TWI355515B - - Google Patents

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TWI355515B
TWI355515B TW093139990A TW93139990A TWI355515B TW I355515 B TWI355515 B TW I355515B TW 093139990 A TW093139990 A TW 093139990A TW 93139990 A TW93139990 A TW 93139990A TW I355515 B TWI355515 B TW I355515B
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Shunsuke Shuto
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Description

1355515 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種相位差膜、相位差膜之製造方法、 積層相位差膜之製造方法、光學膜及影像顯示裝置。 【先前技術】 以往’斜視各種液晶顯示裝置時會有對比減低、黑顯 示部發生色階逆轉等各種視野角問題,而為改善此等問 題’係使用各種雙折射膜(相位差膜)當作光學補償膜。 做為此種光學補償膜’例如已揭示一種可適用於通常 白(normal white)型扭轉向列型(TN)液晶顯示裝置、能以分 子骨架之直線性與硬直性來控制光學特性之聚醯亞胺負單 轴性雙折射膜(參見例如專利文獻丨),或揭示一種使用具 有芴(fluorene)骨架之聚醯亞胺負單軸性雙折射膜(參見例 如專利文獻2)。此種聚醯亞胺等之非液晶性聚合物製膜, 因為即使為薄膜亦能展現充分之厚度方向相位差(Rth)故非 常有用。 其他薄型光學補彳員膜,向來有使用液晶材料之雙折射 臈產品化。使用液晶材料之光學補償膜,通常在展現異向 生之配向膜上形成含液晶材料之塗佈膜 中之液晶材料隨上述配向膜之配向方向 即,由於 h ·ί;)ΐ β 旦 n 丄 f 使得上述塗佈膜
膜之拉伸方向做配向。 1355515 如上述般,已有使用各種形成材料之雙折射膜當作光 學補償膜實用化。同時近年來進—步希望能依據液晶顯示 裝置之動作模式、使用於液晶顯示裝置以外各種影像顯示 之目的而適當設定光學補償膜之光學特性(如雙折射性)。 因此,為了能廣泛設定光學特性的變化,而採用將各種相 位差膜組合、積層之方法。 專利文獻1 :美國專利第5,344,916號公報 專利文獻2 :美國專利第6,〇74,709號公報 專利文獻3 :曰本專利第2631015號 【發明内容】 本發明者等發現在各種膜之組合中,如將配向軸方向 相〃之雙折射膜所積層之積層相位差膜當作光學補償膜使 用犄,具有能夠擴大光學特性的變化而可設定適合各種影 像顯示裝置之光學特性之優點。但欲將複數雙折射膜積層 時,通常須要使用接著劑等’故就算獲得光學特性但厚度 會變厚,甚難達成近年來在影像顯示裝置方面所要求之薄 型化。 另一方面,有人想到若將雙折射性拉伸膜不僅當作雙 折射膜且兼用作配向膜時,可利用其配向性在上述拉伸膜 上直接積層由液晶化合物所形成之雙折射層,且能避免厚 度過厚。但如上述,由於液晶化合物朝拉伸膜之拉伸方向 配向,亦即朝拉伸膜面内折射率大之軸方向配向,會致使 拉伸膜與雙折射層(液晶層)變成相同配向軸角度,其結果 發生不能達成目的之問題。 1355515 異,旎夠在此相位差膜之上述配向面上直接形成配向方向 相異之相位差膜。亦即於本發明之相位差膜,由於其内部 與其一表面(配向面)之配向方向相異,故只要在上述表面 (配向面)上直接形成液晶層等,上述液晶層之液晶化合物 便可依照上述表面(配向面)之配向方向而配向。於是下層 之上述相位差膜與上述液晶層之配向方向成為相異。由^ 本發明之相位差膜具有相位差膜本來之功能並具有當作配 向膜之功能,故能夠將配向方向相異之相位差膜積層,且 月匕夠防止厚度’麦厚。於是,使用本發明之相位差膜時,能 夠提供一種厚度薄且具有各種光學特性之積層相位差膜, 對液晶顯示裝置及各種影像顯示裝置之光學補償極為有 =i又,本發明之相位差膜能夠依上述本發明之相位差膜 :造方法製造。又,本發明之積層相位差膜製造方法如同 刖述由於使用本發明之相位差膜,故能夠製造出配向方 向才〃之2層以上雙折射層直接積層而成之積層相位差 膜。又於本發明,本發明之相位差膜亦稱為「表面改質相 位差膜」。而上述改質表面即為本發明之「配向面」。 【實施方式] 取2同則述,本發明之表面改質相位差膜係含有非液晶 t XK 口物、且上述非液晶性聚合物配向而顯現雙折射性; 其特徵為:上述相位差膜之至少一表面(配向面)之配向方 向與上述相位差膜内部之配向方向相異。此種表面改質相 =差膜可單獨當作相位差膜使用,但由於具有如前述之效 ,故當作配向膜使用,並與在其表面(配向面)直接形成 1355515 之雙折射層製成積層體,供光學補償用較佳。 於本發明之相位差膜’所謂「配向面」即指具有與相 位差膜内部配向相異之配向面,在該面上形成與上述相位 差膜内部配向相異之配向之雙折射層。 本發明之相位差膜,其光學特性最佳表現下述式⑴〜 (III)中之任一式。又,下述式⑴表示之負單軸性相位差膜 可稱為「negative c- Plate」,而下述式(111)表示之正單軸 性相位差膜可稱為「positive A- Platej 。 nx = ny > nz .....⑴ nx > ny > nz nx > ny = nz .....(Ill) 於上式(I)〜(III)中,nx' ny、nz分別表示上述相位差 膜之X軸、Y車由、Z抽方向折射率;上述χ轴方向為在上 述相位差膜面内呈現最大折射率之軸方向,Υ軸方向為在 上述面内對上述X軸呈垂直之軸方向,而ζ軸方向為對上 述X軸及Υ軸呈垂直之厚度方向(以下同)。 上述非液晶性聚合物由於如耐熱性、耐藥性、透明性 優異且富有剛性’故以聚酿胺、聚醯亞胺、聚醋、聚喊_、 聚芳基賴、聚醯胺醯亞胺、聚酿酿亞胺等聚合物較佳。 此等聚合物可單獨使用其中任—,或如聚芳基賴與聚 醯胺之混合物’將具有不同官能其 、 月b丞之2種以上聚合物混合 使用。此種非液晶性聚合物之分j旦 刀子里並無特別限制,可視 上述非液晶性聚合物溶液之黏度及濃度等而適當決定。 前述非液晶聚合物,基於例如耐熱性、耐藥劑性、透 =優異且富有剛性之觀點考量,以聚醯胺、聚醯亞胺、 f酯、聚醚酮、聚芳醚_、聚醯胺醯亞胺以及聚酯醯亞胺 寺的聚合物為佳。該等聚合物可單獨使用其中任一種或使 2例如聚芳賴與聚酿胺之混合物般擁有不同官能基之2 、上的扣“勿。此等非液晶性聚合物溶液之分子量並無 戶#:疋可依據例如該非液晶性聚合物溶液之黏度與濃 1〇〇π ,、 5 ,重里平均分子量(Mw)以 义〇〇〇〇〇範圍為佳,更佳為2〇〇〇〜5〇〇〇卯之範圍。 高拉所列舉之聚合物當中’基於高透明性、高配向性、 门,之觀點,以聚醯亞胺為特佳。 Λ ♦醯亞胺以例如面内配向性高、可溶;^右擤+淼 聚醯亞胺為佳。且,一 "了-於有機浴劑之 號公報"體而舌,可使用例如特表2〇〇〇-511296 U報所揭示之含冑9,9—雙(胺基 二酐之縮合聚入 )勿/、方0私四羧酸 產物,具體上,可使用含有1個以上之以 下述式(])所表示之反覆單位之聚合物。 上之以
⑴ 於前述式(η 以1〜4個齒原’ R3〜R6係獨立擇自氫、齒素、苯j 基所構成群中或C|,烷基所取代之笨基、以及 少—種取代基。較佳為,係獨, ^55515 鹵素、笨基 以 基、^ 固鹵原子或Cl~l〇烷基所取代之笨 二及CV,。院基所構成群中至少一種。 於前述式(1)中,Z係 佳為均笨四甲酸基、多 “2。之4價芳香族基,較 衍生物或是以下述式(2):::::基、多環式芳香族基之 ⑵ 於則述式(2)中’ Z’係例如共價鍵、⑽7)2基、⑶基、 」子、s原子、S〇2基、suc2h5)2基或是NR8基,複數 *下’彼此可為相同或不同。又,W係表示W0之整 欠。R7係分別獨立表示氫4狀)3。〜系表示氣、碳原子 1〜約20之烷基 '或是c“2。芳基,複數的情況下,彼此 可為相同或不同。R9係分別獨立表示氫、氟或氣。 削述多%式芳香族基可舉出例如自蔡、苟、苯苟或憩 所何生之4價基。又’前述多環式芳香族基之取代衍生物, :舉出例如以擇自c,,之烷基及其氣化衍生物、f與C1 寻之齒素所構成群中至少—冑基所取代之前述多環式芳香 族基。 除此以外,尚可舉出例如特表平8_5]】8】2號公報所記 載之反覆單位係、以下述通式(3)或⑷所表示之均聚物或反覆 單位係以下述通式(5)所表示之聚醯亞胺等《又,下述式(5) 之聚醯亞胺係下述式之均聚物之較佳形態。
II 1355515
於則述通式(3)〜(5) f,G以及G,係表示自例如共價鍵、 ch2 基、c(ch3)2 基、C(CF3)2 基、C(CX3)2 基(χ 為鹵素)、 C〇 基、0 原子、s 原子、S〇2 基、Si(CH2CH3)2 基以及 N(Ch3) 基所構成群刀別獨立選出之基,彼此可為相同或不同。 於前述式(3)與式(5)中,L係取代基」以及e係表示 其取代數。L係例如_素、c〗3焼基、Cl」*化烧基、苯基 或取:,苯基’複數的情況下,彼此可為相同或不同。前述 · 取代本基’可舉出例如具有擇自鹵素、c丨3烷基、 化烷基所構成群中至少-種取代基的笨基。又,此處之_ 素可舉出例如氣 '氯、漠·或峨。d係0〜2之整數,e係〇〜3 之整數。 於前述式(3)〜(5)中,Q係取代基,f係其取代數。在Q ^面’可舉出例如擇自氫、_素院基、取代炫基、硝基、 氛基硫院基、貌氧基、芳基、取代芳基、烧酿基、以及 12 1355515 取代烷酯基所構成群之原子或基,當Q為複數的情況下 彼此可為相同或不同。在前述齒素方面可舉出例如氟、氯 演與蛾。又前述取代芳基,可舉出例如南化芳 之整數’ g以及h係分別為0〜3、1〜3之整數 h以較1為大為佳。 基。f係0〜4 。又,g以及 前述式(4)中,Ri〇與Rn係自氫、齒素、苯基、取代苯 基、烷基、以及取代烷基所構成群分別獨立選出之基。當 中,R10與rii又以彼此獨立之齒化烷基為佳。 於前述式⑺中,Μ·與W係相同或不同,例如為齒素、 C,·3烷基、Cw i化烷基、苯基或取代苯基。在前述_素 方面可舉出例如氟、氯、溴與碘。前述取代苯基,可舉出 q如具有擇自鹵素、C〗3烷基、c】·3 _化烷基所構成群中 至少一種取代基的苯基。 •刚述式(3)所表不之聚醯亞胺的具體例可舉出例如下述 式(6)所表示者。
再者,前述聚醯亞胺可舉出例如使得前述骨架(反覆單 位)以外之酸二酐或二胺經適宜的共聚所成之共聚物。 —在前述酸二酐方面可舉出例如芳香族四羧酸二酐。該 芳香族四羧酸二酐可舉出例如均苯四甲酸二酐、二笨甲酮 四羧酸二酐、奈四羧酸二酐、雜環式芳香族四羧酸二酐、 2,2’〜取代聯苯四羧酸二酐等。 13 Ϊ355515 在均笨四甲酸二酐方面, 3,6- - s 舉出例如均笨四甲酸二酐、 —本基均本四甲酸二酐、 町 酸二軒、3,6—二漠均苯,&(二氣甲基)均苯四甲 酸二針等。在-笨甲臟、3,6一二氯均笨四甲 3,3’4,4,— 一苯甲酾硬酸—針方面’可舉出例如 一本甲酮四羧酸二酐' 2 3 3,4,一 - — 酸二酐、2,2,,3 3,— __ ,, 一本甲酮四羧 紐知 一本曱_四羧酸二酐等。在針、+.玆 竣酸二肝方面,可舉出 酐—寻“逑奈四 酐 1 9 , — ’J,6,7 —奈四綾 蔡—1,4,5,8 —四叛酸 二酐方面’可舉出例 酐、毗嗪一2,3,5,6~~四羧酸二 酐等。在前述2,2,~取代聯 ,’5,6—奈四羧酸二酐、2,6〜二# 二酐等。在前述雜環式芳香族四羧 如噻吩一2,3,4,5 —四羧醆 野 ' 卩比。定一2,3,5,6—四缓j 笨四羧酸二針方面,可舉出例如22,一二 聯笨四羧酸二酐、2 2, 一 __ 、 ’4,5,5 , —鼠〜4,4,,5,5,一聯笨四羧酸二 酐、2,2’一雙(三氟甲基)—44 # ,, 5 ,’5 ~~聯笨四竣酸二酐等。 又’在前述芳香族四羧酸_ —奸之其他例子方面,可舉 出例如3,3,,4,4 ’ 一聯笨四錄酸- m , 冬四羧馼—酐、雙(2,3—二羧基苯基) 曱酸二酐、雙(2,5,6—三氟—3 4 ^ ’ 一幾基苯基)甲酸二酐、 2,2—雙(3,4一二羧基笨基)— ’ 六鼠丙酸二酐、 4,4 一(3,4一二幾基笨基)~2 2__# * 二 } ,ζ —本基丙酸二野、雙(3,4一 二羧基苯基)醚二酐、44,一fi -物— ’ ’ 氧一鄰本二甲酸二肝、雙(3 4— 二叛基笨基)績酸二野(3,3,,4,4,〜二苯楓四缓酸二野)、 4,4,-[4,4,-異丙又一二(對苯基氧)]雙(㈣二甲酸則、 N,N—(3,4 — 一幾基苯基)__ n__甲吐 ^ ) f胺二酐、雙(3,4—二羧基 苯基)二乙基矽烷二酐等。 14 1355515 該等當中’做為前述芳香族四羧酸 、 代聯苯四羧酸二酐為佳, 以2,2,一取 4,4,,5,5,一聯笨四羧酸- 又(二齒甲基)〜 ,, 酐,更佳為2,2,—#r_友 ,4,5,5’一聯笨四羧酸二酐。 "鼠甲基)〜 可舉出苯 二胺 在前述二胺方面,可舉出例如芳香族 本-胺、二胺基二笨甲酮、萘二胺 二方面 以及其他芳香族二胺。 ”環式芳香族 在前述笨二胺方面,可舉出擇 基二胺、2,4一二胺基子笨、M—二如鄰、間以及對苯 1,4 —二胺其—2 甲氧基苯、 一胺基2—本基苯以及1?3 — 胺所構成群之笨二胺。 A —氣苯等苯二 収仕則逑二胺基二 可舉出2,2,~二胺美D之例方面, 等。在… 本甲嗣以及3,3、二胺基二苯甲酮 寺一在刖述奈二胺方面,可舉出例如丨,8一二胺萘、… 一胺奈等。在前述雜環式芳香族__ 、方晋族-胺方面’可舉出例如2,6 — -_、2,4—二胺_、以及2,4—二胺基—s —三嗪等。 —又’在前述芳香族二胺方面,尚有M,—二胺基聯苯、 4,4;;胺基二笨甲烷、4,4、(9—亞苟基卜二胺、π — 雙(二氟甲基)一4,4,一二胺基聯苯、3,3,〜二氯—4,4,—二 胺基二苯基甲烧、2,2’—二氯—4,4,—:胺基聯笨、 2,2’,5,5’-四氣聯笨胺、2,2—雙(4一胺基苯氧基苯基)丙 烷、2,2-雙(4-胺基笨氧基苯基)丙烷、2,2_雙(4_胺基 苯基)丙烷、2,2-雙(4—胺基苯基)—u山3,3,3_六氟丙 烧、4,4,-二胺基二苯喊、3,4,—二胺基二苯峻乂卜雙卜 胺基苯氧基)苯' 1,3〜雙(4一胺基苯氧基)苯、】,4 一(4 一胺 15 ⑺ 5515 基苯氧基)苯、4,4’一雙(4一胺基苯氧基)聯苯、4,4,一雙p一 胺基苯氧基)聯苯、2,2—雙[4—(4_胺基苯氧基)苯基]丙 烷、2,2—雙[4—(4—胺基苯氧基)苯基卜1,U,3,3,3—六氟 丙烷、4,4 - 一胺基二笨基硫醚、4,4,—二胺基二苯碾等。 在前述雙折射層之形成材料的聚驗酮方面可舉出例如 特開2〇G1-4911()冑公報所記載之以下述通式⑺所表示之 聚芳鱗綱。
於别述式(7)令,X係表示取代基,q係表示其取代數。 X係例如画原子、低級烷基、_化烷基、低級烷氧基、或 疋鹵化烧氧基,當X為複數的情況下,彼此可為相同或不 同0 在前述鹵原子方面可舉出例如氟原子、溴原子、氯原 子以及碘原子,該等當中又以氟原子為佳。在前述低級烷 基方面’以例如具有c, ~6之直鏈或支鏈之低級烧基為佳, 更佳為C〗〜4之直鏈或支鏈烷基。具體而言,以甲基' 乙基、 丙基、異丙基、丁基、異丁基、二級丁基、三級丁基為佳, 更佳為曱基與乙基。在前述函化烷基方面,可舉出例如三 氟甲基等之前述低基烷基的鹵化物。在前述低級院氧基方 面’以例如C1〜6之直鏈或支鏈之烷氧基為佳,更佳 ^ 〜4 之直鏈或支鏈烷氧基。具體而言為曱氧基、乙氧基、丙氧 基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、二級丁氧基、三級氧 丁基’更佳為甲氧基與乙氧基。在前述鹵化烷氧基方面, 16 的鹵化物。 式(7) t,q = 0, 此係以對位的 可舉出例如三氟甲氧基等之前述低級烷氧基 於前述式(7)中,q係〇〜4之整數。於前^ 且笨環之兩端所鍵結之羰基與醚之氧原子彼 方式存在較佳。 又’於前述式(7)中 係0或1之整數。 以係以下述式⑻所表示之基,m
於前述式(8)中,X,係 之X相同。於前述式(8)中 可為相同或不同。q,係表示 q’=〇為佳。又,P為0或J 表示取代基’例如與前述式(7) ’當X’為複數的情況下,彼此 X’之取代數,為0〜4之整數, 之整數。 於前述式(8)中,R2係主_ ^ τη 表不2價之芳香族基。此2價另 鄰、間或對苯撑基、或是自萘、聯笨' 恩、鄰、間或對三聯苯、
m^ 祚、二苯呋喃、聯苯醚、或是稱 本碾所何生之2價基等。兮 #古拉細从 4寺2價之芳香族基中’與芳考
_原子、低級烷基或是低級烷氧J 所取代。該等當中,在 搆士被κ方面,以擇自下述式(9)〜(15)片 構成群之方香族基為佳。 17 1355515 ⑼
述式⑺中,R,較佳為以下述式(16)所表示之基, 於下1 6)中,R2與P係與前述式(8)同義。 i ^ F c
F F ^ ⑽ 再者’於前述式(7)中 〆士 _ 之範圍,較佳為5〜5〇〇之範Π:表示聚合度’例如2〜5_ 之反覆單位所形成者 &又’其聚合可為相同構造 者。若為後者的情況, &之反覆早位所形成 亦可為無規聚合。 之聚合形態可為嵌段聚合 再者,以前述式⑺所表k 本醯撐基側為氟,氧烷撐基側1方醚酮之末端,對四氟 酮可以例如下述通式(17)所表示、虱原子較佳,此種聚芳醚 表示與前述式(7)同樣之聚合度^。又,於下述式中,π係 (17) 如 44η
F F 以前述式(7)所表示之聚芳麵 _之具體例可舉出例如下 18 1355515 述式(18)〜(21)所表示者,於下述各式中,11係表示與前述 式(7)同樣之聚合度》
又’除了前面所舉出者以外,在聚醯胺或聚酯方面, 可舉出例如特表平1 0-508048號公報所記載之聚醯胺或聚 酉曰,等之反覆單位能以例如下述通式(22)所表示。
(22) 於前述式(22)中,丫係〇或NH。又,£係例如擇自共 =^燒推基、_化C2貌禮基、CH2基、c(cx3)2基(此 係表示i素或氫)、c〇基、〇原子、s原子、叫基、 於剛述Ε中’尺係k烷基以及υ 19 1355515 基之至少一種’相對於羰基官能基或Y基係處於間位或對 位。 又,於前述式(22)中’ Α以及Α,係取代基,t以及ζ表 示分別之取代數《又,ρ係〇〜3之整數、q係1〜3之整數、 r係0〜3之整數。 珂述A係例如擇自氫、鹵素、C,·3烷基、Ci 3鹵化烷 基、以OR(此處R係前述定義者)所表示之烷氧基、芳基' 經由鹵化等所得之取代芳基、C〗9烷氧基羰基、c】9烷基 极基氧基、Cl·12芳基氧羰基、C〗·,2芳基羰基氧基其及取代 何生物、Ci i2芳基胺基甲醯基、以及Ι α芳基羰基胺基其 及取代何生物所構成之群,為複數的情況,彼此可為相同 或不同前述A’係例如擇自南素、Cw炫基、Ci 3齒化烧 基本基以及取代笨基所構成之群,為複數的情況,彼此 可為相同或不同。前述取代笨基之苯環上的取代基,可舉 』述1係0〜4之整數’前述ζ係〇〜3之整數。 、以月ϋ述式(22)所表示之聚醯胺或聚醋之反覆單位中又 以下述通式(23)所表示者為佳。
:例如南素、c,-3烷基、Ci3齒化烷基以及該等之組合。 (23) 於則述式⑺)中,Α、Α,以及Υ係前述式(22)所定義者 之1數’較佳為〇〜2之整數。X以及y分別〇或1 不可同時為〇。 20 1355515 又上述非液晶性聚合物,除如前述之聚醯亞胺等聚合 物以外亦可如液晶性化合物之聚合物。其具體例如後述, 例如可準備含液晶性化合物之膜,使上述液晶性化合物在 液晶相狀態下配向,在維持其配向狀態下直接聚合,則上 述膜即成為含聚合物之膜。於是,上述聚合物與其構成材 料之液晶性化合物不同,藉由聚合而表現非液晶性。因此 上述非液晶性聚合物可例舉液晶性化合物之聚合物。 上述液晶性化合物只要能夠聚合之化合物則無特別限 制。具體例如呈現向列相之液晶性化合物、呈現圓盤相之 液晶性化合物、表現膽固醇相之液晶性化合物等。又,液 晶性化合物之分子形狀亦無特別限制,如棒狀(r〇d_like)、 圓盤狀(discotic)等均可。尤其欲使所得聚合物膜之分子排 列為傾斜配向時,使用如上述棒狀液晶性化合物較佳。 本發明之相位差臈例如可依本發明之相位差膜製造方 法製造,但亦可依此方法以外之製法來製造。 以下就本發明之製造方法 限定於此例。首先,準備雙折 膜如於下述製程所說明般,只 僅改變該表面之配向方向,則 非液晶性聚合物之膜較佳。 之一例說明,但本發明並不 射性聚合物膜。上述聚合物 要藉由表面經偏光照射而能 並無特別限制,但以如含有 上述聚合物膜之厚度,如1〜2〇〇 ^ // m靶圍,以1〜10〇 # m較佳’ 1〜1 〇 V m更佳。又’苴杏规 表現下式⑴〜(111)中之任一式較佳 兵九學特性如同前述,以 •⑴ nx = ny > nz 21 1355515 nx > ny > nz .....(II) nx > ny = nz .....(HI) 上述聚合物膜之形成方法並無特別限制,上述非液晶 性聚合物若為例如前述聚醯亞胺等時,可將含非液s性聚 合物之塗佈液塗佈於基材表面來形成。只要是上述非液晶 性聚合物’由於其性fJl ’不論上述基材有無配向,均可 產生面配向、亦即上述塗佈膜因乾燥等而朝膜厚度方向收 縮,於分子配向產生異向性’故上述雙折射層表現如上式⑴ 所不負早軸性光學特性。上述雙折射層可自上述基材剝離 後單獨使用,或當作與基材之積層體使用。 上述聚合物例如能以加熱熔融方法塗佈於上述基材 上’但由製造效率與控制光學異向性之觀點,以塗佈上述 非液晶性聚合物溶解或分散於溶劑中所成之聚合物液之方 法較佳。X ’塗佈處理可適當採用旋塗法、輥塗法、淋塗 法、印刷&、浸塗法、流延成膜法、棒塗法、凹版印刷法 等先前習知方法》 上述溶劑並無特別限制,如可適當使用二氣甲烷、環 :酮、三氣乙#、四氯乙烷、N_甲基吡咯酮、四氫呋喃 寻。上述聚合物液’由黏度觀點以將溶液100重量份與非 液晶性聚合物5〜5 Π舌θ w a 重:£伤〉吧合較佳’而非液晶性聚合物 以10〜40重量份更佳。又上述聚合物液可視需要再含安 定劑' 增塑劑、金屬類等各種添加劑。 將上述塗佈液塗佈於基材後可自然乾燥或實施加孰乾 燥處理’而乾燥處理之結果,能夠使上述聚合液在上述基 22 1355515 材上固;t,形成上述雙折射性聚合㈣。上述加熱乾燥處 理條件卩40〜20(Γ(^度較佳。此種雙折射性聚合物膜之 厚度如0_1 l〇〇wm,而以〇5〜較佳,2〜1〇 更佳。 又上述雙折射性聚合物膜在形成後可再將其拉伸或收 縮。實施此種拉㈣收縮時,因發生面内折射率如、州 之差’能夠使上述雙折射層之光學特性由負單軸性改變成 上式(II)所示之負雙軸性。 實施上述拉伸或收縮處理時,處理前之雙折射性聚人 物膜之以下式表示之雙折射率(Δη)為00 二 〜0.2更佳,om最佳。 0 02 Δ n = nx- nz 於上式中’ nx與nz分別表示卜.+、 j衣不上述雙折射層在X軸與 二之折射率,而上述χ軸方向為在上述雙折射層面 =見最大折射率之軸方向’ζ軸則與上述X軸垂直之厚 上述拉伸處理可採用自由 伸、、豕"^ ^ 早輛拉伸、固定端單軸拉 拉柚笪夂猫+ 同時雙軸拉伸、斜向 光學拉ht 土— .·、、特別限制,可視所希望 學特性决疋。上述拉伸處理前 0,lnn 之又折射性聚合物膜厚度 〇‘1 〜100/zm,而以 0.5 〜50// 另一 士工上 孕乂佳,2〜10/zm更佳。 '方面,拉伸處理後之雙折射性 100" 二、 來合物膜厚度如0.05〜 "m,而以0.25〜50"111較佳,】 — 1〜1 〇 # m更佳。 又,貫施收縮處理時,可採用 改受基材尺寸使上述雙 23 1355515 折射性聚合物臈收縮之方法、或預先賦予收縮性於上述基 材等’例如可利用拉伸機等控制收縮率。收縮處理前之上 述聚合物膜厚度如0.1〜lOO^m,而以〇5〜5〇"m較佳, 2〜10// m更佳。收縮處理後之上述聚合物膜厚度如〇」〜 100/z m ’而以〇·5〜50# m較佳,2〜10" in更佳。 另一方面,上述非液晶性聚合物若為前述液晶性化合 物之聚合物等時,例如將含液晶性化合物之塗佈液在配向 膜表面塗佈形成塗佈膜,並將上述塗佈膜實施加熱處理使 上述液晶性化合物隨上述配向膜之配向方向而配向後,再 聚合上述液晶性化合物之結果,即形成雙折射性聚合物 膜。如此使用上述液晶性化合物時,由於表現液晶性而能 夠以液晶相狀態配向,同時再使上述液晶性化合物間聚合 等而能夠固定上述配向。再者,即使所使用化合物本身是 液晶性,但由於上述聚合固定,使所形成聚合物膜成為非 液晶性。於是所形成雙折射性聚合物膜呈現如液晶相之配 向構造’但並非由液晶分子構成,故不引起液晶分子特有 之因溫度改變而轉變為液晶相、玻璃相、結以目,且配向 構造不受溫度改變之影響,故安定性極為優異。 此種含液晶性化合物聚合物之上述聚合物膜,可例如 ㈣合物種類等而適當設定其光學特性。其 =尤其以使用王現向列層之棒狀液晶等液晶性化合物 I能夠製得展現上述式㈣光學特性之聚合物膜。
上述液晶性化合物由於力姓A A 於在#定溫度範圍表現液晶相, 故上述塗佈膜之加熱處理條件,最佳視所使用液晶性化合 24 1355515 物種類而適當決定。又,加敎處理接 加…、慝理後,為固定上述液晶性 化合物之配向狀態,亦可實施驟冷處理。 上述塗佈液令之液晶性化合物含量以溶劑⑽重量份 中為H)〜50重量份較佳,2〇〜3〇重量份更佳而溶劑可 使用與前述相同之先前習知溶劑。又,上述塗佈液可因庫 需要而進-步含有如前述之各種添加劑、聚合劑、; 等。 其次,將偏光照射在上述雙折射性聚合物膜之至少一 表面。依此能夠使上述聚合物膜僅改變其表面之配向方 向’使上述聚合物膜設計成内部與表面之配向彳向相異。 偏光改變配向方向之理由未明可推測照射偏光以 分解聚合物之結果能夠賦予異向性(參照例如Liquid
Crystals ; 26’ 575-580(1999))。具體說明如下:照射偏光 於上述聚合物膜表面時,在該偏光方向之上述聚合物膜構 成成分(即聚合物)會被選擇性分解。因此’上述偏光方向 之折射率僅在聚合物膜表面變小。亦即,上述偏光方向之 折射率僅在聚合物膜表面相對變小,而對上述偏光方向 。方向之折射率則相對變大,使折射率發生異向性。 上述偏光如表外線偏光’且以2〇〇〜400nm紫外線偏 光較佳。又,直線偏光、橢圓偏光較佳,紫外線直線偏光 更佳。 依上述製造方法可製得兼具相位差膜與配向膜雙方功 能之本發明之相位差膜。此種相位差膜可直接單獨當作相 位差膜使用,但亦可如前述當作配向膜使用。尤其由其性 25 1355515 質’當作兼具配向膜與相位差膜雙方功能之相位差膜,而 應用於製造含複數相位差膜之積層相位差膜。 其次,就本發明之積層相位差膜製造方法之一例說明 如下。已如前述,此製造方法之特徵為將上述本發明之相 位差膜只當作配向膜使用,至於其他構成並無特別限制。 亦即,本發明之積層相位差膜製造方法之特徵為準備上 述本發明之相位差膜,在此相位差膜之上述配向面塗佈含 液晶性化合物之塗佈液而形成塗佈膜後,再加熱處理上述 塗佈膜,使上述液晶性化合物隨上述配向面之配向方向而 配向以形成雙折射層。 於本發明,上述液晶性化合物只要隨配向膜配向方向 來配向,且所形成液晶層具有雙折射性則無特別限制,可 使用先前習知之各種液晶性化合物。具體例如表現向列相 之液晶性化合物、表現圓盤相之液晶性化合物、表現膽固 醇相之液晶性化合物等,且單體(液晶低分子化合物)或聚 合物(液晶高分子化合物)均可。 上述!k佈液除含上述液晶性化合物外,亦可含有如前 述之添加劑、交聯劑、聚合劑等。又,上述塗佈液之塗= 方法 '乾燥條件、力°熱處理等’亦如同前述依先前習知方 法進仃。又,如液晶性化合物為聚合性單體時,可依光聚 合或熱聚合進行聚合,以固定其配向。 尤其本發明者等已先行研發表現上述式(π)所示光學特 性,且使用後述之聚醯亞胺等聚合物之相位差膜當作VA 模式及OCB模式用光學補償膜(已另提專利申請:特願 26 1355515 造本發明之表面改質 ’可製得厚度更薄且 2002 - 〇 1 45 29) ’故如使用此種膜以製 相位差膜’再將此當作上述配向膜時 更良好之光學補償膜。 如此’在兼具配向膜之本發明之表面改質相位差膜上, 再形成隨相位差膜表面配向方向而配向之雙折射層之社 果,可製得上述表面改質相位差膜與上述雙折射層找向。 方向相異、即延遲轴方位相異之積層相位差膜。因此,將 本發明之表面改質相位差膜與上述雙折射層直接積層所得 本發明之積層相位差膜,其厚度薄且各層具有相異之配向 方向。又,由於能夠擴大改變設定光學特性,故在光學領 域為極有用之製造方法。 其次,本發明之光學膜之特徵為含有本發明之表面改 質相位差膜或積層相位差膜。此光學膜只要含有上述任— 種膜即可’其他構成或構造則無任何限制,如可再含有先 前習知之各種光學層。上述光學層無特別限制,可舉例如 偏光元件、各種相位差板、擴散控制膜、亮度提升膜、反 射板、半穿透反射板等使用於各種影像顯示裝置之先前習 知各種光學層。此等光學層可使用丨種或2種以上併用, 又亦可以1層使用或2層以上積層使用。 上述偏光元件可如僅為偏光元件,或如於上述偏光元 件之至少一表面積層透明保護層之偏光板。上述透明保護 :可積層於上述偏光元件之兩面或一面。又積層於兩面 時’使用相同種類透明保護層或不同種類透明保護層均 可。又,亦可將本發明之光學膜當作兼具透明保護層之薄 27 1355515 膜而積層於上述偏光元件表面。使用本發明之積層相位差 膜時,表面改質相位差膜或雙折射層之任一方可面向偏光 凡件而積層,但以上述雙折射層面向偏光元件積層較佳。 本發明之表面改質相位差膜或積層相位差膜與偏光元 件、及偏光元件與透明保護層之積層,可如藉先前習知接 著劑或黏著劑積層等以一般方法進行。又,上述積層相位 差膜與偏光元件可僅以上述接著劑接著…其他例如將
上述偏光元件當作基板,在上述偏光元件上直接形成本發 明之表面改質相位差膜亦可。 在則述偏光元件(偏光薄膜)方面並無特別限制,可使 用例如藉由習知方法使得埃或雙色性染料等雙色性物質吸 附在聚乙烯醇系薄膜等各種薄膜上做染色,然後進行交 聯、拉伸、乾燥所調製成者。當中,以若入射自然光則直 線偏光可穿透之薄膜為佳’在光穿透率與偏光度方面優異 者為佳。前述吸附雙色性物質之各種薄膜,可舉出例如聚 乙烯醇(PVA)系薄膜、部分甲縮醛化ρνΑ系薄膜、乙烯— 醋醆乙婦共聚物系部分矣化薄膜、纖維素系薄膜等之親水 性向分子膜等,其他尚可使用例如pvA之脫水處理物或聚 風乙婦之脫鹽酸處理物等之聚婦配向膜等。該等當中較佳 者:PVA系薄臈…偏光薄膜之厚度通常在丨,“ 之範圍,惟並非限定於此。 在前述保護層方面並無特別限定,可使用以往習知之 透明薄膜,以例如透明把 . 透明性機械強度、熱安定性、水分阻 絕性、等向性等優里I或 者為佳。此種透明保護層之材質之具 28 丄 丄:) 版例可舉出例如三乙酿纖維素等纖維素系樹脂、聚醋系、 聚碳酸酷系 '聚酿胺系、聚酶亞胺系、聚驗碾系、聚楓系、 聚笨乙稀系、聚降冰片烯系、聚稀烴系、丙稀酸系、乙酸 Μ等之透明樹脂。又’尚可舉出前述丙稀酸系、胺酷系、 丙烯酸胺醋系、環氧系、石夕綱系等之熱硬化型樹脂或紫外 線硬化型樹脂等。t中’基於偏光特性與耐久性之觀點, 以表面經過鹼等做皂化處理之TAC薄膜為佳。 又,在前述保護層方面,可舉出特開2001_343529號 :報(WOO 1/37007)所!己載之聚合物薄帛。做為此聚合物材 料,可使用之樹脂組成物為例如含有側鏈具有取代或非取 代之醯亞胺基之熱塑性樹脂與側鏈具有取代或非取代之苯 基與硝基之熱塑性樹脂而成者,例如可舉出樹脂組成物中 含有由異丁烯與N 一甲撐馬來醯亞胺所構成之交互共聚物 以及丙烯醯腈一笨乙烯共聚物。又,前述聚合物薄膜亦可 為例如前述樹脂組成物之撟壓成形物。 又’前述保護層以無著色者為佳。具體而言,以下述 式所表示之薄膜厚度方向之相位差值(Rth)以_9〇nm〜+75nm 之範圍為佳’更佳為-80nm〜+60nm,特佳為_7〇nm〜+45nm 之範圍。只要相位差值位於-90nm〜+75nm之範圍,即可充 分消除因保護薄膜所引起之偏光板之著色(光學性著色)。 又,於下述式申,nx、ny與nz係與前述相同,d係表示膜 厚。
Rth = [{(nx+ny)/2}-nz] · d 又’前述透明保護層亦可進一步具有光學補償功能。 29 1355515 此種具有光學補償功能之透明保護 液曰+ & + I , μ 』便用例如以基於 ㈣件之相位差之目視角變化為原因之著色等之防止、 良好目視之視角的擴大等之目的之眾知之物。具體… Z舉出例如將前述透明樹脂做單轴拉伸或雙軸拉伸之: 液:::物Γ聚合物等之配向薄模、於透明基材上配置 Γ視之寬廣視角的觀點前述液晶聚合物之配向薄; :佳,尤其是將圓盤系或向列系之液晶聚合物之傾斜配向 層所構成之光學補償層以前述三乙醯纖維素薄膜等所支 之光學補償相位差板為佳。此種光學補償相位差板,可舉 =例如富士相片股份有限公司製造「wv薄膜」等之㈣ 品。又,前述光學補償相位差板亦可將前述相位差薄膜或 三乙醯纖維素薄膜等之薄膜支持體做2層以上積層來控制 相位差等之光學特性。 前述透明保護層之厚度並無特別限制,可依據相位差 或保護強度等來適宜決定,通以500 //m w下,較佳為 5〜30〇vm,更佳為5〜15〇//111之範圍。 前述透明保護層亦可藉由例如在偏光薄膜塗佈前述各 種透明樹脂之方法、於前述偏光薄膜積層前述透明樹脂製 薄膜或前述光學補償相位差板等之方法等以往眾知之方法 來適宜形成’亦可使用市售品。 又,前述透明保護層可進—步施以例如硬膜處理、反 射防止處理、基於黏附防止或擴散、抗眩等之目的之處理。 前面所說之硬膜處理,係基於防止偏光板表面之刮傷的目 30 1355515 的,而例如在透明保護層之表面形成由硬化型樹脂所構成 之具優異硬度、平滑性之硬化被膜之處理。在硬化型樹脂 方面’可使用例如矽酮系、胺酯系、丙烯酸系、環氧系等 之紫外線硬彳t型樹脂等’前料理可藉_往眾知之方法 來進行。黏附防止,係基於防止與鄰接之層出現密合之目 的。前面所說之反射防止處理係基於防止來自外部之光線 在偏光板表面反射之㈣,可藉由以往眾知之反射防止層 等的形成來進行。 如面所說之&眩處自,係基於防止外部光線於偏光板 表面反射造成偏光板穿透光之目視受阻等之㈣,而以例 如以往眾知之方法’在透明保護層之表面形成微細凹凸構 造來進行。此種凹凸構造之形成方法,可舉出例如喷砂法 或壓花加工等之粗面化方式、於前述般透明樹脂中配合透 明微粒子來形成透明保護層之方式等。 可舉出例如二氧化矽、氧化鋁 在透明微粒子方面 氧化鈦、氧化鍅、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等, 除此以外尚可使用具有導電性之無機系微粒子、由交聯過 或未交聯之聚合物粒狀物等所構成之有機系微粒子等。透 明微粒子之平均粒徑並無特別限制,可舉出例# 〜心 m之範圍。又’透明微粒子之配合比例並無特別限定,一 般相對於透明樹脂100重量份以2〜7〇重 更佳為5〜50重量份之範圍。 量份之範圍為佳 做為透明保護層 塗佈層來形成。 配合有前述透明微粒子之抗眩層,可 本身來使用,亦可於透明保護層表面做為 31 再者,前述抗眩層亦可兼做用以擴散偏光板穿透光來放大 視角之擴散層(視覺補償功能等)。 *又,前述反射防止層、黏附防止層、擴散層、抗眩層 等亦可與刖述透明保護層個別例如以由設置該等層體之片 材所構成之光學層的形式積層於偏光元件上。 前述構成物之積層並無特別限定,能以以往眾知的方 去來進仃’所使用之黏著劑或接著劑的種類可依據前述各 構成物之材質等來適宜決定。在前述接著劑方面可舉出例
士丙稀酸系、乙稀醇系、石夕酌系、聚醋系、聚胺西旨系、聚 =系等之聚合物製接著劑、橡膠系接著劑等。又,由戊二 私、三聚氰胺、草酸等之乙燁醇系聚合物水溶性交聯劑等 所構成之接著劑等亦可使用。如前述之接著劑或黏著劑, 2受濕度或熱之影響亦不易剝離,其透光度及偏光度亦優 =。具體而言,當偏光元件為PVA系薄膜之情況,從接著 处理之安^性等之觀點來看,以pvA系接著劑為佳。該等 接者劑與黏著劑可直接塗佈於偏光元件與透明保護層之表 面’亦可將接著劑或黏著劑所構成之膠帶或片材等之層配 :於前述表面…以水溶液的方式來調製的情況,‘依 :二配合其他之添加劑、酸等之觸媒。又,於塗佈前述接 ^的情況’可於接著劑水溶液中進—步 劑、酸等之網樹 L 他添加 之觸媒◊此種接著層之厚度並無特別限定,例如 ·' lnm〜5〇〇nm、較佳為1—〜300nm、更佳為 20nm〜1〇〇nm。 並無特別限制,可採用以往眾知之 乙烯醇李平人t ^ 外夂乐祆合物或 知糸I物寺之接著劑之方法。又,由能夠形成雖受 32 1355515 濕度或熱之影響亦不易剝離且透光度及偏光度亦優異之偏 光元件之觀點,以含有戊二醛、三聚氰胺、草酸等PVA系 聚合物水溶性橋聯劑之接著劑更好。此等接著劑可依塗布 其水溶液於上述構成物表面後乾燥等方法使用。上述水溶 液亦可視需要配合其他添加劑或酸等觸媒。在此等上述接 著劑中,因與PVA膜之接著性優良,而以pVA系接著劑 較好。 又關於上述相位差板,可舉例如將聚合物膜單軸拉伸 或雙軸拉伸者、實施Z軸配向處理者、及液晶性高分子塗 佈膜等。上述擴散控制膜可舉如利用擴散、散射、折射之 膜,此等可使用於控制視野角、控制與解析度有關之閃光 或散射光等。上述亮度提升膜可使用如利用膽固醇液晶之 選擇性反射與1/4波長板(又/4板)之亮度提升膜,或利用 因偏光方向引起異向性散射之散射膜等。又,上述光學膜 可含如線柵型偏光元件。 其次,關於本發明之光學臈例,再就含有反射板之反 射型偏光板及含有半穿透反射板之半穿透反射型偏光板分 別說明。 反射型偏光板通常係配置於液晶元件之裏側,可使用 於將來自目視側(顯示側)之入射光反射而進行顯示之類型 的液晶顯示裝置(反射型液晶顯示裝置)等。此種反射型偏 光板由於可省略背光等之内藏光源,所以可謀求液晶顯示 裝置之薄型化,此為其優點所在。 月1J述反射型偏光板可藉由例如在本發明之表面改質相 33 1355515 位差膜或積層相位差膜之單面形成由金屬等所構成之反射 板等以往眾知之方法來製作。具體而言,例如可舉出對前 述偏光板之透明保護層的單面(露出面)依所需施行消光處 理,然後於該面形成鋁等之反射性金屬所構成之金屬箔或 秦鍍膜做為反射板而成之反射型偏光板等。 又,亦可舉出使得前述各種透明樹脂含有微粒子將表 面做成微細凹凸構造之透明保護層,然後於該透明保護層 上形成可反映該微細凹凸構造之反射板所成之反射型偏光 板等。表面為微細凹凸構造之反射板,可使得入射光不規 貝j反射而擴放,可防止定向性或炫目之外觀,可抑制明暗 不均’此為優點所在。此種反射板可例如在前述透明保護 層之凹凸表面以真空蒸鍍方式、離子植入方式、濺鍍方式 等之蒸鍍方式或鍍敷方式等習知方式直接以金屬箔或金屬 蒸鍍膜的形式來形成。 又’亦可取代前述於偏光板之透明保護層直接形成反 射板之方式,改為使用在前述透明保護薄膜般適當的薄膜 設置反射層而成之反射片等來做為反射板。反射板之反射 層通《係由金屬所構成,所以基於例如防止氧化所造成之 反射率的下降、或是為了長期維持初期反射率、或是避免 另外形成透明保護層等觀點,其使用形態,以反射層之反 射面以則述薄膜或偏光板等來被覆之狀態為佳。 另一方面,前述半穿透型偏光板,係反射型偏光板中 之反射板改為半穿透型反射板者。在半穿透型反射板方 面可舉出例如以反射層來反射光、且讓光穿透之半透鏡 34 1355515 等。 半穿透型偏光板,通常係設於液晶元件之裏側,可使 用在下述類型之液晶顯示裝置等中H當液晶顯示裝 置等在較為明亮之環境下使用時’係將來自目視側(顯示側) 之入射光加以反射並顯示影像,在相對陰暗之環境下則是 使用半穿透型偏光板之背光側所内藏之背光光源等内藏光 源來顯示影像。亦即,半穿透型偏光板對於在明亮環境下 可節省背光光源之使用能量、而在相對陰暗之環境下則可 使用該内藏光源之類型的液晶顯示裝置等之形成上係有用 的。 其次,針對在本發明之光學膜進一步積層亮度提昇薄 膜所得之薄膜做說明。 在壳度提昇膜方面並無特別限定,可使用例如電介質 之多層薄膜或是折射率異向性不同之薄膜的多層積層體此 等可讓既定偏光軸之直線偏光穿透但將其他的光予以反射 者。此種亮度提昇膜可舉出例如3M公司製造之商品名 「D-BEF」等。又,亦可使用膽固醇液晶層(特別是膽固醇 液晶聚合物之配向薄膜)、或是配向液晶層支持於薄膜基材 上之物。該等係將左右一者的圓偏光加以反射、而使得其 他光穿透之物,可舉出例如曰東電工公司製造之商品名 「PCF350」、Merck公司製造之商品名「Transmax」等。 本發明之光學膜,基於可易於與液晶元件等其他構件 做積層,以進一步在最外層具有黏著劑層或接著劑層為 佳,該等層可配置於最外層之單面或雙面。在黏著層之材 35 1355515 料方面並無特別限定,可使用丙稀酸系聚合物等以往眾 决=材料,特別是基於可形成可防止吸濕所造成之發泡、 剝離’熱膨脹差所造成之光學特性之降低,液晶元件之彎 曲等而可成為高品質、耐久性優異之液晶顯示裝置的 點,以例如吸濕率低且耐熱性優異之黏著層為佳。又亦 可為含有微粒子而展現光擴散性之黏著層等: 最夕—卜層形成點著劑層之方式,可藉由例如將各種點著= 之冷液或炫融液以流延或塗佈等展開方式直接添加 膜之露出面來形成芦之方六.弋β 千 上…。 樣地在後述之間隔物 元成黏者劑層,將其移往前述露出面之方式來進行。又, 此種層體亦可形成於光學膜之任一表面。 當設於光學膜之黏著劑層等表面露出之情況下, 2者層供實用之前,基於防止污染之 做遮覆乃為所希望者’藉…仏物來 印主有此間隔物可藉由在透明保護薄膜算 :適當的薄膜上依必要性設置彻、、長鍵院系、敦系 “匕鉬寺之剝離劑所成之剝離塗層之方法來形成。 =黏著劑層等可為單層體或積層體。上述積層體可 用.、且。不同組成或不同種類單層之積層體…在光學 成:兩面設置黏著劑層時’分別為相同勒著劑層或不同組 战或不同種類之黏著劑層均可。 上述黏著劑層厚度可視光學膜構成等而適當決定,一 1 〜500nm 〇 形成上述黏著劑層之黏著劑,以如光學透明性優異, 表現適當濕濁性、凝集性及接著性之黏著特性之黏著劑 36 1355515 ’石夕鋼系聚合物,及以聚 之聚合物當作適當基礎聚 性,可依形成上述黏著劑 、交聯方式、交聯性官能 例等’適當調整其交聯度 車父好。具體例如丙烯酸系聚合物 酯、聚胺酯、聚醚、合成橡膠等 合物所調製之黏著劑等。 控制上述黏著劑層之黏著特 層之基礎聚合物之組成、分子量 基之含有比例、交聯劑之配合比 或< 分子量等先前習知方法進行。 p又,上述本發明光學膜以及構成光學膜之各種構件亦 :為以例如水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并 三唑系化合物、丙烯酸氰酯系化合物、鎳錯合物鹽系化合 物等之1外線吸收劑做處理等適宜的方式來賦予紫外線吸 收能力之物。 本發明之光學膜以使用於影像顯示裝置、尤其是液晶 顯示裝置為佳,例如可將本發明之光學膜配置於液晶元件 之單側或兩側作成液晶面板,而使用於反射型或半穿透 型、或是穿透一反射兩用型之液晶顯示裝置。 形成液晶顯示裝置之液晶元件之種類可任意選擇,可 使用例如以薄膜電晶體型為代表之主動陣列驅動型者;以 扭轉向列型或超級扭轉向列型為代表之單純陣列驅動型者 4各種類型的液晶元件。具體而言,可適用於例如 STN(Super Twisted Nematic)元件、TN(Twisted Nematic)元 件、IPS(In-Plane Switching)元件、VA(Vertical Aligned)元 件、OCB(Optically Aligned Birefringence)元件、HAN(Hybrid Aligned Nematic)元件、ASAM(Axially Symmetric Aligned 37 1355515 LC242、BASF公司製)2〇重量%、光起始劑(商品名益加求 907 '千葉特殊化學公司製)丨重量%、及甲笨79重量%之 液晶溶液》其次’將TAC膜基材(長200m、寬350mm、厚 80 a m ;富士照相軟片公司製)表面實施摩擦處理後,此表 面以旋轉塗佈法塗佈上述液晶溶液,並於9(TC乾燥3分鐘, 形成塗佈膜。此塗佈膜用高壓水銀燈照射8〇〇mj/cm2(波長 3 6511111)之1_['\^光’使液晶材料硬化形成硬化膜。又,液晶 化合物在基材上配向後’由於直接以此狀態照射uv光進 行聚合,故所得硬化膜為非液晶性。此硬化膜為表現單軸 配向光學特性「nx > ny = nz」之單軸性聚合物膜 A-plate)。又,如將上述基材與硬化膜之積層體在面内旋轉 360 °情形下’於正交偏光下用偏光顯微鏡觀察時確認如 上述硬化膜之配向軸方向與偏光板之偏光軸一致時(每隔 90°、共4處)即呈現黑色顯示。 其次’使用上述偏光uv光曝光裝置,以偏光uv光(波 長3 1〇nm)在上述TAC膜上單軸性聚合物膜表面照射丄小 時。又上述偏光UV光係對上述單軸性聚合物膜拉伸方向 之45。方向照射。依此製作表面改質聚合物膜(表面改質相 位差膜)。又關於此表面改質相位差膜之相位延遲軸,確镡 以偏光UV光照射前後沒有改變,故已確認上述表面改質 相位差膜單軸性之光學特性不因照射偏光uv光而發生任 何改變。 其次,就上述表面改質相位差膜調查其配向之改變, 與上述實施例1相同,在其表面形成液晶層而製作光學2。 42

Claims (1)

1355515 100年8月日替換頁 十、申請專利範圍: 1 · 一種相位差膜’係具有雙折射性,其特徵為: 含有非液晶性聚合物’且該非液晶性聚合物呈配向狀 態,在該相位差膜之至少一表面之該非液晶性聚合物之配 向與該相位差膜内部之該非液晶性聚合物之配向相異,且 配向與該内部配向相異之該表面具有配向面之功能, 該非液晶性聚合物含有擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、 聚醚酮 '聚芳基醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺所構成 群中至少1種聚合物、或為液晶性化合物之聚合物。 2 ·如申請專利範圍帛i項之相位差膜,其具有配向膜 之功能。 3.如”專利範圍第i & 2項之相位差膜,其呈現下 述式(I)〜(III)中之任一光學特性: nx= ny > nz .....⑴ nx > ny > nz .....⑴) nx> ny= nz .....(m) 於。亥式⑴〜(hi)中,nx ' ny、nz /分別表示該相位差膜 在x轴、Y軸、z軸方向之折射率;該X軸方向為在該相 ^膜面内呈現最大折射率之轴方向,Y轴方向為在該面内 jX軸呈垂直之轴方向,z轴方向為與該X軸及y袖呈 垂直之厚度方向。 r 目位差叙製造枝,其特“,包含下述製 雙折射性聚合物膜之至少一表面照射偏光,僅使 合物膜之照射偏光之表面改變配向方向來形成配向 45 1355515 100年8月曰替換頁 面 該聚合物膜為含非液晶性聚合物之膜, 該非液晶性聚合物含有擇自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、 聚醚酮、聚芳基醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺所構成 群中至少1種聚合物。 5. 如申請專利範圍第4項之相位差膜之製造方法,其 中’偏光為直線偏光。 中 6. 如申請專利範圍第4項之相位差膜之製造方法,其 偏光為紫外線偏光。 中 7·如申請專利範圍第6項之相位差膜之製造方法,其 偏光為200〜4〇〇nm紫外線偏光。 8.如申請專利範圍第4項之相位差膜之製造方法,宜 進-步包含下述製程:將含非液晶性聚合物之塗佈液塗佈 於基材表面以製造該雙折射性聚合物膜。 9·如申請專利範圍第8項之相位差膜之製造方法 字於該製程中所製得之雙折射性聚合物膜進一步做戈 收縮。 τ 4 .如中請專利範圍第9項之相位差膜之製造方法, :拉伸則或收縮前之該雙折射性聚合物膜,以下式表 不之雙折射率(Δη)為〇.〇1以上· 式表 Δ η = ηχ — ηζ 於上式中,nx與ηζ八¢, * ^ 轴方向之折射率,今X1刀別表示該雙折射層在X轴與Z 大折射率之勒方/ 向為在該雙折射層㈣呈現最 ° ,Z軸係與該乂軸呈垂直之厚度方向。 46 1355515 100年8月(V曰替換頁 11 · 一種相位差膜之製造方法,係用以製造相位 其包含以下步驟: 對於雙折射性聚合物膜之至少一表面照射偏光,僅使 該聚合物膜之照射偏光之表面改變配向方向來形成配向 面, 其中,該聚合物膜為含非液晶性聚合物之膜, 該非液晶性聚合物為含有液晶性化合物之聚合物者。 1 2 .如申請專利範圍第丨i項之相位差膜之製造方法, 其進一步包含下述製程:將含該液晶性化合物之塗佈液塗 佈於配向臈表面形成塗佈膜後,將該塗佈膜實施加熱處理 使該液晶性化合物依據該配向膜之配向方向做配向後,再 聚合該液晶性化合物以製造該雙折射性聚合物膜。 13. 如申請專利範圍第n項之相位差膜之製造方法,其 中,偏光為直線偏光。 14. 如申請專利範圍第u項之相位差膜之製造方法,其 中,偏光為紫外線偏光。 15. 如申請專利範圍第14項之相位差膜之製造方法,其 中’偏光為200〜4〇〇nm之紫外線偏光。 16. -種相位差膜,其特徵為:依申請專利範圍第* 〜I5項中任一項之製造方法所製造者。 17. 如申請專利範圍第16項之相位差冑,其具有配向 膜之功能。 18. -種積層相位差膜之製造方法,係積層配向方向 相異之2層以上雙折射層來製造積層相位差膜;其特徵為: 47 1355515 100年8月日替換頁 準備申請專利範圍第1〜3、16、17項中任4=7^·相位差膜: 在此相位差膜之該配向面塗佈含液晶化合物之塗佈液而形 成塗佈膜後,對該塗佈膜施行加熱處理,使該液晶性化合 物依據該配向面之配向方向做配向來形成雙折射芦。 19 . 一種積層相位差膜’其特徵為:依申請專利範圍 第18項之積層相位差膜之製造方法所製造者。 2 0 . —種光學膜,其特徵為:含有申請專利範圍第1 〜3、16、17項中任一項之相位差膜或申請專利範圍第19 項之積層相位差膜。 21 .如申請專利範圍第20項之光學膜,係進—步包含 偏光元件。 22. -種影像顯Μ置’其特徵為:包含巾請專利範 圍第20或21項之光學膜。 23 .如申請專利範圍第22項之影像顯示裝置,其中, 該影像顯示裝置為液晶顯示裝置。 〃 24·如申請專利範圍第23項之影像顯示裝置, 該影像顯示裝置為擇自電致發光(EL)顯示裝置、有機電致發 光(EL)顯示器、電漿顯示器㈣、及FM)(電場發㈣_ ^ 所構成群中至少1種自發光Γ顯示 裝置。 十一、圖式:
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