TW200404842A - Optical film and manufacturing method thereof - Google Patents

Description

200404842 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學薄膜及其製造方法。 【先前技術】 在液晶顯示裝置中，為了改善顯示性能，係使用著各 種光學薄膜。例如’滿；^下述條件⑴之光學薄膜（相位差 薄膜μ系配置於液晶元件與偏光板之間，做為液晶顯示裝 =，角補償來使用。此種光學薄臈係對高分子薄膜進行 拉伸處理所製造者（參見日本專利特開平3_33719號公報、 特開平3-24502號公報、特開平㈠9482〇號公報）。 nx^ ny>nz · · ·⑴ 軸方：上二式⑴中，…”⑽分別表示該光學薄膜在又 軸方向、Y軸方向以及z軸方向之折射率。 最大=率該光學… 於軸方向係表示在該面内相對

L:::Y?直之軸方向，前述z轴方向係表示與該X σ及γ軸方向呈垂直之厚度方向。 仁疋’採用拉伸處理法釗 以及拉伸方向…必須對拉伸倍率 的杵制，製，做詳細的設定，拉伸處理必須做精密 弓:二Γ繁雜。又，在拉伸處理法中，必須料 程度之厚度的高分子薄膜，得； '亦為厚膜之物，其結果，液晶顯示裝置厚度也變厚：: 404842 為問題所在。 另一方®，有+採用拉_處理之光學冑膜的製造方法 。例如’將聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醢胺醯 亞胺以及《醢亞胺等之聚合物溶液塗佈於表面平滑之基 材上，將該溶液之溶劑蒸發去除來形成光學薄膜(參見美 國專利第5’344’916號公報、美國第5 395 918號公報、' 特表平8-511812號公報、美國第5,48G 964號公報、美國 第5,580, 950號公報、美國第6, 074, 709號公報）。在基材 方面主要使用sus皮帶、鋼薄板、玻璃板、Si晶圓等之益 機基材°但是’若❹無機基材，㈣本身無法使用於液 晶顯示裝置’必須將光學薄膜自基材轉印至偏光元件等光 學薄膜上。又，亦將基材上所形成之光學薄膜自基材剝離 而加以捲繞。如此般，若使用無機基材，&學薄膜之製造 變得繁雜’尚有無機基材之成本高之問題。 疋以，以往之光學薄膜，在其製造方法中存在著問題 ’即使對於光學薄膜本身而t，也不斷要求光學特性之進 一步提昇。 【發明内容】 疋以，本發明之目的在於提供一種光學薄膜，能以簡 單且低成本來製造且光學特性優異，再者，本發明之目二 在於提供一種前述光學薄膜之製造方法。 為了解決前述課題，本發明之光學薄膜係透明高分子 薄膜層與由非液晶性聚合物所形成之複折射層經積層所得 200404842 者，其中，该m折射層係滿足下述式（ r, M u)之條件，且該透明 子，專臈層之面内相位差為50nm以下。 nx^ ny>nz · · · 〇) 於上述式（1)中，ηχ、ny 分

y nZ刀別表不該複折射層在X 軸方向、Y軸方向以及z軸方向之折射率。 X軸方向係表示於該複折射層之面内方向中呈現最大 折射率之軸方向，γ軸方向係表示在該面内相對於χ轴方 向呈垂直之軸方向，z軸方向係表示貞χ轴方向以及Y轴 方向呈垂直之厚度方向。 其次，本發明之光學薄膜之製造方法，係用以製造由 透明高分子薄膜層與複折射層所積層而得之光學薄膜；係 準備面内相位差為5〇nm以下之透明高分子薄膜，於其上塗 佈非液晶性聚合物溶液，然後將該溶液中之溶劑蒸發去除 以形成複折射層，所形成之複折射層滿足前述式（1)之條件 如前所述，本發明之光學薄膜係使用透明高分子薄膜 層做為基材’對其積層複折射層，故可在積層狀態下直接 使用，無須對基材進行剝離作業或捲繞作業，且透明高分 子薄鹿層為低成本。是以，本發明之光學薄膜相較於以往 能以簡單、低成本來製造。又，本發明之光學薄膜中，係 將透明高分子薄膜層之面内相位差設定在5Onm以下。因此 ，可將光學薄膜整體之相位差維持在適切的範圍内，在對 比以及視角特性等之光學特性上屬優異之物。 200404842 【實施方式】 其次，對本發明做詳細的說明。 本發明之光學薄膜中，複折射層必須滿足前述條件1 。又，圖4中係顯示該複折射層之折射率ηχ、ny以及 之—例。如圖所示般，nx、ny、nz分別表示該複折射層在 X軸方向、γ軸方向以及z軸方向之折射率。χ軸方向係表 示於該複折射層之面内方向中呈現最大折射率之轴方向， Y軸方向係表示在該面内相對於χ軸方向呈垂直之軸方向 ，ζ軸方向係表示軸方向以及γ軸方向呈垂直之厚度 方向。 當擁有nx=ny>nz之光學特性的情況，為光學上單軸牲 , 予钱通吊稱為C板。又，當擁有⑽

光學特性的情況，為光學iI ,^ 雙軸特性。屬光學上單軸转姊 的f月況，nX與ny原則上一 寺陡 羞…把^ s 准實際之測定值伴隨著莩 差。複折射層之厚度⑷例 仏者决 面Λ j —, 、 以11150# m的情況，口 要^d:(nx-ny).d<5nm即可說有光學上 過前述範圍，則可& 寺跬，若超 』了次有先學上雙軸特性。 折射層可具有光學上單細 本發明之複 區隔。 早轴特性或雙轴特性，無須做嚴密的 本發明之光學薄膜及其製造方法中 射率AnU)與透明高分 m折射層之複折 下述式(2M7)中—者之=層之複折射層“㈦以滿^ 與視角特性等之光學特性可、隹 滿足此條件，則對比 又，於下述式t ，滿足愈下面的式子愈佳。 外 200404842 Δ n(a) >Δ n(b) X 10 · · • (2) Δ n(a) >Δ n(b) X 15 · · • (3) Δ n(a) >Δ n(b) X 20 · · • (4) Δ n(a) >Δ n(b) X 30 · · • (5) Δ n(a) >Δ n(b) X 40 · · • (6) Δ n(a) >Δ n(b) X 50 · · •⑺ 於 本發 明之 .光學 薄‘ 獏及其 製造方 y /4y\ 之複折射率(Δη)以在。._5〜0.5之範圍為佳。只要“ 在0.0005以上，即可謀求光學薄膜之薄化，只要在〇5以 下’相位差之控制即可輕易達成。 勿運成 Δη之更佳範圍為 〇·〇〇卜0.2之範圍，特佳範圍為〇 〇〇2〜〇15之範圍。 於本發明之光學薄膜及其製造方法中，开/成複折射層 之非液晶性聚合物並無特別限定，可舉出例如聚酿胺、聚 醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺以及 呑亥專之混合物。 於本發明之光學薄膜及其製造方法中，形成透明高分 子薄膜層之樹脂並無特別限定，可舉出例如乙酸酯樹脂、 聚醋樹脂、聚醚硼樹脂、聚楓樹脂、聚碳酸醋樹脂、聚醯 胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚降 冰片烯樹脂、纖維素樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚苯乙烯樹 脂、聚乙烯醇樹脂、聚氣乙烯樹脂、聚偏氣乙烯樹脂、聚 丙烯酸樹脂、以及該等之混合樹脂；尚可舉出於側鏈具有 取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基的熱塑性樹脂與側鏈具有 取代苯基或非取代苯基以及硝基之熱塑性樹脂而成之混合 200404842 =等。在乙酸酯樹脂方面可舉出例如乙酸三乙醯_。又，， 方、側鍵具有取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基的熱塑性樹脂 人側鏈具有取代苯基或非取代苯基以及頌基之熱塑性樹脂 而成之此合物方面’有例如異丁烯與N—亞甲基馬來醯亞 胺所構成之交互共聚物以及丙烯腈一苯乙烯共聚物而成之 混合樹脂。 ^於本發明之光學薄膜及其製造方法中，透明高分子薄 膜層並無特別限定，可為其形成材料樹脂成形為薄膜狀4 · 施以拉伸處理所製造者。又，於本發明之光學薄膜之製造 方法中，於透明高分子薄臈層與複折射層經過積層之後， 可將此積層體做若干拉伸或收縮。 於本發明之光學薄膜及其製造方法中，透明高分子薄 膜層亦可做為偏光板之透明保護薄膜來使用。 本發明之偏光板’係包含光學薄膜與偏光元件，該光 學薄膜為前述本發明之光學薄膜。該光學薄膜之透明高分 子溥膜層以兼做為偏光板之透明保護薄膜為佳。又，該光 _ 學薄膜以具有光學補償層之功能為佳。 本發明之液晶面板係包含液晶元件以及光學構件，該 光學構件係配置於該液晶元件之至少一側表面，該光學構 件為前述本發明之光學薄膜或前述本發明之偏光板。本發 明之液晶元件的種類並無特別限定，可舉出例如 STN(Super Twisted Nematic)元件、TN(Twisted Nematic) 兀件、IPS(In-Plane Switching)元件、VA(Vertical Aligned)元件、〇CB (Optically Compensated 11 200404842

Birefringence)元件、HAN(Hybrid Aligned Nematic)元件 以及 ASAM(Axially Symmetric Aligned Microcell)元件等 。其中，本發明之光學薄膜以適用於VA元件、〇CB元件為 佳。 本發明之液晶顯示裝置，係包含前述本發明之液晶面 板。 本發明之自發光型顯示裝置，係包含前述本發明之光 學薄膜以及前述本發明之偏光板中至少一者。在自發光型 顯示裝置方面有例如有機EL顯示器等。 其次，針對本發明之光學薄膜之製造方法之一例做說 明。於製造本發明之光學薄膜時，係例如準備面内相位差 為50nm以下之透明高分子薄膜，於其上塗佈非液晶性聚合 物溶液，然後將該溶液中之溶劑蒸發去除以形成複折射層 ，所形成之複折射層滿足前述式（1 )之條件。 做為形成複折射層時所使用之非液晶性聚合物，如前 面所述般，基於耐熱性、耐藥劑性、透明性優異且富有剛 性之理由，以聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚芳醚 酮、聚醯胺醯亞胺以及聚酯醯亞胺等的聚合物為佳。該等 聚合物，&單獨使用其中-種類，亦可使用例如聚芳鍵嗣 與聚醯胺之混合物般之擁有不同官能基之2種以上之混合 物。此等聚合物當中，基於高透明性、高配向性、高拉伸 性之考量，以聚醯亞胺為特佳。 前述聚合物之分子量並無特別限定，以例如重量平均 分子量（Mw)為100(M〇000〇〇之範圍為佳，更佳為 12 200404842 2000〜500000之範圍。 前述聚醯亞胺以例如面内配向性高、可溶解於有機溶 劑之聚醯亞胺為佳。具體而言，可使用例如特表2. 51 1296號公報所揭示之含有9,9—雙（胺基芳基與芳香 族四羧酸二酐之縮合聚合產物之含有丨個以上以下述式G) 所表示之反覆單位之聚合物。

(1) 、於前述式⑴中，R3〜R6係獨立擇自氫、齒素、苯基、 以1〜4個函原子或Cl,燒基所取代之苯纟、以& Ch〇院基 斤構成群中至 > —種取代基m圭為m獨立擇自齒 素苯基卩1〜4個画原子或Ch〇烧基所取代之苯基、以 及烷基所構成群中至少一種取代基。 於前述式⑴中，2係例如c6~2。之4價芳香族基，較佳 為均苯四甲酸基、多環式芳香族基、多環式芳香族基之衍 生物或是以下述式（2)所表示之基。 -0·ί2^ίΧ (2) 力前述式（2)中 Ζ5係例如共價鍵、C(R7)2基 C0基、 13 200404842 〇原子、S原子、S〇2基、Si(C2H5)2基或是NR8基，複數的 月兄下彼此可為相同或不同。又，W係表示1〜之整數 。R7係分別獨立表示氫或c(R9)3。R8係表示氫、之烷 基、或是C6、2。芳基，複數的情況下，彼此可為相同或不同 。R9係分別獨立表示氫、氟或氣。 "前述多環式芳香族基可舉出例如自萘、芴、苯芴或憩 所衍生之4價基° x ’前述多環式芳香族基之取代衍生物 大σ牛出例如以擇自Ch〇之烷基及其氟化衍生物、卩與 等之鹵素所構成群中至少—種基所取代之前述多環式芳香 之較佳形態 除此以外，尚可舉出例如特表平8_511812號公報所記 載之反覆单位係以下述通式（3)或⑷所表示之均聚物或反 覆單位係以下述通式⑸所表示之聚醯亞胺等。又，下述式 (5)之聚醯亞胺係下述式（3)之均聚物

⑶ ⑷ 14 200404842

於前述通式（3)〜（5)中，G以及G’係表示自例如共價鍵 、CH2 基、C(CH3)2 基、c(CF3)2 基、C(CX3)2 基（X 為鹵素）、 C0 基、0 原子、S 原子、s〇2 基、Si (CH2CH3)2 基以及 N(CH3) 基所構成群分別獨立選出之基，彼此可為相同或不同。 於前述式（3)與式（5)中，l係取代基，d以及e係表示 其取代數。L係例如_素、Ci ；3烷基、Ci 3 _化烷基、苯基 或取代苯基，複數的情況下，彼此可為相同或不同。前述 取代苯基，可舉出例如具有擇自鹵素、C13烷基、Ch南化 烷基所構成群中至少一種取代基的苯基。又，此處之鹵素 可舉出例如氟、氯、溴或碘。d係0〜2之整數，e係〇〜3之 整數。 於別述式（3)〜（5)中’ Q係取代基，f係其取代數。在 Q方面，可舉出例如擇自氣、函素、烧基、取代烧基、頌 基、氰基、硫院基、烧氧基、芳基、取代芳基、烧醋基、 以及取代㈣基所構成群之原子或基，# Q為複數的情況 下，彼、:可為相同或不同。在前述鹵素方面可舉出例如氟 f、r^、與蛾。又前述取代芳基，可舉出例如函化芳基。 糸4之整數，g以及h係分別為〇〜3、卜3之整數。又 ，g以及h以較1為大為佳。 則述式⑷甲，R1〇與R11係自氯、齒素、苯基、取代苯 15 200404842 基、坑基、以及取代烷基所構成群分別獨立選出之基。當 中’ R1G與R11又以彼此獨立之鹵化烷基為佳。 於前述式（5)中，M1與M2係相同或不同，例如為函素

、P 燒基、ci_3 i化烷基、苯基或取代苯基。在前述_素 方面可舉出例如氟、氣、溴與碘。前述取代苯基，可舉出 例如具有擇自_素、Ci_3烷基、Ci4鹵化烷基所構成群中至 少—種取代基的苯基。 月述式（3)所表示之聚醯亞胺的具體例可舉出例如下 式（6)所表示者。

再者，前料醯亞胺可舉_如使得前述 )以/卜之酸二料二胺經適宜的共聚所成之共聚物。 在前述酸二酐方面可舉出例如芳香族四緩 曰族四緩酸二針可舉出例如均苯四甲酸二奸 四羧酸二肝、萘四羧酸二 -奸、-本 2,2、取代聯苯四幾酸二酐等：“方香族四缓酸二< 在均苯四甲酸二酐方面， 、“、苯基均苯四甲酸…出二^ ::酸二酐、3,6-二演均笨四甲酸二：、Γ， 甲酸二酐等。在二苯甲，，-3’3，“，—二苯甲㈣酸二軒 軒方面，可舉“ 羧酸二酐、2,2，，3,3,—二苯，’3 4’〜二苯甲酿

本甲_四羧酸二軒等。在前述 16 200404842 四羧酸二酐方面，可舉出例如2,3,6,7—萘四羧酸二酐、 1，2, 5, 6—萘四羧酸二酐、2,6一二氣一萘一 ms—四羧 酸二酐等。在前述雜環式芳香族四羧酸二酐方面，可舉出 例如噻吩一 2, 3, 4, 5—四羧酸二酐、毗嗪一 2,3,5,6—四羧 酸二酐、毗啶一 2, 3, 5, 6—四羧酸二酐等。在前述2,2，一取 代聯苯四羧酸二酐方面，可舉出例如2, 2, 一二溴一 4, 4，，5, 5,-聯苯四幾酸二酐、2, 2，一 二氯一4,4，，5, 5，一 聯 苯四魏酸二野、2,2，—雙（三氟甲基）一4,4，，5,5，—聯苯四 幾酸二酐等。 又’在前述芳香族四羧酸二酐之其他例子方面，可舉 出例如_ 3’3’，4, 4’-聯苯四缓酸二_、雙（2,3—二竣基苯基 甲、雙（2’5’6__三氟—3,4—二羧基苯基）甲酸二肝 :m3,4:二縣苯基)—2,2-二苯基丙酸二肝、 羧基苯基)醚二酐、4,4，—氧二鄰苯二甲酸二酐 ㈣，4—二羧基苯基)磺酸二_、3,3，，4,4，—二苯楓四 竣酸二酐、4, 4，一「4 4，一 s 1 二$_ ，異丙又—二（對苯基氧）]雙（鄰苯 (3二酐）、N’N—(3,4-:羧基笨基)-N—甲胺二酐、雙 ，—二綾基苯基）二乙基矽烷二酐等。 代r:專當中，做為前述芳香族四羧酸二酐，w 2,2，-取 : ::::㈣二酐為佳’更佳為…雙(三鹵甲基)— 二“，，：聯苯四羧酸二肝’更佳為2,2，—雙(三敗甲基） ’ ，5, 5’一聯苯四羧酸二酐。 在前述二胺方面，可舉出例如芳香族二胺，具體方面 17 200404842 可舉出苯二胺、二胺基二笨 — 二胺、以及其他芳香族二胺。奈二胺、雜環式芳香族 在前述苯二胺方面， 基二胺、2, 4—二胺基甲苯、：擇自例如鄰、間以及對苯 Μ-二胺基—2—苯基苯以及，:：胺基-甲氧基笨、 胺所構成群之苯：胺。在前述二—&基4—氯苯等苯二 可舉出2,2，-二胺基-苯甲M 一女土 —笨甲嗣之例方面， 女丞一本甲@同以及3, 3，—二 朴 等。在前述萘二胺方面， 一女土一本甲鲷

二胺萘等。在前述雜環式芳香:如u—二胺萘、… 2,6—二胺卩比咬、2,4—二胺口比咬 了+出例如 三嗪等。 Κ定卩及2,4一二胺基水 又，在前述芳香族二胺方面，尚有4,4，—二胺基聯苯 、4,4’一二胺基二苯甲院、4,4,—(9—亞苟基）—二胺、 2,2’一雙（三氟甲基）_4,4，—二胺基聯苯、3,3，—二氯— 4,4，-,二胺基二苯基甲烷、2,2，—二氯—4,4，—二胺基聯苯

、2, 2’，5, 5’一四氯聯苯胺、2, 2一雙（4一胺基苯氧基苯基〕 丙烷、2, 2—雙（4-胺基苯氧基苯基）丙烷、2,2一雙（4 一胺 基苯基）丙烷、2, 2—雙（4一胺基笨基）一丨，^3,3,3一六 氟丙烷、4, 4’一二胺基二苯醚、3, 4, 一二胺基二苯醚、 一雙（3—胺基苯氧基）苯、1，3—雙（4 一胺基苯氧基）苯、 1，4一（4一胺基苯氧基）苯、4, 4,一雙（4一胺基苯氧基）聯苯 、4, 4’一雙（3—胺基苯氧基）聯苯、2, 2—雙[4一（4一胺基 苯氧基）苯基]丙烷、2, 2—雙[4一（4—胺基苯氧基）苯基]一 1，1，1,3, 3, 3—六氟丙烷、4, 4’一二胺基二苯基硫醚、4, 4, 18 200404842 一二胺基二苯碉等。 在前述聚醚綱方面可舉 所記f載》以下述通式⑺所表示^特^ ⑴

r \ /ο X 取方基_酮。 ⑺ 及主—尸 丨％八暴，Q係表示其取代

二係表不氣原…取代數。“系例如㈣子、低級燒 、=化烧基、低級炫氧基、或是“炫氧基，當χ為複; 的6況下，彼此可為相同或不同。

、在前述函原子方面可舉出例如氟原子、漠原子、氣原 、八原子忒等當中又以氟原子為佳。在前述低級烷 基方面以例如具有Cu之直鏈或支鏈之低級烷基為佳， 更4為（^〜4之直鏈或支鏈烧基。具體而言，以甲基、乙基 、丙基、#丙基、丁基、異丁基、二級丁基、三級丁基為 佳，特佳為甲基與乙基。在前述齒化烷基方面，可舉出例 如二氟曱基等之前述低基烷基的！|化物。在前述低級烷氧 基方面’以例如q6之直鏈或支鏈之烷氧基為佳，更佳為 C^4之直鏈或支鏈烷氧基。具體而言為甲氧基、乙氧基、 丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、二級丁氧基、三 級丁氧基，更佳為甲氧基與乙氧基。在前述ii化烷氧基方 面’可舉出例如三氟甲氧基等之前述低級烷氧基的_化物 於剷述式（7)中，q係0〜4之整數。於前述式（了）中 19 ，且笨環 ^ 心兩端所鍵結之羰基與醚之氧原子彼此係以對 位的方式存在較佳。 y 於如述式（7)中，R1係以下述式（8)所表示之基，m 係0或1之整數。

;\述式（8)中’ X’係表示取代基，例如與前述式（？） φ 之x相同。於前述式⑻中，當X，為複數的情況下，彼此 可為相同或不同。q，係表示χ，之取代數，…之整數， Q’ = 0為佳。又，ρ為〇或1之整數。 於刖述式（8)中，R2係表示2價之芳香族基。此2價芳 香族基可舉出例如鄰、間或對苯撑基、或是自蔡、聯苯、 戀、鄰、間或對三聯苯1、二苯呋喃、聯苯醚、或是聯 苯硼所衍生之2價基等。該t 2價之芳香族基中，與芳香 族直接鍵結之氫亦可由齒原子、低級烧基或是低級烧氧& 參 所取代。該等當中，在R2方面，以擇自下述式（9)〜（15)所 構成群之芳香族基為佳。 20 200404842

於前述式（7)中，R1較佳為以下述式（16)所表示之基， 於下述式（16)中，R2與p係與前述式（8)同義。

再者，於前述式（7)中，η係表示聚合度，例如2〜5000 之範圍，較佳為5〜500之範圍。又，其聚合可為相同構造 之反覆單位所形成者，亦可為不同構造之反覆單位所形成 者。若為後者的情況，反覆單位之聚合形態可為嵌段聚合 亦可為無規聚合。 再者，以前述式（7)所表示之聚芳醚酮之末端，對四氟 苯醯撐基側為氟，氧烷撐基側為氫原子較佳，此種聚芳醚 酮可以例如下述通式（17)所表示。又，於下述式中，η係 表示與前述式（7)同樣之聚合度。

以前述式（7)所表示之聚芳醚酮之具體例可舉出例如下 21 200404842 述式（18)〜（21)所表示者，於下述各式中，η係表示與前述 式（7)同樣之聚合度。

(19)

價鍵；則述式（22)中’ Υ係〇或ΝΗ。又，Ε係例如擇自共 X得Μ兀撐基、_化（：2燒撐基、Ch2基、C(CX3)2基（此處 ^表不鹵素或氫）、C0基、〇原子、S原子、基、 同亦)2基以及N⑻基所構成群中至少-種的基，彼此可相 /、可不同。於前述E中，R係、U基以及k3鹵化烧 22 200404842 基之至少 位 種，相對於羰基宫能基或y基係處 於間位或對 ，，於前述式⑽中，A以及A，係取代基， 不刀別之取代數。又，在 z表 一之整數。…〜3之整數、“…之整數、 、以==如擇自氫、…C"炫基 (此處R係前述定義者）所表示之烧氧基、芳基、經 物1::方基錢基、。卜12芳基羰基氧基其及取代衍生 代r:: 基甲醯基、以及Cl_12芳基幾基胺基其及取 ^所構成之群，為複數的情況，彼此可為相同或不 :、則述A’係例如擇自㈣、c"烷基、c" _化烷基、苯 =及取代苯基所構成之群，為複數的情況，彼此可為相 ”不冋。前述取代苯基之苯環上的取代基，可舉出例如 函素、C"燒基、Ci 3 _化统基以及該等之組合 Η之整數，前述2係〇〜3之整數。 以别述式（22)所表示之聚醯胺或聚酯之反覆單位中又 以下.述通式（23)所表示者為佳。

於剷述式（23)中，A、Α，以及Υ係前 (23) 述式（22)所定義者 x以及y分別0或 V係0〜3之整數，較佳為〇〜2之整數。 但不可同時為〇。 23 200404842 其次’透明高分子镇二 口 ，專Μ如刚所述其面内相位差（ ，、要在I以下即可，較佳為^ (△= 下。又，於本發明中 特佳為10nm以 差（Rth)以及複折射率 ；度方向相位 分子薄膜為單層的情π 透月冋 和、“ 下，其面内相位差（△_之下限伟 超過0之值。县以，# < /丨民1牙、 疋以s亥透明高分子薄膜之面内相位矣Γ A nd)之範圍以5〇nm ^差（△ 2〇nm以下下且起過〇nm之乾圍為佳，更佳為 20nm U下且超過〇之範

之範圍。又，於下述式了 為―以下且超過0nm 之情形相同。亦即，L，nx、n;、:z係與前述複折射層 刀即nx、ny、nz係分別表示該透明高分 薄膜在）[軸方向、γ軸方士人 ㈣子

軸方向之折射率。前述X 軸方向係表示於該透明高分子薄膜之面内方向中呈現最大 折射率之轴方向’前述Y軸方向係表示在該面内相對於χ 軸方向呈垂直之軸方向，前述ζ軸方向係表示與該X轴方 向以及Υ軸方向呈垂直之厚度方向。“系薄臈之厚度。

Δ nd = (nx-ny) · d

Rth = i(nx+ny)/2-nz} · d △n = Knx+ny)/2_nz} · d/d 前述透明高分子薄膜之形成材料並無特別限定，以透 明性優異之聚合物為佳，又，基於可適合於後述之拉伸處 理或收縮處理之考量，以熱塑性樹脂為佳。具體上可舉出 例如三乙醯纖維素（TAC)等乙酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚楓 樹脂、聚颯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺 樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚降冰片烯樹脂（例如 24 200404842 商口口名ARTON」（jSR公司製造）、商品名厂順」（日本 捷翁公司製造）等）、纖維素樹脂、聚丙稀酸樹月旨、聚苯乙 烯樹脂、$乙烯醇樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏氯乙烯樹脂 以及该等之混合物。又，亦可使用液晶聚合物。再者，尚 可使用例如特帛343529號公報（WGG1/37GG7)所記載 之由含有側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂 與側鏈具有取代或非取代之苯基與録之熱塑性樹脂所形 成之此口物。具體上有例如含有由異丁烯肖N—甲撐馬來 醯亞胺所構成之交互共聚物以及丙烯醯腈—苯乙烯共聚物 所形成之樹脂組成⑯。該等形成材料當巾，以例如可將透 明薄膜形成時之複折射率設定成相對更低之材料為佳，具 體上以前述由含有側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基之熱 塑性樹脂與側鏈具有取代或非取代之苯基與硝基之熱塑性 樹脂所形成之混合物為佳。前述樹脂當中，三乙醯纖維素 (TAC)等之纖維素系聚合物薄膜、降冰片烯系聚合物薄膜（ 「ARTON」（JSR)、「ZE0職」、「ΖΕ〇ΝΕχ」（日本捷翁）等） 為代表性產物。 前述透明高分子薄膜之厚度為例如l(M 000 /zm程度， 較佳為20〜500 /zm，更佳為 本發明之透明高分子薄膜層可事先使用具有本發明之 面内相位差（And)之透明高分子薄膜來形成，即使未在前 述既定之範圍内，也僅需將透明高分子施以拉伸或收縮等 處理而調整至前述既定範圍内即可。 其次，對前述透明高分子薄膜以薄膜狀塗佈前述非液 25 200404842 晶聚合物之溶液 複折射層。 然後將該溶液中 之溶劑蒸發去除來形成 月IJ述塗佈溶液中之溶劑並益 上^、、、付別限疋，可舉出例如氯 仿、二氣曱烷、四氣化— ^ , 一虱乙烷、四氯乙烷、三氣乙 _、四氯乙烯、氣苯、鄰二翕贫 糾一虱本等之鹵化烴類；苯酚、對 氯苯酚等之苯酚類；苯'甲苯、- 一 ^ +一^本、甲虱基苯、1，2 — '一甲氣基苯等之芳香旅柄_ ·二 万甘秩4類，丙酮、甲基乙酮、甲基里丁

酮：環己酮、環戊_、2—卩“烧酮、N—甲基—2—姐略燒 酮專之酮系溶劑；醋酸乙醋、醋酸丁醋等之醋系溶劑；三 級丁醇、甘油、乙二醇 — ^ 一乙一醇、乙二醇單甲醚、二乙 :醇，甲醚、丙二醇、二丙二醇、2—甲基—2, 4—戊二醇 等之醇系溶劑；二甲基甲醯胺、=曱基乙醯胺等之醯胺系 溶劑；乙腈、丁腈等之腈系溶劑；二乙醚、二丁醚、四氫 呋喃等之趟系溶劑；或是二硫化碳、乙基溶纖素、丁基溶 纖素等。該等溶劑可為一種類亦可將兩種類以上併用。

前述塗佈溶液可依必要性而添加例如安定劑、可塑劑 金屬類專之各種添加劑。 又，前述塗佈溶液亦可含有不同種類之其他樹脂。在 該其他樹脂方面，可舉出各種通用樹脂、工程塑膠、熱塑 性樹脂、熱固性樹脂等。 在通用樹脂方面，可舉出例如聚乙烯（pE)、聚丙烯 (PP)、聚苯乙烯（PS)、聚甲基丙烯酸甲酯（MMA)、ABS樹脂 、以及AS樹脂等。前述工程塑膠方面，可舉出例如聚乙酸 酯（Ρ0Μ)、聚碳酸酯（PC)、聚醯胺（PA ··尼龍）、聚對苯二甲 26 200404842 酸乙二醇_ (PET)、以及聚對笨二曱酸丁二醇_ (pbt)等。 在熱塑性樹脂方面，可舉出例如聚苯硫（PPS)、聚醚楓 (PES)、聚酮（PK)、聚醯亞胺（pi)、聚環己烷二曱醇對笨二 甲酸（PCT)、聚烯丙酯（PAR)、以及液晶聚合物（Lcp)等。在 熱固性樹脂方面，可舉出例如環氧樹脂、酚醛清漆樹脂等

當如上述般將其他樹脂等配合於該塗佈溶液的情況下 ，其配合量相對於前述聚合物材料為例如〇〜5〇質量％、較 佳為0〜30質量％。 前述溶液之塗佈方法， 流塗法、印刷法、潰塗法、 版印刷法等。又，於塗佈之 物層之重疊方式。 可舉出例如旋塗法、親塗法、 W延長膜法、棒塗法、照相凹 際’亦可依據必要性採用聚合 ------ 一、十。，刀σ热乾踩Q修

’250。〇將該溶液中之溶劑蒸發去除，形成薄膜狀之潜 射層。此複折射層係滿Μ述式⑴之條件。前述複折糸 之厚度並無特別限定，基於液晶顯示裝置之薄型化、視 補償以及薄膜之均質性等之觀點，例如為〇.卜5—， 佳為0.5〜30//m，更佳為卜“以见之範圍。 本，明之複折射層若除了前述非液晶性聚合物溶液 溶劍的療發去除之層形成t程並未施行其他理 ，學上單轴特性(―)之物，惟若採行以下： 理’料對面叫予折射率之差（nx>ny)，可成為 上雙軸性（nx>ny>nz)。對複折射# ”’、 · 釕稷折射層之面内賦予折射率差上 27 ZUU4U4842 方法’有例如以下之 、， 縮性之透明高分子薄膜使用單方向具有面内收 利用該透明高分子薄膜之=上塗佈前述溶液並乾燥’而 賦予面内折射率差。又=純對所形成之複折射層 ^ y V ^ . Μ可在單方向被施加應力之透明 呵分子溥膜上塗佈前过 处。 6 Α、、，π鱼 边/合液，一邊對塗佈後之溶液自單方 向口人适風一邊形成複折射 射層，來對面内賦予折射率差。並 他，亦可於具有異向性之 八 ^ ,,, 透月回为子薄膜上塗佈前述溶液 I成複折射層，來對面内 高分子續膜展。…、 率差。再者，可於透明 複折射屛、曰形成複折射層後，將此積層體拉伸來對該 復折射層之面内賦予折射 以組合。 卜了將别述各方法加 藉此，可得到一種由读 ^ 咿入此 透月同^刀子薄膜層以及非液晶性 聚合物所形成之複折射層 式⑴之條件，且前述透明古積層之先予4膜’其滿足前述 鬲刀子薄膜層之面内相位差為 50nm以下。又，本發明 差為 I月之先予薄膜亦能以其他製造方法來 例如，亦可將複折射層以τ模具擠 潯膜，對其貼附透明古八、 y^ ^ ^ , 河刀’、形成光學薄臈。前述貼附 方法有例如使用黏著劑或接著劑之方法。 於本發明中’複折射層可於透明高分子薄膜層之一侧 t㈣成’亦w兩面形成。又’前述複折射層亦可為單 層、或是皁-形成材料或複數形成材料所得之w士構 本發明之光學薄膜以進一步具有接著劑層以及黏著劑 曰之至少-者為佳。藉& ’本發明之光學薄膜與其他之光 學層或液晶元件等其他構件可輕易地進行接著，^可防止 28 200404842 本發明之光學薄臈之制 層以積層於光學薄膜u 月“接者劑層或黏著劑 之最外層為佳，又，可穑居於止與策 膜之-側最外層或兩侧之最外層。 、θ於先予薄 前述接著劑之材料並無 系、乙烯醇系、矽綱系、… ?使用例如丙烯酸 水合物製壓感接著劑，梭 -、糸專之 ^ 橡膠糸壓感接著劑等。叉，介订炎 该等材料中含有微粒子 ’、”、、 展現先擴散性之層。此等當令， 以例如吸濕率與耐熱性 r 質，則例如使用於液晶二::::佳可::具有此等性 。 了成為间負且耐久性優異之顯示裝置 本發明之光學薄膜如前述般可單獨使用亦可依所需盘 其他光學構件做組合成㈣層體，可供於各種光學用途:、 在光學補償用構件方面尤其做為視角補償構件為 有用者。前述其他光學構件並無特別限定，可舉出例如以 下所示之偏光元件。 本發明以光板係、包含光學薄膜與偏％元件之積層偏 光板，其特徵在於，該光學薄膜係本發明之光學薄臈'。曰 此種偏光板之構成只要具有前述本發明之光學薄膜即 可並無特別限定，可舉出例如圖丨或圖2所示之物。圖工 與圖2分別顯示本發明之偏光板之例子之截面圖，於兩圖 :同-部份係賦予同-符號。又，本發明之偏光板並不^ 疋於以下之構成，可進一步包含其他之光學構件等。 29 200404842 圖1所示之偏光板，具有前述本發明之光學薄膜i、 偏光元件2以及透明保護層3，於偏光元件2之一側面（圖 中之上面）積層著光學薄膜1，於另外一面（圖中之下面）積 層著透明保護層3。又，光學薄膜1由於如前述般為複折 射層與透明高分子薄膜之積層體，所以哪一面面向透明保 護層3皆可。 又’透明保護層如同圖所示般可積層於偏光元件之兩 側亦可僅積層於其中一側面。又，積層於兩面的情況，可 使用相同種類之透明保護層亦可使用不同種類之透明保護 層。 在前述偏光元件方面並無特別限制，可使用例如藉由 昌知方法使得蛾或雙色性染料等雙色性物質吸附在各種薄 膜上做染色’然後進行交聯、拉伸、乾燥所調製成者。當 中，以若入射自然光則直線偏光可穿透之薄膜為佳，在光 穿透率與偏光度方面優異者為佳。前述吸附雙色性物質之 各種薄膜，可舉出例如聚乙烯醇（PVA)系薄膜、部分甲縮醛 化PVA系薄膜、乙烯一醋酸乙烯共聚物系部分皂化薄膜、 纖維素系薄膜等之親水性高分子膜等，其他尚可使用例如 PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等之聚烯配 向膜等。該等當中較佳者為PVA系薄膜。又，偏光薄膜之 厚度通常在1〜80 // m之範圍，惟並非限定於此。 在前述透明保護層方面並無特別限定，可使用以往習 知之透明薄膜，以例如透明性、機械強度、熱安定性、水 分阻絕性、等向性等優異者為佳。此種透明保護層之材質 30 200404842 之具體例可舉出例如三乙醯纖維素等纖維素系樹脂、聚酯 系*厌酉夂酉曰系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚楓系、聚 楓系聚苯乙H聚降冰片烯系、、聚烯烴系、、丙婦酸系 、乙酉夂自日,系等之透明樹脂等。又，尚可舉出前述丙稀酸系 、氨I系、丙烯酸氨I系、環氧系、石夕酮系等之熱固型樹 脂或紫外線硬化型樹脂等。#中，基於偏光特性與耐久性 之觀點’絲面經過鹼等做皂化處理t TAc薄膜為佳。 又，在前述透明保護層方面，可舉出特開2〇〇1 一 343529號公報（W〇〇1/37m)所記載之聚合物薄膜。做為此 聚&物材料可使用之樹脂組成物為例如含有侧鏈具有取 代或非取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂與側鏈具有取代或非 取代之苯基與硝基之熱塑性樹脂而成者，例如可舉出樹脂 、、且成物中g有由異丁細與N _甲撐馬來醯亞胺所構成之交 互共聚物以及丙烯醯腈一苯乙烯共聚物。又，前述聚合物 薄膜亦可為例如前述樹脂組成物之擠壓成型物。 又’透明保護層以無著色者為佳。具體而言，以下述 式所表示之薄膜厚度方向之相位差值（Rth)以—9〇nm〜 + 75nm 之範圍為佳，更佳為—8〇nm〜 + 6〇nm，特佳為-7〇nm〜+ 45ηιη之 範圍。只要相位差值位於—90nm〜+ 75nm之範圍，即可充分 消除因保護薄膜所引起之偏光板之著色（光學性著色）。又 ’於下述式中，nx、ny與nz係與前述相同，d係表示膜厚 〇

Rth = [ {(nx+ny)/2}-nz] · d 又’前述透明保護層亦可進一步具有光學補償功能。 31 200404842 此種具有光學補償功能之透明保護層，可使用例如以基於 液曰曰曰凡件之相位差之目視角變化為原因之著色等之防止、 良好目視之視角的擴大等之目的之眾知之物。具體而古， 可舉出例如將前述透㈣脂做單軸㈣或雙軸拉伸之各種 拉伸薄膜、液晶聚合物等之配向薄膜、於透明基材上配置 液晶聚合物等之配向層之積層體等。#中，基於可達成良 好目視之寬廣視角的觀點，以前述液晶聚合物之配向薄膜 為佳’尤其是將碟狀系或向列系之液晶聚合物之傾斜配向 層所構成之光學補償層以前述三乙醢纖維素薄膜等所支持 之光學補償相位差板為佳。此種光學補償相位差板，可舉 出例如富士相片股份有限公司製造「wv薄膜」等之市售品 。又’前述光學補償相位差板亦可將前述相位差薄膜或三 乙醯纖維素薄膜等之薄膜支持㈣2層以上積層來控㈣ 位差專之光學特性。 、别述透明保護層之厚度並無特別限制，可依據相位差 或保護強度等來適宜決定’通"5叫m以下，較佳為 5〜300 #„!，更佳為 5~15〇//11]之範圍。 ‘’、 前述透明保護層亦可藉由例如在前述偏光薄膜塗佈各 種透明樹脂之方法、於前述偏光薄膜積層透明樹脂製薄膜 或光學補償相位差板等之方法等以往眾知之方法來適宜形 成’亦可使用市售品。 又，刖述透明保護層可進一步施以例如硬膜處理、反 射防止處理、基於黏附防止或擴散、抗眩等之目的之處理 。前面所說之硬膜處理，係基於防止偏光板表面之刮傷的 32 200404842 ψ 目的，而例如在透明保含雈Μ ’、4層之表面形成由硬化型樹脂所構 成之具優異硬度、平滑性之硬化被膜之處理。在硬化型樹 脂方面，可使用例如石夕酮系、氨醋系、丙稀酸系、環氧系 專之紫外線硬化型樹脂等，前述處理可藉由以往眾知之方 法來進行。黏附防止’係基於防止與鄰接之層出現密合之 目的。前面所說之反射防止處理係基於防止來自外部之光 =偏光板表面反射之目的’可藉由以往眾知之反射防止 層等的形成來進行。 :面所說之抗眩處理，係基於防止外部光線於偏光板 表面反射造成偏光板穿透光之目視受阻等之目的，而以例 二眾知之方法’在透明保護層之表面形成微細凹凸構 或―工等之粗面;:舉出例如噴砂法 万式於則述般透明樹脂中配合诱 明微粒子來形成透明保護層之方式等。 :透明微粒子方面，可舉出例如二氧切、氧化結、 乳化鈦、氧化錯、氧化錫、氧㈣、氧㈣、氧化 除此以外尚可使用具有導電性之無機系微粒子 或未交聯之聚合物粒狀物等所構成之有機系：： 明微粒子之平均粒徑並無制限制，可舉㈣如G5〜透 m之範圍。又，透明微粒子之配合比例並無特別 — 般相對於透明樹赌⑽重量份以2,重量 - 更佳為5〜50重量份之範圍。 圍為佳， 配合有前述透明微粒子之抗眩層，可做為 本身來使用，亦可於透明保護層表面做為塗佈層來形成。曰 33 200404842 再者，前述抗眩層，亦可兼做用1乂擴散偏光板穿透光來放大 視角之擴散層（視覺補償功能等）。 能以設 又，前述反射防止層、黏附防止層、擴散層、抗眩層 等可與前述透明保護層個別積層於偏光板，例如… 置該等層之片材等所構成之光學層的形式積層於偏光板 各構成物彼此（光學薄膜、偏光元件、透明保護層等） 之積層方法並無特別限制，可利用以往果知之方法來進行 。-般，可使用與前述同樣之黏著劑或接著劑等，其種類 可依據前述各構成物之材質等來適宜決定。在接著劑方面 :可使用例如丙婦酸系、乙稀醇系、石夕酮系、聚酯系、聚 氰酯系、聚醚系等之平人&也』& β 寻之聚β物製接耆劑、橡膠系接著劑等。 :’亦可使用戊二醛、三聚氰胺、草酸等之乙烯醇系聚合 # 構成之接者劑等。前述黏著劑、接 者刎為即使受到濕度或埶 偏光度方面優異者。罝體易剝離、在光穿透率與 之情況，從接著處理：：…偏光元件為PVA系薄膜 接者處理之*定性等之觀點來看，以pv 接塗佈於偏光元件與 次片材4之層配置於前 ^ 製的情況，可依需要配人ΐ 以水溶液的方式來調 _ 3 '、他之添加劑、酸等之觸媒。又 ，於塗佈前述接著劑的主 綱系又 西ρ入甘 月 '，可於接著劑水溶液中進一井· 2。—。並 4::較 …特別限制’可採用以往眾知之使用丙稀 34 200404842 酸系聚合物或乙婦醇系聚合物等 透性與偏光度優異之偏光板，以進—步含有戊1、^ ^胺、草酸RPU系聚合物之水溶性交聯劑的= 佳。該等接著劑可例如將其水溶液塗佈於前述各 = 面’乾燥後來使用。於前述水溶液中可依必要性配合= =添加劑或酸等之觸媒。此等當中，基於肖PVA薄膜^ 者性優異之觀點，前述接著劑以使用PVA系接著劑為佳。

又，本發明之光學薄膜除了前述之偏光元件以外，尚 可與例如各種相位差板、擴散抑制薄膜、亮度提昇薄膜等 之以往眾知之光學構件做組合來使用。在相位差板方面可 舉出例如將聚合物薄臈做單軸拉伸或雙軸拉伸者、經過z 軸配向處理者、液晶性高分子之塗佈膜等。在前述擴散抑 制薄膜方面，可舉出例如利用擴散、散射、折射之薄膜， 該等薄膜可在例如視角控制、與解析度相關之閃耀或散射 光之控制等時使用。前述亮度提昇薄膜方面可使用者有例 如使用膽固醇液晶之選擇反射以及1/4波長板（λ/4板）之 亮度提昇薄膜或利用偏光方向所造成之異向性散射之散射 薄膜等。又’在前述光學薄膜’亦可與例如線柵型偏光元 件做組合。 本發明之偏光板於實用之際除了前述本發明之光學薄 膜以外亦可進一步含有其他光學層。在前述光學層方面可 舉出例如以下所示之偏光板、反射板、半穿透反射板、亮 度提昇薄膜等之於液晶顯示裝置之形成時所使用之以往眾 35 200404842 知之各種光學層。 該等光學層可為一種類亦可併用兩種類以上，又，可 為層亦可為二層以上之積層物。進一步包含此種光學層 之積層偏光板以例如當做具有光學補償功能之一體型偏光 板使用為佳’可適用於例如配置於液晶元件表面等之各種 影像顯示裝置之使用。 以下針對此種一體型偏光板做說明。 首先’針對反射型偏光板或半穿透反射型偏光板之一 例做說明。前述反射型偏光板係於本發明之積層偏光板進 一步積層反射板所得者，前述半穿透反射型偏光板係於本 發明之積層偏光板進一步積層半穿透反射板所得者。 反射型偏光板通常係配置於液晶元件之裏側，可使用 於將來自目視側（顯示側）之入射光反射而進行顯示之類型 的液晶顯示裝置（反射型液晶顯示裝置）等。此種反射型偏 光板由於可省略背光等之内藏光源，所以可謀求液晶顯示 裝置之薄型化，此為其優點所在。 反射型偏光板可藉由例如在前述顯示彈性率之偏光板 的單面形成由金屬等所構成之反射板等以往眾知之方法來 製作。具體而言，例如可舉出對前述偏光板之透明保護層 的單面（路出面）依所需施行消光處理，然後於該面形成鋁 等之反射性金屬所構成之金屬羯或蒸鍍膜做為反射板而成 之反射型偏光板等。 又，亦可舉出使得前述各種透明樹脂含有微粒子將表 面做成微細凹凸構造之透明保護層，然後於該透明保護層 36 200404842 上形成可反映該微細凹凸構造之反射板所成之反射型偏光 板等。表面為微細凹凸構造之反射板，可使得入射光不規 則反射而擴散’可防止定向性或炫目之外觀，可抑制明暗 不句此為優點所在。此種反射板可例如在前述透明保護 層之凹凸表面以真空蒸鍍方式、離子植入方式、濺鍍方式 等之蒸錢方式或鍍敷方式等習知方式直接以金屬箔或金屬 蒸鍍膜的形式來形成。 又’亦可取代前述於偏光板之透明保護層直接形成反 籲 、反之方式’改為使用在前述透明保護薄膜般適當的薄膜 設置=射層而成之反射片等來做為反射板。反射板之反射 層通节係由金屬所構成，所以基於例如防止氧化所造成之 射率的下降、或是為了長期維持初期反射率、或是避免 另外形成透明保護層等觀點，其使用形態，以反射層之反 射面以别述薄膜或偏光板等來被覆之狀態為佳。 另一方面’前述半穿透型偏光板，係反射型偏光板中 之^射板改為半穿透型反射板者。在半穿透型反射板方面 籲 可舉出例如以反射層來反射光、且具有讓光穿透之半透 鏡等。 “牙透型偏光板’通常係設於液晶元件之裏側，可使 下述類型之液晶顯示裝置等中。亦即，當液晶顯示裝 置等在較為明凴之環境下使用時，係將來自目視側（顯示 側）之入射光加以反射並顯示影像，在相對陰暗之環境下 、J疋使用半牙透型偏光板之背光側所内藏之背光光源等内 藏光源來顯示影像。亦即，半穿透型偏光板對於在明亮環 37 200404842 境下可節省背光光源之使用能量、而在相對陰暗之環境下 則可使用該内藏光源之類型的液晶顯示裝置等之形成上係 有用的。 其次，針對在本發明之偏光板進一步積層亮度提昇薄 膜之偏光板的一例做說明。 在亮度提昇膜方面並無特別限定，可使用例如電介體 之多層薄膜或是折射率異向性不同之薄膜的多層積層體此 等可讓既定偏光軸之直線偏光穿透但將其他的光予以反射 者。此種亮度提昇膜可舉出例如3M公司製造之商品名「卜 BEF」等。又，亦可使用膽固醇液晶層（特別是膽固醇液晶 聚合物之配向薄膜）、或是配向液晶層支持於薄膜基材上 而使得其他

之物。該等係將左右一者的圓偏光加以反射 光穿透之物，可舉出例如日東電工公司製造之商品名「 PCF350」、Merck公司製造之商品名「Transmax」等。

以上般之本發明之各種偏光板亦可為例如本發明之偏 光板與2層以上之光學層所積層而得之光學構件。 前述積層2層以上光學層之光學構件，可例如在液晶 顯示裝置等之製程中依序個別積層來形成，不過若做為事 先積層之光學構件來使用，則在諸如品質安定性與組裝作 業性等優異，可提升液晶顯示裝置之製造效率，此為其優 點所在。X ’在積層時可與前述相同般使用黏著層等之各 種接著物。 前述之各種偏光板，基於可易於與液晶元件等其他構 件做積層H步具有黏著劑層或接著劑層為佳，該等 38 200404842 層可配置於偏光板之單面或雙面。在黏著層之材料方面， 並無特別限定，可使用丙烯酸系聚合物等以往眾知之材料 ，特別是基於可形成可防止吸濕所造成之發泡、剝離，熱 月取脹差所造成之光學特性之降低，液晶元件之彎曲等而可 成為高品質、耐久性優異之液晶顯示裝置的觀點，以例如 吸濕率低且耐熱性優異之黏著層為佳。又，亦可為含有微 粒子而展現光擴散性之黏著層等。做為於偏光板表面形成 黏著劑層之方式，可藉由例如將各種黏著材料之溶液或熔 融液以流延或塗佈等展開方式直接添加於偏光板之既定面 來形成層之方式、或是同樣地在後述之間隔物上形成黏著 劑層，將其移往偏光板之既定面之方式來進行。又，此種 層可於偏光板之其中一表面形成，亦可例如在偏光板之相 位差板露出面形成。 當设於偏光板之黏著劑層表面露出之情況下，在將黏 者層供實用之前，基於防止污染之目的，藉由間隔物來做 遮覆乃為所希望者。此間隔物可藉由在透明保護薄膜等之 適當的薄膜上依必要性設置石夕g同系、長鏈烧系、氟系、硫 化鉬等之剝離劑所成之剝離塗層一層以上之方法來形成。 前述黏著劑層等可為例如單層體亦可為積層體。在前 述積層體方面可使用例如將不同組成或不同種類之單層加 以組合之積層體來使用。又，當配置於該偏光板之兩面的 情況，兩面可為相同之黏著劑層亦可為不同組成或不同種 類之黏著劑層。 前述黏著劑層之厚度可依據例如偏光板之構成等來適 39 200404842 宜決定，—般為1〜500 “。 在形成前述黏著劑層之黏 性優異、展現適度之_ & ^ Φ ’以例如光學透明 者為佳。在且體^ 集性或接著性之黏著特性 牡舟體例方面可遽^ ψ 聚合物、聚酯、聚气铲甲 烯-夂系聚合物或矽酮系 宜之基·二 合成橡料之聚合物為適 且之基礎聚合物所調製之黏著劑等。 前述黏著劑層之黏著特性 著劑層之基礎聚合物^且^ 错由例如以形成黏 ::f之含有比例、交聯劑之配合比例等來調整交聯度或 刀子1此種習知方法來適宜進行。 上述本發明之光學薄膜與偏光板、形成各種光學構件（ 積層有光學層之各種偏光板）之偏光薄膜、透明保護層、 光予s黏著層等之各層亦可為以水揚酸酯系化合物、 苯甲綱系化合物、苯并二唾系化合物、丙烯酸氛醋系化 合物、録配鹽系化合物等之紫外線吸收劑做處理等適宜的 方式來賦予紫外線吸收能力之物。 本發明之光學薄膜、偏光板，可適用於液晶顯示裝置 等之各種顯示裝置的形成上，例如可將本發明之光學薄膜 或偏光板配置於液晶元件之單側或兩側做成液晶面板，使 用於反射型或半穿透型、或是穿透、反射兩用型之液晶顯 示裝置。 形成液晶顯示裝置之液晶元件的種類，可任意地選擇 ，包含例如 STN(Super Twisted Nematic)元件、 TN(Twisted Nematic)元件、IPS(In-Plane Switching)元件 200404842 、VA(Vertical Aligned)元件、〇CB (Optically Aligned Birefringence)元件、HAN(Hybrid Aligned Nematic)元件 、ASAM(Axially Symmetric Aligned Nematic)元件、強介

電、反強介電元件以及對該等進行高度規則之配向分割者 、進行不規則配向分割之物等各種元件。此等當中，本發 明之光學薄膜或偏光板特別對於VA元件以及ocb元件之光 學補償非常優異，所以做為VA模式或0CB模式之液晶顯示 裝置用之視角補償薄膜非常有用。 又，前述液晶元件通常係於對向之液晶元件基板之間 隙庄入液曰曰之結構，做為該液晶元件基板並無特別限定， 可使用例如玻璃基板與塑膠基板。又，在塑膠基板之材質 方面並無特別限定，可舉出以往眾知之材料。

又，於液晶元件之兩面設置偏光板或光學構件的情況 ’該等可為相同種類亦可為不同。又，於液晶顯示裝置之 形成時，可在適宜的位置配置丨層或2層以上之菱鏡列片 、透鏡列片、光擴散板或背光等之適宜的構件。 再者’本發明之液晶顯示裝置’係含有液晶面板，在 该液晶面板方面，除了使用本發明之液晶面板以外，並益 ，別限I當含有光源的情況下，雖無特別以，惟基: 二：：有效使用光能之考量，以例如可射出偏光之平面光 圖3 圖所示般 光元件2 之截面圖中係顯 ，液晶面板係具有液晶元件21、 以及透明保護層3，於液晶元件 示本發明之液晶面板之—例。如 光學薄膜1、偏 21之一側面積層 41 200404842 著光學薄膜1，於光學薄膜1之另一面依序積層著偏光元 件2以及透明保護層3。該液晶元件係於兩片液晶元件基 板間保持著液晶而構成者（未圖示）。又，光學薄膜丨如前 述般為複折射層與透明高分子薄膜層之積層體，該複折射 層側係面向於液晶元件21，透明高分子薄膜側係面向於偏 光元件2。 本發明之液晶顯示裝置係於目視侧之光學薄膜（偏光板 )上進-步配置諸如擴散板、抗眩層、反射防止膜、保護 層或保護板，或是於液晶面板之液晶元件與偏光板之間適 宜配置補償用相位差板等。 再者本^明之光學薄膜與偏光板並不限於前述液晶 顯示裝置，亦可使用於例如有機電致發光（EL)顯示器、pDp 乂及FED專之自發光型顯示裝置。使用於自發光型平面顯 示器的情況，例如將本發明之複折射性光學薄膜之面内相 位差值^控制成"4,可得到圓偏光，所以可做為反射 防止濾片來使用。 以下針對具備本發明之偏光板的電致發光（EL)顯示 裝置做說明。本發明之EL顯示裝置係具有本發明之光學薄 膜或偏光板的顯示裝置，此EL裝置可為有機EL以及無機 EL之任一者。 最近，在EL顯示裝置方面，係提出了將偏光元件或偏 光板等之光學薄膜與"4板併用以防止黑狀態中來自電極 的反射。本發明之偏光板與光學薄膜特別在自^層發射直 線偏光、圓偏光或是橢圓偏光之任一偏光的情形、或是朝 42 200404842 正面方向發射自然光、朝斜方向之出射光呈部分偏光之情 形等係非常有用。

首先’就一般有機EL顯示裝置做說明。一般，有機 EL顯示裝置係在透明基板上依序積層透明電極、有機發光 層、金屬電極來形成發光體（有機EL發光體）。有機發光層 系各種的有機溥膜之積層體，已知有例如三苯胺衍生物等 所構成之電洞Λ人層與憩等之螢綠有機固體所構成之發 光層而成之積層體、前述發光層與二萘嵌苯衍生物等所構 成之電子植入層而成之積層體、或是電洞植入層、發光層 與電子植入層之積層體等各種的組合。 曰

又，有機EL顯示裝置係基於以下原理來發光。亦即， 對前述陽極與陰極施加電壓，以對有機發光層植人電洞鱼 電子，該等電洞與電子之再結合所產生之能量會激發螢： 物質，所激發之螢光物質在回到基態時會發光。電洞盥電 子再結合此種機制’係與一般之二極體同樣，電流與發光 強度對於施加電壓顯示伴隨整流性之強非線形性。 "於前述有機EL顯示裝置中，為了自有機發光層導出發 光至ν側之電極需為透明電極，通常係將由氧化㈣ (ΙΤ0)等之透明導電體所形成之透明電極當做陽極來使用。 另-方面’為了使得電子植入變得容易來提昇發光效率， 陰極使用工作函數小之物質一事是重要的，通常可使用 Mg-Ag、Al-Li等之金屬電極。 於前述構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層以厚度 薄達_程度之薄膜來形成為佳。此乃由於，有機發光層 43

ZUU^U404Z 亦與透明電極同樣可蚀〜1 恭止士 a、★ T使侍光近乎完全穿透之故。於是，非 1¾光日守自透明基板之矣 層而在金屬電極、， 射之穿透透明電極與有機發光 射出m6 ;反射之光，會再度往透明基板之表面側 射出。所以自外部_丢 宁，有機EL顯示裝置之顯示面會呈 現鏡面。 體(有本:::層有:二:::置透，例如在包含有機EL發光 面側具備金屬電極）之右嬙ρτ β 天尤層之晨 之m… 顯示裝置中’以在透明電極 <录面侧设置本發明 止+ I月之先學溥膜（偏光板等）為佳，以進一 步在偏光板與EL元件之η μ里3 /上 發明之光學薄膜，可成A 板為佳。藉由配置本 、了成為-種展現抑制外界反射、目視性 &付捻升之效果的有機EL顯示裝置。又，^ 興亡秦ρη 、社 衣直又，於透明電極與光 子薄膜之間進一步配置相位差板為佳。 前述相位差板與光學薄膜（偏光板等）由於具有將自外 部所入射、在金屬電極被反射之光加以偏光之作用，所以 利用八偏光作用可達成外部無法目視金屬電極之鏡面之效 果。特別是，只要以1/4波長板來構成相位差板、且將偏 光板與相位差板之偏光方向所成角度調整為W4,即可將 金屬電極之鏡面完全遮蔽。亦即，對有機EL裝置所入射之 外部光，利用偏光板僅直線偏光成分可穿透。此直線偏光 藉由相位差板—般可成為橢圓偏光，但當相位差板為1/4 波長板、且偏光板與相位差板之偏光方向所成角度為疋/4 時，則會成為圓偏光。 此圓偏光通常會穿透透明基板、透明電極、有機薄膜 44 200404842 ，於金屬電極被反射，再次穿透有機薄膜、透明電極、透 明基板，以相位差板再次成為直線偏光。此直線偏光由於 與偏光板之偏光方向成正交，所以無法穿透偏光板。於是 ，可將金屬電極之鏡面完全遮蔽。 (實施例） 以下’針對本發明之實施例連同比較例一起做說明。 不過，本發明並不限定於以下之實施例。又，於下述實施 例中，光學薄膜之特性係利用以下方法來評價。 (相位差值△ n d ’配向轴精度之測定） 相位差值△ nd以及配向軸精度之測定係使用相位差計 (王子測量機器公司製造，商品名{(〇狀人21人])11)來進行。 (折射率之測定） 折射率係使用王子測量機器公司製造之商品名 K0BRA21ADH來測定590nm之折射率。 (膜厚測定） 膜厚係使用安立資製造商品名數位測微計N-351C型來 測定。 (貫施例1) 將2,2’一雙（3,4 一二羧基苯基）六氟丙烷二酸酐以及 雙（二氟甲基）一 4, 4’ 一二胺基聯苯所合成之重量平 均刀子置（Mw)7萬、複折射率（△ n)約〇· 〇4之聚醯亞胺溶 解於MIBK(曱基異丁酮），得到固體成分濃度15重量％之溶 液。將此溶液塗佈於在15(rc以固定端橫向拉伸做丨· 3倍 仏向拉伸而得之厚度75// m之三乙醯纖維素（TAC)薄膜上。 45 200404842 此TAC溥膜之△ η為20nm。之後於l〇〇t：進行ι〇分鐘加熱 處理’以進行該溶液之溶劑的蒸發去除來形成層，且利用 TAC薄膜之收縮使得該層也收縮，得到完全透明平滑之光 學薄膜。所得之複折射層之光學特性係成為nx>ny>nz。 (實施例2) 將異丁烯與甲基馬來醯亞胺所構成之交互共聚物 (N—甲基馬來醯亞胺含量5〇莫爾％)75重量份與丙烯腈之 含量為28重量％之丙烯腈一苯乙烯共聚物25重量份溶解於 二氯甲烷中，得到固體成分濃度15重量％之溶液。使得此 溶液於玻璃板上所舖設之聚對苯二甲酸乙二醇酯（ρΕτ)薄膜 上流延，於室溫放置60分鐘後自ρΕΤ薄膜剝離，於1〇〇它 乾燥10分鐘、14(TC乾燥Η)分鐘、16(rc乾燥3〇分鐘得到 透明薄膜。薄膜之面内相位差（△ 4nm，Rth係4nm。 於上述所得之透明薄膜塗佈與實施例丨同樣的溶液。 之後，以100°C進行5分鐘之加熱處理，於前述透明薄膜 上形成層，得到完全透明且平滑之薄膜。將所得之薄膜以 130 C之溫度做10%之縱向單軸拉伸以得到光學薄膜。所得 之光學薄膜之複折射層之光學特性係nx>ny>nz。 、 (實施例3) 將2,2’一雙（3,4 一二羧基苯基）六氟丙烷二酸酐以及 2, 一雙（三氟甲基）一 4, 4’一二胺基聯苯所合成之複折射 率（△ η)約0· 05之聚醯亞胺溶解於乙酸乙酯，得到固體成 分濃度20重量％之溶液。將此溶液塗佈於實施例〗所使用 之基材上。之後於130 C進行5分鐘加熱處理，以進行该 46 200404842 溶液之溶劑的蒗發去除爽弗 ^ 〃、、心云1示木形成層，且進行該層之收縮處理 ’得到完全透明平滑之光學薄 卞碍胰。所侍之光學薄膜之複折 射層之光學特性為nx>ny>nz。 (實施例4)

將下述結構式⑽所表示之複折射率（Δη)約G⑽之 聚韃酮（股份有限公司日本觸媒製造，聚芳賴α)溶解於 ΜΙΒΚ，调製出固體成分濃度2〇重量％之溶液。將此溶液塗 :於在131TC以固定端橫向拉伸做13倍橫向拉伸而得之 厚度75 # m之二乙醯纖維素（TAC)薄膜上。此tac薄膜之△ η為15nm。之後於10(rc進行1〇分鐘加熱處理，以進行該 溶液之溶劑的蒸發去除來形成層，且進行該層之收縮處理 ，得到完全透明平滑之光學薄膜。所得之光學薄膜之複折 射層之光學特性為nx>ny>nz。

(18) (實施例5 ) 使用與實施例1同樣之溶液，將其塗佈於厚度8〇gm 之二乙醯纖維素（TAC)薄膜上。此TAC薄膜之△ nd為5nm。 之後以100 C進行1〇分鐘之加熱處理，以進行前述溶液之 溶劑的蒸發去除而形成層，得到完全透明且平滑之薄膜。 將所得之薄膜以150°C之溫度做10%之縱向單軸拉伸以於前 述層之面内產生折射率之差，得到光學薄膜。所得之光學 薄膜之複折射層之光學特性係nx>ny>nz。 47 200404842 (實施例6) 使用與貫施例1同樣之溶液’將其塗佈於厚度8 Q # m 之三乙醯纖維素（TAC)薄膜上。此TAC薄膜之And為5nm。 之後以100°C進行1〇分鐘之加熱處理，以進行前述溶液之 溶劑的蒸發去除而形成複折射層，得到完全透明且平滑之 薄膜。所得之光學薄膜之複折射層之光學特性係nx=ny>nz (實施例7) 將4,4,一雙（3,4一二羧基苯基）一2,2〜二苯基丙烷二 酸酐以及2,2,一二氯一 4,4,一二胺基聯苯所合成之重量平 均分子量（Mw)3萬之聚醯亞胺溶解於環戊酮，得到固體成 刀/辰度2 0重畺/之〉谷液。將此溶液塗佈於經過與實施例1 同樣之處理之TAC薄膜上。之後於14(rc進行1〇分鐘加熱 處理，以進行該溶液之溶劑的蒸發去除來形成層，且進行 讜層之收縮處理，得到完全透明平滑之光學薄膜。所得之 光學薄膜之複折射層之光學特性為nx>ny>nz。 (比較例1) 使用與實施例1同樣的溶液，將其塗佈於厚度75#m 面内相位差過大，於光學薄膜之光學特性上出現問題，必 須自PET薄膜剝離複折射層而轉印到偏光元件等之光學構 、Δικ1=4000Μ之PET薄膜上。之後於15(rc進行1〇分鐘 加熱處理，以進行該溶液之溶劑的蒸發去除來形成複：: 層，得到完全透明平滑之光學薄膜。所得之光學㈣Μ 折射層擁有nx=ny>nz之光學特性。但是，由於ρΕτ薄膜之 48 200404842 件上來使用。 (比較例2) 將與實施例1同样、+ 向拉伸做1.5倍樺^ 液塗佈至在15〇t以固定端横 。此TAC薄膜之、°、伸而得之厚度15°”之TAC薄獏上 4 、 Δη(1為70nm。之後於1〇〇。(：進行1〇分鐘 加熱處理，以進杆辞、、六 ^ 4液之溶劑的蒸發去除來形成複折 層’得到完全透明平；晋夕& m @ , 处Θ十W之先學薄膜。所得之光學薄膜之複 折射層擁有nx=ny>nz之光學特性。但是，由於m薄臈之 面内相位差過大，於光學薄膜之光學特性上出現問題，、必 須自PET薄膜剝離複折射層而轉印到偏光元件等之光學構 件上來使用。 針對前述各實施例以及各比較例所得之光學薄膜，就 厚度、光學薄膜之面内相位差A( △ nd)、透明高分子薄膜 之面内相位差Β(Δ nd)、複折射層之複折射率（△ n(a))以 及透明南分子薄膜之複折射率（△n(b))調查之纟士果干於下 述表1。 49 200404842 (表 1) 厚度（//π〇 Α(Δηά) 實施例1 6 135 實施例2 6 120 實施例3 10 70 實施例4 10 80 實施例5 8 150 實施例6 6 0.3 實施例7 6 130 比較例1 6 0.9 比較例2 6 150

An(a) 4 20 15 20 5 20 4000 70 〇. 04 〇. 04 〇. 05 〇. 03 〇. 04 〇. 04 〇. 025 0.04 0.04 △ n(b) 0006 0.001 0. 0006 0. 0006 0. 0006 0. 0006 0. 0006 0. 08 0. 0007

針對前述各實施例以及比較 顯示特性（LCD顯示特性）進行調查。许之光學薄膜就液』 膜與偏光板（日東電工（股广 亦即，首先將光學多

机切有限）觀】、皮 t 口# I HEG1425DU」）透過丙烯酸系黏著 :w °口 爲舰心 做積層來得到光學補名 層一體型偏光板。以偏光板為外彳彳 7 4 ~ Γ側接者於液晶元件之背>

側來製作液晶顯示裝置。接著，釙

文节针對該液晶顯示裝置之J 面對比度進行調查。其結果示於下述表2中。又，針對實 施例1與比較例1調查有無虹斑之發生。其結果係示於圖 5 (實施例1)以及圖6 (比較例1)之照片。又，正面對比度 係以下述方法來測定。 (正面對比度） 使液晶顯示裝置進行白色影像以及黑色影像之顯示， 藉由商品名Ez contrast 160D(ELDIM公司製造）分別測定 顯示晝面之正面中XYZ顯示系之Y值、X值以及y值。接 50 200404842 色影像之Y值（γΒ)來算出

著，由白色影像之Y值（YW)與黑 正面（視角0° )對比度（Yw/YB)。 (表2) _正面_對比度* 實施例1 〇 實施例2 〇 實施例3 〇 實施例4 〇 實施例5 〇 實施例6 〇 實施例7 〇

比較例1 X

比較例2 X *將對比度100以上定為〇，未滿100定為χ。 如前述表1所示般，所有的實施例在對:以及視角特 性上優異。相對於此，比較例則有對比 、 简。又，如圖r 所示般，於實施例1中並未發生虹斑。

一 仰對於此，如圖R 所示般，比較例1發生了虹斑。 產業上可利用性 如以上般，本發明之光學薄膜在光學特性上優異，食匕 以簡單且低成本來製造。是以，本發明之光學薄膜做為： 如液晶顯示裝置或自發光型顯示裝置等之顯示震置 構件為有用之物。 予 51 200404842 【圖式簡單說明】 (一）圖式部分 圖1所示係本發明之偏光板之一例之截面示意圖。 圖2所示係本發明之偏光板之另一例之截面示意圖。 圖3所示係本發明之液晶顯示裝置之一例之截面示意 圖 所示係本發明之光學薄膜之軸方向之一例之圖。 圖5係本發明之光學薄膜之—眚# y t i y ^ 子寻联i 貫施例中對虹斑進行評

價之照片 圖6係比較例之光學薄膜中對虹 了虹斑進行評價之照片。 (二）元件代表符號 1 光學薄膜 2 偏光元件 3 透明保護層 21 液晶元件 nx, ny, nz 以厚度方向為z 内的拉伸方向為 呈金直之方向為 折射率 、以與Z軸垂直之面 轴、以與X軸及Z軸 軸4之分別的軸方向

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Claims (1)

1. 200404842 拾、申請專利範圍·· h一種光學薄膜，係透明高分子薄 聚合物所形成之福a 溥臈層與由非液晶性 下述式（1)之條件 、 ，複折射層係滿足 ’、牛’且该透明高分子薄 50nm以下·· 守勝層之面内相位差為 nx^ny>nz · · ·⑴ 於上述式（1)中，ηχ 軸方向、Υ軸方a y nz刀別表不该複折射層在X 釉方内Y軸方向以及z軸方向之折射率； 折射x率=!表示於該複折射層之面内方向中呈現最大 ’ ’' n ，γ軸方向係表示在該面内相對於x軸方 向呈垂直之軸方向，z軸方向係表示肖χ轴方向以及y轴 方向呈垂直之厚度方向。 2.如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，複折射 層之複折射率△ n(a)與透明高分子薄膜層之複折射層△ n (b )係滿足下述式（2)之條件： △ n(a) >△ n(b) X 1〇 · · ·⑵ 3·如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中，光 學薄膜整體之複折射率（△ n)在〇· 00〇5〜〇. 5之範圍。 4.如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中，形 成複折射層之非液晶性聚合物係擇自聚醯胺、聚醯亞胺、 聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺所構成群中至 少一種之聚合物。 5 ·如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中，形 404842 成透明冋刀子溥膜層之樹脂係擇自乙酸酯樹脂、聚酯樹脂 來醚硼樹脂、聚碉樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、 ♦ 亞胺树知、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚降冰片烯樹 脂、纖維素樹脂、聚丙烯酸醋樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙 烯醇Μ月曰' 聚氣乙烯樹脂、聚偏氯乙稀樹脂、聚丙稀酸樹 月曰以及忒等之混合樹脂，液晶聚合物，以及於側鏈具有 取代酿亞胺基或非取代醯亞胺基的熱塑性樹脂與側鍵具有 取代苯基或非取代苯基以及硝基之熱塑性樹脂所形成之混 鲁 合物所構成群中至少一種之樹脂。 6·如申請專利範圍第丨或2項之光學薄膜，其中，形 成透明高分子薄膜層之樹脂係乙酸三乙醯酯、以及異丁稀 與Ν—亞甲基馬來醯亞胺所構成之交互共聚物和丙烯腈一 苯乙烯共聚物所形成之混合樹脂中至少一者。 7·如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中，透 月Γ1刀子薄膜層係將其形成材料樹脂成形為薄膜狀後施以 拉伸處理所製造者。 .如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中，透 明阿分子薄膜層係做為偏光板之透明保護薄膜來使用。 9· 一種偏光板，係包含光學薄膜與偏光元件；其特徵 在於：該光學薄膜為申請專利範圍第丨〜8項中任一項之光 學薄m。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之偏光板，其中，該光學薄 膜之透明咼分子薄膜層係兼做為偏光板之透明保護薄膜 如申請專利範圍第9或10項之偏光板，其中，該 54 200404842 光學薄膜係具有光學補償層之功能。 12. —種液晶面板，係包含液晶元件以及光學構件；其 特徵在於··該光學構件係配置於該液晶元件之至少一側表 面’該光學構件為申請專利範圍第丨〜8項中任一項之光學 薄膜或申請專利範圍第9〜11項中任一項之偏光板。 13·如申請專利範圍第12項之液晶面板，其中，該液 晶元件係擇自 STN(Super Twisted Nematic)元件、 TN(Twisted Nematic)元件、IPS(In-Plane Switching)元件 、VACVertical Aligned)元件、〇CB (Optically Compensated Birefringence)元件、HAN(Hybrid Aligned Nematic)元件以及 ASAM(Axially Symmetric A1igned Microcell)元件所構成群中至少一種。 14. 種液日日顯不裝置’其特徵在於：包含申請專利範 圍第12或13項之液晶面板。 15· —種自發光型顯示裝置，其特徵在於：包含申請專 利範圍第1〜8項中任一項之光學薄膜以及申請專利範圍第 9〜11項中任一項之偏光板中至少一者。 16. —種有機電致發光（EL)顯示器，其特徵在於：包含 申請專利範圍第1〜8項中任一項之光學薄臈以及申請專利 範圍第9〜11項中任一項之偏光板中至少一者。 17. —種光學薄膜之製造方法，係用以製造由透明高分 子薄膜層與複折射層所積層而得之光學薄膜；係準備面内 相位差為5 0nm以下之透明高分子薄膜，於其上塗佈非液晶 性聚合物溶液’然後將該溶液中之溶劑蒸發去除以形成複 55 200404842 折射層，所形成之複折射層滿足下述式（丨）之條件： nx^ ny>nz · · · (1) 於上述式（1)中，nx、ny、nz分別表示該複折射層在χ 軸方向、Υ軸方向以及Ζ軸方向之折射率； X軸方向係表示於該複折射層之面内方向中呈現最大 折射率之軸方向，γ軸方向係表示在該面内相對於χ軸方 向呈垂直之軸方向，ζ軸方向係表示與χ軸方向以及γ軸 方向呈垂直之厚度方向。 _ ,丨8·如申請專利範圍第17項之光學薄膜之製造方法， 係以複折射層之複折射率△ n(a)與透明高分子薄膜層之複 折射層Δηα)滿足下述式⑵之條件的方式㈣成複折射層 與透明高分子薄膜層： △ n(a) >△ n(b) χ 1〇 · ••⑵ 〇 19.如申請專利範圍第17或以項之光學薄膜之製造方 去其巾，光學薄m整體之複折射率（△ η)係設定在籲 0.0005〜0·5之範圍。 、20· 士中明專利圍第17或項之光學薄膜之製造方 法其中，形成複折射層之非液晶性聚合物係擇自聚酿胺 χκ 亞n聚_酉同、聚酿胺酿亞胺、聚醋酿亞胺 所構成群中至少一種之聚合物。 、、21·如申請專利範圍第17或18項之光學薄膜之製造方 法其中，形成透明高分子薄膜層之樹脂係擇自乙酸醋樹 脂、聚輪旨、聚醚颯樹脂、聚楓樹脂、聚碳酸哪旨、 56 200404842 聚酸胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯煙樹脂、丙烯酸樹脂、 聚降冰片烯樹脂、纖維素樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚苯乙 烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏氯乙烯樹脂 、聚丙烯酸樹脂、以及該等之混合樹脂，液晶聚合物，以 及於側鏈具有取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基的熱塑性樹 脂與側鏈具有取代苯基或非取代苯基以及硝基之熱塑性樹 脂所形成之混合物所構成群中至少一種之樹脂。 22·如申請專利範圍第I?或18項之光學薄膜之製造方 法’其中’形成透明高分子薄膜層之樹脂係乙酸三乙醯酯 、以及異丁烯與N—亞曱基馬來醯亞胺所構成之交互共聚 矛丙稀睛本乙稀共聚物所形成之混合樹脂中至少一者 、、23· 士申明專利範圍第17或18項之光學薄膜之製造方 f，其中，透明高分子薄膜層係將其形成材料樹脂成形為 缚膜狀後施以拉伸處理所製造者。 2 4 ·如申睛專利範圍莖 法 層

   ，係將透明高八:ΓΓ 項之光學薄膜之製造 體做… 與複折射層做積層後，將該 體做拉伸或收縮。 拾壹、圖式： 如次頁 57