JP2010116605A - ターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】駆動の際にもターゲットがずれ動くのを抑制でき、かつターゲットの熱膨張にも対応して、ターゲットを確実に保持することが可能なターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】板状のターゲット2から叩き出され若しくは蒸発した粒子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いられるターゲット保持装置10であって、ターゲット2を保持するホルダ11が、ターゲット2から粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面2aとは反対側の裏面2bに接する底部11bと、ターゲット2の外周面2cを取り囲んで設けられた側壁部11cとを有し、側壁部11cには、ターゲット2の外周面2cに接触する位置がターゲット2の内側に向かって変位可能に設けられたバネ機構13が設けられている。
【選択図】図2
【解決手段】板状のターゲット2から叩き出され若しくは蒸発した粒子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いられるターゲット保持装置10であって、ターゲット2を保持するホルダ11が、ターゲット2から粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面2aとは反対側の裏面2bに接する底部11bと、ターゲット2の外周面2cを取り囲んで設けられた側壁部11cとを有し、側壁部11cには、ターゲット2の外周面2cに接触する位置がターゲット2の内側に向かって変位可能に設けられたバネ機構13が設けられている。
【選択図】図2
Description
本発明は、薄膜形成用のターゲットを保持するターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法に関する。
従来、酸化物超電導体の薄膜を製造する方法として、真空蒸着法、スパッタリング法、レーザ蒸着法などの成膜法が知られている。これらの各種成膜方法のうちで、均質で特性の良い薄膜を製造できる方法としては、真空成膜プロセスを用い、ターゲットから発生させた粒子を対向する基材上に堆積させる、いわゆるスパッタリング法や、レーザ蒸着法などの物理蒸着法が主流となっている。
一般に、ターゲットは平板状のものであり、円形や方形、矩形等のものも使用される。ターゲットの材質は、目的とする薄膜の組成と同じかそれに近い組成のものが使用される。例えば酸化物超電導体の場合には、Y−Ba−Cu−O系、Bi−Sr−Ca−Cu−O系、Ti−Ba−Ca−Cu−O系、などの酸化物焼結体を使用する。金属薄膜を作る場合はCu、Ti、Mo、Taなどの純金属が使用される。その他には窒化物等の高融点物質も使用される。
成膜の際、ターゲットは、基材の表面と所定の角度をなして向き合うようにターゲットホルダによって支持される(特許文献1〜4参照)。
特開2006−228465号公報
特開2006−233246号公報
特開2000−319097号公報
特開平9−53174号公報
成膜の際、ターゲットは、基材の表面と所定の角度をなして向き合うようにターゲットホルダによって支持される(特許文献1〜4参照)。
例えばスパッタリング法では、ターゲットをホルダにボンディングする方法もあるが(特許文献4参照)、ボンディング材は、成膜温度が高い場合、それに応じた高融点材料を用い、かつターゲットを冷却するための冷却機構を装置内に導入する必要がある。
特に、レーザ蒸着法による酸化物超電導体の成膜は高温(800℃以上)で行われるため、特殊なボンディング材と冷却機構を使用すると、装置のコストおよび毎回のボンディングのコストにより、コスト高となってしまう。
特に、レーザ蒸着法による酸化物超電導体の成膜は高温(800℃以上)で行われるため、特殊なボンディング材と冷却機構を使用すると、装置のコストおよび毎回のボンディングのコストにより、コスト高となってしまう。
また、長時間にわたって成膜を継続する場合(例えば長尺の基材の長手方向に薄膜を順次成膜する場合)、長時間における薄膜の均一性については、ターゲットから発生させた構成粒子より構成されるプルームの長時間の安定性が必要な要素の一つとなる。
プルームの長時間の安定性を保つため、ターゲットの異なる場所から構成粒子が叩き出されるか蒸発するようにターゲットを駆動させ(回転もしくは並進、またはその組み合わせ)、長時間にわたり、ターゲットの表面の平坦性を保つ必要がある(特許文献3参照)。
プルームの長時間の安定性を保つため、ターゲットの異なる場所から構成粒子が叩き出されるか蒸発するようにターゲットを駆動させ(回転もしくは並進、またはその組み合わせ)、長時間にわたり、ターゲットの表面の平坦性を保つ必要がある(特許文献3参照)。
より長時間の成膜を行うためには、レーザが照射されるターゲットの面積が広い方が有利になる。しかし、ターゲットを固定すると、成膜中に高温になったときに熱膨張によりターゲットが割れ、レーザ照射による衝撃やターゲットの駆動によってターゲットの一部が飛散して、安定したプルームが得られない。しかしながら、ターゲットを表面から押え込むように保持すると、レーザの照射面積が制限されてしまう。
図8に示すように、ターゲット31のホルダ32が平坦で、ターゲット31の側面を保持していない場合、ボンディング材を使用しないと、駆動機構33の駆動によってホルダ32からターゲット31がずれ動いて、プルームの発生位置が安定しない。
図9に示すように、ターゲット41の底面に接する底部43と、ターゲット41の側面に接する側壁部44を有する皿状のホルダ42を用いてターゲット41を保持する場合、駆動機構45の駆動によってホルダ42からターゲット41がずれ動くのを防ぐためには、ターゲット41の側面とホルダ42の側壁部44の間に隙間がないようにする必要がある。このとき、ターゲット41とホルダ42の間の熱膨張の違いからターゲット41に応力が加わり、図10に示すようにクラック46が生じる可能性がある。ターゲット41のクラック46が伸展すると、ターゲットの駆動により隙間が生じたり、ターゲット41の破片が飛散したりするおそれがある。
また、図8においてボンディング材を使用しても、ターゲット31とホルダ32の熱膨張の違いからターゲット31に応力が加わり、クラックが生じるおそれがある。
図9に示すように、ターゲット41の底面に接する底部43と、ターゲット41の側面に接する側壁部44を有する皿状のホルダ42を用いてターゲット41を保持する場合、駆動機構45の駆動によってホルダ42からターゲット41がずれ動くのを防ぐためには、ターゲット41の側面とホルダ42の側壁部44の間に隙間がないようにする必要がある。このとき、ターゲット41とホルダ42の間の熱膨張の違いからターゲット41に応力が加わり、図10に示すようにクラック46が生じる可能性がある。ターゲット41のクラック46が伸展すると、ターゲットの駆動により隙間が生じたり、ターゲット41の破片が飛散したりするおそれがある。
また、図8においてボンディング材を使用しても、ターゲット31とホルダ32の熱膨張の違いからターゲット31に応力が加わり、クラックが生じるおそれがある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、駆動の際にもターゲットがずれ動くのを抑制でき、かつターゲットの熱膨張にも対応して、ターゲットを確実に保持することが可能なターゲット保持装置、ならびにこれを用いた成膜装置および成膜方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するため、本発明は、板状のターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いられるターゲット保持装置であって、ターゲットを保持するホルダが、前記ターゲットから粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面とは反対側の裏面に接する底部と、前記ターゲットの外周面を取り囲んで設けられた側壁部とを有し、前記側壁部には、前記ターゲットの外周面に接触する位置が前記ターゲットの内側に向かって変位可能に設けられたバネ機構が設けられていることを特徴とするターゲット保持装置を提供する。
本発明のターゲット保持装置においては、前記ホルダの前記側壁部が前記底部に固定されており、前記バネ機構は、前記ホルダの側壁部の内側側面と前記ターゲットの外周面との間に設けられ、かつ前記ホルダから着脱可能とされたバネ部材からなることが好ましい。
前記バネ部材は、板状のバネが前記ターゲットの外周面の周方向に沿って複数回屈曲され、これらの屈曲部が、前記ホルダの側壁部の内側側面に接する部分と、前記ターゲットの外周面に接する部分とを交互に有するものであることが好ましい。
前記ターゲットは円形であり、前記バネ部材は、前記ターゲットの周方向の1箇所で分離された2つの端部を有することが好ましい。
また、本発明は、板状のターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いられるターゲット保持装置であって、ターゲットを保持するホルダが、前記ターゲットから粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面とは反対側の裏面に接する底部と、前記ターゲットの外周面を取り囲んで設けられた側壁部とを有し、前記側壁部は、前記ターゲットの外周面をその内方向に付勢する機能を備え、前記側壁部の前記ターゲットに接触する位置が、前記ターゲットの内側に向かって変位可能であることを特徴とするターゲット保持装置を提供する。
前記バネ部材は、板状のバネが前記ターゲットの外周面の周方向に沿って複数回屈曲され、これらの屈曲部が、前記ホルダの側壁部の内側側面に接する部分と、前記ターゲットの外周面に接する部分とを交互に有するものであることが好ましい。
前記ターゲットは円形であり、前記バネ部材は、前記ターゲットの周方向の1箇所で分離された2つの端部を有することが好ましい。
また、本発明は、板状のターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いられるターゲット保持装置であって、ターゲットを保持するホルダが、前記ターゲットから粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面とは反対側の裏面に接する底部と、前記ターゲットの外周面を取り囲んで設けられた側壁部とを有し、前記側壁部は、前記ターゲットの外周面をその内方向に付勢する機能を備え、前記側壁部の前記ターゲットに接触する位置が、前記ターゲットの内側に向かって変位可能であることを特徴とするターゲット保持装置を提供する。
また、本発明は、レーザ光によってターゲットから叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を基板上に堆積させ、前記基板上に薄膜を形成する成膜装置であって、前記基板に対向するように配されたターゲットと、前記ターゲットを保持するターゲット保持装置と、前記ターゲットにレーザ光を照射するレーザ光発光手段とを少なくとも備え、ターゲット保持装置が、上記本発明に係るターゲット保持装置であることを特徴とする成膜装置を提供する。
また、本発明は、上記本発明に係るターゲット保持装置によってターゲットを保持し、このターゲットにレーザ光を照射し、前記レーザ光によってターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を、前記ターゲットに対向するように配された基板上に堆積させることによって、前記基板上に薄膜を形成することを特徴とする成膜方法を提供する。
また、本発明は、上記本発明に係るターゲット保持装置によってターゲットを保持し、このターゲットにレーザ光を照射し、前記レーザ光によってターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を、前記ターゲットに対向するように配された基板上に堆積させることによって、前記基板上に薄膜を形成することを特徴とする成膜方法を提供する。
本発明によれば、ターゲットの外周面(側面)に接触する位置が変位可能なバネ機構(側壁部自体がバネ機構を構成していても良い。)によってターゲットを保持するので、駆動の際にもターゲットがずれ動くのを抑制でき、かつターゲットおよびホルダの熱膨張や熱収縮にも対応して、ターゲットを確実に保持することが可能になる。これにより、ターゲットを長時間にわたり使用する場合にも、安定して均一性の高い薄膜を得ることができる。
以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図1〜3に、本発明に係るターゲット保持装置の一形態例を示す。
本形態例のターゲット保持装置10は、板状のターゲット2を保持するホルダ11が、ターゲット2から粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面2aとは反対側の裏面2bに接する底部11bと、ターゲット2の外周面2cを取り囲んで設けられた側壁部11cとを有し、ホルダ11の側壁部11cには、ターゲット2の外周面2cに接触する位置がターゲット2の内側に向かって変位可能に設けられたバネ機構13が設けられていることを特徴とする。
図1〜3に、本発明に係るターゲット保持装置の一形態例を示す。
本形態例のターゲット保持装置10は、板状のターゲット2を保持するホルダ11が、ターゲット2から粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面2aとは反対側の裏面2bに接する底部11bと、ターゲット2の外周面2cを取り囲んで設けられた側壁部11cとを有し、ホルダ11の側壁部11cには、ターゲット2の外周面2cに接触する位置がターゲット2の内側に向かって変位可能に設けられたバネ機構13が設けられていることを特徴とする。
図1に示すターゲット2は、平面視が円形の平板状である。このターゲット2を保持するホルダ(保持容器)11は、側壁部11cが底部11bに固定され、側壁部11cの内側側面11dの内側がターゲット2よりも直径が大きいターゲット収容部を構成している。このため、ホルダ11の側壁部11cの内側側面11dとターゲット2の外周面2cとの間には、クリアランス12を有する。
ホルダ11の側壁部11cの上面11aは、ターゲット2の径方向において外周面2cよりも外側に位置しており、ターゲット2の表面2a全体がホルダ11の外側に露出されている。
なお、側壁部は必ずしもホルダの周方向の全長にわたって設けられる必要はなく、一部に切れ目や切り欠き等、側壁部が分断された箇所があっても構わない。
ホルダ11の側壁部11cの上面11aは、ターゲット2の径方向において外周面2cよりも外側に位置しており、ターゲット2の表面2a全体がホルダ11の外側に露出されている。
なお、側壁部は必ずしもホルダの周方向の全長にわたって設けられる必要はなく、一部に切れ目や切り欠き等、側壁部が分断された箇所があっても構わない。
図2に示すように、ターゲット2とホルダ11との間のクリアランス12には、前記バネ機構13として、ターゲット2の外周面2cをターゲット2の内側に向かって付勢(押圧)することが可能なバネ部材14が設けられている。
このバネ部材14は、ホルダ11とは別部材として形成されており、ホルダ11から着脱可能である。このため、バネ部材14が側壁部11cの内側側面11dに接触する位置15において、バネ部材14を側壁部11cに固定(接着や溶接等)する必要がない。
ターゲット2をホルダ11に保持するときには、ホルダ11からバネ部材14を取り外した状態で、ホルダ11の中央部にターゲット2を置き、ホルダ11の側壁部11cとターゲット2との隙間にバネ部材14を挿入する。これにより、バネの弾性変形による付勢力がターゲット2に加わり、ホルダ11に保持される。
バネ機構がホルダとは別体のバネ部材からなる場合、ホルダ11の側壁部11cが周方向の全長にわたって設けられることが好ましい。この場合、バネ部材14が側壁部11cに接触する位置を選ぶ必要がなく、取り付けの作業性が向上する。
このバネ部材14は、ホルダ11とは別部材として形成されており、ホルダ11から着脱可能である。このため、バネ部材14が側壁部11cの内側側面11dに接触する位置15において、バネ部材14を側壁部11cに固定(接着や溶接等)する必要がない。
ターゲット2をホルダ11に保持するときには、ホルダ11からバネ部材14を取り外した状態で、ホルダ11の中央部にターゲット2を置き、ホルダ11の側壁部11cとターゲット2との隙間にバネ部材14を挿入する。これにより、バネの弾性変形による付勢力がターゲット2に加わり、ホルダ11に保持される。
バネ機構がホルダとは別体のバネ部材からなる場合、ホルダ11の側壁部11cが周方向の全長にわたって設けられることが好ましい。この場合、バネ部材14が側壁部11cに接触する位置を選ぶ必要がなく、取り付けの作業性が向上する。
バネ部材14は、バネの弾性的変形(伸縮や屈曲など)によって、ターゲット2の外周面2cに接触する位置16がターゲット2の径方向に変位可能であり、ターゲット2を内方向に付勢することができる(矢印Yを参照)。
バネ部材14がターゲット2の外周面2cに接触する位置16における直径(内接円の直径)は、ターゲット2をホルダ11から取り外した状態において、ターゲット2の直径よりも小さくなるようにしておくと、バネ部材14の内側にターゲット2を取り付けたとき、ターゲット2の外周面2cに対して内側に押圧する力が作用する。
成膜中の温度変化によってターゲット2やホルダ11が熱膨張または収縮することにより、ターゲット2やホルダ11の寸法変化や、クリアランス12の寸法変化が生じても、バネ部材14のバネが変形して、ホルダ11等の寸法変化に対応することができる。
バネ部材14がターゲット2の外周面2cに接触する位置16における直径(内接円の直径)は、ターゲット2をホルダ11から取り外した状態において、ターゲット2の直径よりも小さくなるようにしておくと、バネ部材14の内側にターゲット2を取り付けたとき、ターゲット2の外周面2cに対して内側に押圧する力が作用する。
成膜中の温度変化によってターゲット2やホルダ11が熱膨張または収縮することにより、ターゲット2やホルダ11の寸法変化や、クリアランス12の寸法変化が生じても、バネ部材14のバネが変形して、ホルダ11等の寸法変化に対応することができる。
ターゲット2が円形である場合、バネ部材14は、円形のターゲット2の外周面2cに接する接触部16が3箇所以上相互に離間して設けられることが好ましい。このように、バネによって変位可能な接触部16の位置のみでターゲット2の外周面2cに接触させた場合、バネ部材14の形状をターゲット2の外周面2cの全周において正確に対応させる必要がない。また、ターゲット2およびホルダ11の直径の変化やクリアランス12の変化に伴ってバネ部材14が変形する際、円形のターゲット2に対してどの方向にも一定の力を加えることができる。
なお、ターゲットが矩形などの多角形である場合は、バネ部材はターゲットの外周面に対し、辺ごとに1箇所または2箇所以上で接触することが好ましい。
なお、ターゲットが矩形などの多角形である場合は、バネ部材はターゲットの外周面に対し、辺ごとに1箇所または2箇所以上で接触することが好ましい。
本形態例の場合、バネ部材14は、図1および図3に示すように、板状のバネ材料がターゲット2の外周面2cの周方向に沿って複数回屈曲され、これらの屈曲部15,16が、ホルダ11の側壁部11cの内側側面11dに接する部分(外側接触部)15と、ターゲット2の外周面2cに接する部分(内側接触部)16とを交互に有する。
このような構成のバネ部材14によれば、内側接触部16がバネ部材14の押圧力に対するターゲット2の外周面2cからの反作用を受けたとき、内側接触部16に対する力がその両側の外側接触部15によって支持される。また、耐熱性の高いバネ材料の加工によってターゲット2の外周面2cに接触する部分16を複数個所(特に3箇所以上)形成するのが容易である。
このような構成のバネ部材14によれば、内側接触部16がバネ部材14の押圧力に対するターゲット2の外周面2cからの反作用を受けたとき、内側接触部16に対する力がその両側の外側接触部15によって支持される。また、耐熱性の高いバネ材料の加工によってターゲット2の外周面2cに接触する部分16を複数個所(特に3箇所以上)形成するのが容易である。
バネ部材14を構成するバネ材料は、弾性を有する金属等の中から、成膜条件に応じて、必要な耐熱性、耐食性を有するものを適宜選択して用いることができる。バネ材料としては、ステンレス、ハステロイ(登録商標)、インコネル(INCONEL(登録商標))等が挙げられる。
板状のバネ材料の幅は、ターゲット2の厚さや、ホルダ11の側壁部11cの高さ(底部11bから上面11aまでの高さ)と同程度とすると、ターゲット2やホルダ11の上方にはみ出すことがなく、好ましい。
なお、本発明においてターゲットを保持するためのバネ部材に用いられるバネは、図1〜図3に示した構成に限定されるものではなく、板バネ、コイルバネ、圧縮バネ、ねじりバネなど、各種のバネが利用できる。
板状のバネ材料の幅は、ターゲット2の厚さや、ホルダ11の側壁部11cの高さ(底部11bから上面11aまでの高さ)と同程度とすると、ターゲット2やホルダ11の上方にはみ出すことがなく、好ましい。
なお、本発明においてターゲットを保持するためのバネ部材に用いられるバネは、図1〜図3に示した構成に限定されるものではなく、板バネ、コイルバネ、圧縮バネ、ねじりバネなど、各種のバネが利用できる。
また、バネ部材14は、切れ目のない環状の構造であってもよいが、本形態例の場合、ターゲット2の周方向の1箇所で分離された2つの端部17,17を有する。この場合、端部17,17間の間隔または重なり幅を調整することにより、バネ部材14をターゲットの形状に適合させることが容易になる。また、端部17,17から1個所または複数個所の屈曲部15,16を相互に重ね合わせる場合、より直径の小さいターゲットにも対応することが可能になる。なお、このバネ部材14は、円形のターゲットに用いるのと同様に、多数の辺を有する多角形状のターゲットにも使用することができる。
また、ターゲット2が矩形など、辺の数が比較的少数の多角形である場合は、図4に示すように、複数の屈曲部15,16を有するバネ部材14をターゲット2の辺の数と同数準備し、ターゲット2の外周面2cの辺ごとに、異なるバネ部材14を用いるようにすることもできる。
また、ターゲット2が矩形など、辺の数が比較的少数の多角形である場合は、図4に示すように、複数の屈曲部15,16を有するバネ部材14をターゲット2の辺の数と同数準備し、ターゲット2の外周面2cの辺ごとに、異なるバネ部材14を用いるようにすることもできる。
図1に示すバネ部材14は、屈曲部15,16が鈍角(180°未満の角)を有するものであるが、図5に示すバネ部材14Aのように、屈曲部15,16が波状に湾曲した形状であっても良い。
本形態例のターゲット保持装置10は、ターゲットの外周面(側面)とホルダとのクリアランスに設けたバネ部材によってターゲットを保持するので、駆動の際にもターゲットがずれ動くのを抑制でき、かつターゲットおよびホルダの熱膨張や熱収縮にも対応して、ターゲットを確実に保持することが可能になる。これにより、ターゲットを長時間にわたり使用する場合にも、安定して均一性の高い薄膜を得ることができる。
したがって、長尺の基材に薄膜を連続して形成する場合には、その長尺基材の長手方向に、組成や特性等の均一性の高い薄膜を形成することができる。また、バッチ式で基板に薄膜を形成する場合には、多数の基板に対し、組成や特性等の均一性の高い薄膜を形成することができる。
したがって、長尺の基材に薄膜を連続して形成する場合には、その長尺基材の長手方向に、組成や特性等の均一性の高い薄膜を形成することができる。また、バッチ式で基板に薄膜を形成する場合には、多数の基板に対し、組成や特性等の均一性の高い薄膜を形成することができる。
本形態例のターゲット保持装置10は、各種成膜装置において薄膜形成用のターゲットを保持するターゲット保持装置として用いることができる。図6に、成膜装置の一例として、レーザ蒸着法に用いられる成膜装置1の構成例を示す。
図6に示す成膜装置1は、レーザ光3aによってターゲット2から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子の噴流(プルーム4)を基板5上に堆積させ、この構成粒子による薄膜を基板5上に形成する、レーザ蒸着法による成膜装置である。この成膜装置1は、基板5に対向するように配されたターゲット2と、ターゲット2を保持するターゲット保持装置10と、ターゲット2にレーザ光3aを照射するレーザ光発光手段3とを少なくとも備え、ターゲット2は、図1に示すターゲット保持装置10に保持されている。
ここで、基板5は帯状の長尺基材であり、巻回された長尺基材5をターゲット2に対向する位置に向けて送出する送出リール6と、ターゲット2に対向する位置から巻き取られる長尺基材5が巻回される巻取リール7とを備えている。また、送出リール6と巻取リール7とは、不図示の駆動装置により互いに同期して駆動され、長尺基材5がその長手方向に搬送されるようになっている。
長尺基材5を収容した処理容器8には、排気孔を介して真空排気装置(図示せず)が接続され、処理容器8内を所定の圧力に減圧するようになっている。長尺基材5を巻回する送出リール6および巻取リール7は処理容器8内に収容され、処理容器8内が所定の圧力に減圧されている間は、長尺基材5の長手方向の全体が、処理容器8内の減圧下に置かれるようになっている。
ターゲット2にレーザ光3aを照射するレーザ光発光手段3は、ターゲット2からその構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させることができるレーザ光3aを発生するものであれば良い。レーザ光3aの照射によってターゲット2から発生した構成粒子を、ターゲット2に対向するように配された基材5上に堆積させることによって、基材5上に薄膜を形成することができる。レーザの波長、出力、照射エネルギー等は、ターゲット2の材質や成膜速度等に応じて、適宜設定することが可能である。
本形態例の成膜装置1では、ターゲット2にレーザ光3aが照射される表面2aが上向きとなるように、ターゲット保持装置10が基材5の下方に設置されている。これにより、薄膜の堆積面が基材5の下面となり、異物が付着しないので好ましい。また、ホルダ11の底部11bとターゲット2の裏面2bとの間にボンディング材を使用しなくても、ターゲット2がホルダ11から脱落することがない。また、ホルダ11がターゲット2の表面2aを押さえ込む部分がないので、ターゲット2の表面2aに対して外周面2cに近い位置までレーザ光3aを照射することができ、ターゲット2の材料を有効に利用することができる。なお、ターゲット2の表面2aを下向きとして配する場合、ホルダ11がターゲット2の表面2aの一部を押さえ込む構成とすることもできる。
ターゲット保持装置10は、プルーム4の長時間の安定性を保つため、ターゲット2の表面2aの異なる場所から構成粒子が叩き出されるか蒸発するようにターゲット2を駆動(回転もしくは並進、またはその組み合わせ)させるターゲット駆動機構18を備えることが好ましい。ターゲット2のレーザ光3aの照射位置を変えることにより、長時間にわたり、ターゲットの表面の平坦性を保つことができる。
また、図6に示すように、長尺基材5を長手方向に搬送することにより、長時間連続して薄膜を堆積することができる。長尺基材5に対し直接レーザ光3aが照射されないよう、レーザ光発光手段3は、ターゲット2の表面2aに対してレーザ光3aを斜めに照射するように設置することが好ましい。
また、図6に示すように、長尺基材5を長手方向に搬送することにより、長時間連続して薄膜を堆積することができる。長尺基材5に対し直接レーザ光3aが照射されないよう、レーザ光発光手段3は、ターゲット2の表面2aに対してレーザ光3aを斜めに照射するように設置することが好ましい。
本形態例の成膜装置および成膜方法は、酸化物超電導膜の成膜用として、好適に用いることができる。酸化物超電導膜を成膜する場合のターゲット2は、形成しようとする超電導膜と同等または近似した組成、あるいは、成膜中に逃避しやすい成分を多く含有させた複合酸化物の焼結体あるいは酸化物超電導体などの板材を用いることができる。また、酸化物超電導膜を成膜する場合の長尺基材5は、金属基材の上に、イオンビームアシストデポジション(IBAD)法により、GZO(Gd2Zr2O7)や酸化マグネシウム(MgO)等を成膜し、さらにはレーザ蒸着法等により酸化セリウム(CeO2)等を成膜して、1層又は2層以上の中間層を形成したものが好ましい。
以上、本発明を好適な実施の形態に基づいて説明してきたが、本発明は上述の形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。
図7に示すターゲットホルダ21は、ホルダ21の側壁部21cが底部21bに対して可動式になっており、側壁部21cの内側側面21dがターゲット2の外周面2cに接触している。そして側壁部21cは図示しないバネ機構によって保持されており、バネ機構の変位23により、ターゲット2の熱収縮22a(もしくはターゲット2の熱膨張がホルダ21の底部21bの熱膨張よりも小さい場合)および熱膨張22b(もしくはターゲット2の熱収縮がホルダ21の底部21bの熱収縮よりも小さい場合)に対応することができる。
ホルダにターゲットを取り付ける際には、適宜の治具等を用いて、側壁部21cの内側側面21dを外方向に押圧し、ターゲット2を収容するスペースを確保するようにしても良い。
図7に示すターゲットホルダ21は、ホルダ21の側壁部21cが底部21bに対して可動式になっており、側壁部21cの内側側面21dがターゲット2の外周面2cに接触している。そして側壁部21cは図示しないバネ機構によって保持されており、バネ機構の変位23により、ターゲット2の熱収縮22a(もしくはターゲット2の熱膨張がホルダ21の底部21bの熱膨張よりも小さい場合)および熱膨張22b(もしくはターゲット2の熱収縮がホルダ21の底部21bの熱収縮よりも小さい場合)に対応することができる。
ホルダにターゲットを取り付ける際には、適宜の治具等を用いて、側壁部21cの内側側面21dを外方向に押圧し、ターゲット2を収容するスペースを確保するようにしても良い。
また、ターゲット保持装置において、ターゲットを保持するホルダが、ターゲットから粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面とは反対側の裏面に接する底部と、前記ターゲットの外周面を取り囲んで設けられた側壁部とを有し、側壁部は、ターゲットの外周面をその内方向に付勢する機能を備え、側壁部はターゲットに接触する位置がターゲットの内側に向かって変位可能である構成とすることもできる。この場合、ホルダの側壁部が底部に固定され、側壁部自体がバネ弾性を有する材料から構成されていても良い。あるいは、側壁部自体が上述のバネ機構から構成されていても良い。本形態においては、側壁部自体の弾性力によってターゲットが付勢され、ターゲットの熱収縮・熱膨張に対応することができる。
ホルダ21の側壁部21cは、ターゲットの外周面に対し、円形のターゲットでは全周のうち3箇所以上、多角形のターゲットでは各辺につき1箇所または2箇所以上で接触することが好ましい。
バネ機構に用いられるバネは、板バネ、コイルバネ、圧縮バネ、ねじりバネなど、各種のバネが利用できる。
バネ機構に用いられるバネは、板バネ、コイルバネ、圧縮バネ、ねじりバネなど、各種のバネが利用できる。
(実施例)
図6に示す構成の成膜装置1を用いて、以下の方法により、テープ状の長尺基材5(幅10mm)の表面に、Gd1Ba2Cu3Oxの組成を有する超電導層を成膜した。
図6に示す構成の成膜装置1を用いて、以下の方法により、テープ状の長尺基材5(幅10mm)の表面に、Gd1Ba2Cu3Oxの組成を有する超電導層を成膜した。
ターゲット2は、ホルダ11にボンディングすることなく、ホルダ11の中央部に置いた。ターゲット2(直径8インチ≒約20cm、厚さ10mm)の外周面とホルダ11とのクリアランス12に、図1〜3に示す、幅10mm、厚さ0.1mmのハステロイ(登録商標)テープを複数回屈曲させて形成したバネ部材14を挿入した。このようにして、バネ部材14の弾性変形による付勢力をターゲット2に加えることで、ターゲット2をホルダ11内に保持した。
ホルダ11は、駆動機構18によって回転駆動および並進駆動をさせ、レーザ光3aの照射位置や照射方向が時間的に変化するようにした。ターゲット2の駆動時におけるクリアランス12の変動は、バネ部材14の変形によって吸収させるようにした。
ホルダ11は、駆動機構18によって回転駆動および並進駆動をさせ、レーザ光3aの照射位置や照射方向が時間的に変化するようにした。ターゲット2の駆動時におけるクリアランス12の変動は、バネ部材14の変形によって吸収させるようにした。
このように駆動されたターゲット2に対してレーザ光発光手段3からレーザ光3aを照射し、ターゲット2の構成粒子からなるプルーム4を発生させた。長尺基材5は、送出リール6から巻取リール7に向けて送出し、その間の位置でターゲット2に対向するように搬送した。プルーム4中の構成粒子を長尺基材5の表面に堆積させることにより、薄膜を長尺基材5の長手方向に連続的に形成した。
成膜時に処理容器8の外部からプルーム4を連続的に観察したところプルーム4の状態は長時間にわたり安定していることが確認された。成膜中のターゲット2の温度は、長時間にわたる連続的なレーザ光の照射によって800℃前後まで上昇していた。成膜後のターゲット2の状態を確認したところ、その表面2aは均一に使用され、クラックは生じていなかった。
本実施例において長尺基材の表面に厚さ1μmの超電導層を成膜して得られた酸化物超電導線材の臨界電流(Ic)を線材の長手方向に沿って複数個所で測定したところ、測定値はIc=240〜260Aの範囲であり、長手方向のばらつきは小さかった。このように、本発明の薄膜形成装置を用いることによって、長手方向に均一な超電導特性を有する高品質の酸化物超電導線材を製造することができた。
(比較例)
図9に示すホルダ42を用いてターゲット41を保持する従来技術の成膜装置により、テープ状の長尺基材(幅10mm)の表面に、Gd1Ba2Cu3Oxの組成を有する超電導層を成膜した。
このホルダ42は、底部43にボンディング材を用いることなく、側壁部44がターゲット41の外周面に対してほとんど隙間なく接触することにより、保持するものである。比較例で用いた成膜装置は、ホルダが異なる他は、実施例で用いた図6に示す成膜装置1と同様に構成されている。
図9に示すホルダ42を用いてターゲット41を保持する従来技術の成膜装置により、テープ状の長尺基材(幅10mm)の表面に、Gd1Ba2Cu3Oxの組成を有する超電導層を成膜した。
このホルダ42は、底部43にボンディング材を用いることなく、側壁部44がターゲット41の外周面に対してほとんど隙間なく接触することにより、保持するものである。比較例で用いた成膜装置は、ホルダが異なる他は、実施例で用いた図6に示す成膜装置1と同様に構成されている。
駆動機構45によってホルダ42が回転および並進するように駆動させ、レーザ光の照射位置や照射方向が時間的に変化するようにした。このように駆動されたターゲット41に対してレーザ光を照射し、ターゲット41の構成粒子からなるプルームを発生させ、プルーム中の構成粒子を、長手方向に搬送された長尺基材の表面に堆積させることにより、薄膜を長尺基材の長手方向に連続的に形成した。
成膜時、外部からプルームを連続的に観察したところ、成膜の後半ではプルームの揺れがひどく、成膜時のターゲットにはクラックにより割れが生じていた。これは、長時間、連続的なレーザ光の照射によってターゲット41の温度が800℃前後まで上昇し、ホルダ42との熱膨張の差により、応力が生じたためと考えられる。
本比較例において長尺基材の表面に厚さ1μmの超電導層を成膜して得られた酸化物超電導線材の臨界電流(Ic)を線材の長手方向に沿って複数個所で測定した。測定値は、成膜の初期に製造された部分でIc=240A以上であったが、成膜の後半においてはIcが低下する傾向が見られ、180A程度までIcが低下した。これは、ターゲット41にクラックや割れが生じたため、プルームの状態が不安定になったためと考えられる。
1…成膜装置、2…ターゲット、2c…外周面、3…レーザ光発光手段、3a…レーザ光、4…プルーム、5…基板(長尺基材)、10…ターゲット保持装置、11,21…ホルダ(保持容器)、11a,21a…側壁部の上面、11b,21b…底部、11c,21c…側壁部、11d,21d…側壁部の内側側面、13…バネ機構、14,14A…バネ部材、15…バネ部材がホルダの側壁部の内側側面に接する部分(屈曲部)、16…バネ部材がターゲットの外周面に接する部分(屈曲部)、17…バネ部材の端部。
Claims (7)
- 板状のターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いられるターゲット保持装置であって、
ターゲットを保持するホルダが、前記ターゲットから粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面とは反対側の裏面に接する底部と、前記ターゲットの外周面を取り囲んで設けられた側壁部とを有し、前記側壁部には、前記ターゲットの外周面に接触する位置が前記ターゲットの内側に向かって変位可能に設けられたバネ機構が設けられていることを特徴とするターゲット保持装置。 - 前記ホルダの前記側壁部が前記底部に固定されており、前記バネ機構は、前記ホルダの側壁部の内側側面と前記ターゲットの外周面との間に設けられ、かつ前記ホルダから着脱可能とされたバネ部材からなることを特徴とする請求項1に記載のターゲット保持装置。
- 前記バネ部材は、板状のバネが前記ターゲットの外周面の周方向に沿って複数回屈曲され、これらの屈曲部が、前記ホルダの側壁部の内側側面に接する部分と、前記ターゲットの外周面に接する部分とを交互に有するものであることを特徴とする請求項2に記載のターゲット保持装置。
- 前記ターゲットは円形であり、前記バネ部材は、前記ターゲットの周方向の1箇所で分離された2つの端部を有することを特徴とする請求項3に記載のターゲット保持装置。
- 板状のターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を使用して薄膜を形成する成膜装置に用いられるターゲット保持装置であって、
ターゲットを保持するホルダが、前記ターゲットから粒子が叩き出され若しくは蒸発する面である表面とは反対側の裏面に接する底部と、前記ターゲットの外周面を取り囲んで設けられた側壁部とを有し、前記側壁部は、前記ターゲットの外周面をその内方向に付勢する機能を備え、前記側壁部の前記ターゲットに接触する位置が、前記ターゲットの内側に向かって変位可能であることを特徴とするターゲット保持装置。 - レーザ光によってターゲットから叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を基板上に堆積させ、前記基板上に薄膜を形成する成膜装置であって、
前記基板に対向するように配されたターゲットと、前記ターゲットを保持するターゲット保持装置と、前記ターゲットにレーザ光を照射するレーザ光発光手段とを少なくとも備え、ターゲット保持装置が、請求項1〜5のいずれかに記載のターゲット保持装置であることを特徴とする成膜装置。 - 請求項1〜5のいずれかに記載のターゲット保持装置によってターゲットを保持し、このターゲットにレーザ光を照射し、前記レーザ光によってターゲットから叩き出され若しくは蒸発した粒子を、前記ターゲットに対向するように配された基板上に堆積させることによって、前記基板上に薄膜を形成することを特徴とする成膜方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014125666A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Fujikura Ltd | 酸化物超電導薄膜作製用ターゲットおよび酸化物超電導線材の製造方法 |
WO2014166621A1 (de) * | 2013-04-08 | 2014-10-16 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Zentrierung einer platte in einer halterung sowohl bei raum- als auch bei höheren temperaturen |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62114058U (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-20 | ||
JPH01255666A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-12 | Tosoh Smd Inc | 迅速交換型の標的を有するスパッタ源及びアダプタリング |
JPH02285069A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-22 | Tokyo Electron Ltd | スパッタ装置 |
JPH07268619A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-17 | Balzers Ag | ターゲットの取付けないし取り外し装置、それに取り付けるためのターゲット並びにこの種の装置とこの種のターゲットを有するソースおよび真空プロセスチャンバ |
JPH1180939A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-03-26 | Fujikura Ltd | 薄膜の形成方法 |
JP2003014180A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 管継手構造、およびその管継手構造を備えた燃焼器、並びにその燃焼器を備えたガスタービン |
JP2003226967A (ja) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Shibaura Mechatronics Corp | 成膜装置 |
JP2007247666A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Ntn Corp | 等速ジョイント用外輪 |
-
2008
- 2008-11-13 JP JP2008291030A patent/JP2010116605A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62114058U (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-20 | ||
JPH01255666A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-12 | Tosoh Smd Inc | 迅速交換型の標的を有するスパッタ源及びアダプタリング |
JPH02285069A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-22 | Tokyo Electron Ltd | スパッタ装置 |
JPH07268619A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-17 | Balzers Ag | ターゲットの取付けないし取り外し装置、それに取り付けるためのターゲット並びにこの種の装置とこの種のターゲットを有するソースおよび真空プロセスチャンバ |
JPH1180939A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-03-26 | Fujikura Ltd | 薄膜の形成方法 |
JP2003014180A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 管継手構造、およびその管継手構造を備えた燃焼器、並びにその燃焼器を備えたガスタービン |
JP2003226967A (ja) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Shibaura Mechatronics Corp | 成膜装置 |
JP2007247666A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Ntn Corp | 等速ジョイント用外輪 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014125666A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Fujikura Ltd | 酸化物超電導薄膜作製用ターゲットおよび酸化物超電導線材の製造方法 |
WO2014166621A1 (de) * | 2013-04-08 | 2014-10-16 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Zentrierung einer platte in einer halterung sowohl bei raum- als auch bei höheren temperaturen |
CN105210169A (zh) * | 2013-04-08 | 2015-12-30 | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司特鲁巴赫 | 功率兼容性更高的溅射靶 |
CN105324830A (zh) * | 2013-04-08 | 2016-02-10 | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司特鲁巴赫 | 板在室温和较高温度下在支座中的定中 |
US9536714B2 (en) | 2013-04-08 | 2017-01-03 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Sputtering target having increased power compatibility |
US9564300B2 (en) | 2013-04-08 | 2017-02-07 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Centering of a plate in a holder both at room temperatures and at higher temperatures |
RU2665058C2 (ru) * | 2013-04-08 | 2018-08-28 | Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон | Центрирование пластины в держателе при комнатных температурах и при более высоких температурах |
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