JPH088097A - 静電型イオン加速装置 - Google Patents
静電型イオン加速装置Info
- Publication number
- JPH088097A JPH088097A JP6159598A JP15959894A JPH088097A JP H088097 A JPH088097 A JP H088097A JP 6159598 A JP6159598 A JP 6159598A JP 15959894 A JP15959894 A JP 15959894A JP H088097 A JPH088097 A JP H088097A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- accelerating
- ring
- ring electrode
- electrode member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 40
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 15
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 9
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- 230000005461 Bremsstrahlung Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 加速管の加速電極、イオン源の引き出し電極
系でのＸ線の発生を低減すること。 【構成】 加速管の加速電極１３は、外周リング部材１
３1，コーン状部材１３2，リング電極部材１３3からな
る。ビームが通過する開口２３を有するリング電極部材
はカーボン、アルミニウム等の原子番号の小さい材料で
形成されている。同部材は、周縁の複数の取付け片部２
２をコーン状部材の取付け片部２１にボルト２４で固定
することにより、コーン状部材に取外し可能に取り付け
られている。ビームが加速電極部、残留ガスに当って発
生した２次電子が電場で加速され、リング電極部材に当
ってもＸ線の発生量は少ない。イオン源のビーム引き出
し電極系に対し、接地電極に原子番号の小さい材料で形
成したリング電極部材を絶縁して取外し可能に取り付け
る。同部材をイオン抑制電極として用いる。
系でのＸ線の発生を低減すること。 【構成】 加速管の加速電極１３は、外周リング部材１
３1，コーン状部材１３2，リング電極部材１３3からな
る。ビームが通過する開口２３を有するリング電極部材
はカーボン、アルミニウム等の原子番号の小さい材料で
形成されている。同部材は、周縁の複数の取付け片部２
２をコーン状部材の取付け片部２１にボルト２４で固定
することにより、コーン状部材に取外し可能に取り付け
られている。ビームが加速電極部、残留ガスに当って発
生した２次電子が電場で加速され、リング電極部材に当
ってもＸ線の発生量は少ない。イオン源のビーム引き出
し電極系に対し、接地電極に原子番号の小さい材料で形
成したリング電極部材を絶縁して取外し可能に取り付け
る。同部材をイオン抑制電極として用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、イオン源のビ−ム引き
出し電極系、加速管の電極部から発生するＸ線を低減し
た静電型イオン加速装置に関する。
出し電極系、加速管の電極部から発生するＸ線を低減し
た静電型イオン加速装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４はタンデム型静電加速器を用いた静
電型高エネルギーイオン加速装置の一例の基本構成図で
ある。負イオン源１から引き出されたイオンビームを質
量分析電磁石２の磁場に通し、所望質量の負イオンを分
離抽出する。次いで負イオンビームは低エネルギー側Ｑ
レンズ３を通り、タンデム加速器本体４に導入される。
同加速器本体は高圧絶縁ガスが充填された圧力タンクに
収容する形で構成されており、導入された負イオンビー
ムは、高圧電源５から高電圧ターミナル部６を介して正
の電圧が印加されている低エネルギー側加速管７で最初
の加速が行われ、荷電変換用のストリッパガスが導入さ
れているストリッパカナール８で正イオンビームに変換
される。正イオンビームは高エネルギー側加速管９で接
地電位に向かって再び加速される。そして、高エネルギ
ー側Ｑレンズ１０を経てエネルギー分析電磁石１１で所
望の価数、エネルギーの正イオンビームが抽出され、試
料１２、例えば半導体ウエハに注入される。
電型高エネルギーイオン加速装置の一例の基本構成図で
ある。負イオン源１から引き出されたイオンビームを質
量分析電磁石２の磁場に通し、所望質量の負イオンを分
離抽出する。次いで負イオンビームは低エネルギー側Ｑ
レンズ３を通り、タンデム加速器本体４に導入される。
同加速器本体は高圧絶縁ガスが充填された圧力タンクに
収容する形で構成されており、導入された負イオンビー
ムは、高圧電源５から高電圧ターミナル部６を介して正
の電圧が印加されている低エネルギー側加速管７で最初
の加速が行われ、荷電変換用のストリッパガスが導入さ
れているストリッパカナール８で正イオンビームに変換
される。正イオンビームは高エネルギー側加速管９で接
地電位に向かって再び加速される。そして、高エネルギ
ー側Ｑレンズ１０を経てエネルギー分析電磁石１１で所
望の価数、エネルギーの正イオンビームが抽出され、試
料１２、例えば半導体ウエハに注入される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】かかる静電型イオン加
速装置では、加速器本体の部分及びイオン源のビ−ム引
き出し電極系部分からＸ線が発生する。図５は加速管の
一例、低エネルギー側加速管７の一例についての概略断
面図であり、加速管はステンレス或いはチタン製の多数
の加速電極１３と絶縁環１４を積み重ねて構成されてい
るが、加速管の中を負イオンビームが通過するときに、
ビ−ムが加速電極１４に当ると、そこから２次電子が発
生し、また負イオンビームが加速管内の残留ガスに衝突
することにより２次電子が発生する。これらの２次電子
ｅ-が加速電極による電場で加速されて、加速電極に衝
突すると制動放射、Ｘ線が発生する。高エネルギー側加
速管９も低エネルギー側加速管７とほぼ同じ構造のもの
であり、発生した２次電子と正イオンビームの加速方向
は異なるが、やはり２次電子が加速電極に当ることによ
りＸ線が発生する。
速装置では、加速器本体の部分及びイオン源のビ−ム引
き出し電極系部分からＸ線が発生する。図５は加速管の
一例、低エネルギー側加速管７の一例についての概略断
面図であり、加速管はステンレス或いはチタン製の多数
の加速電極１３と絶縁環１４を積み重ねて構成されてい
るが、加速管の中を負イオンビームが通過するときに、
ビ−ムが加速電極１４に当ると、そこから２次電子が発
生し、また負イオンビームが加速管内の残留ガスに衝突
することにより２次電子が発生する。これらの２次電子
ｅ-が加速電極による電場で加速されて、加速電極に衝
突すると制動放射、Ｘ線が発生する。高エネルギー側加
速管９も低エネルギー側加速管７とほぼ同じ構造のもの
であり、発生した２次電子と正イオンビームの加速方向
は異なるが、やはり２次電子が加速電極に当ることによ
りＸ線が発生する。
【０００４】図６は負イオン源１から負イオンビームを
引き出すビ−ム引き出し電極系１５部分の一例を示す概
略構成図であり、引き出し電極系は、イオン源チャンバ
のビーム引き出し口部分のプラズマ電極１６、引き出し
電極１７及び接地電極１８で構成されており、各電極は
絶縁体１９によって電気的に絶縁して支持されている。
イオン源１にはイオン源ガスが供給されているから、引
き出し電極系に続くビ−ム搬送路に真空排気系が接続さ
れているが、引き出し電極系内にはガスが残留してお
り、これに負イオンビームが当ると２次電子が発生す
る。この２次電子ｅ-がイオン源のチャンバ及び引き出
し電極１７に対して高電位にバイアスされているステン
レス又はチタン製の接地電極１８で加速されて同電極に
衝突すると制動放射、Ｘ線が発生する。
引き出すビ−ム引き出し電極系１５部分の一例を示す概
略構成図であり、引き出し電極系は、イオン源チャンバ
のビーム引き出し口部分のプラズマ電極１６、引き出し
電極１７及び接地電極１８で構成されており、各電極は
絶縁体１９によって電気的に絶縁して支持されている。
イオン源１にはイオン源ガスが供給されているから、引
き出し電極系に続くビ−ム搬送路に真空排気系が接続さ
れているが、引き出し電極系内にはガスが残留してお
り、これに負イオンビームが当ると２次電子が発生す
る。この２次電子ｅ-がイオン源のチャンバ及び引き出
し電極１７に対して高電位にバイアスされているステン
レス又はチタン製の接地電極１８で加速されて同電極に
衝突すると制動放射、Ｘ線が発生する。
【０００５】このように、静電型イオン加速装置の加速
器本体、イオン源のビ−ム引き出し電極系での主要なＸ
線発生源の一つは、ビ−ムがその中を通り抜ける加速管
の加速電極１３、引き出し電極系における接地電極１
８、ビーム引き出し下流部の電極部分である。
器本体、イオン源のビ−ム引き出し電極系での主要なＸ
線発生源の一つは、ビ−ムがその中を通り抜ける加速管
の加速電極１３、引き出し電極系における接地電極１
８、ビーム引き出し下流部の電極部分である。
【０００６】本発明は、かかる電極部分からのＸ線発生
を低減させた静電型イオン加速装置の提供を目的とする
ものである。
を低減させた静電型イオン加速装置の提供を目的とする
ものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、静電型イオン
加速装置における加速管の加速電極が、ビームが通過す
る開口を有する、原子番号の小さい材料で形成された取
外し可能のリング電極部材を備えて構成されていること
を特徴とするものである。
加速装置における加速管の加速電極が、ビームが通過す
る開口を有する、原子番号の小さい材料で形成された取
外し可能のリング電極部材を備えて構成されていること
を特徴とするものである。
【０００８】そして、本発明は、静電型イオン加速装置
において、イオン源のビ−ム引き出し電極系の接地電極
に、ビームが通過する開口を有し、原子番号の小さい材
料で形成されたリング電極部材が絶縁して取外し可能に
取り付けられていることを特徴とし、さらに、このリン
グ電極部材が接地電極に対し正電位にバイアスされてい
ることを特徴とするものである。
において、イオン源のビ−ム引き出し電極系の接地電極
に、ビームが通過する開口を有し、原子番号の小さい材
料で形成されたリング電極部材が絶縁して取外し可能に
取り付けられていることを特徴とし、さらに、このリン
グ電極部材が接地電極に対し正電位にバイアスされてい
ることを特徴とするものである。
【０００９】また本発明は、静電型イオン加速装置にお
いて、イオン源と、ビームが通過する開口を有し、原子
番号の小さい材料で形成されたリング電極部材が、接地
電極に絶縁して取外し可能に取り付けられているイオン
源のビーム引き出し電極系と、加速電極が、ビームが通
過する開口を有し、原子番号の小さい材料で形成された
取外し可能のリング電極部材を有してなる加速管とから
構成されていることを特徴とするものである。
いて、イオン源と、ビームが通過する開口を有し、原子
番号の小さい材料で形成されたリング電極部材が、接地
電極に絶縁して取外し可能に取り付けられているイオン
源のビーム引き出し電極系と、加速電極が、ビームが通
過する開口を有し、原子番号の小さい材料で形成された
取外し可能のリング電極部材を有してなる加速管とから
構成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】加速管の加速電極、イオン源におけるビ−ム引
き出し電極系の接地電極に、小さい原子番号の材料で形
成されたリング電極部材が取り付けられているから、２
次電子が当ってもＸ線の発生量は少ない。そして、かか
るリング電極部材は取外し可能に取り付けられているか
ら、ビーム軌道、通過ビ−ム径に応じて最適のリング電
極部材を使用することができる。また、イオン源のビー
ム引き出し電極系に取り付けたリング電極部材は、接地
電極に対し正電位にバイアスすることにより、イオン抑
制電極として働く。
き出し電極系の接地電極に、小さい原子番号の材料で形
成されたリング電極部材が取り付けられているから、２
次電子が当ってもＸ線の発生量は少ない。そして、かか
るリング電極部材は取外し可能に取り付けられているか
ら、ビーム軌道、通過ビ−ム径に応じて最適のリング電
極部材を使用することができる。また、イオン源のビー
ム引き出し電極系に取り付けたリング電極部材は、接地
電極に対し正電位にバイアスすることにより、イオン抑
制電極として働く。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例について図面を参照して説明
する。図１は静電型イオン加速装置についての実施例の
要部、加速管部の断面図、図２はビ−ム入射側から見た
加速電極の部分的正面図であり、図５と同一符号は同等
部分を示す。加速管の加速電極１３は外周リング部材１
３1、コーン状部材１３2、リング電極部材１３3の３つ
の部分からなり、外周リング部材とコーン状部材はステ
ンレス又はチタン製であり、加速電極１３は外周リング
部材によって絶縁環１４で挾持されている。この外周リ
ング部材１３1に、中央部分に開口部２０が形成されて
いるバケット状部材１３2がボルト止めにより取り付け
られている。コーン状部材１３2の開口部２０には、リ
ング電極部材１３3に対する複数個の取付け片部２１が
形成されている。
する。図１は静電型イオン加速装置についての実施例の
要部、加速管部の断面図、図２はビ−ム入射側から見た
加速電極の部分的正面図であり、図５と同一符号は同等
部分を示す。加速管の加速電極１３は外周リング部材１
３1、コーン状部材１３2、リング電極部材１３3の３つ
の部分からなり、外周リング部材とコーン状部材はステ
ンレス又はチタン製であり、加速電極１３は外周リング
部材によって絶縁環１４で挾持されている。この外周リ
ング部材１３1に、中央部分に開口部２０が形成されて
いるバケット状部材１３2がボルト止めにより取り付け
られている。コーン状部材１３2の開口部２０には、リ
ング電極部材１３3に対する複数個の取付け片部２１が
形成されている。
【００１２】リング電極部材１３3は、原子番号の小さ
い材料、例えばカーボン、アルミニウムで形成されてお
り、その周縁には複数の取付け片部２２を有し、中央部
にビームが通過する開口２３を有する。リング電極部材
１３3は、その取付け片部２２をコーン状部材１３2の取
付け片部２１にボルト２４で固定することにより、コー
ン状部材に取外し可能に取り付けられている。これら取
付け片部２１，２２の位置は、一点鎖線で例示するよう
に各加速電極段毎に組立ての便宜上少しずつずらしてあ
る。なお、外周リング部材１３1とコーン状部材１３2も
取付け片部２１，２２と同様の取付け片部により結合さ
れている。
い材料、例えばカーボン、アルミニウムで形成されてお
り、その周縁には複数の取付け片部２２を有し、中央部
にビームが通過する開口２３を有する。リング電極部材
１３3は、その取付け片部２２をコーン状部材１３2の取
付け片部２１にボルト２４で固定することにより、コー
ン状部材に取外し可能に取り付けられている。これら取
付け片部２１，２２の位置は、一点鎖線で例示するよう
に各加速電極段毎に組立ての便宜上少しずつずらしてあ
る。なお、外周リング部材１３1とコーン状部材１３2も
取付け片部２１，２２と同様の取付け片部により結合さ
れている。
【００１３】このように、加速電極１３におけるビーム
が通過する開口を有する電極部分、リング電極部材１３
3は原子番号の小さい材料で形成されているから、イオ
ンビームが加速電極、残留ガスに当って発生した２次電
子が加速されてリング電極部材に当ることによるＸ線の
発生が低減され、Ｘ線の発生量は従来の場合に比し半分
以下になる。また、加速電極１３におけるリング電極部
材１３3は取外し可能のものであるから、加速されるイ
オンビームの拡がり、所望のイオンビーム軌道を考慮
し、例えば開口２３に関し、最適の口径を有するリング
電極部材を適宜使用することができる。
が通過する開口を有する電極部分、リング電極部材１３
3は原子番号の小さい材料で形成されているから、イオ
ンビームが加速電極、残留ガスに当って発生した２次電
子が加速されてリング電極部材に当ることによるＸ線の
発生が低減され、Ｘ線の発生量は従来の場合に比し半分
以下になる。また、加速電極１３におけるリング電極部
材１３3は取外し可能のものであるから、加速されるイ
オンビームの拡がり、所望のイオンビーム軌道を考慮
し、例えば開口２３に関し、最適の口径を有するリング
電極部材を適宜使用することができる。
【００１４】図３は静電型イオン加速装置についての他
の実施例の要部、イオン源のビーム引き出し電極系の断
面図であり、図６と同一符号は同等部分を示す。負イオ
ンはイオン源から、プラズマ電極１６、引き出し電極１
７及び接地電極１８によるビーム引き出し電極系で引き
出され、これら電極は絶縁体１９によって電気的に絶縁
して支持されている。
の実施例の要部、イオン源のビーム引き出し電極系の断
面図であり、図６と同一符号は同等部分を示す。負イオ
ンはイオン源から、プラズマ電極１６、引き出し電極１
７及び接地電極１８によるビーム引き出し電極系で引き
出され、これら電極は絶縁体１９によって電気的に絶縁
して支持されている。
【００１５】接地電極１８に絶縁スタッド２４を介して
リング部材２５を固定し、このリング部材に、原子番号
の小さい材料、例えばカーボン、アルミニウムで形成さ
れたリング電極部材２６が取付けネジ２７を用いて取外
し可能に取り付けられている。リング電極部材２６は接
地電極１８よりイオン源側に設けられており、リング電
極部材の開口２８は接地電極の開口２９と同口径であ
り、両開口は接近して位置する。リング電極部材２６に
は、引き出し電極１７より高電位で、接地電極１８より
高い、例えば２ｋＶ程度高いバイアス電位が与えられて
いる。これにより、リング電極部材２６は、接地電極１
８より下流側で生じたイオンが引き出し電極系内に逆流
するのを防ぐイオン抑制電極として機能する。
リング部材２５を固定し、このリング部材に、原子番号
の小さい材料、例えばカーボン、アルミニウムで形成さ
れたリング電極部材２６が取付けネジ２７を用いて取外
し可能に取り付けられている。リング電極部材２６は接
地電極１８よりイオン源側に設けられており、リング電
極部材の開口２８は接地電極の開口２９と同口径であ
り、両開口は接近して位置する。リング電極部材２６に
は、引き出し電極１７より高電位で、接地電極１８より
高い、例えば２ｋＶ程度高いバイアス電位が与えられて
いる。これにより、リング電極部材２６は、接地電極１
８より下流側で生じたイオンが引き出し電極系内に逆流
するのを防ぐイオン抑制電極として機能する。
【００１６】このように原子番号の小さい材料で形成さ
れたリング電極部材２６が設けられていることにより、
引き出し電極１７で引き出された負イオンビームと残留
ガスとの衝突により、２次電子が発生し、それがリング
電極部材及び接地電極１８の電場で加速されて同電極部
材に当っても発生するＸ線の発生量は、リング電極部材
が設けられておらず、接地電極１８に当る場合より低減
させることができる。ステンレス又はチタン製の電極に
２次電子が当る従来の場合と比べて、Ｘ線の発生量は１
／２以下になる。接地電極１８の開口部はリング電極部
材２６でカバーされているから、殆ど２次電子は当らな
い。リング電極部材２６は取外し可能のものであるか
ら、接地電極１８の開口径を考慮し、最適の開口径のも
のを適宜使用することができる。
れたリング電極部材２６が設けられていることにより、
引き出し電極１７で引き出された負イオンビームと残留
ガスとの衝突により、２次電子が発生し、それがリング
電極部材及び接地電極１８の電場で加速されて同電極部
材に当っても発生するＸ線の発生量は、リング電極部材
が設けられておらず、接地電極１８に当る場合より低減
させることができる。ステンレス又はチタン製の電極に
２次電子が当る従来の場合と比べて、Ｘ線の発生量は１
／２以下になる。接地電極１８の開口部はリング電極部
材２６でカバーされているから、殆ど２次電子は当らな
い。リング電極部材２６は取外し可能のものであるか
ら、接地電極１８の開口径を考慮し、最適の開口径のも
のを適宜使用することができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、加速管
の加速電極部に、小さい原子番号の材料で形成されたリ
ング電極部材が取り付けられているから、加速電極部分
から発生するＸ線量を低減することができる。そして、
かかるリング電極部材は取外し可能に取り付けられてい
るから、ビーム軌道、通過ビ−ム径に応じて最適のリン
グ電極部材を使用することができる。
の加速電極部に、小さい原子番号の材料で形成されたリ
ング電極部材が取り付けられているから、加速電極部分
から発生するＸ線量を低減することができる。そして、
かかるリング電極部材は取外し可能に取り付けられてい
るから、ビーム軌道、通過ビ−ム径に応じて最適のリン
グ電極部材を使用することができる。
【００１８】同様に、イオン源におけるビ−ム引き出し
電極系の電極部に、小さい原子番号の材料で形成された
リング電極部材が取り付けられているから、引き出し電
極系部分から発生するＸ線量を低減することができる。
そして、かかるリング電極部材は取外し可能に取り付け
られているから、ビーム軌道、通過ビ−ム径に応じて最
適のリング電極部材を使用することができる。
電極系の電極部に、小さい原子番号の材料で形成された
リング電極部材が取り付けられているから、引き出し電
極系部分から発生するＸ線量を低減することができる。
そして、かかるリング電極部材は取外し可能に取り付け
られているから、ビーム軌道、通過ビ−ム径に応じて最
適のリング電極部材を使用することができる。
【００１９】Ｘ線の発生量はステンレス、チタン製の電
極部分に当る従来の装置と比べて半分以下になる。した
がって、加速管部及びイオン源のビーム引き出し電極系
部からのＸ線に対する遮蔽材を少なくすることができ、
ビームに対する加速電場が低い場合には遮蔽材を用いず
に済む。
極部分に当る従来の装置と比べて半分以下になる。した
がって、加速管部及びイオン源のビーム引き出し電極系
部からのＸ線に対する遮蔽材を少なくすることができ、
ビームに対する加速電場が低い場合には遮蔽材を用いず
に済む。
【００２０】また、イオン源のビーム引き出し電極系に
取り付けたリング電極部材は、接地電極に対し正電位に
バイアスすることにより、イオン抑制電極として働かせ
ることができる。
取り付けたリング電極部材は、接地電極に対し正電位に
バイアスすることにより、イオン抑制電極として働かせ
ることができる。
【図１】実施例の要部、加速管部の断面図である。
【図２】図１のビ−ム入射側から見た加速電極部の部分
的正面図である。
的正面図である。
【図３】他の実施例の要部、イオン源のビーム引き出し
電極系の断面図である。
電極系の断面図である。
【図４】タンデム型静電加速器を用いた静電型高エネル
ギーイオン加速装置の一例の基本構成図である。
ギーイオン加速装置の一例の基本構成図である。
【図５】従来の加速管の一例についての概略断面図であ
る。
る。
【図６】従来のイオン源のビーム引き出し電極系の一例
についての概略断面図である。
についての概略断面図である。
１ イオン源 １３ 加速電極 １３1 外周リング部材 １３2 コーン状部材 １３3 リング電極部材 １６ プラズマ電極 １７ 引き出し電極 １８ 接地電極 ２１，２２ 取付け片部 ２３ 開口 ２４ 絶縁スタッド ２５ リング部材 ２６ リング電極部材
Claims (4)
- 【請求項１】 加速管の加速電極が、ビームが通過する
開口を有し、原子番号の小さい材料で形成された取外し
可能のリング電極部材を備えて構成されていることを特
徴とする静電型イオン加速装置。 - 【請求項２】 イオン源のビ−ム引き出し電極系の接地
電極に、ビームが通過する開口を有し、原子番号の小さ
い材料で形成されたリング電極部材が絶縁して取外し可
能に取り付けられていることを特徴とする静電型イオン
加速装置。 - 【請求項３】 リング電極部材が接地電極に対し正電位
にバイアスされていることを特徴とする請求項２記載の
静電型イオン加速装置。 - 【請求項４】 イオン源と、ビームが通過する開口を有
し、原子番号の小さい材料で形成されたリング電極部材
が、接地電極に絶縁して取外し可能に取り付けられてい
るイオン源のビーム引き出し電極系と、加速電極が、ビ
ームが通過する開口を有し、原子番号の小さい材料で形
成された取外し可能のリング電極部材を有してなる加速
管とから構成されていることを特徴とする静電型イオン
加速装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6159598A JPH088097A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 静電型イオン加速装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6159598A JPH088097A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 静電型イオン加速装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH088097A true JPH088097A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15697203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6159598A Pending JPH088097A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 静電型イオン加速装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH088097A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005108842A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Ims Nanofabrication Gmbh | 粒子光学静電レンズ |
| NL2013813A (en) * | 2013-11-14 | 2015-05-19 | Mapper Lithography Ip Bv | Multi-electrode support arrangement. |
| KR20190026938A (ko) * | 2016-08-04 | 2019-03-13 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. | 전극, 가속기 컬럼 및 이를 포함하는 이온 주입 장치 |
-
1994
- 1994-06-20 JP JP6159598A patent/JPH088097A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005108842A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Ims Nanofabrication Gmbh | 粒子光学静電レンズ |
| NL2013813A (en) * | 2013-11-14 | 2015-05-19 | Mapper Lithography Ip Bv | Multi-electrode support arrangement. |
| KR20190026938A (ko) * | 2016-08-04 | 2019-03-13 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. | 전극, 가속기 컬럼 및 이를 포함하는 이온 주입 장치 |
| JP2019523531A (ja) * | 2016-08-04 | 2019-08-22 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | 電極、加速器カラム及びそれらを含むイオン注入装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Ehlers et al. | Multicusp negative ion source | |
| JP4521850B2 (ja) | イオン注入器用の加速および分析アーキテクチャー | |
| US4904872A (en) | Method for generating extremely short ion pulses of high intensity from a pulsed ion source | |
| Batalin et al. | Electron-beam enhancement of the metal vapor vacuum arc ion source | |
| US7875857B2 (en) | X-ray photoelectron spectroscopy analysis system for surface analysis and method therefor | |
| EP0094473B1 (en) | Apparatus and method for producing a stream of ions | |
| CN108701575B (zh) | 用于x射线发射装置的靶组件和x射线发射装置 | |
| JPH088097A (ja) | 静電型イオン加速装置 | |
| Ryabchikov | Emission properties of broad‐beam vacuum arc ion sources | |
| US2772363A (en) | Method and apparatus for ionization of solids | |
| JP3272441B2 (ja) | イオン加速装置 | |
| JPS60240039A (ja) | イオン銃 | |
| JP2615300B2 (ja) | 加速管 | |
| JP3159786B2 (ja) | イオン加速装置 | |
| CN108281340A (zh) | 直流放电离子源 | |
| JPH10275566A (ja) | イオン源 | |
| Kondrashev et al. | Highly charged ion beam transport by space charge compensation conditions | |
| Muzukin et al. | Angular dependence of energy-mass distribution of surface discharge plasma ions | |
| JP3265987B2 (ja) | イオン照射装置 | |
| Chung et al. | EXX'RACXONANDTRANSF0RTOFTMJZHIC; H m ION BEAM | |
| Hall et al. | Recombination processes in a highly charged ion beam extracted from a laser ion source | |
| JPS5871548A (ja) | イオン源 | |
| SU178917A1 (ja) | ||
| JP3333259B2 (ja) | 質量分析計 | |
| Hunt et al. | The performance and conditioning of “inverted cone” Van de Graaff accelerating tubes |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040803 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20041004 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20041026 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041027 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101112 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101112 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111112 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111112 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121112 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112 Year of fee payment: 9 |