TWI394647B - 基板搬送機器人、真空處理裝置 - Google Patents

基板搬送機器人、真空處理裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI394647B
TWI394647B TW097131732A TW97131732A TWI394647B TW I394647 B TWI394647 B TW I394647B TW 097131732 A TW097131732 A TW 097131732A TW 97131732 A TW97131732 A TW 97131732A TW I394647 B TWI394647 B TW I394647B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
main
arm
auxiliary
arms
rotation axis
Prior art date
Application number
TW097131732A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200916287A (en
Inventor
Kenji Ago
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Publication of TW200916287A publication Critical patent/TW200916287A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI394647B publication Critical patent/TWI394647B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J11/00—Manipulators not otherwise provided for
    • B25J11/0095—Manipulators transporting wafers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J15/00—Gripping heads and other end effectors
    • B25J15/0052—Gripping heads and other end effectors multiple gripper units or multiple end effectors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J9/00—Programme-controlled manipulators
    • B25J9/02—Programme-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type
    • B25J9/04—Programme-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type by rotating at least one arm, excluding the head movement itself, e.g. cylindrical coordinate type or polar coordinate type
    • B25J9/041—Cylindrical coordinate type
    • B25J9/042—Cylindrical coordinate type comprising an articulated arm
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J9/00—Programme-controlled manipulators
    • B25J9/02—Programme-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type
    • B25J9/04—Programme-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type by rotating at least one arm, excluding the head movement itself, e.g. cylindrical coordinate type or polar coordinate type
    • B25J9/041—Cylindrical coordinate type
    • B25J9/042—Cylindrical coordinate type comprising an articulated arm
    • B25J9/043—Cylindrical coordinate type comprising an articulated arm double selective compliance articulated robot arms [SCARA]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J9/00—Programme-controlled manipulators
    • B25J9/10—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements
    • B25J9/106—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements with articulated links
    • B25J9/1065—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements with articulated links with parallelograms
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00—Machine element or mechanism
    • Y10T74/20—Control lever and linkage systems
    • Y10T74/20207—Multiple controlling elements for single controlled element
    • Y10T74/20305—Robotic arm

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Description

基板搬送機器人、真空處理裝置
本發明，係有關於基板搬送機器人之技術領域，特別是，係有關於能夠將多數枚之基板作搬送之基板搬送機器人。
從先前起，在半導體製造裝置中，係在進行各種加工處理之製程處理室處，使用有將基板作搬入搬出之基板搬送機器人。
例如，在專利文獻1所記載之基板搬送機器人中，係將2根的腕部分別安裝於相異之驅動軸上，並成為若是使各驅動軸旋轉，則係獨立作伸縮移動之構成，又，係成為若是將2根的腕部安裝於相同之旋轉軸上，並使此旋轉軸作旋轉，則會一起作旋轉移動之構成。
此種基板搬送機器人，係藉由3軸而使2根的腕部有效率地進行動作，而成為能夠以簡單的構成來搬送複數枚之基板。
[專利文獻1]日本特開2006-13371號公報
然而，在上述一般之構成中，由於2根的腕部係被固定在相同之旋轉軸上，因此，腕部間之角度係被固定，故 而，係無法對被載置於2根的腕部上之基板間的距離作改變。
當基板搬送機器人在處理室處將基板作搬入搬出時，當處理室內之載置位置，係與被配置在基板搬送機器人上之基板的間隔相異的情況時，則係僅能夠將基板1枚1枚地作搬送，而會導致搬送時間之延遲。
本發明，係為了解決此種先前技術中之課題而被創作者，其目的，係在於提供一種：藉由少軸數，而能夠將複數之基板在短時間內作授受的基板搬送機器人。
為了解決上述課題，本發明，係為一種基板搬送機器人，係被設置有：分別將相同之主旋轉軸線作為中心軸線，並以將前述主旋轉軸線作為中心而旋轉的方式來作配置之第1~第4驅動軸；和A旋轉構件；和B旋轉構件；和分別以前述主旋轉軸線為中心而旋轉之第1~第4腕部；和被設置於前述第1~第4腕部處，並經由前述第1~第4腕部之伸縮而作直線移動之第1~第4載置部，該基板搬送機器人，其特徵為：在從前述主旋轉軸線而分別相離開之位置處，係被設置有：經由前述A旋轉構件之旋轉而以前述主旋轉軸線為中心來作旋轉移動之第1、第3副旋轉軸線、和經由前述B旋轉構件之旋轉而以前述主旋轉軸線為中心來作旋轉移動之第2、第4副旋轉軸線，在前述第1~第4腕部處，係分別被設置有：第1~第4主主動臂、和第1~第4 輔助主動臂、和第1~第4主從動臂，前述第1~第4主主動臂，係分別被固定於前述第1~第4驅動軸處，前述第1、第3輔助主動臂，係分別以前述第1、第3副旋轉軸線為中心，而可旋動地被配置，前述第2、第4輔助主動臂，係分別以前述第2、第4副旋轉軸線為中心，而可旋動地被配置，前述第1~第4載置部，係經由前述第1~第4主從動臂而分別被安裝於前述第1~第4主主動臂處，前述第1~第4載置部，係以經由前述第1~第4驅動軸之以前述主旋轉軸線為中心的旋轉而分別作直線移動的方式而被構成，前述第1~第4主主動臂，係經由規制構件而分別被連接於前述第1~第4輔助主動臂處，並依據前述第1~第4旋轉軸之旋轉而分別作旋轉，而前述第1~第4載置部係以在前述主旋轉線周圍分別作旋轉移動的方式而被構成。
又，本發明，係為一種基板搬送機器人，其中，前述第1主主動臂與前述第1輔助主動臂，係被平行配置，前述第2主主動臂與前述第2輔助主動臂，係被平行配置，前述第3主主動臂與前述第3輔助主動臂，係被平行配置，前述第4主主動臂與前述第4輔助主動臂，係被平行配置，前述第1~第4主主動臂之前端與前述第1~第4輔助主動臂之前端，係分別可旋動地被安裝於第1~第4規制構件處，在前述第1主從動臂處，係被平行配置有第1輔助從動臂，在前述第2主從動臂處，係被平行配置有第2輔助從動臂，在前述第3主從動臂處，係被平行配置有第3輔助從動臂，在前述第4主從動臂處，係被平行配置有第4輔助從動臂，前述 第1~前述第4主從動臂與前述第1~第4輔助從動臂之根部，係可旋動地被安裝於前述第1~第4規制構件處，前述第1~前述第4主從動臂與前述第1~第4輔助從動臂之前端，係可旋動地被安裝於前述第1~第4載置部處。
又，本發明，係為一種基板搬送機器人，其中，前述第1~第4主主動臂，係分別被配置在相異之高度，前述第1~第4主從動臂，係分別被配置在相異之高度，前述第1~第4載置部彼此，係分別被配置在相異之高度，前述第1~第4載置部，係被構成為可不相互衝突地而在前述主旋轉軸線周圍作旋轉。
又，本發明，係為一種基板搬送機器人，其中，前述第1副旋轉軸線與前述第3副旋轉軸線，係被配置在相分離之位置處，前述第2副旋轉軸線與前述第4副旋轉軸線，係被配置在相分離之位置處。
又，本發明，係為一種基板搬送機器人，其中，前述第1副旋轉軸線與前述第3副旋轉軸線，係被配置在一致之位置處，前述第2副旋轉軸線與前述第4副旋轉軸線，係被配置在一致之位置處。
又，本發明，係為一種真空處理裝置，係為具備有可進行真空排氣之搬送室、和被連接於前述搬送室而將處理對象物在真空氛圍中作處理之處理室的真空處理裝置，其特徵為：在前述搬送室內，係被配置有上述之任一者的基板搬送機器人。
由於係能夠對被載置於基板搬送機器人上之第1、第3基板間的距離和第2、第4基板間之距離分別作改變，因此，能夠將與載置位置係為多樣化之處理室之間的基板授受，在短時間內進行。
圖1之符號1，係為本發明之真空處理裝置的模式平面圖。此真空處理裝置1，係具備有：搬送室2、和分別被連接於搬送室2處之1又或是複數的處理室3~8、和被配置在搬送室2之內部的本發明之搬送機器人10。
圖2，係為本發明之其中一例的基板搬送機器人10之平面圖，圖3係為側面圖。
此基板搬送機器人10，係具備有第1~第4驅動軸111 ~114 ；和A旋轉構件13；和B旋轉構件14。
第1~第4驅動軸111 ~114 、和A旋轉構件13、和B旋轉構件14，係鉛直且同心地被配置，並被構成為能夠以身為各軸之中心軸線的相同之主旋轉軸線O為中心而分別獨立作旋轉之構成。
又，基板搬送機器人10，係具備有第1~第4腕部201 ~204 ；和第1~第4載置部151 ~154 。
第1~第4腕部201 ~204 ，係分別具備有：第1~第4主主動臂211 ~214 、和第1~第4輔助主動臂221 ~224 、和第1~第4主從動臂231 ~234 、和第1~第4輔助從動臂241 ~244 、和平板狀之第1~第4規制構件251 ~254 。
第1~第4主主動臂211 ~214 之根部，係分別被固定在第1~第4驅動軸111 ~114 處，並成為若是第1~第4驅動軸111 ~114 旋轉，則第1~第4主主動臂211 ~214 係與第1~第4驅動軸111 ~114 之旋轉角度為相同角度相同方向地在水平面內作旋轉之構成。
在A旋轉構件13之從主旋轉軸線O而相分離的位置處，係被設置有第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 ，同樣的，在B旋轉構件14之從主旋轉軸線O而相分離的位置處，係被設置有第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 。主旋轉軸線O與第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 ，係成為鉛直。
若是將A旋轉構件13中之主旋轉軸線O與第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 之間的部分分別設為第1、第3旋轉臂161 、163 ，將B旋轉構件14中之主旋轉軸線O與第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 之間的部分分別設為第2、第4旋轉臂162 、164 ，則在第1~第4旋轉臂161 ~164 之前端處，第1~第4輔助主動臂221 ~224 之根部，係分別以第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 為中心而在水平面內可作旋動地被作安裝。
但是，在此實施例中，係構成為：第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 係為一致，同樣的，第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 亦係為一致，而第1、第3旋轉臂161 、163 ，和第2、第4旋轉臂162 、164 ，係分別藉由A、B旋轉構件13、14之相同部分而被構成，第1、第3輔助主動臂221 、223 ，係分別以相同之旋轉軸線(第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 )為中心而 旋動，而第2、第4輔助主動臂222 、224 ，係亦分別以相同之旋轉軸線(第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 )為中心而旋動。
但是，亦可將第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 相分離而作設置，並將第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 相分離而作設置。例如，係可以主旋轉軸線O為中心，而將第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 配置在相分離了180°的位置，並將第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 配置在相分離了180°的位置。
在第1主主動臂211 之前端與第1輔助主動臂221 之前端處，係以能夠使第1主主動臂211 與第1輔助主動臂221 進行旋動的方式，而被設置有第1規制構件251 。
在此第1規制構件251 處，第1主從動臂231 之根部與第1輔助從動臂241 之根部，係以可在水平面內作旋動的方式而被安裝，進而，在第1主從動臂231 與第1輔助從動臂241 之前端部份處，係以能夠使第1主從動臂231 與第1輔助從動臂241 在水平面內作旋動的方式，而被安裝有第1載置部151 。
同樣的，在第2、第4主主動臂212 、214 之前端與第2、第4輔助主動臂222 、224 之前端處，係以能夠使第2、第4主主動臂212 、214 與第2、第4輔助主動臂222 、224 在水平面內進行旋動的方式，而被設置有第2、第4規制構件252 、254 。
又，在第2、第4規制構件252 、254 處，第2、第4主從動臂232 、234 之根部與第2、第4輔助從動臂242 、244 之根 部，係分別以可在水平面內作旋動的方式而被安裝，進而，在第2、第4主從動臂232 、234 與第2、第4輔助從動臂242 、244 之前端部份處，係以能夠在水平面內作旋動的方式，而被安裝有第2、第4載置部152 、154 。
在本實施例中，在第1~第4規制構件251 ~254 上，第1~第4主從動臂231 ~234 之根部，係與第1~第4主主動臂211 ~214 之前端部份被連接在相同的場所，第1~第4輔助從動臂241 ~244 之根部，係與第1~第4輔助主動臂221 ~224 之前端部份被連接在相同的場所，第1~第4主主動臂211 ~214 與第1~第4主從動臂231 ~234 ，係被構成為在通過該些之中心軸線的相同之旋動軸線周圍而分別作旋動，第1~第4輔助主動臂221 ~224 與第1~第4輔助從動臂241 ~244 ，亦係被構成為在通過該些之中心軸線的相同之旋動軸線周圍而分別作旋動。
各主動以及從動臂211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 之旋動中心，係為鉛直，並被設為對於主旋轉軸線O與第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 而相平行，各臂161 ~164 、211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 與第1~第4載置部151 ~154 ，係被構成為若是各臂161 ~164 、211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 作旋動，則能夠在水平面內作移動，若是在分別被設置於第1~第4載置部151 ~154 處的後述之第1~第4支持臂181 ~184 的前端上配置基板30，則能夠將基板30作搬運。
特別是，若是第1驅動軸111 與A旋轉構件13在同一角 度且同方向上作旋轉，則第1副旋轉軸線s1 ，與第1腕部201 內之各臂211 、221 、231 、241 ，與第1規制構件251 ，以及第1載置部151 ，係以相互相對性靜止的狀態下而一起旋轉，而基板30，係以主旋轉軸線為中心而作旋轉移動。
但是，此時，由於被設置在A旋轉構件13處之第3副旋轉軸線s3 ，亦會在相同方向上旋轉同一角度，因此，在第3腕部203 上之基板30亦會移動，而無法使第1載置部151 與第3載置部153 上之基板30相互獨立地作移動。在第2載置部152 與第4載置部154 之間，亦係為相同情況，而無法相互獨立地進行移動。
另一方面，由於A旋轉構件13與B旋轉構件14係可分別獨立地作旋轉，因此，可將第1載置部151 與第2載置部152 相互獨立地作移動。在第3載置部153 與第4載置部154 之間，亦係為相同情況。
在本發明中，若是將第1、第2腕部201 、202 作為一組，並將第3、第4腕部203 、204 作為另外一組，則藉由對A旋轉構件13與B旋轉構件14之間的角度作改變，能夠將第1載置構件151 與第2載置構件152 之間的距離或是相對性的位置、又或是第3載置構件153 與第4載置構件154 之間的距離或是相對性的位置作變更。
圖4，係為展示第1、第2腕部201 、202 之平面圖，圖5，係為展示第3、第4腕部203 、204 之平面圖。圖6，係為展示各構件之結合狀態的模式圖。
在此圖4~圖6中，係被記載有表示旋動軸線間之距離 或是主旋轉軸線O與旋動軸線間之距離的符號。
符號a1 ~a4 ，係為第1~第4主主動臂211 ~214 之相對於第1~第4規制構件251 ~254 的旋動軸線，符號r1 ~r4 ，係為第1~第4輔助主動臂221 ~224 之相對於第1~第4規制構件251 ~254 的旋動軸線。
各旋轉軸線O、s1 ~s4 ，和各旋動軸線a1 ~a4 、r1 ~r4 ，係被配置為垂直。
關於第1~第4腕部201 ~204 ，係以使將主旋轉軸線O和第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 和旋動軸線a1 ~a4 以及r1 ~r4 作水平連結而形成的四角形Os1 r1 a1 、Os2 r2 a2 、Os3 r3 a3 、Os4 r4 a4 成為平行四邊形(包含正方形、長方形、菱形)的方式，來設定軸線間之距離。
進而，在此實施例中，主旋轉軸線O與第1~第4主主動臂211 ~241 之旋動軸線a1 ~a4 間之距離Oa1 ~Oa4 ，係被設為相同之距離Oa，故而，和該些相平行之第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 與第1~第4輔助主動臂221 ~224 之旋動軸線r1 ~r4 間之距離s1 r1 ~s4 r4 ，亦係成為和主旋轉軸線O與第1~第4主主動臂211 ~241 之旋動軸線a1 ~a4 間之距離Oa為同樣距離的sr(Oa=sr)。
同樣的，關於第1~第4主主動臂211 ~214 與第1~第4輔助主動臂221 ~224 間之距離，主旋轉軸線O與第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 間之距離Os1 ~Os4 ，係被設為相同之距離Os(如上述一般，在此實施例中，第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 係為一致，而第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 亦為一 致)，故而，第1~第4主主動臂211 ~214 之旋動軸線a1 ~a4 與第1~第4輔助主動臂221 ~224 之旋動軸線r1 ~r4 間之距離a1 r1 ~a4 r4 ，係成為和該距離Os為同樣距離的ar(Os=ar)。
接下來，圖4~6中之符號c1 ~c4 ，係展示第1~第4主從動臂231 ~234 之相對於第1~第4規制構件251 ~254 的旋動軸線，而符號d1 ~d4 係為展示第1~第4輔助從動臂241 ~244 之相對於第1~第4規制構件251 ~254 的旋動軸線(如上所述一般，在此實施例中，第1~第4主從動臂231 ~234 之旋動軸線c1 ~c4 係與第1~第4主主動臂211 ~214 之旋動軸線a1 ~a4 一致，而第1~第4輔助從動臂241 ~244 之旋動軸線d1 ~d4 係與第1~第4輔助主動臂221 ~224 之旋動軸線r1 ~r4 一致)。
又，符號h1 ~h4 ，係為展示第1~第4主從動臂231 ~234 之相對於第1~第4載置部151 ~154 的旋動軸線，符號i1 ~i4 ，係為展示第1~第4輔助從動臂241 ~244 之相對於第1~第4載置部151 ~154 的旋動軸線。
各旋動軸線c1 ~c4 、d1 ~d4 、h1 ~h4 、i1 ~i4 ，係被作垂直配置，並以使將第1~第4主從動臂231 ~234 之兩端的旋動軸線c1 ~c4 、h1 ~h4 和第1~第4輔助從動臂241 ~244 之兩端的旋動軸線d1 ~d4 、i1 ~i4 作水平連結而形成的四角形c1 h1 i1 d1 、c2 h2 i2 d2 、c3 h3 i3 d3 、c4 h4 i4 d4 成為平行四邊形(包含正方形、長方形、菱形)的方式，來設定旋動軸線間之距離。
又，在此實施例中，關於第1~第4主從動臂231 ~234 ，係將其之兩端的旋動軸線c1 ~c4 、h1 ~h4 間的距離c1 h1 ~c4 h4 設為相同之距離ch，故而，關於第1~第4輔助從動臂241 ~244 ，其之兩端的旋動軸線d1 ~d4 、i1 ~i4 間的距離d1 i1 ~d4 i4 ，係成為與該距離ch相同之距離di(ch=di)。
同樣的，關於第1~第4規制構件251 ~254 與第1~第4載置部151 ~154 ，第1~第4規制構件251 ~254 上之旋動軸線c1 ~c4 、d1 ~d4 間的距離c1 d1 ~c4 d4 ，係被設為相同之距離cd，故而，第1~第4載置部151 ~154 上之旋動軸線h1 ~h4 、i1 ~i4 間的距離h1 i1 ~h4 i4 ，係成為與該距離cd相同之距離hi(cd=hi)。
包含有第1~第4主主動臂211 ~214 之平行四邊形Os1 r1 a1 、Os2 r2 a2 、Os3 r3 a3 、Os4 r4 a4 中的第1~第4旋轉臂161 ~164 之兩端的邊Os1 ~Os4 、和第1~第4規制構件251 ~254 上的一邊a1 r1 ~a4 r4 ，係為相互平行，而包含有第1~第4主從動臂231 ~234 之平行四邊形c1 h1 i1 d1 、c2 h2 i2 d2 、c3 h3 i3 d3 、c4 h4 i4 d4 中的第1~第4規制構件251 ~254 上的一邊c1 d1 ~c4 d4 ，係與一邊a1 r1 ~a4 r4 為相互平行(於此，邊c1 d1 ~c4 d4 與a1 r1 ~a4 r4 係為一致，而距離cd=距離ar)。
A旋轉構件13或B旋轉構件14係為靜止，故而，在第1~第4旋轉臂161 ~164 為靜止的狀態下，若是第1~第4驅動軸111 ~114 作旋轉，則第1~第4腕部201 ~204 之平行四 邊形係變形。
各腕部201 ~204 之2個的平行四邊形Os1 r1 a1 、Os2 r2 a2 、Os3 r3 a3 、Os4 r4 a4 、c1 h1 i1 d1 、c2 h2 i2 d2 、c3 h3 i3 d3 、c4 h4 i4 d4 中之相互平行的四邊Os1 ~Os4 、a1 r1 ~a4 r4 、c1 d1 ~c4 d4 、h1 i1 ~h4 i4 之長度，由於係為相等，因此，另外之四邊Oa1 ~Oa4 、s1 r1 ~s4 r4 、c1 h1 ~c4 h4 、d1 i1 ~d4 i4 之長度若是相等，則將第1~第4載置部151 ~154 上之旋動軸線作水平連接之一邊，係在該邊之延長線上作直線移動。
由於第1~第4載置部151 ~154 係相對於直線移動之邊而被固定，因此，在A旋轉構件13或B旋轉構件14為靜止之狀態下，若是第1~第4驅動軸111 ~114 作旋轉，則第1~第4載置部151 ~154 ，係於其之一邊的延長線上作直線移動。
另一方面，當第1驅動軸111 與A旋轉構件13在同一角度同一方向上作旋轉的情況時，第1腕部201 與第1載置部151 ，係在主旋轉軸線O之周圍於同一方向上旋轉同一角度，同樣的，若是第2驅動軸112 與B旋轉構件14、第3驅動軸113 與A旋轉構件13、第4驅動軸114 與B旋轉構件14在同一角度同一方向作旋轉，則第2~第4腕部202 ~204 與第2載置部152 ~154 ，係在主旋轉軸線O之周圍而在同一方向上旋轉同一角度，因此，第1~第4載置部151 ~154 係被作旋轉移動。
故而，若是將直線移動與旋轉移動作組合，則能夠使第1~第4載置部151 ~154 移動至所期望之場所處。
特別是，若是將第1、第2腕部201 、202 作為一組，並將第3、第4腕部203 、204 作為另外一組，則藉由對A旋轉構件13與B旋轉構件14之間的角度作改變，能夠將同組之載置部151 ~154 之間(第1載置部151 與第2載置部152 之間、又或是第3載置部153 與第4載置部154 之間)的間隔或是相對性的位置作變化，因此若是在相同之處理室3~8內插入同組之載置部151 ~154 ，則能夠將2枚的基板30一起作搬入搬出。
若是在處理室3~8內設置可上下移動之移載機構，則在進行搬入時，係可使被載置在第1~第4載置部151 ~154 之前端處的基板30，位置在移載機構之上方，並使移載機構上升，而將第1~第4載置部151 ~154 上的基板移載至移載機構之上方，而在進行搬出時，係可在被承載於移載機構上之基板30的下方處，插入第1~第4載置部151 ~154 之前端，並使移載機構降下，而將基板30移載至第1~第4載置部151 ~154 上。
又，亦可將第1~第4驅動軸111 ~114 、和A旋轉構件13、和B旋轉構件14，構成為可上下移動，而在進行搬入時，使被載置在第1~第4載置部151 ~154 之前端處的基板30，位置在移載機構之上方，並使第1~第4載置部151 ~154 降下，而將第1~第4載置部151 ~154 上的基板30移載至移載機構，而在進行搬出時，在被承載於移載機構上之基板30的下方處，插入第1~第4載置部151 ~154 之前端，並使第1~第4載置部151 ~154 上升，而將基板30移載至第 1~第4載置部151 ~154 上。
另外，各臂161 ~164 、211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 ，係被配置在相異之高度處，而與第1~第4規制構件251 ~254 或是第1~第4載置部151 ~154 為相異高度之臂161 ~164 、211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 ，係經由被作鉛直配置之連結管271 ~274 ，而被連接於第1~第4規制構件251 ~254 或是第1~第4載置部151 ~154 。
各臂161 ~164 、211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 ，與各載置部151 ~154 ，由於高度係為相異，因此，當第1~第4載置部151 ~154 在水平面內移動時，各臂161 ~164 、211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 與各載置部151 ~154 係成為不會相互衝突。
各腕部201 ~204 之2個的平行四邊形Os1 r1 a1 、Os2 r2 a2 、Os3 r3 a3 、Os4 r4 a4 、c1 h1 i1 d1 、c2 h2 i2 d2 、c3 h3 i3 d3 、c4 h4 i4 d4 之邊中，四邊Os1 ~Os4 、a1 r1 ~a4 r4 、c1 d1 ~c4 d4 、h1 i1 ~h4 i4 之長度係為相等(Os=ar=cd=hi)，而一邊(a1 r1 ~a4 r4 、c1 d1 ~c4 d4 )係為共通(另外之四邊Oa1 ~Oa4 、s1 r1 ~s4 r4 、c1 h1 ~c4 h4 、d1 i1 ~d4 i4 之長度亦為相等(Oa=sr=ch=di))。
於此情況，若是以主旋轉軸線O為中心，並將第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 配置在主旋轉軸線O之一側，而將第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 配置在相反側，並使主旋轉軸線O與第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 位置在相同之鉛直面內，則第1~第4載置部151 ~154 上之旋動軸線h1 ~h4 、i1 ~ i4 係亦位置於該鉛直面內。
第1、第3規制構件251 、253 ，係位置在該鉛直面之一側，而第2、第4規制構件252 、254 ，係位置在相反側，在第1~第4載置部151 ~154 處，係被設置有延伸於鉛直面之被配置有第1~第4規制構件251 ~254 之側的第1~第4支持臂181 ~184 ，在第1~第4支持臂181 ~184 之前端處，係被構成為能夠配置基板30。
當主旋轉軸線O和第1~第4副旋轉軸線s1 ~s4 係位置在相同之鉛直面內的狀態下，被配置在第1~第4載置部151~154上之基板30，係成為不與該鉛直面相交叉地而相互分離配置。
又，第1載置部151 與第2載置部152 ，係位置在相對於通過主旋轉軸線O而與前述鉛直面相垂直之平面而為相同側之處，並被構成為若是第1、第2載置部151 、152 在同一方向上作同距離之直線移動，則第1、第2載置部151 、152 係被插入至相同之處理室3~8內又或是從相同之處理室3~8內而被拔出。
同樣的，第3副旋轉軸線s3 和第4副旋轉軸線s4 ，係以主旋轉軸線O為中心而位置於相反側，當第3副旋轉軸線s3 和第4副旋轉軸線s4 以及主旋轉軸線O係位在同一平面上的情況時，第3載置部153 與第4載置部154 ，係相對於該平面而相互位置在相反側處，且，相對於通過主旋轉軸線O而與該平面垂直之平面，係位置在相同側處。
在此例中，雖然第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 係為一致 ，而第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 亦為一致，但是，第1、第2載置部151 、152 ，係以通過主旋轉軸線O並相對於通過第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 與主旋轉軸線O與第2、第4副旋轉軸線s2 、s4 之平面而為垂直之平面為中央，而位置於與第3、第4載置部153 、154 相反側之處。
故而，若是將第1載置部151 與第2載置部152 、又或是將第3載置部153 與第4載置部154 搬入至一台之處理室3~8內，則能夠藉由一次之搬入動作而將2枚的基板30搬入又或是搬出處理室3~8。
另外，第1輔助主動臂221 與第3輔助主動臂223 所成之角度，和第2輔助主動臂222 與第4輔助主動臂224 所成之角度，係成為相等，故而，第1、第2輔助主動臂221 、222 所成之角度，和第3、第4輔助主動臂223 、224 所成之角度，係為相等。
又，在上述實施例中，雖係將各旋轉軸線O、s1 ~s4 之間，經由臂161 ~164 、211 ~214 、221 ~224 、231 ~234 、241 ~244 ，而以不會使距離改變的方式來作了連結，但是，亦可不使用臂，而使用齒輪來作連結。又，亦可經由皮帶來傳達旋轉力。
在上述實施例中，雖係針對具備有第1~第4腕部201 ~204 以及第1~第4載置部151 ~154 之基板搬送機器人10作了說明，但是，本發明之基板搬送機器人，亦可並不設置第3、第4載置部153 、154 ，而經由副旋轉軸線係被設置在相異之旋轉構件(A旋轉構件與B旋轉構件)處的第1 、第2腕部201 、202 以及第1、第2載置部151 、152 ，來構成基板搬送機器人。
又，亦可並不設置第2、第4載置部152 、154 ，而經由副旋轉軸線係被設置在相同之旋轉構件(A旋轉構件又或是B旋轉構件)處的第1、第3腕部201 、203 以及第1、第3載置部151 、153 ，來構成基板搬送機器人。於此情況，第1、第3副旋轉軸線s1 、s3 ，係可被配置在相分離之位置處，亦可被配置在相一致之位置處。
O‧‧‧主旋轉軸線
s1 ~s4 ‧‧‧第1~第4副旋轉軸線
1‧‧‧真空處理裝置
10‧‧‧基板搬送機器人
111 ~114 ‧‧‧第1~第4驅動軸
13‧‧‧A旋轉構件
151 ~154 ‧‧‧第1~第4載置部
201 ~204 ‧‧‧第1~第4腕部
211 ~214 ‧‧‧第1~第4主主動臂
221 ~224 ‧‧‧第1~第4輔助主動臂
231 ~234 ‧‧‧第1~第4主從動臂
251 ~254 ‧‧‧第1~第4規制構件
[圖1]模式展示本發明之真空處理裝置的平面圖。
[圖2]本發明之其中一例的基板搬送機器人之平面圖。
[圖3]本發明之其中一例的基板搬送機器人之側面圖。
[圖4]展示第1、第2腕部之平面圖。
[圖5]展示第3、第4腕部之平面圖。
[圖6]展示第1~第4腕部之各構件的結合狀態之模式圖。
O‧‧‧主旋轉軸線
s1 ~s4 ‧‧‧第1~第4副旋轉軸線
10‧‧‧基板搬送機器人
13‧‧‧A旋轉構件
14‧‧‧B旋轉構件
151 ~154 ‧‧‧第1~第4載置部
161 ~164 ‧‧‧第1~第4旋轉臂
201 ~204 ‧‧‧第1~第4腕部
211 ~214 ‧‧‧第1~第4主主動臂
221 ~224 ‧‧‧第1~第4輔助主動臂
231 ~234 ‧‧‧第1~第4主從動臂
241 ~244 ‧‧‧第1~第4輔助從動臂
251 ~254 ‧‧‧第1~第4規制構件
30‧‧‧基板

Claims (3)

  1. 一種基板搬送機器人，係被設置有：分別將相同之主旋轉軸線作為中心軸線，並以將前述主旋轉軸線作為中心而旋轉的方式來作配置之第1~第4驅動軸；和A旋轉構件；和B旋轉構件；和分別以前述主旋轉軸線為中心而旋轉之第1~第4腕部；和被設置於前述第1~第4腕部處，並經由前述第1~第4腕部之伸縮而移動之第1~第4載置部，該基板搬送機器人，其特徵為：在從前述主旋轉軸線而分別相離開之位置處，係被設置有：經由前述A旋轉構件之旋轉而以前述主旋轉軸線為中心來作旋轉移動之第1、第3副旋轉軸線、和經由前述B旋轉構件之旋轉而以前述主旋轉軸線為中心來作旋轉移動之第2、第4副旋轉軸線，在前述第1~第4腕部處，係分別被設置有：第1~第4主主動臂、和第1~第4輔助主動臂、和第1~第4主從動臂，前述第1~第4主主動臂，係分別被固定於前述第1~第4驅動軸處，前述第1、第3輔助主動臂，係分別以前述第1、第3副旋轉軸線為中心，而可旋動地被配置， 前述第2、第4輔助主動臂，係分別以前述第2、第4副旋轉軸線為中心，而可旋動地被配置，前述第1副旋轉軸線與前述第3副旋轉軸線，係被配置在一致之位置處，前述第2副旋轉軸線與前述第4副旋轉軸線，係被配置在一致之位置處，前述第1~第4載置部，係經由前述第1~第4主從動臂而分別被安裝於前述第1~第4主主動臂處，前述第1~第4載置部，係以經由前述第1~第4驅動軸之以前述主旋轉軸線為中心的旋轉而分別移動的方式而被構成，前述第1~第4主主動臂，係經由第1~第4規制構件而分別被連接於前述第1~第4輔助主動臂處，並依據前述第1~第4旋轉軸之旋轉而分別作旋轉，前述第1主主動臂與前述第1輔助主動臂，係被平行配置，前述第2主主動臂與前述第2輔助主動臂，係被平行配置，前述第3主主動臂與前述第3輔助主動臂，係被平行配置，前述第4主主動臂與前述第4輔助主動臂，係被平行配置，前述第1~第4主主動臂之前端與前述第1~第4輔助主動臂之前端，係分別可旋動地被安裝於前述第1~第4規制 構件處，在前述第1主從動臂處，係被平行配置有第1輔助從動臂，在前述第2主從動臂處，係被平行配置有第2輔助從動臂，在前述第3主從動臂處，係被平行配置有第3輔助從動臂，在前述第4主從動臂處，係被平行配置有第4輔助從動臂，前述第1~前述第4主從動臂與前述第1~第4輔助從動臂之根部，係可旋動地被安裝於前述第1~第4規制構件處，前述第1~前述第4主從動臂與前述第1~第4輔助從動臂之前端，係可旋動地被安裝於前述第1~第4載置部處，若是使前述A旋轉構件和前述第1、第3旋轉軸以前述主旋轉軸線為中心而作同方向同角度旋轉，則前述第1、第3載置部係在前述主旋轉軸線周圍而分別作旋轉移動，若是使前述B旋轉構件和前述第2、第4旋轉軸以前述主旋轉軸線為中心而作同方向同角度旋轉，則前述第2、第4載置部係在前述主旋轉軸線周圍而分別作旋轉移動，在前述A旋轉構件為靜止的狀態下，若是前述第1、第3驅動軸旋轉，則前述第1、第3載置部係作直線移動，在前述B旋轉構件為靜止的狀態下，若是前述第2、第4驅動軸旋轉，則前述第2、第4載置部係作直線移動。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之基板搬送機器人，其中，前述第1~第4主主動臂，係分別被配置在相異之高度，前述第1~第4主從動臂，係分別被配置在相異之高度，前述第1~第4載置部彼此，係分別被配置在相異之高度，前述第1~第4載置部，係被構成為可不相互衝突地而在前述主旋轉軸線周圍作旋轉。
  3. 一種真空處理裝置，係為具備有可進行真空排氣之搬送室、和被連接於前述搬送室而將處理對象物在真空氛圍中作處理之處理室的真空處理裝置，其特徵為：在前述搬送室內，係被配置有如申請專利範圍第1項中所記載之基板搬送機器人。
TW097131732A 2007-09-10 2008-08-20 基板搬送機器人、真空處理裝置 TWI394647B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007233543 2007-09-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200916287A TW200916287A (en) 2009-04-16
TWI394647B true TWI394647B (zh) 2013-05-01

Family

ID=40451805

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097131732A TWI394647B (zh) 2007-09-10 2008-08-20 基板搬送機器人、真空處理裝置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20100178136A1 (zh)
JP (1) JPWO2009034795A1 (zh)
KR (1) KR20100052525A (zh)
CN (1) CN101801615A (zh)
TW (1) TWI394647B (zh)
WO (1) WO2009034795A1 (zh)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2082853B1 (de) * 2008-01-23 2011-01-26 R+W Antriebselemente GmbH Ausgleichselement für eine Positioniereinrichtung
CN102092045B (zh) * 2009-12-15 2012-09-05 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种基片处理系统及其机械手臂装置
CN103053017B (zh) * 2010-08-24 2015-09-02 株式会社爱发科 输送装置
CN102569140A (zh) * 2010-12-17 2012-07-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 真空机械手和晶片处理系统
JP5871550B2 (ja) * 2011-10-07 2016-03-01 株式会社アルバック 搬送ロボット及び真空装置
JP2013084823A (ja) * 2011-10-11 2013-05-09 Ulvac Japan Ltd 搬送ロボット及び真空装置
US8814239B2 (en) * 2012-02-15 2014-08-26 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Techniques for handling media arrays
US9190306B2 (en) * 2012-11-30 2015-11-17 Lam Research Corporation Dual arm vacuum robot
WO2014085483A1 (en) * 2012-11-30 2014-06-05 Applied Materials, Inc Motor modules, multi-axis motor drive assemblies, multi-axis robot apparatus, and electronic device manufacturing systems and methods
KR101506188B1 (ko) * 2013-08-30 2015-03-26 주식회사 로보스타 멀티플 암을 구비한 반송 로봇
CN104617028B (zh) * 2013-11-04 2017-09-15 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种方形基片和圆形基片兼容的定位结构
JPWO2016035837A1 (ja) * 2014-09-03 2017-04-27 株式会社アルバック 搬送装置及び真空装置
US9889567B2 (en) 2015-04-24 2018-02-13 Applied Materials, Inc. Wafer swapper
JP6649768B2 (ja) * 2015-12-28 2020-02-19 日本電産サンキョー株式会社 産業用ロボット
CN107327551B (zh) * 2017-07-13 2024-04-30 四川昆仑石油设备制造有限公司 一种基于平行四边形原理的联动器及移送装置
NL2020044B1 (en) * 2017-12-08 2019-06-19 Vdl Enabling Tech Group B V A planar multi-joint robot arm system
CN109552881A (zh) * 2018-12-04 2019-04-02 武汉华星光电技术有限公司 一种显示面板真空吸取系统
KR102240925B1 (ko) * 2019-07-17 2021-04-15 세메스 주식회사 기판 처리 설비 및 기판 반송 장치
CN116238895B (zh) * 2022-12-12 2023-11-07 常州市大成真空技术有限公司 一种旋转避位装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10249757A (ja) * 1997-03-18 1998-09-22 Komatsu Ltd 搬送用ロボット
JP2000323554A (ja) * 1999-05-14 2000-11-24 Tokyo Electron Ltd 処理装置
US20020094265A1 (en) * 2000-11-30 2002-07-18 Hirata Corporation Substrate conveyer robot
TWI224575B (en) * 2002-06-26 2004-12-01 Espec Corp Supporting construction and loading equipment of substrate and robot hand

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63252439A (ja) * 1986-12-19 1988-10-19 アプライド　マテリアルズインコーポレーテッド 多チャンバの統合処理システム
JPH07223180A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Tescon:Kk 水平多関節ロボット
WO1997035690A1 (fr) * 1996-03-22 1997-10-02 Komatsu Ltd. Robot de manutention
JPH11188671A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Daihen Corp ２アーム方式の搬送用ロボット装置
US6132165A (en) * 1998-02-23 2000-10-17 Applied Materials, Inc. Single drive, dual plane robot
JP3519595B2 (ja) * 1998-03-31 2004-04-19 松下電器産業株式会社 ウエハ搬送装置
US6267549B1 (en) * 1998-06-02 2001-07-31 Applied Materials, Inc. Dual independent robot blades with minimal offset
JP4757404B2 (ja) * 2001-06-04 2011-08-24 株式会社ジェーイーエル 搬送アーム
JP4411025B2 (ja) * 2003-07-11 2010-02-10 株式会社ダイヘン ２アーム式搬送ロボット
KR100582697B1 (ko) * 2003-07-16 2006-05-23 동경 엘렉트론 주식회사 피처리 기판의 반송 장치 및 회전 위치를 검출하는 기능을갖는 구동 기구
JP4732716B2 (ja) * 2004-06-29 2011-07-27 株式会社アルバック 搬送装置及びその制御方法並びに真空処理装置
JP4549153B2 (ja) * 2004-10-19 2010-09-22 株式会社ジェーイーエル 基板搬送装置
JP4490341B2 (ja) * 2005-07-05 2010-06-23 株式会社ダイヘン リンク装置および搬送ロボット

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10249757A (ja) * 1997-03-18 1998-09-22 Komatsu Ltd 搬送用ロボット
JP2000323554A (ja) * 1999-05-14 2000-11-24 Tokyo Electron Ltd 処理装置
US20020094265A1 (en) * 2000-11-30 2002-07-18 Hirata Corporation Substrate conveyer robot
TWI224575B (en) * 2002-06-26 2004-12-01 Espec Corp Supporting construction and loading equipment of substrate and robot hand

Also Published As

Publication number Publication date
TW200916287A (en) 2009-04-16
CN101801615A (zh) 2010-08-11
JPWO2009034795A1 (ja) 2010-12-24
KR20100052525A (ko) 2010-05-19
US20100178136A1 (en) 2010-07-15
WO2009034795A1 (ja) 2009-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI394647B (zh) 基板搬送機器人、真空處理裝置
CN103862463B (zh) 延伸双scara机械手连接装置的伸出距离的方法及设备
JP6064684B2 (ja) 基板処理システムおよび基板反転装置
JP3558345B2 (ja) 関節アーム式移送装置
JP4684268B2 (ja) 真空処理装置、基板搬送方法
TWI544993B (zh) 具有可變機械手的四臂搬運機器人
TW201540444A (zh) 吸盤、機械手及機器人
JP2010274413A (ja) 多関節ロボット
JP6053757B2 (ja) 多関節ロボット、搬送装置
TWI382904B (zh) 基板搬送方法
US20040199287A1 (en) Three-degree-of-freedom parallel robot arm
CN107958864A (zh) 基板处理装置及基板处理方法
KR20040071922A (ko) 이송장치
TW200817150A (en) Multi-joint robot and wiring method
CN211320066U (zh) 晶圆转移装置
JP6051197B2 (ja) マルチプルアームを備えた搬送ロボット
JP4228245B1 (ja) 多関節ロボット
US9764465B2 (en) Transfer apparatus
JP2022524531A (ja) 非対称のデュアルエンドエフェクタロボットアーム
KR20130038154A (ko) 반송 로봇 및 진공 장치
JP4962880B2 (ja) 多関節ロボット及び生産設備の製造方法
JP2022059212A (ja) 搬送システム
TW201625389A (zh) 具有多臂的搬運機器人
JP2008307677A (ja) 多関節ロボット