JP4684268B2

JP4684268B2 - 真空処理装置、基板搬送方法

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Publication number: JP4684268B2
Application number: JP2007223378A
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Inventors: 健二吾郷
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Priority date: 2007-08-30
Filing date: 2007-08-30
Publication date: 2011-05-18
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Also published as: JP2009059741A

Description

本発明は基板搬送方法に係り、特に、複数枚の基板を一緒に搬送する基板搬送方法に関する。

近年では、処理速度の高速化のために、複数の基板を同時に運搬できる複数枚搬送型の搬送ロボットが開発されている。

図６は、基板搬送方法の従来技術の内容を説明するための平面図である。同図に記載された搬送ロボット１０は、伸縮自在なアーム部２０の一端が回転軸１２ａ，１２ｂに取り付けられており、他端にはハンド２５が設けられている。ハンド２５は、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを有しており、各載置部１５ａ，１５ｂには、基板１６ａ，１６ｂを一枚ずつ載置できるように構成されている。
回転軸１２ａ，１２ｂと、該回転軸１２ａ，１２ｂが取り付けられた台座１１が回転すると、ハンド２５は、直線移動と回転移動する。

この搬送ロボット１０は、図７に示すような、マルチチャンバ型の真空処理装置５０の搬送室５１の内部に配置されており、基板が配置されたハンド２５を搬送室５１に接続された処理室５４₂の内部に挿入し、処理室５４₂内に基板を配置する。

該処理室５４₂内で薄膜形成等の真空処理が終了した後、処理室５４₂内にハンド２５を挿入し、ハンド２５上に基板を乗せて搬出する。
処理室５４₁，５４₂の内部では基板が配置される位置は決まっており、その位置を第一，第二の処理位置８ａ，８ｂとすると、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ上の基板１６ａ，１６ｂを、それぞれ第一，第二の処理位置８ａ，８ｂ上に正確に配置する必要がある。

しかし、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂのいずれか一方を対応する第一，第二の処理位置８ａ又は８ｂに位置合わせすることはできても、設置誤差等により、第一，第二の処理位置８ａ，８ｂ間の距離や向きを第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ間の距離や向きと完全に一致させることができないから、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの両方を、第一，第二の処理位置８ａ，８ｂに対して同時に位置合わせすることはできない。

図６は、設置誤差により、ハンド２５の直線移動方向Ｖと第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂを結ぶ線分Ｆ₁とが成す角度θ₁、θ₂(θ₁＝θ₂)と、ハンド２５の直線移動方向Ｖと第一，第二の処理位置８ａ，８ｂの中心点Ｑａ，Ｑｂを結ぶ線分Ｆ₂の成す角度φ₁，φ₂(φ₁＝φ₂)とが等しくない場合を示している。このような設置誤差があると、アーム部２０の伸縮と台座１１の回転でハンド２５を移動させるだけでは、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ上の基板１６ａ，１６ｂを第一，第二の処理位置８ａ，８ｂに同時に正確に置くことはできない。

搬送ロボットは例えば下記文献に記載されている。
特開平１０−２７５８４８号公報

本発明は、上記ハンド上に配置された複数枚の基板を、処理位置に正確に配置することを課題とする。

上記課題を解決するため、本発明は、処理室と、前記処理室に接続された搬送室とを有し、前記搬送室には、同一方向に同一距離一緒に移動される第一，第二の載置部を有する搬送ロボットが配置され、前記第一，第二の載置部に基板をそれぞれ水平に配置して、前記第一，第二の載置部を前記搬送室内から前記処理室内に移動させ、前記処理室内に設定された第一，第二の処理位置上に前記基板をそれぞれ配置するように構成された真空処理装置であって、前記第一，第二の載置部は先端が離間し、開口が形成された水平な二本の指部をそれぞれ有し、前記第一，第二の処理位置には、高さが異なり、前記第一，第二の載置部の前記指部間に挿入可能な第一，第二の台座がそれぞれ配置され、前記指部間に前記第一，第二の台座を挿入させ、前記第一，第二の載置部を水平方向に移動させ、前記指部間の開口を通して前記第一，第二の台座を前記第一，第二の載置部の前記指部間から抜去できるように構成された真空処理装置である。
また、本発明は、処理室と、前記処理室に接続された搬送室とを有し、前記搬送室には、同一方向に同一距離一緒に移動される第一，第二の載置部を有する搬送ロボットが配置され、前記第一，第二の載置部に基板をそれぞれ水平に配置して、前記第一，第二の載置部を前記搬送室内から前記処理室内に移動させ、前記処理室内に設定された第一，第二の処理位置上に前記基板をそれぞれ配置するように構成された真空処理装置であって、前記第一，第二の載置部は先端が離間し、開口が形成された水平な二本の指部をそれぞれ有し、前記第一の載置部の前記指部と前記第二の載置部の前記指部は異なる高さに配置され、前記第一，第二の処理位置には、前記第一，第二の載置部の前記指部間に挿入可能な第一，第二の台座がそれぞれ配置され、前記指部間に前記第一，第二の台座を挿入させ、前記第一，第二の載置部を水平方向に移動させ、前記指部間の開口を通して前記第一，第二の台座を前記第一，第二の載置部の前記指部間から抜去できるようにに構成された真空処理装置である。
また、本発明は、前記第一，第二の載置部は、一緒に、鉛直な一の主回転軸線を中心とする回転移動と、前記回転軸線と垂直に交叉する放射方向に伸びる直線に沿った直線移動とが可能に構成された真空処理装置である。
また、本発明は、第一，第二の載置部上に第一，第二の基板をそれぞれ配置し、前記第一，第二の載置部が相対的に静止した状態で、鉛直な主回転軸線を中心とする回転移動と、前記主回転軸線と垂直な直線と平行な方向の直線移動とにより、前記第一，第二の載置部を対応する第一，第二の処理位置上にそれぞれ移動させ、前記第一，第二の載置部上に前記第一，第二の基板をそれぞれ配置する基板搬送方法であって、予め、前記第一，第二の処理位置上にそれぞれ第一，第二の台座を設け、前記第一，第二の載置部を、前記第一，第二の台座の上方にそれぞれ位置させた状態では、前記第一の台座からの前記第一の載置部の高さが、前記第二の台座からの前記第二の載置部の高さよりも低いようにしておき、前記第一，第二の載置部を前記第一，第二の台座上にそれぞれ位置させ、前記第一の載置部を前記第一の台座に対して位置合わせして降下させ、前記第一の基板を前記第一の台座上に配置した後、前記第二の載置部を前記第二の台座に対して位置合わせして降下させ、前記第二の基板を前記第二の台座上に配置する基板搬送方法である。

特殊な装置を設けなくても、ハンド上の複数の基板を正確な処理位置に配置することができる。

＜真空処理装置＞
図１の符号５０は、本発明の搬送方法を用いることができる搬送ロボットが配置された第一，第二例の真空処理装置を示している。この真空処理装置５０は、搬送室５１と、搬入室５２と、搬出室５３と、複数の処理室５４₁〜５４₃を有している。搬入室５２と搬出室５３と処理室５４₁〜５４₃は、搬送室５１の周囲に配置され、内部が搬送室５１の内部に接続されている。

搬送ロボット１０は、搬送室５１の内部に配置されている。
搬送ロボット１０の平面図を、図２、３に示す。
該搬送ロボット１０は、台座(主回転軸)１１と、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂと、アーム部２０と、ハンド２５とを有している。

台座１１と、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂは、それぞれモータ等の駆動装置に接続されており、台座１１は、台座１１の中央に位置する鉛直な主回転軸線３１を中心に水平回転できるように構成されている。
第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂは台座１１に設けられており、台座１１が回転すると第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂも台座１１と一緒に主回転軸線３１を中心に回転するように構成されている。
第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂの中心軸線は鉛直であり、その中心軸線を第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂとすると、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂは、第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂを中心に回転するように構成されている。

アーム部２０は、第一，第二の能動アーム１３ａ，１３ｂと、第一，第二の従動アーム１４ａ，１４ｂを有している。
第一，第二の能動アーム１３ａ，１３ｂの一端は第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂに取り付けられており、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂが回転すると、第一，第二の能動アーム１３ａ，１３ｂは第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂを中心に回転する。

第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂと主回転軸線３１は互いに平行であり、同一の平面内に位置している。また、第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂは、主回転軸線３１から等距離に位置している。

第一，第二の能動アーム１３ａ，１３ｂの他端には、第一，第二の従動アーム１４ａ，１４ｂの一端が回転可能に取り付けられており、第一，第二の従動アーム１４ａ，１４ｂの他端には、ハンド２５が回動可能に取り付けられている。

図中、符号３３ａ，３３ｂは、第一，第二の能動アーム１３ａ，１３ｂに対する第一，第二の従動アーム１４ａ，１４ｂの第一，第二の回転中心を示しており、符号３４ａ，３４ｂは第一，第二の従動アーム１４ａ，１４ｂに対するハンド２５の第一，第二の回動中心を示している。
第一，第二の回動中心３４ａ，３４ｂはハンド２５に対して静止しており、従って、第一，第二の回動中心３４ａ，３４ｂ間の距離は一定である。

第一，第二の能動アーム１３ａ，１３ｂと第一，第二の従動アーム１４ａ，１４ｂが取り付けられた部分は規制プレート３０に挿入されており、従って、第一，第二の回転中心３３ａ，３３ｂは規制プレート３０に対して静止しており、第一，第二の回転中心３３ａ，３３ｂ間の距離も一定である。

第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂと第一，第二の回転中心３３ａ，３３ｂを結ぶ線分の水平成分(Ｌａ，Ｌｂ)と、第一，第二の回転中心３３ａ，３３ｂと第一，第二の回動中心３４ａ，３４ｂを結ぶ線分の水平成分(Ｍａ，Ｍｂ)の大きさは全て等しくされ(Ｌａ＝Ｌｂ＝Ｍａ＝Ｍｂ)、また、第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂ間の水平方向の距離と、第一，第二の回転中心３３ａ，３３ｂ間の水平方向の距離と、第一，第二の回動中心３４ａ，３４ｂ間の水平方向の距離は互いに平行であり、大きさが互いに等しくされている。
これにより、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂは、同方向に同一角度しか回転できない。

第一，第二の回動中心３４ａ，３４ｂは、主回転軸線３１と第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂとが位置する鉛直な平面内に位置しており、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂが回転してハンド２５が移動する際にも、その関係が維持される。ハンド２５の高さは一定であり、水平面内で移動するから、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂが回転し、アーム部２０が伸縮する際には、ハンド２５は、主回転軸線３１を中心に放射方向に伸びる直線のうち、第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂと垂直に交叉する直線と平行に直線移動する。図２はアーム部２０が縮み、ハンド２５が放射方向に伸びる直線に沿って移動し、主回転軸線３１に近づいた状態、図３は、反対方向の移動により、主回転軸線３１から遠ざかった状態を示している。

ハンド２５には、基板１６ａ，１６ｂが配置される第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂが設けられている。後述するように、第一例の真空処理装置１では、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの高さは等しく、第二例の真空処理装置２では、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの高さは異なっている。

いずれにしろ、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂの回転によってハンド２５が直線移動する際には、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂは、ハンド２５の主回転軸線３１を中心に伸び、第一，第二の副回転軸線３２ａ，３２ｂと垂直に交叉する放射方向の直線と平行な方向に移動する。

また、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂは、台座１１の回転によって、主回転軸線３１を中心に回転移動する。
第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ上に基板１６ａ，１６ｂがそれぞれ配置された状態で、ハンド２５が直線移動と回転移動をすると、基板１６ａ，１６ｂを所望位置に搬送することができる。

第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ上にそれぞれ基板１６ａ、１６ｂを配置したときに、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂを通る鉛直線上に基板１６ａ，１６ｂの中心点が位置するように形成されている。

＜載置部と台座＞
処理室５４₁〜５４₃内に位置する第一，第二の処理位置８ａ，８ｂ上には、第一，第二の台座９ａ，９ｂが乗せられている。

本発明の第一例の真空処理装置１は、図４(ａ)〜(ｆ)に示すように、第一，第二の載置部１５ａ、１５ｂが同じ高さであって(基準水平面からの高さが同一。以下同じ)、第一，第二の台座９ａ，９ｂの高さは、一方が高く、他方が低くされている。ここでは、第一の台座９ａが高くされている。

第二例の真空処理装置２は、図５(ａ)〜(ｆ)に示すように、第一，第二の台座９ａ，９ｂの高さは同じであって、第一，第二の載置部１５ａ、１５ｂの高さが、一方が低く、他方が高くされている。ここでは、第一の載置部１５ａの方が低くされている。

第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを、第一，第二の台座９ａ，９ｂよりも上方に位置させた場合、第一の載置部１５ａと第一の台座９ａの上部との間の鉛直方向の距離(第一の載置部１５ａの第一の台座９ａからの高さ)の方が、第二の載置部１５ｂと第二の台座９ｂとの間の鉛直方向の距離(第二の載置部１５ｂの第二の台座９ｂからの高さ)よりも短く(低く)なっている。

逆に、後述するように、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂが、第一，第二の台座９ａ，９ｂの上部よりも下方にそれぞれ位置する場合、第二の載置部１５ｂと第二の台座９ｂの上部との間の鉛直方向の距離(第二の台座９ｂの上部の第二の載置部１５ｂからの高さ)の方が、第一の載置部１５ａと第一の台座９ａとの間の鉛直方向の距離(第一の台座９ａの上部の第一の載置部１５ａからの高さ)よりも短くなる。

第一，第二例の真空処理装置１，２の他の構造は、図１の符号５０で示した真空処理装置と同じ構造であり、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ同士は相対的に静止しており、一緒に上下移動と水平面内の移動をするように構成されている。
第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂは、Ｕ字形状に開き、一端に開口が形成されるように開いた二本一組の指部１８ａ，１９ａ，又は１８ｂ，１９ｂをそれぞれ有している。

第一の台座９ａの大きさは、第一の載置部１５ａの指部１８ａ，１９ａの間隔よりも小さく、第二の台座９ｂの大きさは、第二の載置部１５ｂの指部１８ｂ，１９ｂの間隔よりも小さくされており、第一，第二の台座９ａ，９ｂは、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの指部１８ａ，１９ａ，１８ｂ，１９ｂ間にそれぞれ挿入できるように構成されている。

＜基板搬送方法＞
第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ上の基板１６ａ，１６ｂを搬送し、基板１６ａ，１６ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂが、第一，第二の処理位置８ａ，８ｂの中心点Ｑａ，Ｑｂの鉛直上方に配置しようとする場合、第一，第二の処理位置８ａ，８ｂの中心点Ｑａ，Ｑｂを結ぶ線分の水平成分が、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂ間を結ぶ線分の水平成分と平行でない場合や、第一，第二の処理位置８ａ，８ｂの中心点Ｑａ，Ｑｂ間の距離が、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂ間の距離と異なる場合や、それらの組合せである場合は、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ上の基板１６ａ，１６ｂの中心点Ｐａ，Ｐｂを、第一，第二の処理位置８ａ，８ｂの中心点Ｑａ，Ｑｂ上に同時に位置させることはできない。

第一，第二例の真空処理装置１，２により、基板１６ａ，１６ｂを一枚ずつ正確に搬送する基板搬送方法について説明する。

先ず、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂ上に基板を配置した状態で、先ず、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂをいずれかの処理室５４₁〜５４₃内に搬入する。
アーム部２０の回転と伸縮により、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを、第一，第二の台座９ａ，９ｂ上に位置させ、台座からの高さが低い方の第一の載置部１５ａの中心点Ｐａが、第一の処理位置８ａの中心点Ｑａの鉛直上方に位置するように位置合わせし、静止させる(図４(ａ)、図５(ａ))。

次いで、第一の載置部１５ａを鉛直に降下させ、第一の台座９ａ上に、基板１６ａを乗せ(図４(ｂ)、図５(ｂ))、更に降下させると、第一の載置部１５ａは、基板１６ａから離間し、第一の載置部１５ａ上の基板１６ａは、第一の台座９ａ上の正確な位置に配置される(図４(ｃ)、図５(ｃ))。この状態では、第一の台座９ａは、第一の載置部１５ａの指部１８ａ，１９ａの間に挿入されている。

第二の載置部１５ｂは、第一の載置部１５ａの移動方向と同一方向に同じ距離だけ移動するから、第一の載置部１５ａが鉛直に降下すると、第二の載置部１５ｂも同一距離だけ鉛直に降下する。
第一の載置部１５ａが基板１６ａから離間した状態でも、第二の載置部１５ｂ上の基板１６ｂは、第二の台座９ｂの上方に位置し、第二の台座９ｂとは接触しないようにされている。

この状態では、第二の載置部１５ｂの中心点Ｐｂは、第二の処理位置８ｂの中心点Ｑｂの真上からずれた場所に位置している。
第一の台座９ａと、第一の載置部１５ａの指部１８ａ，１９ａとの間には隙間が形成されている。

第一の載置部１５ａの中心点Ｐａが、第一の処理位置８ａの中心点Ｑａの鉛直上方に位置する状態では、隙間の大きさ(第一の台座９ａと、第一の載置部１５ａの指部１８ａ，１９ａとの間の水平距離)Ｌ_Sは、第二の載置部１５ｂの中心点Ｐｂと第二の処理位置８ｂの中心点Ｑｂとの間の水平方向の誤差距離Ｌ_Eよりも大きくなるように構成されている(Ｌ_S＞Ｌ_E)。
従って、第二の載置部１５ｂを水平面内で誤差距離Ｌ_Eがゼロになるように移動させることができる。

誤差距離Ｌ_Eがゼロの状態では、第二の載置部１５ｂの中心点Ｐｂが第二の処理位置８ｂの中心点Ｑｂの真上に位置する(図４(ｄ)、図５(ｄ))。

第二の載置部１５ｂの位置合わせ後、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを降下させ、第二の載置部１５ｂ上の基板１６ｂを、第二の台座９ｂ上に乗せ(図４(ｅ)、図５(ｅ))、更に降下させると、第二の載置部１５ｂは基板１６ｂから離間し、二枚の基板１６ａ、１６ｂは、第一，第二の台座９ａ，９ｂ上の正確な位置にそれぞれ配置される(図４(ｆ)、図５(ｆ))。

第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂは、底面と接触しない位置まで降下させ、アーム部２０を縮めると、第一，第二の台座９ａ，９ｂは、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂから抜去される。

以上は、第一，第二の副回転軸１２ａ，１２ｂが離間して配置された搬送ロボットについて説明したが、本発明は、第一，第二の副回転軸が同軸に配置され、第一，第二の副回転軸線が一致する搬送ロボットについても適用することができる。
また、ハンドが二以上の回転軸線(上記実施例では主回転軸線)を有し、回転軸線に対する向きを変更できる搬送ロボットについても有効である。

上記は処理室５４₁〜５４₃に基板を配置する手順について説明したが、第一，第二の処理位置８ａ，８ｂ上に配置された基板をハンド２５によって処理室５４₁〜５４₃外に搬出する際には、図４(ａ)〜(ｆ)や図５(ａ)〜(ｆ)で説明した手順の逆の手順を辿ればよい。

先ず、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを第一，第二の台座９ａ，９ｂ上の基板１６ａ，１６ｂの下に挿入する
第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂが第一，第二の台座９ａ，９ｂの上部よりも下方に位置する場合には、第二の載置部１５ｂと第二の台座９ｂの上部表面との間の距離の方が、第一の載置部１５ａと第一の台座９ａの上部表面との間の距離よりも短くなっている。

基板１６ａ，１６ｂは、第一，第二の台座９ａ，９ｂ上の正確な位置に配置されているものとすると、第二の載置部１５ｂの中心点Ｐｂが第二の処理位置８ｂの中心点Ｑｂを通る鉛直線上に位置するように位置合わせをし(図４(ｆ)、図５(ｆ))、次いで、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを上方に移動させると、第二の台座９ｂ上の基板１６ｂが第二の載置部１５ｂと接触し(図４(ｅ)、図５(ｅ))、第一の載置部１５ａは、第一の基板１６ａと接触しない程度に、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを上方に移動させると、第二の台座９ｂ上から第二の載置部５ｂ上に移載される(図４(ｄ)、図５(ｄ))。

この状態では、第一の載置部１５ａの指部１８ａ，１９ａの間には、第一の台座９ａが挿入されている。その隙間の大きさＬ_Sは、第一の載置部１５ａの中心点Ｐａと、第一の処理位置８ａの中心点Ｑａとの間の水平方向の誤差距離Ｌ_Eよりも大きい。

従って、誤差距離Ｌ_Eがゼロになるように第一，第二の載置部１５ａ、１５ｂを移動させることができる。誤差距離Ｌ_Eがゼロになると、第一の載置部１５ａの中心点Ｐａは、第一の処理位置８ａの中心点Ｑａの鉛直線上に位置す(図４(ｃ)、図５(ｃ))。

その状態で、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂを上方に移動させると、第一の台座９ａ上の基板１６ａの裏面が第一の載置部１５ａと接触し(図４(ｂ)、図５(ｂ))、更に上方に移動させると、第一の台座９ａ上の基板１６ａは、第一の載置部１５ａ上に移載される。
この状態では、第一，第二の台座９ａ，９ｂは、第一，第二の載置部１５ａ，１５ｂよりも下方に位置しており、ハンド２５は自由に移動させることができる。

なお、上記はハンド２５に設けられた二個の載置部１５ａ，１５ｂにより、二枚の基板１６ａ，１６ｂをそれぞれ配置する場合を説明したが、三個以上の載置部をハンドに設け、各載置部にそれぞれ配置された基板を正確な位置に配置する場合も本発明に含まれる。

本発明を適用できる真空処理装置の例を説明するための概略平面図アーム部が縮んだ状態の搬送ロボットの平面図アーム部が伸びた状態の搬送ロボットの平面図 (ａ)〜(ｆ)：第一例の真空処理装置のハンド上から処理室内に基板を移載する手順を説明するための図 (ａ)〜(ｆ)：第二例の真空処理装置のハンド上から処理室内に基板を移載する手順を説明するための図基板搬送方法を説明するための図面従来技術の搬送方法を説明するための図面

符号の説明

１０……搬送ロボット
１５ａ，１５ｂ……第一，第二の載置部
８ａ，８ｂ……第一，第二の処理位置
２５……ハンド
３１……回転軸線

Claims

処理室と、前記処理室に接続された搬送室とを有し、
前記搬送室には、同一方向に同一距離一緒に移動される第一，第二の載置部を有する搬送ロボットが配置され、
前記第一，第二の載置部に基板をそれぞれ水平に配置して、前記第一，第二の載置部を前記搬送室内から前記処理室内に移動させ、前記処理室内に設定された第一，第二の処理位置上に前記基板をそれぞれ配置するように構成された真空処理装置であって、
前記第一，第二の載置部は先端が離間し、開口が形成された水平な二本の指部をそれぞれ有し、
前記第一，第二の処理位置には、高さが異なり、前記第一，第二の載置部の前記指部間に挿入可能な第一，第二の台座がそれぞれ配置され、
前記指部間に前記第一，第二の台座を挿入させ、前記第一，第二の載置部を水平方向に移動させ、前記指部間の開口を通して前記第一，第二の台座を前記第一，第二の載置部の前記指部間から抜去できるように構成された真空処理装置。
処理室と、前記処理室に接続された搬送室とを有し、
前記搬送室には、同一方向に同一距離一緒に移動される第一，第二の載置部を有する搬送ロボットが配置され、
前記第一，第二の載置部に基板をそれぞれ水平に配置して、前記第一，第二の載置部を前記搬送室内から前記処理室内に移動させ、前記処理室内に設定された第一，第二の処理位置上に前記基板をそれぞれ配置するように構成された真空処理装置であって、
前記第一，第二の載置部は先端が離間し、開口が形成された水平な二本の指部をそれぞれ有し、
前記第一の載置部の前記指部と前記第二の載置部の前記指部は異なる高さに配置され、
前記第一，第二の処理位置には、前記第一，第二の載置部の前記指部間に挿入可能な第一，第二の台座がそれぞれ配置され、
前記指部間に前記第一，第二の台座を挿入させ、前記第一，第二の載置部を水平方向に移動させ、前記指部間の開口を通して前記第一，第二の台座を前記第一，第二の載置部の前記指部間から抜去できるようにに構成された真空処理装置。
前記第一，第二の載置部は、一緒に、鉛直な一の主回転軸線を中心とする回転移動と、前記回転軸線と垂直に交叉する放射方向に伸びる直線に沿った直線移動とが可能に構成された請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の真空処理装置。
第一，第二の載置部上に第一，第二の基板をそれぞれ配置し、前記第一，第二の載置部が相対的に静止した状態で、鉛直な主回転軸線を中心とする回転移動と、前記主回転軸線と垂直な直線と平行な方向の直線移動とにより、前記第一，第二の載置部を対応する第一，第二の処理位置上にそれぞれ移動させ、前記第一，第二の載置部上に前記第一，第二の基板をそれぞれ配置する基板搬送方法であって、
予め、前記第一，第二の処理位置上にそれぞれ第一，第二の台座を設け、前記第一，第二の載置部を、前記第一，第二の台座の上方にそれぞれ位置させた状態では、前記第一の台座からの前記第一の載置部の高さが、前記第二の台座からの前記第二の載置部の高さよりも低いようにしておき、
前記第一，第二の載置部を前記第一，第二の台座上にそれぞれ位置させ、
前記第一の載置部を前記第一の台座に対して位置合わせして降下させ、前記第一の基板を前記第一の台座上に配置した後、
前記第二の載置部を前記第二の台座に対して位置合わせして降下させ、前記第二の基板を前記第二の台座上に配置する基板搬送方法。