JP2016003388A - 板状部材の固定機構、ｐｖｄ処理装置及び板状部材の固定方法 - Google Patents

Abstract

【課題】板状部材の位置を決定することができるとともに、板状部材の熱膨張による歪みが生じるのを防止することができる板状部材の固定機構を提供する。【解決手段】ターゲット２９の固定機構は、ターゲット２９をホルダ３０へ向けて押圧するクランプ部材３８と、ホルダ３０に取り付けられてターゲット２９の側面に当接し、ターゲット２９のホルダ３０に対する位置を決定する複数の位置決めブロック４１とを備え、位置決めブロック４１は、ホルダ３０から立設されるボルト４２と、該ボルト４２に沿って移動するスライダ４３とを有し、スライダ４３は、ターゲット２９の側面に当接する当接部４３ａと、該当接部４３ａよりも細身の逃げ部４３ｂとを有し、スライダ４３をボルト４２に沿って移動させてターゲット２９の側面へ逃げ部４３ｂを対向させることにより、ターゲット２９と逃げ部４３ｂの間に隙間４７を確保する。【選択図】図６

Description

本発明は、板状部材の固定機構、ＰＶＤ処理装置及び板状部材の固定方法に関する。

基板、例えば、半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）へＰＶＤ処理によって成膜処理を施すＰＶＤ成膜装置は成膜材料からなるターゲットを処理容器内に備え、処理空間に生じたプラズマによってターゲットをスパッタリングし、飛散した成膜材料のスパッタ粒子をウエハに堆積させてウエハに成膜材料の薄膜を形成する。したがって、ターゲットは処理空間に暴露されるが、飛散したスパッタ粒子の堆積効率を重力によって向上させるために、ターゲットはウエハの上方に固定される（例えば、特許文献１参照。）。

近年、ＰＶＤ成膜装置において薄膜の形成の実行、中止を切り替えるために、シャッター部材が設けられる。シャッター部材は開口部を有する遮蔽部材であり、処理空間とターゲットの間に介在し、薄膜の形成を中止するときはターゲットを処理空間から遮蔽し、薄膜の形成を実行するときは開口部をターゲットに対向させ、開口部を介してターゲットを処理空間に暴露させる。

ところで、プラズマの回り込みによるターゲットやターゲット固定部材の不必要なスパッタリングを防止するためにターゲットの周囲にはシールド部材が設けられ、ターゲットとシールド部材とのクリアランスは非常に小さく設定される。

ターゲットにプラズマを確実に引き込むため、ターゲットには負の電圧が印加されてターゲットはカソード電極として振る舞うが、シールド部材に対してターゲットが正確に位置決めされていないと、シールド部材の縁とターゲットの間の距離が非常に小さくなり、薄膜の形成中にデポ等によってターゲットとシールド部材の縁がショートしてシールド部材を介して処理容器にも負の電圧が印加されるおそれがある。

そこで、ターゲットを固定する際、例えば、ターゲットが矩形を呈するならば、ターゲットの４側面のそれぞれへ位置決めブロック等の位置決め部材を当接させ、シールド部材に対してターゲットを正確に位置決めする。

特開２０１３−３６０９２号公報

しかしながら、ターゲットの４側面のそれぞれへ位置決めブロックを当接させると、ターゲットのスパッタリング時の熱膨張を規制し、内部応力の高まりによってターゲットが歪み、最悪、破損するおそれがある。

ターゲットのスパッタリング時の熱膨張を規制しないように、ターゲットの側面と位置決めブロックとの間に微小な隙間を設けることも考えられるが、ターゲットを取り付ける作業者の熟練度によってターゲットの取り付け位置にばらつきがでてシールド部材の縁とターゲットの間の距離が非常に小さくなるおそれがある。

本発明の目的は、板状部材の位置を決定することができるとともに、板状部材の熱膨張による歪みが生じるのを防止することができる板状部材の固定機構、ＰＶＤ処理装置及び板状部材の固定方法を提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明の板状部材の固定機構は、基部へ板状部材を固定する板状部材の固定機構であって、前記板状部材を前記基部へ向けて押圧する押圧ユニットと、前記基部に取り付けられて前記板状部材の側面に当接し、前記板状部材の前記基部に対する位置を決定する複数の位置決めユニットとを備え、前記位置決めユニットは、前記基部から立設される軸部と、該軸部に沿って移動するスライド部とを有し、前記スライド部は、前記板状部材の側面に当接する当接部と、該当接部よりも細身の逃げ部とを有することを特徴とする。

上記目的を達成するために、本発明のＰＶＤ処理装置は、内部に処理空間を備えるチャンバと、前記処理空間に暴露される板状部材としてのターゲットと、開口部を有し且つ前記処理空間及び前記ターゲットの間に介在するシャッター部材とを備え、前記チャンバの内部に収容された基板にＰＶＤ処理を施すＰＶＤ処理装置であって、前記ターゲットを前記チャンバに設けられた基部へ固定する固定機構をさらに備え、前記固定機構は、前記ターゲットを前記基部へ向けて押圧する押圧ユニットと、前記基部に取り付けられて前記ターゲットの側面に当接し、前記ターゲットの前記基部に対する位置を決定する複数の位置決めユニットとを有し、前記位置決めユニットは、前記基部から立設される軸部と、該軸部に沿って移動するスライド部とを有し、前記スライド部は、前記ターゲットの側面に当接する当接部と、該当接部よりも細身の逃げ部とを有することを特徴とする。

上記目的を達成するために、本発明の板状部材の固定方法は、基部へ板状部材を固定する固定機構であって、前記板状部材を前記基部へ向けて押圧する押圧ユニットと、前記基部に取り付けられて前記板状部材の側面に当接し、前記板状部材の前記基部に対する位置を決定する複数の位置決めユニットとを備え、前記位置決めユニットは、前記基部から立設される軸部と、該軸部に沿って移動するスライド部とを有し、前記スライド部は、前記板状部材の側面に当接する当接部と、該当接部よりも細身の逃げ部とを有する固定機構における板状部材の固定方法であって、前記複数の位置決めユニットのスライド部の当接部を前記板状部材の少なくとも２側面へ当接させて前記板状部材の前記基部に対する位置を決定する位置決定ステップと、前記押圧ユニットが前記板状部材を前記基部へ向けて押圧して前記板状部材を前記基部へ固定する固定ステップと、前記複数の位置決めユニットのスライド部を前記軸部に沿って移動させて前記板状部材の側面へ前記逃げ部を対向させる逃げ部対向ステップとを有することを特徴とする。

本発明によれば、複数の位置決めユニットが、基部から立設される軸部と、該軸部に沿って移動するスライド部とを有し、スライド部は、板状部材の側面に当接する当接部と、該当接部よりも細身の逃げ部とを有するので、複数の位置決めユニットのスライド部における当接部に板状部材の側面を当接させることにより、板状部材の基部に対する位置を決定することができるとともに、板状部材が基部へ位置決めされた後にスライド部を軸部に沿って移動させて板状部材の側面へ逃げ部を対向させることにより、板状部材と逃げ部の間に隙間を確保することができ、該隙間によって板状部材の熱膨張を吸収して板状部材において熱膨張による歪みが生じるのを防止することができる。

本発明の実施の形態に係るＰＶＤ処理装置としてのプロセスモジュールを備える基板処理システムの構成を概略的に示す平面図である。 図１におけるプロセスモジュールの構成を概略的に示す断面図である。 図２におけるターゲットのホルダへの固定方法を説明するための図であり、図３（Ａ）は図２中の白抜き矢印に沿ってターゲットを眺めた平面図であり、図３（Ｂ）は図３（Ａ）における線III−IIIに関する断面図である。 従来のターゲットのホルダへの固定方法を説明するための拡大断面図である。 本実施の形態に係る板状部材の固定機構が有する位置決めブロックの構成を概略的に示す断面図である。 本実施の形態に係る板状部材の固定方法を説明するための断面図である。 本実施の形態に係る板状部材の固定方法を説明するための断面図である。 本実施の形態に係る板状部材の固定方法を説明するための断面図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。

図１は、本実施の形態に係るＰＶＤ処理装置としてのプロセスモジュールを備える基板処理システムの構成を概略的に示す平面図である。なお、図１は理解を容易にするために一部の内部構成が透けて見えるように描画されている。

図１において、基板処理システム１０は、トランスファモジュール１１と、ゲートバルブ１２を介してトランスファモジュール１１に接続される２つのプロセスモジュール１３と、ゲートバルブ１２を介してトランスファモジュール１１に接続される２つのロードロックモジュール１４と、各ロードロックモジュール１４を介してトランスファモジュール１１に接続されるローダーモジュール１５とを備える。

トランスファモジュール１１は平面視略６角形の搬送室であり、ウエハＷを各プロセスモジュール１３や各ロードロックモジュール１４の間で搬送する搬送アーム１６を内蔵し、内部が減圧環境に維持される。

各プロセスモジュール１３は、ウエハＷを載置する１つのステージ１７を有し、トランスファモジュール１１と同様に内部が減圧環境に維持される。各プロセスモジュール１３はステージ１７に載置されたウエハＷにＰＶＤ処理を施して該ウエハＷに金属等の薄膜を形成する。なお、プロセスモジュール１３の構成については後で詳述する。

ローダーモジュール１５は、筐体状の内部が大気圧環境に維持された大気搬送室であり、ロードロックモジュール１４が接続される側面とは反対側の側面に複数のウエハＷを収容する容器１８の受入口である４つのポート１９を有する。また、ローダーモジュール１５は、各容器１８及び各ロードロックモジュール１４の間でウエハＷを搬送する搬送ロボット２０を内蔵する。

各ロードロックモジュール１４は内部を大気圧環境及び減圧環境に切り替え可能な入替室であり、ウエハＷを載置するステージ２１を有する。各ロードロックモジュール１４は、例えば、ローダーモジュール１５の搬送ロボット２０との間でウエハＷを受け渡しする際、内部を大気圧環境へ切り替えてローダーモジュール１５の内部と連通させる。一方、トランスファモジュール１１の搬送アーム１６との間でウエハＷを受け渡しする際、内部を減圧環境へ切り替えてトランスファモジュール１１の内部と連通させる。すなわち、ロードロックモジュール１４は、内部を大気圧環境又は減圧環境に切り替えてウエハＷをトランスファモジュール１１及びローダーモジュール１５の間で入れ替える。なお、基板処理システム１０の各構成要素の動作はコントローラ２２によって制御される。

図２は、図１におけるプロセスモジュールの構成を概略的に示す断面図である。

図２において、プロセスモジュール１３は、略円筒状の、例えば、アルミニウムからなるチャンバ２３と、該チャンバ２３の内部の処理空間Ｓの下方に配置されてウエハＷを載置するステージ１７と、チャンバ２３の処理空間Ｓを減圧環境に維持する、例えば、クライオポンプやドライポンプを含む排気機構２４とを有する。

チャンバ２３は接地され、ステージ１７に対向して図中上が凸の円錐状を呈する天井部２３ａを有する。チャンバ２３の側壁２３ｂにはウエハＷの搬出入口２５が開設され、該搬出入口２５はゲートバルブ１２によって開閉される。ステージ１７は、略円板状を呈する、例えば、アルミニウムからなるベース部１７ａと、該ベース部１７ａの上に形成される静電チャック１７ｂとを有する。静電チャック１７ｂは電極膜１７ｃを内蔵し、電極膜１７ｃは直流電源２６に接続される。静電チャック１７ｂは、電極膜１７ｃへ直流電圧が印加されることによって生じる静電気力により、ステージ１７に載置されたウエハＷを静電吸着する。

ステージ１７はチャンバ２３の下部に配置されたステージ駆動機構２７によって支持される。ステージ駆動機構２７は、図中上下方向に沿って配置される円柱状の支持軸２７ａと、該支持軸２７ａの下端に接続される駆動装置２７ｂとを有し、支持軸２７ａはベース部１７ａの中心部に下方から接続され、駆動装置２７ｂは支持軸２７ａを中心軸回りに回転させる。これにより、ステージ駆動機構２７はステージ１７を水平面内において回転させる。また、駆動装置２７ｂは支持軸２７ａを図中上下方向に沿って移動させるため、ステージ１７も図中上下方向に沿って移動することができる。ステージ駆動機構２７では、支持軸２７ａがチャンバ２３の底部を下方へ向けて貫通するが、支持軸２７ａとチャンバ２３の底部との間には封止部材２８が配置される。

チャンバ２３の天井部２３ａには複数、例えば、４つのターゲット２９（板状部材）が配置される。ターゲット２９は、成膜材料、例えば、コバルト（Ｃｏ）、銅（Ｃｕ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、コバルト鉄（ＣｏＦｅ）、コバルト鉄硼素（ＣｏＦｅＢ）、ルテニウム（Ｒｕ）や白金マンガン（ＰｔＭｎ）からなる矩形の板状部材である。各ターゲット２９は天井部２３ａにおいて、チャンバ２３の中心軸Ｙを中心とする同一円周上に等間隔で配置され、例えば、金属製の各ホルダ３０（基部）へ固定される。各ホルダ３０は絶縁部材３１を介して天井部２３ａへ取り付けられ、各ターゲット２９をステージ１７に載置されたウエハＷに対向させる。

各ターゲット２９にはホルダ３０を介して直流電源４８が接続され、各直流電源４８は、例えば、負の直流電圧を各ターゲット２９に印加する。これにより、ターゲット２９はカソード電極として振る舞う。なお、直流電源４８の数は１つであってもよく、この場合、１つの直流電源４８が各ターゲット２９へ負の直流電圧を印加する。また、各ターゲット２９に関し、ホルダ３０を介して磁石３２が各ターゲット２９に対向するように配置される。

チャンバ２３の内部において、各ターゲット２９と処理空間Ｓとの間にはシャッター部材３３が配置される。シャッター部材３３は傘状部材であり、シャッター部材３３の頂角は天井部２３ａの頂角と同じ値に設定され、シャッター部材３３の中心軸がチャンバ２３の中心軸Ｙと一致する。これにより、シャッター部材３３の斜面は各ターゲット２９と対向する。

また、シャッター部材３３には１つの開口３３ａ、又は、中心軸Ｙを中心とする同一円周上に各ターゲット２９の間隔と等間隔で開設される複数の開口３３ａが配置され、シャッター部材３３の中心には天井部２３ａから図中下方へ延伸する回転軸３４の下端が接続される。回転軸３４はチャンバ２３の中心軸Ｙに沿って配置され、上端が天井部２３ａを貫通してチャンバ２３の上方に配置された駆動装置３５に接続される。駆動装置３５は回転軸３４を中心軸回りに回転させるため、シャッター部材３３はチャンバ２３の中心軸Ｙ回りに回転する。

シャッター部材３３がチャンバ２３の中心軸Ｙ回りに回転する際、各ターゲット２９と各開口３３ａの相対的な位置が変化し、各ターゲット２９に各開口３３ａが対向するとき、各ターゲット２９は処理空間Ｓに暴露され、各ターゲット２９が各開口３３ａに対向しないとき、各ターゲット２９はシャッター部材３３によって処理空間Ｓから遮蔽される。

プロセスモジュール１３は、さらに、処理空間Ｓへ希ガス、例えば、アルゴン（Ａｒ）ガスを供給する希ガス供給機構３６と、処理空間Ｓへ、例えば、窒素（Ｎ_２）ガス供給する窒素ガス供給機構３７とを有する。希ガス供給機構３６は、希ガス源３６ａと、流量制御器（マスフローコントローラ）３６ｂと、回転軸３４の中心軸に沿って穿設されたガスライン３６ｃとを有する。窒素ガス供給機構３７は、窒素ガス源３７ａと、流量制御器３７ｂと、チャンバ２３の側壁２３ｂを貫通するガスライン３７ｃとを有する。

プロセスモジュール１３では、希ガス供給機構３６によって処理空間Ｓへアルゴンガスが供給され、各ターゲット２９に負の直流電圧が印加されると、処理空間Ｓにおいてアルゴンガスが励起されてプラズマが生じる。このとき、各磁石３２によって各ターゲット２９の近傍には磁界が発生するため、該磁界によって各ターゲット２９の近傍にプラズマが集中する。また、上述したように、ターゲット２９はカソード電極として振る舞うので、各ターゲット２９がプラズマ中の陽イオンによってスパッタリングされ、各ターゲット２９からスパッタ粒子が飛散してウエハＷへ堆積し、例えば、コバルトの薄膜がウエハＷ上に形成される。

また、プロセスモジュール１３では、窒素ガス供給機構３７によって処理空間Ｓへ窒素ガスが供給されるため、ウエハＷ上に形成されるコバルトの薄膜は窒化されてコバルト窒化膜に変質する。

上述したプロセスモジュール１３では、ターゲット２９にシャッター部材３３の開口３３ａが対向するとき、ターゲット２９が陽イオンによってスパッタリングされるが、陽イオンが各ターゲット２９の縁部を不必要にスパッタリングすることがないように、各ターゲット２９の周囲にはシールド部材４９が設けられる。

図３は、図２におけるターゲットのホルダへの固定方法を説明するための図であり、図３（Ａ）は図２中の白抜き矢印に沿ってターゲットを眺めた平面図であり、図３（Ｂ）は図３（Ａ）における線III−IIIに関する断面図である。なお、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）では、他の構成要素に隠される構成要素を破線で示し、シールド部材４９を一点鎖線で示す。

図３（Ａ）及び図３（Ｂ）において、ターゲット２９は縁部を囲むように形成される段差部２９ａを有し、ターゲット２９の各辺において段差部２９ａに当接し、ターゲット２９をホルダ３０へ向けて押圧する略環状のクランプ部材３８（押圧ユニット）により、ホルダ３０へ固定される。クランプ部材３８は図示しないボルトによってホルダ３０へ取り付けられる。

上述したように、各ターゲット２９の周囲にはシールド部材４９が設けられるが、各ターゲット２９の中央部２９ｂはシールド部材４９の中央に開設された開口部４９ａを介して露出する一方、段差部２９ａやクランプ部材３８はシールド部材４９によって覆われる。特に、図４に示すように、陽イオンの回り込みによる段差部２９ａやクランプ部材３８のスパッタリングを防止するために、ターゲット２９とシールド部材４９の開口４９ａの縁部４９ｂとのクリアランスは小さく設定される。このとき、ターゲット２９のホルダ３０に対する位置が正確に決定されないと、例えば、開口４９ａの縁部４９ｂとターゲット２９の間の距離が非常に小さくなり、ＰＶＤ処理の実行中にデポ４０等によってターゲット２９と開口４９ａの縁部４９ｂがショートしてしまう恐れがある。

そこで、通常、ホルダ３０へは複数の位置決めブロック３９が取り付けられ、各位置決めブロック３９がターゲット２９の４側面のそれぞれに当接することにより、ターゲット２９の図３（Ａ）における上下左右方向の移動を規制し、ターゲット２９のホルダ３０に対する位置を正確に決定する。

しかしながら、図４に示すように、ターゲット２９の４側面のそれぞれへ従来技術に係る位置決めブロック３９を当接させると、ＰＶＤ処理の実行中におけるターゲット２９の熱膨張（図中白抜き矢印で示す。）が規制され、内部応力の高まりによってターゲット２９が歪み、最悪、破損するおそれがある。

本実施の形態では、これに対応して、ＰＶＤ処理の実行中においてターゲット２９の側面と位置決めブロックの間に隙間を確保する。

図５は、本実施の形態に係る板状部材の固定機構が有する位置決めブロックの構成を概略的に示す断面図である。

図５において、位置決めブロック４１（位置決めユニット）はホルダ３０から立設されるボルト４２（軸部）と該ボルト４２に取り付けられるスライダ４３（スライド部）とを有する。位置決めブロック４１は図３（Ａ）における位置決めブロック３９の代わりに配置される。

ボルト４２の先端（図中における下端）には雄ねじ４２ａが形成され、ホルダ３０にはねじ穴４６が設けられ、雄ねじ４２ａをねじ穴４６の雌ねじ４６ａへ螺合させることにより、ボルト４２がねじ穴４６へ取り付けられる。また、ねじ穴４６の雌ねじ４６ａの上方にはリーマ穴４６ｂが形成され、ボルト４２には雄ねじ４２ａの上方にリーマ部４２ｂが設けられ、ボルト４２がねじ穴４６へ取り付けられる際、リーマ部４２ｂがリーマ穴４６ｂへ嵌合するため、ねじ穴４６に対するボルト４２の相対位置を正確に維持したまま、ボルト４２をねじ穴４６へ取り付けることができる。さらに、ボルト４２にはリーマ部４２ｂの上方にばね嵌合部４２ｃが設けられ、ばね嵌合部４２ｃを巻回するように、巻バネ４５（付勢部材）が配置される。

スライダ４３は軸方向に沿って径が変化する略円柱状の部材からなり、下部に径が最も大きい当接部４３ａが形成され、当接部４３ａに関してホルダ３０と反対側（図中上側）に逃げ部４３ｂが形成される。逃げ部４３ｂの径は当接部４３ａの径よりも小さく設定される。また、逃げ部４３ｂの上方には該逃げ部４３ｂよりも径が大きいフランジ部４３ｃが形成される。

また、スライダ４３は中心軸に沿って形成されて図中上下方向に関して貫通するスライド穴４３ｄを有し、スライド穴４３ｄはボルト４２を収容する。ボルト４２の中心軸とスライド穴４３ｄ（スライダ４３）の中心軸は一致するため、スライダ４３はボルト４２に沿って移動する。スライド穴４３ｄの下部は径が拡大され、巻バネ４５の上端を収容する。巻バネ４５の上端はスライド穴４３ｄに設けられた段差４３ｅに当接する。

ホルダ３０におけるスライダ４３の直下には、スライダ４３がホルダ３０へ向けて移動する際にスライダ４３を部分的に収容する円柱状の凹部であるスライダ収容部４４が形成される。これにより、スライダ４３のボルト４２に沿う移動が阻害されず、スライダ４３の移動を円滑に行うことができる。スライダ収容部４４の深さは、該スライダ収容部４４がスライダ４３を部分的に収容した際、スライダ４３の逃げ部４３ｂがターゲット２９の側面に対向できる程度に設定される。

ねじ穴４６において、リーマ穴４６ｂとスライダ収容部４４の間にはバネ収容部４６ｃが形成される。バネ収容部４６ｃの径は巻バネ４５の径よりも大きく設定され、巻バネ４５の下端を収容する。ボルト４２がねじ穴４６へ取り付けられる際、図５に示すように、ばね嵌合部４２ｃの下端がバネ収容部４６ｃの底部に当接することにより、ボルト４２の軸力が生じ、ボルト４２はホルダ３０へ固定される。また、巻バネ４５の下端もバネ収容部４６ｃの底部に当接し、該底部からの反力によって巻バネ４５はスライダ４３を図中上方へ付勢する。

なお、本実施の形態では、クランプ部材３８及び位置決めブロック４１がターゲット２９の固定機構を構成する。

次に、本実施の形態に係る板状部材の固定方法について説明する。

まず、作業者がターゲット２９をホルダ３０へ押し当てた後、図５に示すように、ホルダ３０へ位置決めブロック４１を取り付け、スライダ４３の当接部４３ａの側面をターゲット２９の側面に当接させる。本実施の形態では、ターゲット２９の隣接する２側面に複数の位置決めブロック４１の当接部４３ａの側面が当接し、ターゲット２９の残りの側面には位置決めブロック３９が当接する（位置決定ステップ）。これにより、図中水平方向に関するターゲット２９の移動を規制してターゲット２９のホルダ３０に対する位置を正確に決定することができる。このとき、スライダ４３は巻バネ４５によって図中上方へ付勢されるため、スライダ４３のホルダ３０へ向けての移動が阻害され、もって、当接部４３ａのターゲット２９の側面への当接を維持することができる。

ここで、ホルダ３０への位置決めブロック４１の取り付けは、ボルト４２のねじ穴４６への取り付けによって行われるため、位置決めブロック４１をホルダ３０へ容易に取り付けることができ、もって、作業者の負担を軽減することができる。また、このとき、ボルト４２のリーマ部４２ｂがねじ穴４６のリーマ穴４６ｂへ嵌合されるため、位置決めブロック４１のホルダ３０に対する位置精度を向上することができ、ひいては、位置決めブロック４１によって位置が決定されるターゲット２９の位置精度を向上することができる。

次いで、図６に示すように、クランプ部材３８をホルダ３０へ取り付けるとともに、ホルダ３０をターゲット２９の段差部２９ａに当接させてターゲット２９をホルダ３０へ向けて押圧する。これにより、ターゲット２９はホルダ３０へ固定される（固定ステップ）。このとき、クランプ部材３８の裏面３８ａがスライダ４３のフランジ部４３ｃに当接し、スライダ４３を押圧して図中下方へ移動させる。その結果、当接部４３ａのターゲット２９の側面への当接が解消し、ターゲット２９の側面へ逃げ部４３ｂが対向する（逃げ部対向ステップ）。これにより、ターゲット２９と逃げ部４３ｂの間に隙間４７を確保することができる。また、クランプ部材３８のホルダ３０への取り付けの際、クランプ部材３８の裏面３８ａをスライダ４３のフランジ部４３ｃに当接させてスライダ４３を移動させるため、スライダ４３の移動のために新たな工程を設ける必要が無く、もって、作業者の負担を軽減することができる。

スライダ４３が下方へ移動する際、クランプ部材３８によってターゲット２９はホルダ３０へ固定されるため、ターゲット２９がホルダ３０に対して移動することが無く、ターゲット２９のホルダ３０に対する位置は維持される。なお、クランプ部材３８の裏面３８ａにはボルト逃げ部３８ｂが形成され、クランプ部材３８がホルダ３０へ取り付けられる際、ボルト逃げ部３８ｂはボルト４２の上部を収容する。これにより、ボルト４２とクランプ部材３８が干渉するのを防止することができる。

次いで、図７に示すように、段差部２９ａやクランプ部材３８をシールド部材４９によって覆うが、スライダ４３の当接部４３ａのターゲット２９の側面への当接によってターゲット２９のホルダ３０に対する位置が正確に決定された後、スライダ４３が下方へ移動する際に当該位置が維持されるため、開口４９ａの縁部４９ｂとターゲット２９の間の距離が非常に小さくなることが無く、デポ４０等によってターゲット２９と開口４９ａの縁部４９ｂがショートするのを防止することができる。

その後、プロセスモジュール１３においてウエハＷにＰＶＤ処理を施す際、図８に示すように、プラズマの照射等によってターゲット２９が熱膨張（図中白抜き矢印で示す。）しても、ターゲット２９の図中水平方向への熱膨張をターゲット２９の側面及びスライダ４３の逃げ部４３ｂの間の隙間４７で吸収することができ、もって、ターゲット２９の熱膨張が規制されることが無く、内部応力の高まりによってターゲット２９において熱膨張による歪みが生じるのを防止することができる。

以上、本発明について、上記実施の形態を用いて説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。

例えば、ターゲット２９の４側面のそれぞれに少なくとも１つの位置決めブロック４１が当接し、ターゲット２９の４辺のそれぞれの段差部２９ａが少なくとも１つのクランプ部材３８によって押圧されればよい。

また、本実施の形態では、ターゲット２９の隣接する２側面に複数の位置決めブロック４１の当接部４３ａの側面を当接させたが、ターゲット２９の３側面又は４側面に複数の位置決めブロック４１の当接部４３ａの側面を当接させてターゲット２９のホルダ３０に対する位置を決定してもよい。

さらに、本実施の形態では、ターゲット２９は矩形を呈するが、ターゲット２９の形状はこれに限られず、例えば、円形や三角形を呈してもよい。

１０ 基板処理システム
１３ プロセスモジュール
２９ ターゲット
３０ ホルダ
３８ クランプ部材
４１ 位置決めブロック
４２ ボルト
４２ａ 雄ねじ
４２ｂ リーマ部
４３ スライダ
４３ａ 当接部
４３ｂ 逃げ部
４４ スライダ収容部
４５ 巻バネ
４６ ねじ穴
４６ｂ リーマ穴
４７ 隙間
４９ シールド部材

Claims (9)

1. 基部へ板状部材を固定する板状部材の固定機構であって、
   前記板状部材を前記基部へ向けて押圧する押圧ユニットと、
   前記基部に取り付けられて前記板状部材の側面に当接し、前記板状部材の前記基部に対する位置を決定する複数の位置決めユニットとを備え、
   前記位置決めユニットは、前記基部から立設される軸部と、該軸部に沿って移動するスライド部とを有し、
   前記スライド部は、前記板状部材の側面に当接する当接部と、該当接部よりも細身の逃げ部とを有することを特徴とする板状部材の固定機構。
2. 前記基部は、前記スライド部が前記基部へ向けて移動する際に前記スライド部を収容する収容部を有することを特徴とする請求項１記載の板状部材の固定機構。
3. 前記スライド部において、前記逃げ部は前記当接部に関して前記基部と反対側に形成されることを特徴とする請求項１又は２記載の板状部材の固定機構。
4. 前記位置決めユニットは、前記スライド部を前記基部とは反対側に付勢する付勢部材をさらに有することを特徴とする請求項３記載の板状部材の固定機構。
5. 前記板状部材は矩形を呈し、前記板状部材の少なくとも２側面に前記複数の位置決めユニットの前記当接部が当接するように位置決めされることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の板状部材の固定機構。
6. 前記軸部の先端はねじで構成され、前記軸部は前記基部に設けられたねじ穴に取り付けられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の板状部材の固定機構。
7. 前記軸部にはリーマ部が設けられ、前記ねじ穴にはリーマ穴が形成され、前記軸部が前記ねじ穴に取り付けられる際、前記リーマ部は前記リーマ穴へ嵌合されることを特徴とする請求項６記載の板状部材の固定機構。
8. 内部に処理空間を備えるチャンバと、前記処理空間に暴露される板状部材としてのターゲットと、開口部を有し且つ前記処理空間及び前記ターゲットの間に介在するシャッター部材とを備え、前記チャンバの内部に収容された基板にＰＶＤ処理を施すＰＶＤ処理装置であって、
   前記ターゲットを前記チャンバに設けられた基部へ固定する固定機構をさらに備え、
   前記固定機構は、前記ターゲットを前記基部へ向けて押圧する押圧ユニットと、前記基部に取り付けられて前記ターゲットの側面に当接し、前記ターゲットの前記基部に対する位置を決定する複数の位置決めユニットとを有し、
   前記位置決めユニットは、前記基部から立設される軸部と、該軸部に沿って移動するスライド部とを有し、
   前記スライド部は、前記ターゲットの側面に当接する当接部と、該当接部よりも細身の逃げ部とを有することを特徴とするＰＶＤ処理装置。
9. 基部へ板状部材を固定する固定機構であって、前記板状部材を前記基部へ向けて押圧する押圧ユニットと、前記基部に取り付けられて前記板状部材の側面に当接し、前記板状部材の前記基部に対する位置を決定する複数の位置決めユニットとを備え、前記位置決めユニットは、前記基部から立設される軸部と、該軸部に沿って移動するスライド部とを有し、前記スライド部は、前記板状部材の側面に当接する当接部と、該当接部よりも細身の逃げ部とを有する固定機構における板状部材の固定方法であって、
   前記複数の位置決めユニットのスライド部の当接部を前記板状部材の少なくとも２側面へ当接させて前記板状部材の前記基部に対する位置を決定する位置決定ステップと、
   前記押圧ユニットが前記板状部材を前記基部へ向けて押圧して前記板状部材を前記基部へ固定する固定ステップと、
   前記複数の位置決めユニットのスライド部を前記軸部に沿って移動させて前記板状部材の側面へ前記逃げ部を対向させる逃げ部対向ステップとを有することを特徴とする板状部材の固定方法。