TW200305245A - Substrate support - Google Patents

Description

200305245 捌、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明的實施例大致關係於一基材支持件。 【先前技術】

薄膜電晶體（TFT)傳統上係作於大型玻璃基材或板 上，以用於監視器、平面顯示器、太陽電池、個人數位助 理（PDA)、大哥大等等。TFT係藉由依序沉積各種薄膜， 包含非晶矽、摻雜及未摻雜氧化矽、氮化矽等在多數真空 處理室之集合式工具中完成，諸真空室係典型安排於一中 心傳送室之旁。該集合式工具典型連接至一工廠界面，其 包含多數基材儲存卡匣，該卡匣在處理前及後固持諸基 材。一真空隔絕室大致安排於工廠界面與集合式工具之 間，以促成於集合式工具之真空環境及工廠界面之大氣環 境間之基材傳遞。

用於真空隔絕室中之作為顯示器用之玻璃基材的定位 相較於較小之200mm甚至300mm圓基材係較困難的。例 如，因為玻璃基材經常具有超出5 5 Ommx 65 0mm的尺寸， 並傾向於朝向1 ·2平方米及更大，所以，於位置上之小偏 移將造成重大之基材失準。一失準基材具有很高的損壞或 然率，造成基材成本上之損失❶再者，一失準基材必須由 真空隔絕室所手動移開，因而需要很多之生產時間成本， 因而，降低了基材生產量。 典型地’基材放置的正確性係由一安排於工廠界面中 3 200305245 之機械手 真空隔絕 在提供工 用者所供 該真空隔 對於真空 元件（即包 本同時增 因此 放置於其 【發明内 用以 大致被提 含一支持 一推擠件 轉時，擠 於另 推擠件， 軸，垂直 推擠於第 相反於第 該基材於 材於相反 臂所控制，該機械手臂係用以移動基材於卡匣與 室之間。然而，很多集合式工具的末端使用者現 廠界面與安排於其中之機械手臂。因此，若由使 給機械手臂的基材放置的正確性及重覆性並不在 絕室的設計規格内，將會造成基材的損壞。因此， 隔絕室，吾人想要更配合於基材放置，使得工具 ^用者提供工廠界面）可以被使用，以降低系統成 加設計之彈性。 ’有需要一真空隔絕室及基材支持件，其能校正 上之基材的定向與位置。 容】 支持一基材放置於一基材支持件上之方法與設備 供。於一實施例中，一用以支持一基材的設備包 板，具有一第一主體安排於接近該支持板。一第 係徑向地連接至第一主體並適用以當第一主體旋 壓基材於平行於該支持板的第一方向。 -實施例+，一用以支持一基材的裝置包含多數 每一推擠件均具有一第一旋轉軸與一第二旋轉 於該第一旋轉軸。一第一推擠件係適用以將基材 一方向，一第二推擠件係適用以將基材推擠於一 一方向的第二方向，一第三推擠件係適用以推擠 一第三方向，及一第四推擠件係適用以推擠該基 於第三方向的第四方向。 200305245 於另一態樣中，一真空隔絕室具有一支持一基材的基 材支持件。於一實施例中，該真空隔絕室包含一室體，該 室體具有一基材支持板安排於其中。一第一主體安排成接 近該支持板。一第一推擠件係徑向地連接至第一主體，並 適用以當第一主體旋轉時，推擠基材於平行於支持板的第 一方向。 於另一態樣中，提供有用以對準一基材的方法。於一 實施例中，一種用以對準一基材於一基材支持件上之方法包3將基材放置於一支持件上，將一冷卻板升高朝向該 支持件，卩引動-對準機構，及反應於該引動，而移動該 準機構的帛-推擠件向支持板的中心、，以將基材推擠 於第一方向。

π乃一 耳苑例中 種用以將一基材對準於 持件上的方法包含將一基从 將基材放置於一支持件上，旋轉 一推擠件以將基材推樁於— ； 第一方向，旋轉一第二推擠 以將該基材推擠於不同於筮 J心第一方向的第二方向中。 因此，本發明的上沭驻1 之特生係可以加以參考其例示於附圖 之實施例及總括如上之土 < +發明的詳細說明加以取得及 解。然而，應注意的是，附 圖，、例示本發明之典型實施例 因此，並不應被認為异太 马疋本發明的範圍限制，因為本發明 以適用於其他等效實施例。

【實施方式】 為了容易了解 相同參考數係儘可能地用以指定所有 5 200305245 圖中之相同元件。 本發明大致提供一基材支持件，具有一對準機構，其 將一安置於其上之基材對準或對中一預定位置。本發明係 例示描述用於一雙基材真空隔絕室，例如由美國加州聖塔 卡拉之應用材料公司的一分部之AKT所購得者。然而， 可以了解的是，本發明也可以用於其他架構中，例如，單 一基材真空隔絕室、多數基材真空隔絕室、無機械手臂平 台、緩衝站及其他用以支持一基材的裝置，其中想要基材 的位置正確性者。 第1圖為一處理系統1 5 0的一實施例的剖面圖。處理 室150典型包含一傳送室108，其係為一真空隔絕室1〇〇 所連接至一工廠界面112，該真空隔絕室具有至少一基材 對準機構162 ^該傳送室108具有至少一真空機械手臂 134，安排於其中，其係適用以傳送諸基材於多數周圍處 理室132與真空隔絕室100之間。於一實施例中，處理室 132之一為一預熱室，其在處理前熱調整基材，以加強系 統1 5 0的產量。典型地，傳邊室1 0 8係被維持於一真空條 件，以免除在每一基材傳送後，調整於傳送室1 〇 8與個別 處理室1 3 2間之壓力的必要性。 工廠界面112大致包含多數基材儲存卡匣138與一大 氣機械手臂136。該等卡匣138大致被可移除地安排於形 成工廠界面112 —側上之多數停放格140之中。大氣機械 手臂136係適用以傳送基材1〇6於卡匣138與真空隔絕室 100之間。典型地，工廠界面112被維持於大氣壓或略高 200305245 於大氣壓。 第2圖為真空隔絕室1〇〇的一實施例之剖面圖。該真 空隔絕室100包含一主體，具有壁面1〇4A、1〇4B、底部 206及頂部2〇8,以界定一可密封内部容積11〇〇該真空 隔絕室100係典型經由一安排於壁1〇4Α中之埠114，而 連接至工廠界面II2。一狹縫閥116選擇地密封該埠 Π4,以隔離開真空隔離室1〇〇與工廠界面ιΐ2之内部容 積110的氣氛。狹縫闕116可以打開以允許一基材1〇6通 過於工廠界面U2與真空隔絕室100間之埠114。 真空隔絕室1〇〇典型經由一安排於壁1〇4Β中之埠 118 ’而連接至傳送室108。一狹縫闕120選擇地密封埠 1 1 8 ’以選擇地隔離開真空隔絕室1 0 0與傳送室1 0 8之内 4谷積100之氣氛。狭縫閥12〇可以打開以允許基材ι〇6 X傳送於傳送室108與真空隔絕室1〇〇之間。可以適用於 發月之狹縫閥之例子係描述於由Freerks所公告於1996 午 | — 二月3曰之美國專利第5，579，718號與Tepman等 人所公告於2000年四月4自之美國專利第6，045，620 號中’該兩案係加入作為參考。 室主體102另包含至少一埠，安排穿於其中，以促成 於内部容積1 1 〇中之壓力。於第1圖中所繪之實施例中， 至主體102包含一排氣埠122與一真空埠124，形成穿過 室主趙102。閥126、128係分別連接至排氣埠122及真 空蟀124，以選擇地防止流經其間。真空璋122係連接至 真空蟑130，其係選擇地降低於内部容積内之壓力至一實 200305245 質匹配傳送室108壓力的位準。當於傳 絕室100間之壓力實質相等時，狹縫間 允許已處理基材被真空機械手臂124所 100及予以處理之基材被真空機械手臂 室 108。 在將基材由傳送室108送回於真空 縫閥1 2 0被閉合及閥1 2 6被打開，藉以 隔絕室100及升高於内部容積11〇中之 由排氣埠122進入内部容積11〇中之空 化基材的可能微粒污染。一旦在真空隔 實質等於工廠界面112的壓力時，狹縫昆 允許大氣機械手臂136傳送基材於真空 至工廠界面112的基材儲存卡lag之 為了最小化為大氣機械手臂136所 性，一安排於真空隔絕室1〇〇中並適用 1 3 6接收基材之支持板！ 6 〇係被裝設 162，其將基材1〇6相對於支1持板16〇 準設備162可以校正於基材1〇6之沉積 對於支持板1 6 0之預定（即設計）位置間 該沉積位置係為基材106為大氣機械手 置。一旦為對準設備1 62所對準的基材 絕室1 00内，而無關於傳統利用大氣機 方法時，以調整基材放査時，允許更大 統成本。例如，具有對準設備1 62的支 送室108與真空隔 120可以打開，以 傳送至真空隔絕室 124所傳送至傳送 隔絕室100後，狹 允許空氣進入真空 壓力。典型地，經 氣被過濾，以最小 絕室100中之壓力 5 1 1 6打開，因此， 隔絕室1 0 0與連接 間。 需之精確度與正確 以由大氣機械手臂 有至少一對準設備 作定位。例如，對 位置與基材1 〇 6相 之位置不正確性， 臂1 3 6所放置的位 106位置在真空隔 械手臂136之校正 之彈性與更低之系 持板1 6 0提供於真 200305245 空隔絕室100 性，因為真空 有更大之容許 提供者所產生 因為大氣機械 以利用較低成 示於第2 排於一第二基 而’本發明的 機構，其可用 份或所有包含 構。 第一支持 別固持基材呈 了為大氣及真 型地，第一支^ 而第二支持器 支持板160痛 可以由第2及 室底部206。 基材放置於第 以允許冷卻板 第二支持 室底部206之 與使用者供給工廠界面112間之較大相容 隔絕室1 0 0係對在支持板1 6 0上之基材位置 度，因而降低更大精確度及/或為工廠界面 之校正機械手臂活動演繹法的需求。再者， 手臂1 3 6之位置正確性規則被免除，所以可 本之機械手臂。 圖中之第一支持板160具有對準機構162安 材支持器202上，呈一雙基材固持架構。然 實施例包含至少一基材支持板，具有一對準 可不用於多數其他支持板上，諸支持板的部 一對準機構或者沒有支持板包含有一對準機 板160及第二支持器202係大致被架構以個 一平行堆放架構在真空隔絕室1〇〇内，並在 空機械手臂136、134所取用之位置上。典 字板160被用以固持進入傳送室ι〇6的基材， 被用以固持回到工廠界面U2的基材。第— ^連接至室主體102,典型連接至底部206。 3圖看出，支座204連接第一支持板16〇至 支座204係大致呈分隔關係排列，以促成一 二支持器202上。支座204另分開足夠寬， 2 1 4移動於其間。 器202大致固持一基材於第一支持板16〇及 間。第二支持器202可以為一由支座2〇4或 200305245 其他構件所支持之板。於繪於第2及3圖之實施例中，第 支持器202包含多數基材支持支柱230連接至室底部 206，每一支柱230具有一遠端232界定一大致平坦之基 材支持面。支柱23 0大致被安排以於基材傳送時，不干擾 機械手臂134、136。

基材的熱控制可以另外被實施於真空隔絕室丨〇〇之 内。例如，室主體102的頂部208可以包含一窗口 210, 具有一輻射加熱器212’安裝在其上。加熱器212經由窗 口 2 1 0照射該基材，以加熱安排於第一支持板1 6 〇上之基 材。一冷卻板214可以另外安置於第一支持板ι6〇及室主 體102的底部206之間。冷卻板214包含多數孔徑228形 成於其中，以允許多數支柱230予以安排通過該冷卻板 2 1 4。典型地，冷卻板2 1 4係連接至安排於真空隔絕室1 〇 〇 外之抬舉機構216。該抬舉機構216可以被作動以移動冷 卻板214沿著諸支柱230移動。抬舉機構216移動冷卻板 214以接近扣持在該第二支持器202之遠端232上之基 材，藉以在為大氣機械手臂齒持前冷卻該基材。或者，冷 卻板2 1 4可以抬舉該基材離開第二支持器202，以最大化 熱傳遞。典型地，冷卻板2 14係為一動態密封件，例如一 風箱218所連接至室主體1〇2的底部206。於一實施例中， 冷卻板214包含一或多數導管220’經由一軸224連接至 熱傳遞流體源222，該轴224連接冷卻板214與抬舉機構 216。來自流體源222的流體流經導管220，以移除由基 材所傳遞的熱至第二支持器202。 10 200305245 第 圖。第 用將基 持元件 之刀葉 間。或 中，以 可以另 不會刮 珠或空 302係 202的 材的可 第 準機構 體102 材被放 言，第 一座標 基材沿 預定位 於 306係 側，而 3圖描％第一支持板 一 Φ姓』 丹弟一叉待器202的等角 支持板1 60大致包含多 材維捭盔4 數支持70件302，其係適 3〇2的高度係大致相隔關係。支 破架構以允許機械手臂136、134 Π置於支持元件3〇2上之基材與支持板⑽之 提二：可以形成於支持元件302間之支持板16〇 介誶萁、手臂136、134之刀葉空間。支持元件302 夺基材平行移動至第一支持板16〇的不平面，而 傷或損及基材。支持元件302可以為低磨擦墊、滾 氣軸承等等。於第3圖所示之實施例中，支持元件 為塑膠墊’例如由含氟聚合物所製作。第二支持器 遠端232也可以包含支持元件3G2，以最小化對基 能傷害。 一支持板160典型為多數對準機構162所包圍。對 162可以被連接至第一支持板ι6〇或者連接至室主 的一部份。對準機構162係適用以合作地確定一基 置於相對第一支持板.丨6〇的一預定位置。一般而 一對對準機構係被架構以將一在其間之基材沿著第 軸對準’而第二對對準機構係被架構以將在其間之 著一第二座標轴對準，藉以合作地移動基材進入一 置°典型地，第一座標軸係垂直朝向於第二座標軸。 第3圖所繪之實施例中，第一對之對準機構3〇4、 安排於第一支持板160之第一角落350之鄰近兩 第二對之對準機構308、310係安排於對角之第二 200305245 角落3 52的鄰近兩側。每一相對之對準機構（即3〇6、3〇8 與304、31〇)之相對對準機構162係適用以移動基材於一 相反方向，藉以將基材對中於其間。#者，因為對準機構 典型被連接成偏移開支持板！ 6〇的中點，所以當對準機構 162移動基材至一相對於支持板16〇的預定位置時，該基 材的傾斜可以被校正。或者，對準機構162可以沿著支持 板160的每一側定位（即不在第一支持板16〇的角落）。或 者，本發明想到沿著支持板丨6 〇的一側使用單一對準機構 1 62，以配合傳統對準裝置，以對準基材。 於第3圖所描緣之實施例中，一第三對對準機構3 1 2、 314及第四對對準機構316、318係安排於第一支持板16〇 之第二及第四對角線角落354、356處。第二對之對準機 構提供當對準基材於第一支持板16〇上時之另一正確性的 量測法。 第4圖描繪第一支持板1 6〇及對準機構3 〇4之實施例 的部份前視圖。其他對準機構也可以類似地建構於一實施 例中。對準機構304大致包各一推擠件402為一臂4〇4所 連接至主體406。主體406具有一軸408貫穿於其間。軸 40 8係為一對安裝托架412所連接至第一支持板ι6〇，該 對托架係安排於主體406的兩側。軸408係連接至一引動 器4 1 2，其可以被以另一方式激勵或瞬發，以使得推擠件 402繞著軸408旋轉》引動器412典型連接至一控制器 414 ° 控制器414大致包含一中央處理單元（CPU420)、支 12 200305245 援電路418及記憶體416。CPU420可以為任意形式之電 腦處理機，其可以用於工業設定，以控制推擠件402的動 作。記憶體416被連接至CPU420。記憶體416或電腦吁 讀取媒體可以一或多數立即可用之記憶體，例如隨機存取 記憶體（RAM)、唯讀記憶體（R〇M)、軟碟、硬碟、或其他 任意形式之數位儲存、不論是本地或遠端的。支援電路418 係連接至CPU420，用以以傳統方式支援處理機。這些電 路包含快取、電源、時鐘電路、輸入/輸出電路、次系統 等等。 控制器4 1 4大致提供一信號給引動器4 1 2，使得引動 器.412以施加一旋轉動作至軸408。於第4圖所繪之實施 例中，引動器4 1 2可以為伺服馬達、步進馬達或其他電機 馬達、一氣壓馬達、一水力動力機、或一旋轉螺線管等裝 置或機械的組合，以提供旋轉給軸408，例如一偏心連接 至軸408的線性引動器。 參考第5 A-C圖，當引動器412使得軸408旋轉時， 推擠件402移動向第一支持被16〇的中心區域。推擠件4〇2 係大致由一不會刮傷、損壞或污染基材1 06的材料所製 造。於一實施例中，推擠件402係由聚合物製作，例如一 含氟聚合物。 推擠件402大致包含一面502，其當對準機構3〇4旋 轉時，接觸一失準基材106。面502大致推擠基材1〇6於 一第一方向5 12進入預定位置。典型地，第一方向5 12係 垂直於軸408的旋轉軸514並為一正切面5〇2。於—實施 13 200305245 例中，面502係為凹陷，以防止當推擠件4〇2旋轉時，基 材106被抬舉，因而，確保基材越過間隔元件302移動於 第一方向512中。在將推擠件4〇2旋轉向第一支持板ι6〇 的中心後，引動器412大致將對準機構304送回到由第5A 圖所繪之位置，其中推擠件4〇2係離開基材，以完成基材 的傳遞。 推擠件402係另外被架構以繞著一中心軸5〇6旋轉， 該轴係典型安排垂直於該旋轉軸514*»推擠件402旋轉的 能力促成了基材106相對於推擠件402作橫向移動。因而， 允許基材正切移動越過推擠件402，面502大致被架構以 對稱中心軸506。例如，若鄰近對準機構3〇6(如第5C圖 所示）同時於對準程序中也接觸基材（即相對對準機構 304、3 06旋轉向支持板16〇的中心），則基材1〇6也被同 時移動於兩方向。當推擠件4 02可以繞著軸506旋轉時， 基材可以橫向移動，由於對準機構306所施加之力量，而 同時接觸推擠件，而不會有不當之額外磨擦或微粒產生。 同樣地’對準機構306具有二推擠件522，其沿著其軸旋 轉，完成與之接觸之基材的橫向移動。因此，推擠件4 〇2、 5 22允許基材於一方向作橫向移動，同時，以一第二，典 型為垂直之方向，對基材施加運動。 於一實施例中，一固定件5 0 8係被安排經過一沿著推 挤件402之軸506形成之孔504中，並被螺旋入形成於臂 404中之螺紋孔510内，以促成推擠件402的旋轉。用以 旋轉地連接推擠件4 02的其他架構也可以被使用❶推擠件 14 200305245 5 22係類似地連接至對準機構3〇6。

為了放置基材1G6於一預定位置，推擠件4()2繞著轴 514的旋轉或投擲係典型地作機械或電子式之限制〇 如，控制器414可以發出信號給引動器412，以限制推= 件402的旋轉於一預定角度β於第5a_b圖所繪之實施例 中，一機械止動件524係放置於_位置，卩限制對準機構 3〇4之角度旋轉。例如，止動件524可以連接至支持板⑽ 的一位置，以相對於支持板160停止該臂404於一預定角 度。用以控制及/或限制推擠件402的移動之其他架構與 方法也可以加以使用。 、 第6圖為具有另一實施例之對準機構602之真空隔絕 至6〇0的部份剖面圖。該真空隔絕室600大致類似於上述 之真二隔絕室1 0 0，並大致包含至少四個對準機構，每一 個安排於放置於室6〇〇内之基材的一侧，其中，只有對準 機構6 02被顯示於第6圖巾。一般而* ,如同參考第3圖 所述’至少兩對之對準機構602被用於基材604的對角角

落上或者’額外之對準機構.602也可以用在沿著基材604 的任一緣上，及/或被利用於基材的兩個對角角落。 對準機構602大致包含一推擠件604為一臂606所連 接至轴608。一安裝托架618連接軸60 8至支持板160。 一般而言’一引動器614與該對準機構602相交界，以使 得一失準基材移動於第一方向630。典型地，第一方向630 係垂直於輪608，而臂606與推擠件604係繞著該轴608 旋轉。 15 200305245

於第6圖所繪之實施例中，引動器6丨4包含冷卻板2 14 及一引動指部6 1 6連接至其上。當冷卻板2 1 4為抬舉機構 216所升高時，引動指部616接觸對準機構602，使得對 準機構602將推擠件604旋轉向支持板160的中心。為了 最小化於引動指部6 1 6與對準機構602間之微粒產生，一 滾子612係連接至臂606的一位置，以允許當冷卻板214 被升高時，引動指部6 1 6從其上滑過。滾子6 1 2典型由塑 膠製造’例如含氟聚合物，並當與引動指部6丨6接觸時旋 轉’以進一步最小化微粒的產生。

為了控制推擠件604之投擲及動作速率，引動指部616 的一垂直第一部份620具有一輪廓面618，其於引動時嚙 合滾子612。輪廓面618可以為直線、彎曲或具有複雜形 狀’以被架構以於預定速率下移動推擠件604或者旋轉該 推擠件604經一預定角度旋轉。引動指部6 1 6的第二部份 622包含一槽624，其接收一固定件626，其旋入一形成 在冷卻板214中之螺紋孔628中。槽624允許引動指部616 的位置被相對於支持板16〇β調整，因而，設定輪廓面618 與滾子6 1 2之相對位置，以提供加大之推擠件活動調整範 圍。 第7圖描繪對準機構602之實施例的分解圖。對準機 構6〇2的臂606大致包含一第一凸緣702及一第二凸緣704 為一中心部份706所連接。中心部份7〇6具有推擠件6〇4 可旋轉地連接至其上。第二凸緣704係為滾子612所遮住， 但實質類似於第一凸緣702。第一及第二凸緣702、704 16 200305245 均具有-第-孔708及一第二孔71〇形成於其中。第一孔 7〇8係架構以收納—定位銷712，其提供—旋轉轴給滾子 612。滾子612的旋轉軸係大致平行於軸6〇8並垂直於推 擠件6G4的旋轉軸。第二孔71Q大致收納#⑽其係允 許臂606旋轉。 安裝托架610大致包含一基部7U，具有由該處延伸 之第-及第二構件716、718並呈—u形架構。基部714 具有多數安裝1 720形成於其間，以促成將安裝托架61〇 連接至支持板160。於第7圖所示之實施例中，一對固定 通過孔720並螺旋入形成於支持板16〇中之螺孔 724 〇 安裝托架610之每一構件716、718均包含一孔徑 726，以收納軸608。於第7圖所示之實施例中，軸6〇8 包含一對軸元件728。每一軸元件728均具有一螺紋端73〇 及棒端732。軸元件728的螺紋端73〇嚙合安裝托架61〇 的每構件716、718，以允許棒端732伸入孔726中。 棒端732係分別被安排於臂；6〇6之第一及第二凸緣7〇2、 之第一孔710中，藉以允許臂6〇6相對於安裝托架61〇 旋轉。 另外’一偏壓件734係被安排於凸緣702、704之一 與I 606之間。該偏壓件734大致將臂6〇6推動繞著轴6〇8 旋轉於將推擠件604推離開支持板16〇的方向。因此，當 引動心部616移動以接觸滾子612時，偏壓件734確保與 ’衰子6 1 2與輪廓面6 1 8間之緊密接觸，因而，使得推擠件 17 200305245 604的所得動作具有一預定範圍及速率。偏壓件734另外 允許推擠件604在對準程序後與支持板16〇分開並擺動， 以不干擾基材傳遞。於一實施例中，偏壓件734為一扭轉 彈簧。 第8A-B圖描繪對準機構6〇2於一未引動及引動狀 態，引動狀態中，基材被移動於第一方向。同時發生但未 不出’其他對準機構也作動以移動基材於一第二方向，該 配合基材的移動於第一方向，而配合將基材移動入預定位 置。一般而言，基材106係為大氣機械手臂（未示出）所放 置於支持板160的支持元件3〇2上。包含冷卻板214及引 動指部616之引動器614係為連接至冷卻板214的抬舉機 構216所升高。當引動指部616向上移動時，引動指部616 的輪廓面618接觸對準機構602之滾子612,使得對準機 構將推擠件604旋轉向支持板16〇的中心。若基材對在第 8A-B圖所示之特定對準機構為失準，則推擠件6〇4將接 觸基材106並將基材推向第一方向63〇。因為在支持板ι6〇 的其他緣上的其他對準機構（簡單地如第3圖所示）將基材 推向於與第一方向630不同之第二方向中，所以推擠件6〇4 會旋轉，藉以允許基材隨著對準機構602作橫向移動，典 型於垂直於第一方向63 0之方向，而不會損及基材或產生 微粒。與其他對準機構的組合作用使得基材被放置於一預 定位置，以促成進一步的固定與處理，而不會有由於基材 失準所造成之損壞° 另外，冷卻板214於對準處理時，移動至接近由傳送 18 200305245 室（未示出）回來之已處理基材802的位置。於此位 基材802的冷卻配合對準處理開始，而不必在真空 6〇〇内之獨立引動器或控制，以促成對準與冷卻。 第9至11圖描繪一可以用於真空隔絕室内之 構902之另一實施例。一般而言，至少一對準機構 連接至支持板1 60的每一側（只有兩側被顯示安排 板支持板160的一角落的鄰近側上）。每一對準機 可以被引動以線性移動向支持板j 6〇的中心。對準機 係為一引動器904所設定動作。引動器9〇4大致類 述之引動器616,並包含一引動指部9〇6連接至 214 ° 對準機構902大致由一中心主體91〇及一滾子 組合，主體910具有一推擠件912連接至面向支持 之主體910側上，及滾子914連接至主體91〇的另 雖然推擠件912所示為固定至主體91〇，但推擠件 可以架構以類似於上述推擠件4〇2、6〇4般地旋轉。 多數導件大致連接對準機構9〇2至支持板16〇, 允許對準機構.902相對於支持板16〇作移動。於一 中，導件包含一對肩部螺絲916，每一螺絲均通過 在對準機構902中之孔918中並被螺旋入形成於 160中之孔920中。面向支持板16〇之孔918側包 頭孔，其部份包圍住一彈簧922。彈簧922大致將 構9 02偏壓離開支持板16〇，以提供於引動器9〇4 於支持板1 60上之基材間之適當餘隙。 置中， 隔絕室 對準機 902係 在支持 構902 ;構 902 似於上 冷卻板 914所 板160 一側0 912也 同時， 實施例 一形成 支持板 含一埋 對準機 與放置 19 200305245 土 麵準於支持板160上，藉由將冷卻板214 升雨，以引動對準機構902。引動指部906以_輪廊面924 接觸滾子9丨4 ’以將對準機構9G2位移向支持板⑽的中 ，V>因為母一對準機構902係被沿著支持板160的四個邊 引動’所以座落於支持板16〇上之基材被對準機構9〇2所 推入預定位置’以促成了進一步之固定與處理，而不會由 於基材失準而造成損壞。

雖然前述已針對本發明的一些實施例，但本發明的其 他實施例可以在不脫離本發明的基本範圍下加以想出，本 案的範圍係由以下之申請專利範圍所決定。 【圖式簡單說明】 第1圖為用以連接集合式工具至一工廠界面之真空隔絕室 的實施例的集合式工具； 第2圖為第1圖之真空隔絕室的剖面圖； 第3圖為一第一支持板的等向圖，其中具有一對準機構的 一實施例； 第4圖為第3圖之對準機構的側視圖； 第5 A-5 C圖為第4圖之對準機構於引動及未引動狀態的 側及平面圖； 第6圖為具有一對準機構之另一實施例的真空隔絕室的部 份剖面圖； 第7圖為第6圖之對準機構的分解等角圖； 第8Α·8Β圖為第6圖之對準機構於引動及未引動狀態的 20 200305245 剖面圖；及 第9至11圖描繪一對準機構的另一實施例。 【元件代表符號簡單說明】 100 真空隔絕室 102 主體 104A 壁 104B 壁 106 基材 108 傳送室 110 内部容積 112 工廠 114 埠 116 狹縫閥 118 埠 120 狹縫閥 122 排氣埠 124 真空埠 126 閥 128 閥 130 真空泵 132 處理室 134 真空機械手臂 136 大氣機械手臂 138 卡匣 140 停放格 150 處理系統 160 第一支持板 162 對準設備 202 第二支持器 204 支座 206 底部 208 頂部 210 窗口 212 輻射加熱器 214 冷卻板 216 抬舉機構 218 風箱 220 導管 222 流體源 224 軸 228 孔徑 230 支柱 232 端

21 支持元件 304 第二對準機構 308 對準機構 3 12 對準機構 3 16 對準機構 350 第二角落 354 第四對角角落 402 臂 406 軸 410 引動器 414 記憶體 418 中央處理單元 502 孔 506 固定件 510 第一方向 514 推擠件 600 對準機構 604 臂 608 安裝托架 612 引動器 616 輪廓面 620 第二部份 624 固定件 628 第一方向 702 對準機構 對準機構 對準機構 對準機構 第一角落 第三對角角落 推擠件 主體 安裝托架 控制器 支援電路 凹陷面 軸 螺孔 轴 真空隔絕室 推擠件 軸 滚子 引動指部 第一部份 槽 螺孔 第一凸緣 22 第 二 凸 緣 706 中 心 部 份 第 _ 一 孔 710 第 —丨― 孔 銷 714 基 部 第 件 718 第 二 件 安 裝 孔 722 固 定 件 螺 孔 726 孔 徑 軸 730 螺 紋 端 棒 端 734 偏 壓 件 第 一 基 材 902 對 準 機 構 引 動 器 906 對 準 凸 緣 中 心 主 體 912 推 擠 件 滾 子 916 螺 絲 孔 920 孔 彈 簧 924 輪 廓 面 23

Claims (1)

1. 200305245 玖、申請專利範圍： 1. 一種用以支持一基材的裝置，該裝置至少包含： 一支持板，具有一第一側適用以支持基材及一第一緣 包圍住該第一側的一部份；

   一第一主體，可旋轉地安排於該第一緣附件；及 一第一推擠件，徑向地連接至該第一主體並適用以當 該第一主體旋轉時，將基材推向平行該第一側的一第一 方向。 2·如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中上述之第一主 體具有一旋轉轴，平行於支持板的一平面。 3.如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中上述之第一推 擠件具有一第一旋轉軸為第一主體的旋轉所界定及一第 二旋轉軸朝向與第一旋轉軸不同之方向。

   4·如申請專利範圍第3項所遠之裝置，其中上述之第二旋 轉軸係垂直於該第一旋轉軸。 5.如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中上述之第一推 擠件具有一凹陷面，適用以推擠該基材，其中上述之第 一方向係正切於該凹陷面。 6·如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中上述之主體係 24 200305245 連接至一引動器。 7.如申請專利範圍第1項所述之裝置，更包含： 一滾子，連接於主體的一旋轉軸與第一推擠件之間。 8 ·如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中上述之主體更 包含：

   一第一凸緣； 一第二凸緣； 一中心部份，連接該第一及第二凸緣； 一第一孔形成穿過該第一及第二凸緣，並與主體的第 一旋轉軸同軸；及 一滾子，安排於第一及第二凸緣間，該滾子具有一第 二旋轉軸平行朝向該主體的第一軸，該第二軸係界定於 第一軸與中心部份之間。

   9.如申請專利範圍第8項所述之裝置，更包含一偏壓件， 安排於該第一及第二凸緣之至少之一與滾子之間，該偏 壓件適用以將主體壓靠至該第一軸。 10.如申請專利範圍第8項所述之裝置，更包含： 一冷卻板；及 一引動指部，連接至該冷卻板，並適用以當冷卻板相 對於主體作位移時，推擠該滾子。 25 200305245 11 ·如申請專利範圍第1項所述之裝置，更包含： 一第二主體，可旋轉地安排於接近支持板的第二緣， 該第二緣係安排接近第一緣；及 一第二推擠件，徑向地連接至第二主體並適用以將基 材推向第二方向，該第二方向係不同於該第一方向。 12·如申請專利範圍第η項所述之裝置，更包含： 一第三主體，可旋轉地安排於接近該支持板的第三 緣’該第二緣係安排接近該第一緣並與第二緣相對； 一第三推擠件，徑向地連接至該第三主體並適用以當 第二主體旋轉時’將基材推向相反於第一方向的方向 中； 一第四主體，可旋轉地安排於接近該支持板的第四 緣，該第四緣係安排與第二緣相對；及 一第四推擠件，徑向地連接至該第四主體並適用以當 第四主體旋轉時，將基材推向相反於第二方向的方向 中。 ：· 13·—種用以支持一基材的裝置，至少包含： 一第一推擠件’具有一第一旋轉轴及一第二旋轉軸垂 直朝向該第一旋轉軸，該第一推擠件適用以將基材推向 第一方向； 一第二推擠件，具有一第三旋轉轴安排平行於該第一 旋轉轴及一第四旋轉軸垂直朝向該第三旋轉轴，該第二 26 200305245 推擠件適用以將基材推向相反於第一方向的第二方向 中； 一第三推擠件，具有一第五旋轉軸安排垂直於該第一 旋轉軸及一第六旋轉軸垂直朝向該第五旋轉軸，該第三 推擠件適用以將基材推向第三方向；

   一第四推擠件，具有一第七旋轉軸安排平行於第五旋 轉轴及一第八旋轉軸垂直朝向該第七旋轉軸，該第一、 第三、第五及第七軸係在單一平面上，及第二推擠件適 用以將基材推向相反於第三方向之第四方向中。 14.如申請專利範圍第13項所述之裝置，其中上述之第一 推擠件更包含一凹陷面。 15·如申請專利範圍第14項所述之裝置，其中上述之第三 方向係正切於該第一推擠件的凹陷面。

   16.如申請專利範圍第13項戶/f述之裝置，更包含： 一引動器連接至至少一推擠件。 17·如申請專利範圍第13項所述之裝置，其中上述之引動 器係為一冷卻板相對於第一轴移動。 18·—種真空隔絕室，用以傳送一基材於一第一環境與一 第二環境之間，該真空隔絕室至少包含： 27 200305245 一室主體，具有一第一基材傳送埠及一第二基材傳送 埠； 一支持板，安排於該室主體内並具有一第一側，適用 以支持經由第一或第二基材傳送埠傳送的基材； 一第一主體，安排接近該支持板的第一緣並具有一第 一旋轉軸平行該第一緣；及 一第一推擠件，連接至該第一主體並有一第二旋轉軸 垂直於該第一旋轉轴，該推擠件適用以當主體繞著第一 軸旋轉時，推擠該基材於第一方向中。 1 9.如申請專利範圍第1 8項所述之真空隔絕室，其中上述 之第一推擠件具有一凹陷面，適用以推擠該基材。 20.如申請專利範圍第18項所述之真空隔絕室，其中上述 之第一主體係連接至一引動器。 2 1 ·如申請專利範圍第1 8項搿述之真空隔絕室，其中上述 之第一主體更包含： 一第一凸緣； 一第二凸緣； 一中心部份，連接該第一及第二凸緣； 一第一孔，形成穿過該第一及第二凸緣，並與該主體 的第一旋轉軸同轴；及 一滾子，安排於該第一及第二凸緣之間，該滚子具有 28 200305245 一第二旋轉軸平行於該主體的第一轴，該第二軸係界定 該第一轴與中心部份之間。 22. 如申請專利範圍第21項所述之真空隔絕室，更包含一 偏壓件，安排於該第一及第二凸緣之至少之一與該滾子 之間，該偏壓件係適用以將主體偏壓靠第一軸。 23. 如申請專利範圍第21項所述之真空隔絕室，更包含： 一冷卻板；及 一引動指部，連接至該冷卻板並適用以當該冷卻板相 對於主體位移時，推擠該滾子。 24.如申請專利範圍第18項所述之真空隔絕室，更包含： 一第二主體，可旋轉地安排於接近該支持板的第二 主第 二之 第同 當不 並向 體方 主一 及二第 ; 第與 緣該一 1 至向 第接推 該連；材 近地基 接向該 排徑將 安，以 被件用 緣擠適 二推， 第二時。 該第轉向 ,1 旋方 緣體二

   25.如申請專利範圍第24項所述之真空隔絕室，其中上述 之第一方向係垂直於該第二方向。 26·—種用以傳送基材於一第一環境與第二環境間之真空 隔絕室，該真空隔絕室至少包含： 29 200305245 一室主體，有一第一基材傳送埠及一第 埠； 一支持板，安排於該室主體内並有一第一 支持該基材通過第一或第二基材傳送埠； 一第一對準機構，安排於接近該支持板的 第一支持板具有一第一推擠件，具有一第一 於該第一緣，該推擠件適用以當被繞著第一 推擠該基材於一第一方向； 一第二對準機構’安排於接近該支持板的 具有一第二推擠件含一第二旋轉軸平行於 軸’該第二推擠件適用以當被繞著第二軸旋 該基材於相反於該第一方向的第二方向； 一第三對準機構，安排於接近該支持板的 支持板被放置於該第一及第二緣之間，該第 具有一第三推擠件，具有一第三旋轉軸垂直 轉軸，該推擠件當被繞著第三軸旋轉時，適 基材於垂直於第一方向的第三方向中； 一第四對準機構，安排於接近該支持板的 具有一第四推擠件，含一平行於第三旋轉轴 軸，該第四推擠件適用以當被繞著第四軸旋 該基材於相反於第三方向的第四方向；及 一冷卻板，可動地安排於室主體内並適用 支持板時，使得第一至第四對準機構旋轉。 二基材傳送 側’適用以 第一緣，該 旋轉軸平行 軸旋轉時， 第一^緣，並 該第一旋轉 轉時，推擠 第三緣，該 三對準機構 於該第一旋 用以推擠該 第四緣，並 的第四旋轉 轉時，推擠 以當移動向 200305245 27.如申請專利範圍第26項所述之真空隔絕室，其中上述 之第一推擠件具有一面，其繞著垂直於第一旋轉轴的一 轴旋轉，其中該第三方向係正切於該表面。 28.—種用以將一基材對準於一基材支持器上的方法，該 方法至少包含步驟： 將一基材放置於一支持器上；

   旋轉一第一推擠件，以使基材被推動於一第一方向； 及 旋轉一第二推擠件，以使基材被推動於一不同於第一 方向的第二方向。 29·如申請專利範圍第28項所述之方法，其中上述之旋轉 第一推擠件的步驟更包含： 將該第一推擠件繞著定義成平行於該支持器之第一轴 旋轉。

   3 0.如申請專利範圍第29項所述之方法，更包含： 將該第一推擠件繞著一定義成垂直於該第一軸的第二 軸旋轉。 3 1·如申請專利範圍第28項所述之方法，其中上述之旋轉 第一推擠件的步驟更包含： 將一冷卻板升高朝向該支持器，以造成該第一推擠件 31 200305245 的旋轉。 32.—種用以將一基材對準於一基材支持器上的方法，該 方法至少包含步驟： 將一基材放置於一支持器上； 將一冷卻板升高朝向該支持器，以引動該對準機構； 及

   反應於該引動，而將對準機構的一第一推擠件移動向 基材的中心，以將基材推動於第一方向。 33.如申請專利範圍第32項所述之方法，其中上述之移動 第一推擠件的步驟更包含： 至少旋轉或線性位移該第一推擠件。

   34.如申請專利範圍第32項所述之方法，更包含將第一推 擠件繞著一被定義為垂直於該第一方向的一第二軸旋 轉。 35.如申請專利範圍第32項所述之方法，其中上述之升高 一冷卻板的步驟更包含： 引動一第二對準機構；及 反應於該引動，而移動該第二對準機構的一第二推擠 件向支持器的中心，以推擠該基材於垂直於該第一方向 的第二方向。 32 200305245 36.—種對準一基材於一基材支持器上的方法，該方法至 少包含步驟： 將一基材放置於一支持器上； 將一冷卻板升高朝向該支持器，以引動一對準機構； 反應於該引動，而旋轉第一推擠件向該支持器的中 心，以推擠該基材向第一方向；及 繞著定義為垂直於該第一方向的第二轴，旋轉該第一 推擠件。 33