RU2016103234A - Мишень, адаптированная к устройству косвенного охлаждения с охлаждающей пластиной - Google Patents
Мишень, адаптированная к устройству косвенного охлаждения с охлаждающей пластиной Download PDFInfo
- Publication number
- RU2016103234A RU2016103234A RU2016103234A RU2016103234A RU2016103234A RU 2016103234 A RU2016103234 A RU 2016103234A RU 2016103234 A RU2016103234 A RU 2016103234A RU 2016103234 A RU2016103234 A RU 2016103234A RU 2016103234 A RU2016103234 A RU 2016103234A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cooling
- target
- self
- additional heat
- conducting plate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3417—Arrangements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3423—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3497—Temperature of target
Claims (9)
1. Устройство для охлаждения мишени с компонентом, который содержит канал охлаждения, и с дополнительной теплопроводной пластиной, которая разъемно соединена с охлаждающей стороной компонента, причем охлаждающая сторона является такой, на которую канал охлаждения оказывает свое действие, отличающееся тем, что между дополнительной теплопроводной пластиной и охлаждающей стороной компонента предусмотрена первая самоклеющаяся углеродная пленка, которая по обширной площади самосклеивающимся образом приклеивается на одну сторону дополнительной теплопроводной пластины, которая обращена к охлаждающей стороне.
2. Устройство для охлаждения мишени по п. 1, отличающееся тем, что на другой стороне дополнительной теплопроводной пластины предусмотрена вторая самоклеющаяся углеродная пленка, которая самосклеивающимся образом приклеивается по обширной площади.
3. Устройство для охлаждения мишени по п. 1 и 2, отличающееся тем, что дополнительная теплопроводная пластина содержит медь и/или молибден.
4. Устройство по одному из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что дополнительная теплопроводная пластина выбирается настолько толстой, что придает стабильность самоклеющейся углеродной пленке или самоклеющимся углеродным пленкам для простого обращения с ними.
5. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что дополнительная теплопроводная пластина имеет толщину по меньшей мере 3 мм, предпочтительно по меньшей мере 5 мм, и особенно предпочтительно по меньшей мере 1 см.
6. Мишень с охлаждающим устройством по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что мишень выполнена в виде источника материала для способа распыления и/или для способа искрового испарения.
7. Устройство по одному из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что толщина самоклеющейся углеродной пленки составляет между 0,125 мм и менее 0,5 мм, и предпочтительной является толщина 0,125 мм.
8. Источник для нанесения покрытий, содержащий мишень с устройством по одному из предшествующих пунктов.
9. Источник для нанесения покрытий по п. 8, отличающийся тем, что периметр мишени взаимодействует с держателем источника в форме байонетного замка, благодаря чему осуществляется более высокое и более равномерное прижимающее давление.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102013011074.2A DE102013011074A1 (de) | 2013-07-03 | 2013-07-03 | An eine indirekte Kühlvorrichtung angepasstes Target mit Kühlplatte |
DEDE102013011074.2 | 2013-07-03 | ||
PCT/EP2014/001782 WO2015000577A1 (de) | 2013-07-03 | 2014-06-30 | An eine indirekte kühlvorrichtung angepasstes target mit kühlplatte |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2016103234A true RU2016103234A (ru) | 2017-08-08 |
Family
ID=51167845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2016103234A RU2016103234A (ru) | 2013-07-03 | 2014-06-30 | Мишень, адаптированная к устройству косвенного охлаждения с охлаждающей пластиной |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10636635B2 (ru) |
EP (1) | EP3017082A1 (ru) |
JP (1) | JP6652485B2 (ru) |
KR (1) | KR102274485B1 (ru) |
CN (1) | CN105283577B (ru) |
BR (1) | BR112015032156B1 (ru) |
CA (1) | CA2916770C (ru) |
DE (1) | DE102013011074A1 (ru) |
HK (1) | HK1214309A1 (ru) |
IL (1) | IL243137B (ru) |
MX (1) | MX2015016869A (ru) |
MY (1) | MY186272A (ru) |
PH (1) | PH12015502733B1 (ru) |
RU (1) | RU2016103234A (ru) |
SG (1) | SG11201510190YA (ru) |
WO (1) | WO2015000577A1 (ru) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2019131010A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2020-12-17 | 株式会社アルバック | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 |
CN108130516A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-06-08 | 梧州三和新材料科技有限公司 | 一种使用泡沫金属增强冷却的真空镀阴极靶 |
CN112599446A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-04-02 | 华能新能源股份有限公司 | 一种真空蒸镀用基片辅助降温装置 |
CN113667947B (zh) * | 2021-07-23 | 2023-04-21 | 镇江市德利克真空设备科技有限公司 | 一种应用于阴极平台的智能温控装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3381593D1 (de) * | 1982-10-05 | 1990-06-28 | Fujitsu Ltd | Zerstaeubungsvorrichtung. |
US5082595A (en) * | 1990-01-31 | 1992-01-21 | Adhesives Research, Inc. | Method of making an electrically conductive pressure sensitive adhesive |
DE4015388C2 (de) * | 1990-05-14 | 1997-07-17 | Leybold Ag | Kathodenzerstäubungsvorrichtung |
DE59208623D1 (de) * | 1991-05-08 | 1997-07-24 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Montage bzw. Demontage einer Targetplatte in einem Vakuumprozessraum, Montageanordnung hierfür sowie Targetplatte bzw. Vakuumkammer |
WO1998007565A1 (en) * | 1996-08-23 | 1998-02-26 | Tosoh Smd, Inc. | Bonding with a conductive adhesive sheet material |
US5985115A (en) * | 1997-04-11 | 1999-11-16 | Novellus Systems, Inc. | Internally cooled target assembly for magnetron sputtering |
EP0951049A1 (de) * | 1998-04-16 | 1999-10-20 | Balzers Aktiengesellschaft | Haltering sowie Target und Verfahren zu seiner Herstellung |
KR100291330B1 (ko) | 1998-07-02 | 2001-07-12 | 윤종용 | 반도체장치제조용스퍼터링설비및이를이용한스퍼터링방법 |
JP2001164361A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-06-19 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | スパッタリングターゲット冷却構造 |
JP2005537391A (ja) | 2002-09-03 | 2005-12-08 | ユミコア・マテリアルズ・アクチェンゲゼルシャフト | スパッタ陰極、製造方法およびこれに関する陰極 |
DE102004058280A1 (de) | 2004-12-02 | 2006-06-08 | Tesa Ag | Doppelseitige Haftklebebänder zur Herstellung bzw. Verklebung von LC-Displays mit lichtabsorbierenden Eigenschaften |
PL1752556T3 (pl) * | 2005-08-02 | 2008-03-31 | Applied Mat Gmbh & Co Kg | Katoda cylindryczna do napylania jonowego |
JP5236400B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2013-07-17 | 太陽ホールディングス株式会社 | 導電ペーストおよびそれを用いた電極 |
DE102008060113A1 (de) | 2008-12-03 | 2010-07-29 | Tesa Se | Verfahren zur Kapselung einer elektronischen Anordnung |
CN201778106U (zh) | 2010-07-27 | 2011-03-30 | 上海北玻镀膜技术工业有限公司 | 真空镀膜设备中的矩形平面磁控阴极结构 |
-
2013
- 2013-07-03 DE DE102013011074.2A patent/DE102013011074A1/de not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-06-30 CN CN201480033082.8A patent/CN105283577B/zh active Active
- 2014-06-30 MY MYPI2015704722A patent/MY186272A/en unknown
- 2014-06-30 WO PCT/EP2014/001782 patent/WO2015000577A1/de active Application Filing
- 2014-06-30 KR KR1020167002290A patent/KR102274485B1/ko active IP Right Grant
- 2014-06-30 SG SG11201510190YA patent/SG11201510190YA/en unknown
- 2014-06-30 BR BR112015032156-9A patent/BR112015032156B1/pt active IP Right Grant
- 2014-06-30 JP JP2016522328A patent/JP6652485B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-06-30 US US14/902,577 patent/US10636635B2/en active Active
- 2014-06-30 RU RU2016103234A patent/RU2016103234A/ru not_active Application Discontinuation
- 2014-06-30 CA CA2916770A patent/CA2916770C/en active Active
- 2014-06-30 EP EP14737147.0A patent/EP3017082A1/de active Pending
- 2014-06-30 MX MX2015016869A patent/MX2015016869A/es unknown
-
2015
- 2015-12-07 PH PH12015502733A patent/PH12015502733B1/en unknown
- 2015-12-15 IL IL243137A patent/IL243137B/en active IP Right Grant
-
2016
- 2016-02-29 HK HK16102317.4A patent/HK1214309A1/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015000577A1 (de) | 2015-01-08 |
PH12015502733A1 (en) | 2016-03-07 |
HK1214309A1 (zh) | 2016-07-22 |
CA2916770C (en) | 2022-06-07 |
PH12015502733B1 (en) | 2016-03-07 |
JP6652485B2 (ja) | 2020-02-26 |
CN105283577B (zh) | 2018-11-20 |
CA2916770A1 (en) | 2015-01-08 |
EP3017082A1 (de) | 2016-05-11 |
CN105283577A (zh) | 2016-01-27 |
BR112015032156A2 (pt) | 2017-07-25 |
MY186272A (en) | 2021-07-01 |
DE102013011074A1 (de) | 2015-01-08 |
BR112015032156B1 (pt) | 2021-07-06 |
US10636635B2 (en) | 2020-04-28 |
US20160172166A1 (en) | 2016-06-16 |
IL243137B (en) | 2021-03-25 |
KR102274485B1 (ko) | 2021-07-09 |
KR20160029081A (ko) | 2016-03-14 |
SG11201510190YA (en) | 2016-01-28 |
JP2016523315A (ja) | 2016-08-08 |
MX2015016869A (es) | 2016-09-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2016103234A (ru) | Мишень, адаптированная к устройству косвенного охлаждения с охлаждающей пластиной | |
UA110897C2 (uk) | Електронний пристрій для одержання пари | |
EP3802419A4 (en) | LAMINATED GRAPHITE-BASED THERMAL CONDUCTING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE FILM | |
EP3897261A4 (en) | EVAPORATION DEVICE WITH STEAM COOLING | |
WO2015197852A3 (en) | Apparatus for heating or cooling a material contained therein | |
JP2014082130A5 (ru) | ||
CL2008002158A1 (es) | Proceso para conformar una cuchilla de afeitar que comprende los pasos de proporcionar un sustrato, conformar un borde afilado, colocar el sustrato en una camara de vacio,junto con un primer objetivo solido, y suministrar un gas a la cama de vacio que al ionizarse forma un recubrimiento de pelicula delgada sobre dicho borde afilado | |
JP2012015101A5 (ja) | 蓄電装置 | |
BR112015015937A2 (pt) | processo de aplicação de um material adesivo termofluído a um substrato e aparelho para aplicação de um material adesivo termofluído a uma série de substratos | |
EP3473430A4 (en) | HEAT CONDUCTING THIN FILM SHEET AND ARTICLE COMPRISING SAME. | |
RU2012158300A (ru) | Система инжекционного охлаждения и турбина (варианты) | |
JP1710796S (ja) | 蒸発器カートリッジ | |
JP2015025196A5 (ru) | ||
MX2016005697A (es) | Metodos para transferir materiales electricamente conductivos. | |
RU2014143978A (ru) | Мишень, приспособленная к устройству опосредствованного охлаждения | |
CA2916167A1 (en) | Reduction of scale build-up in an evaporative cooling apparatus | |
EP2672512A3 (en) | Cold plate assembly incorporating thermal heat spreader | |
EA201790670A1 (ru) | Толстопленочный элемент с высокой теплопроводностью с обеих сторон | |
ES2545652T3 (es) | Intercambiador de calor con superficie variable | |
WO2014204711A3 (en) | Composite graphene oxide film | |
WO2015131742A8 (zh) | 一种保温箱 | |
RU2012140590A (ru) | Способ получения гетероэпитаксиальных пленок карбида кремния на кремниевой подложке | |
ES2649030A1 (es) | Dispositivo de evaporación de sustancias volátiles | |
AR102908A1 (es) | Método para fabricar un recipiente estanco a los gases en material elastomérico | |
RU2013140955A (ru) | Способ получения микрохроматографических колонок на плоских пластинах |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20170703 |