JPH08148105A - イオン源装置 - Google Patents

イオン源装置

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Publication number
JPH08148105A
JPH08148105A JP30982194A JP30982194A JPH08148105A JP H08148105 A JPH08148105 A JP H08148105A JP 30982194 A JP30982194 A JP 30982194A JP 30982194 A JP30982194 A JP 30982194A JP H08148105 A JPH08148105 A JP H08148105A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
coolant
flange
cooling medium
groove
Prior art date
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Pending
Application number
JP30982194A
Other languages
English (en)
Inventor
Masato Takahashi
正人 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 パイプを使用せず、溶接,ろう付け等高価な
取り付けをせず、冷却媒体の通路を安価に形成する。 【構成】 プラズマ室2のプラズマ14から引出電極に
より処理室にイオンビームを引き出すイオン源装置にお
いて、プラズマ室2或いは処理室の容器1のフランジ1
2の一面に形成されたほぼ環状の冷却媒体用の冷媒溝1
5と、フランジ12の一面の冷媒溝15の内側及び外側
に形成された環状のパッキン溝16,17と、フランジ
12に貫通して形成され,冷媒溝15に連通した流入孔
18及び流出孔19と、冷媒溝15及びパッキン20,
21を介して両パッキン溝16,17に当てがわれた引
出電極の周縁部とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、イオンビームの引出電
極を冷却媒体により冷却するようにした,IBS装置,
IVD装置等に用いるイオン源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種イオン源装置は、図4ない
し図6に示すようになっている。それらの図において、
1はプラズマ室2を形成する容器、3は容器1内の片側
に絶縁支持体4を介して導入されたフィラメントであ
り、フィラメント電源により高温に加熱され、熱電子を
放出する。5は容器1の片側に形成されたガス導入口で
あり、所要の種類及び量のガスがガス導入口5からプラ
ズマ室2に導入される。
【0003】6は容器1のフィラメント3に対向した位
置の開口に設けられた引出電極であり、加速電極7,減
速電極8,接地電極9からなり、各電極7,8,9は絶
縁物を介して支持されている。10は容器1の外面に配
列された複数個のマグネットであり、隣接するマグネッ
ト10の極性が異なり、カスプ磁場を形成する。
【0004】11は各電極7,8,9に形成された多数
の孔、12は容器1のフランジであり、加速電極7の周
縁部が固着されている。13は加速電極7のプラズマ室
2側の面の周囲に溶接,ろう付け等により取り付けられ
たほぼ環状の水冷パイプである。
【0005】そして、フィラメント3からの熱電子が容
器1との間で加速され、ガス導入口5からのガスと衝突
し、プラズマ14が生成し、このプラズマ14が各マグ
ネット10によるカスプ磁場により、容器1の中央部に
閉じ込められ、引出電極6により孔11を通ってイオン
ビームが処理室に引き出される。この時、プラズマ14
に接する加速電極7は、プラズマ14のスパッタを受
け、熱歪みを起こすため、前記水冷パイプ13に冷却水
を流し、電極7を冷却している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の前記イオン源装
置の場合、水冷パイプ13を電極7に溶接又はろう付け
等により取り付けているため、高価になり、従って装置
全体としてもコストアップになる。その上、溶接又はろ
う付け等により電極7に熱歪みを起こし、各電極の孔1
1がずれ、正常なイオンビームの引き出しができなくな
るという問題点がある。
【0007】本発明は、前記の点に留意し、水冷パイプ
を使用せず、溶接,ろう付け等高価で熱歪みを起こす取
付手段を用いず、冷却媒体の流通路を形成し、安価なイ
オン源装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のイオン源装置は、プラズマ室のプラズマか
ら引出電極により処理室にイオンビームを引き出すイオ
ン源装置において、前記プラズマ室或いは処理室を形成
する容器のフランジの一面に形成されたほぼ環状の冷却
媒体用の冷媒溝と、前記一面の前記冷媒溝の内側及び外
側に形成された環状のパッキン溝と、前記フランジに貫
通して形成され,前記冷媒溝に連通した流入孔及び流出
孔と、前記冷媒溝及びパッキンを介して前記両パッキン
溝に当てがわれた前記引出電極の周縁部とを備えたもの
である。
【0009】
【作用】前記のように構成された本発明のイオン源装置
は、容器のフランジの一面にほぼ環状の冷却媒体用の冷
媒溝が形成され、その冷媒溝に連通した流入孔及び流出
孔がフランジに貫通して形成され、冷媒溝に電極の周縁
部が当てがわれるため、冷却媒体の流通路が形成され、
冷却媒体により電極が冷却され、従来のような溶接,ろ
う付け等を使用しなく、電極に熱歪みを起こさず、正常
なイオンビームの引き出しが可能になり、しかもきわめ
て安価である。その上、フランジの冷媒溝の内側及び外
側に環状のパッキン溝が形成され、パッキンを介して電
極が当てがわれるため、水洩れを生じない。
【0010】
【実施例】実施例について図1ないし図3を参照して説
明する。それらの図において図4ないし図6と同一符号
は同一もしくは相当するものを示す。まず、1実施例を
示した図1及び図2において、15は容器1のフランジ
12の一面,即ちプラズマ室2に面しない面に形成され
た環状の冷却媒体用の冷媒溝、16及び17はフランジ
12の一面の冷媒溝15の内側及び外側に形成された環
状のパッキン溝、18及び19はフランジ12に貫通し
て形成され、冷媒溝15に連通した流入孔及び流出孔で
あり、両孔18,19が対向した位置に形成されてい
る。20及び21はそれぞれ内側及び外側のパッキン溝
16,17に嵌め込まれたパッキンである。
【0011】そして、加速電極7の周縁部が、冷媒溝1
5及びパッキン20,21を介してパッキン溝16,1
7に当てがわれ、水等の冷却媒体の通路が、流入孔1
8,冷媒溝15,流出孔19により形成され、流入孔1
8より流入した冷媒が、2つに分かれ、冷媒溝15の2
つの経路を経て流出孔19より流出し、フランジ12及
び電極7が冷却される。このとき、内側,外側のパッキ
ン20,21により冷媒洩れが防がれる。つぎに、他の
実施例を示した図3は、環状の冷媒溝15の一部が欠如
し、その欠如部の両端に流入孔18及び流出孔19が連
通したものであり、流入孔18よりの冷媒が、ほぼ環状
の冷媒溝15を通り、流出孔19から流出するものであ
る。なお、前記実施例は、プラズマ室2を形成する容器
1のフランジ12と加速電極7とにつき説明したが、接
地電極9を支持する処理室の容器のフランジと接地電極
9とについても、本発明を適用し得る。
【0012】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載する効果を奏する。本発明のイ
オン源装置は、容器1のフランジ12の一面にほぼ環状
の冷却媒体用の冷媒溝15が形成され、その冷媒溝15
に連通した流入孔18及び流出孔19がフランジ12に
貫通して形成され、冷媒溝15に電極7の周縁部が当て
がわれるため、流入孔18,冷媒溝15,流入孔19に
より冷却媒体の流通路が形成され、冷却媒体により電極
7が冷却され、従来のような溶接,ろう付け等を使用し
なく、電極7に熱歪みを起こさず、正常にイオンビーム
を引き出すことができ、しかもきわめて安価である。そ
の上、フランジ12の冷媒溝15の内側及び外側に環状
のパッキン溝16,17が形成され、パッキン20,2
1を介して電極7が当てがわれるため、水洩れを生じる
こともない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例の断面図である。
【図2】図1の下面図である。
【図3】本発明の他の実施例の下面図である。
【図4】従来例の切断側面図である。
【図5】図4の一部の断面図である。
【図6】図5の平面図である。
【符号の説明】
1 容器 2 プラズマ室 7 加速電極 12 フランジ 14 プラズマ 15 冷媒溝 16,17 パッキン溝 18 流入孔 19 流出孔 20,21 パッキン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラズマ室のプラズマから引出電極によ
    り処理室にイオンビームを引き出すイオン源装置におい
    て、 前記プラズマ室或いは処理室を形成する容器のフランジ
    の一面に形成されたほぼ環状の冷却媒体用の冷媒溝と、 前記一面の前記冷媒溝の内側及び外側に形成された環状
    のパッキン溝と、 前記フランジに貫通して形成され,前記冷媒溝に連通し
    た流入孔及び流出孔と、 前記冷媒溝及びパッキンを介して前記両パッキン溝に当
    てがわれた前記引出電極の周縁部とを備えたイオン源装
    置。
JP30982194A 1994-11-18 1994-11-18 イオン源装置 Pending JPH08148105A (ja)

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JP30982194A JPH08148105A (ja) 1994-11-18 1994-11-18 イオン源装置

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JP30982194A JPH08148105A (ja) 1994-11-18 1994-11-18 イオン源装置

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JPH08148105A true JPH08148105A (ja) 1996-06-07

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ID=17997668

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JP30982194A Pending JPH08148105A (ja) 1994-11-18 1994-11-18 イオン源装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002075232A (ja) * 2000-09-05 2002-03-15 Showa Shinku:Kk 大口径イオン源
JP2017037787A (ja) * 2015-08-10 2017-02-16 日新電機株式会社 荷電粒子源及び荷電粒子ビーム照射装置
EP3069368B1 (en) * 2013-11-14 2021-01-06 ASML Netherlands B.V. Electrode cooling arrangement

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EP3069368B1 (en) * 2013-11-14 2021-01-06 ASML Netherlands B.V. Electrode cooling arrangement
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