TW200416207A - A zirconia sintered body and a method for producing the same - Google Patents

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TW200416207A
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Ichiro Tanaka
Yoshio Uchida
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Sumitomo Chemical Co
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Description

200416207 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種具有高強度和高韌性的氧化銷燒 結體及其製造方法。 ％ 【先前技術】 氧化锆燒結體是一種陶瓷，且應用於構造材料，例如 磨粉工具、刀具、作爲光纖連接器的一部份之套圈等等。 氧化锆燒結體之原料，氧化銷粉末是由下述方法來獲 得的，舉例來說，一種方法包括從锆化合物的水溶液中使 _ 固體物質沈澱’然後再煆燒固體物質的步驟；或者另一種 方法包括使用噴霧乾燥的方式使锆化合物的水溶液乾燥， 然後再煆燒變乾的物質的步驟（日本專利特開平（JP_ A)N〇,2000-327416號案）。藉由成型氧化銷粉末並燒結此 經成型的生胚體，而得到氧化猶燒結體。 然而，習知氧化锆燒結體在強度和韌性方面並不足 夠。因此，就需要一種更先進的氧化锆燒結體。 【發明內容】 本發明的目的就是在提供一種具有高強度（例如高彎 * 曲強度)和高韌性的氧化銷燒結體及其製造方法。 對氧化锆燒結體廣泛的調查硏究的結果，本發明者完 成了本發明。 本發明提出一種氧化鍩燒結體，包括正方晶氧化锆， 其中從以下列條件測量出的X線(X-ray)繞射線譜得到的在 正方晶氧化銷之（111)面上的半峰全幅値爲0.38至4度。 條件： 13151pif.doc/008 4 200416207
放射源：CuKa光束 電壓•電流：40kVx 30mA 單能器：石墨 發散狹縫：1.0度 散射狹縫：1.0度 檢測狹縫：0.3度 步進尺寸：0.2度 日寸間/岁驟··連續 背景校正：執行 掃瞄速度：0.4度/分鐘 本發明也提出一種氧化锆燒結體的製造方法，此方法 包括下列歩驟··成型具有平均粒徑爲〇·1至0.6微米（/zm)、 最大粒徑爲5微米（//m)以下、以及大致上爲多面體形的 氧化锆粉末，然後在1200°C〜1400°C之溫度下燒結經成型 的生胚體。 爲讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 易懂’下文特舉一較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細 說明如下。 【實施方式】 本發明之氧化锆燒結體，包括正方晶氧化锆。從X線 (X-ray)繞射線譜得到的在正方晶氧化锆的（ill)面（通常，2 0 =30度附近）上的半峰全幅値(在下文簡稱爲「FWHM」） 爲0.38度以上，較佳爲0.4度以上，更佳爲0.41以上； 並且其爲4度以下，較佳爲2度以下，更佳爲1度以下。 X線繞射線譜是在下列條件下測得： 5 13151pif.doc/008 200416207
放射源：CuKa光束 電壓•電流：40kVx 30mA 單能器：石墨 發散狹縫：1.0度 散射狹縫：1.0度 檢測狹縫：0.3度 步進尺寸：0.2度 時間/步驟：連續 背景校正：執行 掃猫速度：0.4度/分鐘 ® 在本發明之氧化锆燒結體中，較佳是氧化銷燒結 的正方晶體的比率越高越好。舉例來說，正方h曰體的^宠 較佳是9〇 _以上。正方晶ft的比率是由；曰；繞射= 正方晶體晶格的（111)面的峰値強度、在單斜晶髀晶格的 (111)面的峰値強度以及單斜晶體晶格的（11_1}面的峰値強 度求出的。 本發明之氧化锆燒結體通常是多晶體，而且其平均結 晶尺寸通常爲0.01微米（/zm)以上，較佳爲0·05微米（//m) · 以上；而且爲0.3微米（//m)以下，更佳爲0·2微米（//m) 以下。 本發明之氧化鉻燒結體也可以含有安定劑。此安定劑 可以是在室溫下（例如20°C)使正方晶氧化锆暫穩定，例如 氧化釔（Y2〇3)、氧化鈽（Ce02)、氧化鎂（MgO)、氧化鈣 (CaO)、氧化鈦（Ti〇2)、氧化鏡（Yb203)、氧化餌（Ei*2〇3)及 氧化鈥(Ηο203)等等其中之一。安定劑在燒結體中的含量通 6 13151pif.doc/008 200416207 常是約2重量％以上，約10重量％以下。本發明之氧化 锆燒結體可以包含氧化銘（Al2〇3)，如果含有Al2〇3，則其 含量通常是約〇·1重量％以上，約0.5重量％以下。本發 明之氧化銷燒結體之密度較佳是6克/立方公分（g/cm3)以 上，其密度的上限値爲理論密度，亦即是6.1克/立方公分 (g/cm3)。 本發明之氧化锆燒結體之製造方法包括下列步驟，例 如成型氧化锆粉末，然後燒結經成型的生胚體。 作爲本發明之氧化锆燒結體之原料的氧化鉻粉末是化 學式表不爲Zr02的化合物。此氧化銷粉末之平均粒徑爲〇」 至0.6微米（// m)、最大粒徑爲5微米（// m)以下，且此氧 化銷粉末大致上爲多面體形。而且，氧化锆粉末中的單斜 晶體的比率通常是約70體積％以上，較佳是約8〇體積％ 以上，更佳是約90體積％以上。氧化锆粉末的bET比表 面積是約10平方公尺/克(m2/g)以上，較佳是約15平方公 尺/克（m2/g)以上；且是約30平方公尺/克（m2/g)以下，較 佳是是約20平方公尺/克(m2/g)以下。 氧化锆粉末也可以含有上述的安定劑。安定劑在燒結 體中的含量在最終所獲得的氧化锆燒結體中，通常是約2 重量％以上，約10重量％以下。此安定劑除了例如Y2〇3、 Ce02、MgO、CaO、Ti02、Yb203、Er2〇3 及 Ηο203 等等金 屬氧化物之外，也可以是在後述的燒結步驟中可以轉變成 金屬氧化物之金屬化合物（金屬化合物，舉例來說包括金 屬氫氧化物、金屬氯化物、金屬硝酸鹽、金屬硫酸鹽）。 氧化锆粉末可以和燒結劑混合。燒結劑包括氧化鋁， 13151pif.doc/008 7 200416207 例如ai2o3,以及在後述的燒結步驟中可以轉變成氧化鋁 之鋁化合物(鋁化合物，舉例來說包括氫氧化鋁、氯化鋁、 硝酸鋁、硫酸鋁）。燒結劑的含量在最終所獲得的氧化鉻 燒結體中，通常是約0.1重量％以上，約10重量％以下。 平均粒徑和最大粒徑分別處於上述的範圍內，且粉末 形狀大致上爲多面體形之上述氧化锆粉末可以由下述方法 製得，此方法包括下列步驟，例如在空氣中，於20(TC以 上、700°C以下的溫度中預煆燒氧氯化锆；接著將適當的 安定劑及燒結劑與經預煆燒而得到的粉末混合；然後在含 有氯化氫的氣體中，於700°C以上、1100°C以下的溫度中 預煆燒上述混合物；之後將經煆燒後的混合物磨成粉末。 作爲本發明之氧化锆燒結體之原料的氧化锆粉末通常 是成型成顆粒狀的。使氧化锆粉末形成顆粒狀例如可利用 噴霧式乾燥機等來達成。特那是，氧化锆粉末和水混合形 成漿體，然後形成的漿體再利用噴霧乾燥來進行乾燥，其 中入口溫度爲210〜230°C，出口溫度爲100〜13(TC以及 在使用碟片型噴霧式乾燥機的情況下，碟片轉速爲5000〜 15000rpm 〇 使氧化锆粉末或顆粒成型。此成型可以由習知的方法 來達成，例如加壓（冷等均加壓）、滑鑄、帶鑄、擠壓或射 出。在成型時，可視實際需要而於氧化锆粉末中加入黏結 劑（有機黏結劑例如聚乙烯醇(Polyvinyl alcohol，PVA)等）。 經由使氧化銷粉末成型而得到之生胚體，可視實際需要而 加熱至400°C以上、800°C以下的溫度。藉由加熱，可移除 生胚體中的黏結劑。 13151pif.doc/008 8 200416207 對經由使氧化锆粉末成型而得到之生胚體進行燒結。 此燒結之溫度通常是約1200°C以上、1400°C以下。當燒結 溫度太低時，氧化銷燒結體之密度會降低。另一方面，當 燒結溫度太高時，平均晶粒尺寸會變大，且無法獲得具有 局強度與局初性的氧化銷燒結體。燒結時間通常是1小時 以上，不超過24小時。燒結可以在氧化氣體例如空氣、 氧氣；惰性氣體例如氮氣、氬氣、氦氣；還原氣體例如氫 氣；或氧化氣體及惰性氣體之混合氣體中進行，其中較佳 是在氧化氣體、惰性氣體及其混合物中進行。總氣體壓力 在燒結時是常壓（約800hpa以上，1200hap以下）。 本發明之氧化锆燒結體具有高強度與高韌性。本發明 之氧化锆'燒結體也具有良好的抗水性。此氧化锆燒結體適 用於構造材料’例如磨粉工具、刀具、作爲光纖連接器的 一部份之套圈等等。 ~ 實驗例 以T特舉出實驗例，以作詳細說明本發明，但是本發 明並不限定這些實驗例。 主要粒子的形狀： 使用掃瞄式電子顯微鏡（商品名「T-300」JEOL公司 製）以及穿透式電子顯微鏡（商品名「TEMH9000NAR」 Hitachi公司製）以測定之。 平均粒徑D5〇Um)及最大粒徑D100(//m): 13151pif.doc/008 9 200416207 使用粒子尺寸分佈機（商品名「SALD2000A」Shimadzu 公司製），以粒子的累積重量爲縱座標，粒子的尺寸爲橫 座標畫出粒子尺寸分佈曲線。粒子尺寸在累積的重量爲50 重量％稱爲D50，粒子尺寸在累積的重量爲100重量％稱 爲D100。關於累積重量，在粒子尺寸分佈曲線的縱座標 上的累積重量是指根據粒子尺寸從小到大的不同累計粒子 重量的値。 BET比表面積(m2/g) : φ 使用比表面積分析器（商品名「FLOWSORP2300II」 Shimadzu股份有限公司製）以測定之。 破裂韌性(Mpa · m1/2): 使用維氏（Vickers)硬度測、試裝置（商品名「AVK-C2」
Akashi股份有限公司製)根據工業標準JIS-R-1601以測定 之。 三點彎曲強度： 根據工業標準JIS-R-1601以測定之。 平均晶粒尺寸（// m广 使用掃瞄式電子顯微鏡拍攝燒結體的照片，再利用剖 面法(線性截距法）測量之。 結晶相及在正方晶氧化鉻的（111)面上的FWHM: 13151pif.doc/008 10 200416207 使用X線繞射儀(商品名「RINT2500TTR」Rigaku股 份有限公司製)在下列條件下求出X線繞射線譜圖。 條件：
放射源：CuKa光束 電壓•電流：40kVx 30mA 單能器：石墨 發散狹縫：1.0度 散射狹縫：1.0度 檢測狹縫：0.3度 步進尺寸：0.2度 時間/步驟：連續 背景校正：執行 掃瞄速度：0.4度/分鐘 然後，根據下列方程式，<求出正方晶體和單斜晶體的 比率。 正方晶體的比率(體積％)
It(lll) = ---X 100 ·
Im(lll)+Im(ll-1)+It(lll) 單斜晶體的比率(體積％)
Im(l 11)+Im(l 1-1) = --x 100
Im(lll)+Im(ll-l)+lt(lll) it(m):正方晶氧化銷的（in)面的峰値強度。 Im(lll):單斜晶氧化锆的（ln)面的峰値強度。 11 13151pif.doc/008 200416207
Im(ll-l):單斜晶氧化鉻的（11-1)面的峰値強度。 從圖1所7K的X線繞射線譜圖測量出在正方晶氧化銷 (111)面上的 FWHM。 實驗例1 [氧化銷粉末的製備] 在空氣中，於600°C的溫度中預煆燒氧氯化锆(Wako純 化學工業股份有限公司製，特級化學品）3小時。將經預煆 燒的物質94.5重量份、氧化釔(Y203，平均粒徑：0.4微米， 曰本纪股份有限公司製）5.25重量份、氧化錦（商品名 「ΑΚΡ-30」住友化學股份有限公司製）0.25重量份混合， 且此混合物利用球磨機混合6小時。然後’在一氣體（30 體積％之氯化氫，7〇體積％之空氣）中，於l〇8〇°C的溫度 中預煆燒1小時。之後，使用球磨機在濕式製程中將經煆 燒後的混合物磨成粉末，而得到氧化锆粉末。此氧化銷粉 末具有多面體形。此氧化銷粉末的性質如表一所示。 [氧化锆燒結體的製作與評價] 將氧化锆粉末60重量份、水40重量份及分散劑（商 品名「SN5468」Sannopco股份有限公司製）1重量份混合 而形成漿體。利用噴霧式乾燥機（商品名「AN_40CR」， Ashizawa-Niro股份有限公司製）’在入口溫度爲220 C ’ 出口溫度爲ll〇°C以及碟片轉速爲10〇〇〇rPm之條件下， 使漿體形成顆粒狀。然後，可以得到平均粒徑爲65微米 的顆粒。使用冷等均加壓，在成型壓力Ut/cm2 ’受壓時 13151pif.doc/008 12 200416207 間180秒的條件下使顆粒成型。接著，經成型的生胚體在 空氣中，於1350°C之溫度下，進行燒結3小時。所得到的 氧化锆燒結體的性質如表二所示。 實驗例2 除了在實驗例1的[氧化銷粉末的製備]中，不加入氧 化鋁之外，其他依照與實驗例1相同之方式製作出氧化锆 粉末。再將此氧化鉻粉末依照與實驗例1的[氧化锆燒結 體的製作與評價]相同之方式製作出氧化锆燒結體。氧化 錆粉末的性質如表一所示。所得到的氧化锆燒結體的特性 如表二所示。 實驗例3 除了在實驗例1的[氧化锆粉末的製備]中，煆燒溫度 改成100CTC之外，其他依照與實驗例1相同之方式製作出 氧化鍩粉末。再將此氧化锆粉末依照與實驗例1的[氧化 锆燒結體的製作與評價]相同之方式製作出氧化锆燒結 體。氧化銷粉末的性質如表一所示。所得到的氧化锆燒結 體的特性如表二所示。 比較例1 30重量％的氧氯化锆水溶液（Wako純化學工業股份 有限公司製，特級化學品）在80°C的溫度中加熱3小時， 以沈澱出氫氧化锆，然後過濾出沈澱物。此沈澱物在Π0 °C的溫度中乾燥3小時以獲得乾燥的氫氧化锆。將乾燥的 13151pif.doc/008 13 200416207 氫氧化锆94.5重量份、氧化釔(Y2〇3，平均粒徑：0.4微米’ 曰本釔股份有限公司製）5·25重量份、氧化鋁（商品名 「ΑΚΡ-30」住友化學股份有限公司製）0.25重量份混合， 且此混合物利用球磨機混合6小時。然後，在空氣中，於 1070°C的溫度煆燒此混合物3小時。之後，使用球磨機在 濕式製程中將經煆燒後的混合物磨成粉末，而得到氧化鍩 粉末。此氧化銷粉末爲不均一的，且不具有多面體形。 將此氧化锆粉末依照與實驗例1的[氧化锆燒結體的製 作與評價]相同之方式製作出氧化锆燒結體。氧化锆粉末 的性質如表一所示。所得到的氧化锆燒結體的特性如表二 所示。 比較例2 將30重量％的氧氯化锆冰溶液(Wako純化學工業股 份有限公司製’特級化學品）與對於氧氯化锆水溶液爲兩 倍當量的10重量％的氧化鋁水溶液混合，以沈澱出氫氧 化锆，然後過濾出沈殿物。此沈澱物在ll〇°C的溫度中乾 燥3小時以獲得乾燥的氫氧化锆。將乾燥的氫氧化锆94.5 重量份、氧化釔(Y2〇3，平均粒徑：0.4微米，日本釔股份 有限公司製）5.25重量份、氧化銘（商品名「ΑΚΡ-30」住友 化學股份有限公司製）0.25重量份混合，且此混合物利用 球磨機混合6小時。然後，在空氣中，於1〇7〇°c的溫度中 煆燒此混合物3小時。之後，使用球磨機在濕式製程中將 經煆燒後的混合物磨成粉末，而得到氧化銷粉末。此氧化 鉻粉末爲不均一的，且不具有多面體形。 13151pif.doc/008 14 200416207 將此氧化锆粉末依照與實驗例1的[氧化锆燒結體的 製作與評價]相同之方式製作出氧化锆燒結體。氧化锆粉 末的性質如表一所示。所得到的氧化锆燒結體的特性如表 二所示。 表一氧化锆粉末的性質 BET比表面積 D50 D100 單斜晶體比例 (m2/g) (β m) (// m) (Vol%) 實驗例1 15.4 0.42 2 95 實驗例2 17.4 0.43 2 94 實驗例3 19.8 0.41 2 93 比較例1 15.6 0.75 10 25 比較例2 13.9 0,54 7 19 表二 FWHM (。） 密度 (g/cm3) 平均晶 粒尺寸 (β m) 正方晶 體比例 (Vol%) 韌性 (Mpa · m1/2) 彎曲 強度 (kg/mm2) 實驗例1 0.42 6.05 0.18 99 8.5 159 實驗例2 0.44 6.03 0.17 97 8.9 165 實驗例3 0.47 6.02 0.17 98 8.0 172 比較例1 0.33 6.05 0.25 99 5.7 130 比較例2 0.29 6.04 0.23 95 5.5 122 13151pif.doc/008 15 200416207 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以 限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神 和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者爲準。 【圖式簡單說明】 圖1是繪示計算半峰全幅値之方法的示意圖。 圖2是繪不實驗例1所得到之氧化銷燒結體的X線繞 射線譜圖。 【圖式標示說明】 Μ j \ \\ 13151pif.doc/008 16

Claims (1)

  1. 200416207 拾、申請專利範圍： 1·-種氧化锆燒結體’包括正方晶氧化鉻’其中從以 下列條件測量出的X線（X-ray)繞射線譜得到的在正方晶氧 化锆的（111)平面上的半峰全幅値爲〇·38至4度， 條件： 放射源：CuKa光束； 電壓•電流：40kVx 30mA ; 單能器：石墨； 發散狹縫：1.0度； 散射狹縫：1.0度； 檢測狹縫：0.3度； 步進尺寸：0.2度； 時間/步驟：連續； 背景校正：執行； 、 掃瞄速度：0.4度/分鐘。 2.如申請專利範圍第1項所述之氧化锆燒結體，其中 上述在正方晶氧化锆的（111)平面上的半峰全幅値爲0.4至 2度。 3·如申請專利範圍第〗項或第2項所述之氧化锆燒結 體，其中上述在正方晶氧化锆的（111)平面上的半峰全幅値 爲1度以下。 4. 如申請專利範圍第1項所述之氧化锆燒結體，其中 上述氧化銷燒結體中的正方晶氧化锆的比例爲90體積％ 以上。 5. 如申請專利範圍第1項所述之氧化锆燒結體，其中 13151pif.doc/008 17 200416207 上述氧化銷燒結體的平均晶粒尺寸爲0·01至〇·3微米。 6. 如申請專利範圍第1項所述之氧化銷燒結體，g 上述氧化銷燒結體的密度爲6克/立方公分以上。 、 7. 如申請專利範圍第6項所述之氧化锆燒結體，_ 上述氧化錯燒結體的幣度爲6至6.1克/ jx方公分。一 8·如申請專利範圍第1項所述之氧化锆燒結體，_ 上述氧化銷燒結體含有一安定劑。 X 9.如申請專利範圍第1項所述之氧化锆燒結體， 上述安定劑係選自氧化釔（Y2〇3)、氧化鈽（Ce02)、_ (MgO)、氧化鈣（CaO)、氧化鈦(Ti02)、氧化鏡(Yb2〇3) 化餌（Er203)及氧化鈥(Ho2〇3)所組之族群之至少其中之 10.如申請專利範圍第1項所述之氧化锆燒結體， 上述氧化鉻燒結體含有氧化鋁(Α1203)。 11.一種氧化锆燒結體的製造方法，此方法包括下列步 成型具有平均粒徑爲0.1至0.6微米、最大粒徑爲5 微米以下、以及大致上爲多面體形的氧化锆粉末；以及 在1200°C〜1400°c之溫度下燒結經成型的生胚體。 12·如申請專利範圍第π項所述之氧化锆燒結體的製 造方法’其中該氧化锆粉末含有單斜晶體。 13·如申請專利範圍第12項所述之氧化錐燒結體的製 造方法’其中該氧化锆粉末中的單斜晶體的比例爲70體 積％以上。 13151pif.d〇c/008 18
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