JPH08148105A - イオン源装置 - Google Patents
イオン源装置Info
- Publication number
- JPH08148105A JPH08148105A JP30982194A JP30982194A JPH08148105A JP H08148105 A JPH08148105 A JP H08148105A JP 30982194 A JP30982194 A JP 30982194A JP 30982194 A JP30982194 A JP 30982194A JP H08148105 A JPH08148105 A JP H08148105A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- coolant
- flange
- cooling medium
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 パイプを使用せず、溶接，ろう付け等高価な
取り付けをせず、冷却媒体の通路を安価に形成する。 【構成】 プラズマ室２のプラズマ１４から引出電極に
より処理室にイオンビームを引き出すイオン源装置にお
いて、プラズマ室２或いは処理室の容器１のフランジ１
２の一面に形成されたほぼ環状の冷却媒体用の冷媒溝１
５と、フランジ１２の一面の冷媒溝１５の内側及び外側
に形成された環状のパッキン溝１６，１７と、フランジ
１２に貫通して形成され，冷媒溝１５に連通した流入孔
１８及び流出孔１９と、冷媒溝１５及びパッキン２０，
２１を介して両パッキン溝１６，１７に当てがわれた引
出電極の周縁部とを備える。
取り付けをせず、冷却媒体の通路を安価に形成する。 【構成】 プラズマ室２のプラズマ１４から引出電極に
より処理室にイオンビームを引き出すイオン源装置にお
いて、プラズマ室２或いは処理室の容器１のフランジ１
２の一面に形成されたほぼ環状の冷却媒体用の冷媒溝１
５と、フランジ１２の一面の冷媒溝１５の内側及び外側
に形成された環状のパッキン溝１６，１７と、フランジ
１２に貫通して形成され，冷媒溝１５に連通した流入孔
１８及び流出孔１９と、冷媒溝１５及びパッキン２０，
２１を介して両パッキン溝１６，１７に当てがわれた引
出電極の周縁部とを備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、イオンビームの引出電
極を冷却媒体により冷却するようにした，ＩＢＳ装置，
ＩＶＤ装置等に用いるイオン源装置に関する。
極を冷却媒体により冷却するようにした，ＩＢＳ装置，
ＩＶＤ装置等に用いるイオン源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種イオン源装置は、図４ない
し図６に示すようになっている。それらの図において、
１はプラズマ室２を形成する容器、３は容器１内の片側
に絶縁支持体４を介して導入されたフィラメントであ
り、フィラメント電源により高温に加熱され、熱電子を
放出する。５は容器１の片側に形成されたガス導入口で
あり、所要の種類及び量のガスがガス導入口５からプラ
ズマ室２に導入される。
し図６に示すようになっている。それらの図において、
１はプラズマ室２を形成する容器、３は容器１内の片側
に絶縁支持体４を介して導入されたフィラメントであ
り、フィラメント電源により高温に加熱され、熱電子を
放出する。５は容器１の片側に形成されたガス導入口で
あり、所要の種類及び量のガスがガス導入口５からプラ
ズマ室２に導入される。
【０００３】６は容器１のフィラメント３に対向した位
置の開口に設けられた引出電極であり、加速電極７，減
速電極８，接地電極９からなり、各電極７，８，９は絶
縁物を介して支持されている。１０は容器１の外面に配
列された複数個のマグネットであり、隣接するマグネッ
ト１０の極性が異なり、カスプ磁場を形成する。
置の開口に設けられた引出電極であり、加速電極７，減
速電極８，接地電極９からなり、各電極７，８，９は絶
縁物を介して支持されている。１０は容器１の外面に配
列された複数個のマグネットであり、隣接するマグネッ
ト１０の極性が異なり、カスプ磁場を形成する。
【０００４】１１は各電極７，８，９に形成された多数
の孔、１２は容器１のフランジであり、加速電極７の周
縁部が固着されている。１３は加速電極７のプラズマ室
２側の面の周囲に溶接，ろう付け等により取り付けられ
たほぼ環状の水冷パイプである。
の孔、１２は容器１のフランジであり、加速電極７の周
縁部が固着されている。１３は加速電極７のプラズマ室
２側の面の周囲に溶接，ろう付け等により取り付けられ
たほぼ環状の水冷パイプである。
【０００５】そして、フィラメント３からの熱電子が容
器１との間で加速され、ガス導入口５からのガスと衝突
し、プラズマ１４が生成し、このプラズマ１４が各マグ
ネット１０によるカスプ磁場により、容器１の中央部に
閉じ込められ、引出電極６により孔１１を通ってイオン
ビームが処理室に引き出される。この時、プラズマ１４
に接する加速電極７は、プラズマ１４のスパッタを受
け、熱歪みを起こすため、前記水冷パイプ１３に冷却水
を流し、電極７を冷却している。
器１との間で加速され、ガス導入口５からのガスと衝突
し、プラズマ１４が生成し、このプラズマ１４が各マグ
ネット１０によるカスプ磁場により、容器１の中央部に
閉じ込められ、引出電極６により孔１１を通ってイオン
ビームが処理室に引き出される。この時、プラズマ１４
に接する加速電極７は、プラズマ１４のスパッタを受
け、熱歪みを起こすため、前記水冷パイプ１３に冷却水
を流し、電極７を冷却している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の前記イオン源装
置の場合、水冷パイプ１３を電極７に溶接又はろう付け
等により取り付けているため、高価になり、従って装置
全体としてもコストアップになる。その上、溶接又はろ
う付け等により電極７に熱歪みを起こし、各電極の孔１
１がずれ、正常なイオンビームの引き出しができなくな
るという問題点がある。
置の場合、水冷パイプ１３を電極７に溶接又はろう付け
等により取り付けているため、高価になり、従って装置
全体としてもコストアップになる。その上、溶接又はろ
う付け等により電極７に熱歪みを起こし、各電極の孔１
１がずれ、正常なイオンビームの引き出しができなくな
るという問題点がある。
【０００７】本発明は、前記の点に留意し、水冷パイプ
を使用せず、溶接，ろう付け等高価で熱歪みを起こす取
付手段を用いず、冷却媒体の流通路を形成し、安価なイ
オン源装置を提供することを目的とする。
を使用せず、溶接，ろう付け等高価で熱歪みを起こす取
付手段を用いず、冷却媒体の流通路を形成し、安価なイ
オン源装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のイオン源装置は、プラズマ室のプラズマか
ら引出電極により処理室にイオンビームを引き出すイオ
ン源装置において、前記プラズマ室或いは処理室を形成
する容器のフランジの一面に形成されたほぼ環状の冷却
媒体用の冷媒溝と、前記一面の前記冷媒溝の内側及び外
側に形成された環状のパッキン溝と、前記フランジに貫
通して形成され，前記冷媒溝に連通した流入孔及び流出
孔と、前記冷媒溝及びパッキンを介して前記両パッキン
溝に当てがわれた前記引出電極の周縁部とを備えたもの
である。
に、本発明のイオン源装置は、プラズマ室のプラズマか
ら引出電極により処理室にイオンビームを引き出すイオ
ン源装置において、前記プラズマ室或いは処理室を形成
する容器のフランジの一面に形成されたほぼ環状の冷却
媒体用の冷媒溝と、前記一面の前記冷媒溝の内側及び外
側に形成された環状のパッキン溝と、前記フランジに貫
通して形成され，前記冷媒溝に連通した流入孔及び流出
孔と、前記冷媒溝及びパッキンを介して前記両パッキン
溝に当てがわれた前記引出電極の周縁部とを備えたもの
である。
【０００９】
【作用】前記のように構成された本発明のイオン源装置
は、容器のフランジの一面にほぼ環状の冷却媒体用の冷
媒溝が形成され、その冷媒溝に連通した流入孔及び流出
孔がフランジに貫通して形成され、冷媒溝に電極の周縁
部が当てがわれるため、冷却媒体の流通路が形成され、
冷却媒体により電極が冷却され、従来のような溶接，ろ
う付け等を使用しなく、電極に熱歪みを起こさず、正常
なイオンビームの引き出しが可能になり、しかもきわめ
て安価である。その上、フランジの冷媒溝の内側及び外
側に環状のパッキン溝が形成され、パッキンを介して電
極が当てがわれるため、水洩れを生じない。
は、容器のフランジの一面にほぼ環状の冷却媒体用の冷
媒溝が形成され、その冷媒溝に連通した流入孔及び流出
孔がフランジに貫通して形成され、冷媒溝に電極の周縁
部が当てがわれるため、冷却媒体の流通路が形成され、
冷却媒体により電極が冷却され、従来のような溶接，ろ
う付け等を使用しなく、電極に熱歪みを起こさず、正常
なイオンビームの引き出しが可能になり、しかもきわめ
て安価である。その上、フランジの冷媒溝の内側及び外
側に環状のパッキン溝が形成され、パッキンを介して電
極が当てがわれるため、水洩れを生じない。
【００１０】
【実施例】実施例について図１ないし図３を参照して説
明する。それらの図において図４ないし図６と同一符号
は同一もしくは相当するものを示す。まず、１実施例を
示した図１及び図２において、１５は容器１のフランジ
１２の一面，即ちプラズマ室２に面しない面に形成され
た環状の冷却媒体用の冷媒溝、１６及び１７はフランジ
１２の一面の冷媒溝１５の内側及び外側に形成された環
状のパッキン溝、１８及び１９はフランジ１２に貫通し
て形成され、冷媒溝１５に連通した流入孔及び流出孔で
あり、両孔１８，１９が対向した位置に形成されてい
る。２０及び２１はそれぞれ内側及び外側のパッキン溝
１６，１７に嵌め込まれたパッキンである。
明する。それらの図において図４ないし図６と同一符号
は同一もしくは相当するものを示す。まず、１実施例を
示した図１及び図２において、１５は容器１のフランジ
１２の一面，即ちプラズマ室２に面しない面に形成され
た環状の冷却媒体用の冷媒溝、１６及び１７はフランジ
１２の一面の冷媒溝１５の内側及び外側に形成された環
状のパッキン溝、１８及び１９はフランジ１２に貫通し
て形成され、冷媒溝１５に連通した流入孔及び流出孔で
あり、両孔１８，１９が対向した位置に形成されてい
る。２０及び２１はそれぞれ内側及び外側のパッキン溝
１６，１７に嵌め込まれたパッキンである。
【００１１】そして、加速電極７の周縁部が、冷媒溝１
５及びパッキン２０，２１を介してパッキン溝１６，１
７に当てがわれ、水等の冷却媒体の通路が、流入孔１
８，冷媒溝１５，流出孔１９により形成され、流入孔１
８より流入した冷媒が、２つに分かれ、冷媒溝１５の２
つの経路を経て流出孔１９より流出し、フランジ１２及
び電極７が冷却される。このとき、内側，外側のパッキ
ン２０，２１により冷媒洩れが防がれる。つぎに、他の
実施例を示した図３は、環状の冷媒溝１５の一部が欠如
し、その欠如部の両端に流入孔１８及び流出孔１９が連
通したものであり、流入孔１８よりの冷媒が、ほぼ環状
の冷媒溝１５を通り、流出孔１９から流出するものであ
る。なお、前記実施例は、プラズマ室２を形成する容器
１のフランジ１２と加速電極７とにつき説明したが、接
地電極９を支持する処理室の容器のフランジと接地電極
９とについても、本発明を適用し得る。
５及びパッキン２０，２１を介してパッキン溝１６，１
７に当てがわれ、水等の冷却媒体の通路が、流入孔１
８，冷媒溝１５，流出孔１９により形成され、流入孔１
８より流入した冷媒が、２つに分かれ、冷媒溝１５の２
つの経路を経て流出孔１９より流出し、フランジ１２及
び電極７が冷却される。このとき、内側，外側のパッキ
ン２０，２１により冷媒洩れが防がれる。つぎに、他の
実施例を示した図３は、環状の冷媒溝１５の一部が欠如
し、その欠如部の両端に流入孔１８及び流出孔１９が連
通したものであり、流入孔１８よりの冷媒が、ほぼ環状
の冷媒溝１５を通り、流出孔１９から流出するものであ
る。なお、前記実施例は、プラズマ室２を形成する容器
１のフランジ１２と加速電極７とにつき説明したが、接
地電極９を支持する処理室の容器のフランジと接地電極
９とについても、本発明を適用し得る。
【００１２】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載する効果を奏する。本発明のイ
オン源装置は、容器１のフランジ１２の一面にほぼ環状
の冷却媒体用の冷媒溝１５が形成され、その冷媒溝１５
に連通した流入孔１８及び流出孔１９がフランジ１２に
貫通して形成され、冷媒溝１５に電極７の周縁部が当て
がわれるため、流入孔１８，冷媒溝１５，流入孔１９に
より冷却媒体の流通路が形成され、冷却媒体により電極
７が冷却され、従来のような溶接，ろう付け等を使用し
なく、電極７に熱歪みを起こさず、正常にイオンビーム
を引き出すことができ、しかもきわめて安価である。そ
の上、フランジ１２の冷媒溝１５の内側及び外側に環状
のパッキン溝１６，１７が形成され、パッキン２０，２
１を介して電極７が当てがわれるため、水洩れを生じる
こともない。
ているので、以下に記載する効果を奏する。本発明のイ
オン源装置は、容器１のフランジ１２の一面にほぼ環状
の冷却媒体用の冷媒溝１５が形成され、その冷媒溝１５
に連通した流入孔１８及び流出孔１９がフランジ１２に
貫通して形成され、冷媒溝１５に電極７の周縁部が当て
がわれるため、流入孔１８，冷媒溝１５，流入孔１９に
より冷却媒体の流通路が形成され、冷却媒体により電極
７が冷却され、従来のような溶接，ろう付け等を使用し
なく、電極７に熱歪みを起こさず、正常にイオンビーム
を引き出すことができ、しかもきわめて安価である。そ
の上、フランジ１２の冷媒溝１５の内側及び外側に環状
のパッキン溝１６，１７が形成され、パッキン２０，２
１を介して電極７が当てがわれるため、水洩れを生じる
こともない。
【図１】本発明の１実施例の断面図である。
【図２】図１の下面図である。
【図３】本発明の他の実施例の下面図である。
【図４】従来例の切断側面図である。
【図５】図４の一部の断面図である。
【図６】図５の平面図である。
１ 容器 ２ プラズマ室 ７ 加速電極 １２ フランジ １４ プラズマ １５ 冷媒溝 １６，１７ パッキン溝 １８ 流入孔 １９ 流出孔 ２０，２１ パッキン
Claims (1)
- 【請求項１】 プラズマ室のプラズマから引出電極によ
り処理室にイオンビームを引き出すイオン源装置におい
て、 前記プラズマ室或いは処理室を形成する容器のフランジ
の一面に形成されたほぼ環状の冷却媒体用の冷媒溝と、 前記一面の前記冷媒溝の内側及び外側に形成された環状
のパッキン溝と、 前記フランジに貫通して形成され，前記冷媒溝に連通し
た流入孔及び流出孔と、 前記冷媒溝及びパッキンを介して前記両パッキン溝に当
てがわれた前記引出電極の周縁部とを備えたイオン源装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30982194A JPH08148105A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | イオン源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30982194A JPH08148105A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | イオン源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08148105A true JPH08148105A (ja) | 1996-06-07 |
Family
ID=17997668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30982194A Pending JPH08148105A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | イオン源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08148105A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002075232A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-15 | Showa Shinku:Kk | 大口径イオン源 |
| JP2017037787A (ja) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | 日新電機株式会社 | 荷電粒子源及び荷電粒子ビーム照射装置 |
| EP3069368B1 (en) * | 2013-11-14 | 2021-01-06 | ASML Netherlands B.V. | Electrode cooling arrangement |
-
1994
- 1994-11-18 JP JP30982194A patent/JPH08148105A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002075232A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-15 | Showa Shinku:Kk | 大口径イオン源 |
| EP3069368B1 (en) * | 2013-11-14 | 2021-01-06 | ASML Netherlands B.V. | Electrode cooling arrangement |
| JP2017037787A (ja) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | 日新電機株式会社 | 荷電粒子源及び荷電粒子ビーム照射装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR920000912B1 (ko) | 강자성 타겟의 분사를 위한 자전관 음극 | |
| US5391052A (en) | Impingement cooling and cooling medium retrieval system for turbine shrouds and methods of operation | |
| EP0786794A2 (en) | Plasma reactors for processing semiconductor wafers | |
| JPS6164879A (ja) | 平面マグネトロン・スパッタリング陰極組立体 | |
| MX9400927A (es) | Sistema mejorado para absorcion de energia. | |
| US5651826A (en) | Plasma processing apparatus | |
| JPH04337300A (ja) | 超電導偏向マグネット | |
| KR960012355A (ko) | 받침대와 베이스 사이의 개선된 열 전달 방법 | |
| JPH08148105A (ja) | イオン源装置 | |
| JP4520023B2 (ja) | ガスタービンのノズルセグメントの側壁冷却 | |
| US3733490A (en) | Rotary target for electrostatic accelerator which operates as a neutron generator | |
| US4468168A (en) | Air-cooled annular friction and seal device for turbine or compressor impeller blade system | |
| JP2001289001A (ja) | タービンノズルセグメントの側壁に隣接するアンダカット領域をインピンジメント冷却するための装置と方法 | |
| JP4243388B2 (ja) | 永久磁石装置を備えたカソードを有するスパッタリング装置 | |
| KR102575911B1 (ko) | 모터 냉각장치 및 이를 구비한 자동차 | |
| JP2875221B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
| JP3324169B2 (ja) | コンストリクタ型アークヒータ | |
| JP3324177B2 (ja) | コンストリクタ型アークヒータ | |
| GB1197123A (en) | Gas Coherent Radiation Generator and Discharge Tube Therefor | |
| JPH0854068A (ja) | 磁性流体シール | |
| JP3291800B2 (ja) | コンストリクタディスクの冷却流路成形方法 | |
| US3973125A (en) | Corpuscular-ray apparatus with a cryogenically cooled specimen space | |
| JPH066505Y2 (ja) | 電極の冷却機構 | |
| US4287022A (en) | Compression hub for a fusion reactor system | |
| CN110310909B (zh) | 冷却装置及热处理装置 |