TWI279876B - Substrate support, load-lock chamber for transferring substrates and methods for aligning a substrate on a substrate support - Google Patents

Substrate support, load-lock chamber for transferring substrates and methods for aligning a substrate on a substrate support Download PDF

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TWI279876B
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Wendell T Blonigan
Suhail Anwar
Toshio Kiyotake
Hung T Nguyen
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Description

1279876 捌、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明的實施例大致關係於一基材支持件。 【先前技術】 薄膜電晶體（TFT)傳統上係作於大型破璃基材或板 上，以用於監視器、+面顯示器、太陽電ί也、個人數位助 理（PDA)大哥大等等。TFT係藉由依序沉積各種薄膜， 包含非晶矽、摻雜及未摻雜氧化矽、氮化矽等在多數真空 處理至之集σ式工具中完成，諸真空室係典型安排於一中 心傳送室之旁。該集合式工具典型連接至一工廠界面，其 包含多數基材儲存卡匣，該卡匣在處理前及後固持諸基 材。一真空隔絕室大致安排於工廠界面與集合式工具之 間，以促成於集合式工具之真空環境及工廠界面之大氣環 境間之基材傳遞。 用於真空隔絕室中之作為顯示器用之玻璃基材的定位 相較於較小之200mm甚至300mm圓基材係較困難的。例 如，因為玻璃基材經常具有超出5 5 0minx 6 5 0mm的尺寸， 並傾向於朝向1 · 2平方米及更大，所以，於位置上之小偏 移將造成重大之基材失準。一失準基材具有很高的損壞或 然率，造成基材成本上之損失。再者，一失準基材必須由 真空隔絕室所手動移開，因而需要很多之生產時間成本， 因而，降低了基材生產量。 典型地’基材放置的正確性係由一安排於工廠界面中 3 1279876 2::手臂所控制，該機械手臂 真空隔絕室之間。然而，报多…基材於… 在提供工廠界面與安排於其二端使用者現 用者所供給機械手臂的基材放置= 若由使 該真空隔絕室的設計規格内 重覆性並不在 對於真會每成基材的損壞。因此， 對：真…室人想要更配合於基 元件(即使用者提供工麻界面) 广 本同時增加設計之彈性。 被使用，以降低系統成 =上有需要及基材支料，其能校正 放置於其上之基材的定向與位置。 【發明内容] 用以支持一基材放置於—萁 基材支持件上之方法與設備 大致被提供。於一實施例中，一 用以叉持一基材的設備包 含-支持板’·具有一第一主體安排於接近該支持板…第 一推擠件係徑向地連接至第一主體並適用以當第—主體旋 轉時，擠壓基材於平行於該支持板的第一方向。 於另一實施例中，一用以支持一基材的裝置包含多數 推擠件，每一推擠件均具有一第一旋轉軸與一第二旋轉 軸，垂直於該第一旋轉軸。一第一推擠件係適用以將基材 推擠於第一方向，一第二推擠件係適用以將基材推擠於一 相反於第一方向的第二方向，一第三推擠件係適用以推擠 該基材於一第三方向，及一第四推擠件係適用以推擠該基 材於相反於第三方向的第四方向。 1279876 於另—態樣中，一真空隔絕室具有一支持— 材支持件。於-實施例t，該真空隔絕室包含： 室體具有—基材支持板安排於其中。-第一 近該支持板。一第一施社 ^ 弟推擠件係徑向地連接至第一 適用以當第一主體旋轉 &伸吋，推擦基材於平行於 一方向。 於另一態樣中，提供有用以對準一基材的方 實施例+，一種用㈣準一基材於一基材支持件 包含將一基材放置於一支持件上，將一冷卻板升 支持件，以引動一對準機構，及反應於該引動， 對準機構的一第一推擠件向支持板的中心，以將 於第一方向。 於另一實施例中，一種用以將一基材對準於 持件上的方法包含將一基材放置於一支持件上， 一推擠件以將基材推擠於一第一方向，旋轉一第 以將該基材推擠於不同於第一方向的第二方向中 因此’本發明的上述特性係+以加以參考其例示 之實施例及總括如上之本發明的詳細說明加以 解。然而’應注意的是，附圖只例示本發明之典型 因此’並不應被認為是本發明的範圍限制，因為 以適用於其他等效實施例。 【實施方式】 為了容易了解，相同參考數係儘可能地用以 基材的基 室體，該 安排成接 主體，並 持板的第 法。於一 上之方法 高朝向該 而移動該 基材推擠 一基材支 旋轉一第 二推擠件 〇 於附圖中 取得及了 實施例， 本發明可 指定所有 1279876 圖中之相同元件。 本發明大致提供一基材支持件，具有一對準機構 將一安置於其上之基材對準或對中一預定位置。本發 例示描述用於一雙基材真空隔絕室，例如由美國加州 卡拉之應用材料公司的一分部之AKT所購得者。然 可以了解的疋，本發明也可以用於其他架構中，例如 一基材真空隔絕室、多數基材真空隔絕室、無機械手 台、缓衝站及其他用以支持一基材的裝置，其中想要 的位置正確性者。 第1圖為一處理系統150的一實施例的剖面圖。 室150典型包含一傳送室108，其係為一真空隔絕室 所連接至一工廠界面112,該真空隔絕室具有至少一 對準機構162。該傳送室108具有至少一真空機械 134，安排於其中，其係適用以傳送諸基材於多數周 理至1 3 2與真空隔絕室1 〇 〇之間。於一實施例中，處 132之一為一預熱室，其在處理前熱調整基材，以加 統1 5 0的產量。典型地，傳邊室i 〇 8係被維持於一真 件，以免除在每一基材傳送後，調整於傳送室1〇8與 處理室1 3 2間之壓力的必要性。 工廠界面112大致包含多數基材储存卡昆138斑 氣機械手臂136。該等卡匣138大致被可移除地安排 成工廠界面112 —側上之多數停放格140之中α大氣 手臂136係適用以傳送基材1〇6於卡匣138與真空隔 1 00之間。典型地，工廠界面11 2被維持於大氣壓或 ，其 明係 聖塔 而， ，單 臂平 基材 處理 100 基材 手臂 圍處 理室 強系 空條 個別 一大 於形 機械 絕室 略高 1279876 於大氣壓。 第2圖為真空隔絕室1 〇 〇的一實施例之剖面圖。該真 空隔絕室1〇〇包含一主體，具有壁面1〇4Α、104Β、底部 206及頂部208，以界定一可密封内部容積11(^該真空 隔絕室100係典型經由一安排於壁104A中之埠114，而 連接至一工廠界面112。一狹缝閥116選擇地密封該埠 114，以隔離開真空隔離室1〇〇與工廠界面112之内部容 積11 0的氣氛。狹縫闕11 6可以打開以允許一基材1 〇6通 過於工廠界面112與真空隔絕室1〇〇間之埠n4。 真空隔絕室1〇〇典型經由一安排於壁104B中之埠 118，而連接至傳送室1〇8。一狹縫閥120選擇地密封蟑 11 8，以選擇地隔離開真空隔絕室丨〇 〇與傳送室丨〇 8之内 部容積100之氣氛。狹縫閥120可以打開以允許基材1〇6 以傳送於傳送室1 〇 8與真空隔絕室1 0 0之間。可以適用於 本發明之狹縫閥之例子係描述於由F r e e rk s所公告於1 9 9 6 年十二月3曰之美國專利第5，579，718號與Tepman等 人所公告於2000年四月4 &之美國專利第6，045，620 號中，該兩案係加入作為參考。 室主體102另包含至少一埠，安排穿於其中，以促成 於内部容積11 0中之壓力。於第1圖中所繪之實施例中， 室主體102包含一排氣埠122與一真空埠124，形成穿過 室主體102。閥126、128係分別連接至排氣埠122及真 空埠124，以選擇地防止流經其間。真空埠122係連接至 真空埠1 3 0，其係選擇地降低於内部容積内之壓力至一實 1279876 質匹配傳送室108壓力的位準。當於傳 絕室100間之壓力實質相等時，狹縫閥 允許已處理基材被真空機械手臂124所 100及予以處理之基材被真空機械手臂 室 108。 在將基材由傳送室送回於真空 縫閥120被閉合及閥126被打開，藉以 隔絕室100及升高於内部容積11〇中之 由排氣埠122進入内部容積"ο中之空 化基材的可能微粒污染。一旦在真空隔 實質等於工廠界面112的壓力時，狹縫昆 允許大氣機械手臂136傳送基材於真空 至工廠界面112的基材儲存卡g 138之 為了最小化為大氣機械手臂136所 性，一安排於真空隔絕室1 00中並適用 136接收基材之支持板160係被裝設 1 6 2，其將基材1 〇 6相對於支·持板1 6 0 準設備162可以校正於基材1〇6之沉積 對於支持板1 60之預定（即設計）位置間 該沉積位置係為基材106為大氣機械手 置。一旦為對準設備162所對準的基材 絕室1 00内，而無關於傳統利用大氣機 方法時，以調整基材放置時，允許更大 統成本。例如’具有對準設備16 2的支 送室108與真空隔 120可以打開，以 傳送至真空隔絕室 1 2 4所傳送至傳送 隔絕室1 0 〇後，狹 允許空氣進入真空 壓力。典型地，經 氣被過濾，以最小 絕室1 0 0中之壓力 @ 11 6打開，因此， 隔絕室1 0 0與連接 間。 需之精確度與正確 以由大氣機械手臂 有至少一對準設備 作定位。例如，對 位置與基材106相 之位置不正確性， 臂1 3 6所放置的位 106位置在真空隔 械手臂136之校正 之彈性與更低之系 持板160提供於真 !279876 :隔絕室100與使用者供給工廠界s 112間之較大相容 有，因為真空隔絕室100係對在支持板160上之基材位置 更大之容許度，因而降低更大精確度及/或為工廠界面 '供者所產生之校正機械手臂活動演繹法的需纟。再者， 因為大氣機械手臂136之位置正確性規則被免除，所以可 以利用較低成本之機械手臂。 不於第2圖中之第一支持板160具有對準機構162安 排於一第二基材支持器2〇2上，呈一雙基材固持架構。然 而’本發明的實施例包含至少—基材支持板，$有一對準 ，其可用可不用於多數其他支持板上，諸支持板的部 份或所有包含一對準機構或者沒有支持板包含有一對準機 構。 第一支持板160及第二支持器2〇2係大致被架構以個 別固持基材呈一平行堆放架構在真空隔絕室丨〇〇内，並在 °為大氣及真空機械手臂136、134所取用之位置上。典 型 ife L 1 . 乐一支持板160被用以固持進入傳送室1〇6的基材， 而第二支持器被用以固持回&工廠界面112的基材。第一 ^持板160係連接至室主體1〇2，典型連接至底部2〇6。 可以由第2及3圖看出，支座204連接第一支持板16〇 室麻立 -P 206 支座204係大致呈分隔關係排列，以促成一 基材玫置於第二支持器2〇2上。支座2〇4另分開足夠寬， 以允許冷卻板2 1 4移動於其間。 第二支持器202大致固持一基材於第一支持板16〇及 至底部206之間。第二支持器202可以為一由支座2〇4或 1279876 其他構件所支持之板。於繪於第2及 -+ - „ ^ 貫施例中，第 一 寺器202包含多數基材支持支柱230 、& ?π. ^ 订又狂230遑接至室底部 206,母一支柱23()具有一遠端232定一 U ± ^ ^ 大致平坦之基 夺面。支柱230大致被安排以於基材傳送時，不干擾 機械手臂134、136。 基材的熱控制可以另外被實施於真空隔絕室ι〇〇之 内。例如，室主體102的頂部208可以包含一窗口 21〇， 具有一輻射加熱器212，安裝在其上。加熱器212經由窗 口 210照射該基材，以加熱安排於第一支持板mo上之基 材。一冷卻板214可以另外安置於第一支持板ι6〇及室主 體1 〇 2的底部2 0 6之間。冷卻板2 1 4包含多數孔徑2 2 8形 成於其中，以允許多數支柱230予以安排通過該冷卻板 2 1 4。典型地，冷卻板2 1 4係連接至安排於真空隔絕室1 〇 〇 外之抬舉機構2 1 6。該抬舉機構2 1 6可以被作動以移動冷 卻板2 1 4沿著諸支柱2 3 0移動。抬舉機構2 1 6移動冷卻板 214以接近扣持在該第二支持器202之遠端232上之基 材，藉以在為大氣機械手臂Ιί持前冷卻該基材。或者，冷 卻板2 1 4可以抬舉該基材離開第二支持器2 0 2 ’以最大化 熱傳遞。典型地，冷卻板2 14係為一動態密封件，例如一 風箱218所連接至室主體1〇2的底部2〇6。於一實施例中， 冷卻板214包含一或多數導管220 ,經由一轴224連接至 熱傳遞流體源222 ,該軸224連接冷卻板214與抬舉機構 210。來自流體源222的流體流經導管220，以移除由基 材所傳遞的熱至第二支持器202。 10 1279876 第 圖。第 用將基 持元件 之刀葉 間。或 中，以 可以另 不會刮 珠或空 302係 202的 材的可 第 準機構 體102 材被放 言，第 一座標 基材沿 預定位 於: 3 0 6 係， 側’而 3圖描繪 一支持板 材維持為 302的高 於被放置 者，通道 提供機械 允許基材 傷或損及 氣軸承等 為塑膠墊 遠端232 能傷害。 第-支持板16〇與第二支持器2〇2的等角 16〇大致包含多數支持M m，其係適 相對於第一支持板160呈-相隔關係。支 度係大致被架構以允許機械手臂136、134 於支持元件302上之基材與支持板16〇之 可以形成於支持元# 302間之支持板16〇 手臂m、134之刀葉空間。支持元件3〇2 平行移動至第-支持板160的不平面，而 基材。支持元# 302可以為低磨擦塾滾 等。於第3圖所示之實施例中支持元件 ，例如由含氟聚合物所製作。第二支持器 也可以包含支持元件3G2，以最小化對基 一支持板〗6〇典型為多數對準機構162所包圍。對 162可以被連接至第一支持板16〇或者連接至室主 的-部份。對準機帛162係適用以合作地確定一基 置於相對第一支持板：160的一預定位置。一般而 一對對準機構係被架構以將—在其間之基材沿著第 軸對準，而第二對對準機構係被架構以將在其間之 著一第二座標軸對準’藉以合作地移動基材進入一 置。典型地，第一座標軸係垂直朝向於第二座標軸。 第3圏所繪之實施例中，第一對之對準機構—、 安排於第一支持板160之第一角落35〇之鄰近兩 第二對之對準機構308、31〇係安排於對角之第二 1279876 角落3 52的鄰近兩側。每一相對之對準機構（即3%、3⑽ 與304、3 10)之相對對準機構162係適用以移動基材於一 相反方向，藉以將基材對中於其間。再者，因為對準機構 典型被連接成偏移開支持板16〇的中點，所以當對準機構 162移動基材至一相對於支持板16〇的預定位置時，該基 材的傾斜可以被校正。或者，對準機構丨62可以沿著支持 板160的每一側定位（即不在第一支持板16〇的角落）。或 者，本發明想到沿著支持板i 6〇的一側使用單一對準機構 162,以配合傳統對準裝置，以對準基材。 於第3圖所描繪之實施例中，一第三對對準機構3丨2、 3 14及第四對對準機構％、3 18係安排於第一支持板1⑹ 之第三及第四對角線角$ 3 54、35 6處。第二對之對準機 構提供當對準基材於第-支持板160上時之另一正確性的 量測法。 圖描緣第一支持板1 6 0及對準機構3 0 4之實施例 的伤刖視圖。其他對準機構也可以類似地建構於一實施 例中。對準機構304大致包各一推擠件4〇2為一冑4〇4所 連接至主體406。主體406具有-軸408貫穿於其間。轴 4〇8係為—對安裝托架4^2所連接至第一支持16〇,該 對托架係安排於主體4〇6的兩側。軸4〇8係連接至一引動 器412，其可以被以另一方式激勵或瞬發，以使得推擠件 40繞著軸408旋轉。引動器412典型連接至一控制器 414 〇 控制器414大致包含一中央處理單元（CpU42〇)、支 12 1279876 援電路418及記憶體416。CPU420可以為任意形式之電 腦處理機，其可以用於工業設定，以控制推擠件402的動 作。記憶體416被連接至CPU420。記憶體416或電腦可 讀取媒體可以一或多數立即可用之記憶體，例如隨機存取 記憶體（RAM)、唯讀記憶體（R〇m)、軟碟、硬碟、或其他 任意形式之數位儲存、不論是本地或遠端的。支援電路418 係連接至CPU420，用以以傳統方式支援處理機。這些電 路包含快取、電源、時鐘電路、輸入/輸出電路、次系統 等等。 控制器4 1 4大致提供一信號給引動器4 1 2，使得引動 器4 1 2以施加一旋轉動作至軸4〇 8。於第4圖所繪之實施 例中’引動器4 1 2可以為伺服馬達、步進馬達或其他電機 馬達、一氣壓馬達、一水力動力機、或一旋轉螺線管等裝 置或機械的組合，以提供旋轉給軸4〇8，例如一偏心連接 至軸408的線性引動器。 參考第5 A-C圖’當引動器412使得軸408旋轉時，
含氟》聚合物。 支持被16〇的中心區域。推擠件402 損壞或污染基材1 0 6的材料所製 推擠件402係由聚合物製作，例如一
垂直於軸408
502，其當對準機構304旋 丨502大致推擠基材106於 °典型地，第一方向512係 5 02。於一實施 13 1279876 例中，面502係為凹陷，以防止當推擠件4〇2旋轉時，基 材106被抬舉，因而，確保基材越過間隔元件3〇2移動= 第一方向512中。在將推擠件4〇2旋轉向第一支持板 的中心後，引動器412大致將對準機構3〇4送回到由第5a 圖所繪之位置，其中推擠件4〇2係離開基材，以完成基材 的傳遞。 推擠件402係另外被架構以繞著一中心軸5〇6旋轉， 該軸係典型安排垂直於該旋轉軸514。推擠件4〇2旋轉的 忐力促成了基材106相對於推擠件402作橫向移動。因而， 允許基材正切移動越過推擠件4〇2，面5〇2大致被架構以 對稱中心軸506。例如，若鄰近對準機構3〇6(如第5c圖 所示）同時於對準程序中也接觸基材（即相對對準機構 304、306旋轉向支持板16〇的中心），則基材1〇6也被同 時移動於兩方向。當推擠件4〇2可以繞著軸5〇6旋轉時， 基材可以橫向移動，由於對準機構3〇6所施加之力量，而 同時接觸推擠件’而不會有不當之額外磨擦或微粒產生。 同樣地，對準機構306具有二推擠件522，其沿著其軸旋 轉，完成與之接觸之基材的橫向移動。因此，推擠件4〇2、 522允許基材於一方向作橫向移動，同時，以一第二，典 型為垂直之方向，對基材施加運動。 於一實施例中，一固定件508係被安排經過一沿著推 擠件402之轴506形成之孔5〇4中，並被螺旋入形成於臂 404中之螺紋孔510内，以促成推擠件4〇2的旋轉。用以 旋轉地連接推擠件402的其他架構也可以被使用。推擠件 14 1279876 522係類似地連接至對準機構3()6。 了放置基材106於一預定位置，推擠件402繞著軸 5 1 4的旋轉或投擲係 货、典型地作機械或電子式之限制。例 如，控制器414可ϋ;找， 乂發出信號給引動器4 1 2，以限制推擠 件402的旋轉於 、 預疋角度。於第5A-B圖所繪之實施例 中 機械止動件524係放置於一位置，以限制對準機構 之角度旋轉。例如，止動件524可以連接至支持板160 的位置，以相對於支持板160停止該臂404於一預定角 度用以控制及/或限制推擠件402的移動之其他架構與 方法也可以加以使用。 第6圖為具有另一實施例之對準機構602之真空隔絕 至600的部份剖面圖。該真空隔絕室6〇〇大致類似於上述 之真空隔絕室1〇〇，並大致包含至少四個對準機構，每一 個安排於放置於室6〇〇内之基材的一側，其中，只有對準 機構602被顯示於第6圖中。一般而言，如同參考第3圖 所述’至少兩對之對準機構602被用於基材604的對角角 落上°或者’額外之對準機構.602也可以用在沿著基材604 的任一緣上，及/或被利用於基材的兩個對角角落。 對準機構602大致包含一推擠件604為一臂606所連 接至軸608。一安裝托架618連接軸608至支持板160。 一般而言，一引動器614與該對準機構602相交界，以使 得一失準基材移動於第一方向630。典型地，第一方向630 係垂直於軸608，而臂606與推擠件604係繞著該軸608 旋轉。 15 1279876 於第6圖所繪之實施例中，引動器6丨4包含冷卻板2 14 及一引動指部616連接至其上。當冷卻板214為抬舉機構 216所升高時，引動指部616接觸對準機構602，使得對 準機構602將推擠件604旋轉向支持板160的中心。為了 最小化於引動指部6丨6與對準機構6〇2間之微粒產生，一 /袞子612係連接至臂606的一位置，以允許當冷卻板214 被升兩時’引動指部6 1 6從其上滑過。滾子6 1 2典型由塑 膠製造’例如含氟聚合物，並當與引動指部6丨6接觸時旋 轉，以進一步最小化微粒的產生。 為了控制推擠件604之投擲及動作速率，引動指部616 的一垂直第一部份620具有一輪廓面6U，其於引動時嚙 合滾子612。輪廓面618可以為直線、彎曲或具有複雜形 狀’以被架構以於預定速率下移動推擠件6〇4或者旋轉該 推擠件604經一預定角度旋轉。引動指部616的第二部份 622包含一槽624，其接收一固定件626，其旋入一形成 在冷卻板214中之螺紋孔628中。槽624允許引動指部616 的位置被相對於支持板160 #調整，因而，設定輪旋面618 與滾子612之相對位置，以提供加大之推擠件活動調整範 圍。 第7圖描繪對準機構6〇2之實施例的分解圖。對準機 構602的臂606大致包含一第一凸緣7〇2及一第二凸緣 為一中心部份706所連接。中心部份7〇6具有推擠件6〇4 玎旋轉地連接至其上。第二凸緣704係為滾子612所遮住， 但實質類似於第一凸緣7〇2。第一及第二凸緣7〇2、 16 1279876 均具有一第一孔708及一第二孔710形成於其中。第一孔 7 〇 8係架構以收納一定位銷7 1 2，其提供一旋轉軸給滾子 612。滾子612的旋轉轴係大致平行於軸608並垂直於推 擠件604的旋轉軸。第二孔710大致收納軸608，其係允 許臂606旋轉。 安裝托架610大致包含一基部714，具有由該處延伸 之第一及第二構件716、718並呈一 u形架構。基部714 具有多數安裝孔720形成於其間，以促成將安裝托架6 1 〇 連接至支持板1 6 0。於第7圖所示之實施例中，一對固定 件7 2 2通過孔7 2 0並螺旋入形成於支持板丨6 〇中之螺孔 724 〇 安裝托架610之每一構件716、718均包含一孔徑 726，以收納轴608。於第7圖所示之實施例中，軸6〇8 包含一對軸元件728。每一軸元件728均具有一螺紋端73〇 及一棒端732。軸元件728的螺紋端730嚙合安裝托架61〇 的每一構件716、718，以允許棒端732伸入孔726中。 棒端732係分別被安排於臂，6〇6之第一及第二凸緣7〇2、 704之第二孔710中，藉以允許臂6〇6相對於安裝托架61〇 旋轉。 另外’一偏壓件734係被安排於凸緣7〇2、7〇4之一 與臂606之間。該偏壓件734大致將臂6〇6推動繞著軸 旋轉於將推擠件604推離開支持板16〇的方向。因此，當 引動指部616移動以接觸滾子612時，偏壓件734確保與 滾子612與輪廓面618間之緊密接觸，因而，使得推擠= 17 1279876 6 Ο 4 的所 π & 于勤作具有一預定範圍及速率。偏壓件734另外
允許推擠件604在對準程序後與支持板160分開並擺動，-以不干播其：rfL 文签何得遞。於一實施例中，偏壓件734為一扭轉 彈簧。
第8A_B圖描繪對準機構6〇2於一未引動及引動狀 I、引動狀態中，基材被移動於第一方向。同時發生但未 不出，其他對準機構也作動以移動基材於一第二方向，該 配合基材的移動於第一方向，而配合將基材移動入預定位 置° 一般而言’基材106係為大氣機械手臂（未示出）所放 置於支持板160的支持元件3〇2上。包含冷卻板214及弓丨 動扣4 6 1 6之引動器6丨4係為連接至冷卻板2丨4的抬舉機 構216所升高。當引動指部616向上移動時，引動指部616 的輪廓面618接觸對準機構6〇2之滾子612，使得對準機 構將推擠件604旋轉向支持16〇的中心。若基材對在第 8A-B圖所示之特定對準機構為失準，則推擠件6〇4將接 觸基材1〇6並將基材推向第一方向63〇。因為在支持板16〇 的其他緣上的其_ . W閲早地……Θ ”、m 推向於與第一方向630不同之第二方向中，所以推擠件 會旋轉，藉以允許基材隨著對準機構6〇2作橫向移動， 型於垂直於第一方向630之方向，而不會損及基材或』 微粒》與其他肖準機構的組合作用使得基材被放置於_ 定位置，以促成進一步的固定溆忐诚 ^ γ ^ 口疋與處理，而不會有由於基材 失準所造成之損壞。 另外，洽卻板2 14於料推# i h 對準處理時，移動至接近由傳送 18 !279876 室（未示出）回來之已處理基材802的仅置。於 基材802的冷卻配合對準處理開始，而不必在 600内之獨立引動器或控制，以促成對準與冷 第9至11圖描繪一可以用於真空隔絕室 構9 02之另一實施例。一般而言，至少一對準 連接至支持板1 60的每一側（只有兩側被顯示 板支持板1 6 0的一角落的鄰近側上）。每一對 可以被引動以線性移動向支持板1 60的中心。受 係為一引動器904所設定動作。引動器9〇4大 述之引動器616’並包含一引動指部9〇 6連 214 〇 對準機構902大致由一中心主體91〇及 組合，主體910具有一推擠件912連接至面 之主體910侧上，及滾子914連接至主體9] 雖然推擠件912所示為固定至主體91〇，但 可以架構以類似於上述推擠件402、604㈣ 多數導件大致連接對準械構902至支持, 允許對準機構902相對於士 & 不目對於支持板160作移動 ，導件包含一對肩部 在對準機# 902中之;16,每一螺絲 1 . L918中並被螺旋入 160中之孔920中。而人 M ^ 卸向支持板160之孔91 頭孔，其部份包圍住—聰 構他偏壓離以^彈黃922。彈簧922- 於支持板⑽上之義：160’以提供於引動丨 基材間之適當餘隙。 此位置中， 真空隔絕室 卻。 内之對準機 機構902係 安排在支持 準機構902 Ϊ準機構902 致類似於上 接至冷卻板 滾子9 1 4所 〖支持板160 的另一側。 擠件9 1 2也 定轉。 1 6 0，同時， 於一實施例 通過一形成 成於支持板 側包含一埋 致將對準機 904與放置 19 1279876 基材大致被對準於支持板160上，藉由 升高，以引動對準機構902。引動指部9〇6 接觸滾子914，以將對準機構902位移向支 心。因為每一對準機構902係被沿著支持板 引動，所以座落於支持板1 6 0上之基材被對 推入預定位置，以促成了進一步之固定與處 於基材失準而造成損壞。 雖然前述已針對本發明的一些實施例， 他實施例可以在不脫離本發明的基本範圍下 案的範圍係由以下之申請專利範圍所決定。 【圖式簡單說明】 第1圖為用以連接集合式工具至一工廠界面 的實施例的集合式工具； 第2圖為第1圖之真空隔絕室的剖面圖； 第3圖為一第一支持板的等向圖，其中具有 一實施例； 1 第4圖為第3圖之對準機構的側視圖； 第5A-5C圖為第4圖之對準機構於引動及 側及平面圖； 第6圖為具有一對準機構之另一實施例的真 份剖面圖； 第7圖為第6圖之對準機構的分解等角圖； 第8A-8B圖為第6圖之對準機構於引動及 將冷卻板2 1 4 一輪廓面924 持板1 60的中 1 6 0的四個邊 準機構902所 理，而不會由 但本發明的其 加以想出，本 之真空隔絕室 一對準機構的 未引動狀態的 空隔絕室的部 未引動狀態的 1279876 剖面圖；及 第9至11圖描繪一對準機構的另一實施例。 【元件代表符號簡單說明】 100 真空隔絕室 102 主體 104A 壁 104B 壁 106 基材 108 傳送室 110 内部容積 112 工廠 114 埠 116 狹縫閥 118 埠 120 狹縫閥 122 排氣瑋 124 真空埠 126 閥 128 閥 130 真空泵 132 處理室 134 真空機械手臂 136 大氣機械手臂 138 卡匣 140 停放格 150 處理系統 160 第一支持板 162 對準設備 202 第二支持器 204 支座 206 底部 208 頂部 210 窗口 212 輻射加熱器 214 冷卻板 216 抬舉機構 218 風箱 220 導管 222 流體源 224 轴 228 孔徑 230 支柱 232 端 1279876 302 支持元件 304 對準機構 306 第二對準機構 308 對準機構 310 對準機構 3 12 對準機構 314 對準機構 3 16 對準機構 318 對準機構 350 第一角落 352 第二角落 354 第三對角角落 356 第四對角角落 402 推擠件 404 臂 406 主體 408 轴 410 安裝托架 412 引動器 414 控制器 416 記憶體 418 支援電路 420 中央處理單元 502 凹陷面 504 孔 506 軸 508 固定件 5 10 螺孔 512 第一方向 5 14 軸 522 推擠件 600 真空隔絕室 602 對準機構 604 推擠件 606 臂 608 軸 610 安裝托架 612 滚子 614 引動器 616 引動指部 618 輪廓面 6 20 第一部份 622 第二部份 624 槽 626 固定件 628 螺孔 630 第一方向 702 第一凸緣 22 1279876 704 第 二 凸 緣 706 中 心 部份 708 第 一 孔 710 第 二 孔 712 銷 714 基 部 716 第 一 件 718 第 二 件 720 安 裝 孔 722 固 定 件 724 螺 孔 726 孔 徑 728 軸 730 螺 紋 端 732 棒 端 734 偏 壓 件 802 第 一 基 材 902 對 準 機構 904 引 動 器 906 對 準 凸緣 910 中 心 主 體 912 推 擠 件 914 滾 子 916 螺 絲 918 孔 920 孔 922 彈 簧 924 輪 廓 面 23

Claims (1)

  1. v 收年12月27曰修(更)正本 篡號蔚丨_「年pv月修正 玖、申請專利範圍： 1. 一種用以支持一基材的裝置，該裝置至少包含： 一支持板，具有一適用於支持該基材的第一側及一包 圍住一部分之該第一側的第一緣； 一第一主體，可旋轉地配置於該第一緣附近；以及 一第一推擠件，徑向地連接至該第一主體並適用以當 該第一主體旋轉時，在平行該第一側的一第一方向移動 該基材，其中該第一推播件具有一第一旋轉轴其為第一 主體的旋轉所界定及一第二旋轉軸其朝向與第一旋轉軸 不同之方向。 2.如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該第二旋轉軸 係垂直於該第一旋轉軸。 3 .如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該第一推擠件 具有一凹陷面，適用以移動該基材。 4. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該第一主體係 連接至一引動器。 5. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，更包含： 一滾子，連接於該第一主體的二旋轉軸與該第一推擠 件之間。 24 1279876 6. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該主體更 一第一凸緣，具有貫穿其而形成的第一孔； 一第二凸緣，具有貫穿其而形成的第二孔，該 第二孔與該第一主體的第一旋轉軸同軸對準； 一中心部份，連接該第一及第二凸緣；以及 一滾子，配置於該第一及第二凸緣間，該滾子 第二旋轉軸平行於該主體的第一軸，該第二軸係 該第一軸與該中心部份之間。 7. 如申請專利範圍第6項所述之裝置，更包含一偏 配置於該第一及第二凸緣之至少其中一者與該 間，該偏壓件適用以沿著該第一軸移動該第一主 8 .如申請專利範圍第6項所述之裝置，更包含： 一冷卻板；及 一引動指部，連接至該冷卻板，並適用以當該 相對於該第一主體作位移時，移動該滾子。 9.如申請專利範圍第1項所述之裝置，更包含： 一第二主體，可旋轉地配置於接近該支持板的 緣，該第二緣係配置於接近該第一緣；及 一第二推擠件，徑向地連接至該第二主體，並 當該第二主體旋轉時，在一第二方向橫向地移 材，該第二方向係不同於該第一方向。 包含： 第一及 具有一 界定於
    壓件， 滾子之 體0 冷卻板 一第二 適用於 動該基
    25 1279876 1 ο.如申請專利範圍第9項所述之裝置，更包含： 一第三主體，可旋轉地配置於接近該支持板的一第三 緣，該第三緣係配置於接近該第一緣並與該第二緣相對； 一第三推擠件，徑向地連接至該第三主體並適用以當 第三主體旋轉時，在相反於第一方向的方向上移動該基 材； 一第四主體，可旋轉地配置於接近該支持板的一第四 緣，該第四緣係配置於與第二緣相對；及 一第四推擠件，徑向地連接至該第四主體，並適用以 當第四主體旋轉時，在相反於第二方向的方向上移動該 基材。 11. 一種用以將一基材對準於一基材支持器上的方法，該方 法至少包含步驟： 將一基材放置於一支持器上； 旋轉一第一推擠件’以於一第一方向移動該基材； 旋轉一第二推擠件，以於一不同於第一方向的第二方 向移動該基材，以及 使該第一推擠件繞著一定義成垂直於該第一軸的第二 軸旋轉。 1 2.如申請專利範圍第11項所述之方法，其中該旋轉第一 推擠件的步驟更包含： 26 1279876 使該第一推擠件繞著定義成平行於該支持器的第一軸 旋轉。 1 3 .如申請專利範圍第1 2項所述之方法，更包含： 使該第一推擠件繞著一定義成垂直於該第一軸的一第 二軸旋轉。 1 4.如申請專利範圍第11項所述之方法，其中該旋轉第一 推擠件的步驟更包含： 將一冷卻板升高朝向該支持器，以造成該第一推擠件 的旋轉。 1 5. —種用以支持一基材的裝置，該裝置至少包含： 一支持板，具有一用以支持基材的第一側及一包圍住 一部份該第一側的第一緣，該支持板被固定在相對於該 第一側之垂直伸出的中心線； 一第一主體，配置於該第一緣附近，並且能夠在與支 持板平面平行的一軸上旋轉；以及 一第一推擠件，徑向地連接至該第一主體並適用以當 該第一主體旋轉時，將基材推向平行該第一側的一第一方 向。 1 6.如申請專利範圍第1 5項所述之裝置，其中該第一推擠 件具有一旋轉軸，其繞著該第一主體的該軸旋轉。 27 1279876 1 7.如申請專利範圍第1 5項所述之裝置，其中該第一推擠 件具有一由該第一主體之旋轉所定義的第一旋轉軸，及一 第二旋轉軸其可以選擇性地與該支持板之該中心線平行。
    1 8.如申請專利範圍第1 5項所述之裝置，其中該第一推擠 件可以選擇性地定位於繞著一平行於該主體之該中心線 的軸旋轉。 1 9.如申請專利範圍第1 5項所述之裝置，其中該第一推擠 件具有一凹陷的圓筒形表面。 20.如申請專利範圍第1 5項所述之裝置，其中該第一主體 連結一引動器。 2 1.如申請專利範圍第1 5項所述之裝置，其中更包含：
    一滾子，連結至介於該第一主體旋轉軸與該第一推擠 件間的該主體，該滚子具有與該第一主體之該旋轉軸平行 的旋轉軸。 22.如申請專利範圍第1 5項所述之裝置，其中該主體更包 含·· 一第一凸緣，具有貫穿其而形成的第一孔； 一第二凸緣，具有貫穿其而形成的第二孔，該第一及 28 1279876 第二孔與該第一主體的第一旋轉軸同軸對準； 一中心部份，連接該第一及第二凸緣；以及 一滾子，配置於該第一及第二凸緣間，該滾子具有一 第二旋轉軸平行於該主體的第一軸，該第二軸係界定於 該第一軸與該中心部份之間。 23. 如申請專利範圍第 22項所述之裝置，更包含一偏壓 件，該偏壓件配置在至少該第一和第二凸緣其中之一與該 滾子之間，該偏壓件適用在該第一軸推動該第一主體。 24. 如申請專利範圍第22項所述之裝置，更包含： 一冷卻板；及 一引動指部，連接至該冷卻板，並適用以當冷卻板相 對於第一主體作位移時，推動該滾子。 25. 如申請專’利範圍第1 5項所述之裝置，更包含： 一第二主體，可旋轉地配置於接近該支持板的一第二 緣，該第二緣係配置於接近該第一緣；以及 一第二推擠件，徑向地連接至該第二主體，並適用於 當該第二主體旋轉時，在一第二方向上推擠該基材，該 第二方向係不同於該第一方向。 26. 如申請專利範圍第25項所述之裝置，更包含： 一第三主體，可旋轉地配置於接近該支持板的一第三 29 1279876 緣，該第三緣係配置於接近該第一緣並與該第二緣相對 以及 一第三推擠件，徑向地連接至該第三主體，並且適 於當該第三主體轉動時，在與該第一方向相對的一方向 推動該基材， 一第四主體，可旋轉地配置於接近該支持板的一第 緣，該第四緣係配置於與該第二緣相對；以及 一第四推擠件，徑向地連接至該第四主體，並且適 於當該第四主體轉動時，在與該第二方向相對的一方向 推動該基材。 27. —種用以支持一基材的裝置，該裝置至少包含： 一支持板，適用於支持置於其上的一基材並可旋轉 被固定在通過其之垂直伸出的中心線； 一第一推擠件，具有一第一旋轉軸及一第二旋轉軸 該第一旋轉軸被定位成垂直於該第二旋轉軸，該第一推 件適用在第一方向上推動該基材，以及 一第二推擠件，具有一第三旋轉軸及一第四旋轉軸 該第三旋轉軸被定位成平行於該第一旋轉軸，並且垂直 該第四旋轉軸，該第二推擠件適用在與該第一方向相對 一第二方向上推動該基材。 28. 如申請專利範圍第27項所述之裝置，更包含： 一第三推擠件，具有配置成與該第一旋轉軸垂直之 用 上 四 用 上 地 ， 擠 ， 於 的 30 1279876 第五旋轉軸，及一第六旋轉軸被定位成與該第五旋轉軸垂 直，該第三推擠件適周於在一第三方向上推擠該基材；以 及
    一第四旋轉軸，具有配置成與該第五旋轉軸平行之一 第七旋轉軸，及一第八旋轉軸被定位成與該第七旋轉軸垂 直，該第一、第三、第五及第七軸係設置在一單一平面， 該第二推擠件適罔於在與該第三方向相對的一第四方向 上推動該基材。 29.如申請專利範圍第27項所述之裝置，其中該第一推擠 件更包含一凹陷接觸面。 3 0.如申請專利範圍第2 8項所述之裝置，其中該第三方向 與該第一推擠件之該凹陷接觸面栢切。
    3 1 .如申請專利範圍第27項所述之裝置，更包括； 一引動器連接該等推擠件至少其中之一。 3 2.如申請專利範圍第27項所述之裝置，其中該引動器係 可以相對該第一軸移動的冷卻板。 3 3 . —種用以支持一基材的裝置，該裝置至少包含： 一基材支持件； 一第一引動器； 31 1279876 一第一推擠件，可以藉由該第一引動器往該基材支持 件移動，並且具有一第一旋轉軸； 一第二引動件；以及 一第二推擠件，可以藉由該第二引動器往該基材支持 件移動，其中該第二推擠件係配置成可以推擠在該基材 支持件上的一基材，使該基材在引起該第一推擠件於該 第一旋轉軸上旋轉的一方向上位移。 3 4. —種用以支持一基材的裝置，該裝置至少包含： 一基材支持件； 一第一推擠件，具有一可以選擇性地在與該基材支持件 之一上表面的垂直方向旋轉的第一旋轉軸；以及 一第二推擠件，具有一可以選擇性地在與該基材支持 件之該上表面的垂直方向旋轉的第一旋轉軸。 3 5.如申請專利範圍第34項所述之裝置，其中該第一推擠 件之該第一旋轉軸可β選擇性地在與該第二推擠件之該第 一旋轉軸平行之至少二個位置之間旋轉。 3 6.如申請專利範圍第34項所述之裝置，其中該第一推擠 件及該第二推擠件之該等第一旋轉軸，可以在實質上水平 與實質上垂直之複數位置之間旋動。 3 7.如申請專利範圍第3 4項所述之裝置，其中該第一推擠 32 1279876 件之該第一旋轉軸係在一軸旋轉，該軸實質垂直於該第二 推擠件之該第一旋轉軸所旋轉的一軸。 3 8 . —種用以在一第一環境與一第二環境之間傳送基材之 負載鎖定室，至少包含： 一室主體，具有一第一基材傳送埠及一第二基材傳送 埠； 一支持板，配置於該室主體内並具有一適用以支持該 基材的第一側；以及 一第一推擠件，具有一第一旋轉軸及一與該第一旋轉 軸垂直之第二旋轉軸，該推擠件適用以當該主體繞著該 第一軸旋轉時，於第一方向中推擠該基材。 3 9 .如申請專利範圍第3 8項所述之負載鎖定室，其中該第 一推擠件具有一凹陷面適用於推動該基材。 40.如申請專利範圍第3.8項所述之負載鎖定室，其中該第 二旋轉軸與該第一旋轉軸垂直。 4 1.如申請專利範圍第3 8項所述之負載鎖定室，更包含： 一主體，配置於接近該支持板之一第一緣，並具有一與 該第一緣平行之第一旋轉軸。 42.如申請專利範圍第4 1項所述之負載鎖定室，其中該主 33 1279876 體更包含： 一第一凸緣，具有貫穿其而形成的一第一孔； 一第二凸緣，具有貫穿其而形成的一第二孔，該第一 及第二孔與該第一主體的第一旋轉軸同軸對準； 一中心部份，連接該第一及第二凸緣；以及 一滾子，配置於第一及第二凸緣間，該滾子具有一第 二旋轉軸平行於該主體的該第一軸，該第二軸係界定於 該第一軸與該中心部份之間。 4 3 . —種對準在一基材支持件上之基材的方法，該方法包 含： 放置一基材在一支持件上； 繞著一第一軸旋轉一第一推擠件，用以在一第一方向上 推動該基材；以及 在一不同於該第一方向的第二方向上推動該基材，而引 起該第一推擠件繞著一第二軸旋轉。 4 4.如申請專利範圍第43項所述之方法，其中該旋轉一第 一推擠件之步驟更包含： 使該第一推擠件繞著被界定為與該支持件平行之該第 一軸旋轉。 4 5.如申請專利範圍第44項所述之方法，更包含： 使該第一推擠件繞著被界定為與該第一軸垂直之該第 34 1279876 瓤. 二軸旋轉。 46. 如申請專利範圍第43項所述之方法，其中旋轉該第一 推擠件之步驟更包含： 朝向該支持件舉起一冷卻板來引起該第一推擠件旋轉。 47. 如申請專利範圍第43項所述之方法，其中在該第二方 向推動該基材之步驟更包含： 在一軸旋轉一第二推擠件，該一軸係與該第一推擠件之 該第一轴垂直。 4 8.如申請專利範圍第43項所述之方法，其中在該第一方 向移動該基材，引起該第二推擠件在一第二軸旋轉。 49. 一種對準在一基材支持件上之基材的方法，該方法包 含： 放置一基材在一支持件上； 朝向該支持件舉起一冷卻板來引動一對準機構；以及 回應該引動，將該對準機構之一第一推擠件移動朝向該 支持件之一中心’以在一第一方向推動該基材。 50. —種對準在一基材支持件上之基材的方法，該方法包 含： 放置一基材在一支持件上； 35 義 義1279876 朝向該支持件舉起一冷卻板來引動一對準機構；以及 回應該引動，旋轉一第一推擠件使之朝向該支持件之一 中心，以在一第一方向推動該基材；以及 使該第一推擠件繞著一第二軸旋轉，該第二軸被界定為 與該第一方向垂直。
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