RU2016123059A - Многоэлектродная охлаждаемая конструкция - Google Patents

Многоэлектродная охлаждаемая конструкция Download PDF

Info

Publication number
RU2016123059A
RU2016123059A RU2016123059A RU2016123059A RU2016123059A RU 2016123059 A RU2016123059 A RU 2016123059A RU 2016123059 A RU2016123059 A RU 2016123059A RU 2016123059 A RU2016123059 A RU 2016123059A RU 2016123059 A RU2016123059 A RU 2016123059A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrode
collimator
hole
channel
charged particle
Prior art date
Application number
RU2016123059A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2644388C2 (ru
Inventor
Виллем Хенк УРБАНУС
Марко Ян-Яко ВИЛАНД
Original Assignee
МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=51900874&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=RU2016123059(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В. filed Critical МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В.
Publication of RU2016123059A publication Critical patent/RU2016123059A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2644388C2 publication Critical patent/RU2644388C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00—Irradiation devices
    • G21K5/04—Irradiation devices with beam-forming means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/026—Means for avoiding or neutralising unwanted electrical charges on tube components
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06—Electron sources; Electron guns
    • H01J37/065—Construction of guns or parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/12—Lenses electrostatic
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/16—Vessels; Containers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H01J37/3175—Projection methods, i.e. transfer substantially complete pattern to substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/002—Cooling arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/02—Details
    • H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/02—Details
    • H01J2237/024—Moving components not otherwise provided for
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/03—Mounting, supporting, spacing or insulating electrodes
    • H01J2237/032—Mounting or supporting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/04—Means for controlling the discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/10—Lenses
    • H01J2237/12—Lenses electrostatic
    • H01J2237/121—Lenses electrostatic characterised by shape
    • H01J2237/1215—Annular electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/16—Vessels
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/18—Vacuum control means
    • H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
    • H01J2237/1825—Evacuating means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/303—Electron or ion optical systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/304—Controlling tubes
    • H01J2237/30472—Controlling the beam

Landscapes

  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (40)

1. Электрод коллиматора, содержащий тело (81) электрода, имеющее сплющенную кольцевую форму, причем тело электрода снабжено центральной апертурой (82) электрода, причем тело электрода задает высоту (He) электрода между двумя противоположными основными поверхностями, причем тело электрода вмещает охлаждающий канал (105) внутри тела электрода для переноса охлаждающей жидкости (102), причем тело электрода изготовлено из алюминия, причем охлаждающий канал (105) содержит первое отверстие (103) и второе отверстие (104), причем первое отверстие и второе отверстие расположены в боковой поверхности (85) тела (81) электрода, причем охлаждающий канал (105) соединяет первое отверстие (103) и второе отверстие (104) через траекторию (105a-105d) канала, обеспеченную внутри тела (81) электрода, причем траектория канала содержит круглую часть (105a), находящуюся вокруг апертуры (82) электрода, и причем охлаждающий канал сформирован в виде трубки канала, содержащей тепло- и электропроводящий материал.
2. Электрод коллиматора по п. 1, причем охлаждающий канал изготовлен из титана.
3. Электрод коллиматора по п. 1, причем первое отверстие выполнено с возможностью соединения со структурой (117) для подачи жидкости, а второе отверстие (104) с возможностью соединения со структурой (118) для выпуска жидкости.
4. Электрод коллиматора по п. 1, причем охлаждающий канал соединен с электроизоляционным элементом (115) канала, предоставленным за пределами внешнего периметра (85) тела электрода.
5. Электрод коллиматора по п. 1, причем первое отверстие и второе отверстие электрода коллиматора расположены близко друг к другу в боковой поверхности электрода коллиматора.
6. Электрод коллиматора по п. 1, причем апертура электрода имеет круговую симметрию относительно оптической оси (A) электрода коллиматора, и причем охлаждающий канал содержит две практически прямые концевые части (105b) для соединения круглой части с первым отверстием и вторым отверстием.
7. Электрод коллиматора по п. 6, причем соотношение между диаметром (∅) апертуры электрода, с одной стороны, и радиальным расстоянием (ΔR2) между периметром (82a) апертуры электрода и круглой частью охлаждающего канала, с другой стороны, задается посредством 3·ΔR2≥∅.
8. Электрод коллиматора по п. 1, причем трубка канала интегрирована внутри тела электрода коллиматора.
9. Электрод коллиматора по п. 1, причем тело электрода по меньшей мере частично состоит из литого материала, в частности, литого алюминия, и причем трубка канала заключена в упомянутый литой материал.
10. Электрод коллиматора по п. 1, причем верхняя поверхность (83) тела электрода снабжена пазом (106), имеющим форму, соответствующую трубке канала, и причем трубка канала расположена внутри паза.
11. Электрод коллиматора по п. 10, причем трубка канала присоединена внутри паза к электроду коллиматора посредством теплопроводящего клейкого материала (107).
12. Электрод коллиматора по п. 1, причем трубка канала содержит:
нижнюю часть (105c) желобка с прямоугольными поверхностями, образованными с внешней стороны, и искривленным желобком, образованным с внутренней стороны, и
верхнюю часть (105d) крышки для герметизации искривленного желобка, образованного с внутренней стороны нижней части желобка, формируя посредством этого проточный канал для охлаждающей жидкости.
13. Электрод коллиматора по п. 1, содержащий по меньшей мере две опорных части (86) электрода и поддерживающих электрод элемента (87) вдоль наружного периметра (85) тела электрода, причем каждый поддерживающий электрод элемент соединяет периметр электрода с соответствующей опорной частью (86) электрода, образуя посредством этого пространство (88) для теплового расширения между опорной частью электрода и внешним периметром электрода, и причем поддерживающие электрод элементы выполнены с возможностью совместно удерживать на себе вес тела электрода в осевом направлении.
14. Электрод коллиматора по п. 13, причем поддерживающий электрод элемент содержит подвижный удлиненный держатель (87a-87c), который соединен на первом конце с внешним периметром электрода и соединен посредством второго конца с опорной частью электрода.
15. Электрод коллиматора по п. 14, причем подвижный удлиненный держатель имеет сужение (87b-87c) держателя, которое позволяет сгибание соответствующей опорной части электрода относительно тела электрода в радиально-угловой плоскости при предотвращении сгибания соответствующей опорной части электрода относительно тела электрода в осевом направлении.
16. Пакет (70) электродов коллиматора для использования в генераторе (50) пучков заряженных частиц, содержащий
множество электродов (71-80) коллиматора по п. 1, выполненных с возможностью коллимации пучка (54) заряженных частиц,
причем по меньшей мере каждый из первого электрода коллиматора и второго электрода коллиматора снабжены охлаждающим каналом (105) для переноса охлаждающей жидкости (102), причем охлаждающий канал содержит первое отверстие (103) для соединения со структурой (117) для подачи жидкости и второе отверстие (104) для соединения со структурой (118) для выпуска жидкости,
и причем пакет электродов коллиматора содержит соединительный канал (110), выполненный с возможностью устанавливать жидкостное соединение между вторым отверстием первого электрода коллиматора и первым отверстием второго электрода коллиматора.
17. Пакет электродов коллиматора по п. 16, причем тела первого электрода коллиматора и второго электрода коллиматора размещены коаксиально с апертурами электродов, совмещенными вдоль оптической оси (A) пакета электродов коллиматора, и причем второй электрод коллиматора расположен выше по потоку от первого электрода коллиматора при наблюдении вдоль оптической оси.
18. Пакет электродов коллиматора по п. 16, причем соединительный канал сформирован в виде промежуточного трубчатого элемента (110), содержащего первую практически прямую часть (111), обращенную от первого отверстия, вторую практически прямую часть (112), обращенную от второго отверстия, и в целом искривленную часть (113), соединяющую первую прямую часть со второй прямой частью.
19. Пакет электродов коллиматора по п. 16, причем по меньшей мере часть соединительного канала изготовлена из электроизоляционного материала, предпочтительно из оксида алюминия.
20. Пакет электродов коллиматора по п. 16, причем соединительный канал снабжен по меньшей мере одной сильфонной структурой(114), которая выполнена с возможностью компенсации дифференциальных температурных деформаций между первым электродом коллиматора и вторым электродом коллиматора.
21. Пакет электродов коллиматора по п. 16, причем охлаждающая жидкость является ультрачистой водой или маслом с низкой электропроводностью.
22. Пакет электродов коллиматора по п. 16, причем электроды коллиматора взаимно смещены посредством дистанцирующих структур (89), изготовленных из электроизоляционного материала.
23. Пакет электродов коллиматора по п. 22, причем дистанцирующие структуры обеспечивают межэлектродное разнесение (Hd) между электродами коллиматора вдоль осевого направления.
24. Генератор (50) пучков заряженных частиц для использования в системе (10) литографии пучками заряженных частиц, содержащий
источник (52) заряженных частиц для генерирования пучка (54) заряженных частиц, и
пакет (70) электродов коллиматора по п. 16.
25. Система (10) литографии пучками заряженных частиц для воздействия на целевой объект (31), содержащая:
генератор (50) пучков заряженных частиц для генерации пучка (54) заряженных частиц по п. 24;
апертурную матрицу (58) для формирования множества
элементарных пучков из пучка заряженных частиц, и
проектор (66) элементарных пучков для проецирования элементарных пучков на поверхность целевого объекта.
26. Система (10) литографии пучками заряженных частиц по п. 25, дополнительно содержащая модулятор (56, 60) элементарных пучков для формирования рисунка элементарных пучков, чтобы формировать модулированные элементарные пучки, причем проектор элементарных пучков выполнен с возможностью проецирования модулированных элементарных пучков на поверхность целевого объекта.
27. Система литографии пучками заряженных частиц по п. 25, содержащая структуру (117) для подачи жидкости, чтобы переносить охлаждающую жидкость из насоса (116) для охлаждающей жидкости к коллиматорной системе, и структуру (118) для выпуска жидкости, чтобы переносить охлаждающую жидкость из коллиматорной системы обратно в насос для охлаждающей жидкости.
28. Система литографии пучками заряженных частиц по п. 27, содержащая насос для охлаждающей жидкости, соединенный с по меньшей мере одной из структуры для подачи жидкости и структуры для выпуска жидкости, причем насос для охлаждающей жидкости выполнен с возможностью рециркуляции охлаждающей жидкости из структуры для выпуска жидкости к структуре для подачи жидкости в замкнутом контуре, и причем система литографии пучками заряженных частиц выполнена с возможностью удаления тепловой энергии из охлаждающей жидкости, исходящей из структуры для выпуска жидкости, посредством блока теплообменника.
29. Система литографии пучками заряженных частиц по п. 28, содержащая конструкцию фильтров, выполненную с возможностью удаления электропроводящих частиц из рециркулирующей охлаждающей жидкости (102) в ходе работы.
RU2016123059A 2013-11-14 2014-11-14 Многоэлектродная охлаждаемая конструкция RU2644388C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361904057P 2013-11-14 2013-11-14
US61/904,057 2013-11-14
PCT/EP2014/074681 WO2015071440A1 (en) 2013-11-14 2014-11-14 Electrode cooling arrangement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2016123059A true RU2016123059A (ru) 2017-12-18
RU2644388C2 RU2644388C2 (ru) 2018-02-12

Family

ID=51900874

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016123059A RU2644388C2 (ru) 2013-11-14 2014-11-14 Многоэлектродная охлаждаемая конструкция
RU2016123060A RU2621290C1 (ru) 2013-11-14 2014-11-14 Конструкция многоэлектродного пакета

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016123060A RU2621290C1 (ru) 2013-11-14 2014-11-14 Конструкция многоэлектродного пакета

Country Status (9)

Country Link
US (3) US9165693B2 (ru)
EP (3) EP3069369A1 (ru)
JP (5) JP2016510165A (ru)
KR (6) KR101722498B1 (ru)
CN (6) CN107507750B (ru)
NL (8) NL2013814B1 (ru)
RU (2) RU2644388C2 (ru)
TW (2) TWI614788B (ru)
WO (3) WO2015071439A1 (ru)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11348756B2 (en) * 2012-05-14 2022-05-31 Asml Netherlands B.V. Aberration correction in charged particle system
US10586625B2 (en) 2012-05-14 2020-03-10 Asml Netherlands B.V. Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator
NL2013814B1 (en) 2013-11-14 2016-05-10 Mapper Lithography Ip Bv Multi-electrode vacuum arrangement.
US9966159B2 (en) * 2015-08-14 2018-05-08 Teledyne Dalsa, Inc. Variable aperture for controlling electromagnetic radiation
SG10201906362TA (en) 2015-10-07 2019-08-27 Battelle Memorial Institute Method and Apparatus for Ion Mobility Separations Utilizing Alternating Current Waveforms
US9807864B1 (en) * 2016-08-04 2017-10-31 Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Electrode, accelerator column and ion implantation apparatus including same
US10663746B2 (en) * 2016-11-09 2020-05-26 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Collimator, optical device and method of manufacturing the same
WO2018190436A1 (en) * 2017-04-11 2018-10-18 Mapper Lithography Ip B.V. Charged particle source module
FR3069100B1 (fr) * 2017-07-11 2019-08-23 Thales Source generatrice de rayons ionisants compacte, ensemble comprenant plusieurs sources et procede de realisation de la source
JP6819509B2 (ja) * 2017-08-10 2021-01-27 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置
US10692710B2 (en) 2017-08-16 2020-06-23 Battelle Memorial Institute Frequency modulated radio frequency electric field for ion manipulation
WO2019036497A1 (en) * 2017-08-16 2019-02-21 Battelle Memorial Institute METHODS AND SYSTEMS FOR ION HANDLING
US10804089B2 (en) 2017-10-04 2020-10-13 Batelle Memorial Institute Methods and systems for integrating ion manipulation devices
US20190272970A1 (en) * 2018-03-02 2019-09-05 AcceleRAD Technologies, Inc. Static collimator for reducing spot size of an electron beam
CN112690043B (zh) 2018-10-31 2024-03-22 东芝能源系统株式会社 带电粒子输送系统及其安设方法
EP3712902B1 (de) * 2019-03-18 2021-05-26 Siemens Healthcare GmbH Filtersystem zur lokalen abschwächung von röntgenstrahlung, röntgenapparat und verfahren zur lokalen veränderung der intensität von röntgenstrahlung
EP3761340A1 (en) * 2019-07-02 2021-01-06 ASML Netherlands B.V. Apparatus for and method of local phase control of a charged particle beam
EP3923315B1 (en) * 2020-06-11 2024-01-24 ASML Netherlands B.V. Manipulator, manipulator array, charged particle tool, multibeam charged particle tool, and method of manipulating a charged particle beam
US11177114B1 (en) * 2020-09-15 2021-11-16 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Electrode arrangement, contact assembly for an electrode arrangement, charged particle beam device, and method of reducing an electrical field strength in an electrode arrangement
CN114649178A (zh) * 2020-12-18 2022-06-21 中微半导体设备(上海)股份有限公司 一种下电极组件及等离子体处理装置
WO2023197131A1 (zh) * 2022-04-12 2023-10-19 华为技术有限公司 一种可调整的多电极准直装置

Family Cites Families (114)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL73982C (nl) * 1949-09-26 1954-01-15 Philips Nv inrichting voor het opwekken va roentgenstralen
US2868950A (en) * 1956-11-13 1959-01-13 Union Carbide Corp Electric metal-arc process and apparatus
US2985791A (en) * 1958-10-02 1961-05-23 Hughes Aircraft Co Periodically focused severed traveling-wave tube
US3034009A (en) * 1960-01-18 1962-05-08 Gen Electric Pin seal accelerator tubes
US3516012A (en) * 1968-04-22 1970-06-02 Perkin Elmer Corp Argon laser
US3688203A (en) * 1970-11-10 1972-08-29 Kev Electronics Corp Scanning system for ion implantation accelerators
US3702951A (en) * 1971-11-12 1972-11-14 Nasa Electrostatic collector for charged particles
FR2217628B1 (ru) * 1973-02-15 1975-03-07 Commissariat Energie Atomique
DE2307822C3 (de) * 1973-02-16 1982-03-18 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Supraleitendes Linsensystem für Korpuskularstrahlung
US4182927A (en) * 1978-08-04 1980-01-08 Dixie Bronze Company Electrode holders having differential clamping devices
NL7906633A (nl) 1979-09-05 1981-03-09 Philips Nv Anti-contaminatie diafragma voor elektronen- straalapparaat.
JPS56134462A (en) 1980-03-26 1981-10-21 Jeol Ltd Electron beam system
US4419585A (en) * 1981-02-26 1983-12-06 Massachusetts General Hospital Variable angle slant hole collimator
JPS57199944U (ru) * 1981-06-17 1982-12-18
JPS59178725A (ja) * 1983-03-29 1984-10-11 Toshiba Corp 荷電ビ−ム露光装置
US4606892A (en) * 1984-06-26 1986-08-19 Bruno Bachhofer Ozone generator of stack-type design, employing round plate-electrodes
JPS62272444A (ja) * 1986-05-20 1987-11-26 Fujitsu Ltd イオン注入用タ−ゲツト機構
JPS62296358A (ja) 1986-06-16 1987-12-23 Nissin Electric Co Ltd イオンビ−ム装置
JPH02215099A (ja) * 1989-02-16 1990-08-28 Toshiba Corp イオン加速電極板の製作方法
EP0405855A3 (en) * 1989-06-30 1991-10-16 Hitachi, Ltd. Ion implanting apparatus and process for fabricating semiconductor integrated circuit device by using the same apparatus
US5136166A (en) * 1990-05-17 1992-08-04 Etec Systems, Inc. Temperature stable magnetic deflection assembly
JP2899445B2 (ja) * 1991-05-30 1999-06-02 富士通株式会社 電子ビーム露光装置
US5264706A (en) * 1991-04-26 1993-11-23 Fujitsu Limited Electron beam exposure system having an electromagnetic deflector configured for efficient cooling
US5557105A (en) * 1991-06-10 1996-09-17 Fujitsu Limited Pattern inspection apparatus and electron beam apparatus
JPH06105598B2 (ja) * 1992-02-18 1994-12-21 工業技術院長 荷電ビーム用レンズ
US5270549A (en) * 1992-06-08 1993-12-14 Digital Scintigraphics, Inc. Annular cylindrical multihole collimator for a radioisotope camera and method of making same
FR2702593B1 (fr) * 1993-03-09 1995-04-28 Commissariat Energie Atomique Structure de guidage de particules chargées en électricité.
GB9320662D0 (en) * 1993-10-07 1993-11-24 Atomic Energy Authority Uk Corona discharge reactor
JPH088097A (ja) * 1994-06-20 1996-01-12 Nissin High Voltage Co Ltd 静電型イオン加速装置
JPH08148105A (ja) * 1994-11-18 1996-06-07 Nissin Electric Co Ltd イオン源装置
GB9515090D0 (en) * 1995-07-21 1995-09-20 Applied Materials Inc An ion beam apparatus
DE69738276T2 (de) * 1996-03-04 2008-04-03 Canon K.K. Elektronenstrahl-Belichtungsgerät, Belichtungsverfahren und Verfahren zur Erzeugung eines Objekts
JP3796317B2 (ja) 1996-06-12 2006-07-12 キヤノン株式会社 電子ビーム露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法
JP3728015B2 (ja) * 1996-06-12 2005-12-21 キヤノン株式会社 電子ビーム露光システム及びそれを用いたデバイス製造方法
EP0831681B1 (en) 1996-09-19 2005-04-13 High Voltage Engineering Europa B.V. Method for manufacturing an accelerating tube
US5981954A (en) 1997-01-16 1999-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Electron beam exposure apparatus
GB9719858D0 (en) * 1997-09-19 1997-11-19 Aea Technology Plc Corona discharge reactor
JPH11149882A (ja) * 1997-11-13 1999-06-02 Nissin Electric Co Ltd イオン源用電極
JP3504494B2 (ja) * 1998-03-20 2004-03-08 株式会社荏原製作所 ビーム発生装置
US6053241A (en) * 1998-09-17 2000-04-25 Nikon Corporation Cooling method and apparatus for charged particle lenses and deflectors
DE69923979T2 (de) 1999-06-23 2006-02-23 Applied Materials, Inc., Santa Clara Vorrichtung zur erzeugung von ionenstrahlen
US6185278B1 (en) * 1999-06-24 2001-02-06 Thermo Electron Corp. Focused radiation collimator
JP3763446B2 (ja) 1999-10-18 2006-04-05 キヤノン株式会社 静電レンズ、電子ビーム描画装置、荷電ビーム応用装置、および、デバイス製造方法
JP2001281398A (ja) 2000-03-30 2001-10-10 Toshiba Corp イオン源電極
US6887440B2 (en) * 2000-11-16 2005-05-03 Delphi Technologies, Inc. Edge-connected non-thermal plasma exhaust after-treatment device
US20020148971A1 (en) * 2001-03-05 2002-10-17 Michael Sogard Lens assembly for electron beam column
CN1314300C (zh) 2001-06-07 2007-05-02 普莱克斯有限责任公司 星形箍缩的x射线和远紫外线光子源
JP2003045789A (ja) * 2001-08-02 2003-02-14 Canon Inc 描画装置及び描画方法
WO2003075328A1 (fr) 2002-03-01 2003-09-12 Nikon Corporation Procede de reglage d'un systeme optique de projection, procede de prediction, procede d'evaluation, procede de reglage, procede d'exposition, dispositif d'exposition, programme et procede de fabrication dudit dispositif
US7109493B2 (en) * 2002-06-15 2006-09-19 Anthony Derek Eastham Particle beam generator
JP3834271B2 (ja) 2002-07-16 2006-10-18 キヤノン株式会社 マルチ荷電ビームレンズ及びこれを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法
EP2434522B8 (en) * 2002-07-16 2014-07-23 Canon Kabushiki Kaisha Multi-charged beam lens, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method
DE10233002B4 (de) 2002-07-19 2006-05-04 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Objektivlinse für ein Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopiesystem
JP2004134388A (ja) * 2002-08-13 2004-04-30 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh 粒子光学装置、電子顕微鏡システムおよび電子リソグラフィーシステム
US6849846B2 (en) * 2002-08-23 2005-02-01 Agilent Technologies, Inc. Precision multiple electrode ion mirror
JP4143373B2 (ja) 2002-10-09 2008-09-03 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子銃、電子ビーム描画装置、及び電子ビーム描画方法
EP1554634B1 (en) 2002-10-25 2011-12-21 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system
CN101414126B (zh) 2002-10-30 2012-02-15 迈普尔平版印刷Ip有限公司 电子束曝光系统
GB2397691B (en) * 2003-01-24 2005-08-10 Leica Microsys Lithography Ltd Cooling of a device for influencing an electron beam
US7129502B2 (en) 2003-03-10 2006-10-31 Mapper Lithography Ip B.V. Apparatus for generating a plurality of beamlets
EP1830384B1 (en) 2003-05-28 2011-09-14 Mapper Lithography Ip B.V. Charged particle beamlet exposure system
EP1491955A1 (en) * 2003-06-27 2004-12-29 ASML Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
EP1660945B1 (en) 2003-07-30 2007-12-19 Mapper Lithography Ip B.V. Modulator circuitry
JP4459568B2 (ja) * 2003-08-06 2010-04-28 キヤノン株式会社 マルチ荷電ビームレンズおよびそれを用いた荷電ビーム露光装置
JP2005147967A (ja) 2003-11-19 2005-06-09 Nhv Corporation 電子線照射装置用加速管の製造方法
US7405401B2 (en) * 2004-01-09 2008-07-29 Micromass Uk Limited Ion extraction devices, mass spectrometer devices, and methods of selectively extracting ions and performing mass spectrometry
US7342236B2 (en) * 2004-02-23 2008-03-11 Veeco Instruments, Inc. Fluid-cooled ion source
JP4856073B2 (ja) 2004-05-17 2012-01-18 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． 荷電粒子ビーム露光システム
ATE538404T1 (de) 2004-10-26 2012-01-15 Nikon Corp Optisches system, objektivtubus; belichtungssystem und bauelemente- herstellungsverfahren
JP3929459B2 (ja) * 2004-11-11 2007-06-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線露光装置
EP1753010B1 (en) * 2005-08-09 2012-12-05 Carl Zeiss SMS GmbH Particle-optical system
US7709815B2 (en) 2005-09-16 2010-05-04 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system and projection method
US7345287B2 (en) * 2005-09-30 2008-03-18 Applied Materials, Inc. Cooling module for charged particle beam column elements
US7514676B1 (en) * 2005-09-30 2009-04-07 Battelle Memorial Insitute Method and apparatus for selective filtering of ions
WO2007084880A2 (en) 2006-01-13 2007-07-26 Veeco Instruments Inc. Ion source with removable anode assembly
KR100994516B1 (ko) * 2006-02-02 2010-11-15 전자빔기술센터 주식회사 전자 칼럼용 진공 차등 유지 기구
GB0608470D0 (en) 2006-04-28 2006-06-07 Micromass Ltd Mass spectrometer
EP1970935B1 (en) * 2007-03-14 2011-01-12 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Lens coil cooling of a magnetic lens
DE102007016316A1 (de) * 2007-04-04 2008-10-09 Siemens Ag Verfahren und System zum Trennen einer Vielzahl von keramischen Bauelementen aus einem Bauelementeblock
US7781728B2 (en) * 2007-06-15 2010-08-24 Thermo Finnigan Llc Ion transport device and modes of operation thereof
WO2009051697A1 (en) * 2007-10-12 2009-04-23 Varian Medical Systems, Inc. Charged particle accelerators, radiation sources, systems, and methods
JP5361171B2 (ja) 2007-11-15 2013-12-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電磁コイル
JP5042785B2 (ja) 2007-11-16 2012-10-03 新日本製鐵株式会社 連続鋳造用鋳型の短辺テーパー制御方法
US8445869B2 (en) 2008-04-15 2013-05-21 Mapper Lithography Ip B.V. Projection lens arrangement
WO2009106560A1 (en) 2008-02-26 2009-09-03 Mapper Lithography Ip B.V. Projection lens arrangement
JP5408674B2 (ja) 2008-02-26 2014-02-05 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． 投影レンズ構成体
DE112009000768T5 (de) 2008-03-26 2011-02-24 Horiba Ltd. Elektrostatische Linse für geladene Teilchenstrahlung
ITGE20080036A1 (it) 2008-04-30 2009-11-01 Dott Ing Mario Cozzani Srl Metodo per il controllo della posizione di un attuatore elettromeccanico per valvole di compressori alternativi.
JP5743886B2 (ja) 2008-06-04 2015-07-01 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． ターゲットを露光するための方法およびシステム
US8254484B2 (en) 2009-01-13 2012-08-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of dirty paper coding using nested lattice codes
EP2399270B1 (en) * 2009-02-22 2013-06-12 Mapper Lithography IP B.V. Charged particle lithography apparatus
RU87565U1 (ru) 2009-06-04 2009-10-10 Общество с ограниченной ответственностью "АНАЛИТИЧЕСКОЕ ПРИБОРОСТРОЕНИЕ" Фотоэмиссионный электронный спектрометр
EP2441083B1 (en) * 2009-06-12 2021-03-31 Carl Zeiss Microscopy, LLC Method and system for heating a tip apex of a charged particle source
US8294117B2 (en) * 2009-09-18 2012-10-23 Mapper Lithography Ip B.V. Multiple beam charged particle optical system
JP2011076937A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Toshiba Corp イオン源用電極
US8139717B2 (en) * 2009-10-02 2012-03-20 Morpho Detection, Inc. Secondary collimator and method of making the same
US8642974B2 (en) * 2009-12-30 2014-02-04 Fei Company Encapsulation of electrodes in solid media for use in conjunction with fluid high voltage isolation
US8987678B2 (en) * 2009-12-30 2015-03-24 Fei Company Encapsulation of electrodes in solid media
JP2012023316A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Canon Inc 荷電粒子線描画装置および物品の製造方法
US8736177B2 (en) * 2010-09-30 2014-05-27 Fei Company Compact RF antenna for an inductively coupled plasma ion source
US8586949B2 (en) * 2010-11-13 2013-11-19 Mapper Lithography Ip B.V. Charged particle lithography system with intermediate chamber
NL2007604C2 (en) * 2011-10-14 2013-05-01 Mapper Lithography Ip Bv Charged particle system comprising a manipulator device for manipulation of one or more charged particle beams.
NL2007392C2 (en) * 2011-09-12 2013-03-13 Mapper Lithography Ip Bv Assembly for providing an aligned stack of two or more modules and a lithography system or a microscopy system comprising such an assembly.
US8217359B1 (en) * 2011-07-11 2012-07-10 Jefferson Science Associates, Llc Collimator with attachment mechanism and system
US8642955B2 (en) 2011-08-18 2014-02-04 Brigham Young University Toroidal ion trap mass analyzer with cylindrical electrodes
WO2013047688A1 (ja) * 2011-09-30 2013-04-04 京セラ株式会社 静電レンズおよびそれを用いた荷電粒子ビーム装置
US8637838B2 (en) * 2011-12-13 2014-01-28 Axcelis Technologies, Inc. System and method for ion implantation with improved productivity and uniformity
US9000394B2 (en) 2011-12-20 2015-04-07 Hermes Microvision, Inc. Multi-axis magnetic lens for focusing a plurality of charged particle beams
GB201201403D0 (en) * 2012-01-27 2012-03-14 Thermo Fisher Scient Bremen Multi-reflection mass spectrometer
WO2013138535A1 (en) * 2012-03-13 2013-09-19 View, Inc. Pinhole mitigation for optical devices
WO2013142068A1 (en) 2012-03-19 2013-09-26 Kla-Tencor Corporation Pillar-supported array of micro electron lenses
EP2850635B1 (en) * 2012-05-14 2016-04-27 Mapper Lithography IP B.V. Charged particle multi-beamlet lithography system and cooling arrangement manufacturing method
KR20140055318A (ko) * 2012-10-31 2014-05-09 삼성전자주식회사 콜리메이터 모듈, 콜리메이터 모듈을 포함하는 방사선 검출 장치, 콜리메이터 모듈을 포함하는 방사선 촬영 장치 및 방사선 촬영 장치의 제어 방법
NL2013814B1 (en) * 2013-11-14 2016-05-10 Mapper Lithography Ip Bv Multi-electrode vacuum arrangement.

Also Published As

Publication number Publication date
CN105874560A (zh) 2016-08-17
JP2016519840A (ja) 2016-07-07
TWI641017B (zh) 2018-11-11
CN109637921A (zh) 2019-04-16
RU2644388C2 (ru) 2018-02-12
CN105874559B (zh) 2018-11-23
EP3069368B1 (en) 2021-01-06
NL2013813A (en) 2015-05-19
CN105874556B (zh) 2017-12-12
EP3069369A1 (en) 2016-09-21
NL2015141A (en) 2016-07-07
CN107507750B (zh) 2020-02-07
NL2013813B1 (en) 2016-05-10
TW201810342A (zh) 2018-03-16
JP6022717B2 (ja) 2016-11-09
WO2015071439A4 (en) 2015-07-30
NL2013817C2 (en) 2015-07-21
EP3069366A1 (en) 2016-09-21
US9905322B2 (en) 2018-02-27
JP6345731B2 (ja) 2018-06-20
EP3069368A1 (en) 2016-09-21
NL2013814A (en) 2015-05-19
US20150137009A1 (en) 2015-05-21
NL2015141B1 (en) 2016-08-01
JP5932185B1 (ja) 2016-06-08
US20150137010A1 (en) 2015-05-21
RU2621290C1 (ru) 2017-06-01
CN105874560B (zh) 2018-07-20
KR101722498B1 (ko) 2017-04-18
NL2017067A (en) 2016-10-10
KR102122474B1 (ko) 2020-06-15
KR101722617B1 (ko) 2017-04-03
CN105874559A (zh) 2016-08-17
JP2016173992A (ja) 2016-09-29
KR20170038118A (ko) 2017-04-05
CN109637921B (zh) 2021-10-26
EP3069366B1 (en) 2022-01-05
WO2015071440A4 (en) 2015-07-30
CN108962708A (zh) 2018-12-07
NL2013816A (en) 2015-05-19
KR20160079885A (ko) 2016-07-06
WO2015071440A1 (en) 2015-05-21
WO2015071438A1 (en) 2015-05-21
US9355751B2 (en) 2016-05-31
NL2013815C2 (en) 2015-07-21
KR20220030316A (ko) 2022-03-10
NL2013817A (en) 2015-05-19
JP2016181514A (ja) 2016-10-13
NL2019099A (en) 2017-08-21
KR20160086391A (ko) 2016-07-19
NL2019099B1 (en) 2018-04-16
JP2016508664A (ja) 2016-03-22
US20150136995A1 (en) 2015-05-21
NL2013814B1 (en) 2016-05-10
NL2013815A (en) 2015-05-19
WO2015071438A4 (en) 2015-08-27
TWI614788B (zh) 2018-02-11
KR102523497B1 (ko) 2023-04-21
KR20230056063A (ko) 2023-04-26
KR102368876B1 (ko) 2022-03-03
CN107507750A (zh) 2017-12-22
CN105874556A (zh) 2016-08-17
WO2015071439A1 (en) 2015-05-21
KR20160086390A (ko) 2016-07-19
US9165693B2 (en) 2015-10-20
NL2017067B1 (en) 2017-07-21
TW201528311A (zh) 2015-07-16
JP6073518B2 (ja) 2017-02-01
NL2013816C2 (en) 2015-07-21
JP2016510165A (ja) 2016-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2016123059A (ru) Многоэлектродная охлаждаемая конструкция
US20150244036A1 (en) Energy storage system with heat pipe thermal management
US11769919B2 (en) Multi-functional high temperature structure for thermal management and prevention of explosion propagation
US11482744B2 (en) Multi-functional structure for thermal management and prevention of failure propagation
ES2920650T3 (es) Dispositivo electroquímico que tiene celdas electroquímicas y placas bipolares
KR20150129667A (ko) 열적으로 강한 에너지 저장 시스템을 위한 시스템 및 방법
US20170040654A1 (en) Multi-Functional Structure for Thermal Management and Prevention of Failure Propagation
ES2564557T3 (es) Separador vapor-agua
ES2360687T3 (es) Cierre de recipientes con una bobina de tratamiento de tubos múltiples.
US10488094B2 (en) Sorption module
JP2019086278A (ja) 一体型構造を含む印刷基板型熱交換器
ES2881339T3 (es) Dispositivo de control electrohidrodinámico
TWI757314B (zh) 基板夾持裝置、用於製造此裝置之方法及用於處理或將樣本成像之儀器及方法
JP2008244398A (ja) 冷却装置
EP3907779A1 (en) A battery module
CN205480884U (zh) 一种三维均热板
CN211088736U (zh) 一种分体式折射镜绝缘冷却结构及折叠式二氧化碳激光器
JP6772804B2 (ja) プラズマ光源システム
CN220493415U (zh) 一种传热装置及散热设备
KR20190081998A (ko) 축열 시스템
KR20170068439A (ko) 전지셀 어셈블리
WO2021053945A1 (ja) ショートアーク型放電ランプおよび光照射装置
JP6938926B2 (ja) プラズマ光源
JP6120079B2 (ja) 蒸着源
RU2015120864A (ru) Гелиоколлектор