RU2015147496A - Мишень для распыления, имеющая увеличенную энергетическую совместимость - Google Patents

Мишень для распыления, имеющая увеличенную энергетическую совместимость Download PDF

Info

Publication number
RU2015147496A
RU2015147496A RU2015147496A RU2015147496A RU2015147496A RU 2015147496 A RU2015147496 A RU 2015147496A RU 2015147496 A RU2015147496 A RU 2015147496A RU 2015147496 A RU2015147496 A RU 2015147496A RU 2015147496 A RU2015147496 A RU 2015147496A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plate
holder
coating
source according
rear side
Prior art date
Application number
RU2015147496A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2665059C2 (ru
Inventor
Зигфрид КРАССНИТЦЕР
Юрг ХАГМАНН
Йорг КЕРШБАУМЕР
Original Assignee
Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах filed Critical Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах
Publication of RU2015147496A publication Critical patent/RU2015147496A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2665059C2 publication Critical patent/RU2665059C2/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/3417Arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/3423Shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3438Electrodes other than cathode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3464Operating strategies
    • H01J37/3467Pulsed operation, e.g. HIPIMS
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3497Temperature of target

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Telescopes (AREA)
  • Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Packaging For Recording Disks (AREA)

Claims (10)

1. Источник покрытия в качестве обеспечения материалом для покрытия физическим осаждением из газовой фазы (PVD), включающий в себя:
a) пластину, удерживаемую в держателе, имеющую переднюю сторону пластины, заднюю сторону пластины, а также средство центрирования; передняя сторона пластины предназначена для преобразования материала покрытия с поверхности в газовую фазу во время процесса PVD, а средство центрирования выполнено с обеспечением центрирования пластины при различных температурах пластины;
b) охлаждающее устройство, предусмотренное на задней стороне пластины и снабженное закрытой охлаждающей пластиной, выполненной в виде подвижной диафрагмы; при этом для обеспечения хорошего термоконтакта между задней стороной пластины и диафрагмой к задней стороне пластины приклеена самоприклеивающаяся графитовая пленка,
причем на держателе и охлаждающем устройстве предусмотрены элементы байонетного крепления, обеспечивающие возможность прикрепления держателя с отцентрированной пластиной к охлаждающему устройству посредством байонетного крепления.
2. Источник покрытия по п. 1, отличающийся тем, что материал пластины имеет первый коэффициент теплового расширения α1, а материал держателя имеет второй коэффициент теплового расширения α2, где α1>α2.
3. Источник покрытия по п. 1 или 2, отличающийся тем, что в области края задней стороны пластины держатель имеет опорную поверхность для плоского основания пластины, а выше передней стороны пластины держатель имеет выемку так, что после того, как пластина вставлена в держатель, последний закрепляется посредством пружинящего стопорного кольца, которое защелкивается в выемке.
4. Источник покрытия по п. 1, в котором держатель выполнен из жесткой, термостабильной, немагнитной стали, предпочтительно стали 1,3974, которая куется и подвергается термообработке на твердый раствор при температуре 1020°C в течение одного часа.
5. Источник покрытия по п. 1, выполненный с возможностью снабжения средствами для присоединения к источнику напряжения, которые позволяют применить отрицательный потенциал к мишени относительно электрода, для обеспечения возможности использования мишени в качестве катода, а электрода в качестве анода.
6. Источник покрытия по п. 5, в котором анод размещен вокруг мишени и выполнен в виде анодного кольца.
7. Система физического осаждения из газовой фазы (PVD) по меньшей мере с одним источником покрытия по одному из пп. 1-6.
RU2015147496A 2013-04-08 2014-04-07 Мишень для распыления, имеющая увеличенную энергетическую совместимость RU2665059C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361809524P 2013-04-08 2013-04-08
US61/809,524 2013-04-08
PCT/EP2014/000927 WO2014166620A1 (de) 2013-04-08 2014-04-07 Sputtertarget mit erhöhter leistungsverträglichkeit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015147496A true RU2015147496A (ru) 2017-05-16
RU2665059C2 RU2665059C2 (ru) 2018-08-28

Family

ID=50486885

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015147497A RU2665058C2 (ru) 2013-04-08 2014-04-07 Центрирование пластины в держателе при комнатных температурах и при более высоких температурах
RU2015147496A RU2665059C2 (ru) 2013-04-08 2014-04-07 Мишень для распыления, имеющая увеличенную энергетическую совместимость

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015147497A RU2665058C2 (ru) 2013-04-08 2014-04-07 Центрирование пластины в держателе при комнатных температурах и при более высоких температурах

Country Status (21)

Country Link
US (2) US9536714B2 (ru)
EP (2) EP2984673B1 (ru)
JP (2) JP6360884B2 (ru)
KR (2) KR102190319B1 (ru)
CN (2) CN105210169B (ru)
AR (2) AR096021A1 (ru)
BR (2) BR112015025747A2 (ru)
CA (2) CA2908892C (ru)
ES (1) ES2675332T3 (ru)
HK (2) HK1214403A1 (ru)
HU (1) HUE038784T2 (ru)
IL (2) IL241980B (ru)
MX (2) MX350171B (ru)
MY (2) MY178843A (ru)
PH (2) PH12015502328B1 (ru)
PL (1) PL2984674T3 (ru)
RU (2) RU2665058C2 (ru)
SG (3) SG11201508311VA (ru)
TR (1) TR201809526T4 (ru)
TW (2) TW201443258A (ru)
WO (2) WO2014166621A1 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10435784B2 (en) 2016-08-10 2019-10-08 Applied Materials, Inc. Thermally optimized rings
CN110892502B (zh) 2017-06-01 2022-10-04 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 用于脆性材料的安全经济蒸发的靶组件
CN108130516A (zh) * 2018-01-03 2018-06-08 梧州三和新材料科技有限公司 一种使用泡沫金属增强冷却的真空镀阴极靶
US11600517B2 (en) * 2018-08-17 2023-03-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Screwless semiconductor processing chambers
CN110066980A (zh) * 2019-05-31 2019-07-30 德淮半导体有限公司 环状靶材部件、半导体工艺设备及其工作方法
JP2023505717A (ja) * 2019-12-13 2023-02-10 エヴァテック・アーゲー Pvd源のガスリング

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5724890Y2 (ru) * 1979-10-31 1982-05-29
EP0393344A1 (de) * 1989-04-20 1990-10-24 Balzers Aktiengesellschaft Haltevorrichtung für Targets von Zerstäubungsquellen und Verfahren zum Festhalten eines Targets in einer Halterung
DE4015388C2 (de) * 1990-05-14 1997-07-17 Leybold Ag Kathodenzerstäubungsvorrichtung
KR100231397B1 (ko) * 1991-01-28 1999-11-15 튜그룰 야사르 음극 스퍼터링용 타겟
DE9102052U1 (ru) * 1991-02-21 1991-06-13 Hauzer Holding B.V., Venlo, Nl
JP3030921B2 (ja) * 1991-05-01 2000-04-10 日新電機株式会社 イオン源の引出し電極装置
DE59208623D1 (de) * 1991-05-08 1997-07-24 Balzers Hochvakuum Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer
DE4133564C2 (de) * 1991-10-10 1999-11-18 Leybold Ag Vorrichtung zur lösbaren Befestigung eines Targets oder Targetgrundkörpers auf der Kathodenhalterung
RU2037559C1 (ru) * 1992-08-10 1995-06-19 Волин Эрнст Михайлович Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления
GB2318590B (en) * 1995-07-10 1999-04-14 Cvc Products Inc Magnetron cathode apparatus and method for sputtering
DE19535894A1 (de) 1995-09-27 1997-04-03 Leybold Materials Gmbh Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung
US6217832B1 (en) * 1998-04-30 2001-04-17 Catalytica, Inc. Support structures for a catalyst
JP4251713B2 (ja) * 1999-05-21 2009-04-08 株式会社アルバック スパッタ装置
US6589352B1 (en) 1999-12-10 2003-07-08 Applied Materials, Inc. Self aligning non contact shadow ring process kit
JP4101524B2 (ja) * 2002-02-05 2008-06-18 芝浦メカトロニクス株式会社 成膜装置
JP2010116605A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Fujikura Ltd ターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法
JP2011165964A (ja) * 2010-02-10 2011-08-25 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体装置の製造方法
DE102012006717A1 (de) 2012-04-04 2013-10-10 Oerlikon Trading Ag, Trübbach An eine indirekte Kühlvorrichtung angepasstes Target

Also Published As

Publication number Publication date
EP2984673B1 (de) 2020-03-11
PL2984674T3 (pl) 2018-10-31
EP2984673A1 (de) 2016-02-17
RU2665058C2 (ru) 2018-08-28
SG11201508324VA (en) 2015-11-27
IL241980B (en) 2020-08-31
AR096021A1 (es) 2015-12-02
CN105324830A (zh) 2016-02-10
KR102234454B1 (ko) 2021-04-01
TW201443263A (zh) 2014-11-16
MY185549A (en) 2021-05-19
BR112015025749A2 (pt) 2017-07-18
EP2984674A1 (de) 2016-02-17
PH12015502338B1 (en) 2016-02-22
JP6655531B2 (ja) 2020-02-26
KR20150139555A (ko) 2015-12-11
WO2014166621A1 (de) 2014-10-16
JP2016514771A (ja) 2016-05-23
TR201809526T4 (tr) 2018-07-23
ES2675332T3 (es) 2018-07-10
MX2015014209A (es) 2016-05-10
CA2908892C (en) 2021-08-24
RU2665059C2 (ru) 2018-08-28
JP6360884B2 (ja) 2018-07-18
AR099253A1 (es) 2016-07-13
SG10201708186QA (en) 2017-11-29
SG11201508311VA (en) 2015-11-27
CN105210169B (zh) 2017-04-19
BR112015025747A2 (pt) 2017-07-18
HK1219562A1 (zh) 2017-04-07
RU2015147497A (ru) 2017-05-16
JP2016519719A (ja) 2016-07-07
TW201443258A (zh) 2014-11-16
MX2015014210A (es) 2016-05-05
CN105210169A (zh) 2015-12-30
HUE038784T2 (hu) 2018-11-28
US9564300B2 (en) 2017-02-07
KR102190319B1 (ko) 2020-12-14
CA2908892A1 (en) 2014-10-16
US20160064201A1 (en) 2016-03-03
PH12015502328A1 (en) 2016-02-22
MY178843A (en) 2020-10-20
CA2908897A1 (en) 2014-10-16
CA2908897C (en) 2023-03-14
PH12015502328B1 (en) 2016-02-22
KR20150139556A (ko) 2015-12-11
PH12015502338A1 (en) 2016-02-22
US20160071706A1 (en) 2016-03-10
MX350171B (es) 2017-08-28
EP2984674B1 (de) 2018-06-06
HK1214403A1 (zh) 2016-07-22
IL241979B (en) 2020-07-30
MX350172B (es) 2017-08-28
WO2014166620A1 (de) 2014-10-16
US9536714B2 (en) 2017-01-03
CN105324830B (zh) 2017-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015147496A (ru) Мишень для распыления, имеющая увеличенную энергетическую совместимость
GB201302684D0 (en) Target for X-ray generator, method of manufacturing the same and X-ray generator
WO2014058643A8 (en) Design of bipolar plates for use in conduction-cooled electrochemical cells
JP2013123028A5 (ru)
MY161332A (en) Chucks for supporting solar cell in hot spot testing
EA201391518A1 (ru) Способ кондиционирования поверхности пластины или листа из нержавеющей стали и нанесение слоя на поверхность, соединительная пластина, изготовленная способом, и применение соединительной пластины в батареях топливных элементов
JP2016513350A5 (ja) 内部相変化材料を有する電池および前記電池の作動方法
GB2446331A (en) Method and system to provide targeted advertising with search results
WO2014170093A3 (en) Radiation collector, cooling system and lithographic apparatus
MY163740A (en) Firing furnace for firing electrode of solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element
RU2014143978A (ru) Мишень, приспособленная к устройству опосредствованного охлаждения
JP2014509446A5 (ru)
BR112013024258A2 (pt) sistema de carregamento elétrico para acumuladores de energia de veículos ferroviários
RU2016103234A (ru) Мишень, адаптированная к устройству косвенного охлаждения с охлаждающей пластиной
RU2012140590A (ru) Способ получения гетероэпитаксиальных пленок карбида кремния на кремниевой подложке
MX2017012599A (es) Sistemas de captacion de energia solar y sus metodos.
RU2013132704A (ru) Способ получения покрытий карбина
WO2013034411A3 (en) Vacuum coating apparatus
Cieślar-Pobuda et al. Research on liver regeneration as an answer to the shortage of donors for liver transplantation
RU2010132967A (ru) Способ получения поликристаллического оптического селенида цинка
RU2010134255A (ru) Способ изготовления ствола стрелкового оружия
TH160725A (th) เป้าหมายในการพ่นที่มีความเข้ากันได้ของพลังงานเพิ่มขึ้น
TH160725B (th) เป้าหมายในการพ่นที่มีความเข้ากันได้ของพลังงานเพิ่มขึ้น
ES2444990B1 (es) Panel solar híbrido plano para la producción de energía eléctrica y energía térmica con sistema de mejora del rendimiento global mediante cubierta transparente aislante CTA
CN203295553U (zh) 一种热处理用炉料盘

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20210408