JP2003226967A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
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- JP2003226967A JP2003226967A JP2002028112A JP2002028112A JP2003226967A JP 2003226967 A JP2003226967 A JP 2003226967A JP 2002028112 A JP2002028112 A JP 2002028112A JP 2002028112 A JP2002028112 A JP 2002028112A JP 2003226967 A JP2003226967 A JP 2003226967A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ターゲットを、その膨張を許容しつつバッキ
ングプレートに対して確実に固定でき、スパッタリング
時のターゲットの溶融破損を防止できる成膜装置を提供
する。 【解決手段】 円盤状のターゲット１０の裏面が、バッ
キングプレート２２に当接している。ターゲット１０の
外周の薄板部１０ａを、滑り部材２７を介在させて、押
え部材２６で押え付け、固定ねじ２６ａによってバッキ
ングプレート２２に固定する。スパッタリング時の熱で
ターゲット１０が膨張した場合であっても、薄板部１０
ａと滑り部材２６との間の滑りが、膨張を許容するの
で、ターゲット１０の反りが生じない。
ングプレートに対して確実に固定でき、スパッタリング
時のターゲットの溶融破損を防止できる成膜装置を提供
する。 【解決手段】 円盤状のターゲット１０の裏面が、バッ
キングプレート２２に当接している。ターゲット１０の
外周の薄板部１０ａを、滑り部材２７を介在させて、押
え部材２６で押え付け、固定ねじ２６ａによってバッキ
ングプレート２２に固定する。スパッタリング時の熱で
ターゲット１０が膨張した場合であっても、薄板部１０
ａと滑り部材２６との間の滑りが、膨張を許容するの
で、ターゲット１０の反りが生じない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スパッタリングに
よりターゲットから放出された粒子によって、基板表面
に成膜処理を施すための成膜装置に係り、特に、ターゲ
ットの変形防止効果に改良を施した成膜装置に関する。
よりターゲットから放出された粒子によって、基板表面
に成膜処理を施すための成膜装置に係り、特に、ターゲ
ットの変形防止効果に改良を施した成膜装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程、液晶表示基板製造工
程、ディスク製造工程などにおいては、成膜装置を使用
して基板表面への成膜処理が実施される。例えば、デジ
タル化された音声信号や画像情報を大量に記録するのに
コンパクトディスク（以下、ＣＤと称する。）やデジタ
ルバーサタイルディスク若しくはデジタルビデオディス
ク（以下、ＤＶＤと称する。）などのディスクが広く使
用されているが、これらのディスクは、ポリカーボネイ
ト等の透明な合成樹脂をドーナツ状の円盤型とした基板
の表面に、光反射率の高いアルミニウム等の薄膜を形成
して記録面としたものである。
程、ディスク製造工程などにおいては、成膜装置を使用
して基板表面への成膜処理が実施される。例えば、デジ
タル化された音声信号や画像情報を大量に記録するのに
コンパクトディスク（以下、ＣＤと称する。）やデジタ
ルバーサタイルディスク若しくはデジタルビデオディス
ク（以下、ＤＶＤと称する。）などのディスクが広く使
用されているが、これらのディスクは、ポリカーボネイ
ト等の透明な合成樹脂をドーナツ状の円盤型とした基板
の表面に、光反射率の高いアルミニウム等の薄膜を形成
して記録面としたものである。
【０００３】このような成膜を行なう装置の一つとし
て、スパッタリング装置があり、その代表例としては、
プレーナ型マグネトロンスパッタリング装置が挙げられ
る。プレーナ型マグネトロンスパッタリング装置におい
ては、真空状態下での放電により発生したイオン（例え
ばアルゴンイオン）を陰極であるターゲットに衝突さ
せ、ターゲットを構成する粒子をスパッタリングによっ
て放出させる。基板は、ターゲットに離間対向して配置
されるとともに、陽極を構成しており、ターゲットから
放出された粒子が基板の表面に堆積することにより、成
膜処理が施される。
て、スパッタリング装置があり、その代表例としては、
プレーナ型マグネトロンスパッタリング装置が挙げられ
る。プレーナ型マグネトロンスパッタリング装置におい
ては、真空状態下での放電により発生したイオン（例え
ばアルゴンイオン）を陰極であるターゲットに衝突さ
せ、ターゲットを構成する粒子をスパッタリングによっ
て放出させる。基板は、ターゲットに離間対向して配置
されるとともに、陽極を構成しており、ターゲットから
放出された粒子が基板の表面に堆積することにより、成
膜処理が施される。
【０００４】かかるスパッタリング装置を備えた真空処
理装置の一例を、図７を参照して具体的に説明する。す
なわち、装置本体１は、真空処理室としてのスパッタ室
３と、このスパッタ室３へ基板２の出し入れを行なうロ
ードロック室４とを有している。スパッタ室３は、支持
部材６、外周マスク７、上蓋８、内周マスク９及びター
ゲット１０等を備えている。
理装置の一例を、図７を参照して具体的に説明する。す
なわち、装置本体１は、真空処理室としてのスパッタ室
３と、このスパッタ室３へ基板２の出し入れを行なうロ
ードロック室４とを有している。スパッタ室３は、支持
部材６、外周マスク７、上蓋８、内周マスク９及びター
ゲット１０等を備えている。
【０００５】支持部材６は、その上部に基板２が載置さ
れ、リフト５により上下動可能に設けられている。外周
マスク７は、支持部材６の周縁部上方に配置され、基板
２の外周をマスクする当接部７ａを有している。上蓋８
は、装置本体１の上部を封止している。内周マスク９
は、上蓋８の中心に対応する位置から下方に突出してお
り、その下端に基板２の内周をマスクする銅製の傘状部
９ａを有している。ターゲット１０は、上蓋８の下部に
絶縁材を介して配置されている。
れ、リフト５により上下動可能に設けられている。外周
マスク７は、支持部材６の周縁部上方に配置され、基板
２の外周をマスクする当接部７ａを有している。上蓋８
は、装置本体１の上部を封止している。内周マスク９
は、上蓋８の中心に対応する位置から下方に突出してお
り、その下端に基板２の内周をマスクする銅製の傘状部
９ａを有している。ターゲット１０は、上蓋８の下部に
絶縁材を介して配置されている。
【０００６】一方、ロードロック室４は、大気側に配置
された搬送装置２０，２１から搬送された基板２を受け
取り、リフト１２により上下動する支持部材１３と、支
持部材１３が受け取った基板２が載置され、これを支持
部材６に渡すホルダ１４等により構成されている。
された搬送装置２０，２１から搬送された基板２を受け
取り、リフト１２により上下動する支持部材１３と、支
持部材１３が受け取った基板２が載置され、これを支持
部材６に渡すホルダ１４等により構成されている。
【０００７】以上のような真空処理装置においては、ロ
ードロック室４からスパッタ室３に搬送された基板２
が、支持部材６上に載置されて押し上げられる。さらに
押し上げが進むと、基板２の中央部が内周マスク９の傘
状部９ａに当たるとともに、基板２の周縁部も外周マス
ク７の当接部７ａに当たる。この状態で、ロードロック
室４内が所定の真空度に達したら、装置を作動してター
ゲット１０から微粒子を放出させ、基板２の表面に被膜
を形成する。
ードロック室４からスパッタ室３に搬送された基板２
が、支持部材６上に載置されて押し上げられる。さらに
押し上げが進むと、基板２の中央部が内周マスク９の傘
状部９ａに当たるとともに、基板２の周縁部も外周マス
ク７の当接部７ａに当たる。この状態で、ロードロック
室４内が所定の真空度に達したら、装置を作動してター
ゲット１０から微粒子を放出させ、基板２の表面に被膜
を形成する。
【０００８】また、使用中のターゲットは高温になるた
め、適当な冷却手段によってターゲットを冷却する必要
がある。そこで、従来は、ターゲットの裏面側にバッキ
ングプレートを配置し、このバッキングプレートを冷却
水等によって冷却して低温とすることにより、ターゲッ
トを裏面側から冷却するようにしていた。この場合のタ
ーゲットは、例えば、その裏面をバッキングプレート上
にインジュームで全面接着することによって、ボンディ
ングされている。
め、適当な冷却手段によってターゲットを冷却する必要
がある。そこで、従来は、ターゲットの裏面側にバッキ
ングプレートを配置し、このバッキングプレートを冷却
水等によって冷却して低温とすることにより、ターゲッ
トを裏面側から冷却するようにしていた。この場合のタ
ーゲットは、例えば、その裏面をバッキングプレート上
にインジュームで全面接着することによって、ボンディ
ングされている。
【０００９】ところで、ＣＤ−ＲＷ（ＲｅＷｒｉｔａｂ
ｌｅ）やＤＶＤ−ＲＯＭ等の成膜装置においては、ター
ゲットの材質によっては、ターゲット交換を毎日行なう
必要がある。しかし、上記のような全面接着によるボン
ディングは手間がかかるため、ターゲットのメーカーに
依頼することが一般的であり、予備を持っていたとして
も、頻繁にボンディングを依頼する必要が生じる。この
ため、生産現場においては、バッキングプレートへのタ
ーゲットの固定方法として、交換に手間のかからない方
法が求められていた。
ｌｅ）やＤＶＤ−ＲＯＭ等の成膜装置においては、ター
ゲットの材質によっては、ターゲット交換を毎日行なう
必要がある。しかし、上記のような全面接着によるボン
ディングは手間がかかるため、ターゲットのメーカーに
依頼することが一般的であり、予備を持っていたとして
も、頻繁にボンディングを依頼する必要が生じる。この
ため、生産現場においては、バッキングプレートへのタ
ーゲットの固定方法として、交換に手間のかからない方
法が求められていた。
【００１０】このようなターゲットの固定方法として
は、ターゲットの中央とその周縁を、ねじによってバッ
キングプレートに固定することにより、ターゲットの交
換をねじの取り外しによって容易に行なうことができる
ようにした方法が提案されている。さらに、ターゲット
の周縁を押え部材によって押え付け、バッキングプレー
トに対してねじで固定することによって、ターゲットの
周囲をバッキングプレートに対して均一に押え付ける方
法も提案されている。
は、ターゲットの中央とその周縁を、ねじによってバッ
キングプレートに固定することにより、ターゲットの交
換をねじの取り外しによって容易に行なうことができる
ようにした方法が提案されている。さらに、ターゲット
の周縁を押え部材によって押え付け、バッキングプレー
トに対してねじで固定することによって、ターゲットの
周囲をバッキングプレートに対して均一に押え付ける方
法も提案されている。
【００１１】このような押え部材を用いたターゲットの
固定方法の一例を、図８に示す。すなわち、ターゲット
１０の中央は、センターねじ２３によって、バッキング
プレート２２に固定されている。そして、ターゲット１
０の周縁は、押え部材２４によって、バッキングプレー
ト２２に押え付けられている。この押え部材２４は、断
面が略Ｌ字形のリング状部材であり、バッキングプレー
ト２２に対して、固定ねじ２４ａによって固定されてい
る。また、押え部材２４の端部には、ターゲット１０に
当接する突起２４ｂが形成されている。なお、図中、２
５はアノード電極である。
固定方法の一例を、図８に示す。すなわち、ターゲット
１０の中央は、センターねじ２３によって、バッキング
プレート２２に固定されている。そして、ターゲット１
０の周縁は、押え部材２４によって、バッキングプレー
ト２２に押え付けられている。この押え部材２４は、断
面が略Ｌ字形のリング状部材であり、バッキングプレー
ト２２に対して、固定ねじ２４ａによって固定されてい
る。また、押え部材２４の端部には、ターゲット１０に
当接する突起２４ｂが形成されている。なお、図中、２
５はアノード電極である。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなねじによるターゲットの固定方法には、以下のよ
うな問題があった。すなわち、ターゲットの中央と周囲
をねじによって固定する方法では、スパッタリング時の
熱で、ターゲットが膨張した場合、膨張する力は、中央
のねじと周囲のねじとの間で逃げ場がなくなり、ターゲ
ットを弓なりに反らせる。その結果、ターゲットとバッ
キングプレートとの間に隙間が生じ、熱伝導が悪くなる
ので、ターゲットの冷却効果が低下する。すると、ター
ゲットの温度が上昇し、溶融破損に至る可能性がある。
ようなねじによるターゲットの固定方法には、以下のよ
うな問題があった。すなわち、ターゲットの中央と周囲
をねじによって固定する方法では、スパッタリング時の
熱で、ターゲットが膨張した場合、膨張する力は、中央
のねじと周囲のねじとの間で逃げ場がなくなり、ターゲ
ットを弓なりに反らせる。その結果、ターゲットとバッ
キングプレートとの間に隙間が生じ、熱伝導が悪くなる
ので、ターゲットの冷却効果が低下する。すると、ター
ゲットの温度が上昇し、溶融破損に至る可能性がある。
【００１３】また、図８に示すように、押え部材２４を
用いる方法であっても、アルミニウムのような柔らかい
材質のターゲット１０の場合、図９に示すように、押え
部材２４の突起２４ｂがターゲット１０に食い込み、自
由な膨張が阻害されるので、ターゲット１０が、センタ
ーねじ２３と押え部材２４との間で弓なりとなり、上記
と同様の問題が生じる。
用いる方法であっても、アルミニウムのような柔らかい
材質のターゲット１０の場合、図９に示すように、押え
部材２４の突起２４ｂがターゲット１０に食い込み、自
由な膨張が阻害されるので、ターゲット１０が、センタ
ーねじ２３と押え部材２４との間で弓なりとなり、上記
と同様の問題が生じる。
【００１４】本発明は、上記のような従来技術の問題点
を解決するために提案されたものであり、その目的は、
ターゲットを、その膨張を許容しつつバッキングプレー
トに対して確実に固定でき、スパッタリング時のターゲ
ットの溶融破損を防止できる成膜装置を提供することに
ある。
を解決するために提案されたものであり、その目的は、
ターゲットを、その膨張を許容しつつバッキングプレー
トに対して確実に固定でき、スパッタリング時のターゲ
ットの溶融破損を防止できる成膜装置を提供することに
ある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記のような目的を達成
するため、成膜のための粒子を含むターゲットと、前記
ターゲットの裏面側に配置された冷却面を有するバッキ
ングプレートと、前記ターゲットの一部を前記バッキン
グプレートに押え付けて固定する押え部材と備えた成膜
装置において、前記押え部材と前記ターゲットとの間
に、滑り部材が配設されていることを特徴とする。以上
のような請求項１記載の発明では、ターゲットと滑り部
材との間の滑りが、ターゲットの膨張を許容するので、
ターゲットに反りが生じることがない。このため、バッ
キングプレートとの間に隙間が生じることがなく、ター
ゲットの熱はバッキングプレートに十分に伝わるので、
ターゲットは確実に冷却され、溶融破損が発生しない。
するため、成膜のための粒子を含むターゲットと、前記
ターゲットの裏面側に配置された冷却面を有するバッキ
ングプレートと、前記ターゲットの一部を前記バッキン
グプレートに押え付けて固定する押え部材と備えた成膜
装置において、前記押え部材と前記ターゲットとの間
に、滑り部材が配設されていることを特徴とする。以上
のような請求項１記載の発明では、ターゲットと滑り部
材との間の滑りが、ターゲットの膨張を許容するので、
ターゲットに反りが生じることがない。このため、バッ
キングプレートとの間に隙間が生じることがなく、ター
ゲットの熱はバッキングプレートに十分に伝わるので、
ターゲットは確実に冷却され、溶融破損が発生しない。
【００１６】請求項２記載の発明は、請求項１記載の成
膜装置において、前記滑り部材は、前記押え部材に支持
されていることを特徴とする。以上のような請求項２記
載の発明では、滑り部材が押え部材側に支持され、一体
的に扱うことができるので、ターゲットの交換作業を容
易且つ速やかに行なうことができる。
膜装置において、前記滑り部材は、前記押え部材に支持
されていることを特徴とする。以上のような請求項２記
載の発明では、滑り部材が押え部材側に支持され、一体
的に扱うことができるので、ターゲットの交換作業を容
易且つ速やかに行なうことができる。
【００１７】請求項３記載の発明は、請求項１又は請求
項２に記載の成膜装置において、前記滑り部材は、前記
ターゲットの周縁に対応したリング状のもの若しくは分
割したプレートを等間隔で配置したものであることを特
徴とする。以上のような請求項３記載の発明では、滑り
部材がターゲットの周縁に対応して設けられているの
で、ターゲットの周縁をバッキングプレートに対して均
一に押え付けることができる。また、複数のプレートを
等間隔で配設した場合、ターゲットに対して中心位置を
考慮することなく固定することができる。
項２に記載の成膜装置において、前記滑り部材は、前記
ターゲットの周縁に対応したリング状のもの若しくは分
割したプレートを等間隔で配置したものであることを特
徴とする。以上のような請求項３記載の発明では、滑り
部材がターゲットの周縁に対応して設けられているの
で、ターゲットの周縁をバッキングプレートに対して均
一に押え付けることができる。また、複数のプレートを
等間隔で配設した場合、ターゲットに対して中心位置を
考慮することなく固定することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態（以
下、実施形態と呼ぶ）について、図面を参照して具体的
に説明する。 〔第１の実施形態〕〔構成〕まず、請求項１及び３記載
の発明に対応する実施形態を、図１を参照して説明す
る。なお、上述の従来技術で示した部材に対応する部材
は、同一の符号を付す。すなわち、本実施形態において
は、例えば、アルミニウム製の円盤状のターゲット１０
は、その裏面が銅製のバッキングプレート２２に当接し
ている。ターゲット１０は、断面が略凸字形状となるよ
うに、その周縁に薄板部１０ａを有している。
下、実施形態と呼ぶ）について、図面を参照して具体的
に説明する。 〔第１の実施形態〕〔構成〕まず、請求項１及び３記載
の発明に対応する実施形態を、図１を参照して説明す
る。なお、上述の従来技術で示した部材に対応する部材
は、同一の符号を付す。すなわち、本実施形態において
は、例えば、アルミニウム製の円盤状のターゲット１０
は、その裏面が銅製のバッキングプレート２２に当接し
ている。ターゲット１０は、断面が略凸字形状となるよ
うに、その周縁に薄板部１０ａを有している。
【００１９】ターゲット１０の外周には、例えば、ＢＣ
６製の押え部材２６が配設されている。この押え部材２
６は、断面が略Ｌ字形のリング状部材であり、固定ねじ
２６ａによって、バッキングプレート２２に固定されて
いる。押え部材２６の水平面とターゲット１０の薄板部
１０ａとの間には、滑り部材２７が挟まれており、この
滑り部材２７を介して、押え部材２６がターゲット１０
をバッキングプレート２２に押え付けて固定している。
滑り部材２７は、例えば、厚さ１ｍｍ程度のＳＵＳ製プ
レートであり、薄板部１０ａの全周に亘って均等に力が
加わるように、等間隔で８枚配設されている。
６製の押え部材２６が配設されている。この押え部材２
６は、断面が略Ｌ字形のリング状部材であり、固定ねじ
２６ａによって、バッキングプレート２２に固定されて
いる。押え部材２６の水平面とターゲット１０の薄板部
１０ａとの間には、滑り部材２７が挟まれており、この
滑り部材２７を介して、押え部材２６がターゲット１０
をバッキングプレート２２に押え付けて固定している。
滑り部材２７は、例えば、厚さ１ｍｍ程度のＳＵＳ製プ
レートであり、薄板部１０ａの全周に亘って均等に力が
加わるように、等間隔で８枚配設されている。
【００２０】〔作用〕以上のような本実施形態の作用
は、以下の通りである。すなわち、スパッタリング時の
熱で、ターゲット１０が膨張した場合であっても、薄板
部１０ａと滑り部材２７との間の滑りが膨張を許容する
ので、ターゲット１０の反りが生じることがない。ま
た、薄板部１０ａと押え部材２６との間に滑り部材２７
が介在しているので、押え部材２６の端部が、薄板部１
０ａに食い込んで自由な膨張を妨げることもない。
は、以下の通りである。すなわち、スパッタリング時の
熱で、ターゲット１０が膨張した場合であっても、薄板
部１０ａと滑り部材２７との間の滑りが膨張を許容する
ので、ターゲット１０の反りが生じることがない。ま
た、薄板部１０ａと押え部材２６との間に滑り部材２７
が介在しているので、押え部材２６の端部が、薄板部１
０ａに食い込んで自由な膨張を妨げることもない。
【００２１】〔効果〕以上のような本実施形態によれ
ば、ターゲット１０の反りが生じないので、バッキング
プレート２２との間に隙間が生じることがなく、ターゲ
ット１０の熱はバッキングプレート２２に十分に伝わ
る。従って、ターゲット１０は確実に冷却され、溶融破
損は発生しない。また、溶融破損に至る場合に生じる放
電電圧の上昇もなく、プロセスの安定化を実現できる。
さらに、複数の滑り部材２９を、ターゲット１０の周縁
に対応させて等間隔で配設しているので、ターゲット１
０に対して、中心位置を考慮することなく固定すること
ができるとともに、ターゲット１０の周縁をバッキング
プレート２２に対して均一に押え付けることができる。
ば、ターゲット１０の反りが生じないので、バッキング
プレート２２との間に隙間が生じることがなく、ターゲ
ット１０の熱はバッキングプレート２２に十分に伝わ
る。従って、ターゲット１０は確実に冷却され、溶融破
損は発生しない。また、溶融破損に至る場合に生じる放
電電圧の上昇もなく、プロセスの安定化を実現できる。
さらに、複数の滑り部材２９を、ターゲット１０の周縁
に対応させて等間隔で配設しているので、ターゲット１
０に対して、中心位置を考慮することなく固定すること
ができるとともに、ターゲット１０の周縁をバッキング
プレート２２に対して均一に押え付けることができる。
【００２２】〔第２の実施形態〕
〔構成〕次に、請求項２及び３記載の発明に対応する実
施形態を説明する。なお、上記の第１の実施形態と同様
の部材は同一の符号を付す。本実施形態は、図２及び図
３に示すように、押え部材２８に、滑り部材２９が予め
支持された構成を有している。すなわち、押え部材２８
には、図４及び図５に示すように、滑り部材２９を固定
するための収容溝２８ａが形成されている。この収容溝
２８ａに、断面が略Ｌ字形のプレートである滑り部材２
９の後端側が収容され、ホルダー３０を締結ねじ３０ａ
でねじ止め固定することによって、押え部材２８の内周
に滑り部材２９の先端が放射状に突出した状態で支持さ
れている。
施形態を説明する。なお、上記の第１の実施形態と同様
の部材は同一の符号を付す。本実施形態は、図２及び図
３に示すように、押え部材２８に、滑り部材２９が予め
支持された構成を有している。すなわち、押え部材２８
には、図４及び図５に示すように、滑り部材２９を固定
するための収容溝２８ａが形成されている。この収容溝
２８ａに、断面が略Ｌ字形のプレートである滑り部材２
９の後端側が収容され、ホルダー３０を締結ねじ３０ａ
でねじ止め固定することによって、押え部材２８の内周
に滑り部材２９の先端が放射状に突出した状態で支持さ
れている。
【００２３】なお、滑り部材２９の後端と、収容溝２８
ａの内壁との間には、略Ｖ字形のばね３１が介在してお
り、滑り部材２９を内周側へ付勢している。さらに、以
上のような押え部材２８は、図２及び図６に示すよう
に、バッキングプレート２２上のターゲット１０の薄板
部１０ａに対して、滑り部材２９が挟まるように被せら
れ、固定ねじ２８ｂによってバッキングプレート２２に
固定されている。
ａの内壁との間には、略Ｖ字形のばね３１が介在してお
り、滑り部材２９を内周側へ付勢している。さらに、以
上のような押え部材２８は、図２及び図６に示すよう
に、バッキングプレート２２上のターゲット１０の薄板
部１０ａに対して、滑り部材２９が挟まるように被せら
れ、固定ねじ２８ｂによってバッキングプレート２２に
固定されている。
【００２４】〔作用効果〕以上のような本実施形態によ
れば、上記の第１の実施形態と同様の作用効果が得られ
るとともに、滑り部材２９が押え部材２８側に予め装備
され、一体的に扱うことができるので、ターゲット１０
の交換作業を、容易且つ速やかに行なうことができる。
特に、第１の実施形態と同様に、複数の滑り部材２９を
ターゲット１０の周縁に対応させて等間隔で配設してい
るので、中心位置を考慮することなく固定できるととも
に、均一な押え付けが可能となる。また、滑り部材２９
は、ばね３１によって内周側へ付勢されているので、滑
り部材２９の位置が一定となり、ターゲット１０を頻繁
に交換する場合であっても、常に正確な位置に固定でき
る。
れば、上記の第１の実施形態と同様の作用効果が得られ
るとともに、滑り部材２９が押え部材２８側に予め装備
され、一体的に扱うことができるので、ターゲット１０
の交換作業を、容易且つ速やかに行なうことができる。
特に、第１の実施形態と同様に、複数の滑り部材２９を
ターゲット１０の周縁に対応させて等間隔で配設してい
るので、中心位置を考慮することなく固定できるととも
に、均一な押え付けが可能となる。また、滑り部材２９
は、ばね３１によって内周側へ付勢されているので、滑
り部材２９の位置が一定となり、ターゲット１０を頻繁
に交換する場合であっても、常に正確な位置に固定でき
る。
【００２５】〔他の実施形態〕本発明は上記のような実
施形態に限定されるものではない。例えば、各部材の材
質、大きさ、形状等については、上記の実施形態で例示
したものには限定されない。例えば、滑り部材の数は、
８枚より多くても、少なくてもよい。滑り部材の形状も
自由であり、例えば、滑り部材をリング状のプレートと
して一体化したものを用いることによって、バッキング
プレートに対して、ターゲットの周囲をより一層均一に
押え付けることもできる。また、本発明による成膜対象
は、ＣＤやＤＶＤには限定されない。
施形態に限定されるものではない。例えば、各部材の材
質、大きさ、形状等については、上記の実施形態で例示
したものには限定されない。例えば、滑り部材の数は、
８枚より多くても、少なくてもよい。滑り部材の形状も
自由であり、例えば、滑り部材をリング状のプレートと
して一体化したものを用いることによって、バッキング
プレートに対して、ターゲットの周囲をより一層均一に
押え付けることもできる。また、本発明による成膜対象
は、ＣＤやＤＶＤには限定されない。
【００２６】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、ターゲットを、その膨張を許容しつつバッキングプ
レートに対して確実に固定でき、スパッタリング時のタ
ーゲットの溶融破損を防止可能な成膜装置を提供するこ
とができる。
ば、ターゲットを、その膨張を許容しつつバッキングプ
レートに対して確実に固定でき、スパッタリング時のタ
ーゲットの溶融破損を防止可能な成膜装置を提供するこ
とができる。
【図１】本発明の成膜装置の第１の実施形態を示す縦断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の成膜装置の第２の実施形態における押
え部材を示す底面側斜視図である。
え部材を示す底面側斜視図である。
【図３】図２の押え部材を示す底面図である。
【図４】図２の実施形態における滑り部材の固定構造を
示す分解斜視図である。
示す分解斜視図である。
【図５】図２の実施形態を示す縦断面図であり、図３の
Ａ−Ａ´断面に対応する図である。
Ａ−Ａ´断面に対応する図である。
【図６】図２の実施形態を示す縦断面図であり、図３の
Ｂ−Ｂ´断面に対応する図である。
Ｂ−Ｂ´断面に対応する図である。
【図７】従来の真空処理装置の一例を示す縦断面図であ
る。
る。
【図８】従来の成膜装置におけるターゲットの固定構造
を示す縦断面図である。
を示す縦断面図である。
【図９】従来の成膜装置におけるターゲットの膨張状態
を示す縦断面図である。
を示す縦断面図である。
１…装置本体
２…基板
３…スパッタ室
４…ロードロック室
５…リフト
６…支持部材
７…外周マスク
７ａ…当接部
８…上蓋
９…内周マスク
９ａ…傘状部
１０…ターゲット
１０ａ…薄板部
１２…リフト
１３…支持部材
１４…ホルダ
２０，２１…搬送装置
２２…バッキングプレート
２３…センターねじ
２４，２６，２８…押え部材
２４ａ，２６ａ，２８ｂ…固定ねじ
２５…アノード電極
２４ｂ…突起
２７，２９…滑り部材
２８ａ…収容溝
３０…ホルダー
３０ａ…締結ねじ
３１…ばね
Claims (3)
- 【請求項１】 成膜のための粒子を含むターゲットと、
前記ターゲットの裏面側に配置された冷却面を有するバ
ッキングプレートと、前記ターゲットの一部を前記バッ
キングプレートに押え付けて固定する押え部材と備えた
成膜装置において、 前記押え部材と前記ターゲットとの間に、滑り部材が配
設されていることを特徴とする成膜装置。 - 【請求項２】 前記滑り部材は、前記押え部材に支持さ
れていることを特徴とする請求項１記載の成膜装置。 - 【請求項３】 前記滑り部材は、前記ターゲットの周縁
に対応したリング状のもの若しくは分割したプレートを
等間隔で配置したものであることを特徴とする請求項１
又は請求項２に記載の成膜装置。
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2003226967A true JP2003226967A (ja) | 2003-08-15 |
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- 2002-02-05 JP JP2002028112A patent/JP4101524B2/ja not_active Expired - Fee Related
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