TR201809526T4 - Artan performans uyumuna sahip püskürtme hedefi. - Google Patents
Artan performans uyumuna sahip püskürtme hedefi. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201809526T4 TR201809526T4 TR2018/09526T TR201809526T TR201809526T4 TR 201809526 T4 TR201809526 T4 TR 201809526T4 TR 2018/09526 T TR2018/09526 T TR 2018/09526T TR 201809526 T TR201809526 T TR 201809526T TR 201809526 T4 TR201809526 T4 TR 201809526T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- target
- plate
- support
- face
- groove
- Prior art date
Links
- 239000007921 spray Substances 0.000 title description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 9
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 7
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 8
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 7
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 6
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 210000005069 ears Anatomy 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 210000005036 nerve Anatomy 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- -1 target Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000002105 tongue Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3417—Arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3423—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3438—Electrodes other than cathode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3464—Operating strategies
- H01J37/3467—Pulsed operation, e.g. HIPIMS
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3497—Temperature of target
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Telescopes (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Packaging For Recording Disks (AREA)
Abstract
Buluş, hem oda sıcaklığında hem de daha yüksek sıcaklıklarda, plakanın ve destek parçasının ısı genleşmesinden bağımsız olarak destek parçasında merkezleme yapan bir plaka ile ilgilidir, burada destek parçası daha yüksek sıcaklıklarda serbestçe genişlemektedir. Buluş, hedefin yüksek güçlü darbe mıknatısının püskürtülmesine ait bir kaplama kaynağı için çok uygun olan bir kasa şekilli hedef destek çerçevesine sahip bir hedef ile ilgilidir.
Description
TARIFNAME
ARTAN PERFORMANS UYUMUNA SAHIP PÜSKÜRTME HEDEFI
Mevcut bulus bir destek parçasina sahip bir plakayi içeren, plakanin destekleme
parçasi içinde hem oda sicakliginda hem de daha yüksek sicakliklarda plakanin ve
destek parçasinin isil genlesmesinden bagimsiz olarak merkezlendigi, ve plakanin
destek parçasi içinde yüksek sicakliklarda serbestçe genlesebildigi bir plaka
merkezleme sistemi ile ilgilidir. Mevcut bulus özellikle bir kaplama kaynaginda
hedefin yüksek güçlü darbeli magnetron püskürtmesi için çok uygun olan kasa
seklindeki hedef yatagina sahip bir hedef ile ilgilidir.
Önceki Teknik
Püskürtme islemlerini ekonomik olarak yürütmek yüksek güç yogunluklari
gerekmektedir. Ancak bu arada püskürtme hedefinin sogutulmasi çok
belirleyicidir.
Püskürtme hedefleri günümüzde ya dogrudan veya dolayli olarak
sogutulmaktadir.
Dogrudan sogutulan bir hedef örnegin çizimlerde sekil 2'de sematik olarak
sunulmustur: Hedef üst yüzeyinin (la) üzerinde püskürtme islemi için uygulanan
güç hedef malzemesinin (lb) isi iletkenligine bagimli olarak isi iletimi sayesinde
hedefin arka yüzüne (lc) aktarilmaktadir. Bir sogutma sivisi (genellikle su)
sogutma sivisi kanali (5) (genellikle su kanali) içinden bir püskürtme kaynaginin
ana gövdesinin (10) içinde akar ve isi akisini akis kosullarina uygun bir sekilde
yönlendirmektedir. Hedefi (1) sabit bir sekilde su kanalina (5) baglamak için
dogal olarak hedefin (1) ve püskürtme kaynaginin ana gövdesinin (10) içinden
geçen civatalar (4) kullanilmaktadir. Bunun disinda suyun vakum haznesinin içine
akmasinin engellemek için bir contayi (3) yerlestirmek de gerekmektedir. Bu türlü
37157.10
bir püskürtme hedefi sogutma donaniminin uzman kisi tarafindan bilinen
bilesenleri sekil 2'de sunulmamistir.
Dolayli olarak sogutulmus bir heder örnegin çizim içinde sekil 3'te sunulmustur.
Bu durumda sogutma sivisi kanali (5) kapalidir, burada kapali sogutma plakasi
denilen bir plaka Olusmaktadir. Hedef (1) kapali sogutma plakasiniii üzerine (örn
vidalanarak veya kelepçelenerek), hedefin (1) arka yüzü (lc) sogutma üst yüzeyi
ile temasa gelecek sekilde ve hedefin arka yüzünün (lc) sogutma üst yüzeyi
üzerine bastirilmasi ile hedeften sogutma sivisina bir isi transferine olanak
saglayacak veya destekleyecek sekilde monte edilmektedir. Bu türlü bir
püskürtme hedefi sogutma plakasi donaniminin uzman kisi tarafindan bilinen
bilesenleri sekil 2'de sunulmamistir.
Sogutma metoduna veya ekstrem güç yogunluklarina bagli olarak hedefin yüksek
bir sicakligi söz konusu olabilmektedir ve hedef malzemesinin mekanik dayanimi
yetersiz kalabilmektedir.
Örnegin sekil 3'teki gibi bir sogutma plakasina sogutma plakasinin kenarinda
civatalar ile fikse edilmis ve kati sogutma üst yüzeyine preslenmis alüminyum bir
hedef durumu. Bir püskürtme hedefi sogutma plakasi donanimi içindeki
püskürtme isleminden kaynaklanan isinmada, sekil 3`te sunuldugu gibi civatalarin
sikilmasi ile sogutma plakasina isi transferinin kötülesmesine neden olan hedefin
zarar görmesine yol açabilecek gerilmeler ve mekanik çarpikliklar ortaya çikana
kadar hedefin genlesmesi gerçeklesebilmektedir. Bu sinir kosullari dikkate
alinarak bir püskürtme hedefinde, örnegin alüminyumdan bir püskürtme hedefinde
güç yogunlugu IOW/cm2 altindaki, mümkünse 5W/cm2 altindaki degerlerde
limitlenmek mecburiyetindedir.
Hedefi sikistirmanin ve sogutmanin diger önemli bir metodu sekil 4'de verildigi
gibi hareketli bir membrana sahip dolayli bir sogutmadir. Hedef, püskürtme
kaynagi ana gövdesi (10) üzerinde uygun ekipmanlar (9) ile fikse edilmektedir
37157.10
(örn. kelepçeler, vidalar, süngüler ile). Içinden sogutma sivisinin (kural olarak su)
akip geçtigi sogutma kanali (5) içinde hareketli membranin hedef arka yüzüne
(lc) esit olarak baski yapan hidrostatik bir basinç hüküm sürmektedir. Bu türlü
hareketli bir membran örnegin bir tür metal folyo olabilmektedir. Bu nedenle
hareketli membrana sahip bu türlü sogutma plakasi donanimlari folyo sogutma
plakasi donanimlari veya basit bir sekilde folyo sogutma plakalari olarak da
tanimlanmaktadir.
Membran ile hedef arka yüzü arasinda azaltilmis bir isi transferi yüzeyi
beklenecektir. Bu transfer yüzeyi örn. indiyumdan, kalaydan, grafitten yumusak
bir geçme folyonun yerlestirilmesi ile iyilestirilebilmektedir. Örnegin ekstrem ince
kendinden yapiskan bir karbon folyo hedef arak yüzüne veya membranin hedef
numarali patent dokümaninda tarif edildigi gibi, optimal bir sekilde iyilestirmek
için yapistirilabilmektedir.
Bununla birlikte bu metodun dezavantaji hedefin hidrostatik basinç ile
bükülmeye maruz kalmasidir. Hedefin mekanik dayanimi ekstrem yüksek güç
yogunluklarinda ve artan sicakliklarda bir bükülmeyi ve hedefin bunun sonucu
zarar görmesini önlemeye yeterli degildir. Bayonetlerin hedefin sikilmasi ve
fikslenmesi için bir dayanak olarak püskürtme kaynagin gövdesinde kullanilmasi
halinde özellikle yeterli degildir. Örnegin kural olarak toz metalürjisi ile üretilen
alüminyumdan ve titandan veya alüminyumdan ve kromdan hedefler 200°C
üzerinde bir sicaklikta çok yumusak ve sünek olacaktir. Bunun sonucu 200 0C
üzerinde sicakliklardaki bu türlü hedefler siklikla kuvvetle bükülmekte ve zarar
görmektedir.
EP0512456 A1 numarali patent dokümaninda bir hedef plakasi merkezi ve/veya
periferal bir bayonet baglanti parçasi sistemi vasitasiyla monte edilmekte veya
sökülmektedir. Burada islem haznesinin çeperleri kullanilan hedef plakasina karsi
folyo türündeki membranlar vasitasi ile kapatilan sogutma kanallarina sahip bir
37157.10
sogutma plakasini içermektedir. Sogutma akiskanina basinç uygulanmasi ile
bayonet baglanti parçasi sistemi bahsedilen mebranlar vasitasi ile
sikistirilmaktadir.
Mevcut bulusun amaci
Mevcut bulusun amaci, bir sogutma plakasi donaniminin hareketli membran ile
kullanimina olanak saglayan bir püskürtme kaynagi donanimini hazirlamaktir,
burada hedef, sogutma plakasi cihazinin sogutma kanalindaki hidrostatik basincin
etkisi ile yüksek sicakliklarda tahrip edilmeyecektir.
Mevcut bulusun açiklamasi
Mevcut bulusun görevi, istem 1'de açiklandigi gibi, bir plaka merkezleme
sistemine sahip bir kaplama kaynaginin olusturulmasi sayesinde çözümlenecektir.
Mevcut bulus dogrultusundaki plaka merkezleme sistemi, sekil 1`de sematik
olarak gösterildigi gibi, bir destek parçasina sahip bir plakayi içermektedir, burada
bir ön yüze (la), bir arka yüze (lc) ve ön yüzden arka yüze kadar uzanan bir kenar
yüze (1d) sahip olan ve bir birinci isil genlesme katsayisina (oh) sahip bir birinci
malzemeden (lb) imal edilen, destek parçasinin plakanin girisi için bir iç yüze
(Ze) sahip kasa seklindeki bir plaka yatagi (2) içerdigi ve bir ikinci isil genlesme
katsayisina (0t2) sahip bir ikinci malzemeden imal edildigi plaka (1):
- oda sicakliginda plaka yataginin iç yüzünün (Ze) çevresinin plakanin (l) kenar
yüzeyinin (ld) çevresinden daha büyük olmasi ile, bu sayede plakanin (l)
merkezlenmis pozisyonda plaka yatagi (2) içinde plakanin kenar yüzeyi ile
plaka çerçevesinin iç yüzü arasinda tanimlanmis bir aralik genisligine sahip
bir araligin bulunmasi ile ve
- kenar yüzeyinin, tercihen alt yüz (lc)'ye yakin olan kenar yüzeyinin (1d),
37157.10
kenar yüzeyi (1d) üzerinden disari dogru, tercihen plakanin kenar yüzeyi
(1d)`ye paralel bir düzlem içinde uzanan ve plaka yataginin (2) iç yüzünde (Ze)
karsilik gelen oluklari (2n) içten kavrayan bir veya daha fazla kilavuz
olusumunu (If) içermesi ve/veya kenar yüzeyi (1d)'ni kenar yüzeyi (1d)
üzerinden içeri dogru, tercihen plakanin arka yüzün yüzeyine paralel bir
düzlem içinde uzanan ve plaka yataginin (2) iç yüzünde (Ze) karsilik gelen
kilavuz olusumlarinin (2f) bunlari içten kavrayan bir veya daha fazla oluk (ln)
içermesi ile,
plaka merkezleme sisteminin bu türlü birbirini içten kavrayan en üç “kilavuz
çikintisi-oluk” çifti içermesi ve
her “kilavuz çikintisi-oluk” çifti için genis profillerin plakanin kenar yüzeyine
tegetsel yönde ve uzun profillerin plakanin kenar yüzeyine dikey yönde, oda
sicakliginda tegetsel yöndeki (SB) boslugunun dikey yöndeki (SL) boslugundan
daha küçük olacak ve ayni anda (812 S) olacak sekilde eslesmesi ile ve
çiftinde, bir olugun genisliginin merkezinin (MN) pozisyonunun, karsilik
gelen kilavuz olusturmanin genisliginin merkezinin (MF) pozisyonu ile
uyusacak sekilde dagitilmis olmasi ile ve bu pozisyonun oda sicakliginda
plaka merkezinden (Pz) eksenel yönde bulunmasi, plakanin (1) veya plaka (1)
ve plaka yataginin (2) daha yüksek sicakliklardaki bir isil genlesmeden sonra
degismemis olarak plaka merkezinden (Pz) ayni eksenel yönde bulunmasi ve
hem oda sicakliginda hem de plakanin (1) veya plaka (1) ve plaka yataginin
(2) genlestigi daha yüksek sicakliklarda plaka yatagi (2) içindeki plakanin (1)
en fazla (83) bosluguna kadar daima merkezlemis olarak plaka yatagi içinde
sabitlenmis olmasi ile karakterize edilir.
Mevcut bulus dogrultusundaki bir plaka merkezleme sisteminde plaka
malzemesinin lineer isil genlesme katsayisi tercihen destek parçasinin
malzemesinin lineer isil genlesme katsayisindan daha büyüktür veya en azindan
37157.10
esittir, yani ocizaz, tercihen 0ti>0c2'dir.
Mevcut bulusun özellikle tercih edilen bir uygulama sekli destek parçali disk
seklinde bir plakayi içeren bir “plaka-destek parçasi” sistemi ile ilgilidir, burada
plakanin bir dis plaka kenarina sahip çevresinin uzun uzantilari boyunca dairesel
bir üst yüzeye sahip oldugu ve plakanin malzemesinin bir birinci isil genlesme
katsayisina ((xi) sahip oldugu ve destek parçasinin çevresinin uzun uzantilari
boyunca bir iç destek parçasi siniri ile sinirlanan dairesel bir açikliga sahip oldugu
ve destek parçasinin malzemesinin bir ikinci isil genlesme katsayisina (a2) sahip
oldugu sistem;
- oda sicakliginda destek parçasinin açikliginin çevresinin plakanin üst
yüzeyinin çevresinden daha büyük olmasi ile, bu sayede plakanin
merkezlenmis durumunda destek parçasinin açikligi içinde bir araligin
tanimlanmis bir aralik genisligi (S) ile plaka kenari ile destek parçasinin iç
kenar sinirlamasi arasinda bulunmasi ile ve
- 0t2<0c1 olmasi ile ve
- plaka kenarinin bir veya birden fazla olusumu içermesi, daire seklindeki üst
yüzeyin merkez noktasindan bakildiginda radyal yönde plaka kenar üst
yüzeyinden baslayarak çikinti uzantilari boyunca uzanan ve karsilik gelen
girintilerin içini destek parçasinin sinirinin girinti uzantilari ile içten kavrayan
ve/veya plaka kenarindan bakildiginda daire seklindeki üst yüzeyin merkez
noktasi yönünde girinti uzantilari boyunca uzanan ve karsilik gelen çikintilarin
destek parçasinin çikinti uzantilari ile bunlari içten kavrayan bir ve/veya daha
fazla girintiyi içermesi ile
- “plaka-destek parçasi” sisteminin birbirini içten kavrayan en azindan üç
girinti-çikinti çiftini içermesi ile ve
girinti-çikinti çiftleri için uzunluklarin oda sicakliginda girintilerin her birinin
37157.10
en fazla büyüklügü bosluk genisligi (S)'nin büyüklügüne karsilik gelen radyal
bir mesafeye ((1) kadar girintiyi içten kavrayacak sekilde seçilmis olmasi,
ve girinti-çikinti çiftleri için tegetsel yönde genis profillerin, girintinin karsilik
gelen çikinti için boslugunun (sp) (sp = SB) tegetsel yönde (S)'den küçük olan
kilavuz rayi olarak hareket edebilecegi sekilde birbiri ile eslesmesi ile
ve bu sayede hem oda sicakliginda hem de plakanin destek parçasindan daha
güçlü genlestigi daha yüksek sicakliklarda genlesen plakanin en fazla
boslugun (sp) daima merkezlenmis olarak destek parçasi içinde sabitlenmis
olmasi ile karakterize edilmektedir.
Genlesme katsayisi veya isil genlesme katsayisi bir maddenin sicaklik
degisimlerinde boyutlarinin degisimi ile ilgili karakteristik bir degerdir, bu
nedenle siklikla isil genlesme katsayisi olarak da tanimlanmaktadir. Burada
sorumlu olan etki isil genlesmedir. Isil genlesme kullanilan maddeye baglidir,
yani maddeye özel bir malzeme katsayisidir. Isil genlesme bir çok maddede tüm
sicaklik araliklari boyunca esit olarak gerçeklesmedigi için isil genlesme
katsayisinin kendisi de sicakliga baglidir ve bu nedenle belirli bir referans
sicakligi veya belirli bir sicaklik araligi için verilmektedir.
(Lineer isil genlesme katsayisi da denilen) isil uzunluk genlesme katsayisi (Ot) ile
(mekansal genlesme katsayisi veya hacimsel genlesme katsayisi ya da kübik
genlesme katsayisi da denilen) isil mekânsal genlesme katsayisi (y) arasinda ayirt
edilecektir.
göreceli uzunluk degisimi (dL/L) arasindaki oransallik katsayisidir. Bununla bu
nedenle bir sicaklik degisimindeki göreceli uzunluk degisimi tarif edilmektedir.
K-l (Kelvin basina) birimine sahip olan maddeye özel bir büyüklüktür ve su
denklem ile tanimlanir: 0t=1/L°dl/dT, denklem basitlestirilmis olarak Lfinal , Linitial
37157.10
Daha sonra örnegin plakanin plakanin üst yüzeyinin belirli bir yönünde
maksimum bir kullanim sicakliginda hangi uzunluga sahip olabilecegi
hesaplayabilirdi. Benzer sekilde destek parçasinin isil genlesmesinden sonraki
boyutlari hesaplanabilirdi. Böylece plaka ile destek parçasi arasinda plakanin
serbest isil genlesmesini destek parçasi içinde maksimum kullanim sicakligina
kadar saglamak için hangi aralik genisliklerine gerek oldugu da
hesaplanabilmektedir.
Bu türlü bir hesaplama örnegin Lit-imi a Ot. ° Liinmai ° ATI oldugunu kabulü ile
gerçeklesebilir, burada (Llf'inal) plakanin bir (Tüm) sicakliginda (örnegin plakanin
maksimum kullanim sicakliginda) belirli bir yönde uzunlugu (disk seklindeki bir
plaka durumunda çap), (on) plakanin sicaklik kullanim araliginda lineer isil
genlesme katsayisi, (Liinmal) plakanin ayni yöndeki, fakat bir (Tinitiui)
sicakligindaki (örnegin oda sicakligindaki) uzunlugu ve (TI-mi) sicakliginda, ancak
destek parçasinin seklinin ve boyutlarinin ve de destek parçasinin malzemesinin
lineer isil genlesme katsayisi dikkate alinarak destek parçasinin boyutlarinin
hesaplanmasi için de benzer sekilde gerçeklesebilmektedir.
Plaka ile destek parçasi arasindaki açikligin genislikleri tercihen plakanin destek
parçasi içinde en azindan 450 °C bir sicakliga kadar, tercihen en azindan 500 0C
bir sicakliga kadar, daha da tercihen en azindan 650 °C bir sicakliga kadar
serbestçe genlesebilmektedir.
Plaka içindeki girintiler ve/veya çikintilar tercihen esit uzaklikta dagitilmaktadir.
bir bölümü içermektedir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir uygulama sekli dogrultusunda plaka yildiz
seklinde monte edilmis kilavuzlari içeren disk seklinde bir hedef olabilmektedir,
burada her iki kilavuz hedef merkezinde bulunan ortak bir eksene sahiptir ve
destek parçasinin yildiz seklindeki uygun oluklarinin içine çikinti yaparlar,
37157.10
örnegin destek plakasi bir sogutma plakali donaniminin parçasidir. Böylece hedef
bulus dogrultusundaki hedef sogutma plakasi tasarimi sayesinde sicakliktan
bagimsiz olarak sogutma plakasi üzerinde merkezlenmektedir. Böylece hedef
tarafinda bir anot halkasinin kullanim durumunda hedef ile anot halkasi arasindaki
aralik konsantrik olarak kalabilir veya bulus dogrultusunda konsantrik olarak
tutulabilmektedir.
Bu sayede katot olarak çalisan hedef ile anot halkasi arasinda arzu edilmeyen bir
temas nedeni ile ortaya çikabilecek kisa devreler engellenmektedir.
Bu sayede de bir sogutma plakali donanimda hedef ile hedef destek parçasi
arasindaki (örn. hedef ile hedef destek halkasi arasindaki) destek yüzeyi
konsantrik olarak kalir ve folyolu sogutma plakalarinin kullaniminda hedef içinde
esit gerilimler ortaya çikmaktadir. Deste yüzeyi böylece minimize
edilebilmektedir. Sogutma plakasi içindeki, içine hedefin dillerinin çikinti yaptigi,
girintilerin yerine hedef içinde girintiler öngörmek ve sogutma plakali donanimin
giris parçasini, örnegin hedef destek halkasini, içeri dogru çikinti yapan ve sekil
'te gösterildigi gibi hedefin girintilerini içten kavrayan çikintilar ile uygulamak
da mümkündür.
Özel bir avantaj mevcut bulusun mevcut sogutma plakalarindaki kullanimda
ortaya çikar, burada hedef ile sogutma plakasi arasindaki çok az bir aralik bir ara
halkanin kullanimi ile büyütülebilmektedir. Hedef bir ara halkanin içine ve bu
daha sonra sogutma plakasinin üzerine monte edilirse hedef ile sogutma plakasi
arasindaki toplam bosluk (aralik 1 ve 2) ve bununla birlikte uygulanan güç sekil
6'da gösterildigi gibi artabilmektedir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir uygulama sekli dogrultusunda bulus
dogrultusundaki plaka merkezleme sistemi, plakanin (1) bir hedef (1), destek
parçasinin (2) bir hedef tasiyici ve kasa seklindeki plaka yataginin (2) hedefin (l)
girisi için kasa seklinde bir hedef yatagi (2) oldugu bir hedef merkezleme
37157.10
sistemidir.
Mevcut bulus dogrultusundaki hedef tercihen bir üst yüzü (la), bir alt yüzü (lc)
ve bir dis yüzü (1d) içerir, burada hedefin üst yüzü veya ön yüzü bir birinci yüzey
olarak, hedefin alt yüzü veya arka yüzü bir ikinci yüzey olarak ve hedefin dis yüzü
veya dis kenar yüzeyi üst yüzden alt yüze kadar uzanan üçüncü bir yüzey olarak
tanimlanmaktadir.
Kasa seklindeki hedef yatagi (2) kilavuz çikintilari (2f) ve/veya oluklar (2n) ile
donatilmis bir iç yüzü (Ze) içerir, kilavuz çikintilarinin (2f) her biri iç yüz (Ze)
boyunca içeri dogru uzanir ve/veya oluklarin (2n) her biri iç yüz (Ze) boyunca
disari dogru uzanmaktadir.
Hedefin kenar yüzeyi (1d) benzer sekilde tercihen yüzey bölümü (1d) alt yüze
(lc) yakin kilavuz çikintilari (lf) ve/veya oluklar (ln) ile donatilmistir, burada
kilavuz çikintilarinin (If) her biri kenar yüzeyi (1d) boyunca disari dogru, prensip
olarak tercihen ikinci yüzeye (le) paralel uzanirlar ve/veya oluklarin (I 11) her biri
kenar yüzeyi (1d) boyunca disari dogru, prensip olarak tercihen ikinci yüzeye (lc)
paralel uzanmaktadirlar.
Hedefin desteklenmesi için, hedef hedef yataginin üzerine yerlestirildiginde
hedefin ve/veya hedef yataginin her birinin kilavuz çikintilarinin, hedefin ve/veya
hedef yataginin her birinin karsi gelen oluklarinin içine geçmeleri için, birbirinden
aralikli en azindan üç kilavuz çikintisi ve/veya oluk hedefin ve hedef yataginin her
birinde yer almaktadir.
Kilavuz çikintilari ve/veya oluklar, her “kilavuz çikintisi-oluk” çiftinde olugun
genisligi ve uzunlugu karsilik gelen kilavuz çikintisinin genisliginden ve
uzunlugundan daha büyüktür.
Tüm oluklar tercihen ayni sekle ve ayni boyutlara sahiptir ve kilavuz çikintilarin
tümü de ayni sekle ve ayni boyutlara sahiptir.
37157.10
genisliginin merkezinin pozisyonu, karsilik gelen kilavuz çikintisinin genisliginin
merkezinin pozisyonu ile örtüsecek sekilde dagitilmistir ve bu pozisyon, oda
sicakliginda hedef merkezden geçen eksenel bir yönde yer alacak sekilde ve
hedefin ve/veya hedef yataginin daha yüksek sicakliklarda isil genlesmesinden
sonra hedef merkezinden geçen ayni eksenel yönde degismeden kalacagi sekilde
seçilmistir.
Hedef belirli bir sekle sahip olabilmektedir, örnegin yuvarlak, dikdörtgen, üçgen
veya oval bir püskürtme hedefi olabilmektedir.
Kasa seklindeki hedef yatagi tercihen hedefi, örnegin püskürtme hedefini
kolaylikla yataklanacak sekilde içine alan özel, sert ve sicakliga dayanikli bir
çeliktendir.
Kasa seklindeki hedef yatagi ile püskürtme hedefi arasindaki boyutsal toleranslar
sicaklik artisinda mekanik stres olusturmadan bir genlesmeye olanak
saglamaktadirlar.
Mevcut bulusun tercih edilen bir uygulama sekli dogrultusunda hedef disk
seklindedir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir uygulama sekli dogrultusunda kasa seklindeki
hedef yatagi bir tasiyici halkadir.
Mevcut bulus dogrultusundaki bir tasiyici halka bir üst yüzü (Za), bir alt yüzü (20)
bir iç yüzü (26) ve bir dis yüzü (2d) içerir, burada tasiyici halka (2) hedefin bir
püskürtme kaynagi parçasina (10) monte edilmesine hizmet eder ve bu arada
destek halkasinin iç yüzü (Ze) en azindan kismen hedefin dis yüzünü (1d)
çevrelemektedir.
37157.10
Destek halkasi iç yüzünde bir merkezleme fonksiyonunu yerine getiren en azindan
üç kilavuz olugundan veya kilavuz muylusundan çok sayida içermektedir.
Benzer sekilde hedef dis yüzünde radyal “kilavuz kulaklari”m veya “kilavuz
01uk1ari”ni içerir, bu sayede hedefin tasiyici halka içinde kilavuzlanmasi her
zaman merkezlenmistir.
Destek halkasinin iç yüzüne ters çok sayida girinti ve/veya uzanti hedefin dis
yüzündeki kilavuz muylularina ve/veya kilavuz oluklarina uygun bir sekilde
hedefi destek halkasinin içinde merkezlerler ve hedefin dis yüzü ile destek
halkasinin iç yüzü arasindaki bosluk uzunluk ve genislik degisimlerinin her yöne
gerçeklesebilecegi sekilde seçilmistir.
Hedef tercihen önce destek halkasi içine yerlestirilir ve böylece ilgili “kilavuz
muylusu-girinti” çifti ve/veya “kilavuz olugu-uzatma” çifti sabitlenir ve gerekli
ise hedefin destek halkasina mekanik olarak fikslenmesi için bir sabitleme klipsi
kullanilmaktadir. Bir yayli rondela örnegin sabitleme klipsi olarak bu baglamda
çok uygun olabilmektedir.
Mevcut bulus çerçevesinde bir destek halkasi bir “ara halka” olarak görülebilir ve
bu nedenle ara halka olarak tanimlanir, çünkü hedef ile püskürtme kaynagi parçasi
arasinda pozisyonlanmaktadir.
Püskürtme kaynagi parçasi tercihen hedefin sogutulmasi için hareketli membrana
sahip kapali sogutma plakasi türünün bir sogutma donanimini içerir ve böylece
çok iyi bir sogutma etkisi veya iyi bir isi transferi hedef arka yüzüne bastiran
hareketli membran vasitasi ile saglanabilmektedir.
Püskürtme kaynagi parçasi hareketli membranli bir sogutma plakali donanim
içerirse, ara halkanin çok sert, sicakliga dayanikli ve manyetik olmayan bir
çelikten imal edilmesi özellikle avantajdir. Bu sekilde ara halkanin ve buna bagli
37157.10
olarak hedefin hareketli membrani esit bir sekilde hedef arka yüzüne bastiran
hidrostatik basinç nedeni ile olusabilecek bükülmesi engellenmektedir.
Destek halkasi örnegin 1.3974 gibi sicakliga dayanikli bir çelikten ve 1 saat
süreyle 1020 ° C'de tavlanmis bir çözeltiden geçirilmektedir.
Destek halkasi tercihen dis yüzünde, zaten destek halkasi içine alinmis hedefin
mevcut bulus dogrultusunda püskürtme kaynagi parçasi içine montajini veya
püskürtme kaynagi parçasi içinden sökülmesini kolaylastiracak bir bayonet
içermektedir.
Bir püskürtme hedefi içinde isi transferinin iyilestirilmesi ve bunun sonucu olarak
isi yükünün azaltilmasi ve güç yogunlugunun yükseltilmesi için püskürtme
bahsedildigi gibi tercihen bir karbon folyo yapistirilmaktadir.
Mevcut bulus dogrultusunda bir hedef-hedef yatagi-püskürtme kaynagi parçasi
sisteminin kullanimi ile hedefler hem düsük püskürtme güç yogunluklari ile,
örnegin > 0 W/cm2 ile < 50 W/cm2 araliginda hem de düsük püskürtme güç
yogunluklari ile, örnegin 50 W/cm2 ile < 100 W/cm2 araliginda
çalistirilabilmektedir.
Hedefin dis yüzü ile destek halkasinin iç yüzü arasindaki mesafe toleransi mevcut
bulus dogrultusunda farkli genlesme katsayilarina (al ve on) sahip farkli
malzemelerin (1 ve 2) yüzdesel genlesmesi hesaplanacak sekilde seçilmelidir.
Örnegin A1 veya Ti gibi tipik kaplama malzemesinden olusan hedef ile 1.3974
çelikten bir destek halkasinin bir kombinasyonu için, yukarida tarif edildigi gibi,
bir mesafe toleransi seçilebilmektedir.
Yani bu türlü bir sistem için ve hedefin 150 mm bir çap için mevcut bulus
dogrultusunda 0.5 mm radyal bir mesafe toleransi (5/2) seçilebilirdi, bu sonuçta
37157.10
çap olarak 1 mm'lik bir mesafe toleransi (S) yaklasik olarak % 0.7'ye karsilik
gelmektedir. Radyal mesafe toleransi (3/2) bu baglamda tercihen 0.1 mm ile 5
mm arasindadir, (SIZ) daha tercihen 0.3 mm ile 1 mm arasindadir ve (8/2)
özellikle tercihen yaklasik 0.5 mm'dir.
Hedef, kilavuz çikintilari ile bulus dogrultusunda donatilmis ise, kilavuz
çikintilari tercihen hedefin imal edildigi ayni malzemedendir.
Destek halkasi, kilavuz çikintilari ile bulus dogrultusunda donatilmis ise, kilavuz
çikintilari tercihen destek halkasinin imal edildigi ayni malzemedendir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir uygulamasi dogrultusunda hedefin ön yüz yüzeyi
düz degildir.
Mevcut bulusun tercih edilen diger bir seçenegi dogrultusunda hedefin ön yüz
yüzeyi hedefin arka yüz yüzeyinden daha büyüktür.
Bir PVD kaplamasi için malzeme kaynagi olarak sunlari içeren bir kaplama
kaynagi açiklanmistir;
a) bir destek parçasi içine yerlestirilmis ve bir plaka ön yüzüne ve bir plaka
arka yüzüne sahip plaka ve merkezleme için ekipmanlar, burada plaka ön
yüzü, üst yüzeyin PVD islemi esnasinda tabaka malzemesinden gaz fazina
geçmek için öngörülmüstür ve merkezleme araci merkezlemenin farkli plaka
sicakliklarinda saglanabilecegi sekilde tasarlanmistir,
b)plaka arka yüzünde öngörülmüs ve hareketli membran olarak tasarlanmis
kapali bir sogutma plakasina sahip sogutma donanimi, burada plaka arka yüzü
ile membran arasinda iyi bir isi temasinin saglanmasi için plaka arka yüzüne
kendinden yapiskan bir grafit folyo yapistirilmistir,
37157.10
burada destek parçasinda ve sogutma donaniminda bir bayonet baglanti parçasi
elemanlari öngörülmüstür ve böylece destek parçasi merkezlenmis plaka ile
sogutma donanimina bir bayonet baglanti parçasi vasitasi ile fikslenmistir.
Kaplama kaynaginda plakanin malzemesi bir birinci isil genlesme katsayisina (on)
sahip olabilir ve destek parçasinin malzemesi bir ikinci isil genlesme katsayisina
((12) sahip olabilir, burada: OL1>CX2 geçerlidir.
Kaplama kaynaginda destek parçasi plaka arka yüzünün kenar bölgesinde
plakanin yüzeysel yerlestirilmesi için bir dayanak parçasi içerebilir ve destek
parçasi plaka ön yüzü üstünde bir kanali içerir ve böylece plakanin destek
parçasinin içine yerlestirilmesi, bunu orada kanal içine mandallanan tutturma
halkasi vasitasi ile fikse edilebilmektedir.
Kaplama kaynaginda destek halkasi sert, sicakliga dayanan, manyetik olmayan
çelikten, tercihen dövülmüs ve 1 saat süreyle 1020°C'de tavlanmis bir çözeltiden
geçirilmis bir 1.3974 çelikten imal edilmektedir.
Kaplama kaynaginda bir gerilim kaynaginin baglantisi için hedefin bir elektroda
karsi negatif potansiyele ayarlanmasina olanak saglayan ekipmanlar öngörülebilir
ve böylece hedef katot olarak ve elektrot anot olarak kullanilabilmektedir.
Anot hedef etrafinda yer alabilir ve anot halkasi olarak tasarlanabilmektedir.
Bir PVD sistemi en azindan yukarida tarif edilen gibi bir kaplama kaynagi ile
açiklanmistir.
Hareket“
membi'an
Sogutma akiskanina
sahip sogutma kanali
An Halka
SogunmPlaka
Claims (7)
1. Bir PVD kaplamasi için malzeme tedariki olarak bir kaplama kaynagi olup, asagidakileri içermektedir a) bir destek parçasi, ve bir plaka ön yüzüne (la), bir plaka arka yüzüne (lc) ve bir merkezleme aracina sahip, destek parçasi içine yerlestirilmis bir plaka; destek parçasi, plakanin (l) yerlestirilmesi için çerçeve seklindeki bir plaka yatagina (2) sahiptir, plaka (1) bir hedeftir, ve plaka ön yüzü (la), PVD islemi esnasinda yüzeyden kaplama malzemesinin gaz fazina dönüstürülmesi için saglanmaktadir ve merkezleme araci, merkezlemenin farkli plaka sicakliklarinda saglanabilecegi sekilde tasarlanmaktadir, b) plaka arka yüzünde (lc) bulunan bir sogutma cihazi, bir sogutma kanali (5) ve hareketli bir membran olarak tasarlanan kapali bir sogutma plakasi ile donatilmaktadir; plaka arka yüzü ( 10) ve membran arasinda iyi bir termal temasin saglanmasi amaciyla, kendinden yapiskanli bir grafit film plaka arka yüzüne (lc) yapistirilmaktadir; burada bir bayonet baglanti parçasinin elemanlari, destek parçasi ve sogutma cihazinin üzerinde bulundurulmaktadir, böylelikle merkezlenmis plakaya sahip destek parçasi, bayonet baglanti parçasi vasitasiyla sogutma cihazina takilmaktadir, burada: 0 hedefin (l) desteklenmesi için, birbirinden aralikli olan en az üç kilavuz çikintisi (If, 20 ve/veya oluk (ln, 2n), sirasiyla hedef (1) ve hedef yataginda (2) bulundurulmaktadir; hedefin (l) hedef yataginin (2) üzerine yerlestirilmesi durumunda, hedefin (l) ve/veya hedef yataginin (2) kilavuz çikintilarinin (if, 2f), hedef yataginin (2) ve/veya hedefin (1) ilgili oluklari (ln, 2n) içinde tutulmasi için hedefin (1) ve/veya hedef yataginin (2) kilavuz çikintilari (If, 20, hedef yataginin (2) ve/veya hedefin (l) oluklari (ln, 2n) ile “kilavuz çikintisi-oluk” çiftleri olusturmaktadir, - “kilavuz çikintisi-oluk” çiftleri (lf, ln; 2f, 2n), her bir “kilavuz çikintisi-oluk” çiftinde (lf, In; 2f, 2n), olugun (ln, 2n) genislik merkezinin pozisyonu, ilgili kilavuz çikintisinin (lf, 21°) genislik merkezinin pozisyonuna denk gelecek sekilde dagitilmaktadir ve bu pozisyon, oda sicakliginda hedef merkezinin eksenel yönünde konumlandirilmak üzere seçilmektedir, ve plakanin (1) ve/veya plaka yataginin (2) daha yüksek sicakliklardaki bir isil genlesmesinden sonra bu pozisyon, hedef merkezin ayni eksenel yönünde degismemis olarak kalmaktadir, - plaka (l) malzemesi, bir birinci isil genlesme katsayisina (oci) sahiptir ve destek parçasi malzemesi, bir ikinci isil genlesme katsayisina (OCZ) sahiptir, burada: 0L1>0t2.
2. Plaka arka yüzünün kenar bölgesinde, destek parçasinin, plakanin yassi sekilde desteklenmesi için bir dayanak parçasina sahip olmasi ve plaka ön yüzü üzerinde, destek parçasinin bir kanali içermesi, böylelikle plaka destek parçasinin içine yerlestirildikten sonra, kanal içine tutturulan bir tutturma halkasi vasitasi ile buraya takilabilmesi ile karakterize edilen, istem l'e göre kaplama kaynagi.
3. Destek halkasinin, sert, isil kararliliga sahip, manyetik olmayan bir çelikten, tercihen dövülmüs ve bir saat süreyle 10200C'deki bir çözeltiyle tavlanmis 1.3974 çelikten meydana getirildigi, önceki istemlerden birine göre kaplama kaynagi.
4. Kaplama kaynaginin, bir voltaj kaynagina baglantinin gerçeklestirilmesi amaciyla, hedefin bir katot olarak kullanilabilmesi ve elektrotun bir anot olarak kullanilabilmesi için bir elektrota göre hedefe bir negatif potansiyelin uygulanmasini mümkün kilan araçlar ile donatildigi, önceki istemlerden birine göre kaplama kaynagi.
5. Anodun hedef etrafinda konumlandirildigi ve bir anot halkasi olarak 5 tasarlandigi, istem 4`e göre kaplama kaynagi.
6. Kaplama kaynaginin, yüksek güçlü darbeli magnetron püskürtmesi için uygun oldugu, önceki istemlerden birine göre kaplama kaynagi. 10
7. Önceki istemlerden birine göre en azi bir kaplama kaynagina sahip bir PVD
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361809524P | 2013-04-08 | 2013-04-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TR201809526T4 true TR201809526T4 (tr) | 2018-07-23 |
Family
ID=50486885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TR2018/09526T TR201809526T4 (tr) | 2013-04-08 | 2014-04-07 | Artan performans uyumuna sahip püskürtme hedefi. |
Country Status (21)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9536714B2 (tr) |
EP (2) | EP2984673B1 (tr) |
JP (2) | JP6360884B2 (tr) |
KR (2) | KR102190319B1 (tr) |
CN (2) | CN105210169B (tr) |
AR (2) | AR096021A1 (tr) |
BR (2) | BR112015025747A2 (tr) |
CA (2) | CA2908892C (tr) |
ES (1) | ES2675332T3 (tr) |
HK (2) | HK1214403A1 (tr) |
HU (1) | HUE038784T2 (tr) |
IL (2) | IL241980B (tr) |
MX (2) | MX350171B (tr) |
MY (2) | MY178843A (tr) |
PH (2) | PH12015502328B1 (tr) |
PL (1) | PL2984674T3 (tr) |
RU (2) | RU2665058C2 (tr) |
SG (3) | SG11201508311VA (tr) |
TR (1) | TR201809526T4 (tr) |
TW (2) | TW201443258A (tr) |
WO (2) | WO2014166621A1 (tr) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10435784B2 (en) | 2016-08-10 | 2019-10-08 | Applied Materials, Inc. | Thermally optimized rings |
CN110892502B (zh) | 2017-06-01 | 2022-10-04 | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 | 用于脆性材料的安全经济蒸发的靶组件 |
CN108130516A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-06-08 | 梧州三和新材料科技有限公司 | 一种使用泡沫金属增强冷却的真空镀阴极靶 |
US11600517B2 (en) * | 2018-08-17 | 2023-03-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Screwless semiconductor processing chambers |
CN110066980A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-07-30 | 德淮半导体有限公司 | 环状靶材部件、半导体工艺设备及其工作方法 |
JP2023505717A (ja) * | 2019-12-13 | 2023-02-10 | エヴァテック・アーゲー | Pvd源のガスリング |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5724890Y2 (tr) * | 1979-10-31 | 1982-05-29 | ||
EP0393344A1 (de) * | 1989-04-20 | 1990-10-24 | Balzers Aktiengesellschaft | Haltevorrichtung für Targets von Zerstäubungsquellen und Verfahren zum Festhalten eines Targets in einer Halterung |
DE4015388C2 (de) * | 1990-05-14 | 1997-07-17 | Leybold Ag | Kathodenzerstäubungsvorrichtung |
KR100231397B1 (ko) * | 1991-01-28 | 1999-11-15 | 튜그룰 야사르 | 음극 스퍼터링용 타겟 |
DE9102052U1 (tr) * | 1991-02-21 | 1991-06-13 | Hauzer Holding B.V., Venlo, Nl | |
JP3030921B2 (ja) * | 1991-05-01 | 2000-04-10 | 日新電機株式会社 | イオン源の引出し電極装置 |
DE59208623D1 (de) * | 1991-05-08 | 1997-07-24 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
DE4133564C2 (de) * | 1991-10-10 | 1999-11-18 | Leybold Ag | Vorrichtung zur lösbaren Befestigung eines Targets oder Targetgrundkörpers auf der Kathodenhalterung |
RU2037559C1 (ru) * | 1992-08-10 | 1995-06-19 | Волин Эрнст Михайлович | Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления |
GB2318590B (en) * | 1995-07-10 | 1999-04-14 | Cvc Products Inc | Magnetron cathode apparatus and method for sputtering |
DE19535894A1 (de) | 1995-09-27 | 1997-04-03 | Leybold Materials Gmbh | Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung |
US6217832B1 (en) * | 1998-04-30 | 2001-04-17 | Catalytica, Inc. | Support structures for a catalyst |
JP4251713B2 (ja) * | 1999-05-21 | 2009-04-08 | 株式会社アルバック | スパッタ装置 |
US6589352B1 (en) | 1999-12-10 | 2003-07-08 | Applied Materials, Inc. | Self aligning non contact shadow ring process kit |
JP4101524B2 (ja) * | 2002-02-05 | 2008-06-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 成膜装置 |
JP2010116605A (ja) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Fujikura Ltd | ターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法 |
JP2011165964A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法 |
DE102012006717A1 (de) | 2012-04-04 | 2013-10-10 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | An eine indirekte Kühlvorrichtung angepasstes Target |
-
2014
- 2014-04-07 CA CA2908892A patent/CA2908892C/en active Active
- 2014-04-07 AR ARP140101500A patent/AR096021A1/es unknown
- 2014-04-07 MX MX2015014210A patent/MX350171B/es active IP Right Grant
- 2014-04-07 AR ARP140101499A patent/AR099253A1/es unknown
- 2014-04-07 MY MYPI2015703578A patent/MY178843A/en unknown
- 2014-04-07 MX MX2015014209A patent/MX350172B/es active IP Right Grant
- 2014-04-07 HU HUE14718509A patent/HUE038784T2/hu unknown
- 2014-04-07 KR KR1020157031127A patent/KR102190319B1/ko active IP Right Grant
- 2014-04-07 US US14/783,168 patent/US9536714B2/en active Active - Reinstated
- 2014-04-07 RU RU2015147497A patent/RU2665058C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2014-04-07 SG SG11201508311VA patent/SG11201508311VA/en unknown
- 2014-04-07 MY MYPI2015703579A patent/MY185549A/en unknown
- 2014-04-07 CN CN201480026375.3A patent/CN105210169B/zh active Active
- 2014-04-07 BR BR112015025747A patent/BR112015025747A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2014-04-07 BR BR112015025749A patent/BR112015025749A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2014-04-07 EP EP14717412.2A patent/EP2984673B1/de active Active
- 2014-04-07 SG SG11201508324VA patent/SG11201508324VA/en unknown
- 2014-04-07 EP EP14718509.4A patent/EP2984674B1/de active Active
- 2014-04-07 CA CA2908897A patent/CA2908897C/en active Active
- 2014-04-07 WO PCT/EP2014/000928 patent/WO2014166621A1/de active Application Filing
- 2014-04-07 US US14/783,383 patent/US9564300B2/en active Active
- 2014-04-07 WO PCT/EP2014/000927 patent/WO2014166620A1/de active Application Filing
- 2014-04-07 JP JP2016506805A patent/JP6360884B2/ja active Active
- 2014-04-07 KR KR1020157031126A patent/KR102234454B1/ko active IP Right Grant
- 2014-04-07 SG SG10201708186QA patent/SG10201708186QA/en unknown
- 2014-04-07 PL PL14718509T patent/PL2984674T3/pl unknown
- 2014-04-07 CN CN201480031545.7A patent/CN105324830B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-07 RU RU2015147496A patent/RU2665059C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2014-04-07 ES ES14718509.4T patent/ES2675332T3/es active Active
- 2014-04-07 TR TR2018/09526T patent/TR201809526T4/tr unknown
- 2014-04-07 JP JP2016506806A patent/JP6655531B2/ja active Active
- 2014-04-08 TW TW103112844A patent/TW201443258A/zh unknown
- 2014-04-08 TW TW103112846A patent/TW201443263A/zh unknown
-
2015
- 2015-10-07 PH PH12015502328A patent/PH12015502328B1/en unknown
- 2015-10-08 PH PH12015502338A patent/PH12015502338A1/en unknown
- 2015-10-08 IL IL241980A patent/IL241980B/en active IP Right Grant
- 2015-10-08 IL IL241979A patent/IL241979B/en active IP Right Grant
-
2016
- 2016-03-02 HK HK16102413.7A patent/HK1214403A1/zh unknown
- 2016-06-29 HK HK16107567.0A patent/HK1219562A1/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TR201809526T4 (tr) | Artan performans uyumuna sahip püskürtme hedefi. | |
JP3400516B2 (ja) | ターゲット陰極装置 | |
SG152231A1 (en) | Plasma confinement ring assemblies having reduced polymer deposition characteristics | |
BR112019025350A2 (pt) | Conjunto de alvo para evaporação segura e econômica de materiais quebradiços | |
JP5910150B2 (ja) | プラズマ処理用マグネトロン電極 | |
TW202103234A (zh) | 罩幕結構和fcva設備 | |
US9368331B2 (en) | Sputtering apparatus | |
CN104928632A (zh) | 一种阴极电弧源 | |
JP5827344B2 (ja) | 処理装置およびシールド | |
US20150139794A1 (en) | Counter plate and turbo machine comprising a counter plate | |
EP2487275B1 (en) | Composite shielding | |
US20180144913A1 (en) | Tubular target | |
US20130042812A1 (en) | Composite shielding | |
JP2635362B2 (ja) | ターゲットユニット | |
WO2013093503A2 (en) | Mount for optical element of a laser | |
KR102367377B1 (ko) | 애노드 냉각 기능이 개선된 이온 빔 발생장치 | |
KR20140126519A (ko) | 스퍼터링 장치 | |
JP2018109206A (ja) | ガスフロースパッタリング装置及びスパッタリングターゲット原料の製造方法 |