをコーティングし、保護層を形成させても
よい。

【０１４１】次に本発明における水なし平版印刷版原板
の製造方法について説明する。基板上にスリットダイコ
ーター、リバースロールコーター、エアーナイフコータ
ー、メーヤバーコーターなどの通常のコータ、あるいは
ホエラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じてプ
ライマー層組成物を塗布し１００〜３００℃の温度で数
分間硬化した後、感光層組成物塗液を塗布、５０〜１５
０℃の温度で数分間乾燥および必要に応じて熱キュア
し、その上にシリコーンゴム層組成物を塗布し、５０〜
１５０℃の温度で数分間熱処理してゴム硬化させて形成
する。しかる後に、必要に応じて保護フィルムをラミネ
ートする。

【０１４２】また、本発明の水なし平版印刷版は製造時
あるいは使用時に全面露光を行ない、光二量化型化合物
を光硬化反応させることが必要である。製造時に全面露
光を行なう場合は感光層の塗布直後、感光層の乾燥工程
の直後、シリコーンゴム層の塗布直後、シリコーンゴム
層の乾燥工程直後、カバーフィルムラミネート後、断裁
後などの工程において行なうことができる。また、使用
時に全面露光する場合は画像露光前、あるいは直後、現
像工程の前などに行なうことができる。

【０１４３】全面露光に用いられる光源は、通常印刷版
の画像露光に用いられている光源を使用することができ
る。具体的には、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ、
蛍光灯などである。

【０１４４】全面露光に際しては、その処理によりキノ
ンジアジド化合物の光反応性の官能基、すなわちキノン
ジアジド基を全て反応（失活）させないことが必要であ
る。その為、波長の異なる光源を用いてキノンジアジド
化合物の反応を抑制しながら光二量化型化合物を選択的
に反応させることや、同じ波長領域の光源を用いた場合
は画像露光より少ない光量にて全面露光を行ない、キノ
ンジアジド化合物の光反応性を残しながら光重合性化合
物の反応を行なうことが好ましい。

【０１４５】このような全面露光の処理により、光増感
剤を含有する場合は光増感剤が励起され三重項エネルギ
ーを光二量化型化合物にさせ、また、光二量化型化合物
自身も光を吸収することにより励起され、炭素、炭素不
飽和結合どうしが結合し、架橋構造が形成される。この
結果、感光層が現像液に対して不溶もしくは難溶化する
ことにより光剥離性感光層となる。

【０１４６】このようにして製造された本発明の水なし
平版印刷版原板は、真空密着されたネガフィルムを通し
て活性光線で露光される。この露光工程で用いられ光源
は通常、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、蛍光灯などを使うことが出来る。

【０１４７】露光の終わった印刷版は保護フィルムを剥
がし、現像液に浸漬し、現像パッドまたは現像用ブラシ
を用いて現像される。本発明において用いられる現像液
としては、水なし平版印刷版の現像液として公知の物が
使用できる。例えば、脂肪属炭化水素（ヘキサン、ヘプ
タン、”アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ”（エッソ化学（株）製
脂肪属炭化水素類の商標名）あるいはガソリン、灯油な
ど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）、
あるいはハロゲン化炭化水素（トリクレンなど）に下記
の極性溶媒を添加したものや極性溶媒そのものが好適で
ある。

【０１４８】（１）アルコール類 メタノール、エタノール、プロパノール、ベンジルアル
コール、エチレングリコールモノフェニルエーテル、２
−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、カル
ビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール等が挙
げられる。

【０１４９】（２）ケトン類 アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。

【０１５０】（３）エステル類 酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カ
ルビトールアセテート、ジブチルフタレート、ジエチル
フタレート等が挙げられる。

【０１５１】（４）その他 トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェー
ト等が挙げられる。

【０１５２】また、上記有機溶剤系現像液に水を添加し
り、上記有機溶剤を界面活性剤等を用いて水に可溶化し
たものや、更にその上にアルカリ剤、例えば炭酸ナトリ
ウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノーリアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリ
ウム等の無機アルカリ剤、あるいはモノ、ジ、またはト
リエタノールアミン、モノ、ジ、またはトリエチルアミ
ン、モノ、ジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、
モノ、ジ、またはトリイソプロパノールアミン、エチレ
ンイミン、エチレンジイミン等の有機アミン化合物など
も使用できる。

【０１５３】また、クリスタルバイオレット、ビクトリ
アピュアブルー、アストラゾンレッドなどの公知の塩基
性染料、酸性染料、油溶性染料を現像液に加えて現像と
同時に画線部の染色を行なうことが出来る。

【０１５４】また、本発明の水なし平版印刷版を現像す
る際には、例えば東レ（株）にて市販されているような
自動現像機を用い、上記の現像液で版面を前処理した後
に水道水を版面に流しながら回転ブラシで擦ることによ
って、好適に現像することができる。現像機の具体例と
しては東レ（株）製のＴＷＬ−１１６０、ＴＷＬ−８６
０、ＴＷＬ−６５０、ＴＷＬ−４００など、あるいは特
開平４−２２６５号や特開平５−２２７２号、特開平５
−６０００号などに開示されている現像装置を挙げるこ
とができる。また、上記の現像液に代えて、温水や水蒸
気を版面に噴霧することによっても現像が可能である。

【０１５５】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されない。

【０１５６】合成例１ （炭素−炭素不飽和基を有するキノンジアジド化合物Ａ
の合成）グリセリンジグリシジルエーテルを１ｍｏｌと
アクリル酸を２ｍｏｌの比率で反応させたエポキシアク
リレート１３．９ｇ（０．０４ｍｏｌ）と１，２−ナフ
トキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド２
１．５ｇ（０．０８ｍｏｌ）をジオキサン３００ｇに溶
解させた。次に炭酸ナトリウム１０ｇを水９０ｇに溶解
させ、この炭酸ナトリウム１０重量％水溶液を前述のジ
オキサン溶液中に３０分間かけて滴下した。この際、ジ
オキサン溶液は４０℃に液温を保ったまま撹拌した。滴
下終了後、４０℃に保ったままで約４時間撹拌し反応さ
せた。反応後、水１０００ｇの入ったビーカー中に反応
溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。次にビーカー
中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行ない炭素−炭素不飽
和基を有するキノンジアジド化合物Ａを得た。

【０１５７】合成例２ （炭素−炭素不飽和基を有するキノンジアジド化合物Ｂ
の合成）グリシジルメタクリレート５６８．８ｇ（４ｍ
ｏｌ）とポリオキシプロピレンジアミン４０１ｇ（１ｍ
ｏｌ）を混合した後イソプロパノール２４２．５ｇとヒ
ドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇを加え２時間
かけて徐々に室温から８０℃まで昇温した。昇温後８０
℃に保った状態で約７時間撹拌しながら反応させ水酸基
を有する炭素−炭素不飽和基含有化合物を得た。

【０１５８】この化合物２０ｇ（約０．０２ｍｏｌ）と
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸
クロリド１２ｇ（約０．０４ｍｏｌ）をジオキサン３０
０ｇに溶解させた。次に炭酸ナトリウム１０ｇを水９０
ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％溶液を前
述のジオキサン溶液中に３０分間かけて滴下した。この
際、ジオキサン溶液は４０℃に液温を保ったまま撹拌し
た。滴下終了後、４０℃に保ったままで４時間撹拌し反
応させた。反応後、水１０００ｇの入ったビーカー中に
反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。次にビー
カー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行ない炭素−炭素
不飽和基を有するキノンジアジド化合物Ｂを得た。

【０１５９】合成例３ ２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート
を２ｍｏｌとヘキサメチレンジイソシアネートを１ｍｏ
ｌの比率で反応させて得られたウレタンアクリレートを
６０ｇ（０．１ｍｏｌ）とトリエチルアミン１１．１ｇ
（０．１ｍｏｌ）を１，２−ジクロルエタン２００ｇに
溶解させ、０℃に保った。溶液を撹拌しながら１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド
５３．８ｇ（約０．２ｍｏｌ）を３０分かけて添加し、
その間溶液の温度を０〜１０℃の間に保持した。さらに
１時間撹拌して反応させ反応溶液を１重量％塩酸水溶液
１０００ｍｌに投入し１，２−ジクロルエタン溶液を分
離した後さらに水洗し、減圧乾燥を行ない炭素−炭素不
飽和基を有するキノンジアジド化合物Ｃを得た。

【０１６０】合成例４ ヘキサメチレンジイソシアネートとエチレングリコール
およびアリルアルコールを３対２対２のモル比で反応さ
せて得られたアリルウレタンを６４．５ｇ（０．１ｍｏ
ｌ）とトリエチルアミン１１．１ｇ（０．１ｍｏｌ）を
１，２−ジクロルエタン２００ｇに溶解させ、０℃に保
った。溶液を撹拌しながら１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−４−スルホン酸クロリド５３．８ｇ（約０．
２ｍｏｌ）を３０分かけて添加し、その間溶液の温度を
０〜１０℃の間に保持した。さらに１時間撹拌して反応
させ反応溶液を１重量％塩酸水溶液１０００ｍｌに投入
し１，２−ジクロルエタン溶液を分離した後さらに水洗
し、減圧乾燥を行ない炭素−炭素不飽和基を有するキノ
ンジアジド化合物Ｄを得た。

【０１６１】合成例５ ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート４３．２
ｇ（０．１ｍｏｌ）とエチレンジアミン６ｇ（０．１ｍ
ｏｌ）を１，２−ジクロルエタン２００ｇに溶解させ、
０℃に保った。溶液を撹拌しながら１，２−ナフトキノ
ン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド５３．８ｇ
（約０．２ｍｏｌ）を３０分かけて添加し、その間溶液
の温度を０〜１０℃の間に保持した。さらに１時間撹拌
して反応させ反応溶液を１重量％塩酸水溶液１０００ｍ
ｌに投入し１，２−ジクロルエタン溶液を分離した後さ
らに水洗し、減圧乾燥を行ないチオール基を有するキノ
ンジアジド化合物Ｅを得た。

【０１６２】実施例１ 通常の方法で脱脂した厚さ０．２４ｍｍのアルミ板（住
友金属（株）製）に、下記のプライマー 組成物を塗布
し、２００℃、２分間熱処理して５ｇ／ｍ² のプライマ
ー層を塗設した。

【０１６３】〈固形成分：塗布濃度１２％〉 （１）ポリウレタン樹脂”サンプレンＬＱ−ＳＺ１８”
（三洋化成工業（株）製）: ７５重量部 （２）ブロックイソシアネート”タケネートＢ８３０”
（武田薬品（株）製）:１５重量部 （３）エポキシ・尿素樹脂: １０重量部 〈溶剤成分〉 （４）ジメチルホルムアミド 続いてこの上に、下記の組成を有する感光層組成物を１
２０℃、３０秒間乾燥して１．２ｇ／ｍ² の感光層を塗
設した。

【０１６４】〈固形成分：塗布濃度１０％〉 （１）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホン酸クロリドとフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５
０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエス
テル化度３６％）: ７０重量部 （２）ヘキサメチレンジイソシアネート／エチレングリ
コール／アリルアルコールをモル比３／２／２で反応さ
せて得られたアリルウレタン類: １３重量部 （３）ペンタエリスリトールテトラチオグリコール: ７
重量部 （４）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）: １０重量部 （５）光増感剤“ミヒラーケトン”i ＢＡＳＦ（株）
製）: ３重量部 （６）モノメチルハイドロキノン: ０．０００２重量部 〈溶剤成分〉 （７）テトラヒドロフラン 続いて、この感光層の上に下記組成のシリコーンゴム層
をバーコーターで塗布し、熱乾燥によりシリコーンゴム
層を塗設した。

【０１６５】縮合反応架橋性シリコーンゴム層として下
記組成物をバーコーターで塗布し、１１５℃、２分間加
熱して湿熱硬化させて、２ｇ／ｍ² のシリコーンゴム層
を塗設した。

【０１６６】〈固形成分：８％〉 （１）両末端水酸基ポリジメチルシロキサン（重合度〜
７００）: ９０重量部 （２）トリス（メチルエチルケトオキシム）ビニルシラ
ン: ９．８重量部 （３）ジブチル錫ジラウレート: ０．２重量部 〈溶剤成分〉 （４）”アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製） 上記のようにして得られた積層板に、１２μｍの片面マ
ット化二軸延伸ポリプロピレンフィルムをマット化され
ていない面がシリコーンゴム層と接するようにしてカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、ネガ型の水なし
平版印刷版用原版を得た。

【０１６７】この印刷版を５０℃に保った状態でメタル
ハライドランプ（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０
００）を用い、ＵＶメーター（オーク社製作所製、ライ
トメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２
の照度で６秒間全面露光を行なった。

【０１６８】上記のようにして得られた印刷版に１５０
線／インチで１〜９９％の網点を有するポジフィルムと
光学濃度差が０．１５のステップになっているグレース
ケール（Ｇ／Ｓ）を上記のメタルハライドランプを用い
て、３０秒間真空密着した後、１ｍの距離から６０秒間
露光し、ラミネートフィルムを剥離した。

【０１６９】その後自動現像機（東レ（株）製：ＴＷＬ
−１１６０）を用いて、液温４５℃のＮＰ−１前処理液
（東レ（株）製：自動現像機用前処理液）中で１分間浸
漬処理し、液温２５℃の純水中で現像ブラシにより露光
部のシリコーンゴム層を剥離除去しＮＡ−１後処理液
（東レ（株）製：自動現像機用後処理液）により画線部
の感光層を染色し刷版とした。その際のグレースケール
感度を評価した。

【０１７０】グレースケール感度とは、現像後シリコー
ンゴム層が除去されなかったグレースケール濃度の段数
を意味し、この結果の大きいほど、高感度であることを
示す。

【０１７１】実施例２ 実施例１と同様にしてアルミ基板にプライマー層を塗設
した後、下記の組成を有する感光層組成物を１２０℃、
３０秒間乾燥して１．２ｇ／ｍ² の感光層を塗設した。

【０１７２】〈固形成分：塗布濃度１０％〉 （１）合成例２で得られた炭素−炭素不飽和基を有する
キノンジアジド化合物:６０重量部 （２）ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート:
２０重量部 （３）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）：２０重量部 （４）光重合開始剤“イルガキュア３６９”（チバガイ
ギー（株）製）：３重量部 （５）モノメチルハイドロキノン：０．０００５重量部 〈溶剤成分〉 （６）テトラヒドロフラン 続いてこの上に実施例１と同様にシリコーンゴム層を塗
設した後、カバーフィルムをラミネートし、ネガ型の水
なし平版印刷版用原版を得た。

【０１７３】この印刷版を５０℃に保った状態でメタル
ハライドランプ（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０
００）を用い、ＵＶメーター（オーク社製作所製、ライ
トメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２
の照度で６秒間全面露光を行なった。

【０１７４】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０１７５】実施例３ 実施例１と同様にしてアルミ基板にプライマー層を塗設
した後、実施例２と同一の感光層組成物を実施例２と同
様にして塗設した。次にこの版を５０℃に保った状態で
メタルハライドランプ（岩崎電気（株）製アイドルフィ
ン２０００）を用い、ＵＶメーター（オーク社製作所
製、ライトメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ
／ｃｍ２の照度で６秒間全面露光を行なった。

【０１７６】続いてこの上に実施例１と同様にシリコー
ンゴム層を塗設した後、カバーフィルムをラミネート
し、ネガ型の水なし平版印刷版用原版を得た。

【０１７７】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０１７８】実施例４ 実施例１と同様にしてアルミ基板にプライマー層を塗設
した後、下記の組成を有する感光層組成物を１２０℃、
３０秒間乾燥して１．２ｇ／ｍ² の感光層を塗設した。

【０１７９】〈固形成分：塗布濃度１０％〉 （１）合成例１で得られた炭素−炭素不飽和基を有する
キノンジアジド化合物：６０重量部 （２）ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート：
２０重量部 （３）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）：２０重量部 （４）光重合開始剤“イルガキュア３６９”（チバガイ
ギー（株）製）：３重量部 （５）モノメチルハイドロキノン：０．０００５重量部 〈溶剤成分〉 （６）テトラヒドロフラン 続いてこの上に実施例１と同様にシリコーンゴム層を塗
設した後、カバーフィルムをラミネートし、ネガ型の水
なし平版印刷版用原版を得た。

【０１８０】この印刷版を５０℃に保った状態でメタル
ハライドランプ（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０
００）を用い、ＵＶメーター（オーク社製作所製、ライ
トメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２
の照度で６秒間全面露光を行なった。

【０１８１】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０１８２】実施例５ 実施例１と同様にしてアルミ基板にプライマー層を塗設
した後、下記の組成を有する感光層組成物を１２０℃、
３０秒間乾燥して１．２ｇ／ｍ² の感光層を塗設した。

【０１８３】〈固形成分：塗布濃度１０％〉 （１）合成例３で得られた炭素−炭素不飽和基を有する
キノンジアジド化合物：６０重量部 （２）ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート：
２０重量部 （３）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）：２０重量部 （４）光重合開始剤“イルガキュア３６９”（チバガイ
ギー（株）製）：３重量部 （５）モノメチルハイドロキノン：０．０００５重量部 〈溶剤成分〉 （６）テトラヒドロフラン 続いてこの上に実施例１と同様にシリコーンゴム層を塗
設した後、カバーフィルムをラミネートし、ネガ型の水
なし平版印刷版用原版を得た。

【０１８４】この印刷版を５０℃に保った状態でメタル
ハライドランプ（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０
００）を用い、ＵＶメーター（オーク社製作所製、ライ
トメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２
の照度で６秒間全面露光を行なった。

【０１８５】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０１８６】実施例６ 実施例１と同様にしてアルミ基板にプライマー層を塗設
した後、下記の組成を有する感光層組成物を１２０℃、
３０秒間乾燥して１．２ｇ／ｍ² の感光層を塗設した。

【０１８７】〈固形成分：塗布濃度１０％〉 （１）合成例４で得られた炭素−炭素不飽和基を有する
キノンジアジド化合物：６５重量部 （２）ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート：
１５重量部 （３）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）：２０重量部 （４）光重合開始剤“イルガキュア３６９”（チバガイ
ギー（株）製）：３重量部 （５）モノメチルハイドロキノン：０．０００５重量部 〈溶剤成分〉 （６）テトラヒドロフラン 続いてこの上に実施例１と同様にシリコーンゴム層を塗
設した後、カバーフィルムをラミネートし、ネガ型の水
なし平版印刷版用原版を得た。

【０１８８】この印刷版を５０℃に保った状態でメタル
ハライドランプ（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０
００）を用い、ＵＶメーター（オーク社製作所製、ライ
トメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２
の照度で６秒間全面露光を行なった。

【０１８９】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０１９０】実施例７ 実施例１と同様にしてアルミ基板にプライマー層を塗設
した後、下記の組成を有する感光層組成物を１２０℃、
３０秒間乾燥して１．２ｇ／ｍ² の感光層を塗設した。

【０１９１】〈固形成分：塗布濃度１０％〉 （１）合成例２で得られた炭素−炭素不飽和基を有する
キノンジアジド化合物：４０重量部 （２）合成例５で得られたチオール基を有するキノンジ
アジド化合物：４０重量部 （３）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）：２０重量部 （４）光重合開始剤“イルガキュア３６９”（チバガイ
ギー（株）製）：３重量部 （５）モノメチルハイドロキノン：０．０００５重量部 〈溶剤成分〉 （６）テトラヒドロフラン 続いてこの上に実施例１と同様にシリコーンゴム層を塗
設した後、カバーフィルムをラミネートし、ネガ型の水
なし平版印刷版用原版を得た。

【０１９２】この印刷版を５０℃に保った状態でメタル
ハライドランプ（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０
００）を用い、ＵＶメーター（オーク社製作所製、ライ
トメジャータイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２
の照度で６秒間全面露光を行なった。

【０１９３】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０１９４】実施例８〜１１ 実施例２、実施例４、実施例５および実施例６の縮合型
シリコーンゴム層組成を下記の付加型シリコーンゴム組
成に変更する以外はそれぞれ実施例２、実施例４、実施
例５および実施例６と同様にしてネガ型の水なし平版印
刷版用原版を得た。

【０１９５】付加反応架橋性シリコーンゴム層として下
記組成物をバーコーターで塗布し、１４０℃、２分間熱
硬化して、２ｇ／ｍ² のシリコーンゴム層を塗設した。

【０１９６】〈固形成分：７．４％〉 （１）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合
度〜７００）：９重量部 （２）（ＣＨ₃ ）₃ Ｓｉ−Ｏ−（Ｓｉ（ＣＨ₃ ）₂ −
Ｏ）₃₀−（ＳｉＨ（ＣＨ₃）−Ｏ）₁₀−Ｓｉ（ＣＨ₃ ）
₃ ：１．２重量部 （３）ポリジメチルシロキサン（重合度約８，００
０）：０．５重量部 （４）オレフィン−塩化白金酸：０．２重量部 （５）抑制剤：０．３重量部 〈溶剤成分〉 （４）”アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製） この印刷版を５０℃に保った状態でメタルハライドラン
プ（岩崎電気（株）製アイドルフィン２０００）を用
い、ＵＶメーター（オーク社製作所製、ライトメジャー
タイプＵＶ−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２の照度で６
秒間全面露光を行なった。

【０１９７】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０１９８】比較例１ 実施例２における感光層の全面露光を行わない（架橋構
造を形成しない）以外は実施例２と全く同様にして水な
し平版印刷版原版を作製し、実施例１と同様にして画像
評価を行なった。

【０１９９】比較例２ 通常の方法で脱脂した厚さ０．２４ｍｍのアルミ板（住
友金属（株）製）に、下記のプライマー組成物を塗布
し、２００℃、２分間熱処理して５ｇ／ｍ² のプライマ
ー層を塗設した。

【０２００】〈固形成分：塗布濃度１２％〉 （１）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）：１００重量部 （２）ブロックイソシアネート“タケネートＢ８３０”
（武田薬品（株）製）：２０重量部 （３）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７
２”（関西ペイント（株）製）：８重量部 （４）酸化チタン：１０重量部 （５）ジブチル錫ジアセテート：０．５重量部 〈溶剤成分〉 （６）ジメチルホルムアミド 続いてこの上に、下記の組成を有する感光層組成物を１
２０℃、３０秒間乾燥して１．２ｇ／ｍ² の感光層を塗
設した。

【０２０１】〈固形成分：塗布濃度１０％〉 （１）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホン酸クロリドとフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂（住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５
０６２２）の部分エステル化物（元素分析法によるエス
テル化度３６％）：８０重量部 （３）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３
１”（三洋化成工業（株）製）：１０重量部 （４）ジブチル錫ジアセテート：０．２重量部 （５）Ｐ−トルエンスルホン酸：０．８重量部 （６）イソホロンジイソシアネート：２０重量部 〈溶剤成分〉 （７）テトラヒドロフラン 続いて、この感光層の上に下記組成のシリコーンゴム層
をバーコーターで塗布し、熱乾燥によりシリコーンゴム
層を塗設した。

【０２０２】縮合反応架橋性シリコーンゴム層として下
記組成物をバーコーターで塗布し、１１５℃、２分間加
熱して湿熱硬化させて、２ｇ／ｍ² のシリコーンゴム層
を塗設した。

【０２０３】〈固形成分：８％〉 （１）両末端水酸基ポリジメチルシロキサン（重合度〜
７００）：１００重量部 （２）エチルトリアセトキシシラン：１２重量部 （３）ジブチル錫ジラウレート：０．１重量部 〈溶剤成分〉 （４）”アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製） 上記のようにして得られた積層板に、１２μｍの片面マ
ット化二軸延伸ポリプロピレンフィルムをマット化され
ていない面がシリコーンゴム層と接するようにしてカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、ネガ型の水なし
平版印刷版用原版を得た。

【０２０４】この印刷版をメタルハライドランプ（岩崎
電気（株）製アイドルフィン２０００）を用い、ＵＶメ
ーター（オーク社製作所製、ライトメジャータイプＵＶ
−４０２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ２の照度で６秒間全面露
光を行なった。

【０２０５】このようにして得られた水なし平版印刷版
原版について実施例１と同様にして画像評価を行なっ
た。

【０２０６】実施例１、実施例２、実施例４〜７および
比較例２の感光層溶液を３０℃、湿度８０％の条件で保
存し溶液の安定性を評価した。

【０２０７】実施例１〜１１および比較例１〜２の感光
層組成物の保存安定性評価結果、刷版の画像評価結果を
表１に示す。

【０２０８】

【表１】 表１に示すとおり、比較例１では２日以内で感光層溶液
がゲル化したのに対し実施例１、実施例２および実施例
４〜７の感光層溶液では３日以上経っても溶液に変化は
見られなかった。また、実施例１〜１１の刷版は画線部
のシリコーンゴム層のみが除去された良好なネガ画像が
得られ、画像再現性は比較例２と同等以上となった。比
較例１は全面シリコーンゴム層が剥離し画像は得られな
かった。

【０２０９】

【発明の効果】本発明は、基板上に少なくとも、感光層
およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし
平版印刷版原版において該感光層がキノンジアジド基お
よび炭素−炭素不飽和基およびチオール基を含有し、か
つ現像工程以前に光により該炭素−炭素不飽和基および
チオール基が架橋構造を形成していることにより、製造
時における作業性および性能の安定性が良好である水な
し平版印刷版原版が得られる。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に少なくとも、感光層およびシリコ
   ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
   版において、該感光層がキノンジアジド化合物とチオー
   ル化合物および炭素−炭素不飽和基を有する化合物を含
   有し、かつ該チオール化合物と炭素−炭素不飽和基を有
   する化合物が付加反応し架橋構造を形成していることを
   特徴とする水なし平版印刷版原版。
2. 【請求項２】基板上に少なくとも、感光層およびシリコ
   ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
   版において、該感光層が、分子中にチオール基および／
   または炭素−炭素不飽和基を有するキノンジアジド化合
   物と、分子中にチオール基および／または炭素−炭素不
   飽和基を有する化合物とを含有し、かつ該チオール基と
   該炭素−炭素不飽和基が付加反応し架橋構造を形成して
   いることを特徴とする水なし平版印刷版原版。
3. 【請求項３】感光層が、分子中にチオール基を有するキ
   ノンジアジド化合物と、分子中に炭素−炭素不飽和基を
   有する化合物とを含有し、かつ該チオール基と該炭素−
   炭素不飽和基が付加反応し架橋構造を形成していること
   を特徴とする請求項２に記載の水なし平版印刷版原版。
4. 【請求項４】感光層が、分子中に炭素−炭素不飽和基を
   有するキノンジアジド化合物と、分子中にチオール基を
   有する化合物とを含有し、かつ該チオール基と該炭素−
   炭素不飽和基が付加反応し架橋構造を形成していること
   を特徴とする請求項２に記載の水なし平版印刷版原版。
5. 【請求項５】感光層中のキノンジアジド化合物が水酸基
   を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記
   載の水なし平版印刷版原版。
6. 【請求項６】感光層がバインダーポリマーを含有するこ
   とを特徴とする請求項１〜５に記載の水なし平版印刷版
   原版。
7. 【請求項７】基板上に少なくとも、キノンジアジド化合
   物とチオール化合物および炭素−炭素不飽和基を有する
   化合物を含有する感光層を塗設した後全面に活性光線を
   照射し感光層中のチオール基と炭素−炭素不飽和基を付
   加反応させて架橋構造を形成させることを特徴とする水
   なし平版印刷版原版の製造方法。
8. 【請求項８】基板上に少なくとも、キノンジアジド化合
   物とチオール化合物および炭素−炭素不飽和基を有する
   化合物を含有する感光層、シリコーンゴム層をこの順に
   積層した後全面に活性光線を照射し感光層中のチオール
   基と炭素−炭素不飽和基を付加反応させて架橋構造を形
   成させることを特徴とする水なし平版印刷版原版の製造
   方法。